KR20100076280A - 연속반응공정을 이용한 감광성 고분자의 제조방법 - Google Patents

연속반응공정을 이용한 감광성 고분자의 제조방법 Download PDF

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KR20100076280A
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Abstract

본 발명은 감광성 고분자를 제조하는 방법에 관한 것으로서, 기존의 뱃치 반응과는 달리 연속적으로 반응이 실시되도록 공정을 구성함으로써, 항상 일정한 조성의 제품을 합성할 수 있고 많은 양을 생산하더라도 제품의 편차를 없앨 수 있다.
연속반응, 마이크로반응기, 고분자, 포토레지스트

Description

연속반응공정을 이용한 감광성 고분자의 제조방법{METHOD FOR PREPARING PHOTOSENSITIVE POLYMER USING CONTINUOUS PROCESS}
본 발명은 연속반응공정으로 감광성 고분자를 제조하는 방법에 관한 것이다.
포토레지스트는 반도체 공정에서 주로 사용되는 소재로서, 감광성 고분자, 감광제, 용매, 첨가제 등 다양한 물질로 구성되어 있다. 이 중 감광성 고분자는 포토레지스트 중에서 가장 많은 비율을 차지하고 있으며, 포토레지스트의 성능에 가장 큰 역할을 하고 있는 핵심재료이다.
감광성 고분자는 특정 파장에 대한 투명성, 내에칭성, 기계적 물성 같은 물리화학적인 특성이 요구되는데, 이는 감광성 고분자에 사용되는 모노머의 특성, 성질, 조성 등에 의하여 결정된다.
상기 특성 외에도, 감광성 고분자는 반응회수 또는 반응규모에 구애받지 않고 일정한 제품을 생산할 수 있는 재현성(reproducibility) 같은 공정적인 특성도 요구된다. 그러나, 이러한 재현성은 지금과 같은 뱃치(batch) 반응식 고분자 제조 공정에서 구현하기가 현실적으로 매우 어렵다. 고분자의 특성은 반응기의 모양, 원료 투입속도, 반응온도 등과 같은 다양한 반응조건의 영향을 받게 되는데, 이러한 모든 반응조건을 반응횟수별로 항상 일정하게 만드는 것이 어렵기 때문이다. 이는 실험실에서 작은 반응기를 사용하거나 중간 과정의 파일럿 설비 또는 대규모의 현장설비를 이용하더라도 마찬가지이다.
이와 같은 감광성 고분자 생산 공정에서의 재현성 실패는 감광성 고분자를 이용하는 반도체 제조공정에서의 결점을 야기시킨다. 즉, 재현성 있는 공정을 확립하여 제품을 일정하게 생산하지 않으면 높은 정밀도가 요구되는 반도체 제조 공정에서 항상 일정한 성능을 구현할 수 없다.
지금까지의 감광성 고분자의 합성 방법은 위와 같은 공정상의 문제점을 항상 안고 있는 뱃치 반응으로 진행되어 공정의 조절이 까다로우며 재현성 있는 제품을 합성하는데 어려움이 있었다.
따라서, 본 발명의 목적은 상기와 같은 문제점을 해결하고 반응회수 또는 반응규모와 관계없이 일정한 재현성을 갖는 새로운 감광성 고분자의 제조방법을 제공하는 것이다.
상기 목적에 따라, 본 발명에서는 하기 화학식 1 내지 4로 표시되는 화합물 중 하나 이상을 포함하는 모노머와 개시제를 일정 속도로 반응기에 투입하여 중합반응을 진행하는 단계; 및 상기 중합반응이 진행되는 동안 상기 반응기로부터 생성물을 일정 속도로 배출시키는 단계를 포함하는, 감광성 고분자의 제조방법을 제공한다:
Figure 112008089195992-PAT00001
Figure 112008089195992-PAT00002
Figure 112008089195992-PAT00003
Figure 112008089195992-PAT00004
상기 식에서,
R1은 수소, 할로겐, C1-6 알킬 또는 C1-6 할로알킬이고;
R2는 C1-6 알킬, 할로겐 또는 하이드록시로 치환되거나 비치환된, C2-15 지방족 탄화수소기, C6-20 방향족 탄화수소기, 락토닐 또는 부티로락토닐이고;
R3는 C1-10 알킬, C1-10 할로알킬, C1-10 알킬카보닐 또는 실릴이고;
R4는 C2-15 알킬, C2-15 할로알킬, C2-15 알킬카보닐, C2-15 알콕시, C2-15 할로알콕시, C2-15 알킬에스테르, C2-15 할로알킬에스테르 또는 실릴이다.
본 발명의 제조방법을 이용하면, 항상 일정한 조성의 제품을 합성할 수 있고 많은 양을 생산하더라도 제품의 편차를 없앨 수 있다. 그리고 공정변화시 빠르게 대응할 수 있으며 공정제어가 간편하다. 또한 작은 공간에서 대량 생산이 가능하며 다른 주변설비 없이도 생산량을 쉽게 증대시킬 수 있다.
이하, 본 발명에 대해 더욱 상세히 설명한다.
본 발명의 제조방법에 따르면, 반응기의 크기와 원료투입 및 생성물의 이송 시간에 의하여 반응시간이 결정될 수 있으며, 원료의 농도, 투입속도, 반응기내의 온도 또는 압력을 조절함으로써, 반응속도와 결과 고분자의 분자량을 제어할 수 있다. 본 발명에서 원료의 투입, 중합반응 및 생성물의 배출의 일련의 공정은 연속적으로 수행된다. 이와 같은 연속공정을 이용하면 기존의 일회성 반응보다 반응기의 용량을 훨씬 줄일 수 있고, 반응조건의 제어가 용이하며, 일정한 반응환경을 유지할 수 있다. 또한 일정한 비율로 반응원료를 투입함으로써 항상 일정한 조성의 제품을 합성할 수 있어 많은 양을 생산하더라도 제품의 편차를 없앨 수 있다.
본 발명에 있어서, 원료인 모노머와 개시제는 각각 또는 함께 용매에 용해시킨 용액 형태인 것을 사용할 수 있으며, 이 때 모노머는 용매 100 중량부 대비 60 내지 120 중량부의 농도로 용해되는 것이 바람직하고, 개시제는 용매 100 중량부 대비 3 내지 90 중량부의 농도로 용해되는 것이 바람직하다.
본 발명에 있어서, 원료는 일정한 속도로 반응기에 투입되며, 반응초기에는 안정한 반응이 이루어질 때까지 일정량의 원료들을 먼저 반응기에 투입시킨 후 반응을 진행시킬 수도 있다.
반응기 내에 모노머와 개시제 등의 원료를 투입시키는 속도는 반응기의 구조와 생산량, 반응 종류 등에 따라 정할 수 있다. 모노머와 개시제를 각각 용매에 용 해시킨 별도의 모노머 용액과 개시제 용액을 사용할 경우에는, 모노머 용액은 0.1 내지 50 g/min, 바람직하게는 0.1 내지 5 g/min의 속도로 투입할 수 있으며, 개시제 용액은 0.1 내지 25 g/min, 바람직하게는 0.1 내지 2.5 g/min의 속도로 투입할 수 있다. 또한, 모노머와 개시제를 함께 용매에 용해시킨 혼합 용액을 사용할 경우에는, 0.1 내지 75 g/min, 바람직하게는 0.1 내지 7.5 g/min의 속도로 투입할 수 있다. 또한 생성물의 배출속도는 모노머와 개시제 등의 원료가 단위시간당 반응기에 투입되는 양의 총합과 동일한 양으로 단위시간당 반응기로부터 배출되는 것이 바람직하다. 이와 같이 투입되는 원료의 총량과 동일한 양의 반응 생성물을 배출시킬 경우 반응기에서의 반응량을 일정하게 유지시킬 수 있다.
본 발명에 있어서, 중합반응을 위한 반응기 내의 반응 온도는, 60 내지 100 ℃, 바람직하게는 80 내지 90 ℃의 온도로 조절되는 것이 바람직하며, 반응압력은 1 내지 10 bar, 바람직하게는 1 내지 7 bar로 조절되는 것이 바람직하다.
본 발명에서 사용되는 개개의 반응기의 용량은 1 μL 내지 500 mL일 수 있다. 이와 같이, 반응기의 크기가 크지 않으므로 공정변화시 빠르게 대응하고 공정 제어가 간편하다. 그리고, 반응이 안정화될 때까지 기다리는 소요시간 없이 반응원료 및 투입속도, 온도 조절만으로 아주 손쉽게 반응조건을 변경시킬 수 있다. 또한, 상업적 생산시 작은 공간에서도 대량 생산이 가능하며 생산량의 증대가 쉽다.
본 발명에서 사용되는 반응기는 관형 반응기일 수 있다. 즉, 원료 용액과 개시제 용액이 관형태의 반응유로를 흐르며 고분자의 중합이 이루어지는 방식일 수 있다. 이 때, 반응유로의 내경은 1 nm 내지 1 cm 범위일 수 있다. 반응유로의 내 경, 길이 및 형태는 해당 반응의 성격, 반응물, 목적하는 생성물의 물성에 맞게 설계될 수 있다.
본 발명의 반응기로서, 마이크로반응기를 사용할 수도 있다.
반응규모를 마이크로 단위로 줄이게 되면, 현재까지의 수백 mL, 혹은 m3의 크기였던 반응면적을 줄이고, 시간 단위의 반응속도를 1/1000 s 이상으로 증가시킬 수 있다. 이에 따라, 일회성 반응시 발생하는 문제점이였던 반응 중의 반응물의 농도변화, 국부가열 또는 발열현상에 의하여 발생되는 고분자의 조성변화 등의 물리 화학적 결과들을 제거함으로써 부반응 생성물을 억제시키고 안정적인 반응조건 제어를 통하여 재현성있게 제품을 합성할 수 있다.
또한, 반응시간이 빠르고, 반응물이 소량으로 분산되어 투입되므로 반응성에 대한 데이터 확보가 용이하며, 그 반응성을 기준으로 하여 투입되는 원료내의 각각의 모노머에 대한 반응성 관찰이 가능하고, 반응의 온도 및 반응환경 조절을 열매나 열교환기(heat exchanger)로 용이하게 할 수 있다. 만약, 투입되는 원료의 혼합문제가 발생할 경우 혼합유로(mixing channel)를 추가함으로써 문제를 해결할 수도 있다.
본 발명에 따르는 방법에서, 반응기는 하나 이상 구비될 수 있으며, 이들이 서로 연결되어 하나의 반응기에서 배출된 생성물이 다음 반응기의 원료로서 이송되어 연속적인 반응을 수행시킬 수 있다. 즉, 반응기로부터 배출된 생성물을 상기 반응기에 직렬적으로 연결된 추가의 반응기에 연속적으로 투입하여 반응을 더 진행시 키도록 구성될 수 있다. 예를 들어, 다단계의 반응을 필요로 하는 고분자를 합성할 경우에는, 해당 반응단계에 맞게 설계된 반응기들을 직렬적으로 연결시킬 수 있다.
또한, 본 발명의 반응기는, 병렬적으로 연결된 하나 이상의 반응기를 포함하여, 동일한 중합반응을 동시에 수행하도록 구성될 수 있다. 예를 들어, 동일한 합성을 위해 제작된 반응기의 수를 n 배로 늘려 병렬적으로 연결할 경우, 단위 시간당 생성물의 양은 n 배로 증가하며, 동일량의 생성을 위해 필요로 하는 제조시간은 1/n 로 감소한다. 즉, 반응기 모듈을 단순히 증대함으로써 다른 주변설비없이 생산량을 원하는만큼 올릴 수 있다. 그리고, 원료를 분산투입(multi-injection)하기 때문에, 큰 뱃치 반응기에서 반응시에 발생하는 국부가열을 피할 수 있다.
본 발명의 방법은 반응기로부터 배출된 생성물을 숙성 반응기에 연속적으로 투입하여 안정화시키는 단계를 더 포함할 수 있다. 이를 위해, 중합반응을 위한 주반응기와 반응후의 숙성을 위한 숙성반응기가 직렬적으로 연결되도록 구성될 수 있다.
본 발명의 제조방법에 사용할 수 있는 반응용매는, 전자재료용 등급의 유기용매로서, 바람직하게는 THF (tetrahydrofuran), PGMEA (propylene glycol monomethyl ether acetate), 에틸락테이트, 메틸에틸케톤 등이 가능하다.
본 발명에 따르는 고분자의 제조공정의 일례를 도식적으로 나타낸 도면을 도 1에 첨부하였다. 도 1에서, 원료 A 및 B는 반응을 하기 위한 원료 용액, 개시제 용액 또는 용매이다. 펌프 A 및 B는 원료 A 및 B를 마이크로반응기에 일정한 속도로 투입하는 역할을 하는 정량펌프이며, 투입되는 양을 측정하는 역할도 한다. 반응기 는 실질적인 합성반응을 연속적으로 실시하는 장치이며, 바람직하게는 마이크로반응기를 사용할 수 있다. 생성물은 원료 A 및 B가 마이크로반응기 내에서 반응하여 생성된 결과 고분자이다. 이 때, 원료 투입저장용기, 펌프 또는 반응기를 더 추가하면 다양한 원료를 한꺼번에 반응시킬 수 있으며, 복잡한 반응도 가능하다.
이하, 하기 실시예에 의하여 본 발명을 더욱 상세하게 설명하고자 한다. 단, 하기 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것일 뿐 본 발명의 범위가 이들만으로 한정되는 것은 아니다.
본 발명의 실시예 및 비교예에서 사용한 재료는 다음과 같다:
원료모노머- GBLMA (butyrolactone methacrylate, ENF사), HAMA (3-hydroxyadamantyl methacrylate, ENF사), MAMA (2-methyladamantyl methacrylate, ENF사);
반응용매- PGMEA (propylene glycol monomethyl ether acetate, Shell사); 및
반응개시제- v-601 (Wako chemical사).
아울러, 하기 실시예 1에서 사용한 마이크로 반응기는, Syrris사의 FRX system로서, 채널크기가 500 ㎛인 관형 반응기이며 최대압력 10 bar이고, 10 ㎛/min 내지 10 mL/min 용량의 정량펌프와 배출용기를 구비하고 있다.
실시예 1
실시예 1-1
250 mL 둥근바닥 플라스크에 원료모노머로서 GBLMA 9.76 g, HAMA 10.16 g, MAMA 10.08 g와 반응용매 30.0 g을 넣고 완전히 녹여, 원료모노머 용액을 준비하였다. 그리고 100 mL 둥근바닥 플라스크에 8.0 mol%의 반응개시제 1.98 g 와 반응용매 30.0 g을 넣고 완전히 녹여, 반응개시제 용액을 준비하였다. 이후, 반응온도 조절기를 이용하여 마이크로반응기의 온도를 84 ℃까지 서서히 올린 뒤 일정하게 유지시켰다. 반응기 내부 압력은 상압이 되도록 조절하였다.
상기 준비된 원료모노머 용액과 반응개시제 용액을 각기 다른 정량펌프를 이용하여 각각 0.67 g/min (0.62 mL/min)과 0.36 g/min (0.37 mL/min)의 속도로 마이크로반응기의 원료투입구에 투입하였다. 마이크로반응기 내에서 중합되어 생성된 고분자는 단위시간당 투입된 원료의 총합과 동일한 양 만큼씩 단위시간당 배출되었다. 상기 반응개시제 용액 및 원료모노머 용액의 투입과 생성물의 배출은 상기 각각의 속도로 일정하게 연속적으로 수행되었다.
배출되는 결과 고분자를 30분 간격으로 채취한 뒤, 각각의 시료를 상온, 상압에서 30 분간 안정화시켰다.
실시예 1-2
반응개시제 용액과 원료모노머 용액을 투입전에 혼합한 뒤, 혼합 용액을 1.03 g/min (0.99 mL/min)의 속도로 마이크로반응기에 투입시키는 것을 제외하고는 실시예 1-1과 동일하게 수행하였다.
실시예 1-3
반응온도를 90 ℃로 하고, 혼합 용액을 0.70 g/min (0.67 mL/min)로 마이크로반응기에 투입시키는 것을 제외하고는 상기 실시예 1-2와 동일하게 수행하였다.
실시예 1-4
6.0 mol%의 반응개시제를 사용하고, 혼합 용액을 0.52 g/min (0.50 mL/min )로 마이크로반응기에 투입시키는 것을 제외하고는 상기 실시예 1-3과 동일하게 수행하였다.
실시예 1-5
상기 실시예 1-4와 동일한 조건으로 재수행하였다.
상기 실시예 1-1 내지 1-5에서 얻은 시료들의 중량평균분자량을 GPC (gel permeation chromatography)를 이용하여 얻었다. 결과는 하기 표 1에 정리하였다.
Figure 112008089195992-PAT00005
상기 표 1에서 보면, 30분 간격으로 채취된 고분자의 중량평균분자량은 반응초기 용매에 의하여 희석된 부분을 제외하면 편차가 ± 50 이하였으며, 이로써 본 발명의 제조방법은, 제조공정의 소요시간에 관계없이 일정한 물성의 고분자를 생성할 수 있음을 알 수 있다.
그리고, 반응온도, 투입속도 등을 변화시켜 실시한 실시예 1-2 내지 1-4의 경우, 이에 따라 결과 고분자의 중량평균분자량이 변화하였으며, 이로써 본 발명의 제조방법은 반응조건을 변경시킴으로써 생성물의 물성을 간단히 조절할 수 있음을 알 수 있다.
또한, 동일한 조건으로 실시한 실시예 1-4 및 1-5의 결과 고분자의 중량평균분자량이 ± 50~150 정도의 차이만 보이고 거의 동일하였으며, 이로써, 본 발명의 제조방법이 재현성 있는 방법임을 알 수 있다.
실시예 2
전동 교반기와 온도계가 설치된 4구 500 mL의 주반응기를 준비하였다. 여기에 반응용매 17.5 g을 넣은 뒤, 오일순환기(Oil circulator)를 이용하여 온도를 80 ℃까지 승온시켰다. 주반응기 내부 압력은 상압이 되도록 조절하였다.
250 mL 둥근바닥 플라스크에, 원료모노머로서 GBLMA 19.52 g, HAMA 20.32 g, MAMA 20.16 g와 반응용매 60.0 g을 넣고 완전히 녹여, 원료모노머 용액을 준비하였다. 그리고 100 mL 둥근바닥 플라스크에 반응개시제 11.01 g과 반응용매 15.3 g을 넣고 완전히 녹여, 반응개시제 용액을 준비하였다.
반응개시제 용액을 적하장치(dropping funnel)를 이용하여 주반응기에 10 분 동안 투입하고 15 분 동안 교반하며 숙성시켰다. 이어서 원료모노머 용액을 정량펌프를 이용하여 3.5 시간 동안 0.57 g/min (0.53 mL/min)의 속도로 전량 투입하였다.
이후 상기와 동일하게 다시 준비된 원료모노머 용액 및 반응개시제 용액을 각각 0.57 g/min (0.53 mL/min) 및 0.13 g/min (0.13 mL/min) 의 속도로 주반응기에 투입하여 반응을 진행시켰다. 주반응기 내에서 중합되어 생성된 고분자는 단위시간당 투입된 원료의 총합과 동일한 양 만큼씩 단위시간당 배출되었다. 배출된 생성물은 숙성반응기로 이송되어 안정화시켰다. 상기 반응개시제 용액 및 원료모노머 용액의 투입과 생성물의 배출은 상기 속도로 일정하게 연속적으로 수행되었다.
주반응기와 숙성반응기에서 각각 일정시간 간격마다 고분자의 시료를 채취하였다. 채취한 각각의 시료에 대해 GPC (gel permeation chromatography)를 이용하여 중량평균분자량을 측정하였다.
결과는 하기 표 2에 정리하였다.
Figure 112008089195992-PAT00006
상기 표 2를 보면, 13.5 시간까지는 분자량이 서서히 증가하다가 그 이후부터는 분자량이 거의 일정해짐을 알 수 있다. 이로써, 실시예 2에 따른 본 발명의 방법은 일정 반응 시간 경과 후 원하는 분자량을 일정한 속도로 얻을 수 있음을 알 수 있다.
비교예 1
전동 교반기와 온도계가 설치된 4구 500 mL의 주반응기를 준비하였다. 여기에 반응용매 17.5 g을 넣은 뒤, 오일순환기를 이용하여 온도를 84 ℃까지 승온시켰다.
250 mL 둥근바닥 플라스크에, 원료모노머로서 GBLMA 19.52 g, HAMA 20.32 g, MAMA 20.16 g와 반응용매 60 g을 넣고 완전히 녹여, 원료모노머 용액을 준비하였다. 그리고 100 mL 둥근바닥 플라스크에 반응개시제 11.01 g과 반응용매 15.3 g을 넣고 완전히 녹여, 반응개시제 용액을 준비하였다.
반응개시제 용액을 적하장치(dropping funnel)를 이용하여 주반응기에 10 분 동안 투입하고 15 분 동안 교반하며 숙성시켰다. 이어서 원료모노머 용액을 정량펌프를 이용하여 3.5 시간 동안 0.57 g/min의 속도로 전량 투입하여 반응을 진행시켰다. 원료모노머 용액 투입이 종료되면 곧바로 반응을 종료시키고, 주반응기 내의 고분자 중 일부를 시료로 채취한 뒤 나머지 고분자를 숙성반응기로 이송시켜 상온, 상압에서 2 시간동안 숙성시켰다. 숙성이 종료된 고분자의 일부를 시료로 채취하였다.
주반응기와 숙성반응기에서 각각 채취한 각각의 시료에 대해 GPC (gel permeation chromatography)를 이용하여 중량평균분자량을 측정하였다.
결과는 하기 표 3에 정리하였다.
Figure 112008089195992-PAT00007
상기 표 3을 보면, 동일한 조건에서 3 회 실시된 뱃치 반응에서 반응직후(원료 투입으로부터 3.5 시간 후)의 생성물의 중량평균분자량의 편차가 ± 170~300 이며 숙성후(반응직후로부터 2 시간 후)에는 ± 260~442 이었다. 이로써, 본 발명의 실시예보다 생성물의 재현성이 크게 떨어짐을 확인할 수 있었다.
이상, 본 발명을 상기 실시예를 중심으로 하여 설명하였으나 이는 예시에 지나지 아니하며, 본 발명은 본 발명의 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명한 다양한 변형 및 균등한 기타의 실시예를 이하에 첨부한 청구범위 내에서 수행할 수 있다는 사실을 이해하여야 한다.
도 1은 본 발명에 따르는 제조방법의 일례를 도식적으로 나타낸 것이다.

Claims (15)

  1. 하기 화학식 1 내지 4로 표시되는 화합물 중 하나 이상을 포함하는 모노머와 개시제를 일정 속도로 반응기에 투입하여 중합반응을 진행하는 단계; 및 상기 중합반응이 진행되는 동안 상기 반응기로부터 생성물을 일정 속도로 배출시키는 단계를 포함하는, 감광성 고분자의 제조방법:
    [화학식 1]
    Figure 112008089195992-PAT00008
    [화학식 2]
    Figure 112008089195992-PAT00009
    [화학식 3]
    Figure 112008089195992-PAT00010
    [화학식 4]
    Figure 112008089195992-PAT00011
    상기 식에서,
    R1은 수소, 할로겐, C1-6 알킬 또는 C1-6 할로알킬이고;
    R2는 C1-6 알킬, 할로겐 또는 하이드록시로 치환되거나 비치환된, C2-15 지방족 탄화수소기, C6-20 방향족 탄화수소기, 락토닐 또는 부티로락토닐이고;
    R3는 C1-10 알킬, C1-10 할로알킬, C1-10 알킬카보닐 또는 실릴이고;
    R4는 C2-15 알킬, C2-15 할로알킬, C2-15 알킬카보닐, C2-15 알콕시, C2-15 할로알콕시, C2-15 알킬에스테르, C2-15 할로알킬에스테르 또는 실릴이다.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 모노머와 개시제는 각각 또는 함께 용매에 용해된 용액의 형태인 것을 특징으로 하는, 감광성 고분자의 제조방법.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 모노머는 용매 100 중량부 대비 60 내지 120 중량부의 농도로 용해되고, 상기 개시제는 용매 100 중량부 대비 3 내지 90 중량부의 농도로 용해되는 것을 특징으로 하는, 감광성 고분자의 제조방법.
  4. 제2항에 있어서,
    상기 모노머와 개시제는 각각 용매에 용해된 별도의 용액 형태로 사용하며, 모노머 용액의 투입속도는 0.1 내지 50 g/min 이고, 개시제 용액의 투입속도는 0.1 내지 25 g/min 인 것을 특징으로 하는, 감광성 고분자의 제조방법.
  5. 제2항에 있어서,
    상기 모노머와 개시제는 함께 용매에 용해시킨 혼합 용액을 사용하며, 상기 혼합 용액의 투입속도는 0.1 내지 75 g/min 인 것을 특징으로 하는, 감광성 고분자의 제조방법.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 반응기에 모노머와 개시제가 단위시간당 투입되는 양의 합이 반응기로부터 생성물이 단위시간당 배출되는 양과 동일한 것을 특징으로 하는, 감광성 고분자의 제조방법.
  7. 제2항에 있어서,
    상기 용매는, THF (tetrahydrofuran), PGMEA (propylene glycol monomethyl ether acetate), 에틸락테이트, 메틸에틸케톤 및 이들의 혼합용매로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는, 감광성 고분자의 제조방법.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 중합반응은, 60 내지 100 ℃의 온도와 1 내지 10 bar의 압력 범위에서 실시되는 것을 특징으로 하는, 감광성 고분자의 제조방법.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 반응기의 용량은 1 μL 내지 500 mL인 것을 특징으로 하는, 감광성 고분자의 제조방법.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 반응기는, 관형 반응기인 것을 특징으로 하는, 감광성 고분자의 제조방법.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 관형 반응기는, 반응유로의 내경이 1 nm 내지 1 cm 인 것을 특징으로 하는, 감광성 고분자의 제조방법.
  12. 제1항에 있어서,
    상기 반응기는, 마이크로반응기(micro-reactor)인 것을 특징으로 하는, 감광성 고분자의 제조방법.
  13. 제1항에 있어서,
    상기 반응기로부터 배출된 생성물을 상기 반응기에 직렬적으로 연결된 추가 의 반응기에 연속적으로 투입하여 반응을 더 진행시키는 것을 특징으로 하는, 감광성 고분자의 제조방법.
  14. 제1항에 있어서,
    상기 반응기는 병렬적으로 연결된 하나 이상의 반응기를 포함하여, 동일한 중합반응을 동시에 수행하도록 하는 것을 특징으로 하는, 감광성 고분자의 제조방법.
  15. 제1항에 있어서,
    상기 반응기로부터 배출된 생성물을 숙성 반응기에 연속적으로 투입하여 안정화시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 감광성 고분자의 제조방법.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1160659A (ja) * 1997-08-18 1999-03-02 Toagosei Co Ltd 反応性樹脂水分散体の製造方法
JP3941692B2 (ja) * 2001-03-15 2007-07-04 東亞合成株式会社 共重合体の製造方法
KR100778013B1 (ko) * 2006-09-22 2007-11-29 제일모직주식회사 메타크릴계 수지의 제조 방법
JP5456265B2 (ja) * 2008-03-07 2014-03-26 三菱レイヨン株式会社 重合体の製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101328841B1 (ko) * 2011-05-09 2013-11-13 동국대학교 산학협력단 연속반응공정을 이용한 테트라아세틸에틸렌디아민의 제조방법

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