CN105807478A - 液晶显示面板及其制作方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种液晶显示面板及其制作方法。本发明的液晶显示面板，采用COA加POA设计，解决了面板在弯曲过程中隔垫物很容易掉入TFT阵列基板上的通孔处而造成盒厚不均形成Mura的问题，上基板的黑色矩阵设于ITO电极层之上，制作方法简单，节省了AOI设备和修复设备，生产成本低。本发明的液晶显示面板的制作方法，先形成上基板的ITO电极层再在ITO电极层上形成黑色矩阵，然后利用黑色矩阵所在黄光线上自带的AOI设备和修复设备进行AOI和修复过程，省去ITO电极层所在产线下的AOI设备和修复设备，只需进行一次AOI和一次修复过程，简化了上基板的工艺流程，节省设备空间和采购成本。

Description

液晶显示面板及其制作方法
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种液晶显示面板及其制作方法。
背景技术
主动式薄膜晶体管液晶显示器(ThinFilmTransistor-LCD，TFT-LCD)近年来得到了飞速的发展和广泛的应用。现有市场上的液晶显示装置大部分为背光型液晶显示装置，其包括液晶显示面板及背光模组(backlightmodule)。通常液晶显示面板由彩膜(ColorFilter，CF)基板、薄膜晶体管(ThinFilmTransistor，TFT)阵列基板、夹于彩膜基板与TFT阵列基板之间的液晶(LiquidCrystal，LC)及密封框胶(Sealant)组成；其工作原理是通过在两片玻璃基板上施加驱动电压来控制液晶层的液晶分子的旋转，将背光模组的光线折射出来产生画面。其中，液晶层厚度即盒厚(CellGap)主要通过设置在TFT阵列基板和彩膜基板之间的隔垫物(PostSpacer，PS)来进行控制，液晶层厚度对液晶显示装置的结构参数和显示质量有重要的影响。
在TFT-LCD发展过程中，大尺寸、高分辨率及曲面是技术发展趋势，但以目前的设计，PS设计在彩膜基板上，曲面液晶面板在弯曲过程中PS很容易掉入TFT阵列基板上的通孔(Viahole)处，造成盒厚不均，形成亮度不均(Mura)。针对上述问题，已有技术人员提出将PS设计在TFT阵列基板上(PSonArry，POA)的技术方案，另外，将彩膜层设计到TFT阵列基板(ColorFilteronArry，COA)，可继续降低彩膜基板侧的难度。如图1所示，为现有一COA加POA设计的液晶面板的结构示意图，包括相对的上基板100与下基板200，其中，上基板100包括上衬底基板110、形成于上衬底基板110上的黑色矩阵120、形成于上衬底基板110及黑色矩阵120上的氧化铟锡(ITO)电极层130，所述下基板200包括下衬底基板210、形成于下衬底基板210上的TFT阵列层220、形成于TFT阵列层220上的彩膜层230、及形成于彩膜层230上的隔垫物240。其中，上基板100的具体制作过程为，首先在上衬底基板110上形成黑色矩阵120，然后进行自动光学检测(AutomaticOpticInspection，AOI)，利用修复设备修复不良，之后再在上衬底基板110及黑色矩阵120上形成ITO电极层130，然后再次进行自动光学检测，再次利用修复设备修复不良，因此，上基板100的具体制作过程需要进行两次AOI和两次修复过程。另外，黑色矩阵120在黄光线上形成，其线上自带AOI及黄光制程后的修复设备，而ITO电极层130在物理气相沉积(PhysicalVaporDeposition，PVD)设备上形成，ITO成膜后需要线下的AOI设备进行检测、及修复设备修复不良。
发明内容
本发明的目的在于提供一种液晶显示面板，采用COA加POA设计，上基板的黑色矩阵设于ITO电极层之上，制作方法简单，节省AOI设备和修复设备，生产成本低。
本发明的目的还在于提供一种液晶显示面板的制作方法，先形成上基板的ITO电极层再在ITO电极层上形成黑色矩阵，然后利用黑色矩阵所在黄光线上自带的AOI设备和修复设备进行AOI和修复过程，省去ITO电极层所在产线下的AOI设备和修复设备，简化上基板的工艺流程，节省设备空间和采购成本。
为实现上述目的，本发明首先提供一种液晶显示面板，包括相对设置的上基板与下基板、及设于上基板与下基板之间的液晶层；
所述上基板包括朝向所述液晶层依次设置的第一衬底基板、ITO电极层、及黑色矩阵；
所述下基板包括朝向所述液晶层依次设置的第二衬底基板、TFT阵列层、彩膜层、及数个隔垫物。
所述ITO电极层通过物理气相沉积法形成，所述黑色矩阵通过黄光制程形成。
所述黑色矩阵的材料为黑色光阻材料，所述黄光制程的具体步骤包括光阻涂布步骤、曝光步骤、显影步骤、及固化步骤。
所述彩膜层包括数个阵列排布的色阻单元，所述黑色矩阵与所述彩膜层上各色阻单元交接的部分相对应设置，所述隔垫物与所述黑色矩阵相对应设置。
所述彩膜层上的色阻单元分为红色色阻单元、绿色色阻单元、及蓝色色阻单元；所述隔垫物为锥形柱状物。
本发明还提供一种液晶显示面板的制作方法，包括如下步骤：
步骤1、提供第一衬底基板，在所述第一衬底基板上形成ITO电极层，然后使其进入黄光线，所述黄光线具有自动光学检查设备及修复设备，在所述ITO电极层上形成黑色矩阵，然后进行自动光学检查，若发现不良则进入修复设备进行修复至不良消失，得到上基板；
步骤2、提供下基板，所述下基板包括第二衬底基板、设于第二衬底基板上的TFT阵列层、设于TFT阵列层上的彩膜层、及设于彩膜层上的数个隔垫物；
步骤3、在所述上基板或下基板的一侧上滴注液晶材料，并使上基板设有黑色矩阵的一侧与下基板设有隔垫物的一侧相面对，将上基板和下基板进行真空对组贴合，形成上基板和下基板之间的液晶层，得到液晶显示面板。
所述步骤1中，所述ITO电极层通过物理气相沉积法形成；所述黑色矩阵在黄光线上通过黄光制程形成。
所述黑色矩阵的材料为黑色光阻材料，所述黄光制程的具体步骤包括光阻涂布步骤、曝光步骤、显影步骤、及固化步骤。
所述彩膜层包括数个阵列排布的色阻单元；所述步骤3得到液晶显示面板中，所述黑色矩阵与所述彩膜层上各色阻单元交接的部分相对应，所述隔垫物与所述黑色矩阵相对应。
所述彩膜层上的色阻单元分为红色色阻单元、绿色色阻单元、及蓝色色阻单元；所述隔垫物为锥形柱状物。
本发明的有益效果：本发明的液晶显示面板，采用COA加POA设计，从而解决了面板在弯曲过程中，隔垫物很容易掉入TFT阵列基板上的通孔处而造成盒厚不均形成Mura的问题，上基板的黑色矩阵设于ITO电极层之上，制作方法简单，节省AOI设备和修复设备，生产成本低。本发明的液晶显示面板的制作方法，先形成上基板的ITO电极层再在ITO电极层上形成黑色矩阵，然后利用黑色矩阵所在黄光线上自带的AOI设备和修复设备进行AOI和修复过程，省去ITO电极层所在产线下的AOI设备和修复设备，只需进行一次AOI和一次修复过程，简化了上基板的工艺流程，节省设备空间和采购成本。
附图说明
下面结合附图，通过对本发明的具体实施方式详细描述，将使本发明的技术方案及其他有益效果显而易见。
附图中，
图1为现有一种COA加POA设计的液晶面板的结构示意图；
图2为本发明的液晶显示面板的结构示意图；
图3为本发明的液晶显示面板的制作方法的流程示意图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果，以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
请参阅图2，本发明提供一种液晶显示面板，包括相对设置的上基板1与下基板2、及设于上基板1与下基板2之间的液晶层(未图示)；
所述上基板1包括朝向所述液晶层依次设置的第一衬底基板11、ITO电极层12、及黑色矩阵13；
所述下基板2包括朝向所述液晶层依次设置的第二衬底基板21、TFT阵列层22、彩膜层23、及数个隔垫物24。
具体地，所述彩膜层23包括数个阵列排布的色阻单元231，所述黑色矩阵13与所述彩膜层23上各色阻单元231交接的部分相对应设置，所述隔垫物24与所述黑色矩阵13相对应设置。
具体地，所述ITO电极层12通过物理气相沉积法形成，所述黑色矩阵13通过黄光制程形成；所述黑色矩阵13的材料为黑色光阻材料，所述黄光制程的具体步骤包括光阻涂布步骤、曝光步骤、显影步骤、及固化步骤。
具体地，所述彩膜层23上的色阻单元231分为红色色阻单元、绿色色阻单元、及蓝色色阻单元；所述隔垫物24为锥形柱状物。
具体地，所述下基板2还包括设于所述TFT阵列层22与彩膜层23之间的第一钝化物层(未图示)、及设于彩膜层23与数个隔垫物24之间的第二钝化物层(未图示)。
本发明的液晶显示面板，采用COA加POA设计，彩膜层23和隔垫物24均设置于TFT阵列基板的下基板2上，从而解决了面板在在弯曲过程中，隔垫物很容易掉入TFT阵列基板上的通孔处而造成盒厚不均形成Mura的问题，因此能够在曲面液晶面板中得以应用，上基板10的黑色矩阵13设于ITO电极层12之上，那么制作过程中，可先形成ITO电极层12再在ITO电极层12上形成黑色矩阵13，然后利用黑色矩阵13所在黄光线上自带的AOI设备和修复设备进行AOI和修复过程，省去ITO电极层12所在产线下的AOI设备和修复设备，只需进行一次AOI和一次修复过程，简化了上基板10的工艺流程，节省设备空间和采购成本。
请参阅图3并结合图2，本发明还提供一种液晶显示面板的制作方法，包括如下步骤：
步骤1、提供第一衬底基板11，在所述第一衬底基板11上依次形成ITO电极层12及黑色矩阵13，然后进行自动光学检查，若发现不良则进入修复设备进行修复至不良消失，得到上基板10。
具体地，所述步骤1中，所述ITO电极层12通过物理气相沉积法形成；所述黑色矩阵13通过黄光制程在黄光线上形成，因为黄光线上自带AOI功能及黄光制程后的修复设备，在形成黑色矩阵13后直接在黑色矩阵13所在黄光线上进行AOI和修复过程，省去了ITO电极层12所在产线下的AOI设备和修复设备，只需进行一次AOI和一次修复过程，简化了上基板10的工艺流程，节省设备空间和采购成本。
具体地，所述黑色矩阵13的材料为黑色光阻材料，所述黄光制程的具体步骤包括光阻涂布步骤、曝光步骤、显影步骤、及固化步骤。
步骤2、提供下基板20，所述下基板20包括第二衬底基板21、设于第二衬底基板21上的TFT阵列层22、设于TFT阵列层22上的第一钝化层(未图示)、设于第一钝化物层上的彩膜层23、设于彩膜层23上的第二钝化物层(未图示)、及设于第二钝化物层上的数个隔垫物24；
具体地，所述彩膜层23包括数个阵列排布的色阻单元231；所述彩膜层23上的色阻单元231分为红色色阻单元、绿色色阻单元、及蓝色色阻单元；所述隔垫物24为锥形柱状物。
步骤3、在所述上基板10或下基板20的一侧上滴注液晶材料，并使上基板10设有黑色矩阵13的一侧与下基板20设有隔垫物24的一侧相面对，将上基板10和下基板20进行真空对组贴合，形成上基板10和下基板20之间的液晶层，得到如图2所示的液晶显示面板。
具体地，所述步骤3得到液晶显示面板中，所述黑色矩阵13与所述彩膜层23上各色阻单元231交接的部分相对应设置，所述隔垫物24与所述黑色矩阵13相对应设置。
综上所述，本发明的液晶显示面板，采用COA加POA设计，从而解决面板在弯曲过程中，隔垫物很容易掉入TFT阵列基板上的通孔处而造成盒厚不均形成Mura的问题，上基板的黑色矩阵设于ITO电极层之上，制作方法简单，节省AOI设备和修复设备，生产成本低。本发明的液晶显示面板的制作方法，先形成上基板的ITO电极层再在ITO电极层上形成黑色矩阵，然后利用黑色矩阵所在黄光线上自带的AOI设备和修复设备进行AOI和修复过程，省去ITO电极层所在产线下的AOI设备和修复设备，只需进行一次AOI和一次修复过程，简化了上基板的工艺流程，节省设备空间和采购成本。
以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明权利要求的保护范围。

Claims (10)

1.一种液晶显示面板，其特征在于，包括相对设置的上基板(1)与下基板(2)、及设于上基板(1)与下基板(2)之间的液晶层；
所述上基板(1)包括朝向所述液晶层依次设置的第一衬底基板(11)、ITO电极层(12)、及黑色矩阵(13)；
所述下基板(2)包括朝向所述液晶层依次设置的第二衬底基板(21)、TFT阵列层(22)、彩膜层(23)、及数个隔垫物(24)。
2.如权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述ITO电极层(12)通过物理气相沉积法形成，所述黑色矩阵(13)通过黄光制程形成。
3.如权利要求2所述的液晶显示面板，其特征在于，所述黑色矩阵(13)的材料为黑色光阻材料，所述黄光制程的具体步骤包括光阻涂布步骤、曝光步骤、显影步骤、及固化步骤。
4.如权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述彩膜层(23)包括数个阵列排布的色阻单元(231)，所述黑色矩阵(13)与所述彩膜层(23)上各色阻单元(231)交接的部分相对应设置，所述隔垫物(24)与所述黑色矩阵(13)相对应设置。
5.如权利要求4所述的液晶显示面板，其特征在于，所述彩膜层(23)上的色阻单元(231)分为红色色阻单元、绿色色阻单元、及蓝色色阻单元；所述隔垫物(24)为锥形柱状物。
6.一种液晶显示面板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤1、提供第一衬底基板(11)，在所述第一衬底基板(11)上形成ITO电极层(12)，然后使其进入黄光线，所述黄光线具有自动光学检查设备及修复设备，在所述ITO电极层(12)上形成黑色矩阵(13)，然后进行自动光学检查，若发现不良则进入修复设备进行修复至不良消失，得到上基板(10)；
步骤2、提供下基板(20)，所述下基板(20)包括第二衬底基板(21)、设于第二衬底基板(21)上的TFT阵列层(22)、设于TFT阵列层(22)上的彩膜层(23)、及设于彩膜层(23)上的数个隔垫物(24)；
步骤3、在所述上基板(10)或下基板(20)的一侧上滴注液晶材料，并使上基板(10)设有黑色矩阵(13)的一侧与下基板(20)设有隔垫物(24)的一侧相面对，将上基板(10)和下基板(20)进行真空对组贴合，形成上基板(10)和下基板(20)之间的液晶层，得到液晶显示面板。
7.如权利要求6所述的液晶显示面板的制作方法，其特征在于，所述步骤1中，所述ITO电极层(12)通过物理气相沉积法形成；所述黑色矩阵(13)在黄光线上通过黄光制程形成。
8.如权利要求7所述的液晶显示面板的制作方法，其特征在于，所述黑色矩阵(13)的材料为黑色光阻材料，所述黄光制程的具体步骤包括光阻涂布步骤、曝光步骤、显影步骤、及固化步骤。
9.如权利要求6所述的液晶显示面板的制作方法，其特征在于，所述彩膜层(23)包括数个阵列排布的色阻单元(231)；所述步骤3得到液晶显示面板中，所述黑色矩阵(13)与所述彩膜层(23)上各色阻单元(231)交接的部分相对应，所述隔垫物(24)与所述黑色矩阵(13)相对应。
10.如权利要求9所述的液晶显示面板的制作方法，其特征在于，所述彩膜层(23)上的色阻单元(231)分为红色色阻单元、绿色色阻单元、及蓝色色阻单元；所述隔垫物(24)为锥形柱状物。
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