KR20080052673A - 포스폰산 디에스테르 및 디포스폰산 디에스테르의 용도 및포스폰산 디에스테르 및 디포스폰산 디에스테르를 함유한열적으로 경화가능한 혼합물 - Google Patents

포스폰산 디에스테르 및 디포스폰산 디에스테르의 용도 및포스폰산 디에스테르 및 디포스폰산 디에스테르를 함유한열적으로 경화가능한 혼합물 Download PDF

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Abstract

본 발명은 N-히드록시알킬아미노기 및/또는 N-알콕시알킬아미노기의 에스테르교환반응, 아미드교환반응, 자기-축합반응, N-알콕시알킬아미노기의 아세틸교환반응 및/또는 N-히드록시알킬아미노기의 아세탈화반응에 의해 반응될 수 있는 화합물 (B)를 위한 신규한 반응물 및/또는 촉매로서의 포스폰산 디에스테르 및 디포스폰산 디에스테르 (A)의 용도에 관한 것이다. 본 발명은 또한 포스폰산 디에스테르 및 디포스폰산 디에스테르 (A)를 함유한 열적으로 경화가능한 혼합물 및 이를 제조하기 위한 방법에 관한 것이다.

Description

포스폰산 디에스테르 및 디포스폰산 디에스테르의 용도 및 포스폰산 디에스테르 및 디포스폰산 디에스테르를 함유한 열적으로 경화가능한 혼합물 {USE OF PHOSPHONIC ACID DIESTERS AND DIPHOSPHONIC ACID DIESTERS AND THERMALLY CURABLE MIXTURES CONTAINING PHOSPHONIC ACID DIESTERS AND DIPHOSPHONIC ACID DIESTERS}
본 발명은 반응물 및/또는 촉매로서의 포스폰산 디에스테르 및 디포스폰산 디에스테르의 신규한 용도에 관한 것이다. 본 발명은 반응물 및/또는 촉매로서의 포스폰산 디에스테르 및 디포스폰산 디에스테르를 포함하는 신규한 경화가능한 혼합물에 관한 것이다.
포스폰산 디에스테르는 포스폰산 [HP(O)(OH)2]의 에스테르로서, 이는 아인산 [P(OH) 3 ]의 토토머이다. 포스폰산 디에스테르는 종종 완전히 정확하지는 않지만 제 2 포스파이트(phosphite)로도 언급된다. 그러나, 아인산의 실제 유도체는 단지 트리에스테르이다.
디포스폰산 디에스테르는 하기 디포스폰산의 디에스테르이며, 종래 디아인산(diphosphorous acid)으로도 언급된다:
Figure 112008028112354-PCT00001
(이와 관련한 참조, Roempp Lexikon der Chemie, Georg Thieme Verlag, Stuttgart, New York, 1990, "Phosphites", "Phosphonates", "Phosphonic acid", "Diethyl phosphite", and "dimethyl phosphite")
폴리올, 아미노 수지, 및 폴리이소시아네이트를 포함하는 열적으로 경화가능한 혼합물, 특히 코팅 물질은 유럽특허 EP 1 171 356 B1, 또는 국제특허출원 WO 01/09261, WO 01/09260, WO 01/09259, 또는 WO 01/09231로부터 공지되어 있다. 열적 가교를 위해 사용되는 촉매는 알코올성 용액 중 산성 페닐 포스페이트("페닐 산 포스페이트")의 알코올성 용액이다. 사용하기 바로 전에, 열적으로 경화가능한 혼합물은 다성분계, 특히 이-성분계로부터 제조되며, 여기서 하나의 성분은 폴리올 및 아미노 수지를 포함하며, 다른 하나의 성분은 폴리이소시아네이트를 포함한다.
공지된 열적으로 경화가능한 혼합물, 특히 코팅 물질은 단단하고, 내마모성, 내스크래치성 및 내에칭성을 가지며, 클리어코트로서 고광택 및 투명도를 갖는 코팅을 제공한다.
그러나, 공지된 열적으로 경화가능한 혼합물은 단점들을 갖는다.
한 예로서, 알코올에 대한 폴리이소시아네이트의 높은 반응성으로 인해, 산성 페닐 포스페이트의 산성 용액은 고려되는 성분에 첨가되지 않을 수 있으며, 여기서 가공 자유도(degree of process freedom)에 제한을 가한다. 다시 말해서, 촉매는 항상 폴리올 및 아미노 수지 성분에 첨가되어야 하지만, 이의 작용은 이러한 성분의 반응성을 크게 증가시킬 수 있어 저장시 이의 안정성에 매우 해로울 수 있다.
더욱이, 공지된 열적으로 경화가능한 혼합물은 실제로 종종 너무 짧은 것으로 입증된 가사 시간(potlife)를 가져, 페인팅 작업 중에 기술적이고 세부적인 문제점을 초래한다. 이는 특히 허용되지 않는 페인팅 결과를 초래할 수 있다.
그러므로, 폴리올, 아미노 수지, 및 폴리이소시아네이트를 포함하는 열적으로 경화가능한 혼합물의 가교를 추가로 개선시킬 필요가 있다.
그러나, 이들 혼합물에서 열적 가교의 메카니즘이 복잡하여 타겟을 갖는 진행에 방해가 된다. 예를 들어, 열적 가교의 경우에서, 이러한 혼합물에서 특히 폴리이소시아네이트와 아미노 수지로부터 방출된 메탄올과의 반응은 일어나지만 폴리올과은 반응은 일어나지 않는다.
그러므로, 세가지 빌딩 블록을 모두 포함하고 폴리올 및 폴리이소시아네이트를 포함하는 네트워크, 및 폴리올 및 아미노 수지를 포함하는 네트워크의 장점을 결합한 3차원 네트워크를 수득하기 위해 필수적으로 블로킹된 폴리이소시아네이트이 사용되어야 한다[E. S. Ntsihlele and A. Pizzi에 의한 문헌, >>Cross-linked Coatings by Co-Reaction of Isocyanate-Methoxymethyl Melamine Systems≪, Journal of Applied Polymer Science, Volume 55, 153쪽 내지 161쪽, 1995]. 그러나, 블로킹된 폴리이소시아네이트와의 가교는 비교적 고온, 대개 100℃를 넘도 온도에서만 진행된다. 결론적으로, 상응하는 열적으로 경화가능한 혼합물은 실온에서도 가교를 개시하는 재마감재(refinish)로서 더 이상 사용되지 않을 수 있다.
세가지 빌딩 블록을 모두 포함하는 3차원 네트워크를 수득하기 위한 또다른 방법은 특히 높은 반응성을 갖는 이른바 "높은 이미노(high imino)" 멜라민 수지를 사용하는 것이다. 그러나, 이러한 수지는 비교적 고분자량을 갖는데, 이는 고려되는 열적으로 경화가능한 혼합물의 점도를 불리하게 상승시킨다. 더욱이, 사용되는 촉매에 따라, 이는 비교적 높은 자체적으로 가교하는 경향을 갖으며, 이는 특히 저장시의 안정성에 매우 해롭다.
유럽특허출원 EP 0 976 723 A2로부터 디메틸 포스파이트, 디에틸 포스파이트 또는 디페닐 포스파이트에 의해 폴리우레탄에 대한 폴리올과 지환족 폴리이소시아네이트의 반응을 촉매화하는 것이 공지되어 있다. 이외에, 다양한 다른 촉매이 고려된다.
유럽특허출원 EP 1 134 266 A1에서는 카르복실-함유 결합제, 히드록시알킬아미드기를 함유한 화합물, 방향족 아민(광안정화제), 및 디페닐 포스파이트 또는 디이소옥틸 포스파이트를 포함한 열적으로 경화가능한 분말 코팅 물질이 기술되어 있다. 두개의 포스파이트 이외에, 다양한 아인산의 트리에스테르가 고려된다. 이는 항산화제로서 사용된다.
제기되는 문제점
본 발명은 포스폰산 디에스테르 및 디포스폰산 디에스테르의 신규한 용도를 발견하고 이에 따라 당해 분야를 풍성하게 하기 위해 이들의 유용성을 확대하기 위한 목적을 기초로 한다.
본 발명은 또한 포스폰산 디에스테르 및/또는 디포스폰산 디에스테르를 포함하는 신규한 열적으로 경화가능한 혼합물을 발견하고자 하는 목적을 기초로 한다.
본 발명은 또한 N-히드록시알킬아미노기 및/또는 N-알콕시알킬아미노기의 에스테르교환반응, 아미드교환반응, 자기-축합반응, N-알콕시알킬아미노기의 아세틸교환반응 및/또는 N-히드록시알킬아미노기의 아세탈화반응에 의해 반응될 수 있는 화합물 (B)를 위한 신규한 반응물 및/또는 촉매를 발견하고자 하는 목적을 기초로 한다.
본 발명은 부가적으로 N-히드록시알킬아미노기 및/또는 N-알콕시알킬아미노기의 에스테르교환반응, 아미드교환반응, 자기-축합반응, N-알콕시알킬아미노기의 아세틸교환반응 및/또는 N-히드록시알킬아미노기의 아세탈화반응에 의해 경화될 수 있는 신규한 열적으로 경화가능한 혼합물을 발견하고자 하는 목적을 기초로 한다.
신규한 열적으로 경화가능한 혼합물은 저장시에 안정적이어야 하며, 또한 열적 경화시에 높은 반응성을 나타내야 한다.
열적 경화 과정에서, N-히드록시알킬아미노기 및/또는 N-알콕시알킬아미노기의 에스테르교환반응, 아미드교환반응, 자기-축합반응, N-알콕시알킬아미노기의 아세틸교환반응 및/또는 N-히드록시알킬아미노기의 아세탈화반응은 심지어 폴리이소시아네이트의 존재하에서도 매우 양호한 재현성을 가지면서 문제없이 확실하게 진행되어야 한다.
동시에, 폴리이소시아네이트를 포함하는 열적으로 경화가능한 혼합물은 실질적인 가사 시간(potlife) 또는 가공 시간을 가져야 한다. 더욱이, 적어도 둘 모두의 화합물 (B), 특히 아미노 수지 (B), 및 폴리이소시아네이트는 경화 과정에서 형성하는 3차원 네트워크에 도입되어야 한다.
본 발명은 또한 열적으로 경화가능한 혼합물, 특히 열적으로 경화가능한 코팅 물질을 위한 신규한 반응물 및/또는 촉매를 제공하기 위한 목적을 기초로 하며, 이는 이-성분 또는 다성분계, 특히 이-성분계로부터 제조되며, 하나 이상의 화합물 (B)를 포함하는 성분 (I), 및 폴리이소시아네이트를 포함하는 성분 (II)을 포함한다. 촉매 및/또는 반응물은 특히 성분 (II)의 저장시에 안정성에 해치지 않으면서 성분 (I) 및 성분 (II) 모두에 존재할 수 있어야 한다. 이에 따라 본 의도는 열적으로 경화가능한 혼합물의 제조 및 용도에서 가공 자유도의 수를 현저하게 증가시키기 위한 것이다.
본 발명의 목적은 특히 단단하고, 내마모성, 내스크래치성, 및 내에칭성을 가지며 클리어코트로서 특히 고광택 및 투명도를 갖는 열적으로 경화가능한 물질, 특히 코팅을 제공하는, 특히 신규한 열적으로 경화가능한 혼합물, 특히 열적으로 경화가능한 코팅 물질을 제공한다.
해법
따라서, 본 출원인은 N-히드록시알킬아미노기 및/또는 N-알콕시알킬아미노기의 에스테르교환반응, 아미드교환반응, 자기-축합반응, N-알콕시알킬아미노기의 아세틸교환반응 및/또는 N-히드록시알킬아미노기의 아세탈화반응에 의해 반응될 수 있는 화합물 (B)의 반응물 및/또는 이를 위한 촉매로서의 포스폰산 디에스테르 및 디포스폰산 디에스테르의 신규한 용도를 발견하였으며, 이는 하기에서 "본 발명의 용도"라 칭한다.
또한 본 출원인은 N-히드록시알킬아미노기 및/또는 N-알콕시알킬아미노기의 에스테르교환반응, 아미드교환반응, 자기-축합반응, N-알콕시알킬아미노기의 아세틸교환반응 및/또는 N-히드록시알킬아미노기의 아세탈화반응에 의해 경화될 수 있고 하나 이상의 포스폰산 디에스테르 및/또는 디포스폰산 디에스테르 (A)를 포함하는 신규한 열적으로 경화가능한 혼합물을 발견하였으며, 이는 하기에서 "본 발명의 혼합물"로 칭한다.
또한, 본 출원인은 하나 이상의 화합물 (B)와 하나 이상의 포스폰산 디에스테르 및/또는 하나 이상의 디포스폰산 디에스테르 (A)를 서로 혼합하고, 얻어진 혼합물을 균질화시킴을 포함하여 본 발명의 혼합물을 제조하는 신규한 방법을 발견하였으며, 이는 하기에서 "본 발명의 방법"으로 칭한다.
본 발명의 추가적인 대상은 상세한 설명으로부터 자명하게 될 것이다.
본 발명의 장점
종래 기술에 비추어서, 당업자에게 본 발명을 기초로 한 목적이 본 발명의 용도 및 본 발명의 혼합물에 의해 달성될 수 있다는 것은 놀랍고도 예상치 못한 것이다.
특히, 본 발명의 용도가 포스폰산 디에스테르 및 디포스폰산 디에스테르 (A)의 적용 가능성을 이례적으로 확대시키고, 이에 따라 당해 분야를 풍성하게 하는 것은 놀라운 것이다.
또한, 포스폰산 디에스테르 및/또는 디포스폰산 디에스테르 (A)는 N-히드록시알킬아미노기 및/또는 N-알콕시알킬아미노기의 에스테르교환반응, 아미드교환반응, 자기-축합반응, N-알콕시알킬아미노기의 아세틸교환반응 및/또는 N-히드록시알킬아미노기의 아세탈화반응에 의해 반응될 수 있는 화합물 (B)의 우수한 반응물 및/또는 이를 위한 촉매인 것은 놀랍다.
또한, 본 발명의 용도 측면에서 N-히드록시알킬아미노기 및/또는 N-알콕시알킬아미노기의 에스테르교환반응, 아미드교환반응, 자기-축합반응, N-알콕시알킬아미노기의 아세틸교환반응 및/또는 N-히드록시알킬아미노기의 아세탈화반응에 의해 경화될 수 있고 우수한 수행 성능을 나타내는 본 발명의 혼합물을 제공할 수 있다는 것이 놀랍다.
특히, 본 발명의 혼합물을 저장시에 안정하며, 또한 열적 경화 중에 높은 반응성을 나타낸다.
본 발명의 혼합물의 열적 경화 과정에서, N-히드록시알킬아미노기 및/또는 N-알콕시알킬아미노기의 에스테르교환반응, 아미드교환반응, 자기-축합반응, N-알콕시알킬아미노기의 아세틸교환반응 및/또는 N-히드록시알킬아미노기의 아세탈화반응은 폴리이소시아네이트의 존재하에서도 매우 양호한 재현성을 가지면서 문제없이 확실하게 수행된다.
동시에, 폴리이소시아네이트를 포함하는 본 발명의 혼합물은 실제적인 가사 시간 또는 가공 시간을 나타내었다. 더우기, 적어도 둘 모두의 화합물 (B), 특히 아민 수지 (B), 및 폴리이소시아네이트 (C)는 경화 과정에서 형성된 3차원 네트워크에 통합된다.
특히 이-성분 또는 다성분계, 특히 이-성분계로부터 본 발명의 혼합물, 특히 본 발명의 코팅 물질을 제조할 수 있으며, 이는 하나 이상의 화합물 (B)를 포함한 성분 (I) 및 폴리이소시아네이트를 포함한 성분 (II)을 포함한다. 촉매 및/또는 반응물은 특히 성분 (II)의 저장시에 안정성에 해를 끼치지 않으면서 성분 (I) 및 성분 (II)에 모두 존재할 수 있다. 결과적으로, 본 발명의 혼합물의 제조 및 용도에서 가공 자유도의 수의 현저한 증가를 달성할 수 있다.
특히 본 발명의 혼합물이 특히 단단하고, 내마모성, 내스크래치성, 및 내에칭성을 가지며 클리어코트로서 특히 고광택 및 투명도를 갖는 신규한 열적으로 경화가능한 혼합물, 특히 열적으로 경화가능한 코팅 물질을 제공한다는 사실은 놀랍다.
본 발명의 상세한 설명
본 발명에 따르면 포스폰산 디에스테르 및/또는 디포스폰산 디에스테르 (A)는 N-히드록시알킬아미노기 및/또는 N-알콕시알킬아미노기의 에스테르교환반응, 아미드교환반응, 자기-축합반응, N-알콕시알킬아미노기의 아세틸교환반응 및/또는 N-히드록시알킬아미노기의 아세탈화반응에 의해 반응될 수 있는 화합물 (B)의 반응물 및/또는 이를 위한 촉매로서 사용된다.
본 발명의 용도를 위하여, 포스폰산 디에스테르 및 디포스폰산 디에스테르 (A)는 비환형 포스폰산 디에스테르, 환형 포스폰산 디에스테르, 비환형 디포스폰산 디에스테르, 및 환형 디포스폰산 디에스테르로 이루어진 군으로부터 선택된다.
비환형 포스폰산 디에스테르 (A)는 바람직하게는 하기 화학식 (I)의 비환형 포스폰산 디에스테르 (A)로 이루어진 군으로부터 선택된다:
Figure 112008028112354-PCT00002
화학식 (I)에서, 라디칼 R1 및 R2는 서로 동일하거나 상이하며, 바람직하게는 동일하다.
라디칼 R1 및 R2는 하기 기술된 것으로 이루어진 군으로부터 선택된다:
- 1개 내지 20개, 바람직하게는 2개 내지 16개, 및 특히 2개 내지 10개의 탄소원자를 갖는 치환되고 비치환된 알킬- , 3개 내지 20개, 바람직하게는 3개 내지 16개, 및 특히 3개 내지 10개의 탄소원자를 갖는 시클로알킬-, 5개 내지 20개, 바람직하게는 6개 내지 14개, 및 특히 6개 내지 10개의 탄소원자를 갖는 아릴-,(여기서, 연자부호(hyphen)는 각 경우에서 라디칼 R1 또는 R2의 탄소원자와 O-P 기의 산소원자 간의 공유 결합을 기호로 나타낸 것이다);
- 치환되고 비치환된 알킬아릴-, 아릴알킬-, 알킬시클로알킬-, 시클로알킬알킬-, 아릴시클로알킬-, 시클로알킬아릴-, 알킬시클로알킬아릴-, 알킬아릴시클로알킬-, 아릴시클로알킬알킬-, 아릴알킬시클로알킬-, 시클로알킬알킬아릴-, 및 시클로알킬아릴알킬- (여기서 알킬, 시클로알킬-, 및 아릴기 각각은 상술된 수의 탄소원자를 함유하며, 연자부호(hyphen)는 각 경우에서 라디칼 R1 및 R2의 탄소원자와 O-P 기의 산소원자 간의 공유 결합을 기호로 나타낸 것이다); 및
- 산소원자, 황원자, 질소원자, 인원자, 및 규소원자, 특히 산소원자, 황원자 및 질소원자로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상, 특히 하나의 헤테로 원자를 함유하는 상술된 부류의 치환되고 비치환된 라디칼- (여기서, 연자부호(hyphen)는 라디칼의 탄소원자와 O-P 기의 산소원자 간의 공유 결합을 기호로 나타낸 것이다).
환형 포스폰산 디에스테르 (A)는 바람직하게는 하기 화학식 (II)의 환형 포스폰산 디에스테르 (A)로 이루어진 군으로부터 선택된다:
Figure 112008028112354-PCT00003
화학식 (II)에서, 라디칼 R3 및 R4는 서로 동일하거나 상이하며, 바람직하게는 동일하다.
라디칼 R3 및 R4는 하기 기술된 것으로 이루어진 군으로부터 선택된다:
- 치환되고 비치환된, 1개 내지 20개, 바람직하게는 1개 내지 10개, 및 특히 1개 내지 6개의 탄소원자를 갖는 2가 알킬-, 3개 내지 20개, 바람직하게는 3개 내지 10개, 및 특히 3개 내지 6개의 탄소원자를 갖는 시클로알킬-, 및 5개 내지 20개, 바람직하게는 6개 내지 14개, 및 특히 6개 내지 10개의 탄소원자를 갖는 아릴- (여기서, 연자부호는 각 경우에서 라디칼 R3 또는 R4의 탄소원자와 O-P 기의 산소원자 간의 공유 결합을 기호로 나타낸 것이다);
- 치환되고 비치환된, 2가 알킬아릴-, 아릴알킬-, 알킬시클로알킬-, 시클로알킬알킬-, 아릴시클로알킬-, 시클로알킬아릴-, 알킬시클로알킬아릴-, 알킬아릴시클로알킬-, 아릴시클로알킬알킬-, 아릴알킬시클로알킬-, 시클로알킬알킬아릴-, 및 시클로알킬아릴알킬- (여기서 알킬, 시클로알킬-, 및 아릴기는 각각 상술된 수의 탄소원자를 함유하며, 연자부호는 각 경우에서 라디칼 R3 및 R4의 탄소원자와 O-P 기의 산소원자 간의 공유 결합을 기호로 나타낸 것이다); 및
- 산소원자, 황원자, 질소원자, 인원자 및 규소원자로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상, 특히 하나의 헤테로원자를 함유하는 치환되고 비치환된, 상술된 부류의 2가 라디칼- (여기서, 연자부호는 라디칼의 탄소원자와 O-P 기의 산소원자 간의 공유 결합을 기호로 나타낸 것이다).
화학식 (II)에서, 변수 Z는
- 라디칼 R3의 원자와 라디칼 R4의 원자 사이의 공유 결합;
- 산소원자, 치환된, 특히 산소-치환된, 및 비치환된 황원자, 치환된, 특히 알킬-치환된 질소원자, 치환된, 특히 산소-치환된 인원자, 및 치환된, 특히 알킬- 및 알콕시-치환된 규소원자로 이루어진 군으로부터 선택된 2가 연결기,특히 산소원자; 또는
- 1개 내지 10개, 바람직하게는 1개 내지 6개, 및 특히 1개 내지 4개의 탄소원자를 갖는 치환되고 비치환된 알킬, 3개 내지 10개, 바람직하게는 3개 내지 6개, 및 특히 6개의 탄소원자를 갖는 시클로알킬, 및 5개 내지 10개, 및 특히 6개의 탄소원자를 갖는 아릴로 이루어진 군으로부터 선택된 2가 연결기 (여기서 상기 알킬, 시클로알킬, 및 아릴에는 헤테로원자가 존재하지 않거나 산소원자, 황원자, 질소원자, 인원자, 및 규소원자, 특히 산소원자, 황원자, 및 질소원자로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로원자를 함유한다)이다.
바람직하게는, 비환형 디포스폰산 디에스테르 (A)는 하기 화학식 (III)의 비환형 디포스폰산 디에스테르로 이루어진 군으로부터 선택된다:
Figure 112008028112354-PCT00004
상기 식에서, 변수들은 상기에서 정의된 바와 같다.
바람직하게는, 환형 디포스폰산 디에스테르 (A)는 하기 화학식 (IV)의 환형 디포스폰산 디에스테르로 이루어진 군으로부터 선택된다:
Figure 112008028112354-PCT00005
상기 식에서, 변수들은 상기에서 정의된 바와 같다.
라디칼 R1, R2, R3 및 R4에 대한 적절한 치환기는 포스폰산 디에스테르 및 디포스폰산 디에스테르 (A)의 작용에 악영향을 미치지 않고, 본 발명의 혼합물에서 경화 반응을 억제하지 않고, 원치않는 부반응을 초래하지 않고, 독성 작용을 유도하지 않는 모든 기 및 원자들 모두를 포함한다. 적절한 치환기의 예로는 할로겐 원자, 니트릴기 또는 니트로기, 바람직하게는 할로겐 원자, 특히 불소원자, 염소원자, 및 브롬원자가 있다.
바람직하게는, 라디칼 R1, R2, R3 및 R4는 비치환된다.
바람직하게는, 라디칼 R1 및 R2는 페닐, 메틸, 및 에틸로 이루어진 군으로부터 선택된다. 더욱 바람직하게는 페닐이 사용된다.
바람직하게는, 화학식 (I)의 비환형 포스폰산 디에스테르 (A)가 사용된다.
더욱 바람직하게는, 화학식 (I)의 비환형 포스폰산 디에스테르 (A)의 라디칼 R1 및 R2는 페닐, 메틸 및 에틸로 이루어진 군으로부터 선택된다. 특히 페닐이 사용된다.
화학식 (I)의 특히 적절한 포스폰산 디에스테르 (A)의 예로는 디페닐 포스포네이트가 있으며, 이는 때때로 당업자에게 디페닐 포스파이트 (완전히 정확하지는 않음)로 언급된다.
본 발명의 용도의 목적을 위하여, 화합물 (B)는 포스폰산 디에스테르 및/또는 디포스폰산 디에스테르 (A)와 고립하여 나란히 존재한다. 바람직하게는, 이는 추가 성분들과 나란히 본 발명의 혼합물에 존재한다.
화합물 (B)는 저분자량의 올리고머, 및 폴리머 화합물로 이루어진 군으로부터 선택된다.
공지된 바와 같이, 올리고머 화합물은 3개 내지 12개의 저분자량 구조 유닛을 포함하는 화합물인 것으로 이해된다.
공지된 바와 같이, 폴리머 화합물은 8개를 초과하는 저분자량 구조 유닛을 포함하는 화합물인 것으로 이해된다.
당업자가 8개 내지 12개의 저분자량 구조 유닛을 포함하는 화합물을 올리고머 또는 폴리머로 간주하는 지의 여부는 주로 고려되는 화합물의 분자량에 따른다.
본 발명의 혼합물의 목적을 위하여, 저분자량 올리고머 화합물 (B)는 또한 당업자에 의해 가교제로서 언급되며, 폴리머 화합물 (B)는 결합제로서 언급된다.
화합물 (B)는 본 발명의 용도의 문맥에서 N-히드록시알킬아미노기 및/또는 N-알콕시알킬아미노기의 에스테르교환반응, 아미드교환반응, 자기-축합반응, N-알콕시알킬아미노기의 아세틸교환반응 및/또는 N-히드록시알킬아미노기의 아세탈화반응을 위해 사용될 수 있는 2개 이상, 바람직하게는 3개 이상, 및 특히 4개 이상의 반응성 작용기를 함유한다.
화합물 (B)의 반응성 작용기는 바람직하게는 히드록실기, 티올기, 1차 아미노기, 2차 아미노기, N-히드록시알킬아미노기, 및 N-알콕시알킬아미노기, 특히 히드록실기, N-히드록시알킬아미노기, 및 N-알콕시알킬아미노기로 이루어진 군으로부터 선택된다.
화합물 (B)의 N-히드록시알킬아미노기는 바람직하게는 N-히드록시메틸아미노기이다.
화합물 (B)의 N-알콕시알킬아미노기는 바람직하게는 N-메톡시메틸아미노기이다.
상술된 N-히드록시알킬아미노기, 특히 N-히드록시메틸아미노기, 및/또는 N-알콕시알킬아미노기, 특히 N-메톡시메틸아미노기를 함유한 화합물 (B)는 바람직하게는 하기 문헌에 공지된 바와 같은 아미노 수지 (B)이다:
- Bodo Muller/Ulrich Poth, ≫Lackformulierung and Lackrezeptur - Das Lehrbuch fuer Ausbildung and Praxis, ed. Dr. Ulrich Zorll, Vincentz Verlag, Hannover, 2003, ≫2.2 Einbrennlacke auf Basis von Aminoharzen<<, 124쪽 내지 143쪽, 및 ≫4.2 Wassrige Einbrennlacke auf Basis von Aminoharzen <<, 206쪽 내지 215쪽,
- Z. W. Wicks Jr., F. Jones and S. P. Pappas, ≫Organic Coatings - Science and Technology, 2nd edition, 1999, Wiley-Interscience, New York, Weinheim, ≫Chapter 9 - Amino Resins≪, 162쪽 내지 179쪽, 또는
- Johan Bieleman, ≫Lackadditive≪, Wiley-VCH, Weinheim, New York, 1998, ≫7.2.2 Melaminharz-vernetzende Systeme≪, 242쪽 내지 250쪽.
히드록실기, 티올기, 1차 아미노기 및/또는 2차 아미노기, 특히 히드록실기를 함유한 화합물 (B)는 바람직하게는 부가 수지 및 축합 수지 및 올레핀성 불포화 모노머의 (코)폴리머로 이루어진 군으로부터 선택된다. 바람직하게는, 이는 통상적으로 열적으로 경화가능한 혼합물에서 사용되는 것과 같은 결합제 (B)이다.
특히 아미노 수지(B)와 조합하여, 및/또는 하기 기술된 폴리이소시아네이트 (C)와 조합하여 열적으로 경화가능한 혼합물에 통상적으로 사용되는 히드록실-함유 결합제 (B)가 사용된다.
아미노 수지 (B) 및/또는 폴리이소시아네이트 (C)와 조합하여 사용하기 위해 적절한 결합제 (B)의 예는 예를 들어 하기 문헌으로부터 공지되어 있다:
- Bodo Mueller/Ulrich Poth, >>Lackformulierung and Lackrezeptur - Das Lehrbuch fur Ausbildung and Praxis≪, ed. Dr. Ulrich Zorll, Vincentz Verlag, Hannover, 2003, >>2.2.3 Kombinationspartner fur Aminoharze<<, 130쪽 내지 133쪽, >>4.2 Wassrige Einbrennlacke auf Basis von Aminoharzen≪, 206쪽 내지 215쪽, 및 >>1.3.1.3 OH-Gruppen-haltige Bindemittel fuer 2K-PUR-Lacke<<, 104쪽 내지 106쪽.
놀랍게도 본 발명의 제공된 혼합물에서 화합물 (B)와 포스폰산 디에스테르 및 디포스폰산 디에스테르 (A)와의 반응, 및 화합물 (B)의 N-히드록시알킬아미노기 및/또는 N-알콕시알킬아미노기의 에스테르교환반응, 아미드교환반응, 자기-축합반응, N-알콕시알킬아미노기의 아세틸교환반응 및/또는 N-히드록시알킬아미노기의 아세탈화반응은 자체적으로 수행될 수 이다. 또한 놀랍게도 고려되는 반응 및 촉매작용은 서로 나란히 동시에 수행되거나 하나 후에 다른 하나가 연속적으로 수행될 수 있다.
이러한 반응 및/또는 촉매작용이 하나 이상의 유리 이소시아네이트기 및 바람직하게는 두개의 유리 이소시아네이트기 및 특히 적어도 3개의 유리 이소시아네이트기를 함유하는 화합물 (C)의 존재하에서도 문제없이 수행된다는 사실은 더욱 놀라운 것이다.
적절한 화합물 (C)의 예로는
- 모노이소시아네이트 (C), 예를 들어 에틸, 프로필, 부틸, 펜틸, 헥실, 헵틸, 옥틸, 노닐, 데실, 운데실, 라우릴, 시클로헥실 또는 페닐 이소시아네이트;
- 디이소시아네이트 (C), 예를 들어, 테트라메틸렌 1,4-디이소시아네이트, 헥사메틸렌 1,6-디이소시아네이트, 2,2,4-트리메틸헥사메틸렌 1,6-디이소시아네이트, 오메가,오메가'-디프로필 에테르 디이소시아네이트, 시클로헥실 1,4-디이소시아네이트, 시클로헥실 1,3-디이소시아네이트, 시클로헥실 1,2-디이소시아네이트, 디시클로헥실메탄 4,4'-디이소시아네이트, 1,5-디메틸-2,4-디(이소시아네이토메틸)벤젠, 1,5-디메틸 2,4-디(이소시아네이토에틸)벤젠, 1,3,5-트리메틸-2,4-디(이소시아네이토메틸)벤젠, 1,3,5-트리에틸-2,4-디(이소시아네이토메틸)벤젠, 이소포론 디이소시아네이트, 디시클로헥실디메틸메탄, 4,4'-디이소시아네이트, 2,4-톨릴렌 디이소시아네이트, 2,6-톨릴렌 디이소시아네이트, 및 디페닐메탄-4,4'-디이소시아네이트; 및
- 폴리이소시아네이트 (C), 예를 들어 트리이소시아네이트 예를 들어 노난 트리이소시아네이트 (NTI) 및 상술된 디이소시아네이트를 기초로 한 폴리이소시아네이트 (C) 및 트리이소시아네이트(C), 특히 이소시아누레이트, 뷰렛, 알로파네이트, 이미노옥사디아진디온, 우레탄, 카르보디이미드, 우레아 및/또는 우레트디온기를 함유한 올리고머, 예를 들어 특허 및 특허출원 CA 2,163,591 A1, US 4,419,513 A, US 4,454,317 A, EP 0 646 608 A1, US 4,801,675 A, EP 0 183 976 A1, DE 40 15 155 A1, EP 0 303 150 A1, EP 0 496 208 A1, EP 0 524 500 A1, EP 0 566 037 A1, US 5,258,482 A, US 5,290,902 A, EP 0 649 806 A1, DE 42 29 183 A1 또는 EP 0 531 820 A1에 공지되고 유리하게는 2.0 내지 5.0, 바람직하게는 2.2 내지 4.0, 특히 2.5 내지 3.8의 NCO 작용성을 갖는 폴리이소시아네이트;
- 독일특허출원 DE 198 28 935 A1에 기술된 부류의 고점성의 폴리이소시아네이트 (C); 및
- 독일특허출원 DE 199 24 170 A1, 컬럼 2, 6줄 내지 34줄, 컬럼 4, 16줄 내지 컬럼 6, 62줄로부터 공지된 폴리이소시아네이트 (C), 국제특허출원 WO 00/31194, 11쪽, 30줄 내지 12쪽, 26줄, 및 WO 00/37520, 5쪽 4줄, 내지 6쪽, 27줄로부터 공지된 폴리이소시아네이트 (C), 및 유럽특허출원 EP 0 976 723 A2, 12쪽, 문단 [0128], 내지 22쪽, 문단 [0284]으로부터 공지된 폴리이소시아네이트 (C)가 있다.
본 발명의 용도의 특별한 장점은 화합물 (C)에 대한 화합물 (B), 특히 아미노 수지 (B)의 비율은 매우 광범위하게 변경될 수 있어, 본 발명의 혼합물의 물리적 조성이 매우 광범위하게 변경될 수 있고 개개의 최종 용도의 요구사항에 맞출 수 있다는 것이다. 비율 (B):(C)는 바람직하게는 0.01 내지 100, 더욱 바람직하게는 0.1 내지 50, 및 특히 1 내지 10이다.
본 발명의 용도의 또다른 특별한 장점은 포스폰산 디에스테르 및/또는 디포스폰산 디에스테르 (A)가 비교적 소량으로도 현저한 활성을 나타낸다는 것이다. 이는 바람직하게는 각 경우에 존재하는 본 발명의 특정한 혼합물을 기초로 하여 0.1 중량% 내지 20 중량%, 더욱 바람직하게는 0.5 중량% 내지 15 중량%, 및 특히 1 중량% 내지 10 중량%로 사용된다.
본 발명의 혼합물은 필수적으로 하나 이상, 특히 하나의 상술된 포스폰산 디에스테르 및/또는 디포스폰산 디에스테르 (A) 및 하나 이상의 상술된 화합물 (B)을 포함한다.
본 발명의 혼합물은 하나 이상의 폴리이소시아네이트 (C)를 추가로 포함할 수 있다.
본 발명의 혼합물은 특히 하나 이상의 첨가제 (D)를 유효량으로 추가로 포함할 수 있다. 첨가제 (D)는 화학선, 특히 UV선으로 활성화될 수 있는 화합물 (B) 및 (C)와는 상이한 가교제; 화학선, 특히 UV선으로 활성화될 수 있는 화합물; 반응성 및 불활성인, 유기 및 무기 용매; 유기 및 무기의, 착색되고 무색의, 광학적 효과, 전기전도성, 자기차폐성, 및 형광 안료; 투명 및 불투명한, 유기 및 무기 충진제; 나노입자; UV 흡수제; 광안정화제; 자유-라디칼 포집제; 광개시제; 자유-라디칼 중합 억제제; 건조제; 탈휘발성화제(devolatilizer); 슬립 첨가제; 중합 개시제; 거품제거제; 에멀젼제 및 습윤제; 접착 증진제; 흐름 조절제; 필름 형성 보조제; 유동 조절 첨가제; 및 내연제로 이루어진 군으로부터 선택된다.
본 발명의 혼합물은 예를 들어 상술된 구성성분 (B) 내지 (D)를 유럽특허 EP 1 171 356 B1 또는 국제특허출원 WO 01109261, WO 01109260, WO 01/09259 또는 WO 01109231, 또는 문헌[Bodo Muller and Ulrich Path에 교과서, ≫Lackformulierung and Lackrezeptur - Das Lehrbuch fuer Ausbildung and Praxis≪, ed. Dr. Ulrich Zorll, Vincentz Verlag, Hanover, 2003, ≫2.2 Einbrennlacke auf Basis von Aminoharzen <, 124쪽 내지 143쪽, ≫4.2 Waessrige Einbrenniacke auf Basis von Aminoharzen≪ , 206쪽 내지 215쪽, ≫9.3.1 Zwei-Komponenten-Systeme (2 K)<<, 98쪽 내지 111쪽, ≫3.2 Waessrige Zwei-Komponenten-Systeme (2K)≪, 192쪽 내지 197쪽, 및 ≫ Teil IV Losemittelfreie Lacke - 1.1 2K-Polyurethan-Beschichtungen≪, 231쪽 내지 233쪽]에 공지된 바와 같은 통상적으로 공지된 양으로 포함한다.
본 발명의 혼합물은 임의의 매우 다양한 물리적 상태 및 3차원 형태를 가질 수 있다.
따라서, 본 발명의 혼합물은 실온에서 고체 또는 액체 또는 유체일 수 있다. 대안적으로, 이는 열가소성 거동을 나타내는, 실온에서 고체이고 보다 높은 온도에서 바람직하게는 유체일 수 있다. 특히 이는 유기 용매, 수성 혼합물, 실질적이거나 전체적으로 용매부재 및 수부재의 액체 혼합물(100% 시스템), 실질적이거나 전체적으로 용매부재 및 수부재의 고체 분말, 또는 실질적이거나 전체적으로 용매부재의 분말 현탁액(분말 슬러리)를 포함하는 통상적인 혼합물일 수 있다.
이는 또한 일-성분계일 수 있으며, 여기서 모든 구성성분들은 일 성분으로 서로 나란히 존재한다.
이는 바람직하게는 이-성분 또는 다성분계일 수 있으며, 여기서 특히 하나 이상의 반응성 성분, 예를 들어, 폴리이소시아네이트 (C)는 고려되는 본 발명의 혼합물의 제조 및 적용 바로 전까지 다른 성분들, 특히 성분 (B)로부터 분리된 별도의 성분 (II)에 존재한다. 이러한 다른 성분들은 바람직하게는 하나 이상, 특히 하나의 성분 (I)에 존재한다.
본 문맥에서 본 발명의 용도, 본 발명의 혼합물 및 본 발명의 방법의 매우 특별한 장점은 포스폰산 디에스테르 및/또는 디포스폰산 디에스테르 (A)가 또한 본 발명의 이-성분 또는 다성분의, 폴리이소시아네이트 (C)를 포함하는 성분 (II)에 존재할 수 있으며, 바람직하게는 존재한다는 것이다.
방법의 측면에서, 본 발명의 혼합물의 제조는 독자적이지 않지만 적절한 경우 화학선의 부재하에 상술된 구성성분을 통상적으로 공지된 혼합 방법 및 장치, 예를 들어, 교반 탱크, 교반기 밀, 압출기, 배합기, 울트리투락스(Ultraturrax) 기구, 인라인 용해기, 정적 혼합기, 미세혼합기, 이빨달린 휠 분배기, 압력 방출 노즐 및/또는 미세유동기로 혼합하고 균일화시키므로써 수행된다. 임의의 제공된 개개의 경우에 대한 최적 방법의 선택은 특히 본 발명의 혼합물이 가지게 될 물리적 상태 및 3차원 형태에 의해 가이딩된다. 예를 들어, 본 발명의 열가소성 혼합물이 시트 또는 라미네이트의 형태를 갖는 경우, 슬롯 다이를 통한 압출은 특히 본 발명의 혼합물의 제조 및 이의 형상화를 위해 적절하다.
얻어진 본 발명의 혼합물은 바람직하게는 임의의 매우 광범위한 최종 용도를 제공하는 신규한 경화된 물질, 특히 신규한 열경화성 물질을 제조하는데 사용되며, 하기에서 "본 발명의 물질"로 언급된다.
본 발명의 혼합물은 바람직하게는 몰딩 및 시트용 출발 제품이며, 그밖에 코팅 물질, 접착제 또는 밀봉제, 특히 코팅 물질이다.
본 발명의 물질은 바람직하게는 신규한 몰딩, 시트, 코팅, 접착층, 및 밀봉물, 특히 신규한 코팅이다.
특히 본 발명의 코팅 물질은 프라이밍(priming) 물질, 전착코트 물질, 스톤방지칩 프라이머, 서페이서, 칼라 및/또는 이펙트 베이스코트, 솔리드-칼라(solid-color) 및/또는 이펙트 톱코트 또는 클리어코트 물질로서 사용되어 프라이머 코팅, 전착코트, 서페이서 코트, 프라임 코트, 베이스코트, 솔리드-칼라 톱코트 및/또는 클리어코트를 제조한다.
특히 본 발명의 코팅 물질은 클리어코트 물질로서 사용되어 신규한 멀티코트 칼라 및/또는 이펙트, 전기전도성, 자기차폐 또는 형광 페인트 시스템, 특히 멀티코트 칼라 및/또는 이펙트 페인트 시스템을 형성시킨다. 본 발명의 멀티코트 페인트 시스템을 형성시키기 위하여, 통상적으로 공지된 습식상 습식(wet-on-wet) 기술 및/또는 압출 기술, 및 통상적으로 공지된 페인트 또는 시트 공압출을 사용하는 것이 바람직하다.
본 발명의 물질은 본 발명의 혼합물을 통상적으로 공지된 임시 또는 영구 기재에 도포하여 제조된다.
본 발명의 시트 및 몰딩은 바람직하게는, 통상적으로 공지된 임시 기재, 예를 들어 금속 및 플라스틱 벨트 및 금속, 유리, 나무 또는 세라믹의 시트 또는 중공체를 사용하여 제조되며, 이는 본 발명의 혼합물로부터 제조된 본 발명의 시트 및 몰딩에 손상을 입히지 않고 용이하게 제거될 수 있다.
본 발명의 혼합물이 본 발명의 코팅, 접착제 및 밀봉물을 제조하는데 사용되는 경우, 영구 기재, 예를 들어 운송수단, 특히 자동차 차체, 및 이의 부품, 빌딩의 내장재 및 외장재, 및 이의 부품, 문, 윈도우, 가구, 중공 유리기구, 코일, 콘테이너, 포장재, 소규모 부품, 광학적, 기계적 및 전기적 구성요소, 및 백색가전의 구성요소가 사용된다. 본 발명의 시트 및 몰딩은 마찬가지로 영구 기재로서 제공될 수 있다.
방법적 측면에서, 본 발명의 혼합물의 도포는 독자적인 것이 아니지만 고려되는 본 발명의 혼합물에 대해 적합한 모든 통상적으로 공지된 도포 방법, 예를 들어, 압출, 전기코팅, 사출, 분말 분무를 포함하는 분무, 나이프코팅, 스프레딩(spreading), 주입(pouring), 딥핑(dipping), 점적(trickling) 또는 롤링에 의해 수행될 수 있다. 바람직하게는 압출법 및 분무 도포법, 특히 분무 도포법이 사용된다.
이러한 도포 후에, 본 발명의 혼합물은 통상적으로 공지된 열적 경화를 수행한다.
열적 경화는 일반적으로 특정 잔류 시간(rest time) 또는 플래시오프(flashoff) 시간 후에 수행된다. 이는 30초 내지 2 시간, 바람직하게는 1분 내지 1시간, 및 특히 1 내지 45분의 기간을 가질 수 있다. 잔류 시간은 예를 들어 본 발명의 혼합물의 필름의 흐름 및 탈휘발성화를 위해 및 휘발성 구성성분, 예를 들어 임의의 존재하는 용매 및/또는 물을 증발시키기 위해 제공된다. 플래싱 오프(flashing off)는 경화를 위해 충분한 온도 보다 낮은 상승된 온도, 및/또는 감소된 대기 습도에 의해 가속될 수 있다.
이러한 가공 수단은 또한 본 발명의 도포된 혼합물, 특히 본 발명의 코팅 물질의 필름, 상세하게는 경화되지 않거나 단지 부분-경화되는 본 발명의 페인트 코트의 필름을 건조시키기 위해 사용된다.
열적 경화는 예를 들어, 가스상, 액상 및/또는 고체상의 가열된 매질, 가열된 공기, 가열된 오일, 또는 가열된 롤에 의해, 또는 마이로파 적외선 및/또는 근적외선(NIR) 광에 의해 수행된다. 가열은 바람직하게는 가압된 오븐에서 IR 및/또는 NIR 램프에 노출시키므로써 수행된다. 경화는 또한 단계별로 수행될 수 있다. 열적 경화는 실온 내지 200℃, 더욱 바람직하게는 실온 내지 180℃, 및 특히 실온 내지 160℃의 온도에서 수행된다.
열적 경화는 부가적으로 물리적 경화에 의해 보조될 수 있으며, 이러한 경우에 필름화는 본 발명의 혼합물로부터 용매의 방출에 의해 이루어지면서, 얻어진 본 발명의 물질내에 연결이 결합제의 폴리머 분자의 고리화를 통해 수행된다[참조, Roempp Lexikon Lacke and Druckfarben, Georg Thieme Verlag, Stuttgart, New York, 1998, ≫Binders≪, 73쪽 및 74쪽]. 또한 다른 필름화가 결합제 입자의 유착에 의해 수행된다[참조, Roempp Lexikon Lacke and Druckfarben, Georg Thieme Verlag, Stuttgart, New York, 1998, ≫Curing≪, 274쪽 및 275쪽].
본 발명의 얻어진 물질, 특히 본 발명의 얻어진 시트, 몰딩, 코팅, 접착층, 및 밀봉물은 운송수단, 특히 자동차 차체 및 이의 부품, 빌딩의 내장재 및 외장재 및 이의 부품, 문, 윈도우, 가구, 중공 유리기구, 코일, 콘테이너, 포장재, 소규모 부품, 예를 들어 너트, 볼트, 휠 림(wheel rim) 또는 허브 캡, 광학적 구성요소, 기계적 구성요소, 전기적 구성요소, 예를 들어 감는 기구(winding)(코일, 정적기, 회전기), 및 백색가전용 구성요소, 예를 들어, 라디에이터, 가정기구, 냉장고 케이싱 또는 식기세척기 케이싱의 수단의 몸체의 코팅, 접착성 결합, 밀봉, 랩핑(wrapping) 및 포장을 위해 현저하게 적합하다.
본 발명의 혼합물은 신규한 클리어코트를 제조하기 위해 본 발명의 클리어코트 물질로서 사용되는 경우, 매우 특정한 장점들을 제공한다.
본 발명의 클리어코트는 대개 멀티코트 페인트 시스템 또는 시트 또는 라미네이트의 최외측 코트이며, 이는 전체적인 외형을 실질적으로 결정하고 기계적 및 화학적 손상에 대해 및 방사선-유도된 손상에 대해 멀티코트 페인트 시스템 또는 시트 또는 라미네이트의 칼라 및/또는 이펙트 코트 및/또는 기재를 보호한다. 결론적으로, 클리어코트의 경도, 내스크래치성, 화학적 안정성, 및 황변현상 안정성의 결핍은 특히 엄격한 범위로 나타난다. 그러나 제조된 클리어코트는 매우 작은 황변현상을 나타낸다. 이는 고도의 내스크래치성을 가지며, 스크래치 후에 단지 매우 낮은 광택 손실을 나타낸다. 특히 Amtech/Kistler 자동차세척 시물레이션 시험에서의 광택 손실은 매우 낮다. 동시에, 이는 높은 경도 및 특히 높은 내화학성을 갖는다. 특히, 이는 현저한 기재 접착성 및 코팅간 접착성을 나타낸다.
실시예
실시예 1
이-성분계 (1) 및 클리어코트 물질 (1)의 제조
먼저, 하기 성분 (I) 및 (II)의 개개 성분들을 기술된 양으로 혼합하고 얻어진 혼합물을 균질화시켜 이-성분계 (1)를 제조하였다.
성분 (I):
- 41.15 중량부의 히드록실-함유 폴리에스테르(Bayer AG로부터의 Desmophen® A 870, 부틸 아세테이트 중 70%),
- 11.21 중량부의 아미노 수지(Cytec으로부터의 Cymel® 202),
- 5.33 중량부의 제 1 광안정화제(Ciba Specialty Chemicals로부터의 Tinuvin® 292, 부틸 아세테이트 중 10%),
- 10.67 중량부의 제 2 광안정화제(Ciba Specialty Chemicals로부터의 Tinuvin® 1130, 부틸 아세테이트 중 10%),
- 10.02 중량부의 메톡시프로필 아세테이트(MPA)/Solvesso® 100 (1:1) 및
- 2.13 중량부의 부틸 글리콜 아세테이트.
성분 ( II ):
- 19.49 중량부의 폴리이소시아네이트(BASF Aktiengesellschaft로부터의 Basonat® H1100, Solventnaphtha® 중 90%),
- 3 중량부의 디페닐 포스포네이트.
성분 (I) 및 (II)를 혼합하고, 얻어진 혼합물을 균질화하여 클리어코트 물질 (1)을 제조하였다. 이는 6 시간 넘는 가사 시간(pot life)을 가졌다.
실시예 2
클리어코트 (1)의 제조
클리어코트 (1)를 캐소드 증착되고 열적으로 경화된 전착코트 및 열적으로 경화된 서페이서 코트로 코팅된 강철 판넬 (Bonder® 26S60)을 사용하여 제조하였다.
서페이서 코트 위에 BASF Coatings AG로부터의 상업적 블랙 수성 베이스코트 물질 Brillantschwar를 도포하였다. 얻어진 수성 베이스코트 필름을 80℃에서 10분 동안 건조하였다. 이후 실시예 1로부터의 클리어코트 물질 (1)을 도포한 후, 수성 베이스코트 필름 및 클리어코트 필름 (1)을 140℃에서 22 분 동안 동시에 경화시켰다. 이는 10 ㎛의 필름 두께를 갖는 베이스코트 및 40 ㎛의 필름 두께를 갖는 클리어코트 (1)를 제공한다.
클리어코트 (1)은 완전히 깨끗하였으며, 페인트 결함, 예를 들어 수포, 비트, 크레이터가 존재하지 않으며, 빛나고 고광택을 가지며, 황변현상이 나타나지 않으며, 단단하고, 가요성, 내스크래치성, 화학적 안정성, 내에칭성 및 내마모성을 갖았다. 그러므로, 이는 최고급 자동차를 위한 멀티코트 칼라 및 이펙트 페인트 시스템의 일부인 클리어코트로서 우수하게 적합하였다.
이와 동시에, 클리어코트 물질 (1)의 가교 과정을 멜라민 밴드(1500 내지 1550 cm-1)의 주파수의 이동 및 이소시아네이트 밴드(2250 내지 2300 cm-1)의 감소를 기초로 하여 25 분 동안 ATR 결정 상에서 IR 분광기로 모니터링하였다. IR 스펙트럼은, 디페닐 포스포네이트의 존재하에 아미노 수지 및 폴리이소시아네이트 모두가 3차원 네트워크에 도입된다는 사실을 뒷받침하였다. 더욱이, 디페닐 포스포네이트의 에스테르교환반응에 의해 형성된 -O-PH-O- 구조 유닛은 또한 3차원 네트워크로 도입된다는 것이 뚜렷이 식별되었다.
실시예 C1 (비교예)
이-성분계 (C1)의 제조
3 중량부의 디페닐 포스포네이트, 6 중량부의, Cytec Industries로부터의 상업적 인산 에스테르 Cycat® 296-6(부탄올 중 50% 용액)를 사용하는 것을 제외하고 실시예 1을 반복하였다.
인산 에스테르는 성분 (II)와 양립가능하지 않았으며, 대신에 열의 방출은 광범위한 성분 (II)의 비유용성을 초래하는 원치않는 반응에 의해 이루어짐을 발견하였다.
실시예 C2 (비교예)
이-성분계 (C2), 클리어코트 물질 (C2) 및 클리어코트 (C2)의 제조
이-성분계 (C2)를 제조하기 위하여, 인산 에스테르의 용액을 성분 (I)에 첨가하는 것을 제외하고 실시예 C1을 반복하였다.
고려되는 성분 (I)의 저장시의 안정성은 실시예 1 또는 실시예 C1의 성분 (I)의 것 보다 현저하게 낮았다.
클리어코트 물질 (C2)의 제조 과정에서, 열의 방출은 혼탁함 및 비트를 초래하는 너무 이른 원치않는 반응에 의해 이루어졌다.
클러이코트 물질 (C2)의 가교 과정을 멜라민 밴드(1500 내지 1550 cm-1)의 주파수의 이동 및 이소시아네이트 밴드(2250 내지 2300 cm-1)의 감소를 기초로 하여 25분 동안 ATR 상에서 IR 분광법으로 모니터링하였다. IR 스펙트럼은 비록 아미노 수지가 가교되었지만 폴리이소시아네이트의 가교는 심하게 악영향을 미친다는 사실을 뒷받침하였다.

Claims (27)

  1. N-히드록시알킬아미노기 및/또는 N-알콕시알킬아미노기의 에스테르교환반응, 아미드교환반응, 자기-축합반응, N-알콕시알킬아미노기의 아세틸교환반응 및/또는 N-히드록시알킬아미노기의 아세탈화반응에 의해 반응될 수 있는 화합물 (B)의 반응물 및/또는 이를 위한 촉매로서의 포스폰산 디에스테르 및 디포스폰산 디에스테르 (A)의 용도.
  2. 제 1항에 있어서, 화합물 (B)가 열적으로 경화가능한 혼합물에 존재하는 용도.
  3. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 화합물 (B)가 저분자량의 올리고머 및 폴리머 화합물로 이루어진 군으로부터 선택된 용도.
  4. 제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서, 화합물 (B)가 히드록실기, 티올기, 1차 아미노기, 2차 아미노기, N-히드록시알킬아미노기, 및 N-알콕시알킬아미노기로 이루어진 군으로부터 선택된 2개 이상의 반응성 작용기를 함유하는 용도.
  5. 제 4항에 있어서,
    N-히드록시알킬아미노기 및/또는 N-알콕시알킬아미노기를 함유한 화합물 (B) 가 아미노 수지이며,
    히드록실기, 티올기, 1차 아미노기 및 2차 아미노기를 함유한 화합물 (B)가 부가 수지 및 축합 수지 및 올레핀성 불포화 모노머의 (코)폴리머로 이루어진 군으로부터 선택된 용도.
  6. 제 2항 내지 제 5항 중 어느 한 항에 있어서, 열적으로 경화가능한 혼합물이 폴리이소시아네이트 (C)를 포함하는 용도.
  7. 제 1항 내지 제 6항 중 어느 한 항에 있어서, 포스폰산 디에스테르 및 디포스폰산 디에스테르 (A)가 비환형 포스폰산 디에스테르, 환형 포스폰산 디에스테르, 비환형 디포스폰산 디에스테르 및 환형 디포스폰산 디에스테르로 이루어진 군으로부터 선택된 용도.
  8. 제 7항에 있어서, 비환형 포스폰산 디에스테르 (A)가 하기 화학식 (I)을 갖는 용도:
    Figure 112008028112354-PCT00006
    상기 식에서, 변수들은 하기 정의를 갖는다:
    R1 및 R2는 서로 동일하거나 상이하며,
    1개 내지 20개의 탄소원자를 갖는 치환되고 비치환된 알킬- , 3개 내지 20개의 탄소원자를 갖는 시클로알킬-, 및 5개 내지 20개의 탄소원자를 갖는 아릴-(여기서, 연자부호(hyphen)는 각 경우에서 라디칼 R1 또는 R2의 탄소원자와 O-P 기의 산소원자 간의 공유 결합을 기호로 나타낸 것이다);
    치환되고 비치환된 알킬아릴-, 아릴알킬-, 알킬시클로알킬-, 시클로알킬알킬-, 아릴시클로알킬-, 시클로알킬아릴-, 알킬시클로알킬아릴-, 알킬아릴시클로알킬-, 아릴시클로알킬알킬-, 아릴알킬시클로알킬-, 시클로알킬알킬아릴-, 및 시클로알킬아릴알킬- (여기서 알킬, 시클로알킬-, 및 아릴기 각각은 상술된 수의 탄소원자를 함유하며, 연자부호(hyphen)는 각 경우에서 라디칼 R1 및 R2의 탄소원자와 O-P 기의 산소원자 간의 공유 결합을 기호로 나타낸 것이다); 및
    산소원자, 황원자, 질소원자, 인원자, 및 규소원자로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 함유하는 상술된 부류의 치환되고 비치환된 라디칼- (여기서, 연자부호(hyphen)는 라디칼의 탄소원자와 O-P 기의 산소원자 간의 공유 결합을 기호로 나타낸 것이다)로 이루어진 군으로부터 선택된다.
  9. 제 7항에 있어서, 환형 포스폰산 디에스테르 (A)가 하기 화학식 (II)를 갖는 용도:
    Figure 112008028112354-PCT00007
    상기 식에서, 변수들은 하기 정의를 갖는다:
    R3 및 R4는 서로 동일하거나 상이하며,
    치환되고 비치환된, 1개 내지 20개의 탄소원자를 갖는 2가 알킬-, 3개 내지 20개의 탄소원자를 갖는 시클로알킬-, 및 5개 내지 20개의 탄소원자를 갖는 아릴- (여기서, 연자부호는 각 경우에서 라디칼 R3 또는 R4의 탄소원자와 O-P 기의 산소원자 간의 공유 결합을 기호로 나타낸 것이다);
    치환되고 비치환된, 2가 알킬아릴-, 아릴알킬-, 알킬시클로알킬-, 시클로알킬알킬-, 아릴시클로알킬-, 시클로알킬아릴-, 알킬시클로알킬아릴-, 알킬아릴시클로알킬-, 아릴시클로알킬알킬-, 아릴알킬시클로알킬-, 시클로알킬알킬아릴-, 및 시클로알킬아릴알킬- (여기서 알킬, 시클로알킬-, 및 아릴기는 각각 상술된 수의 탄소원자를 함유하며, 연자부호는 각 경우에서 라디칼 R3 및 R4의 탄소원자와 O-P 기의 산소원자 간의 공유 결합을 기호로 나타낸 것이다); 및
    산소원자, 황원자, 질소원자, 인원자 및 규소원자로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로원자를 함유하는 치환되고 비치환된, 상술된 부류의 2가 라디칼- (여기서, 연자부호는 라디칼의 탄소원자와 O-P 기의 산소원자 간의 공유 결합을 기호로 나타낸 것이다)로 이루어진 군으로부터 선택되며,
    Z는 라디칼 R3의 원자와 라디칼 R4의 원자 사이의 공유 결합이거나,
    산소원자, 치환되고 비치환된 황원자, 치환된 질소원자, 치환된 인원자, 치환된 규소원자, 1개 내지 10개의 탄소원자를 갖는 치환되고 비치환된 알킬, 3개 내지 10개의 탄소원자를 갖는 시클로알킬, 및 5개 내지 10개의 탄소원자를 갖는 아릴로 이루어진 군으로부터 선택된 2가 연결기이며, 여기서 상기 알킬, 시클로알킬, 및 아릴에는 헤테로원자가 존재하지 않거나 산소원자, 황원자, 질소원자, 인원자, 및 규소원자로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로원자를 함유한다.
  10. 제 7항에 있어서, 비환형 디포스폰산 디에스테르 (A)가 하기 화학식 (III)을 갖는 용도:
    Figure 112008028112354-PCT00008
    상기 식에서, 변수들은 상기에서 정의된 바와 같다.
  11. 제 7항에 있어서, 환형 디포스폰산 디에스테르 (A)가 하기 화학식 (IV)를 갖는 용도:
    Figure 112008028112354-PCT00009
    상기 식에서, 변수들은 상기에서 정의된 바와 같다.
  12. 제 8항 또는 제 10항에 있어서, 변수 R1 및 R2가 페닐, 메틸, 및 에틸로 이루어진 군으로부터 선택된 용도.
  13. 제 12항에 있어서, R1 및 R2가 페닐인 용도.
  14. N-히드록시알킬아미노기 및/또는 N-알콕시알킬아미노기의 에스테르교환반응, 아미드교환반응, 자기-축합반응, N-알콕시알킬아미노기의 아세틸교환반응 및/또는 N-히드록시알킬아미노기의 아세탈화반응에 의해 경화될 수 있는, 하나 이상의 포스폰산 디에스테르 및/또는 하나 이상의 디포스폰산 디에스테르 (A)를 포함하는 열적으로 경화가능한 혼합물.
  15. 제 14항에 있어서, N-히드록시알킬아미노기 및/또는 N-알콕시알킬아미노기의 에스테르교환반응, 아미드교환반응, 자기-축합반응, N-알콕시알킬아미노기의 아세틸교환반응 및/또는 N-히드록시알킬아미노기의 아세탈화반응에 의해 반응될 수 있는 하나 이상의 화합물 (B)를 포함하는 열적으로 경화가능한 혼합물.
  16. 제 14항 또는 제 15항에 있어서, 화합물 (B)가 히드록실기, 티올기, 1차 아 미노기, 2차 아미노기, N-히드록실알킬아미노기, 및 N-알콕시알킬아미노기로 이루어진 군으로부터 선택된 2개 이상의 반응성 작용기를 함유하는 열적으로 경화가능한 혼합물.
  17. 제 16항에 있어서,
    N-히드록시알킬아미노기 및/또는 N-알콕시알킬아미노기를 함유한 화합물 (B)가 아미노 수지이며,
    히드록실기, 티올기, 1차 아미노기 및 2차 아미노기를 함유한 화합물 (B)가 부가 수지 및 축합 수지 및 올레핀성 불포화 모노머의 (코)폴리머로 이루어진 군으로부터 선택된 열적으로 경화가능한 혼합물.
  18. 제 14항 내지 제 17항 중 어느 한 항에 있어서, 제 7항 내지 제 14항 중 어느 한 항에 따른 하나 이상의 포스폰산 디에스테르 및/또는 하나 이상의 디포스폰산 디에스테르 (A)를 포함하는 열적으로 경화가능한 혼합물.
  19. 제 14항 내지 제 18항 중 어느 한 항에 있어서, 하나 이상의 폴리이소시아네이트 (C)를 포함하는 열적으로 경화가능한 혼합물.
  20. 제 19항에 있어서, 이-성분 또는 다성분 시스템으로부터 제조될 수 있는 열적으로 경화가능한 혼합물.
  21. 제 14항 내지 제 20항 중 어느 한 항에 있어서, 코팅 물질인 열적으로 경화가능한 혼합물.
  22. 제 21항에 있어서, 코팅 물질이 프라이밍(priming) 물질, 전착코트 물질, 스톤방지칩 프라이머, 서페이서, 칼라 및/또는 이펙트 베이스코트, 솔리드-칼라(solid-color) 및/또는 이펙트 톱코트 또는 클리어코트 물질인 열적으로 경화가능한 혼합물.
  23. 제 22항에 있어서, 코팅 물질이 멀티코트 칼라 및/또는 이펙트 페인트 시스템을 제조하기 위한 클리어코트인 열적으로 경화가능한 혼합물.
  24. 제 1항 내지 제 6항 중 어느 한 항에 따른 하나 이상의 화합물 (B)와 제 7항 내지 제 13항 중 어느 한 항에 따른 하나 이상의 포스폰산 디에스테르 및/또는 하나 이상의 디포스폰산 디에스테르 (A)를 서로 혼합하고, 얻어진 혼합물을 균질화함을 포함하여, 제 14항 내지 제 23항 중 어느 한 항에 따른 열적으로 경화가능한 혼합물을 제조하는 방법.
  25. 제 24항에 있어서, 하나 이상의 폴리이소시아네이트 (C) 및/또는 하나 이상의 첨가제 (D)가 부가적으로 첨가되는 방법.
  26. 제 25항에 있어서, 폴리이소시아네이트 (C)가 개별물질(separate)로서 첨가되거나 별도의 성분 (II)에 첨가되는 방법.
  27. 제 26항에 있어서, 성분 (II)가 제 7항 내지 제 13항 중 어느 한 항에 따른 하나 이상의 포스폰산 디에스테르 및/또는 하나 이상의 디포스폰산 디에스테르 (A)를 포함하는 방법.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20120046154A (ko) * 2009-06-06 2012-05-09 바스프 코팅스 게엠베하 코팅제 및 이로부터 형성된 높은 내스크래치성 및 높은 내블리스터성을 지닌 코팅

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102005045150A1 (de) 2005-09-22 2007-04-05 Basf Coatings Ag Verwendung von Phosphonsäurediestern und Diphosphonsäurediestern sowie thermisch härtbare Gemische, enthaltend Phosphonsäurediester und Diphosphonsäurediester
DE102005045228A1 (de) * 2005-09-22 2007-04-05 Basf Coatings Ag Verwendung von Phosphonsäurediestern und Diphosphonsäurediestern sowie silangruppenhaltige, härtbare Gemische, enthaltend Phosphonsäurediester und Diphosphonsäurediester
DE102006024823A1 (de) 2006-05-29 2007-12-06 Basf Coatings Ag Verwendung von härtbaren Gemischen, enthaltend silangruppenhaltige Verbindungen sowie Phosphonsäurediester oder Diphosphonsäurediester, als Haftvermittler
DE102007014720A1 (de) * 2007-03-23 2008-09-25 Basf Coatings Japan Ltd., Yokohama Phosphonat-haltiges Zweikomponenten-Lacksystem, dessen Herstellung und Verwendung

Family Cites Families (81)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3525705A (en) * 1959-04-20 1970-08-25 Mobil Oil Corp Flame-resistant polyurethanes prepared from certain phorphorus compounds
US3251785A (en) * 1961-02-14 1966-05-17 Socony Mobil Oil Co Inc Flame retardant polyurethane foam and method for forming same
US3542718A (en) * 1966-08-15 1970-11-24 Wyandotte Chemicals Corp Urethane compositions
US3746572A (en) * 1971-02-23 1973-07-17 Stauffer Chemical Co Process for flame retarding fabrics
DE2559259A1 (de) 1975-12-31 1977-07-14 Dynamit Nobel Ag Silane mit verkappten funktionellen gruppen als haftvermittler
US4087585A (en) 1977-05-23 1978-05-02 Dow Corning Corporation Self-adhering silicone compositions and preparations thereof
DE2916201A1 (de) * 1979-04-21 1980-10-30 Huels Chemische Werke Ag Verfahren zur trimerisierung von diisocyanaten
US4631142A (en) * 1979-07-09 1986-12-23 Societe Nationale Elf Aquitaine (Production) Diphosphonic extractants
DE3033860A1 (de) * 1980-09-09 1982-04-15 Bayer Ag, 5090 Leverkusen Neue isocyanato-isocyanurate, ein verfahren zu ihrer herstellung, sowie ihre verwendung als isocyanatkomponente in polyurethanlacken
DE3440912A1 (de) 1984-11-09 1986-05-15 Bayer Ag, 5090 Leverkusen Verfahren zur herstellung von waermefarbbestaendigen aliphatischen und/oder cycloaliphatischen diisocyanaten und ihre verwendung zur herstellung von farbverbesserten, modifizierten polyisocyanaten
US4547397A (en) * 1984-11-15 1985-10-15 Owens-Illinois, Inc. Tintable scratch resistant coating
JPS62260868A (ja) 1986-05-07 1987-11-13 Matsumoto Seiyaku Kogyo Kk 被覆組成物
DE3621706A1 (de) * 1986-06-28 1988-01-07 Bayer Ag Verfahren zur herstellung von isocyanatgruppen aufweisenden prepolymeren, die nach diesem verfahren erhaeltlichen prepolymeren und ihre verwendung als bindemittel in einkomponentenlacken
JPH0760282B2 (ja) 1986-10-15 1995-06-28 三田工業株式会社 画像形成装置
US4810820A (en) 1987-08-12 1989-03-07 Mobay Corporation Process for the production of polyisocyanates containing allophanate groups
JP2618421B2 (ja) 1988-01-22 1997-06-11 日産自動車株式会社 下塗兼用上塗塗料組成物
DE4015155A1 (de) 1990-05-11 1991-11-14 Bayer Ag Verfahren zur herstellung von isocyanuratpolyisocyanaten, die nach diesem verfahren enthaltenen verbindungen und ihre verwendung
DE4024204A1 (de) 1990-07-31 1992-02-06 Basf Lacke & Farben Ueberzugsmittel auf der basis hydroxylgruppen enthaltender polykondensations- und polyadditionsprodukte sowie deren verwendung
US5124427A (en) 1991-01-22 1992-06-23 Miles Inc. Polyisocyanates containing allophanate and isocyanurate groups, a process for their production and their use in two-component coating compositions
CA2072167C (en) 1991-07-22 2001-12-18 Terry A. Potter Polyisocyanates containing allophanate and isocyanurate groups, a process for their production and their use in two-component coating compositions
DE4129953A1 (de) 1991-09-10 1993-03-11 Bayer Ag Polyisocyanatgemische, ein verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung
DE4130329A1 (de) * 1991-09-12 1993-03-18 Bayer Ag Waermehaertbare reaktionsharzgemische, ein verfahren zu ihrer herstellung und die verwendung zur herstellung von press-massen und formkoerpern
EP0566037A2 (en) 1992-04-14 1993-10-20 Takeda Chemical Industries, Ltd. Polyisocyanates, their production and use
US5258482A (en) * 1992-06-12 1993-11-02 Miles Inc. Polyisocyanates containing allophanate and isocyanurate groups, a process for their production from a mixture of diisocyanates and their use in two-component coating compositions
DE4229183A1 (de) 1992-09-02 1994-03-03 Basf Ag Verfahren zur Herstellung von niedrigviskosen Isocyanurat- und Urethangruppen enthaltenden Polyisocyanatmischungen
CA2144530C (en) 1992-10-13 2005-07-26 Wen Bin Chiao Polyurethane sealant compositions
US5728779A (en) * 1992-12-01 1998-03-17 Dsm N.V. Powder paint of epoxy-reactive polymer and aliphatic chain-containing polyepoxide
US5817732A (en) * 1993-02-12 1998-10-06 Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha Blocked polyisocyanate and coating composition
DE69417979T2 (de) 1993-02-12 1999-12-16 Asahi Kasei Kogyo K.K., Osaka Polyisocyanat, blockiertes polyisocyanat und beschichtungszusammensetzung
US5290902A (en) * 1993-06-22 1994-03-01 Miles Inc. Polyisocyanates containing allophanate and isocyanurate groups, a process for their production from cyclic diisocyanates and their use in two-component coating compositions
US5487638A (en) 1993-10-20 1996-01-30 Eastman Kodak Company Apparatus and method for loading rolls of web into a chamber
DE4344063C1 (de) 1993-12-23 1995-06-08 Herberts Gmbh Wäßrige Bindemitteldispersion für physikalisch trocknende Überzugsmittel und deren Verwendung
DE4426561A1 (de) * 1994-07-27 1996-02-01 Basf Ag Verfahren zur Herstellung von Phosphonsäureestern
JP3460318B2 (ja) 1994-08-17 2003-10-27 東洋製罐株式会社 フレキシブル包装用ラミネート
CA2163591A1 (en) 1994-12-20 1996-06-21 William E. Slack High viscosity, high equivalent weight polyisocyanate mixtures containing allophanate and isocyanurate groups and their use in coating compositions
DE19650478A1 (de) 1996-12-05 1998-06-10 Daimler Benz Ag Lackiertes metallisches Substrat mit einer korrosionsschützenden Haftschicht auf Basis von Polysäuren und Verfahren zum Aufbringen der Haftschicht
JP3449883B2 (ja) * 1997-03-18 2003-09-22 株式会社クラレ エステル系高分子ポリオール組成物およびその製造方法
AU6801298A (en) 1997-06-05 1998-12-10 Rohm And Haas Company Coating compositions having extended pot life and shortened cure time and combination of chemicals used therein
DE19730889A1 (de) * 1997-07-18 1999-01-21 Basf Coatings Ag Wäßriger Lack, enthaltend eine mehrkomponentige wäßrige Dispersion
NL1007186C2 (nl) * 1997-10-01 1999-04-07 Dsm Nv ß-hydroxyalkylamide groepen bevattend condensatiepolymeer.
DE19828935A1 (de) 1998-06-29 1999-12-30 Basf Ag Hochviskose Polyisocyanate enthaltende Zusammensetzungen
DE19832094A1 (de) * 1998-07-16 2000-01-27 Consortium Elektrochem Ind Flammhemmende Dispersionszusammensetzung
EP0976723A3 (en) 1998-07-31 2001-02-07 Daicel Chemical Industries, Ltd. A cycloaliphatic polyisocyanate compound, a process for the preparation thereof, a polyurethane therefrom, and an adhesive composition
JP3967475B2 (ja) 1998-09-30 2007-08-29 株式会社クラレ ポリウレタン組成物およびそれからなる皮革様シート状物
US6111001A (en) 1998-11-24 2000-08-29 Ppg Industries Ohio, Inc. Compositions containing rheology modifiers with functional group-containing polymers
WO2000037520A1 (en) 1998-12-22 2000-06-29 Akzo Nobel N.V. Thixotropic amino formaldehyde resin
AU762095B2 (en) * 1999-03-17 2003-06-19 E.I. Du Pont De Nemours And Company High solids acid etch and mar resistant clear coating composition
GB2349137B (en) 1999-04-22 2003-07-09 Sean St Anthony Mooney Flexible carrier for bottles
DE19924170A1 (de) 1999-05-25 2000-11-30 Basf Coatings Ag Thixotropierungsmittel
US6593417B1 (en) 1999-07-30 2003-07-15 Ppg Industries Ohio, Inc. Coating compositions having improved scratch resistance, coated substrates and methods related thereto
US6623791B2 (en) 1999-07-30 2003-09-23 Ppg Industries Ohio, Inc. Coating compositions having improved adhesion, coated substrates and methods related thereto
BR0012882A (pt) 1999-07-30 2002-04-09 Ppg Ind Ohio Inc Revestimentos curados tendo resistência ao risco melhorada, substratos revestidos e métodos a eles relacionados
CA2380415C (en) 1999-07-30 2007-07-17 Ppg Industries Ohio, Inc. Flexible coating compositions having improved scratch resistance, coated substrates and methods related thereto
WO2001009260A1 (en) 1999-07-30 2001-02-08 Ppg Industries Ohio, Inc. Coating compositions having improved scratch resistance, coated substrates and methods related thereto
DE19938758A1 (de) 1999-08-16 2001-02-22 Basf Coatings Ag Oligomere und Polymere auf der Basis von Diethyloctandiolen, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung
DE19948004B4 (de) 1999-10-06 2006-05-11 Basf Coatings Ag Polyurethane und Pfropfmischpolymerisate auf Polyurethanbasis sowie ihre Verwendung zur Herstellung von Beschichtungsstoffen, Klebstoffen und Dichtungsmassen
EP1134266A1 (en) * 2000-03-13 2001-09-19 Dsm N.V. Powder paint composition
JP2001262082A (ja) 2000-03-17 2001-09-26 Mazda Motor Corp 塗膜処理方法
DE10032136A1 (de) * 2000-07-01 2002-01-17 Basf Coatings Ag Thermisch und mit aktinischer Strahlung härtbares Mehrkomponentensystem, Verfahren zu seiner Herstellung und seine Verwendung
DE10048615A1 (de) 2000-09-30 2002-04-11 Degussa Nichtwäßriges, wärmehärtendes Zweikomponenten-Beschichtungsmittel
KR100816931B1 (ko) 2000-10-04 2008-03-25 제이에스알 가부시끼가이샤 시클릭 올레핀 부가 공중합체 조성물 및 가교-결합된 물질
DE10051485A1 (de) 2000-10-17 2002-04-25 Henkel Kgaa Alkoxysilanhaltige Haftvermittler für Lacke und Klebstoffe auf Metallen
JP4672135B2 (ja) 2000-12-15 2011-04-20 旭化成イーマテリアルズ株式会社 アルコキシシラン化合物及び感光性樹脂組成物
DE10132654A1 (de) 2001-03-13 2002-10-31 Fraunhofer Ges Forschung Phosphorhaltige, organisch polymerisierbare Silane und damit hergestellte Kieselsäure-Polykondensate
CN1428393A (zh) * 2001-12-24 2003-07-09 贾剑珉 高强度柔性覆盖胶及其制作方法
DE10202819C1 (de) 2002-01-25 2003-08-14 Basf Coatings Ag Verwendung von polyhydroxyfunktionalisierten Alkanen als Haftvermittler in Verbunden aus Beschichtung, Klebschicht und Scheibe sowie Verbunde dieser Art, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung
US6790896B2 (en) * 2002-03-18 2004-09-14 The University Of Chicago Composite materials with improved phyllosilicate dispersion
AT412089B8 (de) * 2002-10-21 2004-10-25 Surface Specialties Austria Addukte von epoxidharzen und von phosphor abgeleiteten säuren sowie verfahren zu deren herstellung
US20040157980A1 (en) 2003-02-06 2004-08-12 Fox Michael D. Coating composition with improved hardness, mar and etch resistance
EP1475360A1 (de) * 2003-05-05 2004-11-10 Sika Technology AG Verwendung von Alkoxygruppen aufweisenden Estern von Phosphor-Sauerstoff-Säuren als Korrosionsschutzmittel für Stahlbeton
JP4286609B2 (ja) 2003-08-01 2009-07-01 株式会社クラレ ポリオール組成物の製造方法
US20050074617A1 (en) * 2003-10-02 2005-04-07 Jun Lin Clearcoat composition having both windshield sealant and recoat adhesion
US20050238899A1 (en) 2004-04-27 2005-10-27 Isao Nagata High solids clearcoat compositions containing silane functional compounds
US7078474B2 (en) * 2004-07-07 2006-07-18 E. I. Dupont De Nemours And Company Thermally curable coating compositions
US7705110B2 (en) * 2004-12-06 2010-04-27 Ppg Industries Ohio, Inc. Non-gelled curable compositions containing imide functional compounds
DE102004060966A1 (de) 2004-12-17 2006-06-29 Basf Coatings Ag Strukturviskose härtbare Gemische, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung
DE102005045150A1 (de) 2005-09-22 2007-04-05 Basf Coatings Ag Verwendung von Phosphonsäurediestern und Diphosphonsäurediestern sowie thermisch härtbare Gemische, enthaltend Phosphonsäurediester und Diphosphonsäurediester
DE102005045228A1 (de) * 2005-09-22 2007-04-05 Basf Coatings Ag Verwendung von Phosphonsäurediestern und Diphosphonsäurediestern sowie silangruppenhaltige, härtbare Gemische, enthaltend Phosphonsäurediester und Diphosphonsäurediester
DE102006024823A1 (de) * 2006-05-29 2007-12-06 Basf Coatings Ag Verwendung von härtbaren Gemischen, enthaltend silangruppenhaltige Verbindungen sowie Phosphonsäurediester oder Diphosphonsäurediester, als Haftvermittler
US9353287B2 (en) * 2006-12-19 2016-05-31 Basf Coatings Gmbh Coating agents having high scratch resistance and weathering stability
DE102007014720A1 (de) * 2007-03-23 2008-09-25 Basf Coatings Japan Ltd., Yokohama Phosphonat-haltiges Zweikomponenten-Lacksystem, dessen Herstellung und Verwendung

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20120046154A (ko) * 2009-06-06 2012-05-09 바스프 코팅스 게엠베하 코팅제 및 이로부터 형성된 높은 내스크래치성 및 높은 내블리스터성을 지닌 코팅

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