KR20080113206A

KR20080113206A - 광학 글래스용 성형형 및 그것을 사용한 광학 글래스의 프레스 성형법

Info

Publication number: KR20080113206A
Application number: KR1020087021719A
Authority: KR
Inventors: 스나오 미야자끼
Original assignee: 아사히 가라스 가부시키가이샤
Priority date: 2006-03-07
Filing date: 2007-03-06
Publication date: 2008-12-29
Also published as: WO2007102519A1; JPWO2007102519A1; TW200744966A; CN101395092A; US20090001619A1

Abstract

본 발명은 형모재와, 상기 형모재 상에 1 또는 2 이상의 층을 갖는 보호막을 갖는 광학 글래스를 성형하기 위한 금형이며, 상기 보호막의 최표면층이 Al, Ga, In, Tl, Ge, Sn, Pb, As, Sb, Bi, S, Se 및 Te로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 원소를 포함하는 광학 글래스용 성형형, 이 성형형의 제조 방법 및 이 성형형을 사용한 프레스 성형법을 제공한다.

광학 글래스, 챔버, 프레스, 형모재, 유압 실린더

Description

광학 글래스용 성형형 및 그것을 사용한 광학 글래스의 프레스 성형법 {OPTICAL GLASS FORMING MOLD AND METHOD FOR PRESS-FORMING OPTICAL GLASS USING SUCH OPTICAL GLASS FORMING MOLD}

본 발명은 광학 글래스의 성형형, 특히 프레스 성형 후, 연마 공정 등을 필요로 하지 않는 고정밀도의 프레스 성형에 사용되는 광학 글래스용 성형형에 관한 것이다.

최근, 글래스 렌즈 등의 광학 글래스 소자를 프레스 성형하여, 성형면을 연마 등을 하지 않고 그대로 사용하는 정밀 프레스 성형법이 주목받고 있다. 정밀 프레스 성형법에 사용되는 금형은 형상 정밀도, 표면의 평활성에 있어서 고레벨인 것이 요구되는 것 외에, 약 400 내지 800 ℃의 고온에 있어서 광학 글래스와 반응, 밀착하지 않고 이형성이 우수한 것, 내마찰 손상성, 내열성, 내열충격성이 있는 것 등의 양산 시의 내구성이 우수한 것도 요구된다.

이와 같은 광학 글래스형 금형으로서 특허 문헌 1 또는 특허 문헌 2에는 형모재 상에 백금 등의 귀금속 합금으로 이루어지는 표면층을 형성한 것이 제안되어 있으나, 이들 문헌에 기재된 금형은 광학 글래스와 밀착되기 쉬워 이형성이 충분하지 않으므로, 렌즈 등의 광학 글래스 소자가 금형에 견고하게 부착되어 제품을 취 출할 수 없어, 제품 취출 시에 크랙이 발생하는 등의 문제점이 있다.

또한, 특허 문헌 3에는 내마찰 손상성이나 내마모성이 양호한 형으로서 귀금속 합금 중에 0.01 내지 10 질량％의 Zr, Ti 또는 Hf 원소를 첨가한 박막을 코팅한 형이 제안되어 있다. 그러나, 이 문헌에서 제안된 형에서도, Ti 등은 광학 글래스와의 반응성이 높아, 이형성의 점에서는 여전히 문제가 있다.

특허 문헌 1 : 일본 특허 공개 평10-36128호 공보

특허 문헌 2 : 일본 특허 공개 제2001-322827호 공보

특허 문헌 3 : 일본 특허 공보 평1-40780호 공보

본 발명은 이형성과 내구성이 우수한, 정밀 프레스 성형법에 적합한 광학 글래스용 성형형의 제공을 목적으로 한다.

본 발명자들은 상기 과제를 검토하기 위해 예의 검토한바, 이하에 나타내는 광학 글래스용 성형형, 광학 글래스용 성형형의 제조 방법 및 광학 글래스의 프레스 성형법에 의해 상기 목적을 달성할 수 있는 것을 발견하여, 본 발명을 완성하는 것에 이르렀다.

(1) 형모재와, 상기 형모재 상에 1 또는 2 이상의 층을 갖는 보호막을 갖는 광학 글래스를 성형하기 위한 금형이며, 상기 보호막의 최표면층이 Al, Ga, In, Tl, Ge, Sn, Pb, As, Sb, Bi, S, Se 및 Te로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 원소를 포함하는 광학 글래스용 성형형.

(2) 상기 보호막이 2 이상의 층으로 구성되고, 최표면층에 인접하는 층이 귀금속계 원소를 포함하는 (1)에 기재된 광학 글래스용 성형형.

(3) 상기 최표면층이 귀금속계 원소를 포함하는 청구항 1에 기재된 광학 글래스용 성형형.

(4) 상기 최표면층이 Al, Ga, In, Tl, Ge, Sn, Pb, As, Sb, Bi, S, Se 및 Te로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 원소를 1 내지 70 atom％와, 귀금속계 원소를 30 내지 99 atom％를 포함하는 (3)에 기재된 광학 글래스용 성형형.

(5) 상기 귀금속계 원소가 Ir, Re, Os, Pd, Pt, Au, Rh, Ru, Ta 및 W로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 금속 원소로 구성되는 (2), (3) 또는 (4)에 기재된 광학 글래스용 성형형.

(6) 상기 형모재가 초경합금질 또는 탄화규소질인 (1) 내지 (5) 중 어느 하나에 기재된 광학 글래스용 성형형.

(7) 형모재와, 상기 형모재 상에 1 또는 2 이상의 층을 갖는 보호막을 갖는 광학 글래스를 성형하기 위한 금형의 제조법이며, Al, Ga, In, Tl, Ge, Sn, Pb, As, Sb, Bi, S, Se 및 Te로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 원소를 포함하는 글래스를 예비적으로 성형함으로써, Al, Ga, In, T1, Ge, Sn, Pb, As, Sb, Bi, S, Se 및 Te로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 원소를 포함하는 층을 상기 보호막의 최표면층으로서 형성하는 광학 글래스용 성형형의 제조법.

(8) 상형과 하형을 갖는 프레스 성형형을 사용하여 광학 글래스를 프레스 성형하는 방법이며, 상기 상형 또는 상기 하형의 적어도 어느 한쪽이 (1) 내지 (6)의 어느 하나에 기재된 광학 글래스용 성형형인 광학 글래스의 프레스 성형법.

본 발명의 광학 글래스용 성형형(이하, 본형이라고 함)은 형모재와, 상기 형모재 상에 1 또는 2 이상의 층으로 이루어지는 보호막을 갖고, 상기 보호막의 최표면층이 Al, Ga, In, Tl, Ge, Sn, Pb, As, Sb, Bi, S, Se 및 Te로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 원소를 포함한다. 본형은 광학 글래스와의 반응성이 낮기 때문에, 광학 글래스와의 이형성이 현저하게 개선된다. 또한, 상기 원소를 포함함으로써, 성형형으로서의 내마찰 손상성, 내마모성 등의 특성이 향상되어, 내구 시간을 장기화할 수 있다. 또한, 형모재로서 초경합금질 또는 탄화규소질을 채용함으로써, 기계적 특성, 형상 등의 정밀도도 더욱 우수한 성형용 형이 되어, 정밀 프레스 성형법의 적합한 성형용 형을 제공할 수 있다.

도1의 (1) 및 도1의 (2)는 본형의 하형의 단면 개략도.

도2는 실시예에서 사용한 프레스 성형 장치의 단면 개략도.

[부호의 설명]

1 : 형모재

2 : 보호막

3 : 최표면층

10 : 하형

24 : 챔버

25 : 프레스 상축

26 : 프레스 하축

27, 28 : 히터 블럭

29 : 상형

30 : 하형

31 : 피성형물인 광학 글래스

32 : 유압 실린더

본형은 형모재와, 상기 형모재 상에 1 또는 2 이상의 층으로 이루어지는 보호막을 갖는 렌즈 등의 광학 글래스 소자를 성형하기 위한 형이다. 본형은 상기 보호막의 최표면층이 Al, Ga, In, T1, Ge, Sn, Pb, As, Sb, Bi, S, Se 및 Te로 이루어지는 원소군(이하, Al 등의 원소군이라고 생략함)으로부터 선택되는 1종 이상의 원소를 포함하는 것을 특징으로 한다.

여기서, 보호막의 최표면층이란, 성형 시에 광학 글래스와 접하는 면을 포함하는 층을 말하고, 형모재 상의 보호막이 1층으로 이루어지는 경우에는 상기 1층이 최표면층이 되고, 형모재 상의 보호막이 2층으로 이루어지는 경우에는 형모재로부터 세어서 2층째가 최표면층이 된다. 마찬가지로 하여, 보호막이 n층으로 이루어지는 경우에는 형모재로부터 세어서 n층째가 최표면층이 된다. 보호막이 2층 이상으로 이루어지는 경우에는 형모재와 접하는 층, 즉 형모재로부터 세어서 1층째를 형모재와 보호층의 밀착성을 향상시키기 위한 층으로 해도 된다. 이와 같은 층으로서는, Ti를 포함하는 층을 바람직한 것으로서 들 수 있다.

본형의 일례를 도1에 도시한다. 도1은 프레스 성형형의 하형의 종단면도이 다. 도1 중, (1)은 형모재 상의 보호막이 1층으로 이루어지는 경우이고, (2)는 형모재 상의 보호막이 2층으로 이루어지는 경우이다. 도면 중, 부호 1은 형모재를, 2는 보호막을, 3은 보호막의 최표면층을 각각 나타낸다. 도1의 (1)의 경우, 보호막(2)은 보호막의 최표면층(3)이기도 하다.

Al 등 원소군은 광학 글래스와의 반응성이 낮기 때문에, 최표면층에 포함되어 있음으로써, 형에 광학 글래스 소자가 부착되지 않아 이형되기 쉬워진다. 상기 Al 등 원소군 중에서도 Sn, Pb, As, Sb, Bi, Te 원소를 최표면층에 첨가하면, 금형으로부터의 제품의 이형성이 양호하기 때문에 바람직하고, 특히 Bi, Te 원소가 바람직하다.

또한, Al 등 원소군이 최표면층에 포함되어 있음으로써, 최표면층의 경도가 높아져, 성형용 형의 내마찰 손상성이나 내마모성이 현저하게 향상된다. Al 등 원소군 중에서도 Al, Ga, In, Tl, Ge 등은 경도 등의 기계적 특성의 점에서 바람직하다. 최표면층이 Al 등의 원소군으로부터 선택되는 1종 이상의 원소 이외에 귀금속계 원소를 포함하는 것이면, 기계적 특성이 향상되어 바람직하다. 최표면층이 실질적으로 귀금속계 원소와 Al 등의 원소군으로부터 선택되는 1종 이상의 원소로 이루어지는 경우에는 동일한 이유로 더욱 바람직하다. 이 경우에는, 당해 원소의 존재에 의해 최표면층의 귀금속계 원소의 입자가 미세화되고, 그 결과, 보호막의 최표면의 조직이 미세화됨으로써 기계적 특성이 향상되는 것이라고 생각된다. 또한, 여기서, "실질적으로"라고 함은, 귀금속계 원소와 Al 등의 원소와의 합계가 99 atom％ 이상인 것을 의미한다.

상기 최표면층이 실질적으로 귀금속계 원소와 상기 Al 원소군으로부터 선택되는 1종 이상의 원소로 이루어지는 경우에는 최표면층 중, 상기 원소를 1 내지 70 atom％로 하고, 귀금속계 원소를 30 내지 99 atom％로 하는 것이 바람직하다. 상기 원소의 함유량이 1 atom％ 미만이면, 광학 글래스와의 밀착력을 저하시키는 효과나 보호막의 경도를 형성시키는 효과를 충분히 얻을 수 없을 우려가 있다. 상기 원소의 함유량의 하한으로서는, 5 atom％가 바람직하고, 더욱 바람직하게는 10 atom％이다.

한편, 상기 원소의 함유량이 70 atom％를 초과하면, 보호막의 최표면층의 조직이 조대화되어 프레스 성형면의 경면성을 확보할 수 없는 것 외에, 막이 박리되기 쉬워진다. 상기 원소의 함유량의 상한으로서는, 50 atom％가 바람직하고, 40 atom％이면 더욱 바람직하다.

마찬가지로, 귀금속계 원소의 함유량이 99 atom％를 초과하면, 광학 글래스와의 밀착력을 저하시키는 효과나 보호막의 경도를 향상시키는 효과를 충분히 얻을 수 없을 우려가 있다. 귀금속계 원소의 함유량의 상한으로서는, 95 atom％가 바람직하고, 더욱 바람직하게는 90 atom％이다. 한편, 상기 귀금속계 원소의 함유량이 30 atom％ 미만이면, 보호막의 최표면층의 조직이 조대화되어 프레스 성형면의 경면성을 확보할 수 없는 것 외에, 막이 박리되기 쉬워진다. 상기 귀금속계 원소의 함유량의 하한으로서는, 50 atom％가 바람직하고, 60 atom％이면 더욱 바람직하다. 또한, 최표면층을 Al 등의 원소군으로부터 선택되는 1종 이상의 원소를 포함하는 층으로 하고, 그 최표면층에 인접하는 층을 귀금속계 원소로 이루어지는 층으로 한 경우라도, 상기한 최표면층이 실질적으로 귀금속계 원소와 Al 등의 원소군으로부터 선택되는 1종 이상의 원소로 이루어지는 경우와 동일한 효과를 얻을 수 있다.

본형에 있어서, 상기 귀금속계 원소로서는, 주기율표의 제5족 내지 제11족에 속하는 금속 원소이면, 특별히 제한되지 않는다. 상기 귀금속계 원소로서, Ir, Re, Os, Pd, Pt, Au, Rh, Ru, Ta 및 W로 이루어지는 금속 원소군(이하, Ir 등의 금속 원소군이라고 생략함)으로부터 선택되는 1종 이상의 금속 원소이면, 원하는 특성이 균형잡혀 바람직하다. Ir 등 금속 원소군 중에서도 Ir, Re, Pt, Rh, Ru 중 어느 1종 이상을 포함하도록 하면, 성형용 형의 내마찰 손상성이나 내마모성, 내구성의 점에서 바람직하다. 또한, 더욱 바람직하게는 Ir을 포함하도록 하면 된다.

본형에 있어서, 상기 보호막의 형성법으로서는, 특별히 제한되지 않지만, 스패터 타겟을 사용하는 스패터링법, 진공 증착법, 이온 주입법 등을 적합한 방법으로서 들 수 있다.

또한, 형 모재에 귀금속계 원소의 보호막을 부착시킨 형으로, Al 등의 원소군 중의 원소, 예를 들어 Te, Bi 등을 포함하는 글래스를 프레스 성형함으로써, 당해 귀금속계 원소의 층 상에 상기 Te, Bi가 석출된 층 또는 상기 Te, Bi를 포함하는 층을 형성하여, 결과적으로 보호막의 최표면층으로서, Al 등의 원소군 중의 원소가 석출된 층 또는 Al 등의 원소군 중의 원소를 포함하는 층을 귀금속계 원소의 층 등의 위에 형성해도 된다.

본형에 있어서, 형모재로서는, WC를 주성분으로 하는 초경합금질재 또는 SiC를 주성분으로 하는 탄화규소질재를 선택하면, 기계적 특성, 내열성, 경면성, 제작 성 등의 점에서 바람직하다. 또한, 여기서, "주성분으로 하는"이라 함은, 대상으로 하는 성분의 함유량이 80 질량％ 이상인 것을 의미한다.

(실시예)

이하, 본 발명의 실시 형태를, 실시예를 기초로 하여 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이들의 실시예로 한정되는 것이 아니다.

이하에 본 발명의 실시예를 설명한다.

테스트에 사용한 광학 글래스는 붕규산 글래스 SK5[굴절률(n_d) ＝ 1.589, 아베수(ν_d) ＝ 61.2, 전이점(Tg) ＝ 527 ℃, 굴복점 ＝ 567 ℃, 조성은 질량％(이하, 단순히 ％로 생략함)이고, SiO₂ : 44 ％, B₂O₃ : 11 ％, Al₂O₃ : 4 ％, Li₂O : 7 ％, SrO : 16 ％, CaO : 7 ％, BaO : 1 ％, ZnO : 4 ％, ZrO₂ : 4 ％] 및 란탄계 글래스 LaSF03[굴절률(n_d) ＝ 1.806, 아베수(ν_d) ＝ 40.9, 전이점(Tg) ＝ 610 ℃, 굴복점 ＝ 637 ℃, 조성은 SiO₂ : 6 ％, B₂O₃ : 21 ％, WO₃ : 4 ％, BaO : 3 ％, Al₂O₃ : 1 ％, ZnO : 12 ％, ZrO₂ : 4 ％, La₂O₃ : 39 ％, Nb₂O₅ : 10 ％]의 2종류이다.

[실험 A]

평가한 금형의 작성법을 서술한다. 직경 18 ㎜ × 높이 50 ㎜인 초경합금제 원기둥을 가공하여 곡률 반경이 16 ㎜인 오목 형상의 프레스면을 갖는 상하의 형으로 이루어지는 한 쌍의 광학 글래스 렌즈의 프레스 성형용 형으로 하였다. 상기 상형, 상기 하형의 프레스면을 입경 0.1 ㎛인 다이아몬드 지립을 사용하여 경면에 연마한 후, 이 경면에 스패터링법에 의해 보호막의 제1 층으로서 50 ㎚의 두께의 Ti층을 형성한 후, 막 두께가 250 ㎚이고 표1에 나타내는 조성(원소 옆의 숫자는 atom％)의 최표면층을 형성하고, 평가용의 형으로 하였다. 또한, 최표면층의 막 조성은 Ir 타겟 상에 원하는 조성이 되도록 각 금속의 칩을 원하는 매수 둠으로써 제어하였다.

다음에, 이들 형을 사용하여 글래스 광학 소자(렌즈)의 성형을 행하여, 이형성, 코팅막의 박리 등을 평가하였다. 테스트에 사용한 프레스 성형 장치의 단면 개략도를 도2에 도시한다. 도면 중, 부호 24는 챔버, 부호 25는 상축, 부호 26은 하축, 부호 27, 28은 히터를 내장한 블럭(히터 블럭), 부호 29는 상형, 부호 30은 하형, 부호 31은 피성형물인 광학 글래스, 부호 32는 유압 실린더이다. 도2에서는, 피성형물(31)은 성형 후의 렌즈 형상으로서 도시하고 있으나, 성형 전의 재료로서는, 직경 8 ㎜인 연마 볼 프리폼(볼 렌즈)을 사용하였다.

프레스 성형의 순서는 이하와 같다. 챔버(24)를 도시하지 않은 진공 펌프에 의해 진공화한 후, N₂ 가스를 도입하여 챔버(24) 내를 N₂ 분위기로 한 후, 히터 블럭(27, 28)에 의해 상형(29), 하형(30)을 가열하여, 성형하는 글래스의 점도에서 10^-9 dPaㆍs에 대응하는 온도(SK5 : 596 ℃, LaSFO3 : 660 ℃)가 되면, 유압 실린더(32)에 의해 하축(26)을 내리고, 하형(30) 상에 도시하지 않은 오토 핸드에 의해 피성형물(볼 렌즈)을 세트하였다.

그 상태에서의 형 온도에서 3분간 유지한 후, 유압 실린더(32)에 의해 하 축(26)을 상승시키고, 상형(29)과 하형(30)으로 볼 렌즈를 3000 N의 힘으로 1분간 프레스하였다. 그 후, 100 ℃/분으로 냉각하여, 상형, 하형의 온도가 원하는 온도(SK5 : 515 ℃, LaSFO3 : 600 ℃)가 된 시점에서 하형(30)을 하강시켜, 도시하지 않은 오토 핸드에 의해 하형(30) 상의 성형품(31)을 취출하고, 계속하여 도시하지 않은 치환 장치를 통해 성형품(31)을 챔버(24)로부터 취출하였다. 이상을 1 사이클로 하여 1000 샷의 프레스 성형을 행하였다.

예1 내지 예26의 형을 사용하여 성형한 성형품에서는, 성형품(31)에는 크랙 등의 성형 불량은 관찰되지 않고, 또한 금형에도 변화는 관찰되지 않았다.

예27과 예28은 상형(29)과 하형(30)의 최표면층에 Al 등의 원소군이 첨가되어 있지 않은 예이다. 이들의 형을 사용하여 성형한 성형품에는 크랙이 있는 것이 다수 관찰되었다.

예29는 최표면층으로의 Al 등 원소군의 첨가량을 1 atom％ 미만으로 한 예이다. 이 형을 사용하여 성형한 경우에는 이형성의 저하가 관찰되고, 또한 얻어진 성형품에는 크랙이 산발적으로 발생하였다. 그러나, 예27 및 예28과 비교하면, 크랙의 발생률이 낮고, 그 정도도 가벼우므로, 약간 양호라고 판정하였다.

또한, 예30과 예31은 상형(29)과 하형(30)의 최표면층으로의 Al 등의 원소군의 첨가량을 70 atom％ 초과로 한 예이다. 이들의 형을 사용하여 성형한 경우에는, 이형성의 저하는 관찰되지 않았으나, 형 표면의 경면성이 약간 저하되었다. 그러나, 경면성의 저하는 있으나, 얻어진 성형체는 광학 소자로서 사용할 수 없는 레벨은 아니므로, 약간 양호라고 판정하였다.

또한, 상기한 이형성, 경면성, 크랙 발생률에 대해 글래스재에 의한 차이는 인정되지 않았다.

[실험 B]

실험 A와 마찬가지로 하여, 형모재에 보호막의 제1 층으로서 50 ㎚의 두께인 Ti층을 형성한 후, 제2 층으로서 표2에 나타내는 귀금속계 합금막을 스패터링법으로 250 ㎚의 두께로 형성하고, 제3 층, 즉 최표면층으로서, 50 ㎚의 두께로 Bi 및/또는 Te와 귀금속계 원소와의 합금(복합)막을 스패터링으로 성막한 형을 사용하는 것 외에는, 실험 A와 마찬가지로 하여 성형 시험을 실시하였다. 성형 시험 결과를 막 조성과 함께 표2에 예32 내지 예44로서 나타낸다.

[실험 C]

실험 B와 마찬가지로 하여, 제2 층으로서 귀금속계 합금막을 스패터링법으로 250 ㎚의 두께로 형성하였다. 최표면층은 성분으로서 Bi, Te 원소를 포함하는 광학 글래스를 예비적으로 성형함으로써 형성하였다. 구체적으로는, Bi, Te 원소를 표3에 나타내는 양만큼 포함하는 광학 글래스를 직경 8 ㎜의 연마 볼 프리폼으로 하고, 이것을 실험 A와 동일한 프레스 조건으로 예비적으로 5샷 성형하였다. 이 후, 형의 최표면 부분을 ESCA(X선 광전자 분광법)에 의해 분석한바, Bi, Te 원소가 측정 장소에 따라서 편차는 있으나, 합량이 5 내지 80 atom％인 것이 확인되었다. 예비적으로 5샷 성형한 형을 그대로 사용하여, 실험 A와 동일한 성형 실험을 행한 결과를 표3에 예45 내지 예50으로서 나타낸다. 모두 양호한 성형 시험 결과를 얻을 수 있었다.

[실험 D]

실험 C에 있어서, 직경 8 ㎜인 연마 볼 프리폼 대신에, 직경 18 ㎜, 두께 2 ㎜인 2면 연마한 원기둥을 사용하여, 실험 A와 동일한 프레스 조건으로 예비적으로 5샷 성형하는 대신에, 상하형 사이에 끼워서 실질적으로 가압하지 않고 실험 A의 온도 사이클만 예비적으로 3회 행한 것 이외는 실험 C와 마찬가지로 성형 시험을 행하였다. 성형 시험 결과는 모두 양호했다. 또한, 실험 C와 마찬가지로 형의 최표면을 ESCA에 의해 분석한바, 형의 평면 부분에서는 Bi, Te 원소가 합량 5 내지 80 atom％, 형의 곡률이 있는 부분에서는 Bi, Te 원소가 합량 0 내지 5 atom％였다. 곡률이 있는 부분에서 Bi, Te 원소가 적었던 것은 열사이클 시에 글래스가 접촉되어 있지 않고, 약간의 휘발분만이 퇴적된 것에 의한 것이라고 생각된다.

또한, 이 결과로부터, 적어도 형의 평면부를 본형의 막으로 하면 양호한 결과를 얻을 수 있는 것을 알 수 있다. 이는, 외주부에 평면부를 갖는 렌즈를 성형하는 경우, 렌즈의 평면부는 형에 의해 구속되므로 크랙이 발생하기 쉽고, 이 크랙의 발생을 본 발명의 막이 억제하기 때문이다.

[표1]

[표2]

[표3]

본 발명을 상세하고 또한 특정한 실시 형태를 참조하여 설명하였으나, 본 발명의 정신과 범위를 일탈하는 일 없이 다양하게 변경이나 수정을 추가할 수 있는 것은 당업자에게 있어서 명백하다.

본 출원은 2006년 3월 7일 출원의 일본 특허 출원(일본 특허 출원 제2006-061193호)을 기초로 하는 것이고, 그 내용은 여기에 참조로서 도입한다.

본 발명에 의해, 내구성이나 광학 글래스와의 이형성이 우수한 정밀 프레스 성형법에 적합한 광학 글래스용 성형형을 제공할 수 있다. 또한, 본형을 사용하여 광학 글래스를 프레스 성형함으로써, 각종 광학 소자를 성형 후에 연마 등을 하는 일 없이 제조할 수 있으므로, 양산성이 우수하고, 또한 원가면에서도 유리한 광학 소자 제조법을 제공할 수 있다.

Claims

형모재와, 상기 형모재 상에 1 또는 2 이상의 층을 갖는 보호막을 갖는 광학 글래스를 성형하기 위한 금형이며,

상기 보호막의 최표면층이 Al, Ga, In, Tl, Ge, Sn, Pb, As, Sb, Bi, S, Se 및 Te로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 원소를 포함하는 광학 글래스용 성형형.
제1항에 있어서, 상기 보호막이 2 이상의 층으로 구성되고, 최표면층에 인접하는 층이 귀금속계 원소를 포함하는 광학 글래스용 성형형.
제1항에 있어서, 상기 최표면층이 귀금속계 원소를 포함하는 광학 글래스용 성형형.
제3항에 있어서, 상기 최표면층이 Al, Ga, In, Tl, Ge, Sn, Pb, As, Sb, Bi, S, Se 및 Te로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 원소를 1 내지 70 atom％와, 귀금속계 원소를 30 내지 99 atom％를 포함하는 광학 글래스용 성형형.
제2항, 제3항 또는 제4항에 있어서, 상기 귀금속계 원소가 Ir, Re, Os, Pd, Pt, Au, Rh, Ru, Ta 및 W로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 금속 원소 로 구성되는 광학 글래스용 성형형.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 형모재가 초경합금질(superhard alloy material) 또는 탄화규소질인 광학 글래스용 성형형.
형모재와, 상기 형모재 상에 1 또는 2 이상의 층을 갖는 보호막을 갖는 광학 글래스를 성형하기 위한 금형의 제조법이며,

Al, Ga, In, Tl, Ge, Sn, Pb, As, Sb, Bi, S, Se 및 Te로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 원소를 포함하는 글래스를 예비적으로 성형함으로써, Al, Ga, In, Tl, Ge, Sn, Pb, As, Sb, Bi, S, Se 및 Te로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 원소를 포함하는 층을 상기 보호막의 최표면층으로서 형성하는 광학 글래스용 성형형의 제조법.
상형과 하형을 갖는 프레스 성형형을 이용하여 광학 글래스를 프레스 성형하는 방법이며,

상기 상형 또는 상기 하형의 적어도 어느 한쪽이 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 기재된 광학 글래스용 성형형인 광학 글래스의 프레스 성형법.