KR20100048615A - 표시장치의 제조장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 신뢰도를 향상시킬 수 있는 표시장치의 제조장치가 개시된다.
개시된 본 발명의 표시장치의 제조장치는 진공 가열용 챔버와, 챔버의 내부에 배치된 핫 플레이트와, 챔버의 외측에 배치되고, 진공 상태의 상기 챔버 내부를 대기압으로 변환시키기 위한 벤트 가스가 공급되는 복수의 외부 배관과, 외부 배관으로부터 연장되어 챔버 내측면에 배치되어 벤트 가스가 배출되는 가스 배출관과, 외부 배관 상에 각각 배치되어 외부로부터 공급되는 벤트 가스를 가열하는 가스 가열부를 포함하는 것을 특징으로 한다.

Description

표시장치의 제조장치{APPARATUS FOR FABRICATING DISPLAY DEVICE}
본 발명은 표시장치의 제조장치에 관한 것으로, 특히 신뢰도를 향상시킬 수 있는 표시장치의 제조장치에 관한 것이다.
액정표시장치(LCD : liquid crystal display device)는 액정(Liquid crystal)을 이용하여 영상을 디스플레이하는 평판표시장치의 하나로서, 다른 디스플레이 장치에 비해 얇고 가벼우며, 낮은 소비전력을 갖는 장점으로 산업 전반에 걸쳐 광범위하게 사용되고 있다.
이와 같은 액정표시장치는 영상을 표시하기 위한 액정표시패널과, 상기 액정표시패널에 광을 공급하기 위한 백라이트 유닛으로 구성된다.
일반적인 액정표시패널은 서로 대응되는 기판 사이로 액정층이 개재된 구조로 이루어진다.
상기 액정표시패널의 제조공정은 기판을 대상으로 진행되는데, 상기 기판의 표면에 박막을 형성하는 박막 증착 공정, 상기 박막의 선택된 일부를 노출시키는 포토리소그라피(Photo lithography) 공정, 상기 박막의 노출된 부분을 제거하기 위해 패터닝하는 식각(etching) 공정이 수차례 반복되며, 그밖에 세정, 합착 및 절단 등의 여러가지 공정이 수반된다.
이중에서 패터닝이 완료된 기판을 세정한 후에 패터닝된 기판 상에 수분이나 이물질을 제거하기 위해 기판을 진공상태에서 가열하는 공정이 진행된다.
상기 기판을 진공상태에서 가열하는 공정은 진공 가열장치를 통해 이루어진다.
진공 가열장치는 챔버 내부에 열원을 배치하고, 상기 챔버 내부에 기판을 반입함으로서 이루어진다.
상기 챔버 내부는 진공상태에서 고온 환경이 제공되어 기판 상에 수분 또는 이물질을 제거하고, 챔버 내부를 대기압 상태로 만들어주기 위해 외부로부터 벤트 가스를 공급하여 기판을 외부로 반출시킨다.
그러나, 일반적인 진공 가열장치는 진공 상태를 대기압 상태로 변경하기 위해 100도 이상의 챔버 내부에 벤트 가스를 주입하는 과정에 있어서, 외부로부터 공급되는 낮은 온도(대략, 25도 미만)의 벤트 가스가 높은 온도의 챔버 내부에 공급되면서 순간적인 온도 차에 의해 기판의 표면에 수분이 응결되는 결로 현상 발생으로 기판의 표면에 이물질이 제거되지 않는 문제가 있었다.
또한, 일반적인 진공 가열장치는 챔버 내부에 밴트 가스가 공급되는 가스 배출구영역에서 벤트 가스 공급에 따른 순간적인 온도차이로 기판으로부터 증발된 수분 또는 이물질들이 고착되어 장시간 사용시에 벤트 가스 가스 배출구가 막히는 등의 문제가 있었다.
본 발명은 신뢰도를 향상시킬 수 있는 표시장치의 제조장치를 제공함에 그 목적이 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치의 제조장치는,
진공 가열용 챔버; 상기 챔버의 내부에 배치된 핫 플레이트; 상기 챔버의 외측에 배치되고, 진공 상태의 상기 챔버 내부를 대기압으로 변환시키기 위한 벤트 가스가 공급되는 복수의 외부 배관; 상기 외부 배관으로부터 연장되어 상기 챔버 내측면에 배치되어 상기 벤트 가스가 배출되는 가스 배출관; 및 상기 외부 배관 상에 각각 배치되어 외부로부터 공급되는 상기 벤트 가스를 가열하는 가스 가열부를 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시장치의 제조장치는,
진공 가열용 챔버; 상기 챔버의 내부에 배치된 핫 플레이트; 상기 챔버의 외측에 배치되고, 진공 상태의 상기 챔버 내부를 대기압으로 변환시키기 위한 벤트 가스가 공급되는 복수의 외부 배관; 상기 외부 배관으로부터 연장되어 상기 챔버 내부에 위치하며, 상기 핫 플레이트의 하부 영역에 배치된 내부 배관; 및 상기 내부 배관으로부터 연장되고, 상기 벤트 가스를 상기 챔버 내부에 배출시키는 가스 배출관;을 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 진공 가열장치는 챔버의 외부에 배치된 복수의 외부 배관 각각에 벤트 가스를 가열하는 가스 가열부가 구비되어 벤트 가스를 외부에서 가열하여 공급함으로써, 챔버 내부의 온도가 급격하게 변하여 기판 상에 수분이 응결되는 결로 현상, 가스 가스 배출구에 수분 또는 이물질이 고착되어 막히는 등의 문제를 개선하여 보다 신뢰성이 향상된 표시장치의 제조장치를 구현할 수 있는 효과가 있다.
또한, 본 발명의 진공 가열장치는 챔버의 내부에 배치된 핫 플레이트의 하부 방향에 복수의 외부 배관으로부터 연장된 내부 배관이 배치되고, 외부로부터 공급되는 벤트 가스가 내부 배관을 통과하면서 가열됨으로써, 챔버 내부의 온도가 급격하게 변하여 기판 상에 수분이 응결되는 결로 현상, 가스 배출구에 수분 또는 이물질이 고착되어 막히는 등의 문제를 개선하여 보다 신뢰성이 향상된 표시장치의 제조장치를 구현할 수 있는 효과가 있다.
첨부한 도면을 참조하여 본 발명에 따른 실시 예를 상세히 설명하도록 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치의 제조장치를 개략적으로 도시한 도면이고, 도 2는 도 1의 Ⅰ-Ⅰ'라인을 따라 절단한 표시장치의 제조장치를 도시한 단면도이다.
도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치의 제조장치는 패터닝이 완료된 기판(미도시)의 세정 공정이 완료되고, 세정 공정이 완료된 기판의 수분 및 이물질을 제거하기 위한 진공 가열장치에 관한 것이다.
진공 가열장치는 상부 프레임(110)과, 상면이 개구된 하부 프레임(130)과, 상기 상부 프레임(110) 및 하부 프레임(130)의 일측에 배치되어 기판이 반입 및 반출되는 개폐부(140)를 포함하는 챔버(100)를 포함한다.
진공 가열장치는 챔버(100)의 내부에 배치되어 기판을 가열하는 열원으로 핫 플레이트(120)를 더 포함하고, 상기 핫 플레이트(120) 상에는 기판을 지지하기 위한 다수의 지지핀(121)이 구비된다.
챔버(100)의 측면에는 외부의 벤트 가스가 공급되는 외부 배관(153)과, 벤트 가스를 챔버(100) 내부의 온도와 유사한 온도로 가열하는 가스 가열부(151)가 구비된다.
외부 배관(153)은 챔버(100)의 측면에 서로 대응되도록 구비되며, 챔버(100)의 측면을 기준으로 적어도 하나 이상 구비된다.
가스 가열부(151)는 외부 배관(153) 상에 구비되어 챔버(100) 내부에 주입되는 벤트 가스를 챔버(100) 내부의 온도와 유사하게 가열함으로써, 벤트 가스가 챔버(100) 내부에 주입되더라도 챔버(100) 내부의 온도를 일정하게 유지되게 하여 기판의 표면에 수분이 응결되는 결로현상을 방지하는 기능을 가진다.
여기서, 벤트 가스는 압축 공기 또는 질소(N2) 등으로 이루어진다.
챔버(100)의 내측면에는 상기 외부 배관(153)으로부터 연장되는 가스 배출관(155)을 포함하고, 상기 가스 배출관(155)에는 일정한 간격을 두고 벤트 가스가 배출되는 복수의 가스 배출구(157)가 형성된다.
본 발명의 일 실시예에 따른 진공 가열장치는 챔버(100)의 외부에 배치된 복수의 외부 배관(153) 각각에 벤트 가스를 가열하는 가스 가열부(151)가 구비되어 챔버(100) 내부로 공급되는 벤트 가스를 챔버(100) 내부 온도와 유사하게 가열시킴으로써, 챔버(100) 내부에 벤트 가스가 공급되더라도 챔버(100) 내부 온도를 일정하게 유지시킬 수 있다.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치의 제조장치는 외부로부터 챔버(100) 내부로 공급되는 벤트 가스를 외부에서 가열하여 공급함으로써, 챔버(100) 내부의 온도가 급격하게 변하여 기판 상에 수분이 응결되는 결로 현상, 가스 가스 배출구(157)에 수분 또는 이물질이 고착되어 막히는 등의 문제를 개선하여 보다 신뢰성이 향상된 표시장치의 제조장치를 구현할 수 있다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시장치의 제조장치를 개략적으로 도시한 도면이고, 도 4는 도 3의 Ⅱ-Ⅱ'라인을 따라 절단한 표시장치의 제조장치를 도시한 단면도이다.
도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시장치의 제조장치는 패터닝이 완료된 기판을 세정하고, 세정된 기판의 수분 또는 이물질을 제거하기 위한 진공 가열장치로서, 상기 진공 가열장치는 상부 프레임(210)과, 하부 프레임(230)과, 상기 상부 프레임(210) 및 하부 프레임(230)의 일측에 배치된 개폐부(240)를 포함하는 챔버(200)를 포함한다.
여기서, 본 발명의 다른 실시예에서는 진공 가열장치의 구조에 있어서, 챔버(200)는 상기 상부 프레임(210), 하부 프레임(230) 및 개폐부(240)의 구조를 한정하여 설명하고 있지만, 이에 한정하지 않고, 기판을 가열하기 위한 박스 형태의 구조라면 모두 포함될 수 있다.
챔버(200)의 하부 프레임(230) 상에는 기판을 가열하는 열원으로 핫 플레이트(220)를 더 포함하고, 상기 핫 플레이트(220) 상에는 기판을 지지하기 위한 다수의 지지핀(210)이 구비된다.
챔버(200)의 측면에는 외부의 벤트 가스가 공급되는 복수의 외부 배관(253)과, 상기 외부 배관(253)으로부터 연장되어 챔버(200)의 내부에 구비되는 내부 배관(259)과, 상기 내부 배관(259)으로부터 연장되어 상기 챔버(200)의 내측면에 배치되는 가스 배출관(255)을 포함하고, 상기 가스 배출관(255)은 일정한 간격을 두고 벤트 가스가 배출되는 복수의 가스 배출구(257)가 형성된다.
외부 배관(253)은 상기 챔버(200)의 측면에 적어도 하나 이상 구비되며, 바람직하게는 서로 대응되는 챔버(200)의 외측면을 관통한다.
내부 배관(259)은 상기 외부 배관(253)으로부터 연장되며, 외부 배관(253)이 상기 챔버(200)의 측면으로부터 내부로 관통되어 챔버(200) 내부에 구비된다.
내부 배관(259)은 상기 핫 플레이트(220)의 하부에 배치되며, 하부 플레이트(220)의 대면되는 하부영역에서 구부러진 구조로 이루어진다. 상기 내부 배관(259)이 핫 플레이트(220)의 하부에 구부러진 구조로 이루어진 것은 내부 배관(259)을 통과하는 벤트 가스의 가열 시간을 충분히 확보하기 위한 것이다.
내부 배관(259)은 핫 플레이트(220)의 하부에 배치됨으로써, 핫 플레이트(220)로부터 발생되는 열에 의해 가열된다. 따라서, 내부 배관(259)을 통과하는 벤트 가스는 핫 플레이트(220)에 의해 가열된다.
본 발명의 다른 실시예에 따른 내부 배관(259)은 핫 플레이트(220)의 하부에 배치되어 외부로부터 공급된 벤트 가스를 가열시키는 기능을 가진다.
내부 배관(259)의 양 끝단은 복수의 외부 배관(253)과 연결된 구조로 이루어진다.
내부 배관(259)은 중앙 영역에 챔버(200)의 내부 측면으로부터 상부방향으로 구부러져 가스 배출관(255)과 연결된다.
상기 가스 배출관(255)으로부터 배출되는 벤트 가스는 내부 배관(259)을 통과하면서 챔버(200) 내부 온도와 유사한 온도로 가열된다.
본 발명의 다른 실시예에 따른 진공 가열장치는 챔버(200)의 내부에 배치된 핫 플레이트(220)의 하부 방향에 복수의 외부 배관(253)으로부터 연장된 내부 배관(259)이 배치되고, 내부 배관(259)으로 공급되는 벤트 가스를 핫 플레이트(220)로부터 발생된 열에 의해 가열함으로써, 가스 배출관(255)의 가스 배출구(257)로부터 챔버(200) 내부로 벤트 가스가 공급되더라도 챔버(200) 내부의 온도를 일정하게 유지시킬 수 있다.
따라서, 본 발명의 다른 실시예에 따른 진공 가열장치는 외부로부터 챔버(200) 내부로 공급되는 벤트 가스가 내부 배관(259)을 통과하면서 가열됨으로써, 챔버(200) 내부의 온도가 급격하게 변하여 기판 상에 수분이 응결되는 결로 현상, 가스 배출구(257)에 수분 또는 이물질이 고착되어 막히는 등의 문제를 개선하여 보다 신뢰성이 향상된 표시장치의 제조장치를 구현할 수 있다.
이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서 본 발명 의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 정하여져야만 할 것이다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치의 제조장치를 개략적으로 도시한 도면이다.
도 2는 도 1의 Ⅰ-Ⅰ'라인을 따라 절단한 표시장치의 제조장치를 도시한 단면도이다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시장치의 제조장치를 개략적으로 도시한 도면이다.
도 4는 도 3의 Ⅱ-Ⅱ'라인을 따라 절단한 표시장치의 제조장치를 도시한 단면도이다.

Claims (6)

  1. 진공 가열용 챔버;
    상기 챔버의 내부에 배치된 핫 플레이트;
    상기 챔버의 외측에 배치되고, 진공 상태의 상기 챔버 내부를 대기압으로 변환시키기 위한 벤트 가스가 공급되는 복수의 외부 배관;
    상기 외부 배관으로부터 연장되어 상기 챔버 내측면에 배치되어 상기 벤트 가스가 배출되는 가스 배출관; 및
    상기 외부 배관 상에 각각 배치되어 외부로부터 공급되는 상기 벤트 가스를 가열하는 가스 가열부를 포함하는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조장치.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 가스 가열부는 상기 챔버 내부의 온도와 동일하게 상기 벤트 가스의 온도를 가열시키는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조장치.
  3. 제1 항에 있어서,
    상기 가스 배출관에는 상기 벤트 가스가 배출될 수 있도록 복수의 가스 배출구가 형성된 것을 특징을 하는 표시장치의 제조장치.
  4. 진공 가열용 챔버;
    상기 챔버의 내부에 배치된 핫 플레이트;
    상기 챔버의 외측에 배치되고, 진공 상태의 상기 챔버 내부를 대기압으로 변환시키기 위한 벤트 가스가 공급되는 복수의 외부 배관;
    상기 외부 배관으로부터 연장되어 상기 챔버 내부에 위치하며, 상기 핫 플레이트의 하부 영역에 배치된 내부 배관; 및
    상기 내부 배관으로부터 연장되고, 상기 벤트 가스를 상기 챔버 내부에 배출시키는 가스 배출관;을 포함하는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조장치.
  5. 제4 항에 있어서,
    상기 내부 배관의 양 끝단은 상기 외부 배관과 연결된 구조로 이루어지는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조장치.
  6. 제4 항에 있어서,
    상기 내부 배관은 중앙 영역에 상기 챔버의 내부 측면을 따라 상부방향으로 구부러져 상기 가스 배출관과 연결되는 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조장치.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01258423A (ja) 1988-04-08 1989-10-16 Nec Corp 半導体装置の製造装置
JPH0521393A (ja) * 1991-07-11 1993-01-29 Sony Corp プラズマ処理装置
JPH0750290A (ja) 1993-08-05 1995-02-21 Hitachi Ltd 低温エッチング装置
KR100296651B1 (ko) 1998-07-09 2001-10-26 윤종용 반도체진공설비및이를이용하는방법
JP5010781B2 (ja) * 2001-03-28 2012-08-29 忠弘 大見 プラズマ処理装置
JP3809806B2 (ja) * 2002-03-29 2006-08-16 富士電機デバイステクノロジー株式会社 半導体装置の製造方法
TW200537695A (en) * 2004-03-19 2005-11-16 Adv Lcd Tech Dev Ct Co Ltd Insulating film forming method, insulating film forming apparatus, and plasma film forming apparatus
KR101087240B1 (ko) * 2004-12-13 2011-11-29 엘지디스플레이 주식회사 평판디스플레이용 소성장치

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