KR20080033337A - 적응 제어신호를 발생할 수 있는 광학장치 - Google Patents

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KR20080033337A
KR20080033337A KR1020087002735A KR20087002735A KR20080033337A KR 20080033337 A KR20080033337 A KR 20080033337A KR 1020087002735 A KR1020087002735 A KR 1020087002735A KR 20087002735 A KR20087002735 A KR 20087002735A KR 20080033337 A KR20080033337 A KR 20080033337A
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후세이니 모하마드-후세인 엘
스테판 구센스
예로엔 에이. 엘. 제이. 라아이마커스
Original Assignee
코닌클리케 필립스 일렉트로닉스 엔.브이.
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Abstract

본 발명은, 광학매체, 예를 들어 DVD 또는 BD 디스크에서/디스크에 정보를 재생/기록할 수 있는 광학장치를 개시한다. 이 장치는, 매체 위에 방사빔(5)을 위치시키고/초점을 맞추는 제어수단과, 매체에서 반사된 방사빔을 검출하는 광 검출수단을 갖는다. 더구나, 표면 결함 영역(A1, A2)을 검출하는 결함 검출수단(DEFO)이 어디에 표면 결함, 예를 들어 스크래치가 존재하는지를 표시할 수 있다. 처리수단은, 빔(5.b)이 결함 영역(A1)을 벗어난 직후에 에러신호(RE, FE)를 적분하고, 바람직하게는, 미분하여 적응 제어신호들(AD_RE, AD_FE)을 인가하도록 구성된다. 광학 시스템은, 빔이 다시 결함 영역(A1)에 놓일 때, 적응 제어신호들(AD_RE, AD_FE)을 인가하여, 빔(5.d)이 결함 영역(A1)을 벗어날 때 오프트랙 편이를 줄이도록 구성된다.
광학 매체, 적응 제어신호, 표면 결함, 오프트랙 편이

Description

적응 제어신호를 발생할 수 있는 광학장치{AN OPTICAL APPARATUS CAPABLE OF GENERATING ADAPTIVE CONTROL SIGNALS}
본 발명은, 광학매체, 예를 들어 CD, DVD, HD-DVD 또는 BD 디스크를 재생/기록할 수 있는 광학장치에 관한 것이다. 광학장치는 매체 상의 표면 결함에 응답하여 적응 제어신호를 발생할 수 있다. 또한, 본 발명은, 광학장치를 작동시키는 이에 대응하는 방법에 관한 것이다.
CD, DVD 및 BD 등의 광 디스크 매체 상의 정보의 광학저장이 점점 더 많은 응용분야에서 점점 더 많이 사용되고 있다. 정보 또는 데이터는 나선형 트랙들에 배치되고, 레이저 장치를 사용하여 광 디스크 매체에 기록되거나 및/또는 광 디스크 매체에서 판독되고, 이때 레이저 장치는 광 드라이브 장치 내부에 배치된다.
광 디스크 매체는 예를 들어 사용자에 의한 부주의한 취급이나 및/또는 제조상의 결함으로 인해 표면 결함을 불가피하게 포함하게 된다. 다양한 종류의 표면 결함이 예를 들어 스크래치, 블랙 도트(black dot), 지문과 같은 다양한 표면 결함의 분류 방식에 대한에 대해 동일 출원인의 WO 2004/07321에 공지되어 있으며, 이때 째 2004/07321은 참조용으로 전체가 본 발명에 포함된다. 따라서, 표면 결함을 갖는 디스크의 강인한 재생가능 및 기록가능 성능이 광학 저장의 중요한 면이 되고 있다. 다수의 결함 관리 방법이 디스크 표면 결함을 처리하기 위해 적용된다.
그러나, 지금까지 제안된 해결책은 다음과 같은 제한된 성능을 갖는다. 제안된 해결책이 너무 늦게 개입하여 트랙 손실 상황을 설명할 수 없거나, 이와 달리 신속한 트랙 손실 검출이 절대적으로 필요할 때에는 전반적인 시스템 성능을 방해한다. 따라서, 트랙 손실 처리의 실제적인 최신기술은 신속한 트랙 손실 검출과 전반적인 시스템 성능 사이의 절충에 해당한다.
이와 같은 한가지 제안된 해결책은 US 6,189,085에 개시되어 있다. 이 문헌에서는, 광학 드라이브에 반복 제어장치가 적용되어, 제어신호, 예를 들어 포커스 에러신호(FE)에 대해 반복 제어를 수행한다. 반복 제어장치는, 제어시호의 이전의 값들을 기억하는 기억수단과, 디스크 상의 표면 결함을 검출하는 결함 검출장치를 갖는다. 디스크 상의 결함으로 인해 손상된 제어신호가 발생하는 경우에 기억수단은 보상 제어신호를 발생하도록 구성된다. 반복 제어장치는 반복적인 에러, 즉 디스크의 회전으로 인해 되풀이해서 발생하는 확장된 표면 결함을 보상하도록 적합화된다. 그러나, 보상 제어신호가 이전의 회전에만 근거하여 인가될 수도 있다. 따라서, 보상신호는 표면 결함 바로 앞과 뒤에서의 제어신호의 보간된 값들에 기초하여, 손상된 영역들 위에서 "가교역할(bridging)"을 한다. 이것은, 제어신호의 기억을 위한 기억장치의 확장된 사용이 필요하고 보간을 위한 연산 자원이 할당되어야 한다는 문제점을 갖는다.
따라서, 개량된 광학장치가 바람직하며, 특히 광학 매체 상의 표면 결함에 대해 더욱 더 효율적이고 및/또는 신뢰할 수 있는 광학장치가 바람직할 것이다.
결국, 본 발명은 바람직하게는 전술한 문제점의 한가지 이상을 단독으로 또 는 임의의 조합으로 경감하거나 해소하거나 제거하고자 한다. 특히, 광학 매체 상의 표면 결함과 관련된 종래기술의 전술한 문제점을 해소하는 광학장치를 제공하는 것을 본 발명의 목적으로 볼 수 있다.
이와 같은 목적 및 다수의 다른 목적은, 본 발명의 제 1 국면에서는, 관련된 광학 매체에서/광학 매체에 정보를 재생/기록할 수 있는 광학장치를 제공함으로써 달성되는데, 상기 광학장치는,
- 복수의 트랙들에 배치된 광학적으로 판독가능한 이펙트(effect)들을 포함하거나 및/또는 광학적으로 판독가능한 이펙트들을 기록하도록 구성된 상기 관련 광학 매체 위에 방사빔을 위치시켜 이 방사빔의 초점을 맞출 수 있는 제어수단과,
- 상기 관련 광학 매체에서 반사된 방사빔을 검출하고, 상기 매체 상의 상기 초점이 맞추어진 방사빔의 목표 위치와 실제 위치 사이의 차이를 표시하는 에러신호들(RE, FE)을 발생하도록 구성된 광 검출수단과,
- 대응하는 제어신호들(R_act, F_act)을 발생하고 상기 제어신호(R_act, F_act)를 상기 제어수단에 인가함으로써 상기 에러신호들(RE, FE) 중에서 적어도 1개에 응답하여 상기 관련 광학 매체 상의 상기 초점이 맞추어진 방사빔의 위치를 변경하도록 구성된 서보기구와,
- 상기 관련 광학 매체 상의 1개 이상의 결함 영역들(A1, A2)을 검출하는 결함 검출수단(DEFO)과,
상기 결함 검출수단(DEFO)에 의해 표시된 것과 같이, 상기 초점이 맞추어진 방사빔이 제 1 트랙(T1)에 놓이는 제 1 결함 영역(A1)을 벗어나고 있을 때 1개 이상의 상 기 에러신호들(RE, FE)을 적분하여, 1개 이상의 적응 제어신호(AD_RE, AD_FE)를 발생하도록 구성된 처리수단을 구비하고,
상기 광학장치는, 상기 관련 광학 매체 상에서 상기 제 1 트랙(T1)에 인접하는 다음의 제 2 트랙(T2) 상에 상기 초점이 맞추어진 방사빔이 다시 제 1 결함 영역(A1)에 놓일 때, 상기 1개 이상의 적응 제어신호(AD_RE, AD_FE)를 상기 제어수단에 인가하도록 구성된다.
본 발명은, 표면 결함을 가로지를 때 트랙 손실의 위험이 줄어들거나, 아마도 이 위험을 제거할 수 있는 광학장치를 얻는데 특히 유리하지만, 이것에 한정되는 것은 아니다. 더구나, 지금까지 알려진 수많은 결함 해결 조치에서 필요했던 메모리 유니트들 및/또는 연산장치들의 필요성이 줄어들었기 때문에, 본 발명은 표면 결함을 처리하는 간단하고도 효율적인 방법을 제공한다. 비교적 간단한 수단으로 인해, 각각의 표면 결함이 독특한 적응 제어신호에 의해 균형이 취해지기 때문에 본 발명은 효율적인 표면 결함 처리를 보장한다.
표면 결함과 결합하여, 본 발명은 표면 결함으로 일반적으로 알려지지 않은 반복적인 결함을 위한 결함 처리방법을 추가적으로 또는 대안적으로 제공할 수도 있다는 것을 본 발명자가 인식하였는데, 이러한 결함의 예로는 광학 매체의 회전축이 그것의 기하학적 축과 일치하지 않는다는 사실로 인한 편심 에러를 들 수 있다. 따라서, 편심율이 표면 결함의 경우에 오동작 효과를 증가시킬 수도 있지만, 이것은 본 발명에 의해 적어도 일부가 치유될 수도 있다.
본 발명과 관련하여, 초점이 맞추어진 방사빔이 제 1 결함 영역(A1)을 벗어 나고 있을 때 상기 1개 이상의 에러신호(RE, FE)의 적분은 처리수단의 전용 기억수단, 예를 들면, 적분기(INT)에 1개 이상의 에러신호의 값을 샘플링하여 누적함으로써 행해진다. 이와 같은 에러신호의 샘플링 및 누적은 현재에는 최신기술의 광 드라이브에서 일상적으로 행해지지만, 본 발명의 응용을 위해서는 제 1 결함 영역(A1)을 벗어난 직후의 각각의 에러신호에 대해 단지 1개의 샘플이 관련된다. 상기한 적분은, 예를 들어 비례-적분-미분(PID) 회로의 적분기 부분에 의해 행해질 수도 있다.
바람직하게는, 광학 시스템은, 초점이 맞추어진 방사빔이 제 1 결함 영역(A1)에 입사할 때, 1개 이상의 적응 제어신호(AD_RE, AD_FE)를 제어수단에 인가하도록 구성된다. 이것은, 결함 검출수단(DEFO)에 의해, 또는 이와 달리 또는 추가적으로 광학 시스템 및/또는 광학 매체에 의해/로부터 얻어진 타이밍 정보 및/또는 어드레스 정보에 의해 결정될 수도 있다. 이와 달리, 광학 시스템은, 초점이 맞추어진 방사빔이 제 1 결함 영역(A1)에 입사하기 직전에, 1개 이상의 적응 제어신호(AD_RE, AD_FE)가 제어수단에 인가하도록 구성될 수도 있다. 초점이 맞추어진 방사빔이 제 1 결함 영역(A1)에 위치하지만, 제 1 표면 결함(A1)에의 입사 시간에 대해 소정의 시간 지연만큼 지연되었을 때, 1개 이상의 적응 제어신호(AD_RE, AD_FE)가 제어수단에 인가되는 것도 더 생각될 수 있다.
특정한 실시예에서는, 1개 이상의 에러신호(RE, FE)의 적분값을 이득 상수와 곱하여 1개 이상의 적응 제어신호(AD_RE, AD_FE)를 발생할 수도 있다. 이득 상수는 적응 제어신호의 지속기간에 의존할 수도 있다. 일반적으로 적응 제어신호의 지속 기간과 진폭의 곱은 방사빔이 결함 영역을 벗어날 때 방사빔의 편이(drift)를 저지하거나 보상하는데 필요한 에너지를 전달하도록 구성된다. 일반적으로, 이득 상수는 제로값 내지 100의 범위를 갖는다(이득 상수는 무차원이다).
특정한 실시예에서, 초점이 맞추어진 방사빔이 제 1 결함 영역(A1)을 벗어날 때, 상기 처리수단이 1개 이상의 에러신호(RE, FE)를 미분하여 1개 이상의 적응 제어신호(AD_RE, AD_FE)를 발생하도록 더 구성될 수도 있다. 1개 이상의 에러신호의 미분은 방사빔이 결함 영역을 벗어난 직후에 행해져야 한다. 바람직하게는, 1개 이상의 적응 제어신호(AD_RE, AD_FE)는 거의 정사각형의 펄스를 포함할 수도 있다. 이와 달리, 1개 이상의 적응 제어신호(AD_RE, AD_FE)는 반대의 극성을 갖는 2개의 거의 정사각형 펄스를 포함할 수도 있다. 상기한 미분을 수행한 후에, 1개 이상의 에러신호의 행해진 적분에 대한 부가물로서 다른 제약이 주어진다. 이것은 적응 제어신호가 2개의 자유도를 가질 수 있게 하며, 이에 대응하는 광범위한 범위의 형상, 시간 의존성 등이 가능하다.
초점이 맞추어진 방사빔이 제 1 결함 영역(A1)을 벗어날 때, 초점이 맞추어진 방사빔의 위치가 상기 제 2 트랙(T2) 위에 거의 놓이도록 1개 이상의 적응 제어신호(AD_RE, AD_FE)가 바람직하게 구성될 수도 있다. 따라서, 결함 영역을 벗어날 때 거의 제로값에 가깝거나 제로값의 트랙을 벗어난 편이(off track deviation)가 존재한다. 더구나, 초점이 맞추어진 방사빔이 제 1 결함 영역(A1)을 벗어날 때, 초점이 맞추어진 방사빔이 상기 제 2 트랙(T2)에 수직한 방향으로 거의 제로값의 속도를 갖도록 상기 1개 이상의 적응 제어신호(AD_RE, AD_FE)가 구성될 수도 있다. 따라서, 방사빔은 결함 영역을 벗어날 때 거의 제로값 또는 제로값의 반경방향의 속도를 갖는다. 이와 같은 적응 제어신호는 나중에 상세히 설명하는 것과 같이, 예를 들어 모델링에 의해 얻어질 수도 있다.
제 2 국면에서, 본 발명은 광학장치를 작동하는 방법에 관한 것으로, 이 방법은,
1) 복수의 트랙(T1, T2)에 배치된 광학적으로 판독가능한 이펙트들을 포함하거나 및/또는 광학적으로 판독가능한 이펙트들을 기록하도록 구성된 관련된 광학 매체 위에 제어수단에 의해 방사빔을 위치시켜 초점을 맞추는 단계와,
2) 목표 위치와 상기 매체 상의 초점이 맞추어진 방사빔의 실제 위치 사이의 차이를 표시하는 에러신호들(RE, FE)을 발생하도록 구성된 광 검출수단에 의해 상기 관련 광학매체에서 반사된 방사빔을 검출하는 단계와,
3) 대응하는 제어신호(R_act, F_act)를 발생하여 상기 제어신호들(R_act, F_act)을 상기 제어수단에 인가함으로써 상기 에러신호들(RE, FE) 중에서 적어도 1개에 응답하여 상기 관련 광학매체 상의 상기 초점이 맞추어진 방사빔의 위치를 변경하도록 구성된 서보기구를 제공하는 단계와,
4) 결함 검출수단(DEFO)에 의해 상기 관련 광학 매체 상의 1개 이상의 표면 결함 영역들(A1, A2)을 검출하는 단계와,
5) 상기 결함 검출수단(DEFO)에 의해 표시된 것과 같이, 상기 초점이 맞추어진 방사빔이 제 1 트랙(T1)에 놓인 제 1 결함 영역(A1)을 벗어나고 있을 때, 처리수단에 의해 1개 이상의 에러신호(RE, FE)를 적분하여 1개 이상의 적응 제어신호(AD_RE, AD_FE)를 발생하는 단계와,
6) 상기 관련 광학 매체 상에서 상기 제 1 트랙(T1)에 인접하는 다음의 제 2 트랙(T2) 상에 상기 초점이 맞추어진 방사빔이 다시 제 1 결함 영역(A1)에 놓일 때, 상기 1개 이상의 적응 제어신호(AD_RE, AD_FE)를 상기 제어수단에 인가하는 단계를 포함한다.
이와 같은 국면에 따른 본 발명은, 광학 매체에서/광학매체에 대한 정보의 강인한 재생성 및/또는 기록성을 갖는 광학장치를 작동하는 방법을 제공하는데 특히 유리하지만, 이것에 한정되는 것은 아니다. 더구나, 본 발명은, 지금까지 알려진 부품/부분을 새롭고 이롭게 적용하여 가까운 미래에 제조될 광 드라이브에서 신속하고도 효율적인 구현을 제공한다는 이점을 갖는다.
제 3 국면에서, 본 발명은, 관련된 데이터 저장수단을 갖는 적어도 1개의 컴퓨터를 구비한 컴퓨터 시스템이 본 발명의 제 2 국면에 따른 광학장치를 제어할 수 있도록 구성된 컴퓨터 프로그램 제품에 관한 것이다.
본 발명의 이와 같은 국면은, 컴퓨터 시스템이 본 발명의 제 2 국면의 동작을 수행할 수 잇도록 하는 컴퓨터 프로그램 제품에 의해 구현될 수도 있다는 점에서 특히 유리하지만, 이것에 한정되는 것은 아니다. 따라서, 상기한 광학 장치를 제어하는 컴퓨터 시스템 상에 컴퓨터 프로그램 제품을 설치함으로써 일부의 공지된 광학장치가 본 발명에 따라 동작하도록 변형될 수도 있다는 것이 생각된다. 이와 같은 컴퓨터 프로그램 제품은 모든 종류의 컴퓨터 판독가능한 매체, 예를 들어 자기 또는 광학 기반의 매체 위에, 또는 컴퓨터기반 네트워크, 예를 들어 인터넷을 통해 제공될 수도 있다.
본 발명의 제 1, 제 2 및 제 3 국면은 각각 다른 국면과 결합될 수도 있다. 본 발명의 이와 같은 국면과 다른 국면은 이하에서 설명하는 실시예들을 참조하여 명백해질 것이다.
이하, 다음의 첨부도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명한다:
도 1은 본 발명에 따른 광학장치의 일 실시예의 개략도이고,
도 2는 광학 매체 상의 결함 영역(A1)을 나타낸 것이며,
도 3은 본 발명에 따른 다양한 적응 제어신호들을 나타낸 그래프이고,
도 4는 본 발명에 따른 제어수단의 액추에이터의 전기기계 모델을 나타낸 것이며,
도 5는 본 발명에 따른 방법의 흐름도이다.
도 1은 본 발명에 따른 광학장치와 광 정보매체(1)를 나타낸 것이다. 이 매체(1)는 지지수단(30)에 의해 고정되어 회전된다.
매체(1)는 방사빔(5)을 사용하여 정보를 기록하는데 적합한 재료를 포함한다. 기록 재료는, 예를 들면, 광자기형, 상변화형, 염료형, Cu/Si 등의 금속 합금 또는 다른 적합한 재료일 수 있다. 정보는 매체(1) 위에 재기록형 매체에 대해서는 마크로 불리고 1회 기록형 매체에 대해서는 피트로 불리는 광학적으로 검출가능한 영역의 형태로 기록될 수 있다.
이 장치는 광 픽업장치(OPU)로 불릴 때도 있는 광학 헤드(20)를 구비하는데, 이 광학 헤드(20)는 구동수단(21), 예를 들어 전기 스텝핑 모터에 의해 변위가능하다. 광학 헤드(20)는 광 검출 시스템(10), 방사원(4), 빔 스플리터(6), 대물렌즈(7)와, 렌즈 변위수단(9)을 구비한다. 광학 헤드(20)는 방사빔을 3 스폿 차동 푸시풀 래디얼 트랙킹 또는 다른 응용가능한 제어방법에 사용하기 위해 방사빔(5)을 적어도 3개의 성분으로 분리할 수 있는 격자나 홀로그래픽 패턴 등의 빔 분할수단(22)을 더 구비한다. 간략을 기하기 위해, 방사빔(5)을 빔 분할수단(22)을 통과한 후에 단일 빔으로 도시하였다. 마찬가지로, 반사된 방사빔(8)도 1개보다 많은 수의 성분, 예를 들면 3개의 스폿과 그것의 회절광을 포함할 수도 있지만, 간략을 기하기 위해 도 1에는 단지 1개의 빔(8)만 도시하였다.
광 검출 시스템(10)의 기능은 매체(1)에서 반사된 방사빔(8)을 전기신호로 변환하는 것이다. 따라서, 광 검출 시스템(10)은 전처리기(11)로 전송될 수 있는 1개 이상의 전기 출력신호를 발생할 수 있는 다수의 광 검출기들, 예를 들어 포토다이오드, 전하결합소자(CCD) 등을 구비한다. 광 검출기들은 서로 공간적으로 배치되고 전처리기(11)에서 에러신호들, 즉 포커스 에러 FE와 래디얼 트랙킹 에러 RE의 검출을 가능하게 하기 위해 충분한 시간 해상도를 갖고 배치된다. 따라서, 전처리기(11)는 포커스 에러 FE와 래디얼 트랙킹 에러 RE 신호를 프로세서(50)로 전달하여, 이 프로세서에서 매체(1) 위에서의 방사빔(5)의 반경 방향의 위치와 초점 위치를 제어하기 위해 PID(proportional-integrate-differentiate) 제어수단의 사용에 의해 동작하는 널리 알려진 서보기구가 적용된다.
광 검출 시스템(10)은 매체(1)에서 판독되는 정보를 표시하는 판독신호 또는 RF 신호를 전처리기(11)를 통해 프로세서(50)에 더 전달할 수도 있다. 이 판독신호는 프로세서(50)에서 RF 신호의 저역 필터링에 의해 중앙 개구(central aperture: CA) 신호로 변환될 수도 있다.
방사빔(5)을 방출하는 방사원(4)은 예를 들면 가변 파워를 갖고, 아마도 가변 파장의 방사빔을 갖는 반도체 레이저일 수 있다. 이와 달리, 방사원(4)은 1개보다 많은 수의 레이저를 포함할 수도 있다.
방사빔(5)이 빔 스플리터(6)와 대물렌즈(7)를 통해 광학 매체(1)를 향하도록 광학 헤드(20)가 광학적으로 배치된다. 매체(1)에서 반사된 방사빔(8)은 대물렌즈(7)에 의해 집광되고, 빔 스플리터(6)를 통과한 후에, 광 검출 시스템(10)에 부딪치고, 이 광 검출 시스템이 입사 방사빔(8)을 전술한 것과 같이 전기 출력신호로 변환한다.
프로세서(50)는 전처리기(11)에서 출력신호를 수신하여 분석한다. 프로세서(50)는, 도 1에 도시된 것과 같이, 출력 제어신호를 구동수단(21), 방사원(4), 렌즈 변위수단(9)(여기에는 F_act 및 R_act를 출력), 전처리기(11) 및 지지수단(30)에 출력할 수 있다. 마찬가지로, 프로세서(50)는 61로 나타낸 데이터를 수신할 수 있으며, 프로세서(50)는 60으로 표시된 것과 같이 판독처리에서 데이터를 출력할 수도 있다. 본 발명과 관련해서, 총괄적인 용어 "제어신호"는 래디얼 제어신호 R_act와 포커스 제어신호 F_act 모두를 포함하는 것으로 생각되며, 이 총괄적인 용어 "제어신호"를 E_act로 약칭한다.
매체(1)의 반경 방향으로의 렌즈(7)의 변위는 액추에이터 9 및 21에 의해 2단계로 수행된다. 액추에이터 9는 "미세" 위치지정(나노미터 정밀도)을 위해 사용되는 반면에, 액추에이터 21은 예를 들어 스텝핑 모터를 이용하여 "대략적인" 위치지정(마이크로미터 정밀도)을 위해 사용된다. 본 발명과 관련해서 인가되는 적응 제어신호는 펄스 발생수단 PULSE GEN에 의해 발생되며, 상기한 펄스 발생수단은 액추에이터 9를 제어하기 위해, 즉 미세 위치지정을 위해 신호를 출력할 수 있다. 그러나, 적응 제어신호가 이와 같은 용도에 한정되는 것은 아니다.
특히, 프로세서(50)는 매체(1) 상의 1개 이상의 결함 영역 A1 및 A2(미도시)의 검출을 위한 결함 검출수단 DEFO를 구비하는데, 이에 대해서는 도 2를 참조하기 바란다. 본질적으로는, DEFO는 다수의 에러신호, 주로 RF 신호의 저역 필터링된 신호를 연속적으로 모니터링하여, 이들 모니터링된 신호들 중에서 어느 하나가 표면 겨함 A1, 예를 들어 스크래치의 명백한 징후를 발생하는 특정한 임계값을 초과하거나 이 임계값 아래로 떨어지는지 여부를 판정한다. 구체적으로 설명하면, DEFO는 엔벨로프된(enveloped) RF 신호의 진폭을 모니터링할 수 있다. 결함 검출수단에 대한 더 상세한 내용은 US 4,682,314에 기재되어 있으며, 이 특허내용은 그 전체 내용이 참조를 위해 본 발명에 포함된다. DEFO는 다수의 결함 A1, A2, A3 등을 검출할 수 있다.
표면 결함의 명백한 확신시에, 일반적으로 매체(1)의 회전속도와 DEFO 설정에 의존하여 20∼40 마이크로초 정도의 짧은 지연 내에, 예를 들어, 방사빔(5)이 더 이상 표면 결함이 있는 영역에 놓이지 않을 때까지 에러신호들을 제로값으로 설 정함으로써, 에러신호들 RE 및 FE에 근거하여 1개 이상의 서보기구의 활성 동작을 중지시키는 것이 당업계에서 널리 사용되고 있다. 본 발명과 관련해서, DEFO는 래디얼 에러신호 RE 및/또는 포커스 에러신호 FE에서 1개 이상의 샘플들의 샘플링을 개시하는 역할을 더 수행하는데, 상기한 샘플들은 처리수단(50)의 적분수단 INT에 의해 초점이 맞추어진 방사빔(5)이 결함 영역 A1을 벗어나거나 떠날 때 결함 영역 A1으로부터 1개 이상의 에러신호들 RE 및 FE를 적분하도록 의도된다.
프로세서(50)는 미분수단 DIF, 즉 미분기에 의해 초점이 맞추어진 방사빔(5)이 결함 영역 A1의 거의 주변부에 위치할 때 결함 영역 A1에서 1개 이상의 에러신호들 RE 및 FE를 미분하여 1개 이상의 적응 제어신호 AD_RE 및 AD_FE를 발생하도록 더 구성된 처리수단을 더 구비한다. 따라서, 바람직하게는 표면 결함 A1 위의 방사빔(5)의 출구 위에서 또는 그것의 바로 앞에서 얻어지는 RE 및 FE의 적어도 2개의 값으로부터, 에러신호 RE 및/또는 FE의 경사가 얻어진다. 이 1개 이상의 경사를 사용하여 후술하는 것과 같이 적응 제어신호들 AD_RE 및 AD_FE를 발생한다.
도 2는 결함 영역 A1에 놓인 부분을 갖는 제 1 트랙 T1 및 제 2 트랙 T2를 지닌 광학 매체(1) 상의 결함 영역 신호 A1을 나타낸 것이다. 도 2a에서는, 빔(5)이 제 1 트랙 위에 놓이는 반면에, 도 2b에서는 빔(5)이 제 2 트랙 T2 위에 놓인다 결함 A1에 대한 빔(5)의 입사 위치와 출구 위치를 이들 2개의 트랙에 대해 개략적으로 표시하였다. 도 2에 굵은 화살표로 표시한 것과 같이 매체(1)가 우측에서 좌측으로 회전하여, 빔(5)이 도 2에서 우측으로부터 좌측으로 상대 운동을 갖게 한다. 도 2a에서는, 중첩된 시간 스케일로 DEFO 신호와 래디얼 에러신호로 표시하였 다.
도 2a에 도시된 것과 같이, 방사빔(5.a)이 결함 영역 A1에 들어가려고 한다. 빔(5)이 A1에 놓인 것을 DEFO가 표시하여, 프로세서(50)가 가능한한 빨리 래디얼 및 포커스 서보 루프를 중단하여, RE를 제로값으로 설정한다. 그러나, 상기한 루프들이 정지되기 전에, 루프들은 훼손된 에러신호 부분(100)으로 표시된 것과 같이 보통 위치와 초점의 에러를 일으키는데, 즉 빔 5.b가 트랙 T1의 중심 위치에서 변위된다. 결함 A1 내부에서, 빔(5)이 트랙 T1을 벗어나 계속 편이되어, 아마도 5.b로 표시한 결함의 출구 위치에서는 결국 다음 트랙 T2 위에 놓일 수도 있다. 이것은 매체(1) 위에/매체에서 정보의 기록/재생 과정에서 에러를 발생하게 된다. 또한, 빔(5)이 위치 5.b에서 위치와 반경 방향의 속도에 있어서 큰 오프트랙(off-track) 편이를 갖고 결함을 벗어나는 것도 가능하다. DEFO가 비활성화되고 서보 루프들이 재시작한 후에, 래디얼 에러신호는 에러신호 부분 110으로 표시된 것과 같이 일시적 거동을 나타낸다. 이것은 트랙을 다시 찾는데 지연을 생기게 하며, 이에 따라서, 빔 5.b를 다시 위치시켜야 하므로 매체(1)로부터의 정보의 기록/재생 지연을 일으킨다. 이와 같은 트랙을 다시 찾는데 걸리는 지연은 전형적으로 100 마이크로초 내지 1 밀리초의 범위를 갖는다. 도 2a에서는, DEFO의 활성화와 DEFO의 비활성화 모두에 대해 야간의 지연이 존재한다는 점에 주목하기 바란다. 이것은 DEFO의 상승부 및 하강부와 평행한 2개의 수평선으로 각각 표시하였지만, 2개의 수평선은 각각 A1의 시작위치의 우측과 A1의 종료위치의 우측에 놓인다. 그러나, 고 2에 표시된 지연이 항상 존재할 필요는 없다.
도 2b에서는, 빔 5.c가 결함 영역 A1에 다시 들어간다. 도 2a의 상태와 마찬가지로, 서보 루프가 정지된다. 본 발명에 따르면, 적응 제어신호 AD_Re 및 AD_Fe가 제어수단, 즉 액추에이터(9)에 인가되어, 제 2 트랙 위의 중심 위치에서 벗어난 오프트랙 변위를 방지하거나 저지한다. 따라서, 빔 5.d가 결함 영역 A1을 벗어날 때 오프트랙 변위를 겪지 않으므로, 빔 5.d가 거의 제 2 트랙 T1 위에 놓인다. 바람직하게는, 빔 5.d는 결함 영역 A1을 벗어난 직후에 트랙 T2에 수직한 방향으로 속도 성분을 갖지 않는다.
본 발명의 중요한 특징은, 초점이 맞추어진 방사빔 5 및 5.c가 다시 제 1 결함 영역의 다음의 제 2 트랙 T2 위의 놓일 때 제어수단(9)에 적응 제어신호 AD_RE 및 AD_FE를 인가하는 점이다.
도 3은, 도 3a의 기간 TDEFO 중의 결함을 표시하는 결함 검출수단 DEFO의 응답과 함께, 시간의 함수로써의 본 발명에 따른 다양한 적응 제어신호의 그래프를 나타낸 것이다. 적응 제어신호 AD_RE 및 AD_FE를 도 3에 일반적으로 ΔE로 약자로 나타내었다.
도 3b 및 도 3c는 1의 자유도(DoF)를 갖는 적응 제어신호 AD_RE 및 AD_FE의 실시예이다. 따라서, 에러신호의 적분된 값을 제공하면, 적응 제어신호 AD_RE 및 AD_FE가 발생된다. 도 3b 및 도 3c의 적응 제어신호는 거의 정사각형 펄스로서, 진폭이 변조되고 주기가 고정되거나, 이와 달리 진폭이 고정되고 주기가 변조된다. 특정한 실시예에서는, 적응 제어신호의 주기는 TDEFO이지만, TDEFO의 0.1, 0.2, 0.3, 0.4, 0.5, 0.6, 0.7, 0.8 또는 0.9 등과 같은 소정의 값이 적용될 수도 있다.
도 3b에 도시된 실시예들에 대해서는, 고정된 시간 기준에 의해 고정된 기간이 정의될 수도 있다. 고정된 시간 기준은 DEFO가 활성인 기간보다 짧다. 고정된 시간 기준은 바람직하게는 1, 2, 4, 10, 20, 30, 40, 50, 60, 70, 80, 90 또는 100 마이크로초이다.
도 3d 및 도 3e는 2의 자유도(DoF)를 갖는 적응 제어신호 AD_RE 및 AD_FE의 실시예를 나타낸 것이다. 매체(1)의 이전의 회전의 에러신호들의 미분이 수행되는 경우에 2의 자유도가 실현가능하다. 이와 같은 미분은 레이저 빔(5)이 5.b에서 결함 영역 A1을 벗어난 직후에 에러신호들 RE 및 FE의 2개(또는 그 이상의) 샘플들을 취함으로써 행해져야 한다. 이와 달리 미분은 에러신호 RE 및 FE가 신뢰성을 갖는 즉시 행해질 수도 있는데, 즉 RE 및 FE의 취해진 샘플들이 신뢰성을 갖도록 확보하기 위해 취해진 샘플들은 1개 이상의 프로세서사이클 후에 취할 수도 있다. 이것은 1의 자유도를 갖는 경우에도 적용된다. 결함 A1의 출구에서의 에러신호의 얻어진 미분값을 빔 5.d의 반경 방향의 속도를 줄이기 위해, 아마도 제거하기 위해 적응 제어신호를 발생하기 위해 적용될 수도 있는 방사빔 5.d의 속도의 표시를 제공한다.
도 3d에 도시된 실시예에 대해서는, 적응 제어신호가 가변 진폭과 가변 주기 모두를 가질 수 있는 거의 정사각형 펄스이다. 이 결과 생긴 펄스는 결함 영역 A1을 벗어날 때 방사빔 5.d의 오프트랙 편이와 제로값의 반경 방향의 속도를 최소화하도록 변형된다.
도 3e에 도시된 실시예에 대해서는, 적응 제어신호가 반대 부호를 갖는 2개의 정사각형 펄스를 포함한다. 고정된 기간은 이 경우에는 TDECO의 0.1, 0.2, 0.3, 0.4, 0.5, 0.6, 0.7, 0.8 또는 0.9배 등의 소정값으로 설정될 수도 있다. 그후, 결과적으로 얻어지는 펄스가 결함 영역 A1을 벗어날 때 방사빔 5.d의 오프트랙 편이와 제로값의 반경방향의 속도를 최소화하도록 변경되게 2개의 대응하는 진폭이 모델링된다. 이하에서는 본 발명에 따른 적응 제어신호를 얻기 위해 적용될 수 있는 적절한 모델의 일례를 제시한다. 그러나, 본 발명의 발명내용이 이와 같은 특정한 모델에 한정되는 것은 아니다.
도 3e에 도시된 실시예에 대해서는, 2개의 펄스를 분리하는 고정 기간이 고정 시간 기준에 의해 정의될 수도 있다. 고정 시간 기준은 DEFO가 활성인 기간보다 짧아야 한다. 고정 시간 기준은 바람직하게는 1, 2, 5, 10, 20, 30, 40, 50, 60, 70, 80, 90 또는 100 마이크로초이다.
도 3b 및 도 3c와 도 3d 및 도 3e의 우측에는, 1의 자유도와 w의 자유도(DoF)의 경우에 적응 제어신호 ΔE의 발생의 블록도가 각각 도시되어 있다. 따라서, 1의 DoF에 대해서는 펄스 발생기 PULSE GEN이 예를 들어 적분기 INT에서 RE의 적분값을 수신하는 반면에, 2의 DoF에 대해서는 펄스 발생기 PULSE GEN이 미분기 DIF에서 미분값을 추가로 수신한다.
도 4는 제어수단의 액추에이터(9)의 전기기계 모델(40)을 나타낸 것으로, 상기한 전기기계 모델은 가동부(41), 저항 R, 인덕터 L, 스프링 Ks와 완충부재 Kd를 구비한다. 이 전기기계 모델(40)의 전기 부분에는 전압 E(t)와 전류 i(t)가 공급된다. 가동부(41)의 위치는 x(t)로 주어진다. 도 4에 마찬가지로 도시한 증폭수단(16)은 서보신호 Eact가 주어질 때 전압 E(t)와 전류 i(t)를 발생한다. 전기기계 모델(40)은 이하에서 주어지는 수식 1, 수식 2, 수식 3 및 수식 4를 이용하여 모델링될 수 있다. 특정한 해결책에 제한되지 않으면서, 이와 같은 모델링에서 발생된 적응 제어신호는 삼각함수, 지수함수와 다항식을 임의의 순서로 포함할 수 있다.
가동부의 기계적 위치 x(t)는 수식 1의 해로 주어진다:
수식 1:
Figure 112008008474511-PCT00001
이때,
F(t): 액추에이터에 가해진 전체 힘(이 경우에는 로렌츠 힘)[N]
m: 액추에이터의 가동부의 질량[kg]
Kd: 완충상수[N·s/m]
Ks: 스프링 상수[N/m]
전기기계적 관계는 수식 2 및 수식 3으로 주어진다.
수식 2:
Figure 112008008474511-PCT00002
수식 3:
Figure 112008008474511-PCT00003
이때,
i(t)L 파워 드라이브에 의해 코일 내부에 주입된 전류[A],
EMF(t): 자기장에서 움직이는 코일에 의해 발생된 기전력[V],
Kf: 힘 상수[N/A].
Ke: 전기상수[V·s/m]
전기적 관계는 수식 4로 주어진다;
수식 4:
Figure 112008008474511-PCT00004
이때,
e(T): 코일 상의 가해진 전압,
L: 코일 인덕턴스,
R: 코일 저항.
수식 1 내지 수식 4를 푸는 것은 증폭기(16)의 비례 이득을 가정할 때 매체(1) 상의 방사빔(5)의 궤적의 정밀한 재구성을 허용한다. 이 전기기계 시스템은 서보신호 E_act를 입력으로 사용하고 가동부(41)의 위치 X(s)를 출력으로 사용하는 선형 라플라스(주파수) 도메인으로 변환될 수 있다.
도 5는 본 발명에 따른 방법의 흐름도를 나타낸 것이다. 이 방법은 관련 광학 매체(1)에서/매체에 정보를 재생/기록할 수 있는 광학장치를 작동시키는데 적용될 수 있다. 이 방법은 다음과 같은 단계를 포함한다:
S1) 복수의 트랙 T1, T2에 배치된 광학적으로 판독가능한 이펙트들을 포함하거나 및/또는 광학적으로 판독가능한 이펙트들을 기록하도록 구성된 관련된 광학 매체 위에 제어수단 9 및/또는 21에 의해 방사빔(5)을 위치시켜 초점을 맞추는 단계(도 2 참조)와,
S2) 목표 위치와 상기 매체(1) 상의 초점이 맞추어진 방사빔의 실제 위치 사이의 차이를 표시하는 에러신호들 RE 및 FE를 발생하도록 구성된 광 검출수단(10)에 의해 상기 관련 광학매체(1)에서 반사된 방사빔(8)을 검출하는 단계와,
S3) 대응하는 제어신호 R_act, F_act를 발생하여 상기 제어신호들 R_act 및 F_act를 상기 제어수단(9)에 인가함으로써 상기 에러신호들 RE 및 FE 중에서 적어도 1개에 응답하여 상기 관련 광학매체 상의 상기 초점이 맞추어진 방사빔(5)의 위치를 변경하도록 구성된 서보기구를 제공하는 단계와,
S4) 결함 검출수단 DEFO에 의해 상기 관련 광학 매체 상의 1개 이상의 표면 결함 영역들 A1 및 A2를 검출하는 단계와,
S5) 상기 결함 검출수단 DEFO에 의해 표시된 것과 같이, 상기 초점이 맞추어진 방사빔 5.b가 제 1 트랙 T1에 놓인 제 1 결함 영역 A1을 벗어나고 있을 때, 처리수단에 의해 1개 이상의 에러신호 RE 및 FE를 적분하여 1개 이상의 적응 제어신호 AD_RE, AD_FE를 발생하는 단계(이에 따라서, 표면 결함이 존재하는 것으로 DEFO가 표시하지 않는 직후에, 처리수단이 1개 이상의 에러신호를 적분한다)와,
S6) 상기 관련 광학 매체 상에서 상기 제 1 트랙 T1에 인접하는 다음의 제 2 트랙 T2 상에 상기 초점이 맞추어진 방사빔 5.c가 다시 제 1 결함 영역(A1)에 놓일 때, 상기 1개 이상의 적응 제어신호 AD_RE, AD_FE를 상기 제어수단에 인가하는 단계를 포함한다. 따라서, 트랙들 T1 및 T2는 매체(1) 상의 인접하는 트랙이다.
이때, 초점이 맞추어진 빔 5.c가 표면 결함 A1에 다시 들어갈 때 1개 이상의 적응 제어신호를 인가하기 위해, 제어수단의 제어신호들 R_act 및 F_act도 마찬가지로 또는 대안적으로 포함시켜 대응하는 적응 제어신호를 발생하는 것이 본 발명의 발명내용에 포함된다는 점에 주목하기 바란다. 그러나, 이와 같은 방법은, 제 1 결함 영역(A1)을 벗어날 때 방사빔(5)의 위치와 상대적인 반경방향의 위치와 이미 처리된 신호를 통해 이들 제어신호에서만 검색될 수 있으므로 더 간접적인 접근법이다.
특정한 실시예들과 관련하여 본 발명을 설명하였지만, 본 발명이 본 명세서에서 설명한 특정한 형태에 한정되지는 않는다. 그 보다는, 본 발명의 보호범위는 첨부된 청구범위에 의해서만 제한된다. 청구항에서, 포함한다는 용어는 다른 구성요소들 또는 단계들의 존재를 배제하지 않는다. 더구나, 개별적인 특징들이 서로 다른 청구항에 포함될 수 있지만, 이들 특징부가 유리하게 결합될 수도 있으며, 다양한 청구항에의 포함이 이들 특징부의 조합이 실현가능하지 않거나 및/또는 유리하지 않다는 것을 시사하는 것이 아니다. 더구나, 단일의 언급이 복수의 언급을 배제하지 않는다. 따라서, "a", "an", "first", "second" 등의 언급이 복수를 배제하는 것이 아니다. 더구나, 청구항의 참조번호가 청구범위를 제한하는 것으로 해석되어서는 않된다.

Claims (10)

  1. 관련된 광학 매체(1)에서/광학 매체에 정보를 재생/기록할 수 있는 광학장치로서,
    복수의 트랙들(T1, T2)에 배치된 광학적으로 판독가능한 이펙트들을 포함하거나 및/또는 광학적으로 판독가능한 이펙트들을 기록하도록 구성된 상기 관련 광학 매체 위에 방사빔(5)을 위치시켜 이 방사빔의 초점을 맞출 수 있는 제어수단(9, 21)과,
    상기 관련 광학 매체에서 반사된 방사빔(8)을 검출하고, 상기 매체 상의 상기 초점이 맞추어진 방사빔(5)의 목표 위치와 실제 위치 사이의 차이를 표시하는 에러신호들(RE, FE)을 발생하도록 구성된 광 검출수단(10)과,
    대응하는 제어신호들(R_act, F_act)을 발생하고 상기 제어신호(R_act, F_act)를 상기 제어수단(9, 21)에 인가함으로써 상기 에러신호들(RE, FE) 중에서 적어도 1개에 응답하여 상기 관련 광학 매체(1) 상의 상기 초점이 맞추어진 방사빔(5)의 위치를 변경하도록 구성된 서보기구와,
    상기 관련 광학 매체 상의 1개 이상의 결함 영역들(A1, A2)을 검출하는 결함 검출수단(DEFO)과,
    상기 결함 검출수단(DEFO)에 의해 표시된 것과 같이, 상기 초점이 맞추어진 방사빔(5.b)이 제 1 트랙(T1)에 놓이는 제 1 결함 영역(A1)을 벗어나고 있을 때 1개 이상의 상기 에러신호들(RE, FE)을 적분하여, 1개 이상의 적응 제어신호(AD_RE, AD_FE)를 발생하도록 구성된 처리수단(50, INT)을 구비하고,
    상기 광학장치는, 상기 관련 광학 매체 상에서 상기 제 1 트랙(T1)에 인접하는 다 음의 제 2 트랙(T2) 상에 상기 초점이 맞추어진 방사빔(5,c)이 다시 제 1 결함 영역(A1)에 놓일 때, 상기 1개 이상의 적응 제어신호(AD_RE, AD_FE)를 상기 제어수단(9)에 인가하도록 구성된 것을 특징으로 하는 광학장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 광학 시스템은, 상기 초점이 맞추어진 방사빔이 제 1 결함 영역(A1)에 입사할 때, 1개 이상의 적응 제어신호(AD_RE, AD_FE)를 상기 제어수단에 인가하도록 구성된 것을 특징으로 하는 광학장치.
  3. 제 1항에 있어서,
    1개 이상의 에러신호(RE, FE)의 적분값을 이득 상수와 곱하여 1개 이상의 적응 제어신호(AD_RE, AD_FE)를 발생하도록 구성된 것을 특징으로 하는 광학장치.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 초점이 맞추어진 방사빔이 상기 제 1 결함 영역(A1)을 벗어날 때, 상기 처리수단(50, DIF)이 1개 이상의 에러신호(RE, FE)를 미분하여 1개 이상의 적응 제어신호(AD_RE, AD_FE)를 발생하도록 더 구성된 것을 특징으로 하는 광학장치.
  5. 제 4항에 있어서,
    상기 1개 이상의 적응 제어신호(AD_RE, AD_FE)는 정사각형의 펄스를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학장치.
  6. 제 4항에 있어서,
    상기 1개 이상의 적응 제어신호(AD_RE, AD_FE)는 반대의 극성을 갖는 2개의 정사각형 펄스를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학장치.
  7. 제 3항 내지 제 6항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 초점이 맞추어진 방사빔이 상기 제 1 결함 영역(A1)을 벗어날 때, 상기 초점이 맞추어진 방사빔의 위치가 상기 제 2 트랙(T2) 위에 놓이도록 상기 1개 이상의 적응 제어신호(AD_RE, AD_FE)가 구성된 것을 특징으로 하는 광학장치.
  8. 제 3항 내지 제 6항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 초점이 맞추어진 방사빔이 상기 제 1 결함 영역(A1)을 벗어날 때, 상기 초점 이 맞추어진 방사빔이 상기 제 2 트랙(T2)에 수직한 방향으로 제로값의 속도를 갖도록 상기 1개 이상의 적응 제어신호(AD_RE, AD_FE)가 구성된 것을 특징으로 하는 광학장치.
  9. 관련된 광학 매체(1)에서/광학 매체에 정보를 재생/기록할 수 있는 광학장치의 작동방법으로서,
    1) 복수의 트랙(T1, T2)에 배치된 광학적으로 판독가능한 이펙트들을 포함하거나 및/또는 광학적으로 판독가능한 이펙트들을 기록하도록 구성된 상기 관련 광학 매체 위에 제어수단(9, 21)에 의해 방사빔을 위치시켜 초점을 맞추는 단계와,
    2) 목표 위치와 상기 매체(1) 상의 초점이 맞추어진 방사빔의 실제 위치 사이의 차이를 표시하는 에러신호들(RE, FE)을 발생하도록 구성된 광 검출수단(10)에 의해 상기 관련 광학매체에서 반사된 방사빔(8)을 검출하는 단계와,
    3) 대응하는 제어신호(R_act, F_act)를 발생하여 상기 제어신호들(R_act, F_act)을 상기 제어수단(9, 21)에 인가함으로써 상기 에러신호들(RE, FE) 중에서 적어도 1개에 응답하여 상기 관련 광학매체 상의 상기 초점이 맞추어진 방사빔(5)의 위치를 변경하도록 구성된 서보기구를 제공하는 단계와,
    4) 결함 검출수단(DEFO)에 의해 상기 관련 광학 매체 상의 1개 이상의 표면 결함 영역들(A1, A2)을 검출하는 단계와,
    5) 상기 결함 검출수단(DEFO)에 의해 표시된 것과 같이, 상기 초점이 맞추어진 방 사빔(5,b)이 제 1 트랙(T1)에 놓인 제 1 결함 영역(A1)을 벗어나고 있을 때, 처리수단(50)에 의해 1개 이상의 에러신호(RE, FE)를 적분하여 1개 이상의 적응 제어신호(AD_RE, AD_FE)를 발생하는 단계와,
    6) 상기 관련 광학 매체 상에서 상기 제 1 트랙(T1)에 인접하는 다음의 제 2 트랙(T2) 상에 상기 초점이 맞추어진 방사빔(5.c)이 다시 제 1 결함 영역(A1)에 놓일 때, 상기 1개 이상의 적응 제어신호(AD_RE, AD_FE)를 상기 제어수단에 인가하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학장치의 작동방법.
  10. 관련된 데이터 저장수단을 갖는 적어도 1개의 컴퓨터를 구비한 컴퓨터 시스템이 제 9항에 따라 광학장치를 제어할 수 있도록 구성된 컴퓨터 프로그램 제품.
KR1020087002735A 2005-07-05 2006-06-28 적응 제어신호를 발생할 수 있는 광학장치 KR20080033337A (ko)

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