KR20090040210A - 온도 제어 방법, 온도 보정치 취득 방법, 반도체 디바이스를 제조하기 위한 방법, 기판 처리 장치 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (9)
- 열처리로 내에서 목표 온도가 주어지고, 상기 목표 온도에 따라 복수의 히터를 제어하는 온도 제어 방법으로서,상기 히터와 상기 열처리로 내에 구비된 복수의 프로파일 온도 센서와의 상관 관계를 구하고, 상기 각 프로파일 온도 센서 각각의 검출 온도와 상기 상관 관계로부터 산출되는 가중 계수를 토대로 가상(假想) 온도를 산출하고,상기 가상 온도를 상기 목표 온도에 일치시키도록 상기 히터를 제어하는 온도 제어 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 가상 온도는, 복수의 프로파일 온도 센서로부터 선택된 프로파일 온도 센서의 검출 온도의 평균치인 온도 제어 방법.
- 제2항에 있어서, 상기 가상 온도는, 복수의 존(zone)으로 분할된 히터에 대향하는 복수의 프로파일 온도 센서의 검출 온도의 평균치인 온도 제어 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 가상 온도는, 복수의 프로파일 온도 센서의 검출 온도와 미리 설정된 가중 계수와의 곱을 구하고, 구해진 곱의 총합인 온도 제어 방법.
- 제4항에 있어서, 상기 가중 계수는, 상기 상관 관계와 적산(積算)하여 산출되는 행렬이 대각(對角) 행렬이 되도록 설정되는 온도 제어 방법.
- 제4항 또는 5항에 있어서, 상기 가중 계수는, 작업자가 임의로 설정 가능한 온도 제어 방법.
- 열처리로 내에서 목표 온도가 주어지고, 상기 열처리로의 열처리 영역 내의 온도를 상기 목표 온도와 일치시키기 위한 보정치를 취득하는 온도 보정치 취득 방법으로서,히터와 상기 열처리로 내에 구비된 복수의 프로파일 온도 센서와의 상관 관계를 구하고, 상기 각 프로파일 온도 센서의 각각의 검출 온도와 상기 상관 관계로부터 산출되는 가중 계수를 토대로 가상 온도를 산출하고,상기 가상 온도를 상기 목표 온도에 일치시키고, 일치했을 때의 상기 열처리로의 열처리 영역 외의 영역에 구비된 노내 온도 센서의 검출 온도와 상기 목표 온도와의 차이를 상기 보정치로서 취득하는 온도 보정치 취득 방법.
- 열처리로 내에서 목표 온도가 주어지고, 상기 목표 온도에 따라 복수의 히터를 제어함으로써 반도체를 제조하는 반도체 제조 방법으로서,상기 히터와 상기 열처리로 내에 설치된 복수의 프로파일 온도 센서와의 상관 관계를 구하고, 상기 각 프로파일 온도 센서의 각각의 검출 온도와 상기 상관 관계로부터 산출되는 가중 계수를 토대로 가상 온도를 산출하고,상기 가상 온도를 상기 목표 온도에 일치시키도록 상기 히터를 제어함으로써 상기 반도체를 제조하는 반도체 제조 방법.
- 열처리로 내에서 목표 온도가 주어지고, 상기 목표 온도에 따라 복수의 히터를 제어함으로써 기판을 제조하는 기판 처리 장치로서,상기 히터와 상기 열처리로 내에 설치된 복수의 프로파일 온도 센서와의 상관 관계를 구하고, 상기 각 프로파일 온도 센서의 각각의 검출 온도와 상기 상관 관계로부터 산출되는 가중 계수를 토대로 가상 온도를 산출하는 온도 컨트롤러와,상기 가상 온도를 상기 목표 온도에 일치시키도록 상기 히터를 제어하는 전력 공급 수단을 구비하는 것인 기판 처리 장치.
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