CN102012584A - 摩擦辊及用该摩擦辊对阵列基板用基板进行摩擦的方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种摩擦辊及用该摩擦辊对阵列基板用基板进行摩擦的方法。所述摩擦辊包括滚轴及缠绕在所述滚轴上的多个摩擦布单元，每个摩擦布单元缠绕在滚轴的宽度与其对应的所述阵列基板用基板的阵列基板区域的宽度相同。本发明的摩擦布单元与透明基板用基板的阵列基板区域对应且宽度相同，因此本发明的摩擦布单元比现有技术的摩擦布要小很多，缠绕到滚轴时，也更加容易，且能够更加贴紧，能够减小贴合不良，进而在摩擦后得到更加均匀细致的条纹，避免液晶分子因取向不均导致的漏光现象，提高液晶显示器的品质。

Description

摩擦辊及用该摩擦辊对阵列基板用基板进行摩擦的方法

技术领域

本发明涉及一种摩擦辊，尤其是涉及能够同时制造多个高品质取向膜的摩擦辊及用该摩擦辊对阵列基板用基板进行摩擦的方法。

背景技术

液晶显示器由液晶面板、偏光板及背光模组构成，其中，背光模组向液晶面板提供平面光，液晶面板由阵列基板、彩膜基板及阵列基板和彩膜基板之间的液晶层构成，液晶面板的上下方各设有一个偏光板，偏光板的作用是将光变成偏极光，两个偏光板的透光轴可按照需要设置成相互垂直或水平。

制造液晶面板需要经过阵列基板制造工艺、对盒工艺、切割工艺以及研磨工艺。

阵列基板制造工艺，是通过构图工艺完成。所谓的构图工艺包括光刻胶涂覆、掩模、曝光、显影、刻蚀、光刻胶剥离等工艺。实际生产出的阵列基板是一个大型的阵列基板用基板，此大型基板包括多个阵列基板区域，能够通过切割工艺和研磨工艺形成多个相同尺寸(例如14寸、17寸或19寸等)的液晶显示器的阵列基板。

对盒工艺，顾名思义，是将阵列基板和彩膜基板进行对盒封装，并形成液晶层的工艺，也称作cell工艺。

制造液晶面板的方法有两种，其最大区别在于形成液晶层方法不同。分别是液晶滴下法和液晶注入法。

通过液晶滴下法制造的液晶面板的工艺如下：

先在没有进行切割的阵列基板用基板和彩膜基板上，先分别形成一层取向膜；然后，向阵列基板用基板滴下液晶；然后，将彩墨基板与阵列基板用基板上的每个阵列基板对盒并封装；然后，进行切割和研磨，得到多个液晶面板。

通过液晶注入法制造的液晶面板的工艺如下：

先对阵列基板用基板进行切割和研磨，形成多个阵列基板；然后，在阵列基板和彩膜基板上分别形成一层取向膜；然后，将阵列基板和彩膜基板进行对盒，然后注入液晶之后封装，得到液晶面板。

上述的取向膜用于对液晶分子预先给予一定的取向，便于控制液晶分子的旋转。取向膜通过摩擦辊(rubbing roll)摩擦取向层的方法进行制造。

图1为通过现有的摩擦辊制造取向膜的示意图。如图1所示，阵列基板用基板100包括多个阵列基板区域101，在阵列基板用基板100上形成有一层透明的取向层，通过摩擦辊对取向层进行摩擦形成取向膜。

具体地，现有的摩擦辊包括滚轴10和摩擦布11。摩擦布11上具有很多的细密的条纹，将摩擦布11缠绕在滚轴10上，通过滚动滚轴10，对经过其下方的取向层进行摩擦，摩擦布11上的条纹在摩擦时，在取向层上形成一条条细密的条纹，这些条纹会赋予液晶分子一定的取向。高品质的取向膜，要求条纹细致且均匀。

但是，在通过液晶滴下法制造液晶面板时，如图1所示，需要对阵列基板用基板100进行整体的摩擦。因此，摩擦布11的缠绕宽度比几个阵列基板区域的宽度之和还要大。过大的摩擦布11，在实际生产中，将摩擦布11缠绕到滚轴10上的过程中，不可避免会产生贴合不良的现象。用这种摩擦辊进行摩擦之后，取向膜上会出现条纹在有些区域不够均匀的现象，尤其是摩擦辊的移动速度和滚动速度快时尤其突出，这将导致完成对盒工艺后的液晶层内的液晶分子的取向达不到要求，在显示图像时发生漏光等现象，影响液晶显示器的显示品质。

发明内容

本发明的目的是提供一种摩擦辊及用该摩擦辊对阵列基板用基板进行摩擦的方法，能够同时制造多个高品质取向膜。

为实现上述目的，本发明提供了一种摩擦辊，用于摩擦阵列基板用基板，所述摩擦辊包括滚轴及缠绕在所述滚轴上的多个摩擦布单元，每个摩擦布单元缠绕在滚轴的宽度与其对应的所述阵列基板用基板的阵列基板区域的宽度相同。

为实现上述目的，本发明还提供了一种用上述摩擦辊对阵列基板用基板进行摩擦的方法，包括：

在阵列基板用基板上沉积取向层；

将摩擦辊固定于所述取向层的上方，使得所述阵列基板用基板的与所述摩擦辊平行的一行或一列阵列基板区域与所述摩擦辊的摩擦布单元相互一一对应；

移动所述摩擦辊或所述阵列基板用基板，对所述取向层进行摩擦形成取向。

由上述技术方案可知，本发明的摩擦辊及用该摩擦辊对阵列基板用基板进行摩擦的方法，具有如下优点：

1、本发明的摩擦布单元与透明基板用基板的阵列基板区域对应且宽度相同，因此本发明的摩擦布单元比现有技术的摩擦布要小很多，缠绕到滚轴时，也更加容易，且能够更加贴紧，能够减小贴合不良，进而在摩擦后得到更加均匀细致的条纹，避免液晶分子因取向不均导致的漏光现象，提高液晶显示器的品质。

2、通过本发明的摩擦方法，可以同时制造多个高品质的取向膜。

附图说明

图1为通过现有的摩擦辊制造取向膜的示意图；

图2为通过本发明的摩擦辊制造取向膜的示意图；

图3为用本发明的摩擦辊对阵列基板用基板进行摩擦的方法的流程图。

具体实施方式

下面通过附图和实施例，对本发明的技术方案做进一步的详细描述。

图2为通过本发明的摩擦辊制造取向膜的示意图。如图2所示，本发明的大型的阵列基板用基板100与现有技术相同，包括多个阵列基板区域102、103及104，阵列基板用基板100上整体覆盖有一层取向层。

本发明的摩擦辊包括滚轴10及缠绕在所述滚轴上的多个摩擦布单元21、22、23，每个摩擦布单元21、22、23缠绕在滚轴的宽度与其对应的阵列基板区域102、103、104的宽度相同。实际生产中，摩擦布单元21、22、23的宽度可以稍微比阵列基板区域102、103及104的宽度大一些，避免摩擦方向稍微偏离时，也能够摩擦到整个阵列基板区域。

将摩擦布单元21、22、23缠绕至滚轴10上时，可以先在摩擦布单元21、22、23上贴一层双面胶，在将摩擦布单元21、22、23缠绕在双面胶上，进行固定。当然，也可以采用现有的任何固定方式进行固定。

通过本发明的摩擦辊，对与摩擦辊平行设置的一行或一列阵列基板区域102、103、104同时进行摩擦，得以制造多个高品质的取向膜。

本发明中，可以一边旋转滚轴10，一边将滚轴沿箭头方向移动，进行摩擦。还可以使滚轴10在固定的位置进行旋转，通过移动阵列基板用基板来进行摩擦。

由于本发明的摩擦布单元与透明基板用基板的阵列基板区域对应且宽度相同，因此本发明的摩擦布单元比现有技术的摩擦布要小很多，缠绕到滚轴时，也更加容易，且能够更加贴紧，能够减小贴合不良，进而在摩擦后得到更加均匀细致的条纹，避免液晶分子因取向不均导致的漏光现象，提高液晶显示器的品质。

图3为用本发明的摩擦辊对阵列基板用基板进行摩擦的方法的流程图。

如图3所示，通过本发明的摩擦辊进行摩擦的步骤如下：

步骤1、在阵列基板用基板上沉积取向层；

步骤2、将摩擦辊固定于所述取向层的上方，使得所述阵列基板用基板的与所述摩擦辊平行的一行或一列阵列基板区域与所述摩擦辊的摩擦布单元相互一一对应；

步骤3、移动所述摩擦辊或所述阵列基板用基板，对所述取向层进行摩擦形成取向。

通过本发明的摩擦方法，可以同时制造多个高品质的取向膜。

最后应说明的是：以上实施例仅用以说明本发明的技术方案而非对其进行限制，尽管参照较佳实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对本发明的技术方案进行修改或者等同替换，而这些修改或者等同替换亦不能使修改后的技术方案脱离本发明技术方案的精神和范围。

Claims (3)

1.一种摩擦辊，用于摩擦阵列基板用基板，其特征在于，所述摩擦辊包括滚轴及缠绕在所述滚轴上的多个摩擦布单元，每个摩擦布单元缠绕在滚轴的宽度与其对应的所述阵列基板用基板的阵列基板区域的宽度相同。

2.根据权利要求1所述的摩擦辊，其特征在于，所述多个摩擦布单元上贴设有双面胶，通过双面胶将所述摩擦布单元与所述滚轴进行固定。

3.一种用如权利要求1或2所述的摩擦辊对阵列基板用基板进行摩擦的方法，其特征在于，包括：

在阵列基板用基板上沉积取向层；

将摩擦辊固定于所述取向层的上方，使得所述阵列基板用基板的与所述摩擦辊平行的一行或一列阵列基板区域与所述摩擦辊的摩擦布单元相互一一对应；

移动所述摩擦辊或所述阵列基板用基板，对所述取向层进行摩擦形成取向。

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