WO2018113150A1 - 一种面板制程装置 - Google Patents

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WO2018113150A1
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air knife
substrate
panel
processing
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黄俊钦
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惠科股份有限公司
重庆惠科金渝光电科技有限公司
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    • G02F1/1316—Methods for cleaning the liquid crystal cells, or components thereof, during manufacture: Materials therefor

Definitions

  • the present invention relates to the field of panel manufacturing technology, and in particular to a panel processing apparatus. ⁇ Background technique ⁇
  • the liquid crystal display has many advantages such as thin body, power saving, no radiation, and has been widely used.
  • Most of the liquid crystal displays on the market are backlight type liquid crystal displays, which include a liquid crystal panel and a backlight module.
  • the working principle of the liquid crystal panel is to place liquid crystal molecules in two parallel substrates, and apply driving voltages on the two substrates to control the rotation direction of the liquid crystal molecules to refract the light of the backlight module to produce a picture.
  • a thin film transistor liquid crystal display includes a liquid crystal panel including a color filter substrate (CF Substrate, also referred to as a color filter substrate), a thin film transistor array substrate (Thin Film Transistor Substrate, TFT Substrate), and a backlight module.
  • a mask has a transparent electrode on the opposite inner side of the substrate.
  • a layer of liquid crystal molecules (Limited Liquid Crystal) is sandwiched between the two substrates.
  • liquid crystal display panels have been widely used in electronic devices such as liquid crystal televisions and liquid crystal displays.
  • a plurality of liquid crystal display panels are obtained by cutting a single substrate.
  • HVA light alignment is required, that is, when a voltage is applied to the substrate, the monomer in the panel is caused to react by ultraviolet ultraviolet light irradiation, thereby achieving the purpose of liquid crystal alignment.
  • the technical problem to be solved by the present invention is to provide a panel manufacturing apparatus capable of improving product taste and yield.
  • the present invention provides a panel manufacturing apparatus comprising:
  • An ultraviolet ray irradiation machine for performing ultraviolet irradiation alignment processing on the substrate sent from the single-plate cutter;
  • the air knife is erected in the outlet position of the single-board cutting machine, and is used for cleaning the foreign material of the substrate sent by the single-plate cutting machine.
  • the panel processing apparatus further includes a processing platform for carrying the substrate, and the substrate obtained by cutting the edge veneer cutter is sent to the alignment ultraviolet irradiation machine;
  • the air knife is disposed in cooperation with the process platform.
  • the process platform will be used for the bearing of the substrate during the irradiation of the substrate or during the irradiation of the ultraviolet ray irradiator, and the air knife is arranged with the processing platform, which can make the air knife better and more convenient to complete the process of foreign matter cleaning.
  • the air knife is disposed on a side or an upper surface of the processing platform
  • the air outlet of the air knife faces the processing platform.
  • the air knife will be set with the process platform, and according to the difference of the setting of the process platform, the air knife can be placed on the side or above of the process platform.
  • the air outlet of the air knife should face the process platform, so that Better removal of foreign matter on the substrate, airflow through the air knife, residual glass residue, and foreign matter such as dust will be cleaned, thereby improving the final optical performance of the product, thereby improving product taste and yield.
  • the panel processing device further includes a moving rail that cooperates with the processing platform; the air knife is disposed at the moving rail, and an air outlet of the air knife faces the processing platform.
  • a moving rail which is erected with the supporting platform, and the air knife is placed at the moving rail, which enables the air knife to move through the moving rail to better align Need to clean up parts, improve cleaning efficiency and effect, which will help improve product taste And the yield; moreover, the moving track is the device that is supposed to be, by which the cleaning cost can be effectively controlled.
  • the process platform includes a transfer device for carrying the substrate, and a mounting device for supporting the transfer device;
  • the air knife is disposed at the installation device, and an air outlet of the air knife faces the conveying device.
  • the air knife is fixed at the installation equipment, so that the air knife can not only achieve the purpose of cleaning foreign objects, but also does not affect the implementation of other works of the original process.
  • the panel processing device further includes a moving track that cooperates with the processing platform; the moving track is provided with an ultraviolet light irradiation intensity that is matched with the processing platform for automatically measuring the intensity of ultraviolet light irradiation. Automatic measurement platform;
  • the air knife is disposed at the ultraviolet light irradiation intensity automatic measuring platform, and is configured to perform foreign matter processing on the substrate sent by the single board cutting machine.
  • the ultraviolet light irradiation intensity automatic measuring platform by using the ultraviolet light irradiation intensity automatic measuring platform, the wind knife and the moving track and the processing platform are well matched, and the setting of the automatic measuring platform for the ultraviolet light irradiation intensity is for the process.
  • the substrate carried by the platform measures the intensity of ultraviolet light irradiation, so that the substrate can be better covered correspondingly, and the air knife is matched with the ultraviolet light irradiation intensity automatic measuring platform, so that the air knife airflow of the air knife can better cover the substrate. In all places, avoid the removal of some foreign objects on the substrate, and the failure to clean up the other part.
  • the air knife is disposed on a side of the ultraviolet light irradiation intensity automatic measuring platform facing the processing platform;
  • the ultraviolet light irradiation intensity automatic measuring platform is well-positioned to face the side of the processing platform to set up the air knife, so that the air outlet of the air knife can be well aligned with the processing platform, so that when the substrate passes, the air knife
  • the work of cleaning the foreign matter on the substrate can be well completed, so that the substrate can better control the temperature uniformity of the pre-aligned substrate during the irradiation of the alignment ultraviolet irradiation machine, which will improve the optical performance of the final panel. Thereby improving product taste and yield.
  • the panel processing device further includes a clean compressed air supply module (CDA);
  • CDA clean compressed air supply module
  • the length of the air knife is greater than the width of the process platform.
  • the air knife adopts a clean compressed air supply module (CDA) for air supply, which ensures the cleanliness of the supplied gas, and is more controllable, and cooperates with the ultraviolet light irradiation intensity automatic measurement platform.
  • the controller can move the cycle and the frequency to control the cleaning frequency during the process; and the length of the air knife, in particular, the length of the corresponding air outlet is slightly longer than the width of the processing platform, due to the substrate width corresponding to the processing platform
  • the side is the "hardest area" that may appear in the main glass residue. This arrangement will make the substrate foreign matter removal more effective, thus improving the final product taste and yield.
  • the clean compressed air supply module has been improved. Full use, kill two birds with one stone.
  • the process platform is configured to carry a substrate
  • the processing platform and the ultraviolet light irradiation intensity automatic measuring platform are disposed between at least two sets of alignment ultraviolet irradiation machines;
  • the alignment ultraviolet irradiation machine further includes a temperature control platform for performing temperature control on the processing platform when the processing platform performs the irradiation range of the alignment ultraviolet irradiation machine.
  • the temperature control platform controls the temperature of the processing platform and the substrate, and whether the temperature is well controlled is largely It affects the final optical performance of the panel.
  • the substrate cut by the single-plate cutter is likely to have the leftover problem of the glass residue. Of course, other problems such as dust may exist, and these things are not peeled off.
  • the temperature control platform can not achieve the temperature control well, and the substrate has local temperature unevenness, local uneven force, and uneven local illumination, which will cause the final optical performance of the panel to be poor, thus affecting the product taste and yield.
  • the good coordination of the moving track, the processing platform, the ultraviolet light intensity automatic measuring platform, the alignment ultraviolet irradiation machine and the temperature control platform therein can solve this problem.
  • the panel processing apparatus further includes a plate loading machine for inputting the substrate plate; and a lifting device disposed between the dressing machine and the veneer cutting machine;
  • the alignment ultraviolet irradiation machine is provided with four groups, and four groups of alignment ultraviolet irradiation machines are provided with moving orbits;
  • the moving rail is provided with a processing platform, and the moving rail is further provided with an ultraviolet light irradiation intensity automatic measuring platform, and the ultraviolet light irradiation intensity automatic measuring platform is provided with a wind knife facing the side of the processing platform, The air outlet of the air knife faces the processing platform;
  • the alignment ultraviolet irradiation machine further includes a temperature control platform for temperature control of the process platform.
  • a temperature control platform for temperature control of the process platform.
  • the reason why the substrate needs to be cleaned by foreign materials is mainly because the substrate may have residual glass residue on the veneer cutting machine, but during the whole process. Other parts may also be contaminated with foreign matter such as dust, which may cause adverse effects if not cleaned; here, the air knife can clean the foreign matter on the substrate before or at the time of the ultraviolet irradiation treatment, thereby improving the follow-up
  • the effect of temperature control and alignment with UV irradiation improves product taste and yield.
  • the beneficial effects of the present invention are as follows:
  • the present invention is provided with a wind knife, which enables the substrate obtained by the single-plate cutting machine to be cleaned by foreign matter, which enables the substrate to be better aligned, and it is known that the substrate is on the substrate. If there is a foreign matter, such as: glass residue, dust, etc., when the alignment is performed, temperature control and light irradiation will not be well implemented, resulting in uneven temperature, uneven local stress, and uneven illumination. These problems will affect the optical performance of the final panel, which will affect the product's taste and yield. Moreover, when properly used, the air knife can not only clean the foreign objects on the substrate, but also the other parts of the whole process. It can improve the cleanliness and help improve product yield.
  • Figure 1 is a schematic view of a panel manufacturing apparatus
  • FIG. 2 is a second schematic view of a panel manufacturing apparatus
  • Figure 3 is a third schematic view of a panel manufacturing apparatus
  • Figure 4 is a fourth schematic view of a panel manufacturing apparatus
  • Figure 5 is a fifth schematic view of a panel manufacturing apparatus
  • Figure 6 is a schematic view showing the composition of the panel manufacturing apparatus of the present invention.
  • FIG. 7 is a flow chart of a panel manufacturing method disclosed by the present invention.
  • the panel process apparatus 100 includes:
  • the veneer cutting machine 10 is configured to perform a cutting process on the substrate; wherein the substrate may be, for example, a substrate, a plastic substrate or other substrate.
  • the ultraviolet ray irradiation machine 20 is configured to perform ultraviolet irradiation alignment processing on the substrate sent from the single-plate cutter 10;
  • the air knife 30 is mounted on the discharge port of the single-plate cutter 10 for performing foreign matter cleaning on the substrate fed from the single-plate cutter 10.
  • the air knife may be disposed between the single-plate cutter and the alignment ultraviolet irradiation machine, or may be disposed at the front of the irradiation range of the ultraviolet irradiation machine.
  • the beneficial effects of the present invention are as follows:
  • the present invention is provided with a wind knife, which enables the substrate obtained by the single-plate cutting machine to be cleaned by foreign matter, which enables the substrate to be better aligned, and it is known that the substrate is on the substrate. If there is a foreign matter, such as: glass residue, dust, etc., when the alignment is performed, temperature control and light irradiation will not be well implemented, resulting in uneven temperature, uneven local stress, and uneven illumination. These problems will affect the optical performance of the final panel, which will affect the product's taste and yield. Moreover, when properly used, the air knife can not only clean the foreign objects on the substrate, but also the other parts of the whole process. It can improve the cleanliness and help improve product yield.
  • the panel processing apparatus 100 further includes a process platform 40 (Stage) for carrying the substrate, which will be used by the edge veneer cutter 10.
  • the cut substrate is sent to the alignment ultraviolet irradiation machine 20;
  • the air knife 30 is provided in cooperation with the process platform 40 (Stage).
  • the process platform 40 will be used for the bearing of the substrate, and the air knife is arranged with the processing platform, which can make the air knife better and more convenient to complete the process of foreign matter cleaning.
  • the air knife 30 is disposed on a side or above of the process platform 40 (Stage);
  • the air outlet of the air knife 30 faces the process platform 40 (Stage).
  • the air knife will be set with the process platform, and according to the difference of the setting of the process platform, the air knife can be placed on the side or above of the process platform.
  • the air outlet of the air knife should face the process platform, so that Better removal of foreign matter on the substrate, airflow through the air knife, residual glass residue, and foreign matter such as dust will be cleaned, thereby improving the final optical performance of the product, thereby improving product taste and yield.
  • the panel processing apparatus 100 further includes a moving rail 50 that cooperates with the processing platform 40 (stage); the air knife 30
  • the air rail of the air knife faces the processing platform.
  • the moving rail which is erected with the supporting platform, and the air knife is placed at the moving rail, which enables the air knife to move through the moving rail to better align
  • the parts that need to be cleaned improve the cleaning efficiency and effect, which is beneficial to improve product taste and yield.
  • the moving track is the equipment that should be used, and the cleaning cost can be effectively controlled by the device.
  • the process platform 40 (Stage) includes a transfer device (not shown) for carrying the substrate, and a mounting device (not shown) for supporting the transfer device;
  • the air knife 30 is mounted at the mounting device, and the air outlet of the air knife 30 faces the conveying device.
  • the air knife is fixed at the installation equipment, so that the air knife can not only achieve the purpose of cleaning foreign objects, but also does not affect the implementation of other works of the original process.
  • FIG. 4 is a fourth schematic view of the panel process device
  • FIG. 5 is a fifth schematic view of the panel process device.
  • the panel process device 100 further includes the process platform 40 (Stage). ) the coordinated moving track 50;
  • the moving rail 50 is provided with an ultraviolet light irradiation intensity automatic measuring platform 60 which is arranged in cooperation with the processing platform 40 (Stage) for automatically measuring the ultraviolet light irradiation intensity;
  • the air knife 30 is mounted on the ultraviolet light irradiation intensity automatic measuring platform 60 for performing foreign matter processing on the substrate sent by the single board cutting machine 10.
  • the setting of the ultraviolet light irradiation intensity automatic measuring platform is to measure the ultraviolet light irradiation intensity of the substrate carried by the processing platform, so that the substrate can be better covered correspondingly, and the air knife is matched with the ultraviolet light irradiation intensity automatic measuring platform. It can ensure that the air knife airflow of the air knife can better cover all parts of the substrate, avoiding the partial foreign matter on the substrate being cleaned, and the other part failing to be cleaned.
  • the air knife 30 is disposed on a side of the ultraviolet light irradiation intensity automatic measuring platform 60 facing the processing platform 40 (stage);
  • the air outlet of the air knife 30 faces the process platform 40 (Stage).
  • the ultraviolet light irradiation intensity automatic measuring platform is well-positioned to face the side of the processing platform to set up the air knife, so that the air outlet of the air knife can be well aligned with the processing platform, so that when the substrate passes, the air knife
  • the work of cleaning the foreign matter on the substrate can be well completed, so that the substrate can better control the temperature uniformity of the pre-aligned substrate during the irradiation of the alignment ultraviolet irradiation machine, which will improve the optical performance of the final panel. Thereby improving product taste and yield.
  • the panel manufacturing apparatus 100 further includes a clean compressed air supply module (CDA); the air supply end of the air knife 30 is connected to the clean compressed air supply module; the air knife 30 The length is greater than the width of the process platform 40 (Stage).
  • CDA clean compressed air supply module
  • the air knife adopts a clean compressed air supply module (CDA) for air supply, which ensures the cleanliness of the supplied gas, and is more controllable, and cooperates with the ultraviolet light irradiation intensity automatic measurement platform.
  • the controller can move the cycle and the frequency to control the cleaning frequency during the process; and the length of the air knife, in particular, the length of the corresponding air outlet is slightly longer than the width of the processing platform, due to the substrate width corresponding to the processing platform
  • the side is the "hardest hit" that may occur in the main glass residue. This arrangement will make the substrate foreign matter removal more effective, thus improving the final product taste and yield; and the clean compressed air supply module (CDA) is obtained. More full use, two birds with one stone.
  • the panel process apparatus 100 further includes: the process platform 40 (Stage) for carrying a substrate;
  • the process platform 40 (Stage) and the ultraviolet light irradiation intensity automatic measuring platform 60 are disposed between at least two sets of alignment ultraviolet irradiation machines 20;
  • the alignment ultraviolet ray illuminator 20 further includes a temperature control platform (not shown) for processing the processing platform 40 (Stage) when the processing platform 40 (Stage) performs the irradiation range of the aligning ultraviolet ray illuminator 20. Perform temperature control.
  • the temperature control platform controls the temperature of the processing platform and the substrate, and whether the temperature is well controlled is largely It affects the final optical performance of the panel.
  • the substrate cut by the single-plate cutter is likely to have the leftover problem of the glass residue.
  • other problems such as dust may exist, and these things are not peeled off.
  • the temperature control platform can not achieve the temperature control well, and the substrate has local temperature unevenness, local uneven force, and uneven local illumination, which will cause the final optical performance of the panel to be poor, thus affecting the product taste and yield.
  • the good coordination of the moving track, the processing platform, the ultraviolet light intensity automatic measuring platform, the alignment ultraviolet irradiation machine and the temperature control platform therein can solve this problem.
  • the panel processing apparatus 100 further includes a plate loading machine 101 for inputting a substrate sheet; a lifting device 102 between the machine 101 and the veneer cutter 10;
  • a transport device 103 and a turning device 104 disposed between the veneer cutter 10 and the alignment ultraviolet illuminator 20 in sequence;
  • the alignment ultraviolet ray irradiation machine 20 is provided with four groups, and four groups of alignment ultraviolet ray irradiation machines 20 are provided with a moving track 50;
  • the moving rail 50 is provided with a processing platform 40 (Stage), and the moving rail 50 is further provided with an ultraviolet light irradiation intensity automatic measuring platform 60, and the ultraviolet light irradiation intensity automatic measuring platform 60 faces the processing platform 40.
  • the side of the (Stage) is provided with an air knife 30, and the air outlet of the air knife 30 faces the processing platform 40 (Stage);
  • the alignment ultraviolet irradiation machine 20 further includes a temperature control platform for temperature control of the processing platform 40 (Stage).
  • a temperature control platform for temperature control of the processing platform 40 (Stage).
  • the relationship between the panel process devices is roughly introduced.
  • the reason why the substrate needs to be cleaned by foreign materials is mainly because the substrate may have residual glass residue on the veneer cutting machine, but during the whole process. Other parts may also be contaminated with ash Dust and other foreign matter, if not cleaned, will have adverse effects; here, the air knife can clean the foreign matter on the substrate before or at the time of the alignment ultraviolet irradiation treatment, thereby improving the subsequent temperature control and alignment ultraviolet irradiation, etc.
  • the effect of the process thereby improving product taste and yield.
  • FIG. 7 is a flowchart of a method for manufacturing a panel according to the present invention. The embodiment shown in FIG. 7 can be seen in conjunction with FIG. 1 to FIG. 6. The method includes the following steps:
  • S3 The substrate sent from the veneer cutter is subjected to ultraviolet irradiation alignment treatment using a aligning ultraviolet ray irradiator.
  • the method is applicable to the aforementioned panel process apparatus.
  • the beneficial effects of the present invention are: In the manufacturing process of the present invention, since the air knife is installed at the discharge port of the single-plate cutting machine, the substrate obtained by the single-plate cutting machine will be cleaned by foreign matter, which makes The substrate can be better aligned. It is known that if foreign matter is present on the substrate, such as glass residue, dust, etc., temperature control and light irradiation will not be well implemented when the alignment is performed, and thus the temperature will appear.

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Abstract

一种面板制程装置，包括：单板切割机(10)，用于对基板进行切割处理；配向紫外线照射机(20)，用于对所述单板切割机(10)送来的基板进行紫外线照射配向处理；风刀(30)，架设在所述单板切割机(10)的出料口方位，用于对单板切割机(10)送出的基板进行异物清理。

Description

一种面板制程装置
【技术领域】
本发明涉及一种面板制造技术领域， 特别是涉及一种面板制程装置。 【背景技术】
液晶显示器具有机身薄、 省电、 无辐射等众多优点， 得到了广泛的应用。 现有市场上的液晶显示器大部分为背光型液晶显示器， 其包括液晶面板及背光 模组 （backlightmodule)。 液晶面板的工作原理是在两片平行的基板当中放置液 晶分子， 并在两片基板上施加驱动电压来控制液晶分子的旋转方向， 以将背光 模组的光线折射出来产生画面。
TFT-LCD )由于具有低的功耗、 优异的画面品 ^以及较高的生产良率等性能， 目 前已经逐渐占据了显示领域的主导地位。 同样， 薄膜晶体管液晶显示器包含液 晶面板和背光模组， 液晶面板包括彩膜基板（ Color Filter Substrate, CF Substrate, 也称彩色滤光片基板）、 薄膜晶体管阵列基板（ Thin Film Transistor Substrate, TFTSubstrate )和光罩 （Mask) , 上述基板的相对内侧存在透明电极。 两片基板之 间夹一层液晶分子（ LiquidCrystal， LC )。
目前， 液晶显示面板已经广泛使用在液晶电视、 液晶显示器等电子装置中。 目前液晶显示面板的制造中， 均为通过一整块的基板切割得到多个液晶显示面 板。 而对于该整块基板， 需要进行 HVA光配向， 即， 在给基板印加电压的情况 下， 通过紫外线 UV光照射促使面板内单体反应， 从而达到液晶配向的目的。
但现在配向过程中常用良率不高的问题。
应该注意， 上面对技术背景的介绍只是为了方便对本申请的技术方案进行 清楚、 完整的说明， 并方便本领域技术人员的理解而阐述的。 不能仅仅因为这 些方案在本申请的背景技术部分进行了阐述而认为上述技术方案为本领域技术 人员所公知。 【发明内容】
有鉴于现有技术的上述缺陷， 本发明所要解决的技术问题是提供一种能够 提高产品品味和良率的面板制程装置。
为实现上述目的， 本发明提供了一种面板制程装置， 包括：
单板切割机， 用于对基板进行切割处理；
配向紫外线照射机， 用于对所述单板切割机送来的基板进行紫外线照射配 向处理；
风刀， 架设在所述单板切割机的出料口方位， 用于对单板切割机送出的基 板进行异物清理。
进一步的， 所述面板制程装置还包括用于承载所述基板的制程平台， 用于 将由边缘单板切割机切割得到的基板送至配向紫外线照射机处；
所述风刀与所述制程平台配合设置。 本方案中， 在基板到达或者在紫外线 照射机照射过程中， 制程平台将用于基板的承载之用， 风刀配合制程平台设置， 能够使得风刀更好更方便的完成异物清理的过程。
进一步的， 所述风刀设置在所述制程平台的侧面或上面；
所述风刀的出风口面向所述制程平台。 本方案中， 风刀将配合制程平台进 行设置， 而根据制程平台的设置区别， 可以将风刀设置在制程平台的侧面或上 面， 当然， 风刀的出风口应当面向制程平台， 如此， 才能够更好地对其上的基 板进行异物清除， 通过风刀气流， 玻璃残材遗留， 以及灰尘等异物将被清理， 从而提高产品最终的光学表现， 进而提高产品品味和良率。
进一步的， 所述面板制程装置还包括与所述制程平台配合的移动轨道； 所述风刀架设在所述移动轨道处， 所述风刀的出风口面向所述制程平台。 本方案中， 其实， 在该面板制程装置中， 存在移动轨道， 与支撑平台配合架设， 而将风刀架设在移动轨道处， 将使得风刀能够通过移动轨道进行移动， 而更好 地对准需要进行清理的部位， 提高清理效率和效果， 从而有利于提高产品品味 和良率； 而且， 该移动轨道是本该有的设备， 借由该设备能够将清理成本进行 有效的控制。
进一步的， 所述制程平台包括用于承载所述基板的传送设备， 和用于支撑 所述传送设备的安装设备；
所述风刀架设在所述安装设备处， 所述风刀的出风口面向所述传送设备。 本方案中， 将风刀固定架设在安装设备处， 这样该风刀不仅能够达到清理异物 的目的， 而且， 不会影响到原有制程的其他搡作的实施。
进一步的， 所述面板制程装置还包括与所述制程平台配合的移动轨道； 所述移动轨道上架设有与所述制程平台配合设置， 用于进行紫外线光照射 强度自动量测的紫外线光照射强度自动量测平台；
所述风刀架设在所述紫外线光照射强度自动量测平台处， 用于对所述单板 切割机送出的基板进行异物处理。 本方案中， 借由该紫外线光照射强度自动量 测平台， 很好的将风刀和移动轨道及制程平台进行配合设置， 而由于该紫外线 光照射强度自动量测平台的设置本就是为了对制程平台承载的基板进行紫外线 光照射强度的测量， 因而能够较好的对应覆盖该基板， 而风刀配合紫外线光照 射强度自动量测平台， 便能够保证风刀的风刀气流能够较好的覆盖基板的各处， 避免基板上部分异物被清理， 而另一部分未能清理的情况发生。
进一步的， 所述风刀设置在所述紫外线光照射强度自动量测平台面向制程 平台的侧面；
所述风刀的出风口面向所述制程平台。 本方案中， 很好的利用紫外线光照 射强度自动量测平台面向制程平台的侧面来架设风刀， 使得风刀的出风口能够 很好的对准制程平台， 如此， 当基板经过时， 风刀便能够很好的完成基板上异 物清理的工作， 从而使得该基板在配向紫外线照射机的照射过程中， 更好地控 制预配向的基板的温度均温性， 这将提高最终面板的光学表现， 从而提高产品 品味和良率。
进一步的， 所述面板制程装置还包括洁净压縮空气供气模组 （CDA) ; 所述 风刀供气端连接到所述洁净压縮空气供气模组；
所述风刀的长度大于所述制程平台的宽度。 本方案中， 该风刀采用洁净压 縮空气供气模组 （CDA) 进行供气， 这使得供给的气体的洁净度得到了保证， 而且更为可控， 配合紫外线光照射强度自动量测平台， 能够控制器移动周期以 及频率， 从而达到制程过程中清洁频度的控制； 而该风刀的长度， 特别是对应 的出风口的长度略长于制程平台的宽度， 由于制程平台宽度对应的基板的侧面 是主要的玻璃残材可能出现的 "重灾区"， 如此设置， 将使得基板异物清除更为 有效， 从而提高最终的产品品味和良率； 而且， 该洁净压縮空气供气模组得到 了更充分的使用， 一举两得。
进一步的，： 所述制程平台用于承载基板；
所述制程平台和紫外线光照射强度自动量测平台设置在至少两组配向紫外 线照射机之间；
所述配向紫外线照射机还包括温控平台， 用于在所述制程平台进行配向紫 外线照射机照射范围时， 对所述制程平台进行温度控制。 本方案中， 该配向紫 外线照射机在对预配向进行处理时， 实际上， 是由该温控平台， 对制程平台以 及基板的温度进行控制的， 而温度是否得到良好的控制， 将很大程度上影响到 面板最终的光学表现， 而其中， 该单板切割机切割得到的基板很有可能会存在 玻璃残材的遗留问题， 当然其他灰尘等问题也可能存在， 而这些东西没有剥离 干净很可能会使得温控平台无法很好的实现温度的控制， 而该基板发生局部温 度不均、 局部受力不均、 局部照射不均等问题， 将使得面板最终的光学表现不 良， 从而影响产品品味和良率； 而此处， 移动轨道、 制程平台、 紫外线光照射 强度自动量测平台、 配向紫外线照射机以及其中的温控平台的良好配合， 将能 够解决这一问题。
进一步的， 所述面板制程装置还包括用于投入基板板材的装板机； 设置在所述装扮机和单板切割机之间的抬升设备；
依次设置在所述单板切割机和配向紫外线照射机之间的运送设备和翻转设 备；
所述配向紫外线照射机设置有四组， 四组配向紫外线照射机照射范围内设 置有移动轨道；
所述移动轨道配合设置有制程平台， 所述移动轨道还架设有紫外线光照射 强度自动量测平台， 所述紫外线光照射强度自动量测平台面向所述制程平台的 侧面设置有风刀， 所述风刀的出风口面向所述制程平台；
所述配向紫外线照射机还包括温控平台， 所述温控平台用于对所述制程平 台进行温度控制。 本方案中， 大致介绍了面板制程装置之间的关联， 基板之所 以需要进行异物清理主要是因为基板在单板切割机完成工作后， 其上可能残留 了玻璃残材， 而在整个制程过程中的其他部位， 也可能会沾染灰尘等异物， 如 不清理则带来不良影响； 此处， 则使得该风刀能够在配向紫外线照射处理前或 者当时， 将基板上的异物进行清理， 而提高后续的温度控制和配向紫外线照射 等过程的效果， 从而提高产品品味和良率。
本发明的有益效果是： 本发明由于架设了风刀， 这使得单板切割机得到的 基板将会得到异物清理的搡作， 这使得基板能够得到更好地配向效果， 要知道 若是该基板上存在异物， 例如： 玻璃残材、 灰尘等的话， 在进行配向时， 温度 控制和光线照射将不能够得到很好的落实， 从而出现温度不均、 局部受力不均 以及照射不均等问题， 而这些问题将会影响到最终面板的光学表现， 而影响产 品品味和良率； 而且， 在运用得当的情况下， 该风刀不仅可以对基板上的异物 进行清理， 而且对于整个制程中的其他部位也能够提高洁净度， 有利于提高产 品良率。
参照后文的说明和附图， 详细公开了本申请的特定实施方式， 指明了本申 请的原理可以被采用的方式。 应该理解， 本申请的实施方式在范围上并不因而 受到限制。 在所附权利要求的精神和条款的范围内， 本申请的实施方式包括许 多改变、 修改和等同。
针对一种实施方式描述和 /或示出的特征可以以相同或类似的方式在一个或 更多个其它实施方式中使用， 与其它实施方式中的特征相组合， 或替代其它实 施方式中的特征。
应该强调， 术语 "包括 /包含" 在本文使用时指特征、 整件、 步骤或组件的 存在， 但并不排除一个或更多个其它特征、 整件、 步骤或组件的存在或附加。
【附图说明】
所包括的附图用来提供对本申请实施例的进一步的理解， 其构成了说明书 的一部分， 用于例示本申请的实施方式， 并与文字描述一起来阐释本申请的原 理。 显而易见地， 下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例， 对于本领域 普通技术人员来讲， 在不付出创造性劳动性的前提下， 还可以根据这些附图获 得其他的附图 。 在附图中：
图 1是一种面板制程装置的示意图；
图 2是一种面板制程装置的第二示意图；
图 3是一种面板制程装置的第三示意图；
图 4是一种面板制程装置的第四示意图；
图 5是一种面板制程装置的第五示意图；
图 6是本发明面板制程装置的组成示意图；
图 7是本发明公开的一种面板制程方法的流程图。
附图说明， 10、 单板切割机； 20、 配向紫外线照射机； 30、 风刀； 40、 制 程平台； 50、 移动轨道； 60、 紫外线光照射强度自动量测平台； 100、 面板制程 装置； 101、 装板机； 102、 抬升设备； 103、 运送设备； 104、 翻转设备。
【具体实施方式】
为了使本技术领域的人员更好地理解本申请中的技术方案， 下面将结合本 申请实施例中的附图， 对本申请实施例中的技术方案进行清楚、 完整地描述， 显然， 所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例， 而不是全部的实施例。 基 于本申请中的实施例， 本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获 得的所有其它实施例， 都应当属于本申请保护的范围。
图 1是一种面板制程装置的示意图， 参见图 1所示的实施例， 该面板制程 装置 100， 包括：
单板切割机 10， 用于对基板进行切割处理； 其中基板可例如是基板、 塑料 基板或其他基板。
配向紫外线照射机 20，用于对所述单板切割机 10送来的基板进行紫外线照 射配向处理；
风刀 30， 架设在所述单板切割机 10的出料口方位， 用于对单板切割机 10 送出的基板进行异物清理。 其中， 该风刀可以设置在单板切割机和配向紫外线 照射机之间， 也可以设置在配向紫外线照射机照射范围的前部。
本发明的有益效果是： 本发明由于架设了风刀， 这使得单板切割机得到的 基板将会得到异物清理的搡作， 这使得基板能够得到更好地配向效果， 要知道 若是该基板上存在异物， 例如： 玻璃残材、 灰尘等的话， 在进行配向时， 温度 控制和光线照射将不能够得到很好的落实， 从而出现温度不均、 局部受力不均 以及照射不均等问题， 而这些问题将会影响到最终面板的光学表现， 而影响产 品品味和良率； 而且， 在运用得当的情况下， 该风刀不仅可以对基板上的异物 进行清理， 而且对于整个制程中的其他部位也能够提高洁净度， 有利于提高产 品良率。
图 2是面板制程装置的第二示意图， 图 2所示的实施例中， 该面板制程装 置 100还包括用于承载所述基板的制程平台 40 (Stage) , 用于将由边缘单板切 割机 10切割得到的基板送至配向紫外线照射机 20处；
风刀 30与所述制程平台 40 (Stage) 配合设置。 本方案中， 在基板到达或 者在紫外线照射机照射过程中， 制程平台将用于基板的承载之用， 风刀配合制 程平台设置， 能够使得风刀更好更方便的完成异物清理的过程。
本实施例优选的， 风刀 30设置在所述制程平台 40 (Stage) 的侧面或上面； 风刀 30的出风口面向所述制程平台 40 (Stage)。 本方案中， 风刀将配合制 程平台进行设置， 而根据制程平台的设置区别， 可以将风刀设置在制程平台的 侧面或上面， 当然， 风刀的出风口应当面向制程平台， 如此， 才能够更好地对 其上的基板进行异物清除， 通过风刀气流， 玻璃残材遗留， 以及灰尘等异物将 被清理， 从而提高产品最终的光学表现， 进而提高产品品味和良率。
图 3是面板制程装置的第三示意图， 图 3所示的实施例中， 本实施例优选 的， 面板制程装置 100还包括与所述制程平台 40 (Stage) 配合的移动轨道 50 ; 风刀 30架设在所述移动轨道 50处， 所述风刀的出风口面向所述制程平台。 本方案中， 其实， 在该面板制程装置中， 存在移动轨道， 与支撑平台配合架设， 而将风刀架设在移动轨道处， 将使得风刀能够通过移动轨道进行移动， 而更好 地对准需要进行清理的部位， 提高清理效率和效果， 从而有利于提高产品品味 和良率； 而且， 该移动轨道是本该有的设备， 借由该设备能够将清理成本进行 有效的控制。
本实施例优选的， 制程平台 40 (Stage) 包括用于承载所述基板的传送设备 (图中未示出）， 和用于支撑所述传送设备的安装设备 （图中未示出）；
风刀 30架设在所述安装设备处， 所述风刀 30的出风口面向所述传送设备。 本方案中， 将风刀固定架设在安装设备处， 这样该风刀不仅能够达到清理异物 的目的， 而且， 不会影响到原有制程的其他搡作的实施。
图 4是面板制程装置的第四示意图， 图 5是面板制程装置的第五示意图本 由图 4和图 5所示的实施例可知， 该面板制程装置 100还包括与所述制程平台 40 (Stage) 配合的移动轨道 50;
移动轨道 50上架设有与所述制程平台 40 (Stage) 配合设置， 用于进行紫 外线光照射强度自动量测的紫外线光照射强度自动量测平台 60;
所述风刀 30架设在所述紫外线光照射强度自动量测平台 60处， 用于对所 述单板切割机 10送出的基板进行异物处理。 本方案中， 借由该紫外线光照射强 度自动量测平台， 很好的将风刀和移动轨道及制程平台进行配合设置， 而由于 该紫外线光照射强度自动量测平台的设置本就是为了对制程平台承载的基板进 行紫外线光照射强度的测量， 因而能够较好的对应覆盖该基板， 而风刀配合紫 外线光照射强度自动量测平台， 便能够保证风刀的风刀气流能够较好的覆盖基 板的各处， 避免基板上部分异物被清理， 而另一部分未能清理的情况发生。
本实施例优选的， 风刀 30设置在所述紫外线光照射强度自动量测平台 60 面向制程平台 40 ( Stage ) 的侧面；
风刀 30的出风口面向所述制程平台 40 (Stage)。 本方案中， 很好的利用紫 外线光照射强度自动量测平台面向制程平台的侧面来架设风刀， 使得风刀的出 风口能够很好的对准制程平台， 如此， 当基板经过时， 风刀便能够很好的完成 基板上异物清理的工作， 从而使得该基板在配向紫外线照射机的照射过程中， 更好地控制预配向的基板的温度均温性， 这将提高最终面板的光学表现， 从而 提高产品品味和良率。
本实施例优选的，面板制程装置 100还包括洁净压縮空气供气模组（CDA) ; 所述风刀 30供气端连接到所述洁净压縮空气供气模组； 所述风刀 30的长度大 于所述制程平台 40 (Stage) 的宽度。 本方案中， 该风刀采用洁净压縮空气供气 模组 （CDA) 进行供气， 这使得供给的气体的洁净度得到了保证， 而且更为可 控， 配合紫外线光照射强度自动量测平台， 能够控制器移动周期以及频率， 从 而达到制程过程中清洁频度的控制； 而该风刀的长度， 特别是对应的出风口的 长度略长于制程平台的宽度， 由于制程平台宽度对应的基板的侧面是主要的玻 璃残材可能出现的 "重灾区"， 如此设置， 将使得基板异物清除更为有效， 从而 提高最终的产品品味和良率； 而且该洁净压縮空气供气模组 （CDA) 得到了更 充分的利用， 一举两得。
本实施例优选的， 面板制程装置 100还包括： 所述制程平台 40 (Stage) 用 于承载基板；
所述制程平台 40 (Stage) 和紫外线光照射强度自动量测平台 60设置在至 少两组配向紫外线照射机 20之间； 所述配向紫外线照射机 20还包括温控平台 （图中未示出）， 用于在所述制 程平台 40 (Stage) 进行配向紫外线照射机 20照射范围时， 对所述制程平台 40 (Stage) 进行温度控制。 本方案中， 该配向紫外线照射机在对预配向进行处理 时， 实际上， 是由该温控平台， 对制程平台以及基板的温度进行控制的， 而温 度是否得到良好的控制， 将很大程度上影响到面板最终的光学表现， 而其中， 该单板切割机切割得到的基板很有可能会存在玻璃残材的遗留问题， 当然其他 灰尘等问题也可能存在， 而这些东西没有剥离干净很可能会使得温控平台无法 很好的实现温度的控制， 而该基板发生局部温度不均、 局部受力不均、 局部照 射不均等问题， 将使得面板最终的光学表现不良， 从而影响产品品味和良率； 而此处， 移动轨道、 制程平台、 紫外线光照射强度自动量测平台、 配向紫外线 照射机以及其中的温控平台的良好配合， 将能够解决这一问题。
图 6是本发明面板制程装置的组成示意图， 参考图 6所示的实施例可知， 本实施例优选的， 面板制程装置 100还包括用于投入基板板材的装板机 101 ; 设置在所述装扮机 101和单板切割机 10之间的抬升设备 102 ;
依次设置在所述单板切割机 10和配向紫外线照射机 20之间的运送设备 103 和翻转设备 104 ;
所述配向紫外线照射机 20设置有四组， 四组配向紫外线照射机 20照射范 围内设置有移动轨道 50;
所述移动轨道 50配合设置有制程平台 40 (Stage) , 所述移动轨道 50还架 设有紫外线光照射强度自动量测平台 60， 所述紫外线光照射强度自动量测平台 60面向所述制程平台 40 (Stage) 的侧面设置有风刀 30， 所述风刀 30的出风口 面向所述制程平台 40 (Stage) ;
所述配向紫外线照射机 20还包括温控平台， 所述温控平台用于对所述制程 平台 40 (Stage) 进行温度控制。 本方案中， 大致介绍了面板制程装置之间的关 联， 基板之所以需要进行异物清理主要是因为基板在单板切割机完成工作后， 其上可能残留了玻璃残材， 而在整个制程过程中的其他部位， 也可能会沾染灰 尘等异物， 如不清理则带来不良影响； 此处， 则使得该风刀能够在配向紫外线 照射处理前或者当时， 将基板上的异物进行清理， 而提高后续的温度控制和配 向紫外线照射等过程的效果， 从而提高产品品味和良率。 图 7所示为本发明公开的一种面板制程方法的流程图， 该图 7所示的实施 例， 结合图 1至图 6可知， 该方法包括步骤：
S1:使用单板切割机对基板进行切割处理；
S2:使用架设在单板切割机出料口方位的风刀， 对单板切割机送出的基板进 行异物清理；
S3:使用配向紫外线照射机对单板切割机送来的基板进行紫外线照射配向 处理。
本方法适用于前述的面板制程装置。
本发明的有益效果是： 本发明的制造工艺中， 由于在单板切割机的出料口 处架设了风刀， 这使得单板切割机得到的基板将会得到异物清理的搡作， 这使 得基板能够得到更好地配向效果， 要知道若是该基板上存在异物， 例如： 玻璃 残材、 灰尘等的话， 在进行配向时， 温度控制和光线照射将不能够得到很好的 落实， 从而出现温度不均、 局部受力不均以及照射不均等问题， 而这些问题将 会影响到最终面板的光学表现， 而影响产品品味和良率； 而且， 在运用得当的 情况下， 该风刀不仅可以对基板上的异物进行清理， 而且对于整个制程中的其 他部位也能够提高洁净度， 有利于提高产品良率。 以上详细描述了本发明的较佳具体实施例。 应当理解， 本领域的普通技术 人员无需创造性劳动就可以根据本发明的构思作出诸多修改和变化。 因此， 凡 本技术领域中技术人员依本发明的构思在现有技术的基础上通过逻辑分析、 推 理或者有限的实验可以得到的技术方案， 皆应在由权利要求书所确定的保护范 围内。

Claims

权 利 要 求
1、 一种面板制程装置， 包括：
单板切割机， 用于对基板进行切割处理；
配向紫外线照射机， 用于对所述单板切割机送来的基板进行紫外线照射配 向处理；
风刀， 架设在所述单板切割机的出料口方位， 用于对单板切割机送出的基 板进行异物清理； 所述面板制程装置还包括用于承载所述基板的制程平台， 用 于将由边缘单板切割机切割得到的基板送至配向紫外线照射机处； 所述风刀与 所述制程平台配合设置；
所述移动轨道上架设有与所述制程平台配合设置， 用于进行紫外线光照射 强度自动量测的紫外线光照射强度自动量测平台； 所述风刀架设在所述紫外线 光照射强度自动量测平台处， 用于对所述单板切割机送出的基板进行异物处理； 所述风刀设置在所述紫外线光照射强度自动量测平台面向制程平台的侧面； 所 述风刀的出风口面向所述制程平台； 所述面板制程装置还包括洁净压縮空气供 气模组； 所述风刀供气端连接到所述洁净压縮空气供气模组； 所述风刀的长度 大于所述制程平台的宽度；
所述制程平台和紫外线光照射强度自动量测平台设置在至少两组配向紫外 线照射机之间； 所述配向紫外线照射机还包括温控平台， 用于在所述制程平台 进行配向紫外线照射机照射范围时， 对所述制程平台进行温度控制；
所述面板制程装置还包括用于投入基板板材的装板机； 设置在所述装扮机 和单板切割机之间的抬升设备； 依次设置在所述单板切割机和配向紫外线照射 机之间的运送设备和翻转设备。
2、 一种面板制程装置， 包括：
单板切割机， 用于对基板进行切割处理；
配向紫外线照射机， 用于对所述单板切割机送来的基板进行紫外线照射配 向处理；
风刀， 架设在所述单板切割机的出料口方位， 用于对单板切割机送出的基 板进行异物清理。
3、 如权利要求 2所述的面板制程装置， 其中： 所述面板制程装置还包括用 于承载所述基板的制程平台， 用于将由边缘单板切割机切割得到的基板送至配 向紫外线照射机处；
所述风刀与所述制程平台配合设置。
4、 如权利要求 3所述的面板制程装置， 其中： 所述风刀设置在所述制程平 台的侧面或上面；
所述风刀的出风口面向所述制程平台。
5、 如权利要求 3所述的面板制程装置， 其中： 所述面板制程装置还包括与 所述制程平台配合的移动轨道；
所述风刀架设在所述移动轨道处， 所述风刀的出风口面向所述制程平台。
6、 如权利要求 3所述的面板制程装置， 其中： 所述制程平台包括用于承载 所述基板的传送设备， 和用于支撑所述传送设备的安装设备；
所述风刀架设在所述安装设备处， 所述风刀的出风口面向所述传送设备。
7、 如权利要求 3所述的面板制程装置， 其中： 所述面板制程装置还包括与 所述制程平台配合的移动轨道；
所述移动轨道上架设有与所述制程平台配合设置， 用于进行紫外线光照射 强度自动量测的紫外线光照射强度自动量测平台；
所述风刀架设在所述紫外线光照射强度自动量测平台处， 用于对所述单板 切割机送出的基板进行异物处理。
8、 如权利要求 7所述的面板制程装置， 其中： 所述风刀设置在所述紫外线 光照射强度自动量测平台面向制程平台的侧面；
所述风刀的出风口面向所述制程平台。
9、 如权利要求 7所述的面板制程装置， 其中： 所述面板制程装置还包括洁 净压縮空气供气模组； 所述风刀供气端连接到所述洁净压縮空气供气模组； 所述风刀的长度大于所述制程平台的宽度。
10、 如权利要求 7所述的面板制程装置， 其中： 所述制程平台用于承载基 板；
所述制程平台和紫外线光照射强度自动量测平台设置在至少两组配向紫外 线照射机之间；
所述配向紫外线照射机还包括温控平台， 用于在所述制程平台进行配向紫 外线照射机照射范围时， 对所述制程平台进行温度控制。
11、 如权利要求 2所述的面板制程装置， 其中： 所述面板制程装置还包括 用于投入基板板材的装板机；
设置在所述装扮机和单板切割机之间的抬升设备；
依次设置在所述单板切割机和配向紫外线照射机之间的运送设备和翻转设 备；
所述配向紫外线照射机设置有四组， 四组配向紫外线照射机照射范围内设 置有移动轨道；
所述移动轨道配合设置有制程平台， 所述移动轨道还架设有紫外线光照射 强度自动量测平台， 所述紫外线光照射强度自动量测平台面向所述制程平台的 侧面设置有风刀， 所述风刀的出风口面向所述制程平台；
所述配向紫外线照射机还包括温控平台， 所述温控平台用于对所述制程平 台进行温度控制。
12、 一种面板制程方法， 包括步骤：
使用单板切割机对基板进行切割处理；
使用架设在单板切割机出料口方位的风刀， 对单板切割机送出的基板进行 异物清理；
使用配向紫外线照射机对单板切割机送来的基板进行紫外线照射配向处 理。
13、 如权利要求 12所述的面板制程方法， 其中， 所述面板制程装置还包括 用于承载所述基板的制程平台， 用于将由边缘单板切割机切割得到的基板送至 配向紫外线照射机处；
所述风刀与所述制程平台配合设置。
14、 如权利要求 13所述的面板制程方法， 其中， 所述风刀设置在所述制程 平台的侧面或上面；
所述风刀的出风口面向所述制程平台。
15、 如权利要求 13所述的面板制程方法， 其中， 所述面板制程装置还包括 与所述制程平台配合的移动轨道；
所述风刀架设在所述移动轨道处， 所述风刀的出风口面向所述制程平台。
16、 如权利要求 13所述的面板制程方法， 其中， 所述面板制程装置还包括 与所述制程平台配合的移动轨道；
所述移动轨道上架设有与所述制程平台配合设置， 用于进行紫外线光照射 强度自动量测的紫外线光照射强度自动量测平台；
所述风刀架设在所述紫外线光照射强度自动量测平台处， 用于对所述单板 切割机送出的基板进行异物处理。
17、 如权利要求 16所述的面板制程方法， 其中， 所述风刀设置在所述紫外 线光照射强度自动量测平台面向制程平台的侧面；
所述风刀的出风口面向所述制程平台。
18、 如权利要求 16所述的面板制程方法， 其中， 所述面板制程装置还包括 洁净压縮空气供气模组； 所述风刀供气端连接到所述洁净压縮空气供气模组； 所述风刀的长度大于所述制程平台的宽度。
19、 如权利要求 16所述的面板制程方法， 其中， 所述制程平台用于承载基 板；
所述制程平台和紫外线光照射强度自动量测平台设置在至少两组配向紫外 线照射机之间； 所述配向紫外线照射机还包括温控平台， 用于在所述制程平台进行配向紫 外线照射机照射范围时， 对所述制程平台进行温度控制。
20、 如权利要求 12所述的面板制程装置， 其中： 所述面板制程装置还包括 用于投入基板板材的装板机；
设置在所述装扮机和单板切割机之间的抬升设备；
依次设置在所述单板切割机和配向紫外线照射机之间的运送设备和翻转设 备；
所述配向紫外线照射机设置有四组， 四组配向紫外线照射机照射范围内设 置有移动轨道；
所述移动轨道配合设置有制程平台， 所述移动轨道还架设有紫外线光照射 强度自动量测平台， 所述紫外线光照射强度自动量测平台面向所述制程平台的 侧面设置有风刀， 所述风刀的出风口面向所述制程平台；
所述配向紫外线照射机还包括温控平台， 所述温控平台用于对所述制程平 台进行温度控制。
PCT/CN2017/081222 2016-12-20 2017-04-20 一种面板制程装置 WO2018113150A1 (zh)

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