KR20080098016A

KR20080098016A - 용융 유리의 거품 제거 방법 및 제거 장치, 그리고 유리의제조 방법

Info

Publication number: KR20080098016A
Application number: KR1020087018900A
Authority: KR
Inventors: 미츠루 와타나베; 유타카 구로이와; 모토이치 이가; 세츠로 이토; 야스지 후카사와
Original assignee: 아사히 가라스 가부시키가이샤
Priority date: 2006-05-11
Filing date: 2007-03-14
Publication date: 2008-11-06
Anticipated expiration: 2027-03-14
Also published as: TW200806595A; WO2007132590A1; TWI359797B; CN101437764A; US20090113938A1; KR101042871B1; JPWO2007132590A1; JP5115475B2; US8109118B2; CN101437764B

Abstract

유리 기판 제조시에 있어서의, 용융 유리 표면에 잔존하는 거품이 성형시에 내부로 말려 들어가 내부 거품이 되는 문제를 해결하고, 품질이 좋은 유리 기판을 제공할 수 있음과 함께, 유리 기판의 생산성을 향상시킬 수 있는, 용융 유리 표면에 잔존하는 거품을 효율적으로 제거하는 방법, 거품 제거 장치 및 상기 거품 제거 방법을 사용한 유리의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.

용융 유리 표면의 부유 거품의 제거 방법으로서, 적어도 1 개의 레이저 광선을 용융 유리 표면의 부유 거품에 대해, 소정의 각도로 조사하는 용융 유리의 거품 제거 방법 및 거품 제거 장치를 제공한다.

Description

용융 유리의 거품 제거 방법 및 제거 장치, 그리고 유리의 제조 방법{METHOD AND APPARATUS FOR REMOVING BUBBLE FROM MOLTEN GLASS AND PROCESS FOR PRODUCING GLASS}

본 발명은, 유리 용해시에 발생하는 거품의 제거 방법으로서, 특히 용융 유리 표면에 있는 부유 거품의 제거 방법에 관한 것이다.

종래부터, 유리 기판은 유리 원재료를 고온에서 용융하고, 용융 유리를 충분히 교반한 후, 용융 유리를 평판 형상으로 성형하고, 냉각함으로써 제조되고 있는데, 원재료의 용융시에는 용융 유리 내에 다수의 거품이 발생한다.

종래, 상기 과제를 해결하기 위해, 청징제의 투입, 용융 유리의 교반 또는 버블링 (일본 공개특허공보 2004-91307호, 일본 공개특허공보 평11-349335호 참조) 등에 의한 거품의 부상 및 용융 유리 표면에서의 파포(破泡) 를 촉진하고, 거품을 제거하였다. 그러나, 이러한 수법을 사용해도, 유리의 조성 불균일이나 용융 유리 표면에서 파포되지 않고 잔존하는 거품이 있고, 특히 청징조에서 잔류된 용융 유리 표면의 거품이 성형시에 내부로 말려 들어가 유리 기판 내부에 있어서 결점이 되는 것이 종종 문제로 되어 있다.

특허 문헌 1 : 일본 공개특허공보 2004-91307호

특허 문헌 2 : 일본 공개특허공보 평11-349335호

발명의 개시

발명이 해결하고자 하는 과제

본 발명은, 상기 사정에 감안하여 이러어진 것으로서, 유리 기판 제조시 용융 유리 표면에 잔존하는 거품을 효율적으로 제거하는 방법, 거품 제거 장치 및 상기 거품 제거 방법을 사용한 유리의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 과제를 해결하기 위한 수단

상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명은 용융 유리 표면의 부유 거품의 제거 방법으로서, 적어도 1 개의 레이저 광선을 용융 유리 표면의 부유 거품에 대해 조사하는 것을 특징으로 하는 용융 유리의 거품 제거 방법을 제공한다.

본 발명에 있어서는, 상기 레이저 광선을 용융 유리 표면에 대해 45˚이상으로 조사하는 것이 바람직하다.

또 본 발명에 있어서는, 상기 레이저 광선은 파장이 3 ∼ 11㎛ 인 것이 바람직하다.

또 본 발명에 있어서는, 상기 레이저 광선의 용융 유리 표면의 부유 거품에 있어서의 조사 면적을 상기 부유 거품에서의 상기 레이저 광선 조사부의 에너지 밀도 분포가 최대 1/e² (e 는 자연 로그 베이스. 이하 동일) 가 되는 부분을 연결한 곡선으로 둘러싸이는 부분으로 했을 때, 부유 거품에 조사되는 레이저 광선 조사부의 평균 파워/조사 면적으로 정의되는 레이저 광선의 평균 파워 밀도가 5 ∼ 50,000,000W/㎠ 인 것이 바람직하다.

또 본 발명에 있어서는, 상기 레이저 광선의 부유 거품에 있어서의 상기 조사 면적이 상기 부유 거품의 투사 단면적 이하인 것이 바람직하다.

또 본 발명에 있어서는, 상기 레이저 광선의 반복 주파수가 0.1Hz 이상이며, 또한 상기 레이저 광선을 적어도 0.05초 이상 조사하는 것이 바람직하다.

또 본 발명에 있어서는, 상기 레이저 광선을 용융 유리 표면의 부유 거품에 대해, 속도 200mm/초 이하에서 상대적으로 주사하는 것이 바람직하다.

본 발명은, 적어도 1 개의 레이저 광선을 용융 유리의 표면의 부유 거품에 용융 유리의 표면에 대해 45˚이상으로 조사하는 기구와, 상기 용융 유리의 부유 거품에 대해 상대적으로 레이저 광선을 주사시키는 기구를 구비한 것을 특징으로 하는 용융 유리의 표면의 부유 거품의 제거 장치를 제공한다.

본 발명은, 유리 원재료를 용융시켰을 때 용융 유리 표면에 잔류하는 부유 거품을 상기 용융 유리의 거품 제거 방법으로 제거한 후, 용융 유리를 성형하고, 고화되는 것을 특징으로 하는 유리의 제조 방법을 제공한다.

또 본 발명에 있어서는, 용융 유리를 연속적으로 공급하여 유리판을 제조하는 공정 중에서, 용융 유리 표면의 부유 거품 제거를 실시하는 것이 바람직하다. 발명의 효과

본 발명에 의하면, 용융 유리의 표면에 잔존하는 거품에서 기인되는 결점을 제거할 수 있으므로, 품질이 좋은 유리 기판을 제공할 수 있음과 함께, 유리 기판의 생산성을 향상시킬 수 있다.

도 1 은 본 발명에 관련된 거품 제거 방법을 설명하는 개략 단면도이다.

도 2 는 본 발명에 관련된 거품의 제거 방법을 설명하는 부분 개략 사시도이다.

도 3 은 본 발명에 관련된 거품 제거 방법의 원리를 설명하는 모식도이다.

도 4 는 본 발명에 관련된 거품 제거 장치의 개략 설명도이다.

*부호의 설명*

1 : 용해조 2 : 용융 유리,

3 : 부유 거품 4 : 레이저 광선

6 : 레이저광 도입창 7 : 렌즈

8 : 레이저 광원 9 : 미러

10 : 요동 11 : 파포

12 : 레이저 광선을 주사 시키는 기구

13 : 레이저 광선을 조사하는 기구

14 : 센서

발명을 실시하기 위한 최선의 형태

이하 첨부 도면에 따라, 본 발명의 용융 유리 표면에 잔존하는 거품의 제거 방법 및 제거 장치의 바람직한 실시형태에 대해 상세하게 설명한다.

본 발명에 있어서, 제거하는 용융 유리의 표면에 존재하는 거품은, 그 내포 되는 가스 성분은 특별히 한정되지 않고, 또, 용융 유리를 구성하는 유리 재료도 특별히 한정되지 않는다. 따라서, 본 발명 방법은 거의 모든 유리 재료에 적용 가능하다. 또한, 본 발명에 있어서의 거품의 제거란, 거품의 축소화도 포함되는 것이다.

도 1 은 본 발명에 관련된 거품 제거 방법을 설명하는 개략 단면도이며, 도 2 는 본 발명에 관련된 거품의 제거 방법을 설명하는 부분 개략 사시도이며, 도 3 은 본 발명에 관련된 거품 제거 방법의 원리를 설명하는 모식도이다. 도 1 에 나타내는 바와 같이, 본 발명의 거품 제거 방법은, 용해조 (1) 내에서 용융되어 있는 용융 유리 (2) 표면의 부유 거품 (3) 에 레이저 광원 (8) 에서 발생시킨 레이저 광선 (4) 을 조사한다.

레이저 광선 (4) 은, 레이저 광원 (8) 에서 발생시켜, 레이저광 도입창 (6) 의 상부에 설치된 미러 (9) 로 경로가 변경되고, 렌즈 (7) 를 통과하여 원하는 레이저 광선 (4) 의 단면을 형성시키고, 용해조 (1) 에 설치된 레이저광 도입창 (6) 을 통하여 용융 유리 (2) 표면의 거품에 조사된다.

용해조 (1) 는 고온이므로, 레이저 광원 (8) 은 용해조 (1) 의 온도의 영향을 받지 않는 장소에 설치하거나, 냉각 장치를 구비하는 것이 바람직하다. 또한, 용해조 (1) 의 상부에 설치된 레이저광 도입창 (6) 으로부터의 방열이나 레이저광 도입창 (6) 의 메인티넌스를 고려하여, 레이저 광원 (8) 은, 출력인 레이저 광선 (4) 을 직접 용해조 (1) 내에 조사하지 않고, 레이저광 도입창 (6) 의 상부에 설치된 미러 (9) 를 통하여 조사할 수 있는 위치에 설치하는 것이 바람직하다.

미러 (9) 는 금 코트 미러가 바람직하지만, 레이저광 도입창 (6) 으로부터의 방열의 영향을 받기 어렵고, 반사에 의한 레이저 광선 (4) 의 파워 저하가 부유 거품 (3) 의 파포에 필요한 파워를 확보할 수 있는 것이면 특정되는 것은 아니고, 레이저 광원 (8) 의 설치 각도와 조사부 (4) 의 설치 각도에 맞추어 조정할 수 있는 기구를 구비하고 있는 것이 바람직하다. 게다가 용융 유리 (2) 표면의 임의의 위치의 부유 거품 (3) 에 조사 위치를 맞출 수 있는 각도 조정 기구를 구비하고 있는 것이 바람직하다.

렌즈 (7) 는, 레이저 광원 (8) 에서부터의 레이저 광선 (4) 을, 원하는 레이저 광선 (4) 에 형성할 수 있고, 또한, 원하는 레이저 출력을 부유 거품 (3) 의 위치에서 얻을 수 있으면, 그 형상, 재질은 특정되지 않는다. 또, 그 구성은 초점 거리에 맞추어 1 장이어도 되고, 복수장이어도 된다.

레이저광 도입창 (6) 의 재질은, 방사열에 의한 영향을 받기 어렵고, 또한 적외선 투과 재료인 셀렌화 아연 (ZnSe) 이 바람직하지만, 저펄스 주파수의 레이저 광선을 흡수하기 어렵고, 투시성이 양호하면 재질이 특정되는 것은 아니다. 또, 레이저광 도입창 (6) 은 용해조 (1) 의 분위기를 유지하면서, 용해조 (1) 의 내부에 레이저 광선 (4) 을 조사할 수 있으면 되지만, 용해조의 구조 상, 레이저 광선 조사부가 개방되어 있어도 문제가 없으면 생략할 수 있다.

레이저 광선 (4) 은, 용융 유리 (2) 의 표면에 대한 각도 A 가 45˚ 이상이 되도록 조사된다. 용융 유리 (2) 의 표면에 대한 조사의 각도 A 가 45˚보다 작으면 용융 유리 (2) 의 표면에 있어서의 레이저 광선 (4) 의 단면이 지나치게 커 져, 원하는 폭으로 할 수 없게 될 우려가 있으므로, 각도 A 는 45˚이상인 것이 바람직하고, 55˚이상으로 조사하는 것이 보다 바람직하다.

도 3 에 나타내는 바와 같이, 본 발명 방법에 의한 거품 제거의 원리는 다음과 같이 생각된다. 도 3 의 (a) 에 나타내는 바와 같이, 레이저 광선 (4) 을 용융 유리 (2) 표면의 부유 거품 (3) 에 조사하면, 부유 거품 (3) 의 거품벽이 레이저 광선 (4) 을 흡수하여 부유 거품 (3) 은 부분적으로 온도 상승이 야기된다. 그 때문에 도 3 의 (b) 에 나타내는 바와 같이, 부유 거품 (3) 의 거품 벽면에 유리 온도, 밀도 및 표면 장력 등의 요동 (10) 이 국소적으로 발생한다. 도 3(c) 에 나타내는 바와 같이, 부유 거품 (3) 은 그 요동 (10) 을 기점으로 하여 파포 (11) 가 발생한다. 부유 거품 (3) 의 부분적인 요동 (10) 이나 파포 (11) 는, 용융 유리 (2) 가 용융 온도 이상이며, 또 용융 유리 (2) 의 소지 표면적에 대해 무시할 수 있을 정도로 작기 때문에, 유리 (2) 의 성형이나 고화시에도 용융 유리 (2) 에 악영향을 주지 않는다.

레이저 광선 (4) 은, 파장이 3 미크론 이상 11 미크론 이하인 것이 바람직하다. 파장이 3 미크론보다 짧으면 용융 유리 (2) 의 표면에 잔존하는 부유 거품 (3) 의 용융 유리 (2) 의 거품벽이 레이저 광선 (4) 을 흡수하지 않아, 부유 거품 (3) 의 거품 벽면을 충분히 가열하지 않을 우려가 있다. 또, 11 미크론보다 긴 경우, 레이저 장치의 입수가 곤란하여 현실적이지 않다.

도 2 에 나타내는 바와 같이, 레이저 광선 (4) 의 용융 유리 (2) 표면의 부유 거품 (3) 에 있어서의 조사 면적 (S4) 을, 부유 거품 (3) 에 있어서의 레이저 광선 (4) 의 단면의 에너지 밀도 분포가 최대 1/e² 가 되는 부분을 연결한 곡선으로 둘러싸이는 면으로 했을 때, 레이저 광선 (4) 이 조사되는 조사부의 평균 파워/조사 면적으로 정의되는 평균 파워 밀도가 5 ∼ 50,000,000W/㎠ 인 것이 바람직하다. 평균 파워 밀도가 5W/㎠ 에 도달하지 않는 경우, 부유 거품 (3) 에 충분한 요동 (10) 을 주지 못하여, 파포되지 않을 우려가 있기 때문에 바람직하지 않다. 평균 파워 밀도가 50,000,000W/㎠ 를 초과하는 경우, 레이저 광선 (4) 이 용융 유리 (2) 에 지나치게 흡수되어 용융 유리 (2) 로부터의 휘산이 야기되고, 유리의 조성 불균일 등의 원인이 되어 바람직하지 않다. 평균 파워 밀도는 10 ∼ 20,000W/㎠ 인 것이 보다 바람직하다.

레이저 광선 (4) 의 부유 거품 (3) 에 있어서의 조사 면적 (S4) 이, 부유 거품 (3) 의 투사 단면적 (S3) 즉 투영 면적보다 작아지도록 레이저 광선 (4) 을 조사하는 것이 바람직하다. 레이저 광선 (4) 의 조사 면적 (S4) 이 부유 거품 (3) 의 투사 단면적 (S3) 보다 커지면, 거품 벽면에 국소적인 요동을 야기하는 것이 곤란해져, 파포되지 않을 우려가 있어 바람직하지 않다.

부유 거품 (3) 의 직경 (D3) 은, 50mm 이하인 것이 바람직하다. 직경 (D3) 이 50mm 를 초과한 부유 거품 (3) 은 본 발명의 거품 제거 방법을 사용하지 않아도 거품 자체로 파포되므로, 직경 (D3) 이 50mm 이하인 부유 거품 (3) 에 사용하는 것이 효율적이다.

레이저 광선 (4) 은, 발진 형태도 특별히 한정되지 않는다. 연속 발진광 (CW 광) 또는 펄스 발진광, 연속 발진광의 변조광 (연속 발진광을 ON/OFF 로 변조하여 주기적으로 강도 변화를 준다) 중 어느 것이어도 되지만, 0.1Hz 이상의 레이저 광선을 0.05초 이상 조사하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 0.2초 이상 조사하는 것이다. 특히는, 발진 파장 10.6㎛ 의 광선이 가장 일반적인 CO₂ 레이저가 바람직하고, 이 파장 영역의 레이저 광선 (4) 을 조사했을 경우, 부유 거품 (3) 에 레이저 광선 (4) 이 거의 흡수되어, 레이저 광선 (4) 을 조사한 부유 거품 (3) 의 일부분의 온도를 국소적으로 상승시킬 수 있다. 또, 0.1Hz 이상의 연속파 레이저 광선을 0.05초 이상 조사함으로써, 레이저 광선 (4) 의 조사 면적 (S4) 이 부유 거품 (3) 의 투사 단면적 (S3) 보다 커도, 부유 거품 (3) 을 파포시킬 수 있다.

레이저 광선 (4) 이 펄스 발진광인 경우, 펄스폭은 600msec 이하인 것이 바람직하다. 펄스폭이 짧으면 보다 국소적인 강한 요동을 부유 거품 (3) 에 부여되므로, 펄스폭은 200msec 이하인 것이 보다 바람직하다.

본 발명의 방법에서는, 레이저 광선 (4) 을 용융 유리 (2) 표면의 부유 거품 (3) 에 대해, 속도 200mm/초 이하에서 상대적으로 주사함으로써 바람직하게 파포될 수 있다. 적어도 0.1Hz 이상의 레이저 광선 (4) 을 0.05초 이상 조사함으로써 부유 거품 (3) 이 파포되므로, 레이저 광선 (4) 이 펄스 발진광인 경우, 0.1Hz 이상의 레이저 광선 (4) 이 0.05초 이상 부유 거품 (3) 에 조사가 이루어지는 펄스 주파수와 스캔 속도를 사용하는 것이 바람직하다. 또, 0.1Hz 이상의 레이저 광 선 (4) 이 0.05초 이상 부유 거품 (3) 에 조사가 이루어지는 펄스 주파수와 스캔 속도를 사용함으로써, 레이저 광선 (4) 의 조사 면적 (S4) 이 부유 거품 (3) 의 투사 단면적 (S3) 보다 커도, 부유 거품 (3) 을 파포시킬 수 있다.

또, 본 발명의 거품 제거 방법은, 용융 유리 (2) 를 연속적으로 공급하여 유리를 제조하는 라인 중에서, 연속적으로 용융 유리 (2) 표면의 부유 거품 (3) 을 제거할 수 있다. 그 때, 청징제의 투입, 소포제의 거품층에 대한 살포, 용해조 (1) 에서의 버블러 사용, 청징조의 감압, 청징조 출구에서의 스터러 사용 등 다른 탈포 수단과 병용하면 보다 효과가 높다. 본 발명의 거품 제거 방법은 감압 조건 하의 용해조 (1) 에 있어서 사용되는 것이 바람직하다.

도 4 는, 본 발명에 관련된 거품 제거 장치의 개략 설명도이다. 도 4 에 나타내는 바와 같이, 본 발명의 거품 제거 장치는, 적어도 1 개의 레이저 광선 (4) 을 용융 유리 (2) 표면의 부유 거품 (3) 에 대해 조사하는 기구 (13) 와, 상기 용융 유리 (2) 의 부유 거품 (3) 에 대해 상대적으로 레이저 광선 (4) 을 주사시키는 기구 (12) 를 구비하고 있다. 본 발명의 거품 제거 장치는, 청징조의 출구 및 성형 공정, 예를 들어 플로트법에 있어서의 유리판 성형용 배스의 입구 등, 용융 유리 (2) 중의 거품이 상승하여, 표면에 집중되어 있는 장소에 사용하는 것이 바람직하고, 감압 탈포의 하강관의 상단부 등과 같이 용융 유리 (2) 가 하류를 향해 좁은 폭으로 흐르는 곳이 특히 바람직하다. 또한, 용융 유리 (2) 가 하류로 흐르는 폭이 넓은 곳에서는, 용융 유리 (2) 의 표층부에 가이드를 붙여 부유 거품 (3) 을 모으는 것, 및 레이저 광선 (4) 을 복수 구비하는 것이 바람직하다.

또, 용융 유리 (2) 를 연속적으로 공급하여 유리를 제조하는 라인 중에서 본포 제거 장치를 사용하는 경우, 용융 유리 (2) 의 부유 거품 (3) 을 자동적으로 검지할 수 있는 센서 (14) 를 병용하고, 이 센서 (14) 의 정보를 기초로 레이저 광선 (4) 을 조사하는 장치 구성, 용융 유리 (2) 가 하류로 흐르는 폭에 대해 복수의 레이저 광선 (4) 을 용융 유리 (2) 의 폭 방향으로 커튼 형상으로 설치하여 조사하는 장치 구성, 또, 용융 유리 (2) 가 하류로 흐르는 폭에 대해 레이저 광선 (4) 을 상기 폭 방향으로 스캐닝하여 조사하는 장치 구성이 바람직하다.

이하, 실시예에 의해 본 발명을 더욱 상세하게 해설한다.

유리 원재료를 용융하고, 용융 유리를 감압 조건 하 (210mmHg (128kPa)) 의 용해조 내로 통과시키고, 이어서 용융 유리를 유리판 성형 공정으로 공급하고, 유리 기판 (상품명 AN100, 아사히 가라스 주식회사 제조) 을 제조하는 공정에 있어서, 도 4 에 나타내는 거품 제거 장치를 사용하여 상기 용해조 내의 용융 유리 표면의 부유 거품에 대해 탄산 가스 (CO₂) 레이저 (파장은 10.6㎛) 로 레이저 광선을 조사하였다. 또한, 본 실시예에 있어서, 거품의 검지는 용해조에 장착된 내부 관찰용창 (도시 생략) 을 통과시켜, 내부 관찰용 창의 외부에 장착된 카메라에 의해 실시하였다. 조사할 때는, 레이저 광선을 상기 용융 유리 표면의 부유 거품에 대해 조사부가 원형상 단면이 되도록 조사하였다. 그 때의 조건을 이하 및 표 1 에 나타낸다. 또한, 레이저 광선의 용융 유리의 표면에 대한 조사 각도 A 는 70˚로 하였다.

부유 거품의 직경 (투사 단면에 있어서의 직경) : B (mm)

부유 거품에 있어서의 조사부 직경 : C (mm)

부유 거품의 투사 단면적 : S3 (㎟)

부유 거품에 있어서의 조사 면적 : S4 (㎟)

레이저 광선 발진 형태 : 타입 1 펄스 발진광

(이하, 발진 형태라고도 한다)(반복 주파수 1Hz, 펄스폭 200msec)

: 타입 2 의사 연속 발진광 (CW 광)

레이저 광선 평균 파워 : P (W)

레이저 광선의 평균 파워 밀도 : Q (W/㎠)

레이저 광선 상대 주사 속도 : U (mm/sec)

테스트의 결과, 레이저 광선 조사 후 실시예 1, 2 에서는 0.16초, 실시예 3 에서는 0.1초, 실시예 4 에서는 0.13초, 실시예 5, 6 에서는 0.12초로 거품을 제거할 수 있었다. 실시예 7 에서는, 레이저 광선 조사 후 12초이고 부유 거품은 파포된 것과, 0.4mm 까지 축소되었지만 파포되지 않은 것이 잔존하였다. 이에 대해, 비교예 1 은 종래와 같이 용해 공정으로서, 부유 거품은 파포되지 않고 잔존하였다. 또한, 본 실시예는 감압 조건 하 (210mmHg) 의 용해조에서의 것인데, 상압의 용해조 내의 용융 유리 표면의 부유 거품에 대해, 레이저 광선을 조사해도 동일한 효과가 얻어진다.

본 발명의 방법은, 유리 내부의 거품에서 기인되는 결점이 문제가 되는 유리판에 널리 적용할 수 있다. 그 중에서도, 액정 디스플레이, 플라즈마 디스플레이, 유기 EL 디스플레이, 필드이미션디스플레이와 같은 플랫패널디스플레이용 유리 기판에 바람직하다.

또, 본 발명 방법은 플로트법, 퓨전법 또는 다운드로법 등의 유리 제조 방법의 공정 중에서 사용할 수 있다.

또한, 2006년 5월 11일에 출원된 일본 특허 출원 2006-132406호의 명세서, 특허 청구 범위, 도면 및 요약서의 전체 내용을 여기에 인용하고, 본 발명의 명세서의 개시로서 받아들이는 것이다.

Claims

용융 유리 표면의 부유 거품의 제거 방법으로서, 적어도 1 개의 레이저 광선을 용융 유리 표면의 부유 거품에 대해 조사하는 것을 특징으로 하는 용융 유리의 거품 제거 방법.
제 1 항에 있어서,

상기 레이저 광선을 용융 유리 표면에 대해 45˚이상으로 조사하는 것을 특징으로 하는 용융 유리의 거품 제거 방법.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,

상기 레이저 광선은, 파장이 3 ∼ 11㎛ 인 것을 특징으로 하는 용융 유리의 거품 제거 방법.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,

상기 레이저 광선의 용융 유리 표면의 부유 거품에 있어서의 조사 면적을, 상기 부유 거품에 있어서의 상기 레이저 광선 조사부의 에너지 밀도 분포가 최대 1/e² (e 는 자연 로그 베이스) 가 되는 부분을 연결한 곡선으로 둘러싸이는 부분으로 했을 때, 부유 거품에 조사되는 레이저 광선 조사부의 평균 파워/조사 면적으로 정의되는 레이저 광선의 평균 파워 밀도가 5 ∼ 50,000,000W/㎠ 인 것을 특징으로 하는 용융 유리의 거품 제거 방법.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,

상기 레이저 광선의 부유 거품에 있어서의 상기 조사 면적이, 상기 부유 거품의 투사 단면적 이하인 것을 특징으로 하는 용융 유리의 거품 제거 방법.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,

상기 레이저 광선의 반복 주파수가 0.1Hz 이상이며, 또한 상기 레이저 광선을 적어도 0.05초 이상 조사하는 것을 특징으로 하는 용융 유리의 거품 제거 방법.
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,

상기 레이저 광선을 용융 유리 표면의 부유 거품에 대해, 속도 200mm/초 이하에서 상대적으로 주사하는 것을 특징으로 하는 용융 유리의 거품 제거 방법.
용융 유리의 표면의 부유 거품의 제거 장치로서, 적어도 1 개의 레이저 광선을 용융 유리의 표면의 부유 거품에 용융 유리의 표면에 대해 45˚이상으로 조사하는 기구와, 상기 용융 유리의 부유 거품에 대해 상대적으로 레이저 광선을 주사시키는 기구를 구비한 것을 특징으로 하는 용융 유리의 거품 제거 장치.
유리 원재료를 용융시켰을 때 용융 유리 표면에 잔류하는 부유 거품을 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 기재된 용융 유리의 거품 제거 방법으로 제거한 후, 용융 유리를 성형, 고화시키는 것을 특징으로 하는 유리의 제조 방법.
제 9 항에 있어서,

용융 유리를 연속적으로 공급하여 유리판을 제조하는 공정 중에서, 용융 유리 표면의 부유 거품 제거를 실시하는 것을 특징으로 하는 유리의 제조 방법.