KR20080072462A - 감광성 유기물, 이의 도포 방법, 이를 이용한 유기막 패턴형성 방법, 이로써 제조되는 표시 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 대형 기판 상에의 도포에 적합하도록 도포 균일도가 향상되고 얼룩 발생을 방지하도록 하는 감광성 유기물, 이의 도포 방법, 이를 이용한 유기막 패턴 형성 방법, 이로써 제조되는 표시 장치에 관한 것으로서, 폴리실록산 수지의 혼합 고분자 수지와, 감광성 화합물과, 유기 용매를 포함하여, 대형 기판 상에의 도포에 적합하면서 도포 균일도가 향상되고 뭉게 얼룩, 수지 얼룩 등의 얼룩 발생을 방지함과 동시에 스핀리스 코팅으로 도포 속도가 향상되며, 최종 제품의 품질을 향상시킬 수 있도록 할 수 있다.
감광성 유기물, PR, 스핀리스 코팅, 폴리실록산 수지

Description

감광성 유기물, 이의 도포 방법, 이를 이용한 유기막 패턴 형성 방법, 이로써 제조되는 표시 장치{Photo-resist composition, coating method thereof, method for patterning of organic film using the same and display device fabricated thereby}
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 감광성 유기물의 도포 방법에 사용되는 스핀리스 코팅 장치의 일 예를 나타낸 사시도,
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 감광성 유기물을 사용한 유기막 패턴이 형성되는 박막 트랜지스터의 단위셀을 도시한 평면도,
도 3은 도 2의 A-A'선을 따라 취한 단면도,
도 4a는 본 발명의 실시예에 따른 유기막 패턴을 형성하는 방법 중 유기막 형성 단계 구조물의 단면도,
도 4b는 본 발명의 실시예에 따른 유기막 패턴을 형성하는 방법 중 유기 용매 증발 단계 구조물의 단면도,
도 4c는 본 발명의 실시예에 따른 유기막 패턴을 형성하는 방법 중 노광 단계 구조물의 단면도,
도 4d는 본 발명의 실시예에 따른 유기막 패턴을 형성하는 방법 중 현상 단계 구조물의 단면도,
도 4e는 본 발명의 실시예에 따른 유기막 패턴을 형성하는 방법 중 경화 단계 구조물의 단면도.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
101...기판, 200...노즐부,
300...구동부, 503,503',503"...유기막.
본 발명은 감광성 유기물, 이의 도포 방법, 이를 이용한 유기막 패턴 형성 방법, 이로써 제조되는 표시 장치에 관한 것으로서, 더 상세하게는 대형 기판 상에의 도포에 적합하도록 도포 균일도가 향상되고 얼룩 발생을 방지하도록 하는 감광성 유기물, 이의 도포 방법, 이를 이용한 유기막 패턴 형성 방법, 이로써 제조되는 표시 장치이다.
액정 표시 장치(Liquid Crystal Display; LCD)는 현재 널리 사용되고 있는 평판 표시 장치 중 하나로서, 화소 전극이 형성된 박막 트랜지스터 기판과 공통 전극이 형성된 컬러 필터 기판이 상호 대향되고, 그 사이에 액정층이 삽입되어 구성된다. 이러한 액정 표시 장치는 화소 전극과 공통 전극에 전압을 인가하여 액정층의 액정 분자들을 재배열시킴으로써 액정층에 투과되는 빛의 양을 조절하는 방식으로 화상을 표시한다.
최근 들어, 대형화된 액정 표시 장치의 수요가 증가함에 따라 기판의 대형화 가 필연적으로 요구되고 있으며, 이러한 추세에 따라 대형 기판에 형성하기에 적합한 도포 균일도 특성을 가지는 새로운 감광성 유기물의 개발이 요구되고 있다.
도포 균일도는 기판상에 도포된 유기막 두께의 균일 정도를 의미하며, 이는 후공정에서 개구율, 해상도, 회로 선폭 등에 영향을 미치게 된다. 미세한 두께 차이에 의한 반사율의 차이로 인해 유기막에 결함이 생기게 되고 이는 최종 제품에서 그대로 발현되는 불량을 나타내게 된다.
또한, 대형화된 액정 표시 장치의 제조에 있어서, 롤 코팅, 스핀 코팅, 슬릿 & 스핀 코팅 등의 종래의 감광성 유기물 도포방법은 대형 기판을 도포하기에는 역부족이며, 특히 스핀 코팅에서는 스핀 모터 내구성 측면에서 불가능하다할 수 있다.
대형 기판을 위한 도포 장치로서 슬릿 노즐 코팅 장치가 제시되고 있다. 이러한 장치를 사용하게 되는 경우 기존의 스핀 방식과는 상이하게 감광성 유기물의 소모량을 저감시킬 수 있고 기판 능각(edge)에 발생되는 감광성 유기물의 결집을 제거하기 위해 수행하는 EBR(Edge Bead Removing)이 요구되지 않는다는 장점이 있으나, 기존의 스핀 코팅에서는 발생하지 않는 수지(suji) 얼룩과 스핀 코팅에서도 발생되는 뭉게 얼룩 등이 야기된다.
수지 얼룩은 노즐로부터 토출되는 감광성 유기물의 도포가 시작되는 기판의 기단부에서 감광성 유기물의 기판 진입의 불균일성 또는 토출양 불균일성 등으로 야기되는 소얼룩과 도포가 진행되는 방향의 중심에서 도포 진행의 기단에서 종료에 이르기까지 발생되는 대얼룩으로 구분된다.
뭉게 얼룩은 기판 전면적에 걸쳐 야기될 수 있는 것으로 두께 불균일에서 주로 야기된다.
이와 같은 얼룩은 공정 전체에 걸쳐 불량율을 상승시키고 최종 제품의 품질을 저하시킨다. 따라서, 대형 기판을 도포하기에 적합하고 고투과율과 고감도의 특성을 동시에 만족시키는 새로운 감광성 유기물이 요구되는데, 종래 사용되던 폴리아크릴레이트계 수지로는 이러한 고투과율과 고감도의 특성에 대해 재료적 한계를 나타내고 있는 바, 이를 대체할 신규한 조성의 감광성 유기물이 요구되고 있다.
본 발명은 전술한 종래의 문제점들을 해결하기 위해 창안된 발명으로, 대형 기판 상에의 도포에 적합하면서 도포 균일도가 향상되고 수지 얼룩, 뭉게 얼룩 등의 얼룩 발생을 방지하도록 함과 동시에 스핀리스 코팅으로 도포 속도가 향상되며, 최종 제품의 품질을 향상시킬 수 있도록 하는 감광성 유기물, 이의 도포 방법, 이를 이용한 유기막 패턴 형성 방법, 이로써 제조되는 표시 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.
상술된 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 감광성 유기물은, 폴리실록산 수지의 혼합 고분자 수지와, 감광성 화합물과, 유기 용매를 포함한다.
여기서, 고분자 수지는 중량 평균 분자량이 500 이상 20000 이하이며, 고분자 수지의 함량은 10~30 중량%이다.
이때, 감광성 유기물의 점도는 1~25 cps 이다.
폴리실록산 수지는 하기 화학식 1 또는 하기 화학식 2로 표시될 수 있다.
[화학식 1]
Figure 112007010412605-PAT00001
여기서, R1, R2, R3 및 R4 중 적어도 하나 이상은 알킬기(CnH2n +1, n은 1~5)이다.
[화학식 2]
Figure 112007010412605-PAT00002
여기서, R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8, R9, R10 및 R11 중 적어도 하나 이상은, H, CmH2m +1, -OH, -OCmH2m +1, 아크릴계 관능기, 하기 분자식 1의 관능기 및 하기 분자식 2의 관능기 중 어느 하나이고, m은 1~5이다.
[분자식 1]
Figure 112007010412605-PAT00003
단, n은 자연수이다.
[분자식 2]
Figure 112007010412605-PAT00004
또한, 감광성 화합물은 디아지드계이며, 그 함량은 1~10 중량%, 바람직하게는 5 중량%이하이다.
이때, 디아지드계 감광성 화합물은 테트라하이드록시 벤조페논, 2-디아조-1-나프톨-5-술폰산, 폴리하이드록시 벤조페논 및 1,2-나프토퀴논디아지드로 구성되는 일 군에서 선택되어지는 적어도 2 이상을 반응시켜 제조되며, 테트라하이드록시 벤조페논과 2-디아조-1-나프톨-5-술폰산을 에스테르화 반응시켜 제조되는 것이 바람 직하다.
또한, 디아지드계 감광성 화합물은 2,3,4,4'테트라하이드록시벤조페논-1,2-나프토퀴논디아지드-5-설포네이트, 디아조나프토퀴논술포닉에스테르 및 2,3,4-트리하이드록시 벤조페논-1,2-나프토퀴논디아지드-5-설포네이트로 구성되는 일 군에서 적어도 하나 이상을 포함할 수 있으며, 하기 화학식 3으로 표시되는 물질 또는 하기 화학식 4로 표시되는 물질일 수 있다.
[화학식 3]
Figure 112007010412605-PAT00005
여기서, R1은 H, CxHy, 하기 분자식으로 이루어진 DNQ로 구성되는 일 군에서 선택되어지는 어느 하나이며, m 및 n은 각각 1~3이다.
[분자식 3]
Figure 112007010412605-PAT00006
[화학식 4]
Figure 112007010412605-PAT00007
여기서, D는 분자식 3으로 이루어진 DNQ이다.
또한, 유기 용매의 함량은 60 중량% 이상 90 중량% 이하이며, 유기 용매는 아세테이트계, 락테이트계, 프로피오네이트계 및 에테르계로 구성되는 일 군에서 선택되어지는 어느 하나 이상일 수 있다.
여기서, 유기 용매는 4-하이드록시-4-메틸-2-펜타논, 프로필렌글리콜메틸에테르, 에틸아세토 아세테이트, 에틸아세토락테이트, 에틸셀루솔브-아세테이트, 감마-부티로락톤, 2-메톡시에틸아세테이트, 에틸베타-에톡시프로피오네이트, 노말프로필아세테이트, 노말부틸아세테이트로 구성되는 일 군에서 선택되어지는 적어도 하나 이상일 수 있으며, 바람직하게는, 4-하이드록시-4-메틸-2-펜타논, 프로필렌글리콜메틸에테르 및 에틸아세토 아세테이트의 혼합물이다.
더욱이, 감광성 유기물에 착색제, 염료, 찰흔방지제, 가소제, 접착 촉진제 및 계면활성제로 구성되는 일 군에서 선택된 적어도 하나 이상의 첨가제가 더 포함 되고, 첨가제는 고분자 수지보다 분자량이 더 작은 것이 바람직하다.
이때, 계면활성제는 Si계 또는 F계이며, 그 함량은 500 ppm 이상 4000 ppm 이하인 것이 바람직하다.
본 발명에 따른 감광성 유기물의 도포 방법은, 폴리실록산 수지의 혼합 고분자 수지와, 감광성 화합물과, 유기 용매를 포함하는 감광성 유기물을 기판 상에 스핀리스 코팅법으로 도포하는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명에 따른 감광성 유기물의 도포 방법은, 폴리실록산 수지의 혼합 고분자 수지와, 감광성 화합물과, 유기 용매를 포함하는 감광성 유기물을 도포장치의 저장부에 저장하는 단계와, 저장된 감광성 유기물을 도포장치의 노즐을 통하여 기판 상에서, 그의 어느 일 변에서부터 토출하는 단계 및 토출되는 감광성 유기물을 기판의 일 변에서부터 이와 대향하는 타 변으로까지 주사하면서 연속적으로 도포하는 단계를 포함한다.
본 발명에 따른 유기막 패턴 형성 방법은, 폴리실록산 수지의 혼합 고분자 수지와, 감광성 화합물과, 유기 용매를 포함하는 감광성 유기물을 기판 상에 도포하는 단계 및 기판 상에 도포된 감광성 유기물을 패터닝하는 단계를 포함한다.
여기서, 기판은 박막 트랜지스터 기판일 수 있다.
또한, 패터닝 단계는, 기판에 형성된 감광성 유기물을 감압 건조하는 단계와, 감압 건조된 감광성 유기물을 소프트 베이크하는 단계와, 소프트 베이크된 감광성 유기물을 선택적으로 노광하는 단계와, 선택적으로 노광된 감광성 유기물을 현상하는 단계 및 현상된 감광성 유기물을 경화하는 단계를 포함한다.
이때, 현상 단계는 노광된 감광성 유기물이 도포된 기판을 알칼리 수산화물, 수산화암모늄 및 테트라메틸암모튬 하이드록사이드로 구성되는 일 군에서 선택되는 적어도 하나 이상의 알칼리성 현상 수용액에 침지하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 표시 장치는, 폴리실록산 수지의 혼합 고분자 수지와, 감광성 화합물과, 유기 용매를 포함하는 감광성 유기물을 도포하여 형성된 유기막을 포함한다.
이하, 본 발명의 실시예에 따른 감광성 유기물을 상세히 설명한다.
본 발명의 실시예에 따른 감광성 유기물은, 폴리실록산 수지의 혼합 고분자 수지와, 감광성 화합물과, 유기 용매를 포함한다.
감광성 유기물에 포함되는 고분자 수지는 중량 평균 분자량 500~20000의 것으로서, 감광성 유기물에 10~30 중량%의 함량으로 첨가되며, 고분자 수지의 첨가로 인한 감광성 유기물의 점도는 1~25 cps를 유지하도록 한다.
점도가 1 cps 미만일 경우에는, 요구되는 점도 보다 더 낮아서 측방향으로 유동하는 측유동 현상이 우세하여 원하는 두께만큼의 감광성 유기물을 도포할 수가 없고, 25 cps를 초과하는 경우에는 과다한 점도로 인하여 측유동 운동이 저해되므로 균일도가 저하된다.
이러한 고분자 수지로 폴리실록산 수지가 이용될 수 있으며, 하기 화학식 1에 폴리실록산 수지의 일 예로서 실록산기가 부가중합되고 한 끝에 히드록시기가 연결된 유기물을 예로 들 수 있다.
Figure 112007010412605-PAT00008
여기서, R1, R2, R3 및 R4 중 적어도 하나 이상은 알킬기(CnH2n +1, 이때, n은 1~5)이며, -OH 나 H 또는 아크릴계 관능기일 수도 있다.
더 상세하게는, 폴리실록산 수지는 하기 화학식 2의 구조를 가질 수도 있다.
Figure 112007010412605-PAT00009
여기서, R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8, R9, R10 및 R11 중 적어도 하나 이상은, H, CmH2m +1, -OH, -OCmH2m +1, 아크릴계 관능기, 하기 분자식 1의 관능기 및 하기 분자식 2의 관능기 중 어느 하나일 수 있으며, 바람직하게는, R1, R2 및 R4는 H 또는 CmH2m +1, R3 및 R5는 -OH 또는 -OCmH2m +1, R6 는 하기 분자식 1의 관능기 또는 하기 분자식 2의 관능기, R7, R8, R9, R10 및 R11은 H, CmH2m +1 또는 -OCmH2m +1이다. 이때, 상기 m은 1~5이다.
[분자식 1]
Figure 112007010412605-PAT00010
단, n은 자연수이다.
[분자식 2]
Figure 112007010412605-PAT00011
상기 화학식 1 또는 화학식 2로 표시되는 폴리실록산 수지는 중량 평균 분자량이 500~20000이며, 감광성 유기물에 10~30 중량%의 함량으로 첨가될 시에, 감광 성 유기물의 점도를 1~25 cps로 유지할 수 있다.
폴리실록산 수지는, 일반적으로 사용되는 아크릴레이트계 수지보다 잔막율이 더 높고 투과율이 더 높다는 장점이 있다.
하기 표 1에 감광성 유기물에 첨가되는 고분자 수지의 종류에 따른 잔막율, 감도 및 투과율을 나타내었다. 폴리실록산 수지가 첨가되는 감광성 유기물은 본 발명의 실시예에 따른 것이고, 폴리아크릴레이트 수지가 첨가되는 감광성 유기물은 시판되는 제품의 물성을 나타낸 것이다.
첨가되는고분자 수지 폴리실록산 수지 폴리아크릴레이트 수지
잔막율 [%] 98 이상 89.5~95
감도 [mJ/㎠] 60 이하 83~110
투과율 [%] 97 이상 89~93
표 1에 나타난 바와 같이, 감광성 유기물에 폴리실록산 수지가 첨가되는 경우, 폴리아크릴레이트 수지가 첨가되는 경우보다 잔막율 및 투과율이 더 높으며, 감도의 경우는 거의 2배 정도 차이가 나므로, 이를 첨가하여 감광성 유기물로 사용시에 더 우수한 물성을 가진다.
감광성 화합물(또는 감광제)은 디아지드계 화합물이 사용되며, 이 디아지드계 화합물은 감광성 유기물에 1~10 중량%의 함량으로 첨가되고, 바람직하게는 5 중량%이하로 첨가된다.
디아지드계 감광성 화합물의 함량이 1 중량% 미만이면 감광속도가 지둔하게 되어 공정시간이 과도하게 소모되고, 함량이 10 중량%를 초과하면 감광속도가 과다하게 빨라지게 되면서 잔막률의 심한 저하로 차후 공정에서의 수득율이 문제되며, 좀 더 안정된 공정과 생산수율의 절충을 감안하면 5 중량% 이하로 첨가되는 것이 바람직하다.
이러한 디아지드계 감광성 화합물은 테트라하이드록시 벤조페논, 2-디아조-1-나프톨-5-술폰산, 폴리하이드록시 벤조페논, 1,2-나프토퀴논디아지드로 구성되는 일 군에서 선택되어지는 적어도 2 이상을 반응시켜 제조할 수 있다.
이와 같이 제조된 감광성 화합물은, 2,3,4,4'테트라하이드록시벤조페논-1,2-나프토퀴논디아지드-5-설포네이트, 디아조나프토퀴논술포닉에스테르 및 2,3,4-트리하이드록시 벤조페논-1,2-나프토퀴논디아지드-5-설포네이트로 구성되는 일 군에서 적어도 하나 이상을 포함할 수 있다.
바람직하게는, 테트라하이드록시 벤조페논과 2-디아조-1-나프톨-5-술폰산을 에스테르화 반응시켜 제조된 2,3,4,4'테트라하이드록시벤조페논-1,2-나프토퀴논디아지드-5-설포네이트를 감광성 화합물로서 사용한다.
상기 디아조나프토퀴논술포닉에스테르는 2,1-디아조나프토퀴논-5-술포닉 클로라이드와 다양한 폴리페놀 화합물 또는 다양한 하이드록시 화합물과의 반응에 의해 부분적 에스테르화 반응 또는 모든 하이드록시기와 반응할 수 있는 완전한 에스테르화 반응에 의해서 얻을 수 있다. 이러한 에스테르화 반응은 트리알킬아민 예를 들어 트리메틸아민, 트리에틸아민 또는 소듐카보네이트 또는 소듐 바이카보네이트와 같은 염기 촉매의 존재하에서 아세톤, 다이옥산, N-메틸피롤리돈, 또는 이들의 혼합용매를 사용하여 효과적으로 반응을 진행시킬 수 있다.
또한, 감광성 화합물의 일 예로서, 하기와 같은 화학식 3으로 표시되는 유기물이 사용될 수도 있다.
Figure 112007010412605-PAT00012
여기서, R1은 H, 탄화수소기, 하기 분자식 3으로 이루어진 DNQ로 구성되는 일 군에서 선택되어지는 어느 하나이며, 상기 m 및 n은 각각 1~3이다.
[분자식 3]
Figure 112007010412605-PAT00013
상기와 같은 분자식으로 표시되는 디아조나프토퀴논(DNQ; Diazonaphtoquinone)은 감광성 효과를 가진 화합물로서, 후술될 노광 단계에서 광반응에 의해 이후의 현상 단계에서 용해되는 가용성 수지가 되도록 한다.
또한, 감광성 화합물의 다른 예로서, 하기와 같은 화학식 4로 표시되는 유기물이 사용될 수도 있다.
Figure 112007010412605-PAT00014
여기서, D는 상기 분자식 3으로 이루어진 DNQ이다.
유기 용매는 감광성 유기물에 60 이상 90 이하의 중량%로 첨가되며, 아세테이트계, 락테이트계, 프로피오네이트계 및 에테르계 중 어느 하나 이상으로 구성될 수 있다.
또한, 유기 용매로 구성될 수 있는 물질은, 4-하이드록시-4-메틸-2-펜타논(DAA), 프로필렌글리콜메틸에테르(PGME), 에틸아세토 아세테이트(ACAC), 에틸아세토락테이트(EL), 에틸셀루솔브-아세테이트(EDM), 감마-부티로락톤(GBL), 2-메톡시에틸아세테이트(MMP), 에틸베타-에톡시프로피오네이트(EEP), 노말프로필아세테이트(nPAC), 노말부틸아세테이트(nBA)로 구성되는 일 군에서 선택되어지는 적어도 하나 이상일 수 있으며, 바람직하게는, 4-하이드록시-4-메틸-2-펜타논(DAA), 프로필렌글리콜메틸에테르(PGME) 및 에틸아세토 아세테이트(ACAC)의 혼합물이다.
여기서, 노말프로필아세테이트(nPAC), 노말부틸아세테이트(nBA), 에틸아세토 아세테이트(ACAC) 및 에틸셀루솔브-아세테이트(EDM)는 아세테이트계이며, 에틸아세토락테이트(EL)는 락테이트계이고, 2-메톡시에틸아세테이트(MMP) 및 에틸베타-에톡시프로피오네이트(EEP)는 프로피오네이트계이며, 프로필렌글리콜메틸에테르(PGME)는 에테르계이다.
상기와 같은 다수의 유기 용매를 상호 혼합할 시에, 어느 하나의 유기 용매는 5 내지 95의 중량비로 혼합되고, 타 유기 용매는 나머지 중량비로 혼합될 수 있다.
이와 같은 유기 용매 또는 혼합된 유기 용매가 60 중량% 미만으로 혼합될 시에는 점도가 높아서 감광성 유기물의 균일한 도포에 어려움이 따르고, 90 중량%를 초과할 시에는 점도가 낮아서 도포 특성, 특히 두께를 달성하기가 어려워진다.
본 발명의 실시예에 따른 감광성 유기물은, 이 밖에 필요에 따라서 유기 고분자 수지보다 분자량이 작은 착색제, 염료, 찰흔 방지제, 가소제, 접착촉진제, 계면활성제 등의 첨가제를 더 포함할 수 있다. 이러한 감광성 유기물이 기판에 코팅됨으로써 개별 공정의 특성에 따른 성능 향상을 도모할 수 있다.
상기와 같은 첨가제 중 계면활성제는 감광성 유기물의 도포 시 발생되는 얼룩 형태들을 최소화시키고 도포 특성을 향상시킨다.
이 계면활성제로는 F계 또는 Si계 계면활성제가 사용될 수 있으며, Si계 계면활성제의 일 예로 폴리옥시알키렌 디메틸폴리실록세인 공중합체(polyoxyalkyrene dimethylpolysiloxane copolymer)가 있다.
Si계 계면활성제를 사용할 경우에는 SiNx 등과 같은 하부막과의 접착력이 약화될 수 있으므로, 바람직하게는, F계 계면활성제를 사용한다.
이러한 계면활성제는 감광성 유기물에 500~4000 ppm의 함량으로 첨가되는데, 500 ppm 미만일 경우에는 감광성 유기물의 접착력이 낮게 되어 도포된 감광성 유기물이 용이하게 박리될 수 있으며, 4000 ppm을 초과하면 접착력이 과다해지고 가격이 상승되므로 상기와 같은 함량으로 제어하는 것이 바람직하다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 감광성 유기물의 도포 방법, 유기막 패턴 형성 방법, 이를 이용하여 제조되는 표시 장치, 특히 액정 표시 장치 및 그 제조 방법을 설명한다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 감광성 유기물의 도포 방법에 사용되는 스핀리스 코팅 장치의 일 예를 나타낸 사시도이다.
도 1을 참조하면, 스핀리스 코팅 장치는 기판(101)이 안착되는 스테이지(100)와, 스테이지(100)의 상부에 위치하여 기판(101)에 감광성 유기물을 도포하는 노즐부(200)와, 노즐부(200)를 구동하는 구동부(300)를 포함한다.
여기서, 기판(101)은 특별히 한정되지는 않으나, 표시 장치에 있어서 5세대급, 즉 1100×1200 ㎜ 이상의 기판이 사용되는 것이 본 발명의 취지에 부합한다.
스테이지(100)는 유리 기판과 같은 피처리물을 안착시키며, 통상 기판(101)의 크기에 대응되는 형상을 가진다. 스테이지(100) 내부에는 기판(101)을 스테이지(100)로부터 들어올리기 위한 다수개의 리프트 핀(미도시)이 설치되고, 이에 의 해 기판(101)이 로딩 및 언로딩될 때 기판(101)을 스테이지(100)에 안착시키거나 들어올리는 역할을 한다.
또한, 스테이지(100)의 내부에는 상기 리프트 핀과 간섭되지 않도록 진공홀(미도시)이 형성될 수 있으며, 상기 진공홀에는 기판(101)을 흡착하기 위해 펌프 등과 같은 진공 형성 수단(미도시)이 연결될 수 있다. 따라서, 기판(101)이 스테이지(100)에 안착되면, 진공 형성 수단에 의해 기판(101)을 스테이지(100)로부터 이탈되지 않도록 스테이지(100)에 흡착 고정하는 것이 바람직하다.
노즐부(200)는 기판(101)이 안착되는 스테이지(100)의 상부에 마련된다. 노즐부(200)는 기판(101)을 향하도록 설치되어 기판(101)에 감광성 유기물을 도포하는 역할을 한다.
바람직하게는, 기판(101) 상에 도포되기 이전에 노즐부(200)에 감광성 유기물이 수용되어 농도 및 온도가 고정밀도로 조정된다.
구동부(300)는 노즐부(200)의 양단에 연결되어 노즐부(200)를 수직 즉 상하 방향으로 이동시키는 한 쌍의 Z축 구동 유닛(310)과, 노즐부(200)를 수평 즉 기판(101)의 전후 방향으로 일정한 속도로 이동시키는 한 쌍의 Y축 구동 유닛(320)을 포함한다. 이때, Y축 구동 유닛(320)은 모터와 이동 레일, 가이드 레일과 같은 이동 수단으로 구성될 수 있으며, 상기 모터로 비접촉 타입의 리니어(Linear) 모터를 사용할 수 있다.
따라서, 노즐부(200)는 Y축 구동 유닛(320)을 통해 기판(101)의 일측으로부터 타측 방향으로 이동 및 주사(scan)하면서 감광성 유기물을 토출하여 기판(101) 표면에 균일하게 감광성 유기물을 도포시킨다. 또한, 이와 달리, 노즐부(200)를 고정시킨 상태에서 기판(101)을 일방향으로 슬라이딩 이동시켜 상기와 동일한 방법으로 도포 공정을 진행할 수 있음은 물론이다.
또한, 도면에서는 도시되지 않았지만, 노즐부(200)에는 기판(101)에 도포될 감광성 유기물을 공급하는 공급부(미도시)가 더 설치되고, 스테이지(100)의 일측에는 예비 토출 장치(미도시)가 설치될 수 있다.
즉, 공정의 초기단계에서, 노즐부(200)에는 상기 공급부로부터 감광성 유기물이 공급되고, 감광성 유기물이 공급된 노즐부(200)는 상기 예비 토출 장치에 예비 토출을 하여 기판(101)에 균일한 감광성 유기물이 도포되도록 준비한다. 이때, 예비 토출은 기판(101)에 도포되기 전에 감광성 유기물의 초기 토출 균일도 등을 제어하는 역할을 한다.
대화면화된 표시 장치, 특히 액정 표시 장치의 5 세대에서 7 세대 이상에 이르는 1100×1200 ㎜ 이상의 유리 기판 크기에 부합하도록 감광성 유기물을 도포하기 위해서는 한 번의 주사(scan)로 균일한 도포를 달성하는 것이 생성된 유기막의 균일도 측면과 생산수율 측면에서 바람직하다.
따라서, 기판(101) 상의 감광성 유기물 도포면적에 부합하도록 노즐(110)의 길이가 형성되며, 이에 의하여 기판(101) 상에 감광성 유기물을 도포할 시에 1 회의 주사만으로 도포 공정이 완료되는 것이 바람직하다.
도 1을 참조하여 설명된 본 발명의 실시예에 따른 감광성 유기물 도포 방법에서는 주사 방식의 스핀리스 코팅장치만을 개시하였지만, 본 발명의 실시예에 따 른 이외의 스핀리스 코팅 장치에서 또한 본 발명의 실시예에 따른 감광성 유기물의 도포가 가능하다.
상술한 감광성 유기물 및 이의 도포 방법은 표시 장치, 특히 액정 표시 장치의 유기막 패턴을 형성하는데 유용하게 적용될 수 있다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 조성물을 사용한 유기막 패턴이 형성되는 박막 트랜지스터의 단위 셀의 평면도이고, 도 3은 도 2의 A-A'선을 따라 자른 단면도이다.
도 2에 도시된 바와 같이, 게이트 라인(401)은 횡방향으로 배치되어 있고, 이와 평행하게 소정 간격 이격된 위치에 스토리지 전극 라인(402)이 배치되어 있다. 데이터 라인(403)은 게이트 라인(401) 및 스토리지 전극 라인(402)을 교차하여 수직으로 지나도록 배치되어 있다.
그리고 게이트 라인(401)과 데이터 라인(403)의 교차점에 인접된 게이트 라인(401) 상에는 패턴의 형태로 반도체층(404)이 형성되어 있다. 데이터 라인(403)으로부터 인출된 드레인 전극(405a)과 데이터 라인(403)의 형성 시에 함께 형성된 소스 전극(405b)이 반도체층(404) 상에 서로 대향하여 소정 부분 겹치도록 배치되어 있다.
또한, 게이트 라인(401)과 데이터 라인(403)에 의해 정의된 화소 영역에는 투명전도막, 예를 들어 ITO로 된 화소 전극(406)이 배치되어 있다. 이때 화소 전극(406)은 드레인 전극(405a)과 접촉하는 것은 물론 데이터 라인(403) 및 게이트 라인(402)의 일부분과 오버랩되게 화소 영역 전체에 걸쳐 배치되어 있다.
도 3을 참조하면, 하부 기판(501) 상에 게이트 전극(401a) 및 이와 소정 간격 이격된 위치에 스토리지 전극(402a)이 형성되고, 이러한 하부 기판(501)의 전면에는 게이트 절연막(502)이 형성된다. 그리고 게이트 전극(401a) 상부에 위치된 게이트 절연막(502) 상에는 패턴의 형태로 반도체층(404)이 형성된다. 이 반도체층(404) 상에는 데이터 라인(403)의 형성 시에 함께 형성된 드레인 전극(405a) 및 소스 전극(405b)이 이격되어 형성된다.
상기 구조물이 형성된 하부 기판(501)의 전면 상에 본 발명의 실시예에 따른 감광성 유기물을 도포하여 형성한 유기막 패턴(503)이 형성되어 있다. 유기막 패턴(503)은 드레인 전극(405a)을 노출시키는 컨택홀을 구비한다. 유기막 패턴(503) 상에 컨택홀을 통해 드레인 전극(405a)과 접촉됨과 동시에 게이트 전극(401a) 및 데이터 라인(403)과 일부분 오버랩되는 화소 전극(406)이 형성된다.
여기서, 유기막 패턴(503)은 패시베이션막으로 기능함과 동시에 화소 전극(406)과 데이터 라인(403) 사이의 절연막으로도 기능한다.
유기막 패턴(503)은 상술한 바와 같은 스핀리스 코팅 방법에 의해 본 발명의 실시예에 따른 감광성 유기물을 표시 소자의 기판상에 코팅하여 유기막을 형성한 후, 이를 패터닝하여 형성할 수 있다.
감광성 유기물은 게이트 절연막(502), 데이터 라인(403), 반도체층(404), 드레인 전극(405a) 및 소스 전극(405b) 등이 형성되어 있는 기판(101) 상에 도포된다. 따라서, 유기막 포토레지스트 조성물은 실리콘산화물(SiOx), 실리콘 질화물, 도 핑 된 실리콘산화물, 실리콘, 알루미늄, 인듐 틴옥사이드(ITO), 인듐 징크옥사이드(IZO), 몰리브덴, 탄탈륨, 구리, 폴리실리콘, 세라믹, 알루미늄/구리 혼합물 등, 다양한 재질 위에 코팅될 수 있다.
상술한 바와 같이, 기판(101)에 스핀리스 코팅 방법으로 감광성 유기물이 도포되어 유기막을 형성한다. 이어서, 유기막 패턴(503)을 형성하게 되는데 이는 기판에 형성된 유기막을 감압 건조하는 단계, 감압 건조된 유기막을 소프트 베이크하는 단계, 소프트 베이크 된 유기막을 선택적으로 노광하는 단계, 선택적으로 노광된 유기막을 현상하는 단계 및 현상된 유기막을 경화하는 단계를 포함한다.
이하, 유기막 패턴을 형성하는 단계를 상세히 설명하면 다음과 같다.
먼저, 도 4a에 도시된 바와 같이, 기판(101)의 각종 소자구조가 형성된 하부 구조물(102) 상에 유기막(503")을 스핀리스 코팅방법으로 형성한다.
이후, 도 4b에서와 같이, 기판(102)에 형성된 유기막(503")을 감압 건조한다. 감압 건조를 거치면서 건조된 유기막(503')내의 용매의 대부분, 예컨대 약 80 내지 90% 정도의 용매가 증발된다.
감압 건조는 순차적으로 진행되는 전 배기(pre pumping) 단계와 주 배기(main pumping) 단계를 포함한다. 전 배기는 천천히 진행되며 감압 건조 장치를 대략 10-5 Pa 정도의 압력으로 배기하고, 주 배기는 전 배기보다 빨리 진행되며 감압 건조 장치의 압력이 전 배기 단계의 압력보다 낮은 압력이 되도록 배기한다. 따라서, 전 배기 단계에서는 상대적으로 낮은 증기압을 갖는 유기 용매가 먼저 증발 되고, 주 배기 단계에서는 상대적으로 높은 증기압을 갖는 유기 용매가 증발된다. 이러한 경우, 증기압이 서로 다른 이종의 유기 용매를 사용할 시에, 단일 유기 용매를 사용할 때보다 유기 용매의 증발을 더욱 촉진시킬 수 있다.
그 후 감압 건조된 유기막(503')을 소프트 베이크한다. 소프트 베이크는 감압 건조시 제거되지 않고 유기막(503') 내에 잔류하는 용매를 유기막(503')의 고체 성분을 열분해시키지 않으면서 제거하고, 유기막(503')을 고형화시킨다. 소프트 베이크는 80 내지 130℃ 온도에서 유기막(503')의 두께가 4 ㎛ 이하로 기판상에 잔류할 때까지 수행하는 것이 바람직하다.
더 바람직하게는, 소프트 베이크는 기판 상에 도포된 유기막(503')에서 유기 용매가 전부 증발될 때까지 수행한다.
그 다음에, 소프트 베이크 된 유기막(503')을 노광하게 된다. 도 4c에 도시된 바와 같이, 기판(101)에 형성된 유기막(503')을 적당한 마스크 또는 형판(601) 등을 사용하여 빛, 예를 들어 자외선(602)에 선택적으로 노광시킴으로써 유기막(503')의 노광 영역(ER) 중의 감광성 화합물이 광반응에 의해 이후의 현상 공정에서 용해되는 가용성 수지가 되도록 한다.
이어서, 도 4d에 도시되어 있는 바와 같이 선택적으로 노광된 유기막(503')이 형성된 기판(101)을 알칼리성 현상 수용액에 침지시킨 후, 유기막(503')의 노광된 부분이 전부 또는 거의 대부분, 바람직하게는 95% 이상 용해될 때까지 방치한다. 본 발명의 실시예에서 사용하는 현상 수용액으로는 테트라메틸암모늄 하이드록사이드, 알칼리 수산화물, 또는 수산화암모늄을 함유하는 수용액 등을 사용할 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.
이어서, 도 4e에 도시된 바와 같이 현상된 유기막을 노광을 통하여 가시광선영역에서의 흡광 작용기를 분해하여, 소위 하드 베이크(hard bake)라 불리우는 열처리를 수행하면 열가교(thermal crosslinking)를 통하여 유기막의 접착성 및 내화학성이 증진될 수 있다. 이 과정에서 유기 고분자 수지들과 감광제가 가교 반응에 참여하여 비용해성의 단단한 유기막 패턴(503)이 형성된다. 이를 일반적으로 경화 공정이라고 하며, 전면 노광 및 하드 베이크 단계를 포함한다.
이러한 열처리는 유기막(503')의 연화점 이하의 온도에서 이루어지며, 예를 들어 150 내지 250℃의 온도에서 행할 수 있다. 열처리를 완료하면 목적하는 형태의 유기막 패턴(503)을 형성하게 된다.
이와 같이 유기막 패턴(503)이 형성된 기판(101)을 부식 용액 또는 기체 플라즈마로 처리하여 유기막 패턴(503)에 의해 노출된 기판(101) 부위를 처리하도록 한다. 이때 기판(101)의 노출되지 않은 부위는 유기막 패턴(503)에 의하여 보호된다.
이와 같이 기판(101)을 처리한 후, 기판(101) 상에 원하는 디자인을 가지는 박막 트랜지스터 등의 미세 회로 패턴이 형성된 표시 소자의 제조를 완료한다.
또한, 패턴의 이상이 발생한 경우, 스트리퍼를 이용하여 유기막 패턴(503)을 제거하고, 소위 리워크(rework)를 통하여 공정을 재진행시킬 수 있다.
상기와 같은 방법으로 5세대급(1100×1200 ㎜) 이상 크기의 유리 기판 상에 미세 회로 패턴을 형성하여 박막 트랜지스터 기판이 완성되며, 이 박막 트랜지스터 기판은 컬러 필터 기판과 함께 액정을 개재한 채로 상호 합착되어 액정 표시 장치가 제조된다.
이하, 실험예들 및 비교실험예들을 통하여 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다. 단, 하기 실험예들은 본 발명을 예시하기 위한 것으로서 본 발명이 하기 실험예들에 의하여 한정되는 것이 아님이 주지되어야 한다.
( 실험예 1)
감광제 1.0 g, 폴리실록산 수지 17.0 g에 유기 용매로 DAA, PGME와 ACAC를 45/25/30의 비율로 82 g(DAA: 36.9 g, PGME: 20.5 g, ACAC: 24.6 g)을 투입한 뒤, 상온에서 40 rpm으로 교반하여 액정 표시 장치 회로용 감광성 유기물을 제조하였다.
여기서, 감광제는 2,3,4,-트리하이드록시 벤조페논-1,2-나프토퀴논디아지드-5-설포네이트와 2,3,4,4'-테트라하이드록시벤조페논-1,2-나프토퀴논디아지드-5-설포네이트가 5/5로 혼합된 혼합물을 사용하였고, 계면활성제는 F계 계면활성제를 첨가하였다.
또한, 감광성 유기물을 슬릿 코터용 점도인 4.7 cps로 제조하였다.
이와 같이 제조된 액정 표시 장치 회로용 감광성 유기물을 0.7 ㎜의 유리 기판에 스핀리스 코팅의 일종인 슬릿 코팅법으로 도포하고(도 1 참조) 감압 건조후 100℃에서 150 초간 가열 건조하여 3.5 ㎛ 두께의 유기막을 형성하였다. 이러한 방법으로 형성된 유기막의 두께를 측정하여 노광량과 투과율을 관찰하였다.
( 실험예 2)
상기 실험예 1과 동일한 방법으로 제조하되, 유기 용매로 DAA와 PGMEA의 비율을 70/30(DAA: 57.4 g, PGMEA: 24.6 g)으로 하여 액정 표시 장치 회로용 감광성 유기물을 제조하였다.
( 실험예 3)
상기 실험예 1과 동일한 방법으로 제조하되, 유기 용매로 DAA와 CP의 비율을 65/35(DAA: 53.3 g, CP: 28.7 g)으로 하여 액정 표시 장치 회로용 감광성 유기물을 제조하였다.
( 비교실험예 1)
하기 화학식 5로 표시되는 고분자 수지 20.7 g, 에틸셀루솔브-아세테이트(EDM) 유기 용매 76 g 및 Si계 계면활성제 500~5000 ppm을 투입하고 화학식 6으로 표시되는 감광제 3.3 g을 첨가한 뒤, 상온에서 40 rpm으로 교반하여 점도 9 cps로 액정 표시 장치 회로용 감광성 유기물을 제조하였다.
Figure 112007010412605-PAT00015
여기서, X는 H 또는 메틸기이고, Y1은 탄소 원자수가 2 내지 16인 알킬기 또는 하이드록시알킬기이고, Y2는 하기 분자식 4로 표시되는 화합물이다.
[분자식 4]
Figure 112007010412605-PAT00016
여기서, R1은 H 또는 메틸기이다.
Figure 112007010412605-PAT00017
여기서, R1은 H, OH 및 -CH3 중 어느 하나이고, R2는 상기 분자식 3으로 표시되는 DNQ이며, m 및 n은 1 내지 4이다.
( 비교실험예 2)
상기 비교실험예 1과 동일한 방법으로 제조하되, 고분자 수지 18.7 g, 유기 용매 78 g을 사용하고 점도는 7 cps이다.
실험예들 및 비교실험예들과 같이 제조된 액정 표시 장치 회로용 감광성 유기물을 0.7 ㎜의 유리 기판에 도포하고 감압 건조후 100℃에서 150 초간 가열 건조 하여 3.5 ㎛ 두께의 유기막을 형성하였다. 이러한 방법으로 형성된 유기막의 두께를 측정하여 노광량과 투과율을 관찰하였다.
상기와 같은 결과를 하기 표 1에 나타내었다. 표 1에서, 기판으로서 1100×1300 ㎜ 크기의 유리 기판을 사용하여 100 ㎜ 당 1 라인으로 세분하였으며, MD(Machine Direction)는 노즐이 형성된 길이 방향을 나타내고, TD(Traveling Direction)는 주사방향으로서 노즐이 주사되는 방향을 나타낸다.
여기서, 기판 상의 얼룩을 좀 더 상세히 관찰하기 위하여 Cr이 증착된 유리 기판을 사용하였다.
두께 편차(TD13×MD11 lines) 뭉게 얼룩 수지 얼룩
실험예 1 2.31 ◎ ◎
실험예 2 2.58 ○ ○
실험예 3 2.71 ○ ○
비교실험예 1 2.93 ◎ △
비교실험예 2 2.97 ◎ △
(◎: 매우 양호, ○: 양호, △: 미양호, ×: 불량)
표 1에 나타난 바와 같이, 실험예 1과 비교실험예 1 및 비교실험예 2의 뭉게 얼룩 결과는 동등한 매우 양호의 수준이며, 실험예 2 및 3도 양호한 결과를 나타내고 있다.
그러나, 수지(suji) 얼룩 측면에서는 실험예 1이 가장 우수한 특성을 나타내며, 비교실험예 1 및 비교실험예 2에서는 미양호한 결과를 나타내었다.
또한, 균일도 측면에서는, 두께 편차 결과를 대비하여 보면 비교실험예 1 및 비교실험예 2에서보다 실험예들이 더 우수하며, 특히 실험예 1에서의 균일도가 가장 뛰어남을 알 수 있다.
본 발명의 기술적 사상은 상기 바람직한 실시예에 따라 구체적으로 기술되었으나, 상기한 실시예는 그 설명을 위한 것이며, 그 제한을 위한 것이 아님을 주지해야 한다. 또한, 본 발명의 기술분야에서 당업자는 본 발명의 기술 사상의 범위 내에서 다양한 실시예가 가능함을 이해할 수 있을 것이다.
특히, 본 발명의 실시예를 비롯한 명세서 전반에 걸쳐 액정 표시 장치만을 예시로 하였지만, 본 발명의 기술적 사상의 범주에 포함되는 범위 내에서 액정 표시 장치 이외의 표시 장치, 이를테면 유기 발광 표시 장치 등에 또한 본 발명에 따른 감광성 유기물, 이의 도포 방법, 이를 이용한 유기막 패턴 형성 방법이 적용될 수 있음은 물론이다.
상술된 바와 같이 본 발명에 의한 감광성 유기물, 이의 도포 방법, 이를 이용한 유기막 패턴 형성 방법, 이로써 제조되는 표시 장치에 의하여, 대형 기판 상에의 도포에 적합하면서 도포 균일도가 향상되고 뭉게 얼룩, 수지 얼룩 등의 얼룩 발생을 방지할 수 있다.
또한, 본 발명에 의한 감광성 유기물, 이의 도포 방법, 이를 이용한 유기막 패턴 형성 방법, 이로써 제조되는 표시 장치에 의하여, 스핀리스 코팅으로 도포 속도가 향상되며, 최종 제품의 품질을 향상시킬 수 있도록 할 수 있다.

Claims (27)

  1. 폴리실록산 수지의 혼합 고분자 수지와, 감광성 화합물과, 유기 용매를 포함하는 감광성 유기물.
  2. 제1항에 있어서, 상기 고분자 수지는 중량 평균 분자량이 500 이상 20000 이하인 것을 특징으로 하는 감광성 유기물.
  3. 제1항에 있어서, 상기 고분자 수지의 함량은 10~30 중량%인 것을 특징으로 하는 감광성 유기물.
  4. 제1항에 있어서, 상기 감광성 유기물의 점도는 1~25 cps 인 것을 특징으로 하는 감광성 유기물.
  5. 제1항에 있어서, 상기 폴리실록산 수지는 하기 화학식 1 또는 하기 화학식 2로 표시되는 것을 특징으로 하는 감광성 유기물.
    [화학식 1]
    Figure 112007010412605-PAT00018
    여기서, R1, R2, R3 및 R4 중 적어도 하나 이상은 알킬기(CnH2n +1, n은 1~5)이다.
    [화학식 2]
    Figure 112007010412605-PAT00019
    여기서, R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8, R9, R10 및 R11 중 적어도 하나 이상은, H, CmH2m +1, -OH, -OCmH2m +1, 아크릴계 관능기, 하기 분자식 1의 관능기 및 하기 분자식 2의 관능기 중 어느 하나이고, 상기 m은 1~5이다.
    [분자식 1]
    Figure 112007010412605-PAT00020
    단, n은 자연수이다.
    [분자식 2]
    Figure 112007010412605-PAT00021
  6. 제1항에 있어서, 상기 감광성 화합물은 디아지드계인 것을 특징으로 하는 감광성 유기물.
  7. 제6항에 있어서, 상기 디아지드계 감광성 화합물의 함량은 1~10 중량%인 것을 특징으로 하는 감광성 유기물.
  8. 제7항에 있어서, 상기 디아지드계 감광성 화합물의 함량은 5 중량%이하인 것을 특징으로 하는 감광성 유기물.
  9. 제6항에 있어서, 상기 디아지드계 감광성 화합물은 테트라하이드록시 벤조페논, 2-디아조-1-나프톨-5-술폰산, 폴리하이드록시 벤조페논 및 1,2-나프토퀴논디아지드로 구성되는 일 군에서 선택되어지는 적어도 2 이상을 반응시켜 제조되는 것을 특징으로 하는 감광성 유기물.
  10. 제9항에 있어서, 상기 디아지드계 감광성 화합물은 테트라하이드록시 벤조페논과 2-디아조-1-나프톨-5-술폰산을 에스테르화 반응시켜 제조되는 것을 특징으로 하는 감광성 유기물.
  11. 제6항에 있어서, 상기 디아지드계 감광성 화합물은 2,3,4,4'테트라하이드록시벤조페논-1,2-나프토퀴논디아지드-5-설포네이트, 디아조나프토퀴논술포닉에스테르 및 2,3,4-트리하이드록시 벤조페논-1,2-나프토퀴논디아지드-5-설포네이트로 구성되는 일 군에서 적어도 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 감광성 유기물.
  12. 제6항에 있어서, 상기 디아지드계 감광성 화합물은 하기 화학식 3으로 표시되는 물질 또는 하기 화학식 4로 표시되는 물질인 것을 특징으로 하는 감광성 유기 물.
    [화학식 3]
    Figure 112007010412605-PAT00022
    여기서, R1은 H, CxHy, 하기 분자식으로 이루어진 DNQ로 구성되는 일 군에서 선택되어지는 어느 하나이며, 상기 m 및 n은 각각 1~3이다.
    [분자식 3]
    Figure 112007010412605-PAT00023
    [화학식 4]
    Figure 112007010412605-PAT00024
    여기서, D는 상기 분자식 3으로 이루어진 DNQ이다.
  13. 제1항 또는 제7항에 있어서, 상기 유기 용매의 함량은 60 중량% 이상 90 중량% 이하인 것을 특징으로 하는 감광성 유기물.
  14. 제1항에 있어서, 상기 유기 용매는 아세테이트계, 락테이트계, 프로피오네이트계 및 에테르계로 구성되는 일 군에서 선택되어지는 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 감광성 유기물.
  15. 제1항에 있어서, 상기 유기 용매는 4-하이드록시-4-메틸-2-펜타논, 프로필렌글리콜메틸에테르, 에틸아세토 아세테이트, 에틸아세토락테이트, 에틸셀루솔브-아세테이트, 감마-부티로락톤, 2-메톡시에틸아세테이트, 에틸베타-에톡시프로피오네 이트, 노말프로필아세테이트, 노말부틸아세테이트로 구성되는 일 군에서 선택되어지는 적어도 하나 이상인 것을 특징으로 하는 감광성 유기물.
  16. 제15항에 있어서, 상기 유기 용매는 4-하이드록시-4-메틸-2-펜타논, 프로필렌글리콜메틸에테르 및 에틸아세토 아세테이트의 혼합물인 것을 특징으로 하는 감광성 유기물.
  17. 제1항에 있어서, 상기 감광성 유기물에 착색제, 염료, 찰흔방지제, 가소제, 접착 촉진제 및 계면활성제로 구성되는 일 군에서 선택된 적어도 하나 이상의 첨가제가 더 포함되는 것을 특징으로 하는 감광성 유기물.
  18. 제17항에 있어서, 상기 첨가제는 상기 고분자 수지보다 분자량이 더 작은 것을 특징으로 하는 감광성 유기물.
  19. 제17항에 있어서, 상기 계면활성제는 Si계 또는 F계인 것을 특징으로 하는 감광성 유기물.
  20. 제17항에 있어서, 상기 계면활성제의 함량은 500 ppm 이상 4000 ppm 이하인 것을 특징으로 하는 감광성 유기물.
  21. 폴리실록산 수지의 혼합 고분자 수지와, 감광성 화합물과, 유기 용매를 포함하는 감광성 유기물을 기판 상에 스핀리스 코팅법으로 도포하는 것을 특징으로 하는 감광성 유기물의 도포 방법.
  22. 폴리실록산 수지의 혼합 고분자 수지와, 감광성 화합물과, 유기 용매를 포함하는 감광성 유기물을 도포장치의 저장부에 저장하는 단계;
    상기 저장된 감광성 유기물을 상기 도포장치의 노즐을 통하여 기판 상에서, 그의 어느 일 변에서부터 토출하는 단계; 및
    상기 토출되는 감광성 유기물을 상기 기판의 일 변에서부터 이와 대향하는 타 변으로까지 주사하면서 연속적으로 도포하는 단계;
    를 포함하는 감광성 유기물의 도포 방법.
  23. 폴리실록산 수지의 혼합 고분자 수지와, 감광성 화합물과, 유기 용매를 포함하는 감광성 유기물을 기판 상에 도포하는 단계; 및
    상기 기판 상에 도포된 상기 감광성 유기물을 패터닝하는 단계;
    를 포함하는 유기막 패턴 형성 방법.
  24. 제23항에 있어서, 상기 기판은 박막 트랜지스터 기판인 것을 특징으로 하는 유기막 패턴 형성 방법.
  25. 제23항에 있어서, 상기 패터닝 단계는,
    상기 기판에 형성된 상기 감광성 유기물을 감압 건조하는 단계;
    상기 감압 건조된 감광성 유기물을 소프트 베이크하는 단계;
    상기 소프트 베이크된 상기 감광성 유기물을 선택적으로 노광하는 단계;
    상기 선택적으로 노광된 감광성 유기물을 현상하는 단계; 및
    상기 현상된 감광성 유기물을 경화하는 단계;
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기막 패턴 형성 방법.
  26. 제25항에 있어서, 상기 현상 단계는 상기 노광된 감광성 유기물이 도포된 상기 기판을 알칼리 수산화물, 수산화암모늄 및 테트라메틸암모튬 하이드록사이드로 구성되는 일 군에서 선택되는 적어도 하나 이상의 알칼리성 현상 수용액에 침지하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기막 패턴 형성 방법.
  27. 폴리실록산 수지의 혼합 고분자 수지와, 감광성 화합물과, 유기 용매를 포함하는 감광성 유기물을 도포하여 형성된 유기막을 포함하는 표시 장치.
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