KR20080023142A - Substrate holding device for visual inspection - Google Patents

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KR20080023142A
KR20080023142A KR1020070089794A KR20070089794A KR20080023142A KR 20080023142 A KR20080023142 A KR 20080023142A KR 1020070089794 A KR1020070089794 A KR 1020070089794A KR 20070089794 A KR20070089794 A KR 20070089794A KR 20080023142 A KR20080023142 A KR 20080023142A
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히로유키 오카히라
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올림푸스 가부시키가이샤
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Abstract

A substrate holding device for visual inspection is provided to observe a substrate without difficulties during macro-inspection as well as to prevent vibration of the substrate during micro-inspection by withdrawing a support member supporting the substrate in case of macro-inspection. A substrate holding device for visual inspection comprises a stage(3), a support member, and a withdrawing member. A substrate(2) is loaded on the stage. The support member supports the rear surface of the substrate in an opening of the stage. The withdrawing member, which reciprocates the support member, includes a sustaining member(24) and an actuating member. The actuating member moves back and forth with respect to the sustaining member. The support member is an actuator moving a pin member which supports the substrate.

Description

외관 검사용 기판 유지 장치{SUBSTRATE HOLDING DEVICE FOR VISUAL INSPECTION}Substrate holding device for appearance inspection {SUBSTRATE HOLDING DEVICE FOR VISUAL INSPECTION}
본 발명은, 예를 들면 액정 디스플레이(LCD)용의 유리 기판이나 반도체 기판 등의 각종 기판, 바람직하게는 대형 기판을 검사하는 외관 검사 장치의 기판 유지 기구에 관한 것이다.TECHNICAL FIELD This invention relates to the board | substrate holding mechanism of the external appearance inspection apparatus which inspects various board | substrates, such as a glass substrate for liquid crystal displays (LCD), a semiconductor substrate, for example, preferably a large size board | substrate.
본 명세서는, 2006년 9월 8일에 출원된 일본국 특허 출원 제2006-244154호에 대해 우선권을 주장하고, 그 내용을 여기에 원용한다.This specification claims priority with respect to Japanese Patent Application No. 2006-244154 for which it applied on September 8, 2006, and uses the content here.
종래, 예를 들면 액정 디스플레이(LCD)나 플라즈마 디스플레이(PDP) 등의 평판 패널 디스플레이 분야에서는, 평판 패널 디스플레이 제조 공정에서, 유리 기판을 제조하고, 결함 검사가 행해지고 있었다. 결함 검사 방법으로서 기판 상의 티끌 등의 이물질이나 흠 등의 결함을 육안으로 관찰로 검사하는 매크로 검사와 현미경으로 확대한 상을 촬상하여 모니터 등으로 관찰하는 미크로 검사가 있다.Conventionally, in the field of flat panel displays, such as a liquid crystal display (LCD) and a plasma display (PDP), in the flat panel display manufacturing process, the glass substrate was manufactured and defect inspection was performed. As a defect inspection method, there exist a macro inspection which examines defects, such as a foreign material, a flaw, etc. on a board | substrate by visual observation, and the micro inspection which image | photographs the image magnified with a microscope, and observes it with a monitor etc.
이들 검사에서, 관찰할 기판의 표면에 조명광을 조사하는 낙사(落射) 조명이나 기판의 배면으로부터 조명광을 조사하는 투과 조명을 선택적으로 사용하여 결함의 유무를 찾아내거나 결함을 관찰하도록 하고 있다.In these inspections, fall light or illumination of illumination from the back surface of the substrate is selectively used to detect the presence or absence of a defect or to observe the defect.
그런데, 최근 유리 기판 등이 대형화되어 한 변이 2m를 넘는 대형 기판이 출시되고 있고, 이와 같은 대형 기판은 박형이므로 강성이 작다. 이와 같은 기판을 검사하는 경우, 기판을 수평으로 지지하기 위해 기판을 탑재하는 4각틀형의 기판 홀더의 개구부에 봉형의 살이 소정 간격으로 걸쳐져 있고, 각각의 살에는 기판을 배면으로부터 지지하는 핀 부재가 설치되어 있다.By the way, glass substrates etc. are enlarged in recent years, and large board | substrates exceeding 2m by one side are released, and since such a large board | substrate is thin, it is small. In the case of inspecting such a substrate, rod-shaped flesh is spread at predetermined intervals in an opening of a quadrilateral substrate holder on which the substrate is mounted to support the substrate horizontally, and each member has a pin member for supporting the substrate from the back side. It is installed.
이 경우, 살의 개수가 많으면 기판을 투과 관찰할 때에 살이 방해가 되므로, 최소로 필요한 개수만 장착하였다. 또한, 외관 검사 장치에는 진동제거기가 장착되어 있지만, 이와 같은 구성을 채용하더라도, 외관 검사 장치에 구비된 모터나 그 외의 주변기기 등의 영향에 의해 대형 기판이 미소 진동하거나 휘는 것을 억제할 수 없었다.In this case, when the number of flesh is large, the flesh is obstructed when the substrate is transmitted and observed, so only the minimum necessary number is attached. In addition, although the vibrating eliminator is attached to the visual inspection apparatus, even if such a configuration is adopted, it is not possible to suppress the micro-vibration or the bending of the large-sized substrate under the influence of the motor and other peripheral devices and the like provided in the visual inspection apparatus.
기판을 매크로 관찰하는 경우에는, 육안으로 관찰하므로 기판이 미소 진동하여도 관찰에 영향을 끼치는 경우가 적다. 그러나, 미크로 관찰하는 경우, 모니터 화면에서 기판을 확대하여 관찰하기 때문에, 미소한 진동이라도 인식할 수 있으므로 관찰에 지장을 초래하는 결점이 있었다.In the case of macro observation of the substrate, since the observation is performed with the naked eye, the substrate rarely affects the observation even when the substrate vibrates minutely. However, in the case of micro observation, since the substrate is enlarged and observed on the monitor screen, even a small vibration can be recognized, which causes a problem in observation.
이와 같은 문제를 개선하기 위하여, 예를 들면 일본국 특개 2000-7146호 공보나, 일본국 특개 2004-281907호 공보에 기재된 기판 유지 장치가 제안되어 있다. 일본국 특개 2000-7146호 공보에 기재된 외관 검사 장치의 기판 유지 장치에서는, 기판을 탑재하기 위한 기판 홀더의 개구부 하부를 폐색하는 강성이 높은 판형의 투명 평판을 고정하고, 투명 평판의 상면에 복수개의 핀을 세워서 설치함으로써 기판을 지지하도록 하고 있다.In order to improve such a problem, the board | substrate holding apparatus of Unexamined-Japanese-Patent No. 2000-7146 and Unexamined-Japanese-Patent No. 2004-281907 is proposed, for example. In the board | substrate holding apparatus of the external appearance inspection apparatus of Unexamined-Japanese-Patent No. 2000-7146, a rigid plate-shaped transparent plate which closes the lower part of the opening part of a board | substrate holder for mounting a board | substrate is fixed, and it is a plurality of upper surfaces of a transparent plate. The pins are placed upright to support the substrate.
또한, 일본국 특개 2004-281907호 공보에 기재된 기판 유지 장치에서는, 기판 홀더의 개구부에 병설하여 걸쳐져 있는 복수개의 살에서, 인접하는 살 사이나 살과 기판 홀더의 틀형부 사이에 봉형의 진동 흡수 부재를 직선형으로 배치함으로써 기판을 지지하고 있다.Moreover, in the board | substrate holding apparatus of Unexamined-Japanese-Patent No. 2004-281907, the bar-shaped vibration absorbing member is formed in the several meat | wire which hangs in parallel with the opening part of a board | substrate holder, between the adjacent meat | membrane or between the meat | mouth and the frame part of a board | substrate holder. The board | substrate is supported by arrange | positioning in linear form.
그러나, 일본국 특개 2000-7146호 공보에 기재된 기판 유지 장치에서는, 매크로 검사 시에 기판의 표면을 낙사 조명하거나 기판 배면으로부터 투과 조명하여 관찰하는 경우에, 기판 상뿐만 아니라 투명 평판 상에서도 조명광이 반사되거나 난반사되므로, 기판의 검사에 지장을 초래하는 문제가 있었다. 또한, 일본국 특개2004-281907호 공보에 기재된 기판 유지 장치에서는, 진동을 억제하기 위해 핀을 지지하는 살에 더하여 진동 흡수 부재가 설치되어 있으므로, 매크로 검사 시에 투과광을 차단하는 범위가 증대하는 결점이 생긴다.However, in the substrate holding apparatus described in Japanese Patent Laid-Open No. 2000-7146, illumination light is reflected not only on the substrate but also on the transparent flat plate when the surface of the substrate is subjected to fall illumination or observation from the back of the substrate during macro inspection. Since it is a diffuse reflection, there existed a problem which interrupted the inspection of a board | substrate. In addition, in the substrate holding apparatus described in Japanese Patent Laid-Open No. 2004-281907, a vibration absorbing member is provided in addition to the support for the pin to suppress the vibration, so that the range of blocking the transmitted light during macro inspection increases. This occurs.
또한, 매크로 검사에서는 기판을 180° 반전시켜서 기판 배면을 검사하는 것이 사양상 요구되고 있으므로, 기판의 배면 검사 시에 살 및 진동 흡수 부재가 육안 관찰 검사의 방해가 되는 결점이 있다.In addition, in the macro inspection, it is required by the specification to inspect the substrate back by inverting the substrate by 180 °, and therefore, there is a drawback that the flesh and the vibration absorbing member interfere with the visual observation inspection during the back inspection of the substrate.
본 발명은, 전술한 바와 같은 사정을 감안하여, 미크로 검사 시의 기판의 진동을 억제하는 동시에 투과 조명 검사나 배면 검사의 방해가 되지 않는 기판 유지 기구를 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above circumstances, an object of the present invention is to provide a substrate holding mechanism that suppresses vibration of a substrate during micro inspection and does not interfere with transmission illumination inspection or back inspection.
본 발명에 의한 외관 검사 장치의 기판 유지 기구는, 틀형의 스테이지에 기판을 탑재하여, 기판의 검사를 행하도록 한 외관 검사 장치의 기판 유지 장치에서, 기판의 배면 주위 둘레부를 유지하는 틀형의 스테이지와, 스테이지의 개구부 내에서 기판의 배면을 지지하는 지지 부재와, 지지 부재에 기판을 지지하는 지지 위치와 기판으로부터 퇴피한 퇴피 위치를 선택적으로 결정하는 진퇴 수단을 구비한다.The board | substrate holding mechanism of the external appearance inspection apparatus which concerns on this invention is the board | substrate holding apparatus of the external appearance inspection apparatus which mounted the board | substrate in the frame | board type stage and test | inspects a board | substrate, And a support member for supporting the back surface of the substrate in the opening of the stage, and retraction means for selectively determining a support position for supporting the substrate on the support member and a retracted position withdrawn from the substrate.
본 발명에 의하면, 기판을 매크로 검사할 때는 지지 부재가 기판으로부터 퇴피하고 있으므로 관찰의 방해가 되지 않고, 또한 미크로 검사할 때는 지지 부재로 기판을 지지하므로, 주변의 기기 등의 영향에 의해 기판이 진동하거나 휘는 것을 억제한 상태에서 확대하여 관찰할 수 있다.According to the present invention, since the support member is retracted from the substrate when the substrate is macro inspected, the observation is not hindered, and when the micro inspection is performed, the substrate is supported by the support member. Or can be magnified and observed while suppressing warping.
또한, 진퇴 수단은, 지지 부재를 유지하는 유지 부재와, 유지 부재를 기판에 대해서 이동시키는 작동 부재를 구비하고 있어서, 작동 부재에 의해 유지 부재를 기판에 대해서 진퇴시키도록 해도 된다.In addition, the retraction means includes a holding member for holding the supporting member and an operating member for moving the holding member relative to the substrate, so that the holding member can be moved forward and backward with respect to the substrate.
매크로 관찰 시에는 지지 부재와 유지 부재를 기판으로부터 떼어내고 스테이지의 틀형부에 중첩시킴으로써 기판 전체를 가리지 않고 관찰할 수 있고, 미크로 관찰 시에는 작동 부재에 의해 유지 부재를 기판 상에 가져와서 지지 부재로 기판을 지지할 수 있다.In macro observation, the supporting member and the holding member are detached from the substrate and superimposed on the frame of the stage so that the entire substrate can be observed. In the micro observation, the holding member is brought to the supporting member by the operating member. The substrate can be supported.
또한, 미크로 검사 시에 기판의 일부 영역을 확대하여 관찰하기 위해 기판에 대해서 이동하는 확대 검사부와, 기판을 협지하여 확대 검사부와 반대 측에 설치되어 있는 지지 부재를 확대 검사부의 이동에 연동하여 확대 검사부에 대응하는 위치로 이동시키는 제어 수단을 더 구비하고 있는 것이 바람직하다.In addition, the magnification inspection part which moves with respect to a board | substrate in order to enlarge and observe a some area | region of a board | substrate at the time of a micro inspection, and the support member provided on the side opposite to the magnification inspection part by clamping a board | substrate are interlocked with the movement of an expansion inspection part. It is preferable to further have a control means for moving to the position corresponding to the.
미크로 검사 시에, 확대 검사부를 기판 상의 일부 영역에 가져오면, 제어 수단에 의해 그 좌표를 판독하고, 이에 연동하여 지지 부재를 기판 상의 일부 영역에 대향하는 위치로 이동시켜서 기판을 배면 측으로부터 지지할 수 있다.At the time of micro inspection, when the magnification inspection portion is brought to a part area on the substrate, the coordinates are read by the control means, and in conjunction with this, the support member is moved to a position opposite the part area on the substrate to support the substrate from the back side. Can be.
또한, 지지 부재는, 기판을 지지하는 핀 부재를 출몰 작동시키는 액츄에이터일 수도 있다. 핀 부재가 액츄에이터에 감춰진 상태에서는 스테이지 등에 간섭받지 않고 지지 부재를 이동시킬 수 있고, 핀 부재가 액츄에이터로부터 돌출된 상태에서는 기판을 지지할 수 있다.In addition, the support member may be an actuator for oscillating and operating the pin member for supporting the substrate. In the state where the pin member is hidden by the actuator, the support member can be moved without being interfered with by the stage or the like, and the substrate can be supported in the state where the pin member protrudes from the actuator.
또한, 본 발명에 의한 외관 검사 장치의 기판 유지 장치에서, 진퇴 수단은, 개구부에 걸쳐서 설치된 살에 설치되어 있어서 살에 대해서 지지 부재를 지지 위치와 살의 배면에 퇴피한 퇴피 위치 사이에 회동시키는 회동 기구일 수도 있다.Moreover, in the board | substrate holding apparatus of the external appearance inspection apparatus which concerns on this invention, the advancing means is provided in the flesh provided over the opening part, and the rotation mechanism which rotates a support member with respect to the flesh between the support position and the retracted position evacuated to the back of the flesh with respect to the flesh. It may be.
이 경우에는, 지지 부재에 의한 기판의 지지 영역이 제한되지만, 비교적 간단하게 구성되고, 지지 부재에 의한 기판의 지지 영역과 그 주변 영역에서의 진동이나 휨을 억제할 수 있다.In this case, although the support area of the board | substrate by a support member is restrict | limited, it is comprised comparatively simple and it can suppress the vibration and the curvature in the support area of a board | substrate by a support member, and its peripheral area.
그리고, 지지 부재는 기판에 형성된 결함의 위치 또는 결함에 근접한 위치에 서 배면으로부터 기판을 지지한다.Then, the support member supports the substrate from the rear side at the position of the defect formed in the substrate or the position close to the defect.
지지 부재에 의해 기판을 결함의 위치에서 지지함으로써 진동이나 휨을 확실하게 억제한 상태에서 미크로 검사할 수 있고, 결함에 근접하는 위치에서 지지함으로써 결함 부근에서의 기판의 진동 등을 억제하는 동시에 결함의 투과광을 방해하지 않으므로, 보다 명료하게 정밀도가 양호한 검사를 행할 수 있다.By supporting the substrate at the position of the defect by the supporting member, micro inspection can be performed in a state where vibration and warpage are reliably suppressed, and supporting at a position proximate to the defect can suppress vibration of the substrate in the vicinity of the defect and at the same time transmitted light of the defect. Since it does not disturb, the inspection with good precision can be performed more clearly.
또한, 진퇴 수단은, 개구부 내에서 이동할 수 있는 유지 부재에 설치되어 있어서, 유지 부재에 대해서 지지 부재를 지지 위치와 하방에 퇴피한 퇴피 위치 사이에 출몰시키는 출몰 기구일 수도 있다.In addition, the advancing means may be provided on a holding member which can move within the opening, and may be a retreat mechanism for causing the supporting member to be settled between the supporting position and the retracted position withdrawn below.
본 발명의 외관 검사 장치의 기판 유지 장치에 의하면, 매크로 검사 시에는 지지 부재가 기판으로부터 퇴피하므로 기판 검사의 방해가 되지 않고, 미크로 검사 시에는 지지 부재로 기판을 지지하므로 기판의 진동이나 휨 등을 억제하여 상세한 검사를 행할 수 있다.According to the substrate holding apparatus of the visual inspection apparatus of the present invention, since the support member retracts from the substrate during macro inspection, the substrate inspection is not hindered, and during micro inspection, the substrate is supported by the supporting member to prevent vibration or warpage of the substrate. The detailed inspection can be performed by suppressing it.
본 발명에 따르면, 미크로 검사 시의 기판의 진동을 억제하는 동시에 매크로 검사의 방해가 되지 않는 기판 유지 기구를 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide a substrate holding mechanism that suppresses vibration of a substrate during micro inspection and does not interfere with macro inspection.
[실시예]EXAMPLE
이하, 본 발명의 실시예에 대하여, 도면을 참조하면서 상세하게 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, the Example of this invention is described in detail, referring drawings.
본 발명의 제1 실시예에 따른 외관 검사 장치를 도 1 내지 도 6을 참조하면서 설명한다.An appearance inspection apparatus according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 6.
도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 외관 검사 장치의 주요부 설명도, 도 2는 스테이지의 평면도, 도 3은 배면도, 도 4는 도 2에 나타낸 스테이지의 A-A선을 따라 절단한 종단면도, 도 5는 지지 핀을 돌출시킨 상태의 도 4와 마찬가지의 도면, 도 6은 도 5의 부분 확대도이다.1 is an explanatory view of a main part of an appearance inspection apparatus according to a first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a plan view of the stage, FIG. 3 is a rear view, and FIG. 4 is a longitudinal sectional view cut along the AA line of the stage shown in FIG. 5 is a view similar to FIG. 4 with the support pin protruding, and FIG. 6 is a partially enlarged view of FIG. 5.
도 1에 나타낸 외관 검사 장치(1)는, 바닥면에 설치되는 장치 본체(1a)를 구비하고 있고, 예를 들면 액정 디스플레이(LCD)나 플라즈마 디스플레이(PDP)를 제조할 때 사용하는 마더 글래스(mother glass) 기판 등의 박형의 기판(2)을 스테이지(3)에 탑재시켜서 외관 검사한다. 기판(2)은, 예를 들면 2m × 2m 이상의 대형 사각판형으로 가정한다. 스테이지(3)는 도 2에 나타낸 바와 같이 기판(2)보다 면적이 약간 작은 개구부(16)를 가지는 사각틀형으로 형성되고, 그 개구부(16)의 주위 둘레부에는 기판(2)의 배면 주위 둘레부를 흡착 유지하기 위한 진공 흡착 구멍(3a)이 소정 간격으로 형성되어 있다.The external appearance inspection apparatus 1 shown in FIG. 1 is provided with the apparatus main body 1a provided in the bottom surface, For example, the mother glass used when manufacturing a liquid crystal display (LCD) or a plasma display (PDP) ( A thin substrate 2 such as a mother glass substrate is mounted on the stage 3 to inspect the appearance. The board | substrate 2 is assumed to be a large square plate shape of 2m * 2m or more, for example. As shown in FIG. 2, the stage 3 is formed in a rectangular frame having an opening 16 that is slightly smaller than the substrate 2, and the peripheral periphery of the opening 16 has a peripheral periphery of the back surface of the substrate 2. Vacuum suction holes 3a for adsorbing and holding portions are formed at predetermined intervals.
도 1에서 스테이지(3)는 회동 구동 기구(4)에 장착되어 있고, 모터(5)의 회전축을 중심으로 기립 상태와 수평 상태를 취할 수 있도록 회동 가능하게 지지되어 있다. 스테이지(3)는 회동 구동 기구(4)에 설치한 반전축(6)에 의해 회전될 수 있도록 지지되고, 기판(2)의 표면과 배면을 관찰할 수 있도록 되어 있다. 기립 상태로 유지되는 스테이지(3)에 대향하는 위치에는, 확대 검사 수단(8)이 설치되어 있다. 확대 검사 수단(8)은, 현미경에 디지털 카메라가 장착되어 이루어지는 확대 검사부(9)와, 확대 검사부(9)를 X축 방향 및 Y축 방향으로 이동시킬 수 있고, 서로 직교하는 레일 부재로 이루어지는 리니어 모터 등으로 이루어지는 2차원 이동 기 구(10)로 구성되어 있다.In FIG. 1, the stage 3 is attached to the rotation drive mechanism 4, and is rotatably supported so that a standing state and a horizontal state may be taken centering on the rotating shaft of the motor 5. The stage 3 is supported so that it can be rotated by the inversion shaft 6 provided in the rotation drive mechanism 4, and the surface and back surface of the board | substrate 2 can be observed. The enlargement inspection means 8 is provided in the position which opposes the stage 3 maintained in a standing state. The enlargement inspection means 8 is the linear inspection part 9 with which a digital camera is attached to a microscope, and the enlargement inspection part 9 can move the X and Y axis direction, and is a linear member which consists of a rail member orthogonal to each other. It consists of the two-dimensional moving mechanism 10 which consists of a motor.
또한, 장치 본체(1a)의 상부에는, 기립 상태로 유지된 스테이지(3)에 탑재된 기판(2)에 낙사 조명할 수 있는 제1 조명 수단(12)이 장착되어 있다. 장치 본체(1a)의 배면 측에는 기립 상태로 유지된 스테이지(3)에 탑재된 기판(2)을 투과 조명하기 위한 제2 조명 수단(13)이 장착되어 있다.Moreover, the 1st lighting means 12 which can illuminate illumination on the board | substrate 2 mounted in the stage 3 hold | maintained in the standing state is attached to the upper part of the apparatus main body 1a. On the back side of the apparatus main body 1a, the second illumination means 13 for transmitting illumination of the board | substrate 2 mounted in the stage 3 hold | maintained in the standing state is attached.
도 2에서, 스테이지(3)에는, 탑재되는 기판(2)의 각각의 코너부를 위치 결정하여 정렬시키는 복수 조의 정렬 부재(15)가 설치되어 있다. 또한, 스테이지(3)의 틀 내에 형성된 개구부(16)에는 봉형의 살(17)이 개구부(16)의 대향하는 내벽에 장착되어 있다(도 4 참조). 살(17)은 스테이지(3)에 탑재된 기판(2)이 그 중량에 의하여 휘는 것을 억제하기 위하여 장착되며, 기판(2)의 투과 관찰이나, 또는 반전시켜서 배면을 관찰할 때 가능한한 방해가 되지 않도록 최소로 필요한 개수만(도에서는 2개) 소정 간격으로 장착되어 있다.In FIG. 2, the stage 3 is provided with a plurality of sets of alignment members 15 for positioning and aligning each corner portion of the substrate 2 to be mounted. In addition, in the opening 16 formed in the frame of the stage 3, a rod-shaped flesh 17 is attached to an inner wall of the opening 16 that faces the opening 16 (see FIG. 4). The flesh 17 is mounted in order to suppress the bending of the substrate 2 mounted on the stage 3 by its weight, and the interference is prevented as much as possible when the transmission of the substrate 2 is observed or the reverse side is observed. Only the minimum necessary number (two in the figure) is attached at predetermined intervals so as not to be prevented.
또한, 각각의 살(17)에는 기판(2)을 수평으로 지지하는 복수개(도면에서는 4개)의 고정핀(17a, …)이 설치되어 있고, 이에 따라 기판(2)의 휨을 억제할 수 있다.In addition, each of the flesh 17 is provided with a plurality of fixing pins 17a, ... that support the substrate 2 horizontally (four in the drawing), whereby the warpage of the substrate 2 can be suppressed. .
다음에 기판 유지 기구(11)에 대하여 설명한다.Next, the substrate holding mechanism 11 will be described.
도 3에 나타낸 스테이지(3)의 배면에 있어서, 스데이지(3)의 네 변을 형성하는 틀형부(3b, …) 중, 예를 들면 스테이지(3)의 살(17)과 대략 직교하는 한쌍의 틀형부(3b, 3b) 에는 유지 부재(이후, "지지 바"라 한다)(24)를 개구부(16)의 소정 위치에 이동시키는 이동 수단으로서 벨트 컨베이어(20, 20)가 개구부(16)를 사이에 두고 대략 평행하게 설치되어 있다. 벨트 컨베이어(20, 20)의 외측에는, 판형의 보호 부재(18, 18)가 설치되어 있다. 각각의 벨트 컨베이어(20)는 양단에 설치한 한쌍의 스프로킷(21a, 21b, sprocket) 사이에 무한궤도형의 벨트(22)가 권취되어 있다. 서로 대향하는 2개의 컨베이어(20, 20)의 스프로킷(21a, 21a)은 샤프트(23)로 연결되고, 샤프트(23)의 일단에는 구동원으로서 모터 M1이 연결되어 있다.On the back surface of the stage 3 shown in FIG. 3, a pair which is substantially orthogonal to the flesh 17 of the stage 3 among the frame portions 3b, ... forming the four sides of the sage 3, for example. The belt conveyors 20 and 20 are openings 16 as moving means for moving the holding member (hereinafter referred to as a "support bar") 24 to a predetermined position of the opening 16 in the frame portions 3b and 3b of the opening. They are installed approximately parallel to each other. Plate-shaped protection members 18 and 18 are provided outside the belt conveyors 20 and 20. In each belt conveyor 20, an endless track belt 22 is wound between a pair of sprockets 21a, 21b and sprockets provided at both ends. The sprockets 21a and 21a of the two conveyors 20 and 20 facing each other are connected to the shaft 23, and one end of the shaft 23 is connected to the motor M1 as a drive source.
그리고, 2개의 벨트(22, 22)에는 지지 바(24)가 연결되고, 모터 M1에 의하여 벨트(22, 22)를 주회 운동시킴으로써, 지지 바(24)가 가이드 레일(3c, 3c)을 따라서 직선 운동한다. 지지 바(24)에는 하나 또는 복수개(도면에서는 3개)의 지지 부재(이후, "지지 핀"이라 한다)(25)가 스테이지(3)에 대략 직교하는 방향으로 장착되어 있다. 모터 M1을 정회전 및 역회전으로 구동함으로써 주회(周回) 운동하는 한쌍의 벨트(22, 22)에 의해 지지 바(24)가 개구부(16) 내에 이동하고, 틀형부(3b)로 후퇴한다.The support bars 24 are connected to the two belts 22 and 22, and the support bars 24 are guided along the guide rails 3c and 3c by rotating the belts 22 and 22 by the motor M1. Make a linear movement. One or more (three in the drawings) support members 25 (hereinafter referred to as "support pins") 25 are attached to the support bar 24 in a direction substantially perpendicular to the stage 3. By driving the motor M1 in the forward and reverse rotation, the support bar 24 moves in the opening 16 by the pair of belts 22 and 22 which are circumferentially moved and retreat to the mold 3b.
또한, 지지 핀(25)은 액츄에이터로서, 예를 들면 에어 실린더 등을 구비하여, 도 5 및 도 6에 나타낸 바와 같이 외측 통(25a)에 대해서 핀 부재로서의 실린더 로드(25b)가 출몰 가능하게 되어 있다. 실린더 로드(25b)가 외측 통(25a)으로부터 소정 거리만큼 돌출된 상태에서, 스테이지(3)에 탑재된 기판(2)을 배면으로부터 지지하여 기판(2)의 진동이나 휨을 억제할 수 있다.Moreover, the support pin 25 is provided with an air cylinder etc. as an actuator, for example, and the cylinder rod 25b as a pin member can be projected to the outer side cylinder 25a as shown to FIG. 5 and FIG. have. In the state where the cylinder rod 25b protrudes by the predetermined distance from the outer side cylinder 25a, the board | substrate 2 mounted in the stage 3 can be supported from the back surface, and vibration and curvature of the board | substrate 2 can be suppressed.
지지 핀(25)은 실린더 로드(25b)가 외측 통(25a) 내에 수용된 상태에서, 지지 바(24)와 함께 살(17)이나 스테이지(3)에 간섭받지 않고 이동할 수 있다.The support pin 25 can move with the support bar 24 without interference with the flesh 17 or the stage 3 with the cylinder rod 25b accommodated in the outer cylinder 25a.
그리고, 지지 바(24)와 지지 핀(25)은 제어 수단(26)에 의해 이동 및 출몰 가능하게 되어 있다. 제어 수단(26)은 모터 M1과 2차원 이동 기구(10)에 전기적으로 접속되어 있고, 확대 검사부(9)를 결함 위치에 이동시킴과 동시에, 상기 확대 검사부(9)의 이동에 연동하여 지지 바(24)를 확대 검사부(9)의 검사 라인으로부터 약간 벗어난 위치로 이동시킬 수 있도록 하고 있다.In addition, the support bar 24 and the support pin 25 can be moved and moved in and out by the control means 26. The control means 26 is electrically connected to the motor M1 and the two-dimensional moving mechanism 10, moves the enlargement inspection section 9 to a defect position, and supports the bar in association with the movement of the enlarged inspection section 9. It is made to be able to move 24 to the position slightly off from the inspection line of the enlargement inspection part 9. As shown in FIG.
외관 검사 장치(1)에 의한 기판(2)의 매크로 검사 시에는, 지지 바(24)는 스테이지(3)의 틀형부(3b)의 배면에 퇴피한다. 미크로 검사 시에는 지지 바(24)는 개구부(16) 내에 진출하여, 지지 핀(25)에 의해 기판(2)의 검사할 결함 K의 그 근방에서 기판(2)을 지지한다.In the macro inspection of the board | substrate 2 by the visual inspection apparatus 1, the support bar 24 retracts to the back surface of the frame part 3b of the stage 3. At the time of micro inspection, the support bar 24 advances into the opening 16 to support the substrate 2 in the vicinity of the defect K to be inspected by the support pin 25.
그리고, 본 실시예에 따른 기판 유지 기구(11)에 있어서, 벨트 컨베이어(20, 20)와 지지 바(24)와 모터 M1 등은 진퇴 수단을 구성한다.And in the board | substrate holding mechanism 11 which concerns on this embodiment, the belt conveyors 20 and 20, the support bar 24, the motor M1, etc. comprise an advancing means.
본 실시예에 따른 외관 검사 장치(1)의 기판 유지 기구(11)는 전술한 바와 같은 구성 요소를 구비하고 있고, 이하에서 그 작용을 설명한다.The board | substrate holding mechanism 11 of the external appearance inspection apparatus 1 which concerns on this embodiment is equipped with the component mentioned above, and the operation | movement is demonstrated below.
먼저 외관 검사 장치(1)에서, 검사할 기판(2)을 수평 상태의 스테이지(3)에 탑재하고, 정렬 부재(15)로 기판(2)의 위치 결정을 행하고, 상기 기판(2)을 진공 흡착 구멍(3a)으로 흡착 유지한다. 먼저 기판(2)의 매크로 검사를 행하는 경우, 지지 바(24)를 도 3에 나타낸 바와 같이 개구부(16)로부터 퇴피시켜서 스테이지(3)의 틀형부(3b)의 배면으로 이동한다. 스테이지(3)을 회동 구동 기구(4)에 의해 육안 관찰에 적합하도록 소정의 각도로 회전시켜서 기립 상태로 유지하고, 제1 조명 수단(12)으로부터의 낙사 조명에 의해 기판(2)의 표면을 육안으로 관찰한다. 기판(2)을 투과 관찰할 경우에는, 스테이지(3)를 기립 상태로 유지하고, 제2 조명 수 단(13)에 의해 기판(2)의 배면 측으로부터 조명광을 조사하여 육안 관찰한다. 이러한 투과 관찰을 행하는 경우에는, 스테이지(3)를 회동 구동 기구(4)에 의해 대략 수직이 되는 각도, 예를 들면 85° 내지 90°로 회동시켜서 기립 상태로 유지하고, 제2 조명 수단(13)에 의해 기판(2)의 배면 측으로부터 조명광을 조사하여 육안 관찰하도록 해도 된다. 오퍼레이터의 육안에 의한 마크로 관찰 시에, 확대 검사 수단(8)의 확대 검사부(9)와 2차원 이동 기구(10)를 기판(2)으로부터 퇴피시켜 두면 된다.First, in the appearance inspection apparatus 1, the board | substrate 2 to test | inspect is mounted in the stage 3 of a horizontal state, the board | substrate 2 is positioned with the alignment member 15, and the said board | substrate 2 is vacuumed. The suction is held by the suction hole 3a. When performing macro inspection of the board | substrate 2, the support bar 24 is retracted from the opening part 16 as shown in FIG. 3, and it moves to the back surface of the frame part 3b of the stage 3. As shown in FIG. The stage 3 is rotated by a rotational drive mechanism 4 at a predetermined angle so as to be suitable for visual observation, and is kept in an upright state, and the surface of the substrate 2 is held by falling illumination from the first lighting means 12. Observe visually. In the case where the substrate 2 is transmitted and observed, the stage 3 is held in an upright state, and the illumination light is irradiated from the back side of the substrate 2 by the second illumination means 13 and visually observed. In the case of performing such transmission observation, the stage 3 is rotated at an angle perpendicular to the vertical direction, for example, 85 ° to 90 °, by the rotation drive mechanism 4, and held in the standing state, and the second illumination means 13 ), The illumination light may be irradiated from the back side of the substrate 2 to be visually observed. At the time of macro observation by the operator's visual observation, the enlarged inspection section 9 and the two-dimensional moving mechanism 10 of the enlarged inspection means 8 may be evacuated from the substrate 2.
또한, 기판(2)의 배면을 관찰하는 경우에는, 스테이지(3)를 회동 구동 기구(4)의 반전축(6) 주위로 180° 반전시켜서 전술한 경우와 마찬가지로 기립 상태에서 관찰하면 된다.In addition, when observing the back surface of the board | substrate 2, the stage 3 may be inverted 180 degrees around the inversion axis 6 of the rotation drive mechanism 4, and may be observed in a standing state similarly to the case mentioned above.
다음에, 매크로 검사로 검출한 결함 K에 대하여 미크로 관찰하는 경우에는, 기립 상태로 유지한 스테이지(3)에 대해서 확대 검사부(9)를 2차원 가이드 기구(10)에 의해 X축 방향 및 Y축 방향으로 이동시켜서 기판(2)의 결함 K에 대향하는 위치에 가져온다. 이와 동시에 확대 검사부(9)의 좌표 위치를 제어 수단(26)으로 판독하고, 확대 검사부(9)의 이동에 연동하여 기판 유지 기구(11)의 모터 M1을 구동하고, 지지 바(24)를 개구부(16) 내로 이동시킨다.Next, when microscopic observation is made of the defect K detected by the macro inspection, the enlarged inspection unit 9 is moved in the X-axis direction and the Y-axis by the two-dimensional guide mechanism 10 with respect to the stage 3 held in the standing state. Direction to move to the position opposite to the defect K of the substrate 2. At the same time, the coordinate position of the enlarged inspection section 9 is read by the control means 26, and in conjunction with the movement of the enlarged inspection section 9, the motor M1 of the substrate holding mechanism 11 is driven, and the support bar 24 is opened. (16) move into.
예를 들면, 흠이나 이물질 등의 결함 K가 도 2에 나타낸 위치에 있다고 가정하고, 결함 K 상에 확대 검사부(9)를 세트하면, 제어 수단(26)에 의해 확대 검사부(9)의 좌표 위치와 중첩하는 검사 라인 상 또는 검사 라인으로부터 약간 벗어난 위치에 지지 바(24)를 이동시키고 정지시킨다. 다음에 지지 바(24)에 장착된 각각 의 지지 핀(25, …)에서 실린더 로드(25b)를 돌출시키면, 실린더 로드(25b)는 기판(2)을 배면으로부터 지지하게 된다.For example, assuming that the defect K such as a flaw or foreign matter is in the position shown in FIG. 2, and the enlargement inspection unit 9 is set on the defect K, the coordinate means of the enlarged inspection unit 9 is controlled by the control means 26. The support bar 24 is moved and stopped on a test line overlapping with or slightly off the test line. Next, when the cylinder rod 25b protrudes from each of the support pins 25, ... mounted on the support bar 24, the cylinder rod 25b supports the substrate 2 from the back side.
여기서, 지지 핀(25)은 지지 바(24)의 소정 위치에 고정되어 있으므로, 실린더 로드(25b)는 반드시 결함 K의 근방에 위치하지는 않고, 지지 핀(25)의 접촉점을 기준으로 하여 주위 반경 a mm의 범위 내에서 기판(2)의 미소 진동이나 휨을 억제할 수 있다고 가정하면, 지지 바(24)에 설치하는 지지 핀(25)은 거리 2a mm 간격으로 설치하면 된다. 반경 a의 치수는 기판(2)의 크기나 판의 두께 등에 따라 정해진다.Here, since the support pin 25 is fixed to the predetermined position of the support bar 24, the cylinder rod 25b is not necessarily located in the vicinity of the defect K, but the peripheral radius is based on the contact point of the support pin 25. Assuming that micro-vibration and warpage of the substrate 2 can be suppressed within the range of a mm, the support pins 25 provided on the support bar 24 may be provided at intervals of 2a mm. The dimension of the radius a is determined according to the size of the substrate 2, the thickness of the plate and the like.
이에 따라, 확실하게 결함 K에 대하여 진동이나 휨을 억제한 상태에서 확대 검사부(9)에 의해 확대된 화상을 촬상할 수 있고, 모니터 화면 상에서 결함 K를 관찰할 수 있다. 특히 투과 관찰하는 경우에는, 결함 K로부터 벗어난 위치에서 지지 핀(25)으로 기판(2)을 지지하는 편이 투과광을 조사하는 면에서 바람직하다. 또한, 낙사 관찰할 경우에는, 결함 K의 바로 아래에 지지 핀(25)을 위치하게 해도 되지만, 결함 K로부터 벗어난 위치에서 지지 핀(25)으로 기판(2)을 지지하는 편이 지지 핀(25)으로부터의 반사광을 방지할 수 있으므로, 바람직하다 할 수 있다.Thereby, the image enlarged by the magnification test | inspection part 9 can be picked up in the state which suppressed vibration and curvature with respect to defect K, and defect K can be observed on a monitor screen. In particular, in the case of transmission observation, it is preferable to support the substrate 2 with the support pins 25 at the position deviated from the defect K in terms of irradiating transmitted light. In addition, when performing fall-off observation, although the support pin 25 may be located just under the defect K, the support pin 25 may support the board | substrate 2 with the support pin 25 in the position deviated from the defect K. FIG. Since the reflected light from can be prevented, it is preferable.
그리고, 미크로 관찰하는 결함 K가 살(17)과 중첩하는 곳에 위치하거나 또는 그 근방에 위치할 경우에는, 확대 검사부(9)의 이동에 관계없이, 그 좌표 위치에 지지 바(24)를 이동시키지 않고 퇴피 상태로 유지해도 된다. 또한 스테이지(3)의 개구부(16)에 장착된 복수개의 살(17)을 지지 바(24) 대신, 각각의 지지 바(24)를 가이드 레일(3c, 3c)에 이동할 수 있도록 설치하고, 각각의 지지 바(24)를 리니어 모터로 개별적으로 이동 제어할 수 있도록 해도 된다.And when the defect K observed with a micro | microscope is located in the position which overlaps with the flesh 17, or it is located in the vicinity, irrespective of the movement of the magnification test | inspection part 9, the support bar 24 is not moved to the coordinate position. You may keep in a retracted state without. In addition, instead of the support bar 24, the plurality of flesh 17 mounted in the opening 16 of the stage 3 is installed so that each support bar 24 can be moved to the guide rails 3c and 3c, respectively. The support bar 24 may be individually controlled to be moved by a linear motor.
전술한 바와 같이, 본 실시예에 따른 외관 검사 장치(1)에 의하면, 매크로 검사 시에는 지지 바(24) 및 지지 핀(25)이 스테이지(3)의 틀형부(3b)의 배면에 퇴피한 상태에 있기 때문에, 낙사 조명 및 투과 조명 하에서의 관찰에 방해가 되지 않는다. 또한, 미크로 검사 시에는 관찰할 기판(2)의 결함 K의 근방을 지지하므로 기판(2)의 미소 진동이나 휨을 억제하여 정밀도가 양호한 관찰·검사를 행할 수 있다.As described above, according to the appearance inspection apparatus 1 according to the present embodiment, in the macro inspection, the support bar 24 and the support pin 25 are evacuated to the back surface of the frame 3b of the stage 3. Since it is in a state, it does not interfere with observation under fall illumination and transmission illumination. In addition, since the vicinity of the defect K of the board | substrate 2 to be observed is supported at the time of a micro test | inspection, micro-vibration and curvature of the board | substrate 2 can be suppressed and observation with high precision can be performed.
제1 실시예에 따른 외관 검사 장치(1)의 기판 유지 기구(11)의 변형예로서 유지 부재(지지 바(24))에 하나의 지지 부재(지지 핀(25))를 설치하고, 리니어 모터 등의 구동원에 의해 지지 핀(25)을 지지 바(24)를 따라 슬라이드 이동시킬 수 있도록 설치하여도 된다.As a modification of the board | substrate holding mechanism 11 of the external appearance inspection apparatus 1 which concerns on 1st Example, one support member (support pin 25) is provided in a holding member (support bar 24), and a linear motor You may provide so that the support pin 25 may slide along the support bar 24 by a drive source, such as a back.
이와 같은 구성을 채용하면, 지지 핀(25)은 벨트 컨베이어(20, 20)의 길이 방향과 이것에 직교하는 지지 바(24)의 길이 방향, 즉 X-Y 방향으로 이동할 수 있게 된다. 그리고, 제어 수단(26)에 의해, 결함 K에 대응하는 좌표 위치의 근방에 지지 핀(25)을 이동시킬 수 있다. 이에 따라, 확대 검사부(9)로 촬상하는 기판(2) 상의 결함 K를 포함하는 시야 주변을 지지 핀(25)에 의해 기판(2) 상의 결함 K를 포함하는 시야 주변을 지지 핀(25)에 의해 기판(2)의 배면 측으로부터 지지할 수 있다.By adopting such a configuration, the support pin 25 can move in the longitudinal direction of the belt conveyors 20 and 20 and the longitudinal direction of the support bar 24 orthogonal to this, that is, in the X-Y direction. And the control means 26 can move the support pin 25 in the vicinity of the coordinate position corresponding to the defect K. As shown in FIG. Accordingly, the support pin 25 is used to support the periphery of the visual field including the defect K on the substrate 2 captured by the enlarged inspection unit 9 by the support pin 25. It can support from the back side of the board | substrate 2 by this.
또한, 지지 핀(25)의 정지 위치를 기판(2)의 결함 K의 좌표로부터 약간 벗어난 위치에 좌표를 설정하면, 투과 조명 하에서 미크로 검사하는 경우에 투과광을 차단하지 않으므로 보다 양호한 투과 확대 관찰을 행할 수 있다. 또한, 스테이지(3)의 개구부(16)에 복수개의 지지 바(24)를 이동할 수 있도록 설치함으로써, 특히 기판(2)의 배면을 육안 관찰할 때, 각각의 지지 바(24)를 벗어나게 함으로써 기판(2)의 배면 전체를 육안 관찰할 수 있다.Further, if the stop position of the support pin 25 is set at a position slightly off from the coordinates of the defect K of the substrate 2, better transmission magnification observation can be performed since the transmitted light is not blocked in the case of micro inspection under the transmitted light. Can be. In addition, by installing the plurality of support bars 24 in the openings 16 of the stage 3 so as to be movable, the substrates are moved out of the respective support bars 24, particularly when the back surface of the substrate 2 is visually observed. The whole back of (2) can be visually observed.
다음에, 본 발명의 다른 실시예에 대하여 설명하지만, 전술한 실시예와 동일하거나 또는 마찬가지의 부재 및 부품에는 동일한 부호를 사용하여 그에 대한 설명을 생략한다.Next, another embodiment of the present invention will be described, but the same reference numerals are used for the same or similar members and components as the above-described embodiment, and description thereof will be omitted.
도 7 및 도 8은 본 발명의 제2 실시예에 따른 외관 검사 장치의 기판 유지 기구를 나타낸 것이며, 도 7은 스테이지의 평면도, 도 8은 도 7의 B-B선을 따라 절단한 종단면도이다.7 and 8 show a substrate holding mechanism of the appearance inspection apparatus according to the second embodiment of the present invention, FIG. 7 is a plan view of the stage, and FIG. 8 is a longitudinal sectional view taken along the line B-B of FIG.
본 실시예에서는, 기판 유지 기구(11)로서 제1 실시예에 따른 지지 바(24) 및 지지 핀(25)은 설치되어 있지 않다. 본 실시예에 따른 외관 검사 장치(1)의 기판 유지 기구(11)에서는, 살(17)의 배면 즉 기판(2)과 반대 측에 베이스부(27) 및 가이드 부재(28)가 대략 "L"자형으로 설치되어 있다. 특히 가이드 부재(28)는 살(17)의 길이 방향으로 연속하는 판형으로 형성됨으로써 강성을 확보하고, 살(17)이 자기 중량이나 기판(2)의 하중을 받아서 휘는 것을 방지하고 있다.In the present embodiment, the support bar 24 and the support pin 25 according to the first embodiment are not provided as the substrate holding mechanism 11. In the substrate holding mechanism 11 of the appearance inspection apparatus 1 according to the present embodiment, the base portion 27 and the guide member 28 are approximately " L " "It is installed in a shape. In particular, the guide member 28 is formed in a plate shape that is continuous in the longitudinal direction of the flesh 17 to secure rigidity, and prevents the flesh 17 from bending under the weight of the magnetic weight or the load of the substrate 2.
그리고, 베이스부(27)에는 기판(2)에 대해서 진퇴 가능한 유지 부제(30)가 설치되어 있다. 유지 부재(30)는 하나의 살(17)에 하나 또는 복수개(도면에서는 8개) 설치되어 있고, 베이스부(27)에 장착한 지축(31, 支軸)과 지축(3l) 주위에, 예를 들면 대략 90°까지 회동할 수 있는 지지 부재(이후 "지지 핀"이라 한다)(32)를 구비하고 있다. 지지 핀(32)은 지축(31)에 회전될 수 있도록 연결된 암(33)과, 암(33)의 선단에 대략 직교하여 설치된 핀 부재(34)로 구성되어 있다.The base portion 27 is provided with a holding subsidiary material 30 that can move back and forth with respect to the substrate 2. One or more holding members 30 are provided in one flesh 17 (eight in the figure), and around the support shafts 31 and 한 attached to the base portion 27 and the support shafts 3l, for example. For example, a support member (hereinafter referred to as a "support pin") 32 that can rotate to approximately 90 ° is provided. The support pin 32 is comprised from the arm 33 connected so that the support shaft 32 could be rotated, and the pin member 34 provided substantially perpendicular to the front-end | tip of the arm 33. As shown in FIG.
그러므로, 각각의 지지 핀(32)은, 도 8에서 실선으로 나타낸 바와 같이 기판(2)으로부터 퇴피한 가이드 부재(28)와 거의 평행한 하방에 직각으로 내린 퇴피 위치와 2점 쇄선으로 나타낸 바와 같이 기판(2)과 거의 평행하게 기판(2)의 배면에 맞닿아서 지지하는 지지 위치를 선택적으로 취할 수 있다. 지지 핀(32)은 매크로 검사 시에서는 퇴피 위치, 미크로 검사 시에서는 지지 위치에 있다. 또한, 각각의 살(17)에 설치된 복수개의 지지 핀(32)은 도시하지 않은 모터 등의 진퇴 수단에 의해 각각의 지축(31)을 살(17)의 한쪽마다 일체로 회동시켜서 진퇴하도록 구성되어 있다. 그리고, 각각의 유지 부재(30)를 진퇴 수단에 의해 개별적으로 회동시켜도 된다.Therefore, each of the support pins 32 has a retracted position and a dashed-dotted line, which are lowered at right angles and substantially parallel to the guide member 28 withdrawn from the substrate 2, as indicated by the solid line in FIG. 8. The support position which abuts and supports the back surface of the board | substrate 2 substantially parallel with the board | substrate 2 can be selectively taken. The support pin 32 is in the retracted position at the time of macro inspection, and at the support position at the time of micro inspection. In addition, the plurality of support pins 32 provided on each of the spokes 17 are configured to move forward and backward by integrally rotating each of the support shafts 31 on one side of the flesh 17 by a retraction means such as a motor (not shown). have. And each holding member 30 may be rotated individually by an advancing means.
또한, 유지 부재(30)는 살(17)에 대해서 양측에 배치되어 있지만(도 7 참조), 한쪽에만 설치되어도 된다. 또한, 도 7에 나타낸 바와 같이 유지 부재(30)는 스테이지(3)의 대향하는 변을 이루는 한쌍의 틀형부(3b, 3b)에도 적절한 간격으로 설치되어 있다.In addition, although the holding member 30 is arrange | positioned at both sides with respect to the flesh 17 (refer FIG. 7), you may be provided only in one side. In addition, as shown in FIG. 7, the holding member 30 is also provided in the pair of frame parts 3b and 3b which form the opposite side of the stage 3 at appropriate intervals.
본 실시예에서는, 각각의 지지 핀(32)과 각각의 살(17)에 설치한 고정핀(17a)에 의해 각각 주위 반경 a mm의 범위 내에서 기판(2)의 미소 진동이나 휨을 억제할 수 있으므로, 각각의 지지 핀(32)이나 고정핀(17a)을 대략 거리 2a mm 간격으로 설정하면 기판(2)의 임의의 위치에 형성된 결함 K의 미크로 관찰에 대응할 수 있다.In the present embodiment, the micro pins and the warpage of the substrate 2 can be suppressed within the range of the peripheral radius a mm by the fixing pins 17a provided on the respective support pins 32 and the respective fleshes 17. Therefore, by setting each of the support pins 32 and the fixing pins 17a at approximately a distance of 2a mm, it is possible to cope with micro observation of the defect K formed at an arbitrary position of the substrate 2.
본 실시예에 따른 외관 검사 장치(1)의 기판 유지 기구(11)는 전술한 바와 같은 구성 요소을 구비하고 있고, 매크로 검사에서는 각각의 살(17)이나 틀형부(3b)에 설치한 유지 부재(30) 각각의 지지 핀(32)을 도 8에서 실선으로 나타낸 바와 같이 살(17)이나 틀형부(3b)의 배면에 퇴피한 상태에서 스테이지(3) 상의 기반(2)의 육안 관찰을 행한다. 그러므로, 각각의 유지 부재(30)는 낙사 조명이나 투과 조명 상태에서의 관찰의 방해가 되지 않는다.The board | substrate holding mechanism 11 of the external appearance inspection apparatus 1 which concerns on this embodiment is equipped with the component mentioned above, and in the macro inspection, the holding member provided in each flesh 17 and the frame part 3b ( 30) A visual observation of the base 2 on the stage 3 is performed in a state where each support pin 32 is evacuated to the back surface of the flesh 17 or the mold 3b as shown by the solid line in FIG. Therefore, each holding member 30 does not prevent the observation in the fall illumination or the transmissive illumination state.
또한, 미크로 검사 시에는, 도 7에 나타낸 바와 같이, 기판(2) 상의 관찰할 결함 K 근방에 위치하는 살(17)에 장착한 각각의 유지 부재(30)를 지축(31)을 통하여 회전시켜서 지지 핀(32)을 지지 위치에 유지함으로써 기판(2)의 결함 K 근방을 지지한다. 이에 따라, 미크로 관찰하는 기판(2)의 결함 K 부근에 미소 진동이나 휨이 생기지 않으므로, 정밀도가 양호한 관찰·검사를 행할 수 있다.In addition, at the time of micro inspection, as shown in FIG. 7, each holding member 30 attached to the flesh 17 located in the vicinity of the defect K to observe on the board | substrate 2 is rotated through the support shaft 31, The defect pin K vicinity of the board | substrate 2 is supported by holding the support pin 32 in a support position. Thereby, since micro vibration and curvature do not generate | occur | produce in the vicinity of defect K of the board | substrate 2 observed with a micro | micro | microscope, observation and inspection with favorable precision can be performed.
그리고, 상기 제1 실시예에서, 지지 바(24)를 진퇴 이동시키는 컨베이어(20, 20) 대신, 지지 바(24)를 다른 액츄에이터, 예를 들면 리니어 모터 등의 직선 액츄에이터나 볼 나사 등으로 진퇴 이동시키도록 해도 된다.In the first embodiment, instead of the conveyors 20 and 20 for moving the support bar 24 forward and backward, the support bar 24 is moved forward and backward with another actuator, for example, a linear actuator such as a linear motor or a ball screw. You may make it move.
또한, 제2 실시예에서, 지지 핀(32)에는 암(33)에 하나의 핀 부재(34)를 장착하여 기판을 지지할 수 있도록 하였지만, 암(33)의 길이를 길게 하여 복수개의 핀 부재(34)를 적절한 간격으로 설치하여도 된다(도 9a 참조). 또한, 실린더 로드(25b)나 핀 부재(34)를 봉형으로 형성하였지만, 선단부에 판형 또는 봉형의 헤드부를 설치한 대략 T자형으로 형성해도 되고(도 9b 참조), 이 경우에는 기판(2)에 대한 진동 억제 범위를 넓힐 수 있다.In addition, in the second embodiment, the support pin 32 is equipped with one pin member 34 on the arm 33 to support the substrate, but the length of the arm 33 is increased so that the plurality of pin members 34 may be provided at appropriate intervals (see Fig. 9A). In addition, although the cylinder rod 25b and the pin member 34 were formed in rod shape, you may form in the substantially T shape which provided the plate-shaped or rod-shaped head part in the front-end | tip (refer FIG. 9B), and in this case, to the board | substrate 2 The vibration suppression range can be widened.
또한, 기판(2)의 주위 둘레부는 스테이지(3)에 지지되어 있어 강성이 높으므로 틀형부(3b)에 유지 부재(30)를 형성하지 않아도 된다.In addition, since the peripheral part of the board | substrate 2 is supported by the stage 3, and rigidity is high, it is not necessary to form the holding member 30 in the frame part 3b.
또한, 본 발명에서 기판(2)을 지지하는 지지 핀(25, 32)의 개수는 기판(2)의 외형 치수나 판 두께에 따른 기판(2)의 강도 등에 따라 적절한 개수로 설정하면 되는 것은 말할 필요도 없다.In addition, in the present invention, the number of the support pins 25 and 32 supporting the substrate 2 may be set to an appropriate number depending on the external dimension of the substrate 2 or the strength of the substrate 2 according to the thickness of the substrate. There is no need.
이상, 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하였으나, 본 발명은 이들 실시예에 한정되지 않는다. 본 발명의 취지를 벗어나지 않는 범위에서, 구성 요소의 부가, 생략, 치환, 및 그 외의 예로 변경될 수 있다. 본 발명은 전술한 설명에 의하여 한정되지 않고, 첨부된 청구항의 범위에 의해서만 한정된다.As mentioned above, although the preferred embodiment of this invention was described, this invention is not limited to these Examples. Changes may be made to additions, omissions, substitutions, and other examples without departing from the spirit of the present invention. The invention is not limited by the foregoing description, but only by the scope of the appended claims.
도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 외관 검사 장치의 주요부 설명도이다.1 is an explanatory view of a main part of an appearance inspection apparatus according to a first embodiment of the present invention.
도 2는 외관 검사 장치에서의 스테이지의 평면도이다.2 is a plan view of a stage in an appearance inspection apparatus.
도 3은 외관 검사 장치에서의 스테이지의 배면도이다.3 is a rear view of the stage in the appearance inspection apparatus.
도 4는 도 2에 나타낸 스테이지의 A-A선을 따라 절단한 종단면도이다.4 is a longitudinal cross-sectional view taken along line A-A of the stage shown in FIG.
도 5는 지지 핀을 돌출시킨 상태의 도 4와 마찬가지의 도면이다.FIG. 5 is a view similar to FIG. 4 with the support pin protruding. FIG.
도 6은 도 5에 나타낸 지지 핀의 부분 확대도이다.FIG. 6 is a partially enlarged view of the support pin shown in FIG. 5. FIG.
도 7은 제2 실시예에 따른 외관 검사 장치의 스테이지를 나타낸 주요부 평면도이다.7 is a plan view of a main portion showing a stage of an appearance inspection apparatus according to a second embodiment.
도 8은 도 7에서의 B-B선을 따라 절단한 단면도이다.FIG. 8 is a cross-sectional view taken along line B-B in FIG. 7.
도 9a 및 도 9b는 제2 실시예에 따른 지지 핀의 변형예를 나타낸 도면이다.9A and 9B show a modification of the support pin according to the second embodiment.

Claims (7)

  1. 틀형의 스테이지에 기판을 탑재하여, 검사를 행하도록 한 외관 검사 장치의 기판 유지 장치에 있어서,In the board | substrate holding apparatus of the external appearance inspection apparatus which mounted a board | substrate in the frame-shaped stage and test | inspected,
    기판의 배면 주위 둘레부를 유지하는 틀형의 스테이지와,A frame-shaped stage for holding a periphery around the back of the substrate,
    상기 스테이지의 개구부 내에서 상기 기판의 배면을 지지하는 지지 부재와, 상기 지지 부재에 상기 기판을 지지하는 지지 위치와 상기 기판으로부터 퇴피한 퇴피 위치를 선택적으로 취하는 진퇴 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 외관 검사 장치의 기판 유지 장치.And a support member for supporting the back surface of the substrate in the opening of the stage, and retreating means for selectively selecting a support position for supporting the substrate and a retracted position withdrawn from the substrate in the support member. Substrate holding device of inspection device.
  2. 제1항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 진퇴 수단은, 상기 지지 부재를 유지하는 유지 부재와, 상기 유지 부재를 기판에 대해서 이동시키는 작동 부재를 구비하고 있고, 상기 작동 부재에 의해 상기 유지 부재를 상기 기판에 대해서 진퇴시키는 것을 특징으로 하는 외관 검사 장치의 기판 유지 장치.The said retraction means is provided with the holding member which hold | maintains the said support member, and the operation member which moves the said holding member with respect to a board | substrate, The said holding member advances and backs the said holding member with respect to the said board | substrate Substrate holding device of appearance inspection device.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2,
    상기 미크로 검사 시에 상기 기판의 일부 영역을 확대하여 관찰하기 위해 기판에 대해서 이동하는 확대 검사부와, 상기 기판을 협지하여 확대 검사부와 반대 측에 설치되어 있는 상기 지지 부재를 상기 확대 검사부의 이동에 연동하여 상기 확대 검사부에 대응하는 위치로 이동시키는 제어 수단을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 외관 검사 장치의 기판 유지 장치.The magnification inspection part which moves with respect to a board | substrate to magnify and observe the partial area | region of the said board | substrate at the time of the micro inspection, and the said support member which is provided on the opposite side to the magnification inspection part by clamping the said board | substrate are linked with the movement of the said expansion inspection part. And a control means for moving to a position corresponding to the enlarged inspection part.
  4. 제1항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 지지 부재는, 상기 기판을 지지하는 핀 부재를 출몰 작동시키는 액츄에이터인 것을 특징으로 하는 외관 검사 장치의 기판 유지 장치.The support member is a substrate holding device for an appearance inspection apparatus, wherein the support member is an actuator for projecting and operating the pin member for supporting the substrate.
  5. 제1항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 진퇴 수단은, 개구부에 걸쳐서 설치된 살에 설치되어 있고, 상기 살에 대해서 상기 지지 부재를 지지 위치와 상기 살의 배면 측에 퇴피한 퇴피 위치 사이에 회동시키는 회동 기구인 것을 특징으로 하는 외관 검사 장치의 기판 유지 장치.The said retraction means is a rotation mechanism which is provided in the flesh provided over the opening part, and rotates the said support member with respect to the said meat between a support position and the retracted position evacuated to the back side of the said flesh. Substrate holding device.
  6. 제1항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 진퇴 수단은, 개구부 내에서 이동될 수 있는 유지 부재에 설치되어 있고, 상기 유지 부재에 대해서 지지 부재를 지지 위치와 하방에 퇴피한 퇴피 위치 사이에 출몰시키는 출몰 기구인 것을 특징으로 하는 외관 검사 장치의 기판 유지 장치.The said retreat means is provided in the holding member which can be moved in an opening part, and is an appearance inspection apparatus which makes a support member ooze with respect to the said holding member between a support position and the retracted position retracted below. Substrate holding device.
  7. 제1항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 지지 부재는 기판에 설치된 결함의 위치, 또는 결함에 근접하는 위치에 서 배면으로부터 기판을 지지하는 것을 특징으로 하는 외관 검사 장치의 기판 유지 장치.And the support member supports the substrate from the rear surface at the position of a defect provided on the substrate or at a position proximate to the defect.
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