KR20080082135A - 난연제용 수산화마그네슘 입자와 그 제조방법 및표면처리방법 - Google Patents

난연제용 수산화마그네슘 입자와 그 제조방법 및표면처리방법 Download PDF

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Abstract

난연제용으로 사용되는 경제성이 우수한 수산화마그네슘 입자와 그 제조방법 및 표면처리방법이 제공된다.
이 수산화마그네슘 입자는 입도가 0.2~5.0㎛, 평균 입도가 1.0~1.5㎛, 비표면적이 3~8㎡/g 의 범위 내에 있고, 또한 산화마그네슘의 수화에 의해 생성된 다면상의 결정형태를 갖는다.
본 발명에 따르면, 낮은 제조비용으로 수산화마그네슘 입자를 제공할 수 있고, 이와 같이 제조된 수산화마그네슘은 고무 및 플라스틱 등에 난연제로 적용될 수 있다.
수산화마그네슘 입자, 산화마그네슘, 난연제, 수화반응, 표면처리

Description

난연제용 수산화마그네슘 입자와 그 제조방법 및 표면처리방법{A particle of magnesium hydroxide for flame retardant and the method for manufacturing the same, the method for surface treating the particle of magnesium hydroxide}
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 수산화마그네슘 입자의 입도분포도이다.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 수산화마그네슘 입자의 전자현미경(SEM) 사진이다.
일본 공개특허공보 제2000-233924호
국내 공개특허공보 제2001-0086246호
본 발명은 난연제용으로 사용되는 경제성이 우수한 수산화마그네슘 입자에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 제조비용이 저렴한 수산화마그네슘 입자와 그 제조방법 및 표면처리방법에 관한 것이다.
수산화마그네슘 입자는 널리 알려져 있으며, 의약용, 공업용으로서 넓은 분야에서 사용되고 있다. 예컨대, 의약용으로서는 제산제, 사하제 및 동물용 약제 등이 있으며, 공업용으로서는 열가소성 수지에 배합하여 이 수지에 난연성을 부여하는 난연제, 함유폐수용 흡착제, 배연탈황제, 배수중화제 및 토질개량제 등이 있다.
일반적으로 수산화마그네슘 입자의 제조방법도 다양하여, 예컨대 마그네슘 이온을 함유하는 마그네슘염 용액으로서 간수 또는 염화마그네슘염 용액 등을 사용하고 알칼리 용액으로서 가성소다, 암모니아수, 석회 등과 침전반응시켜 사용하는 방법; 브루사이트광(Brucite)의 정제나 천연산 마그네사이트를 소성, 수화하여 생성시키는 방법; 탈탄산 해수와 소석회의 치환반응에 의해 생성시키는 방법; 및 산화마그네슘을 수성매체와 수화반응시켜 사용하는 방법 등이 있다.
그러나, 브루사이트광의 정제나 천연산 마그네사이트를 소성, 수화하여 생성시키는 방법은 순도가 낮아 난연제로서 사용되기에 한계가 있고, 탈탄산 해수와 소석회의 치환반응에 의해 생성한 수산화마그네슘 입자는 수지와의 분산성이 좋지 않아 이 또한 사용하기 어려운 단점을 가지고 있다.
수산화마그네슘 입자를 제조하는 대표적인 종래기술로는 일본 공개특허공보 제2000-233924호 및 국내 공개특허공보 제2001-0086246호가 있다. 상기 종래기술들은 염화마그네슘과 알칼리물질을 수성매체 중에서 반응시켜 수산화마그네슘 입자를 제조하는 것으로서, 상기 반응은 첨가제로서 유기산, 붕산, 규산 및 이들의 수가용성 염으로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1종의 화합물을 염화마그네슘에 대하여 0.01~150몰% 첨가하여 실시하고 있다. 또한, 이러한 수산화마그네슘 입자가 난연제용으로 사용 가능한 입자의 특성을 갖기 위해서 120~200℃ 온도와 2~10kgf/㎠의 고압에서 30분~8시간 동안 수열처리함으로써 입자 형태, 크기 및 분포를 제어하고 있는데, 이러한 공정을 거친 수산화마그네슘 입자는 그 특성이 우수하나 제조공정이 복잡하고 반응도가 낮아 생산성이 저하되며 반응으로 생성된 수산화마그네슘 입자 이외의 불순물처리를 위한 비용 및 수열처리를 위한 다량의 에너지가 소요되어 그 제조비용이 높은 단점을 가지고 있다.
또한, 수지와 분산성을 향상시키기 위해 수산화마그네슘을 포함한 무기계 입자의 표면처리는 크게 건식법 또는 습식법에 의해 실시될 수 있다. 건식법은 수산화마그네슘 입자를 무중력 혼합기에 의해 충분히 교반하에서 표면처리제를 액상, 에멀젼상, 고형상으로 첨가하여 가열 또는 비가열하에서 충분히 혼합하면 된다. 습식법은 수산화마그네슘 입자의 슬러리에 표면처리제를 액상 또는 에멀젼상으로 첨가하여 일정 온도 이상에서 기계적으로 충분히 혼합하면 된다. 습식법은 건식법에 비해 입자의 코팅 균일성이 우수하여 수산화마그네슘 입자의 분산성을 향상시키므로 난연제용 수산화마그네슘 입자의 표면처리에 적합하다.
수산화마그네슘 입자를 표면처리하는 대표적인 종래기술로는 국내 공개특허 공보 제2001-0086246호가 있다. 상기 종래기술은 수산화마그네슘 입자에 고급지방산류, 음이온계 계면활성제, 인산에스테르류, 커플링제 및 다가알코올과 지방산의 에스테르류로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1종의 표면처리제를 사용하여 표면처리하고 있다.
일반적으로 비수용성 물질인 지방산은 물에 용해되지 않기 때문에 유기용매를 사용하여 용해 후 표면처리를 실시하고 있는데, 유기용매는 물에 비해 고비용이 요구되어 표면처리 공정에 대한 경제성을 저하시킨다. 또한, 지방산 대신 수용성 물질인 지방산 염을 이용하여 물에 용해 후 표면처리를 실시하는 방법이 이용되고 있으나, 이는 수지성형물의 기계적인 물성을 저하시키는 단점을 가지고 있다.
본 발명은 상기한 종래의 문제점을 개선하기 위한 것으로, 수열처리를 실시하지 않고서도 산화마그네슘, 첨가제 및 수화반응을 제어하여 제조함에 의해 수열처리에 요구되는 높은 에너지 비용을 절감시켜 제조비용을 낮추고 얻어진 수산화마그네슘을 적절하게 표면처리함에 의해 난연성을 향상시킨 수산화마그네슘 입자와 그 제조방법 및 표면처리방법을 제공하는데, 그 목적이 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명은 입도가 0.2~5.0㎛, 평균 입도가 1.0~1.5㎛, 비표면적이 3~8㎡/g 의 범위 내에 있고, 또한 산화마그네슘의 수화에 의해 생성된 다면상의 결정형태를 갖는 난연제용 수산화마그네슘 (Mg(OH)₂) 입자 에 관한 것이다.
또한, 본 발명은 산화마그네슘(MgO)을 325 메시 이하의 입도로 분쇄하는 단계;
분쇄된 산화마그네슘과 물을 혼합하여 얻어진 혼합 용액에 무기산 또는 마그네슘염을 첨가하여 수화시키는 단계;를 포함하여 이루어지는 난연제용 수산화마그네슘 입자의 제조방법에 관한 것이다.
또한, 상기에 기재된 수산화마그네슘 입자를 물에 분산시켜 슬러리를 제조하는 단계;
상기 제조된 슬러리를 승온하여 유지하는 단계; 및
상기 수산화마그네슘 슬러리에 표면처리제로서 탄소수가 10개 이상의 지방산유와 계면활성제를 첨가하고 혼합하여 표면처리하는 단계;를 포함하여 이루어지는 난연제용 수산화마그네슘 입자의 표면처리방법에 관한 것이다.
이하, 본 발명을 상세하게 설명한다.
본 발명자들은 수열처리에 요구되는 높은 에너지 비용을 절감시켜 제조비용을 최소화할 수 있는 난연제용 수산화마그네슘 입자 및 그 제조방법을 연구하던 중 수산화마그네슘 입자의 원료인 산화마그네슘을 적절히 제어하고, 첨가제로서 무기산 또는 마그네슘염을 첨가하여 물과 수화반응시키면 높은 에너지 비용을 요구하는 수열처리를 실시하지 않고서도 난연제로서의 특성을 갖는 수산화마그네슘 입자를 확보할 수 있다는 것을 실험을 통해 확인하고, 그 실험결과에 기초하여 본 발명을 완성하게 된 것이다.
또한, 본 발명은 수산화마그네슘 입자에 표면처리제와 계면활성제를 첨가하는데 있어서 물에 용해시킨 후 적절하게 표면처리함에 의해 난연성이 우수한 수산화마그네슘 입자를 제조할 수 있는 표면처리방법을 제공한다. 먼저, 본 발명의 다면상의 결정형태를 갖는 수산화마그네슘 입자에 대하여 설명한다.
본 발명의 수산화마그네슘 입자는, 레이저 입도분석을 통해 측정된 입도가 0.2~5.0㎛, 평균 입도가 1.0~1.5㎛ 인 것이 바람직하다. 도 1에는 본 발명의 일실시예에 따른 수산화마그네슘 입자의 입도분포도를 나타낸다. 도 1에 나타난 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 수산화마그네슘 입도는 0.2~5.0㎛ 범위 내에 있으며, 입도가 0.2㎛ 보다 작은 경우에는 수지와 혼합되었을 때 응집에 의한 분산성 저하가 발생될 수 있는 반면, 5.0㎛ 보다 클 경우에는 물성뿐만 아니라 전반적인 품질을 저하시킬 수 있다. 또한, 평균 입도가 1.0~1.5㎛ 인 것이 바람직하다.
또한, 본 발명의 수산화마그네슘 입자의 BET 법에 의한 비표면적(B)은 3~8㎡/g 인 것이 바람직하고, 산화마그네슘의 수화에 의해 생성된 다면상의 결정형태를 갖는다. 도 2에는 본 발명의 일실시예에 따른 수산화마그네슘 입자의 전자현미 경 (SEM) 사진을 나타낸다. 다면상이란 동일한 원자배열을 가진 결정면이 하나의 입자에 여러방향으로 생성되어 존재하는 것으로 하나의 형태인 판상, 주상, 구상으로 규정할 수 없는 임의적이고 복합적인 결정형태를 말한다.
본 발명의 수산화마그네슘 입자는, (1) 입도 (2) 평균 입도 (3) 비표면적 및 (4) 결정형태가 모두 상기 범위를 만족하는 것이 바람직하다.
이하, 본 발명의 수산화마그네슘 입자의 제조방법에 대하여 설명한다.
먼저, 산화마그네슘을 325 메시 이하로 미세하게 분쇄한다. 분쇄는 산화마그네슘을 미세하게 분쇄할 수 있는 방법이면 어느 것이든 적용할 수 있다. 수화반응을 위한 산화마그네슘 원료가 325 메시 이상의 입도를 가질 경우에는, 수화반응을 통해서 100%의 수산화마그네슘 입자 생성이 어려울 수 있고 생성된 수산화마그네슘 입자 크기도 5.0㎛를 초과하는 입자들이 생성되어 난연제용으로 적합하지 않다.
이어, 미세하게 분쇄된 산화마그네슘을 물과 혼합하여 얻어진 혼합 용액에 첨가제로서 무기산 또는 마그네슘염을 첨가하여 수화시킨다. 산화마그네슘과 물의 혼합비에는 특별한 제한이 없으나 산화마그네슘과 물을 혼합하여 얻어진 슬러리의 농도가 10~35% 범위가 되도록 한다. 수화반응시의 슬러리 농도가 10% 미만의 경우에는 경제성이 저하되는 반면, 35%를 초과하는 경우에는 고농도화에 의해 생성된 수산화마그네슘의 입도가 5.0㎛를 초과하는 입자들이 생성되어 난연제용으로 부적 합할 수 있다.
상기 첨가제로서 무기산 또는 마그네슘염은 상기 혼합 용액에 첨가하여 수화 속도를 촉진시키는 것으로서, 수화반응은 산화마그네슘과 물과의 반응을 통해 수산화마그네슘이 형성되는 반응으로 이때, 무기산은 산화마그네슘의 표면을 용해하여 활성화시키고 그로 인해 물과의 반응성이 증대됨으로써 수화속도가 촉진되는 것이다. 또한, 마그네슘염의 경우에는 포함된 마그네슘이온이 수산화마그네슘 결정생성의 핵으로 작용하여 수화속도를 촉진시킨다.
또한, 상기 첨가제가 0.5중량% 미만인 경우에는 100% 수산화마그네슘 입자가 생성되지 않고 미반응 산화마그네슘이 잔존할 가능성이 있는 반면, 30중량%를 초과하는 경우에는 과량의 첨가제에 의해 경제성이 저하될 뿐만 아니라 무기산의 경우 산화마그네슘이 용해되고 수산화마그네슘 입자가 생성되지 않으며, 마그네슘염의 경우에는 생성된 입자의 입도가 요구특성을 만족하기 어려울 수 있다.
상기 무기산으로는 염산, 질산, 황산 등이 바람직할 수 있고, 마그네슘염으로는 마그네슘 이온함량이 10~30wt%인 간수 또는 염화마그네슘 용액이 바람직할 수 있다. 이러한 첨가제를 포함하여 생성된 수산화마그네슘 입자 이외의 불순물들은 세정공정을 통해 쉽게 제거될 수 있다.
또한, 수산화마그네슘 입자를 제조하기 위한 원료로서 산화마그네슘(MgO)은 소성온도에 의한 반응성 차이로 인하여 그 용도가 활성MgO(500~700℃), 하소MgO(700~1000℃), 경소MgO(1000~1400℃), 사소MgO(1500~1800℃), 전융MgO(2000℃이상)로 나뉜다. 즉, 산화마그네슘은 수화반응하여 수산화마그네슘 입자를 제조하기 위한 원료로서 소성온도가 낮아 반응성이 우수한 활성MgO, 하소MgO, 경소MgO는 수산화마그네슘 입자의 원료로서 부적합할 수 있다. 이러한 원료들은 높은 반응성으로 인해 수화반응 온도가 60℃보다 낮은 온도에서도 수산화마그네슘 입자의 생성이 가능하나 입도가 0.2㎛ 미만의 입자들이 다량 생성되고 비표면적이 증가하여 입자의 표면장력에 의한 뭉침현상이 발생되어 2차입도를 생성함으로써 입도특성이 불균일해지는 문제점이 있다.
따라서, 수화반응만으로 상기 특성의 수산화마그네슘 입자를 제조하기 위해서 본 발명에서는 반응성이 낮은 사소MgO와 전융MgO를 사용하는 것이 바람직하며, 즉 소성온도 1500℃ 이상에서 열처리된 산화마그네슘을 이용하는 것이 바람직하다.
또한, 본 발명의 산화마그네슘의 화학적 순도는 MgO 함량이 높을수록 좋으나 97wt% 이상의 것이면 난연제로서 적용가능하다.
상기 수화반응은 60~100℃의 범위내의 온도와 상압에서, 1~4시간 교반함으로써 수행됨이 바람직하다. 60℃ 미만, 유지시간이 1시간 미만의 조건의 경우에는 미 반응된 산화마그네슘 입자가 확인되는 반면, 온도 100℃ 및 유지시간 4시간을 초과하는 경우에는 이미 수산화마그네슘 입자 생성이 100% 완료되기 때문에 온도 및 유지시간을 증가시켜도 입자특성에 영향을 미치지 않는다.
이러한 수화반응 공정을 통해 생성된 수산화마그네슘 입자를 수세, 여과, 건조 공정을 통해 난연제용 수산화마그네슘 분말을 얻을 수 있다. 상기 수세, 여과, 건조 공정은 통상의 수산화마그네슘 분말의 제조에서 적용되는 방법을 이용할 수 있다.
이하, 본 발명의 난연제용 수산화마그네슘 입자의 표면처리방법에 대하여 상세히 설명한다.
본 발명에서는 상기에서 제조된 수산화마그네슘 입자를 이용하여 습식 표면처리공정을 실시하는 것으로서, 먼저, 상기 수산화마그네슘 입자를 물에 분산시켜 슬러리를 제조한다.
수산화마그네슘과 물의 혼합비에는 특별한 제한이 없으나 물에 분산시킨 수산화마그네슘 슬러리의 농도가 10~30wt% 범위가 바람직할 수 있다. 상기 슬러리 농도가 10wt% 미만인 경우 비경제적이고 30wt%를 초과하는 경우에는 슬러리 분산이 잘 되지 않아 표면처리가 불균일하게 이루어질 수 있다.
이어, 상기 제조된 슬러리를 승온하여 유지한다.
상기 승온 및 유지온도는 70~100℃가 바람직하다. 70℃ 미만인 경우에는 표면처리제의 재석출이 일어날 수 있고, 100℃를 초과하는 경우에는 표면처리시 슬러리내 거품이 심하게 발생하여 코팅이 불균일해질 수 있다.
상기 수산화마그네슘 슬러리에 표면처리제와 계면활성제를 첨가하고 혼합하여 표면처리한다.
이때, 표면처리제와 계면활성제는 물에 투입한 후 70℃ 이상에서 용해시켜 수산화마그네슘 슬러리에 투입되고, 본 발명에서 표면처리제는 탄소수가 10개 이상의 지방산유를 이용하며, 상기 지방산유는 물과 친화성이 없어 단독으로 사용할 수 없으므로 계면 활성제와 함께 이용되는 것이다. 또한, 상기 지방산유는 스테아린산, 에루크산, 팔미틴산, 라우린산, 올레인산, 베헨산을 포함하는 그룹에서 선택된 적어도 1종을 이용할 수 있고, 상기 계면활성제는 술포숙신산(sulfosuccinic acid) 에스테르계 물질을 이용할 수 있다.
상기 표면처리제의 첨가량은 상기 수산화마그네슘의 양에 대하여 1~10wt% 범위가 바람직하다. 1 wt% 미만인 경우에는 수산화마그네슘 입자의 코팅량이 부족하여 수지와의 분산성이 저하되어 가공성, 작업성, 신율이 저하될 수 있는 반면, 10wt%를 초과하는 경우에는 비경제적이고 기계적인 물성 특히 인장 강도가 떨어지고 난연성이 저하될 수 있다.
또한, 표면처리제와 혼합사용하는 계면활성제의 첨가량은 표면처리제의 양에 대하여 0.5~5.0wt%가 바람직하다. 0.5wt% 미만인 경우 표면처리제와 물의 혼합성이 떨어질 수 있고, 5.0wt%를 초과하는 경우에는 비경제적일 수 있다. 또한, 표면처리 시간은 1~3시간이 바람직하다. 상기 표면처리 시간이 1시간 미만인 경우에는 균일하게 코팅되기 어려울 수 있는 반면, 3시간을 초과하는 경우에는 비경제적일 수 있다. 따라서, 상기 표면처리 시간은 1~3시간이 바람직하다.
이하, 본 발명을 실시예를 통하여 보다 구체적으로 설명한다.
[실시예]
(발명예)
산화마그네슘 함량이 97%이상이고 325메시 체를 통과한 사소MgO 분말 10kg을 상온의 물 30리터에 투입하여 25%농도의 슬러리를 제조하였다. 여기에 15wt% 마그네슘이온 농도를 가진 염화마그네슘 용액을 물 양에 대하여 5wt%인 1.5리터 첨가하여 교반하였다. 상기 슬러리를 교반하면서 열을 가하여 2시간 내에 90℃까지 승온한 뒤 온도를 4시간 동안 유지하여 수화반응시켜 수산화마그네슘 입자를 얻었다.
상기 공정에서 얻어진 수산화마그네슘 입자는 형상이 다면상이고 입도가 0.2~5.0㎛, 평균입도가 1.3㎛, 비표면적이 6㎡/g의 특성을 나타내었다. 또한, 상기 입자를 통상의 방법으로 여과, 수세, 건조하여 얻어진 수산화마그네슘 분말의 입도분포도는 도 1에 나타내었고, 전자현미경(SEM)사진은 도 2에 나타내었다.
이러한 수산화마그네슘 입자 10kg의 습식 표면처리를 위해 상기 수산화마그네슘의 양에 대하여 3wt%인 스테아린산 300g과 스테아린산 양에 대하여 1.5wt%인 술포숙신산 에스테르계 계면활성제 4.5g을 1리터의 물에 투입 후 78~83℃ 용해시켜 미리 분산시킨 수산화마그네슘 슬러리 분산액에 투입하였다. 이후, 80℃, 1시간 동안 교반함으로써 표면처리를 실시한 후 통상의 방법으로 여과, 150℃에서 24시간 건조하여 수산화마그네슘 입자를 제조하였다.
(비교예)
염화마그네슘 용액과 가성소다의 수열합성반응으로 생성된 수산화마그네슘 입자는 모서리가 둥근 육각판상의 결정형태를 갖고, 입자크기는 0.5~3.0㎛, 비표면적은 5㎡/g, 불순물 함량에 있어 철과 망간화합물의 함량이 0.02wt% 이하의 것을 사용하여 상기와 같은 표면처리 공정을 실시하여 입자를 제조하였다.
상기 수산화마그네슘 입자의 입도와 평균입도는 레이저 입도분석 장치를 사용하고 물을 용매로 사용하였고, 비표면적은 BET법으로 액체질소 흡착법에 의해 측정되었다.
표면처리가 완료된 발명예 및 비교예의 수산화마그네슘 입자를 이용하여 폴리에틸린계 및 폴리프로필렌계 수지와 혼합하여 수지성형물을 제조한 후 기계적인 물성 및 산소지수를 측정하였다. 기계적 물성(상온에서 인장강도 및 신율)과 산소지수는 수지 100파트, 수산화마그네슘 입자 100파트, 가공 조제 5파트를 투-롤(Two-Roll)를 이용하여 130~140℃ 30분간 혼합 후 프레스하여 160℃, 5분 동안 프레스를 이용하여 두께 1㎜ 시트를 제작한 후 ASTM D 638에 의하여 기계적인 물성을 측정하였고, 산소지수는 같은 방법으로 두께 3㎜ 시트를 제작한 후 ASTM D 2863 의하여 측정하였으며, 산소 지수를 통해 간접적으로 난연성을 평가하였다. 그 결과는 하기 표 1과 같다.
구분 제조비용지수(%) 인장강도(kgf/㎠) 신율(%) 산소지수
발명예 100 1.12 550 32
비교예 120 1.15 570 32.5
상기 제조비용지수는 발명예의 제조 원단가를 100으로 하여 비교예의 원단가를 비율로 나타낸 것임
상기 표 1에 나타난 바와 같이, 본 발명의 범위를 만족하는 발명예의 경우 비교예 대비 동등한 수준의 기계적 물성 및 난연성을 갖는 수산화마그네슘 입자를 상대적으로 저렴한 제조비용으로 제조할 수 있음을 잘 알 수 있다.
상술한 바와 같이, 본 발명에 따르면 낮은 제조비용으로 수산화마그네슘을 제공할 수 있으며, 이와 같이 제조된 수산화마그네슘은 고무 및 플라스틱 등에 난연제로 적용될 수 있다.

Claims (9)

  1. 입도가 0.2~5.0㎛, 평균 입도가 1.0~1.5㎛, 비표면적이 3~8㎡/g 의 범위 내에 있고, 또한 산화마그네슘의 수화에 의해 생성된 다면상의 결정형태를 갖는 난연제용 수산화마그네슘(Mg(OH)₂) 입자.
  2. 산화마그네슘(MgO)을 325 메시 이하의 입도로 분쇄하는 단계;
    분쇄된 산화마그네슘과 물을 혼합하여 얻어진 혼합 용액에 무기산 또는 마그네슘염을 첨가하여 수화시키는 단계;를 포함하여 이루어지는 난연제용 수산화마그네슘 입자의 제조방법.
  3. 제 2항에 있어서, 상기 산화마그네슘은 소성온도 1500℃ 이상에서 열처리되고, 화학적 순도가 97wt% 이상인 것임을 특징으로 하는 난연제용 수산화마그네슘 입자의 제조방법.
  4. 제 2항에 있어서, 상기 수화가 60~100℃의 범위내의 온도와 상압에서, 1~4시간 교반함으로써 수행되는 것을 특징으로 하는 난연제용 수산화마그네슘 입자의 제조방법.
  5. 제 2항에 있어서, 상기 무기산 또는 마그네슘염의 첨가량은 상기 물의 양에 대하여 0.5~30중량% 범위인 것을 특징으로 하는 난연제용 수산화마그네슘 입자의 제조방법.
  6. 청구항 1에 기재된 수산화마그네슘 입자를 물에 분산시켜 슬러리를 제조하는 단계;
    상기 제조된 슬러리를 승온하여 유지하는 단계; 및
    상기 수산화마그네슘 슬러리에 표면처리제로서 탄소수가 10개 이상의 지방산유와 계면활성제를 첨가하고 혼합하여 표면처리하는 단계;를 포함하여 이루어지는 난연제용 수산화마그네슘 입자의 표면처리방법.
  7. 제 6항에 있어서, 상기 지방산유는 스테아린산, 에루크산, 팔미틴산, 라우린산, 올레인산, 베헨산을 포함하는 그룹에서 선택된 적어도 1종이고, 상기 계면활성제는 술포숙신산(sulfosuccinic acid) 에스테르계 물질임을 특징으로 하는 난연제용 수산화마그네슘 입자의 표면처리방법.
  8. 제 6항에 있어서, 상기 표면처리제의 첨가량은 상기 수산화마그네슘의 양에 대하여 1~10wt% 범위이고, 상기 계면활성제의 첨가량은 상기 표면처리제의 양에 대하여 0.5~5wt% 범위인 것을 특징으로 하는 난연제용 수산화마그네슘 입자의 표면처리방법.
  9. 제 6항에 있어서, 상기 승온 및 유지 단계는 60~100℃의 범위내의 온도이고, 상기 표면처리 시간은 1~3시간 동안 행함으로써 수행되는 것을 특징으로 하는 난연제용 수산화마그네슘 입자의 표면처리방법.
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