KR20100013115A

KR20100013115A - 원심 성형을 이용한 성형 장치 및 방법

Info

Publication number: KR20100013115A
Application number: KR1020080074634A
Authority: KR
Inventors: 추민철; 조성재
Original assignee: 한국표준과학연구원
Priority date: 2008-07-30
Filing date: 2008-07-30
Publication date: 2010-02-09
Also published as: KR100974651B1

Abstract

본 발명은 세라믹 소재의 성형 방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 원심 회전을 통해 세라믹 소재를 성형하는 장치 및 방법에 관한 것이다.

본 발명에 따른 원심 성형을 이용한 성형 장치는, 원주면을 따라 적어도 하나의 성형틀을 구비하는 몰드; 상기 몰드에 끼워져 슬러리를 공급하는 슬러리 공급부; 및 상기 몰드를 원심회전시키는 구동부를 포함하되, 상기 슬러리 공급부는, 외부로부터 공급된 슬러리를 수용하는 수용부를 구비한 슬러리 유입부, 상기 슬러리 유입부에 일체로 형성되는 원기둥 형상의 부재로서, 상기 수용부와 연결되되 상기 원기둥의 원주면을 따라 배치되며 길이 방향으로 상기 원기둥을 관통하는 복수의 관통 채널을 구비하는 슬러리 전달부 및 상기 슬러리 전달부에 일체로 형성되되 상기 관통 채널로부터 배출되는 슬러리의 배출 높이에 상응하는 두께로 형성되는 베이스를 구비하는 것을 특징으로 한다.

원심 성형, 슬러리, 세라믹, 연속 공급

Description

원심 성형을 이용한 성형 장치 및 방법{apparatus and method using centrifugal molding}

세라믹 소재는 밀도 및 열팽창률이 낮고, 고경도 및 내열 특성이 우수하여 각종 부품에 적용되었다.

세라믹 튜브의 제조를 위한 종래의 방법으로는 니장성형법(slip casting)이나 가압성형법(cold isostatic pressing)이 일반적이었다. 이 외에 원심력이 응용된 방법으로 원심니장성형법 (미국 특허 제5,262,366호, 일본 특허 공개 평5-253921호), 회전하는 원통형 몰드 안에 도관을 통해 세라믹 슬러리를 주입하여 원심성형 하는 기술 (미국 특허 제3,689,614호), 회전하는 원통형 몰드 안에 액체 결합제(binder)와 분말을 투입하는 튜브를 별도로 장치하는 것으로 구성된 기술 (미국 특허 제5,182,052호) 등이 있었지만, 이들 종래기술은 단순히 니장 성형의 속도를 빠르게 할 뿐이거나 원심성형 장치의 구성 및 공정이 복잡해지는 문제점을 가지 고 있다.

원리적으로 볼 때 원심성형방법으로 성형하는 경우 다양한 종류의 세라믹 튜브의 성형이 가능하다. 그러나 실제적으로는 세라믹 튜브를 성공적으로 원심성형하기 위해서는 성형하는 동안의 세라믹 분말의 크기 및 밀도에 따라 분리되는 문제를 해결하여야 한다.

본 발명은 종래 기술을 개선하기 위해 제안된 것으로, 본 발명은 세라믹 분말이 분리되는 문제를 해결하는 세라믹 성형 장치 및 세라믹 성형 방법을 제안한다.

본 발명에 따른 원심 성형을 이용한 성형 장치는, 원주면을 따라 다수의 성형틀을 구비하는 몰드; 상기 몰드에 끼워져 슬러리를 공급하는 슬러리 공급부; 및 상기 몰드를 원심회전시키는 구동부를 포함하되, 상기 슬러리 공급부는, 외부로부터 공급된 슬러리를 수용하는 수용부를 구비한 슬러리 유입부, 상기 슬러리 유입부에 일체로 형성되는 원기둥 형상의 부재로서, 상기 수용부와 연결되되 상기 원기둥의 원주면을 따라 배치되며 길이 방향으로 상기 원기둥을 관통하는 복수의 관통 채널을 구비하는 슬러리 전달부 및 상기 슬러리 전달부에 일체로 형성되되 상기 관통 채널로부터 배출되는 슬러리의 배출 높이에 상응하는 두께로 형성되는 베이스를 구비하는 것을 특징으로 한다.

바람직하게, 베이스는 상기 슬러리 전달부 측에 형성되는 상단부 및 상기 상단부를 지지하는 하단부를 포함하며, 상기 상단부의 직경은 상기 하단부의 직경에 비해 작다.

바람직하게, 상기 성형 장치는 상기 베이스에 끼워지는 중공의 부재로서, 상기 관통 채널로부터 배출된 슬러리를 서로 다른 높이로 분사하기 위한 복수의 미세 채널을 구비하는 슬러리 분사부를 더 포함한다.

본 발명의 또 다른 양상에 따른 성형 방법은, 다수의 성형틀을 구비한 몰드에 상기 슬러리 공급부를 통해 세라믹 슬러리를 공급하면서 상기 몰드를 원심 회전시키는 단계; 및 상기 원심 회전에 의해 상기 성형틀의 형상에 따라 침강된 세라믹 성형체에 대한 열 처리를 수행하는 단계를 포함한다.

바람직하게, 상기 세라믹 성형체의 표면에 유리를 침투시키는 표면처리를 수행하는 단계를 더 포함한다.

본 발명에 따른 세라믹 성형의 분리 현상을 개선할 수 있다. 또한 원심 침강 시에 성형체를 균일하게 형성할 수 있다.

본 발명의 구체적인 특징은 이하에서 설명하는 본 발명의 일 실시예에 의해 더욱 구체화될 것이다. 이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 일 실시예를 설명 한다.

도 1은 본 발명의 일 실시예에서 사용되는 몰드 형상의 일례이다.

도시된 바와 같이, 도 1의 몰드(100)는 원형으로 제작되고, 원주면을 따라 형성되는 다수의 성형틀(110)이 구비된다. 상기 몰드(100)가 원심회전되는 경우, 세라믹 슬러리가 상기 성형틀(110)로 원심침강하여 세라믹 성형체를 형성한다. 상기 성형틀(110)은 다양한 형상으로 제작가능하다.

상기 몰드(100)에 주입되는 슬러리는 세라믹 슬러리이다. 세라믹 슬러리는 세라믹 분말을 액체 용매에 분산시키고 염을 첨가하여 고체 함량이 약 5 내지 25 부피%이고 세라믹 입자가 아주 약하게 응집한다. 세라믹 분말은 알루미나, 지르코니아, 이들의 혼합물 등이며, 액체용매와 세라믹 분말의 혼합비율은 슬러리의 고체함량이 약 5 내지 25 부피%가 되도록 한다.

바람직하게는, 슬러리의 고체함량은 5 부피% 내지 20 부피%이다. 그리고 세라믹 슬러리에는 성형체의 강도를 증가시키기 위해 결합제를 첨가하기도 한다. 세라믹 성형에 사용되는 결합제는 다수 공지되어 있으며, 크게 점토 결합제, 분자 결합제 및 막형성 결합제로 분류된다. 고순도 세라믹의 제조에는 분자 결합제와 막형성 결합제가 쓰인다. 분자 결합제는 다시 비닐 결합제, 셀룰로오스 결합제, 폴리에틸렌 글리콜 결합제로 나뉜다. 본 실시예서 사용되는 결합제는 특별히 제한되지 않으며 비닐 결합제 등을 사용할 수 있다.

염을 첨가하는 이유는 슬러리내의 세라믹 분말 입자들을 아주 약하게 응집시키기 위해서이다. 슬러리 내의 세라믹 분말들이 아주 약하게 응집되면 완전 분산된 상태의 슬러리보다 성형속도가 빨라지고 성형체의 구조도 균일해지게 된다. 이 용도로 사용되는 염은 수용성 전해질, 즉 Li⁺, Na⁺, K⁺, Rb⁺, NH⁴⁺, Mg²⁺, Ca²⁺, Sr²⁺, Ba²⁺이온이나 SO₄ ^2-, C1^-, NO₃ ^-이온 등을 포함하는 것이다. 그 예로는 NH₄Cl 등이 있다. 염의 첨가 농도는, 전해질 이온의 원자가가 커질수록 응집시키는 능력이 커지기 때문에 염의 종류에 따라서 달라질 수 있지만, 대체로 액체용매에 대해 0.5M이하, 바람직하게는 0.1M 내지 0.3M이다. 그 밖에도, 당업계에서 통상적으로 사용되는 첨가제, 예를 들면 소포제, 가소제 등을 첨가할 수 있다.

바람직하게, 상기 몰드(100)는 별도의 상부 덮개 및 하부 덮개로 커버된 상태에서 원심회전한다. 이를 위해, 상술한 상부 덮개 및 하부 덮개를 몰드(100)에 고정하기 위한 고정홀(120)이 추가로 구비되는 것이 바람직하다. 이하 상기 상부 덮개 및 하부 덮개에 대하여 설명한다.

도 2는 몰드의 상부를 커버하는 상부 덮개의 일례이다. 도 2의 상부 덮개(200)는 상기 몰드(100)와의 결합을 위한 다수의 고정홀(220)을 구비하며, 중앙부에 슬러리 공급부 삽입홀(210)이 구비된다. 슬러리 공급부 삽입홀(210)은 이하에서 설명하게 될 슬러리 공급부가 삽입되어 고정되는 홀을 나타낸다.

도 3은 몰드의 하부를 커버하는 하부 덮개의 일례이다. 도 3의 하부 덮개(300)는 상기 몰드(100)와의 결합을 위한 다수의 고정홀(320)을 구비한다.

도 4는 몰드, 상부 덮개, 하부 덮개가 결합된 형태를 나타낸다. 도시된 바와 같이, 하부 덮개(300), 몰드(100), 상부 덮개(200)가 고정되어 원심회전한다.

도 1 내지 도 3의 도면은 몰드, 상부 덮개, 하부 덮개의 개략적인 형상을 나타낸 것으로, 도 1 내지 도 3의 형상에 추가적인 부재가 더 구비될 수 있음은 당업자에게 자명하다 할 것이다.

도 4의 결합체 내에 세라믹 슬러리를 주입하고, 원심 회전을 시킨 후, 몰드 가운데 모인 액체 용매를 제거하는 경우 원심 침강에 따른 성형체를 얻을 수 있다. 이하 도 4의 결합체의 원심 회전에 의한 성형체의 특징을 설명한다.

도 5는 상술한 몰드에 세라믹 슬러리를 주입하고 원심성형을 수행하는 경우, 원심침강에 의해 형성되는 성형체를 나타내는 도면이다. 도시된 바와 같이, 몰드(100)의 성형틀(110)의 형상에 따라 다수의 성형체(500)가 형성된다. 다만, 일반적인 방법으로 세라믹 슬러리를 공급하는 경우, 지시선 501 및 502에 도시되는 바와 같이, 성형체(500)의 일면이 균일하지 않는 문제가 생긴다. 즉, 세라믹 슬러리가 상대적으로 바닥부에 집중되므로 성형체(500)의 바닥 부분에 더 많은 성형체가 형성되는 문제가 발생한다. 또한, 세라믹 슬러리를 한번에 주입하고 원심성형을 수행하는 경우, 세라믹 슬러리 내의 크고 무거운 입자는 외벽 쪽에, 작고 가벼운 입자는 내벽 쪽에 각각 성형되어 서로 다른 크기나 밀도의 입자들이 성형체 안에서 두께 방향으로 분리되는 현상이 발생한다. 특히 화학성분 및 밀도가 서로 다른 분말들이 섞이면 입자간 또는 성분간 분리현상이 심해져서 성형체 내부의 미세조직과 화학적 성분이 균일하지 않고 성형밀도도 달라진다. 성형체 내부가 불균일하면 건조 또는 소결 중에 균열이 가거나 미소한 균열이 남아 결국 성형이 안되거나 성형이 되더라도 물성이 저하되는 문제가 발생한다.

본 실시예는 성형체(500)의 형상을 균일하게 형성하는 동시에, 세라믹 입자의 분리에 따른 문제를 해결하기 위한 세라믹 슬러리 공급부를 제안한다. 이하, 본 실시예에서 제안하는 슬러리 공급부를 설명한다.

도 6은 본 실시예에 따른 슬러리 공급부의 일례를 나타낸다. 도시된 바와 같이, 도 6의 슬러리 공급부(600)는 세라믹 슬러리 유입부(610), 세라믹 슬러리 전달부(620), 베이스(630)를 포함한다.

세라믹 슬러리 유입부(610)는 외부에서 공급되는 세라믹 슬러리를 일시적으로 수용하는 수용부(611)를 포함한다. 상기 세라믹 슬러리 유입부(610)는 다양한 형상으로 제작가능하며, 원심 회전을 위해 원기둥 형상으로 제작되는 것이 바람직하다.

세라믹 슬러리 전달부(620)는 상기 수용부(611)에 수용되는 세라믹 슬러리를 복수 개의 관통 채널(621)을 통해 전달하는 부재이다. 상기 세라믹 슬러리 전달부(620)는 상기 세라믹 슬러리 유입부(610)에 일체로 형성되며, 원심 회전이 용이하도록 원기둥 형상으로 제작된다. 도시된 바와 같이, 상기 관통 채널(621)은 원기둥의 원주면을 따라 형성되고, 원기둥을 길이 방향으로 관통한다. 상기 세라믹 슬러리 전달부(620)는 수용부(611)에 비해 상대적으로 작은 직경을 갖는 관통 채널(621)을 통해 세라믹 슬러리를 전달하므로, 몰드(100)에 세라믹 슬러리를 저속으로 연속적으로 공급할 수 있고, 이를 통해 세라믹 입자의 분리에 대한 문제를 개선할 수 있다.

베이스(630)는 상기 관통 채널(621)의 말단을 통해 세라믹 슬러리가 배출되 는 높이에 상응하는 두께로 형성된다. 상기 베이스(630)는 상단부(631)와 하단부(632)를 포함할 수 있다. 이 경우, 상기 상단부(631)의 직경은 하단부(632)의 직경에 비해 작게 형성되는 것이 바람직하다. 상단부(631)와 하단부(632)의 직경이 다른 경우, 상기 상단부(631) 두께에 상응하는 환형의 세라믹 슬러리 배출구가 형성되므로, 상기 상단부(631)와 하단부(632)의 높이를 조절하여 관통 채널(621)에 의해 세라믹 슬러리가 배출되는 배출구의 높이를 조절할 수 있다.

도 7은 도 6에 도시된 슬러리 공급부가 몰드에 세라믹 슬러리를 공급하기 위해 상부 덮개에 삽입되는 형상을 나타낸다. 슬러리 공급부(600)는 상부 덮개(200)를 관통하여 몰드(100)에 세라믹 슬러리를 공급하게 된다.

도 8은 슬러리 공급부가 삽입된 형상을 나타내는 단면도이다. 도 7과 같이 슬러리 공급부를 삽입하는 경우, 슬러리 공급부(600)는 상부 덮개(200)를 관통하여 하부 덮개(300) 상에 거치된다. 슬러리 공급부의 관통 채널(621)의 말단을 통해 세라믹 슬러리가 배출되는 배출구(801)는 몰드의 성형틀(110)의 중간 높이에 형성되므로, 세라믹 슬러리가 배출되는 세라믹 슬러리들은 특정 위치에 집중되지 않고 고른 분포를 갖는다. 따라서, 원심 침강에 의해 성형틀(110)에 침강되는 성형체는 균일한 두께를 갖게 된다.

도 9는 본 실시예에 따른 슬러리 공급부에 끼워지는 세라믹 슬러리 분사부의 일례를 나타내는 도면이다. 도시된 바와 같은 세라믹 슬러리 분사부(900)를 구비하는 경우, 더욱 균일하게 세라믹 슬러리를 공급하여, 분리의 문제를 더욱 개선할 수 있다.

도시된 바와 같이 도 9의 세라믹 슬러리 분사부(900)는 복수의 미세 채널(901, 902, 903)을 포함한다. 상기 미세 채널은 서로 다른 복수 개의 높이에 구비되는 것이 바람직하다. 세라믹 슬러리 분사부(900)는 상술한 슬러리 공급부에 끼워져 세라믹 슬러리를 더욱 균일하게 미세하게 분출할 수 있게 한다.

이하 세라믹 슬러리 분사부(900)가 슬러리 공급부에 결합되는 형상을 설명한다. 도 10은 상기 슬러리 분사부(900)가 거치되는 위치를 나타내는 도면이다. 도시된 바와 같이, 슬러리 분사부(900)를 하부 덮개(300) 상에 거치하여 몰드(100)의 중앙부에 위치시킬 수 있다. 상기 몰드(100) 상에 상부 덮개(100)가 덮이고, 상부 덮개(100)에 구비된 슬러리 공급부 삽입홀(210)을 통해 슬러리 공급부가 삽입되는 경우, 상기 슬러리 공급부와 슬러리 분사부(900)가 결합된다. 상술한 방식에 결합된 형상은 도 11과 같다. 도 11은 슬러리 공급부와 슬러리 분사부가 결합된 형상을 나타낸다. 도시된 바와 같이, 슬러리 분사부(900)는 슬러리 공급부의 베이스에 끼워진다.

도 12는 슬러리 공급부와 슬러리 분사부가 결합된 형상을 나타내는 단면도이다. 도시된 바와 같이, 베이스의 상단부(631)/하단부(632)와 슬러리 분사부(900)의 내주면 간에는 미세한 간극이 존재하며, 이러한 미세한 간극을 통해 슬러리 분사부의 미세 채널(901, 902, 903)을 통해 슬러리가 분사될 수 있다. 상술한 미세한 간극은 의도적인 설계에 의해 형성될 수도 있고, 슬러리 분사부(900)의 공차에 의해 형성될 수도 있다.

상기 미세 채널(901, 902, 903)의 직경은 매우 작기 때문에, 어느 하나의 미 세 채널(예를 들어, 902번 미세 채널)을 통해 슬러리가 모두 분사되지 않으며, 모든 미세 채널(901, 902, 903)을 통해 고루 분사된다.

상술한 슬러리 분사부(900)를 추가로 구비하는 경우, 서로 다른 높이에 형성된 미세 채널(901, 902, 903)을 통해 슬러리를 분사하므로, 성형체를 더욱 균일하게 형성시킬 수 있다.

도 13은 원심 성형 장치를 나타내는 단면도이다. 도시된 바와 같이 몰드(100)와 상부 덮개(200) 및 하부 덮개(300)가 결합되고, 상부 덮개(200)를 통해 슬러리 공급부(600)가 삽입된다. 슬러리 공급부에는 추가적으로 슬러리 분사부(900)가 더 구비될 수 있다. 도시된 바와 같이, 몰드(100)와 상부 덮개(200) 및 하부 덮개(300)는 상부 플렌지(1301)와 하부 플렌지(1302) 사이에 구비된다.

상기 상부 플렌지(1301)는 제1 회전축(1305)에 고정되며, 하부 플렌지(1302)는 제2 회전축(1303)에 고정된다. 제1 회전축(1305)은 고정부(1306)에 접하게 위치한다. 구동부(미도시)에 의해 제2 회전축(1303)에 회전력이 전달되면, 몰드(100), 상부 덮개(200), 하부 덮개(300), 슬러리 공급부(600), 상부 플렌지(1301), 하부 플렌지(1302), 제1 회전축(1305) 등이 원심 회전한다.

원심 회전시에 몰드(100), 상부 덮개(200) 및 하부 덮개(300) 간의 이격이 발생하는 경우, 세라믹 슬러리가 이러한 이격이 발생한 지점으로 침투할 수 있으므로, 몰드(100), 상부 덮개(200) 및 하부 덮개(300)에 압력을 가해 이격을 방지할 수 있는 수단이 추가적으로 구비되는 것이 바람직하다. 이를 위해 도 13의 일례에서는 클램프(1304)가 더 구비되는바, 상기 몰드(100) 방향으로 압력을 가해 몰 드(100), 상부 덮개(200) 및 하부 덮개(300) 간의 이격을 방지한다.

도 14는 본 실시예에 따른 원심 성형 방법을 나타내는 도면이다.

우선 상술한 슬러리 공급부(600)를 통해 세라믹 슬러리를 몰드(100)에 공급하면서 원심 회전을 시킨다(S1401). 이 경우, 원심 회전수는 500 rpm 내지 3500 rpm일 수 있다. 회전수가 500 rpm 이하인 경우, 최종적인 성형체의 밀도가 지나치게 낮아져서 내부에 존재하는 기공 등이 소결 후에도 제거되지 않아 소결체의 강도가 낮아질 수 있으며, 회전수가 3500 rpm 이상인 경우 구동부에 문제가 발생할 수 있으므로, 500 rpm 내지 3500 rpm이 바람직하다.

원심 회전(S1401)에 의해 생성된 성형체에 대해 소결을 수행한다(S1402). 성형체의 경우, 실온에서 24시간 정도 건조하여 수분을 제거한 후, 1500 도 이상에서 수시간 소결하여 소결체를 얻는다.

소결체를 얻은 후 필요에 따라 추가적으로 표면처리를 수행할 수 있다(S1403). 이 경우 소결체의 표면에 유리를 침투시켜 표면처리를 수행하는 것이 가능하다. 소결체의 주성분인 세라믹은 높은 융점을 갖는 것으로 알려져 있고, 특히, 대표적인 세라믹인 알루미나는 2046℃에서 용융된다. 따라서 유리는 조성에 따라 다르지만, 1000℃ 이상의 온도를 가하면 유리는 용융되어 액상이 되고 세라믹 소결체(내·외륜용 소결체, 볼 소결체)의 표면층에 침투시킬 수 있다. 침투된 유리에 의해 세라믹 소결체의 균열이 채워져 치유되므로 강도가 향상이 되고, 특히, 모재인 알루미나 세라믹에 비하여 열팽창계수가 작은 유리를 이용시는 상온으로 식히는 동안 알루미나 세라믹 소결체의 표면층에 압축응력이 발생하고, 이 압축응력으 로 인하여 강도, 내열충격특성, 내마모 특성이 향상된다. 상술한 S1401 내지 S1403 단계를 거치면 최종적인 세라믹소결체를 얻을 수 있다.

본 명세서에 첨부된 도면은 본 발명의 일 실시예를 설명하기 위해 첨부된 것으로, 설명의 편의를 위해 특정 부위가 과장되게 도시되거나 축소되어 도시되었는바, 본 발명의 내용이 도면의 구체적인 비율이나 형상에 한정되지 않는다.

또한, 상술한 실시예에서 사용한 구체적인 수치는 본 발명의 일 실시예를 설명하기 위한 것에 불과하므로 본 발명의 내용이 이러한 구체적인 수치에 한정되지 않는다.

이상에서 본 발명의 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.

도 2는 몰드의 상부를 커버하는 상부 덮개의 일례이다.

도 3은 몰드의 하부를 커버하는 하부 덮개의 일례이다.

도 4는 몰드, 상부 덮개, 하부 덮개가 결합된 형태를 나타낸다.

도 5는 상술한 몰드에 세라믹 슬러리를 주입하고 원심성형을 수행하는 경우, 원심침강에 의해 형성되는 성형체를 나타내는 도면이다.

도 6은 본 실시예에 따른 슬러리 공급부의 일례를 나타낸다.

도 7은 도 6에 도시된 슬러리 공급부가 몰드에 세라믹 슬러리를 공급하기 위해 상부 덮개에 삽입되는 형상을 나타낸다.

도 8은 슬러리 공급부가 삽입된 형상을 나타내는 단면도이다.

도 9는 본 실시예에 따른 슬러리 공급부에 끼워지는 세라믹 슬러리 분사부의 일례를 나타내는 도면이다.

도 10은 상기 슬러리 분사부가 거치되는 위치를 나타내는 도면이다.

도 11은 슬러리 공급부와 슬러리 분사부가 결합된 형상을 나타낸다.

도 12는 슬러리 공급부와 슬러리 분사부가 결합된 형상을 나타내는 단면도이다.

도 13은 원심 성형 장치를 나타내는 단면도이다.

Claims

원심회전에 의해 성형체를 형성하는 성형 장치에 있어서,

원주면을 따라 적어도 하나의 성형틀을 구비하는 몰드;

상기 몰드의 중심부에 끼워져 슬러리를 공급하는 슬러리 공급부; 및

상기 몰드를 원심회전시키는 구동부를 포함하되,

상기 슬러리 공급부는,

외부로부터 공급된 슬러리를 수용하는 수용부를 구비한 슬러리 유입부,

상기 슬러리 유입부에 일체로 형성되는 원기둥 형상의 부재로서, 상기 수용부와 연결되되 상기 원기둥의 원주면을 따라 배치되며 길이 방향으로 상기 원기둥을 관통하는 복수의 관통 채널을 구비하는 슬러리 전달부 및

상기 슬러리 전달부에 일체로 형성되되 상기 관통 채널로부터 배출되는 슬러리의 배출 높이에 상응하는 환형의 배출구가 형성된 베이스를 구비하는 것을 특징으로 하는 원심 성형을 이용한 성형 장치
제1항에 있어서,

상기 베이스에 끼워지는 중공의 부재로서, 상기 관통 채널로부터 배출된 슬러리를 서로 다른 높이로 분사하기 위한 반경 방향으로 복수의 미세 채널을 구비하는 슬러리 분사부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 원심 성형을 이용한 성형 장치
제1항 또는 제2항에 있어서,

상기 베이스는 상기 슬러리 전달부 측에 형성되는 상단부 및 상기 상단부 하측에 위치하는 하단부를 포함하며, 상기 상단부의 직경은 상기 하단부의 지경에 비해 작되 하단부의 두께에 의하여 슬러리 배출 높이가 결정되는 것을 특징으로 하는 원심 성형을 이용한 성형 장치
제1항 또는 제2항에 있어서,

상기 슬러리 공급부가 삽입되는 관통 홀을 구비하며 상기 몰드의 상부를 커버하는 상부 덮개 및

상기 몰드의 하부를 커버하는 하부 덮개를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 원심 성형을 이용한 성형 장치
제4항에 있어서,

원심회전시 상기 몰드와 상기 덮개들 간의 이격 방지를 위해, 상기 상부 덮개에 상기 몰드방향으로 압력을 가하는 가압부를 더 포함하는 원심 성형을 이용한 성형 장치
세라믹 성형체의 성형 방법에 있어서,

다수의 성형틀을 구비한 몰드에 슬러리 공급부를 통해 세라믹 슬러리를 공급 하면서 상기 몰드를 원심 회전시키는 단계; 및

상기 원심 회전에 의해 상기 성형틀의 형상에 따라 침강된 세라믹 성형체에 대한 열 처리를 수행하는 단계를 포함하되,

상기 슬러리 공급부는,

외부로부터 공급된 슬러리를 수용하는 수용부를 구비한 슬러리 유입부,

상기 슬러리 유입부에 일체로 형성되는 원기둥 형상의 부재로서, 상기 수용부와 연결되되 상기 원기둥의 원주면을 따라 배치되며 길이 방향으로 상기 원기둥을 관통하는 복수의 관통 채널을 구비하는 슬러리 전달부 및

상기 슬러리 전달부에 일체로 형성되되 상기 관통 채널로부터 배출되는 슬러리의 배출 위치에 상응하는 두께로 형성되는 베이스를 구비하는 것을 특징으로 하는 세라믹 성형체의 성형 방법
제6항에 있어서,

상기 원심 회전수는 500 내지 3500 rpm인 것을 특징으로 하는 세라믹 성형체의 성형 방법
제6항에 있어서,

상기 세라믹 성형체의 표면에 유리를 침투시키는 표면처리를 수행하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 세라믹 성형체의 성형 방법