CN108681127A - 一种显示面板、其制作方法及显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种显示面板、其制作方法及显示装置，该制作方法，包括：提供多个第一基板和多个第二基板；第一基板包括多个第一对位标记，第二基板包括多个分别与各第一对位标记对应的第二对位标记；相对应的第一对位标记与第二对位标记对应一个基准坐标值；获取每一个第一对位标记和每一个第二对位标记的实际坐标值；根据每一个第一基板中的各第一对位标记的实际坐标值和基准坐标值，确定各第一基板的形变趋势，以及根据每一个第二基板中的各第二对位标记的实际坐标值和基准坐标值，确定各第二基板的形变趋势；将形变趋势一致的第一基板与第二基板进行对盒。该制作方法，将形变趋势一致的第一基板与第二基板进行对盒，提高了对位精度和对比度。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤指一种显示面板、其制作方法及显示装置。
背景技术
薄膜晶体管显示器(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display，TFT-LCD)技术经过最近几十年的发展，技术和工艺日趋成熟，已经取代冷阴二极管(Cold CathodeFluorescent Lamp，CCFL)显示器，成为显示领域的主流产品。
液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)产品生产过程主要分为四个步骤：阵列(Array)基板制作、彩膜(CF)基板制作、对盒(Cell)、组装(Module)。其中，对盒(Cell)工艺又可以细分为取向膜(PI)制作、对取向膜进行紫外光配向(OA)、滴下式注入(One DropFilling，ODF)液晶、切割(Cutting)几个部分，其中ODF工艺部分就是对前段工艺形成的阵列基板和彩膜基板进行对盒，形成真空液晶盒(Cell)。ODF工艺中选择对阵列基板进行液晶滴下，对彩膜基板进行密封胶(Sealant)涂覆，之后在真空环境下进行成盒，如图1a所示，其中，步骤(1)表示制作阵列基板或彩膜基板，步骤(2)表示在彩膜基板上涂覆密封胶，步骤(3)表示在阵列基板上滴下液晶，步骤(4)表示在真空环境下将阵列基板与彩膜基板对盒。
现有技术中，在ODF工艺阶段，是将彩膜基板和阵列基板进行随机对盒，由于随机对盒时，阵列基板的对位标记(TP)的波动趋势和彩膜基板的对位标记的波动趋势不一致，因而阵列基板与彩膜基板无法对齐，导致阵列基板上的金属走线无法被彩膜基板上的黑矩阵(Black Matrix，BM)完全遮挡，从而导致对盒后出现串色不良和金属走线裸露现象，如图1b所示，由于数据线(SD线)已经偏离黑矩阵(BM)的遮挡，部分数据线的图像裸露在R/G/B亚像素中。在进行电学(ET)检测时，零灰阶(L0)画面下金属走线的反光效应造成亮度增大，也就是L0增大，在255灰阶(L255)亮度不变的情况下，L255/L0比值减小，从而使对比度CR(L255/L0)偏低。
发明内容
本发明实施例提供了一种显示面板、其制作方法及显示装置，用以解决现有技术中存在的由于随机对盒，阵列基板与彩膜基板无法对齐，导致显示面板出现串色不良和对比度低的问题。
第一方面，本发明实施例提供了一种显示面板的制作方法，包括：
提供多个第一基板和多个第二基板；所述第一基板包括多个第一对位标记，所述第二基板包括多个分别与各所述第一对位标记对应的第二对位标记；相对应的所述第一对位标记与所述第二对位标记对应一个基准坐标值；
获取每一个所述第一对位标记和每一个所述第二对位标记的实际坐标值；
根据每一个所述第一基板中的各所述第一对位标记的实际坐标值和基准坐标值，确定各所述第一基板的形变趋势，以及根据每一个所述第二基板中的各所述第二对位标记的实际坐标值和基准坐标值，确定各所述第二基板的形变趋势；
将形变趋势一致的所述第一基板与所述第二基板进行对盒。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述制作方法中，所述获取每一个所述第一对位标记和每一个所述第二对位标记的实际坐标值，包括：
针对每一个所述第一基板，根据各所述基准坐标值，逐个确定各所述第一对位标记的实际坐标值，以及针对每一个所述第二基板，根据各所述基准坐标值，逐个确定各所述第二对位标记的实际坐标值。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述制作方法中，所述根据每一个所述第一基板中的各所述第一对位标记的实际坐标值和基准坐标值，确定各所述第一基板的形变趋势，以及根据每一个所述第二基板中的各所述第二对位标记的实际坐标值和基准坐标值，确定各所述第二基板的形变趋势，包括：
按照预先设定的方式将所述第一基板中的至少部分所述第一对位标记的基准坐标值进行连线，得到第一图形；
针对每一个所述第一基板，按照所述预先设定的方式将至少部分所述第一对位标记的实际坐标值进行连线，得到第二图形，比较所述第二图形与所述第一图形得到所述第一基板的形变趋势；
针对每一个所述第二基板，按照所述预先设定的方式将至少部分所述第二对位标记的实际坐标值进行连线，得到第三图形，比较所述第三图形与所述第一图形得到所述第二基板的形变趋势。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述制作方法中，所述按照预先设定的方式将所述第一基板中的至少部分所述第一对位标记的基准坐标值进行连线，得到第一图形，包括：
将所述第一基板中位于边缘的各所述第一对位标记的基准坐标值进行连线，得到第一图形；或，
将所述第一基板中位于边缘的各所述第一对位标记的基准坐标值进行连线，以及将各列的所述第一对位标记的基准坐标值进行连线，得到第一图形；或，
将所述第一基板中位于边缘的各所述第一对位标记的基准坐标值进行连线，以及将各列和各行的各所述第一对位标记的基准坐标值进行连线，得到第一图形。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述制作方法中，所述将形变趋势一致的所述第一基板与所述第二基板进行对盒，包括：
将偏移方向一致的所述第一基板与所述第二基板进行对盒。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述制作方法中，所述第一基板为彩膜基板，所述第二基板为阵列基板；
所述将形变趋势一致的所述第一基板与所述第二基板进行对盒，包括：
将偏移方向一致，且各所述第一对位标记的实际坐标值大于对应的所述第二对位标记的实际坐标值的所述彩膜基板与阵列基板进行对盒。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述制作方法中，所述将偏移方向一致，且各所述第一对位标记的实际坐标值大于对应的所述第二对位标记的实际坐标值的所述彩膜基板与阵列基板进行对盒，包括：
将偏移方向一致，且各所述第一对位标记的实际坐标值与对应的所述第二对位标记的实际坐标值的差值在1μm～2μm范围内的所述彩膜基板与所述阵列基板进行对盒。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述制作方法中，所述提供多个第一基板和多个第二基板，包括：
提供包括多个均匀分布的所述第一对位标记的所述第一基板，以及包括多个均匀分布的所述第二对位标记的所述第二基板。
第二方面，本发明实施例提供了一种显示面板，所述显示面板由上述显示面板的制作方法制作而成。
第三方面，本发明实施例提供了一种显示装置，包括：上述显示面板。
本发明有益效果如下：
本发明实施例提供的显示面板、其制作方法及显示装置，该制作方法，包括：提供多个第一基板和多个第二基板；第一基板包括多个第一对位标记，第二基板包括多个分别与各第一对位标记对应的第二对位标记；相对应的第一对位标记与第二对位标记对应一个基准坐标值；获取每一个第一对位标记和每一个第二对位标记的实际坐标值；根据每一个第一基板中的各第一对位标记的实际坐标值和基准坐标值，确定各第一基板的形变趋势，以及根据每一个第二基板中的各第二对位标记的实际坐标值和基准坐标值，确定各第二基板的形变趋势；将形变趋势一致的第一基板与第二基板进行对盒。本发明实施例提供的制作方法，在进行对盒之前，根据每一个第一基板中的各第一对位标记的实际坐标值和基准坐标值，确定各第一基板的形变趋势，以及根据每一个第二基板中的各第二对位标记的实际坐标值和基准坐标值，确定各第二基板的形变趋势，并将形变趋势一致的第一基板与第二基板进行对盒，因而可以提高第一基板与第二基板的对位精度，避免出现金属走线裸露和串色不良等现象，提高了显示面板的对比度。
附图说明
图1a为现有技术中对盒工艺的流程示意图；
图1b为现有技术中对盒工艺制作得到的显示面板的俯视结构示意图；
图2为本发明实施例提供的制作方法流程图之一；
图3为本发明实施例提供的制作方法得到的显示面板的俯视结构示意图；
图4为本发明实施例提供的制作方法流程图之二；
图5为本发明实施例中确定形变趋势的原理示意图；
图6为本发明实施例中确定第一图形的连线方式示意图之一；
图7为本发明实施例中确定第一图形的连线方式示意图之二；
图8为本发明实施例中对盒工艺的流程示意图。
具体实施方式
针对现有技术中存在的由于随机对盒，阵列基板与彩膜基板无法对齐，导致显示面板出现串色不良和对比度低的问题，本发明实施例提供了一种显示面板、其制作方法及显示装置。
下面结合附图，对本发明实施例提供的显示面板、其制作方法及显示装置的具体实施方式进行详细地说明。附图中各膜层的厚度和形状不反映真实比例，目的只是示意说明本发明内容。
第一方面，本发明实施例提供了一种显示面板的制作方法，如图2所示，包括：
S101、提供多个第一基板和多个第二基板；第一基板包括多个第一对位标记，第二基板包括多个分别与各第一对位标记对应的第二对位标记；相对应的第一对位标记与第二对位标记对应一个基准坐标值；
S102、获取每一个第一对位标记和每一个第二对位标记的实际坐标值；
S103、根据每一个第一基板中的各第一对位标记的实际坐标值和基准坐标值，确定各第一基板的形变趋势，以及根据每一个第二基板中的各第二对位标记的实际坐标值和基准坐标值，确定各第二基板的形变趋势；
S104、将形变趋势一致的第一基板与第二基板进行对盒。
本发明实施例提供的制作方法，在进行对盒之前，根据每一个第一基板中的各第一对位标记的实际坐标值和基准坐标值，确定各第一基板的形变趋势，以及根据每一个第二基板中的各第二对位标记的实际坐标值和基准坐标值，确定各第二基板的形变趋势，并将形变趋势一致的第一基板与第二基板进行对盒，因而可以提高第一基板与第二基板的对位精度，避免出现金属走线裸露和串色不良等现象，提高了显示面板的对比度。
本发明实施例提供的上述制作方法优选为应用于液晶显示面板中彩膜基板与阵列基板的对盒工艺中，也就是说，上述显示面板优选为液晶显示面板，第一基板为彩膜基板，第二基板为阵列基板；或者，第一基板为阵列基板，第二基板为彩膜基板，此处不做限定。此外，上述制作方法也可以应用于其他类型的显示面板的制作工艺中，例如还可以应用于有机电致发光显示面板中阵列基板与封装盖板的对盒工艺中，此处不对上述制作方法的应用场景进行限定。
具体地，本发明实施例提供的上述制作方法中，上述步骤S101，可以包括：
提供包括多个均匀分布的第一对位标记的第一基板，以及包括多个均匀分布的第二对位标记的第二基板。
上述步骤S101中，提供的第一基板上的各第一对位标记均匀分布，以及第二基板上的各第二对位标记均匀分布，因而在后续步骤S103中，能够比较容易的确定第一基板和第二基板的形变趋势，从而降低数据处理的复杂度，提高数据处理速度。
在实际生产过程中，第一基板和第二基板上设有大量的对位标记，以1300mm×1500mm的显示面板为例，第一基板与第二基板上分别设有大约三四百个对位标记(TPMark)，且第一基板上的各对位标记分别与第二基板上对应位置处的对位标记相对应，从而在对盒过程中能够精确的对位。在上述步骤S101中，在第一基板上选取若干个对位标记作为第一对位标记，并在第二基板上选取若干对位标记作为第二对位标记，且第二对位标记与对应位置处的第一标记相对应。可以根据实际需要或者选取的方式来确定第一对位标记与第二对位标记的数量，例如可以均匀的选取168个或196个对位标记，或者在行方向和列方向每隔三个对位标记选取一个对位标记，此处只是举例说明，并不对选取对位标记的方式和选取的数量进行限定。
在实际工艺过程中，在进行高温或低温工艺之前，第一基板与第二基板上的对位标记大小相同且位置一致，在后续工艺过程中，存在很多高温工艺和低温工艺，使得第一基板和第二基板的衬底基板(例如玻璃基板)和很多膜层会发生形变，另外，在加热过程中，加热炉中的不同位置处难免会存在温度差异，从而使不同位置处的对位标记的形变量存在差异，然而，第一基板与第二基板可能经历了不同的加热工艺或者不同的加热炉，因而第一基板与第二基板上的对位标记的形变趋势可能不同。本发明实施例中，通过将形变趋势一致的第一基板与第二基板进行对盒，提高了显示面板的对位精度，避免出现金属走线裸露和串色不良等现象，提高了显示面板的对比度，如图3所示，利用本发明实施例提供的制作方法形成的显示面板，数据线(SD线)可以完全被黑矩阵(BM)遮挡，从而避免了色偏现象的发生，在进行电学(ET)检测时，也不会存在金属走线反光的情况，从而也可以避免对比度偏低的现象。
此外，在实际生产过程中，工艺线上会一直产出第一基板和第二基板，从而不会出现第一基板没有对应的形变趋势一致的第二基板的情况，生成的第一基板和第二基板的数量越多，越容易找到形变趋势一致的第一基板和第二基板进行匹配。
本发明实施例中，形变趋势一致的第一基板和第二基板可以指，相对于各基准坐标值偏移方向一致的第一基板和第二基板，例如相对于基准坐标值都向上偏的第一基板和第二基板，也可以指，形变方向一致的第一基板和第二基板，例如相对于各基准坐标值的轮廓形变后的对位标记的轮廓扩大了，此处只是举例说明，在实际工艺过程中，需要根据实际工艺对基板和膜层的影响，来确定形变趋势一致的标准。
在实际应用中，本发明实施例提供的上述制作方法中，上述步骤S102，可以包括：
针对每一个第一基板，根据各基准坐标值，逐个确定各第一对位标记的实际坐标值，以及针对每一个第二基板，根据各基准坐标值，逐个确定各第二对位标记的实际坐标值。
相对应的第一对位标记与第二对位标记对应的基准坐标值，可以指设计过程中规定的第一对位标记或第二对位标记的位置坐标，也可以说是，各第一对位标记和各第二对位标记在发生形变之前的位置坐标。也就是说，第一对位标记或第二对位标记会在对应的基准坐标值附近的一定范围内，因而可以根据各基准坐标值来寻找对应的各第一对位坐标和各第二对位坐标，例如，可以采用具有图像采集器(例如照相机或摄像机等)的检测装置，将各基准坐标值逐个输入到该检测装置中，检测装置控制图像采集器移动到某一个基准坐标值附近，并迅速的捕捉位于该基准坐标值附近的第一对位标记，可以将距离该基准坐标值最近的位置作为对应的第一对位标记的实际坐标值，可以按照类似的方式，逐个确认每一个第一基板上的各第一对位标记的实际坐标值，以及每一个第二基板上的各第二对位标记的实际坐标值。由于相对应的第一对位标记与第二对位标记的基准坐标值相同，因而，将各基准坐标值逐个输入到检测装置后，可以控制检测装置存储这些基准坐标值，以便后续获取第一对位标记或第二对位标记的实际坐标值时使用，避免重复输入基准坐标值。
具体地，本发明实施例提供的上述制作方法中，如图4所示，上述步骤S103，可以包括：
S1031、按照预先设定的方式将第一基板中的至少部分第一对位标记的基准坐标值进行连线，得到第一图形；
S1032、针对每一个第一基板，按照预先设定的方式将至少部分第一对位标记的实际坐标值进行连线，得到第二图形，比较第二图形与第一图形得到第一基板的形变趋势；
S1033、针对每一个第二基板，按照预先设定的方式将至少部分第二对位标记的实际坐标值进行连线，得到第三图形，比较第三图形与第一图形得到第二基板的形变趋势。
同时参照图5，以预先设定的方式为连接最外侧的坐标点为例进行说明，可以将各坐标点至于坐标系中利用反点图确定各第一图形，各第二图形和各第三图形。具体地，上述步骤S1031中，将第一基板中最外侧的各第一对位标记的基准坐标值进行连线，如图中将最外侧的“●”进行连线，得到第一图形S1，应该说明的是，相对应的第一对位坐标与第二对位坐标的基准坐标值相同，步骤S1031中“将第一基板中的至少部分第一对位标记的基准坐标值进行连线”，等效于“将第二基板中的至少部分第二对位标记的基准坐标值进行连线”。
上述步骤S1032中，得到第二图形的方式与步骤S1031中得到第一图形的方式相同，同样按照上述举例的方式，将第一基板中最外侧的各第一对位标记的实际坐标值进行连线，如图中将最外侧的“▲”进行连线，得到第二图形S2，比较第二图像S2与第一图形S1可知，与第一图形S1相比，在行方向上S2靠右，在列方向上S2靠下，得到第一基板的形变趋势为向右下方偏移。
上述步骤S1033中，得到第三图形的方式与步骤S1031中得到第一图形的方式相同，同样按照上述举例的方式，将第二基板中最外侧的各第二对位标记的实际坐标值进行连线，如图中将最外侧的“■”进行连线，得到第二图形S3，比较第二图像S3与第一图形S1可知，与第一图形S1相比，在行方向上S3靠右，在列方向上S2靠上，得到第一基板的形变趋势为向右上方偏移。
可以按照同样的方式，逐个确定各第一基板和各第二基板的形变趋势，由于相对应的第一对位标记与第二对位标记的基准坐标值相同，因而，上述步骤S1031可以仅执行一次。
更具体地，本发明实施例提供的上述制作方法中，上述步骤S1031，可以包括多种实现方式：
实现方式一：
如图5所示，将第一基板中位于边缘的各第一对位标记的基准坐标值进行连线，得到第一图形；也就是将最外侧的基准坐标值进行连线，以得到基准坐标值构成的轮廓；
实现方式二：
如图6所示，将第一基板中位于边缘的各第一对位标记的基准坐标值进行连线，以及将各列的第一对位标记的基准坐标值进行连线，得到第一图形；也就是得到基准坐标值构成的轮廓和各列基准坐标值的延伸趋势，以便后续精细的确定第一基板和第二基板的形变趋势；
实现方式三：
如图7所示，将第一基板中位于边缘的各第一对位标记的基准坐标值进行连线，以及将各列和各行的各第一对位标记的基准坐标值进行连线，得到第一图形；也就是得到基准坐标值构成的轮廓，各列基准坐标值的延伸趋势，以及各行基准坐标值的延伸趋势，以便后续精细的确定第一基板和第二基板的形变趋势。
由于上述步骤S1032和步骤S1033采用与上述步骤S1031中相同的预先设定的连线方式，因此，上述步骤S1032和上述步骤S1033也可以通过上述实现方式进行连线，此外，也可以采用其他的方式进行连线，例如连接两条对角线，通过连线得到“Z”形状的第一图形，此处只是举例说明，此处不对预先设定的连线方式进行限定。
在实际批量生产过程中，可以将大量的第一基板和第二基板分为多个对盒组进行匹配对盒，以第一基板和第二基板分别需要生产1000个为例，可以将20个第一基板和20个第二基板作为一个对盒组，也就是将1000个第一基板和1000个第二基板分为50个对盒组，按照对盒组逐个确定每一个组中各第一基板和第二基板的形变趋势，将形变趋势一致的第一基板和第二基板进行对盒，如果该对盒组中剩余若干个第一基板(或第二基板)匹配不到形变趋势一致的第二基板(或第一基板)，则可以将剩余的第一基板和第二基板移至下一个对盒组中进行匹配。
如图8所示，以第一基板为彩膜基板第二基板为阵列基板为例对匹配对盒的过程进行详细说明，以两个彩膜基板CF1和CF2，两个阵列基板TFT1和TFT2为例，分别获取彩膜基板CF1和CF2中各第一对位标记A1的实际坐标值，以及分别获取阵列基板TFT1和TFT2中各第二对位标记A2的实际坐标值；根据彩膜基板CF1中各第一对位坐标A1的实际坐标值和基准坐标值，确定彩膜基板CF1的形变趋势L1，以同样的方式得到彩膜基板CF2的形变趋势L2，阵列基板TFT1和TFT2的形变趋势L3和L4；比较L1、L2、L3和L4可知，L1和L4一致，L2和L3一致，因而可以将彩膜基板CF1与阵列基板TFT2进行对盒，将彩膜基板CF2与阵列基板TFT1进行对盒。
在具体实施时，本发明实施例提供的上述制作方法中，上述步骤S104，可以包括：
将偏移方向一致的第一基板与第二基板进行对盒。
偏移方向一致可以指第一基板与第二基板都向上偏、都向左偏，或者都向右下方偏，可以根据实际情况来确定偏移方向一致的具体标准，具体地，可以利用坐标系中坐标值的大小来确定偏移方向，例如，大部分第一对位标记的实际坐标值的y值大于对应的基准坐标值的y值，则说明该第一基板的偏移方向为上偏，若大部分第一对位标记的坐标值的y值小于对应的基准坐标值的y值，且x值大于对应的基准坐标值的x值，则说明该第一基板的偏移方向为向右下方偏移。此外，也可以采用比较轮廓图的方式更直观的确定偏移方向，此处不对确定偏移方向的方式进行限定。
进一步地，本发明实施例提供的上述制作方法中，第一基板为彩膜基板，第二基板为阵列基板；
上述步骤S104，可以包括：
将偏移方向一致，且各第一对位标记的实际坐标值大于对应的第二对位标记的实际坐标值的彩膜基板与阵列基板进行对盒。
在实际应用中，在对盒之前，阵列基板已经经过了多次高温工艺，而彩膜基板经历的高温工艺的次数较少，阵列基板上的第二对位标记的形变量更大些，因而，在对盒以后阵列基板上的第二对位标记不会再发生很大的形变量，但彩膜基板上的第一对位标记还有可能会有更大的形变量。此外，对于彩膜基板一般在黑矩阵层上制作第一对位标记，对于阵列基板一般在某个金属层上制作第二对位标记，黑矩阵层和金属层都是不透光的材料，一般可以制作镂空的对位标记，因而在黑矩阵层和金属层发生热膨胀后，镂空的对位标记会缩小，因此，选择第一对位标记的实际坐标值大于第二对位标记的实际坐标值的彩膜基板和阵列基板进行匹配对盒，对盒后彩膜基板上的第一对位标记还会发生形变而缩小，从而与阵列基板上的第二对位标记的形变量一致。
具体地，本发明实施例提供的上述制作方法中，上述将偏移方向一致，且各第一对位标记的实际坐标值大于对应的第二对位标记的实际坐标值的彩膜基板与阵列基板进行对盒，可以包括：
将偏移方向一致，且各第一对位标记的实际坐标值与对应的第二对位标记的实际坐标值的差值在1μm～2μm范围内的彩膜基板与阵列基板进行对盒。
也就是选取第一对位标记比第二对位标记的实际坐标值大1μm～2μm的彩膜基板和阵列基板进行对盒，上述实际坐标值的差值优选为1.5μm左右。例如，彩膜基板上某个第一对位标记的实际坐标值为(100,100)，则可以选取对应的第二对位标记的实际坐标值在(98,98)～(99,99)之间的阵列基板，优选为选取第二对位标记的实际坐标值为(98.5,98.5)的阵列基板。
第二方面，基于同一发明构思，本发明实施例提供了一种显示面板，该显示面板由上述显示面板的制作方法制作而成。由于该显示面板解决问题的原理与上述制作方法相似，因此该显示面板的实施可以参见上述制作方法的实施，重复之处不再赘述。
第三方面，基于同一发明构思，本发明实施例提供了一种显示装置，包括上述显示面板，该显示装置可以应用于手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。由于该显示装置解决问题的原理与上述显示面板相似，因此该显示装置的实施可以参见上述显示面板的实施，重复之处不再赘述。
本发明实施例提供的显示面板、其制作方法及显示装置，在进行对盒之前，根据每一个第一基板中的各第一对位标记的实际坐标值和基准坐标值，确定各第一基板的形变趋势，以及根据每一个第二基板中的各第二对位标记的实际坐标值和基准坐标值，确定各第二基板的形变趋势，并将形变趋势一致的第一基板与第二基板进行对盒，因而可以提高第一基板与第二基板的对位精度，避免出现金属走线裸露和串色不良等现象，提高了显示面板的对比度。
显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。
Claims (10)
1.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：
提供多个第一基板和多个第二基板；所述第一基板包括多个第一对位标记，所述第二基板包括多个分别与各所述第一对位标记对应的第二对位标记；相对应的所述第一对位标记与所述第二对位标记对应一个基准坐标值；
获取每一个所述第一对位标记和每一个所述第二对位标记的实际坐标值；
根据每一个所述第一基板中的各所述第一对位标记的实际坐标值和基准坐标值，确定各所述第一基板的形变趋势，以及根据每一个所述第二基板中的各所述第二对位标记的实际坐标值和基准坐标值，确定各所述第二基板的形变趋势；
将形变趋势一致的所述第一基板与所述第二基板进行对盒。
2.如权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述获取每一个所述第一对位标记和每一个所述第二对位标记的实际坐标值，包括：
针对每一个所述第一基板，根据各所述基准坐标值，逐个确定各所述第一对位标记的实际坐标值，以及针对每一个所述第二基板，根据各所述基准坐标值，逐个确定各所述第二对位标记的实际坐标值。
3.如权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述根据每一个所述第一基板中的各所述第一对位标记的实际坐标值和基准坐标值，确定各所述第一基板的形变趋势，以及根据每一个所述第二基板中的各所述第二对位标记的实际坐标值和基准坐标值，确定各所述第二基板的形变趋势，包括：
按照预先设定的方式将所述第一基板中的至少部分所述第一对位标记的基准坐标值进行连线，得到第一图形；
针对每一个所述第一基板，按照所述预先设定的方式将至少部分所述第一对位标记的实际坐标值进行连线，得到第二图形，比较所述第二图形与所述第一图形得到所述第一基板的形变趋势；
针对每一个所述第二基板，按照所述预先设定的方式将至少部分所述第二对位标记的实际坐标值进行连线，得到第三图形，比较所述第三图形与所述第一图形得到所述第二基板的形变趋势。
4.如权利要求3所述的制作方法，其特征在于，所述按照预先设定的方式将所述第一基板中的至少部分所述第一对位标记的基准坐标值进行连线，得到第一图形，包括：
将所述第一基板中位于边缘的各所述第一对位标记的基准坐标值进行连线，得到第一图形；或，
将所述第一基板中位于边缘的各所述第一对位标记的基准坐标值进行连线，以及将各列的所述第一对位标记的基准坐标值进行连线，得到第一图形；或，
将所述第一基板中位于边缘的各所述第一对位标记的基准坐标值进行连线，以及将各列和各行的各所述第一对位标记的基准坐标值进行连线，得到第一图形。
5.如权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述将形变趋势一致的所述第一基板与所述第二基板进行对盒，包括：
将偏移方向一致的所述第一基板与所述第二基板进行对盒。
6.如权利要求5所述的制作方法，其特征在于，所述第一基板为彩膜基板，所述第二基板为阵列基板；
所述将形变趋势一致的所述第一基板与所述第二基板进行对盒，包括：
将偏移方向一致，且各所述第一对位标记的实际坐标值大于对应的所述第二对位标记的实际坐标值的所述彩膜基板与阵列基板进行对盒。
7.如权利要求6所述的制作方法，其特征在于，所述将偏移方向一致，且各所述第一对位标记的实际坐标值大于对应的所述第二对位标记的实际坐标值的所述彩膜基板与阵列基板进行对盒，包括：
将偏移方向一致，且各所述第一对位标记的实际坐标值与对应的所述第二对位标记的实际坐标值的差值在1μm～2μm范围内的所述彩膜基板与所述阵列基板进行对盒。
8.如权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述提供多个第一基板和多个第二基板，包括：
提供包括多个均匀分布的所述第一对位标记的所述第一基板，以及包括多个均匀分布的所述第二对位标记的所述第二基板。
9.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板由权利要求1～8任一项所述的显示面板的制作方法制作而成。
10.一种显示装置，其特征在于，包括：如权利要求9所述的显示面板。
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