KR101300098B1 - Device for inspecting substrate and method therefor - Google Patents

Device for inspecting substrate and method therefor Download PDF

Info

Publication number
KR101300098B1
KR101300098B1 KR1020060075226A KR20060075226A KR101300098B1 KR 101300098 B1 KR101300098 B1 KR 101300098B1 KR 1020060075226 A KR1020060075226 A KR 1020060075226A KR 20060075226 A KR20060075226 A KR 20060075226A KR 101300098 B1 KR101300098 B1 KR 101300098B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
substrate
inspection
stage
inspection unit
unit
Prior art date
Application number
KR1020060075226A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20080013550A (en
Inventor
김민수
Original Assignee
엘아이지에이디피 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘아이지에이디피 주식회사 filed Critical 엘아이지에이디피 주식회사
Priority to KR1020060075226A priority Critical patent/KR101300098B1/en
Publication of KR20080013550A publication Critical patent/KR20080013550A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101300098B1 publication Critical patent/KR101300098B1/en

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/89—Investigating the presence of flaws or contamination in moving material, e.g. running paper or textiles
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1306—Details
    • G02F1/1309—Repairing; Testing
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
    • G06T7/00—Image analysis
    • G06T7/70—Determining position or orientation of objects or cameras
    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N5/00—Details of television systems
    • H04N5/14—Picture signal circuitry for video frequency region
    • H04N5/21—Circuitry for suppressing or minimising disturbance, e.g. moiré or halo
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N2021/9513—Liquid crystal panels

Abstract

본 발명에 따른 기판 검사 장치 및 방법은, 양측 방향에서 기판 검사가 가능하도록 기판을 움직일 수 있도록 이루어진 기판 스테이지와, 상기 기판 스테이지를 중심으로 일측과 타측 방향에서 상기 기판을 각각 검사할 수 있도록 이루어진 제 1 검사부 및 제 2 검사부를 포함하여 구성되어, 기판을 좌우로 회전시켜 양쪽에서 검사할 수 있도록 구성되기 때문에 기판이 대형화됨에 따라 조사 영역이 한정되어 검사에 어려움이 따르는 문제를 해결하고, 기판 검사 시간을 단축할 수 있게 되어 기판 검사의 편의성 및 효율성을 높일 수 있으며, 전체적으로 장비의 높이가 낮게 되어 장비의 레이아웃 설정에서도 유리해진다.

Figure R1020060075226

LCD, 기판 스테이지, 이동 레일, 조명 기구, 모니터, 베이스

A substrate inspection apparatus and method according to the present invention comprises a substrate stage configured to move a substrate to enable substrate inspection in both directions, and a substrate configured to inspect the substrate in one side and the other direction with respect to the substrate stage, respectively. It consists of 1 inspection part and 2nd inspection part, so that it can be inspected from both sides by rotating the substrate from side to side, so that the irradiation area is limited as the substrate is enlarged, thereby solving the problem of difficulty in inspection, substrate inspection time It is possible to shorten the time and increase the convenience and efficiency of the board inspection, the overall height of the equipment is low, which is advantageous in the layout setting of the equipment.

Figure R1020060075226

LCD, Board Stage, Moving Rail, Lighting Fixture, Monitor, Base

Description

기판 검사 장치 및 방법{Device for inspecting substrate and method therefor}Device for inspecting substrate and method therefor}

도 1은 종래 기술의 기판 검사 장치가 도시된 사시도,1 is a perspective view showing a substrate inspection apparatus of the prior art,

도 2는 종래 기술에서 기판의 중간 영역을 검사할 때의 상태를 나타낸 측면도,2 is a side view showing a state when inspecting an intermediate region of a substrate in the prior art;

도 3은 종래 기술에서 기판의 상부 영역을 검사할 때의 상태를 나타낸 측면도,Figure 3 is a side view showing a state when inspecting the upper region of the substrate in the prior art,

도 4는 종래 기술에서 기판의 하부 영역을 검사할 때의 상태를 나타낸 측면도,Figure 4 is a side view showing a state when inspecting the lower region of the substrate in the prior art,

도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 검사 장치가 도시된 사시도,5 is a perspective view showing a substrate inspection apparatus according to an embodiment of the present invention,

도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 검사 장치의 개략적인 평면 구성도,6 is a schematic plan view of a substrate inspection apparatus according to an embodiment of the present invention;

도 7은 도 5의 "A" 방향에서 본 개략적인 구성도,FIG. 7 is a schematic configuration view seen from a direction “A” of FIG. 5;

도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 검사 장치가 도시된 사시도,8 is a perspective view showing a substrate inspection apparatus according to another embodiment of the present invention;

도 9는 도 8의 "B" 방향에서 본 개략적인 구성도이다.FIG. 9 is a schematic configuration view seen from the direction “B” of FIG. 8.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

50 : 베이스 프레임 51 : 베이스 50: base frame 51: base

53 : 이동 레일 55 : 프레임 53: moving rail 55: frame

57, 57': 검사대 60 : 기판 스테이지 57, 57 ': inspection table 60: substrate stage

61 : 받침대 61a : 가이드 61: pedestal 61a: guide

63 : 지지대 65 : 기판 홀더 63: support 65: substrate holder

80, 80' : 조명 기구 81 : 광원부 80, 80 ': Lighting fixture 81: Light source part

83 : 반사부 85 : 집광부 및 산란부 83: reflecting portion 85: light collecting portion and scattering portion

90, 90' : 모니터 95 : 조작부90, 90 ': monitor 95: control panel

P1 : 제 1 검사부 P2 : 제 2 검사부 P1: first inspection unit P2: second inspection unit

본 발명은 LCD 등의 평판 표시 소자용 기판의 결함 여부를 검사하는 기판 검사 시스템에 관한 것으로서, 특히 좌우 방향에서 기판을 검사하여, 효율적으로 기판을 검사할 수 있도록 하는 기판 검사 장치 및 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate inspection system for inspecting a defect of a substrate for a flat panel display device such as an LCD, and more particularly, to a substrate inspection apparatus and method for inspecting a substrate in a left and right direction to efficiently inspect the substrate. .

일반적으로 기판 검사 장치는 반도체 웨이퍼나 LCD, PDP, EL 등 평판표시소자의 대형 기판을 생산할 때 기판에 남아 있는 이물질이나 얼룩 등의 결함을 검사하기 위한 장치이다. 이러한 검사 장치는 통상 검사자의 육안으로 기판의 결함 여부를 직접 검사하게 되는데, 기판의 결함을 용이하게 검사할 수 있도록 대형 프레임에 조명 장치와 리뷰 카메라 등이 설치되는 구조로 이루어진다.In general, the substrate inspection apparatus is a device for inspecting defects such as foreign substances or stains remaining on the substrate when producing a large substrate of a flat panel display device such as a semiconductor wafer or LCD, PDP, EL. The inspection device is usually inspected directly by the inspector to check the defect of the substrate, it is made of a structure in which a lighting device and a review camera is installed in a large frame to easily inspect the defect of the substrate.

도 1은 종래 기술의 기판 검사 장치의 일례를 도시한 사시도로서, 이를 참조하여 종래 기판 검사 장치를 설명한다. 1 is a perspective view showing an example of a substrate inspection apparatus of the prior art, with reference to this will be described a conventional substrate inspection apparatus.

종래의 기판 검사 장치는, 도 1에 도시된 바와 같이, 크게 베이스 프레임(10)과, 이 프레임에 설치되는 기판 스테이지(20), 조명 기구(30) 등으로 구성된다.The conventional board | substrate inspection apparatus is largely comprised from the base frame 10, the board | substrate stage 20, the lighting fixture 30, etc. which are provided in this frame.

이러한 기판 검사 장치의 주요 구성 부분을 자세히 설명하면 다음과 같다.The major components of such a substrate inspection apparatus will be described in detail as follows.

상기 베이스 프레임(10)은 기판 검사 장치의 모든 장비를 지지하는 장치로서, 바닥을 구성하는 베이스(11)와, 이 베이스에 상부에 골조 구조로 설치되는 프레임(15)으로 이루어진다.The base frame 10 is a device for supporting all equipment of the substrate inspection apparatus, and includes a base 11 constituting a floor and a frame 15 installed in a frame structure on the base.

상기 기판 스테이지(20)는 상기 검사할 기판(S)을 안착 고정하는 장비로서, 상기 베이스(11) 위에서 전후 방향으로 이동 가능하게 설치되기도 한다.The substrate stage 20 is a device for seating and fixing the substrate S to be inspected. The substrate stage 20 may be installed to be movable in the front-rear direction on the base 11.

이러한 기판 스테이지(20)는 베이스(11) 위에 고정된 받침대(21), 이 받침대에서 수직으로 세워진 한 쌍의 지지대(23), 이 지지대에 회전각도 조절이 가능하게 설치되어 검사할 기판이 안착되는 기판 홀더(25)로 이루어진다.The substrate stage 20 has a base 21 fixed on the base 11, a pair of supports 23 erected vertically on the base 11, and the support for mounting the substrate to be inspected is mounted on the support so that the rotation angle can be adjusted. It consists of the substrate holder 25.

여기서 상기 기판 홀더(25)는 기판을 상하로 이동시면서 기판을 검사할 수 있도록 홀더 지지대(27)를 중심으로 상하 방향으로 슬라이딩 가능하게 구성된다.Here, the substrate holder 25 is configured to be slidable in the vertical direction about the holder support 27 so as to inspect the substrate while moving the substrate up and down.

상기 조명 기구(30)는 상기 기판 스테이지(20)의 상측에서 상기 프레임(15)에 설치되어 기판(S) 표면에 빛을 조사하는 장비로서, 크게 빛을 조사하는 광원부(31), 반사부(33), 집광부 및 산란부(35)로 구성되어 전체적으로 조사 각도 조절이 가능하도록 구성된다.The lighting device 30 is installed on the frame 15 at the upper side of the substrate stage 20 to irradiate light onto the surface of the substrate S. The light source unit 31 and the reflector ( 33), the light collecting portion and the scattering portion 35 is configured to enable the irradiation angle as a whole.

한편, 상기 베이스 프레임(10)의 일측(도면에서 좌측)에는 검사자가 기판을 검사할 수 있도록 검사대(17)가 위치되고, 이 검사대의 일측에는 상기 기판(S)을 리뷰 카메라를 통해 고배율로 촬영한 이미지를 보여주는 모니터(45) 및 전제 장비를 제어하고 조작할 수 있는 조작부(47)가 설치된다.Meanwhile, an inspection table 17 is positioned at one side (the left side in the drawing) of the base frame 10 so that an inspector can inspect the substrate, and at one side of the inspection frame, the substrate S is photographed at a high magnification through a review camera. A monitor 45 showing an image and an operation unit 47 for controlling and operating the entire equipment are installed.

상기와 같이 구성되는 기판 검사 장치는 검사할 기판(S)을 기판 스테이지(20)에 고정한 다음, 조명 기구(30)를 통해 기판에 빛을 조사하면서 검사자가 검사대(17)에서 육안으로 기판(S)의 결함 여부를 검사하게 된다.The substrate inspection apparatus configured as described above fixes the substrate S to be inspected to the substrate stage 20, and then inspects the substrate S visually from the inspection table 17 while irradiating light to the substrate through the lighting fixture 30. ) Is checked for defects.

특히, 디스플레이 패널 등의 기판이 대형화되면서 검사할 기판의 모든 부분을 동시에 빛을 조사하면서 검사하기 어렵기 때문에 기판을 영역별로 나누어서 검사하고 있는 실정이다.In particular, as substrates such as display panels become larger, it is difficult to inspect all parts of the substrate to be examined while irradiating light at the same time.

즉, 도 2 내지 도 4에 도시된 바와 같이 검사자의 육안 검사 높이로 조명 기구(30)의 조사 영역을 고정한 상태에서, 홀더 지지대(27)를 중심으로 기판 홀더(25)를 상하로 슬라이딩 이동시키면서 기판을 영역별로 나누어서 검사하게 된다.That is, as shown in FIGS. 2 to 4, while the irradiation area of the lighting fixture 30 is fixed at the visual inspection height of the inspector, the substrate holder 25 is slid up and down about the holder support 27. The board is divided and inspected by area.

도 2는 기판(S)이 중앙에 위치시킨 상태로, 기판의 중앙 부분(S1)에 빛을 조사하면서 기판(S)을 검사하는 상태를 나타내고, 도 3은 기판 홀더(25)를 하부로 슬라이딩시켜 기판(S)의 상부 영역(S2)에 빛을 조사하면서 기판을 검사하는 상태를 나타내며, 도 4는 기판 홀더(25)를 상부로 슬라이딩시켜 기판(S)의 하부 영역(S3)에 빛을 조사하면서 기판을 검사하는 상태를 나타낸다.FIG. 2 illustrates a state in which the substrate S is inspected while the substrate S is positioned at the center and irradiates light to the central portion S 1 of the substrate, and FIG. 3 shows the substrate holder 25 downward. The state of inspecting the substrate while irradiating light to the upper region S 2 of the substrate S by sliding is shown. FIG. 4 shows the lower region S 3 of the substrate S by sliding the substrate holder 25 upward. It shows the state which inspects a board | substrate, irradiating light to it.

그러나 상기와 같이 기판(S)의 위치를 상하로 이동시키면서 기판을 검사하게 되면, 작업자 한 사람이 기판(S)의 전 부분을 모두 검사하여야 하는 문제가 발생되고, 이 과정에서 기판을 상하로 슬라이딩시키면서 기판을 검사하여야 하므로, 기판 검사시의 전문성 확보가 어려울 뿐만 아니라 작업 시간도 많이 소요되는 문제점이 있다.However, when inspecting the substrate while moving the position of the substrate S up and down as described above, a problem arises that one worker must inspect all the parts of the substrate S. In this process, the substrate is slid up and down. Since it is necessary to inspect the substrate while making it difficult to secure expertise in inspecting the substrate, there is a problem in that it takes a lot of working time.

즉, 기판을 생산하는 과정에서 기판의 부분에 따라 결함 종류 및 상태가 달라질 수 있는데, 한 사람이 모든 결함을 검사하다보면 다양한 종류 및 상태의 결함을 보다 정확하게 검사하기가 쉽지 않은 문제가 발생된다.In other words, the type and state of defects may vary depending on the part of the substrate in the process of producing the substrate. When one inspects all the defects, it is difficult to more accurately inspect the defects of various types and states.

또한 기판의 위치를 상하로 이동시키면서 기판을 검사하기 때문에 기판을 상하로 이동시키기 위해서 상하의 공간을 충분히 확보하여야 하고, 이에 따라 전체적으로 장비의 높이가 높아져서 검사 장비의 설치에도 제약이 따르는 문제점이 발생되고 있다.In addition, since the substrate is inspected while moving the position of the substrate up and down, sufficient space must be secured in order to move the substrate up and down. Accordingly, the height of the equipment is increased as a whole, which causes a problem that the installation of the inspection equipment is restricted. .

즉, 최근 높이가 2m 이상인 대형화된 기판도 생산되고 있는 실정인 바, 이러한 대형 기판을 상하로 이동시키면서 기판을 검사하기 위해서는, 조명 기구(30)의 설치 영역을 포함하여 장비의 전체 높이가 6m 이상으로 높아져야 한다. 하지만 통상의 건축물은 하나의 층고가 6m 이상으로 설계된 경우가 많지 않기 때문에 검사 장비를 설치하는데 상당한 제약이 따르는 문제점이 있다.In other words, in recent years, a large-sized substrate having a height of 2 m or more has been produced. In order to inspect the substrate while moving the large substrate up and down, the overall height of the equipment including the installation area of the lighting fixture 30 is 6 m or more. Should be as high. However, a typical building has a problem that there is a significant limitation in installing the inspection equipment because one floor is not designed to more than 6m.

본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 기판을 좌우로 회전시켜 양쪽에서 검사할 수 있도록 구성함으로써 기판이 대형화됨에 따라 조 사 영역이 한정되어 검사에 어려움이 따르는 문제를 해결하고, 기판 부분 검사의 전문성을 실현함과 아울러 기판 검사의 신뢰성 및 효율성을 높일 수 있는 기판 검사 장치 및 방법을 제공하는 데 목적이 있다.The present invention has been made in order to solve the above problems, by rotating the substrate to the left and right to configure the inspection from both sides by increasing the size of the substrate is limited to the inspection area to solve the problem of difficulty in inspection, the substrate It is an object of the present invention to provide a substrate inspection apparatus and method capable of realizing the expertise of partial inspection and increasing the reliability and efficiency of substrate inspection.

또한 본 발명은 기판 검사 시간을 단축함과 아울러, 검사 장비의 설치상의 제약도 줄일 수 있는 기판 검사 장치 및 방법을 제공하는 데 목적이 있다.In addition, an object of the present invention is to provide a substrate inspection apparatus and method which can shorten the inspection time of the substrate and also reduce the constraints on the installation of inspection equipment.

상기한 과제를 실현하기 위한 본 발명에 따른 기판 검사 장치는, 검사할 기판이 안착되고, 적어도 두 방향에서 기판 검사가 가능하도록 기판을 움직일 수 있도록 이루어진 기판 스테이지와; 상기 기판 스테이지를 중심으로 일측 방향에서 상기 기판을 검사할 수 있도록 이루어진 제 1 검사부와; 상기 기판 스테이지를 중심으로 타측 방향에서 상기 기판을 검사할 수 있도록 이루어진 제 2 검사부를 포함한 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a substrate inspection apparatus, comprising: a substrate stage on which a substrate to be inspected is seated, the substrate stage being configured to move the substrate to enable inspection of the substrate in at least two directions; A first inspection unit configured to inspect the substrate in one direction about the substrate stage; And a second inspection unit configured to inspect the substrate in the other direction about the substrate stage.

여기서 상기 제 1 검사부는 상기 기판 스테이지를 중심으로 좌측에 검사자가 위치된 상태에서 기판을 검사할 수 있도록 구성되고, 상기 제 2 검사부는 상기 기판 스테이지를 중심으로 우측에 검사자가 위치된 상태에서 기판을 검사할 수 있도록 구성되는 것이 바람직하다.The first inspection unit may be configured to inspect a substrate in a state where an inspector is positioned on the left side of the substrate stage, and the second inspection unit may inspect a substrate in a state where the inspector is located on the right side of the substrate stage. It is preferable to be configured to be able to inspect.

상기 제 1 검사부와 제 2 검사부는 상기 기판 스테이지를 중심으로 대칭적으로 구성되는 것이 바람직하다.Preferably, the first inspection unit and the second inspection unit are configured symmetrically about the substrate stage.

상기 제 1 검사부와 제 2 검사부는 별도의 공간에 배치되어 구성될 수 있다. 이때 상기 기판 스테이지는 상기 제 1 검사부와 제 2 검사부의 양쪽 공간으로 이동 가능하게 설치된다.The first inspection unit and the second inspection unit may be disposed in separate spaces. At this time, the substrate stage is installed to be movable to both spaces of the first inspection unit and the second inspection unit.

이와는 달리 상기 제 1 검사부와 제 2 검사부는 하나의 공간에서 양쪽에 배치되어 구성될 수 있다.Alternatively, the first inspection unit and the second inspection unit may be arranged on both sides in one space.

또한 상기한 기판 스테이지는 상기 제 1 검사부의 검사 방향과 제 2 검사부의 검사 방향으로 기판을 회전시킬 수 있도록 구성되는 것이 바람직하다.In addition, the substrate stage is preferably configured to rotate the substrate in the inspection direction of the first inspection unit and the inspection direction of the second inspection unit.

상기 제 1 검사부와 제 2 검사부는 상기 기판에 빛을 조사하는 조명 기구가 각각 구비되는 것이 바람직하다.Preferably, the first inspection unit and the second inspection unit are each provided with a lighting device for irradiating light to the substrate.

다음, 상기한 과제를 실현하기 위한 본 발명에 따른 기판 검사 방법은, 기판 스테이지를 중심으로 일측 방향에서 기판을 위치시킨 상태에서 기판을 검사하는 제 1 단계와; 상기 기판을 타측 방향으로 회전시킨 후에 상기 기판 스테이지를 중심으로 타측 방향에서 기판을 검사하는 제 2 단계를 포함한 것을 특징으로 한다.Next, a substrate inspection method according to the present invention for realizing the above object comprises a first step of inspecting a substrate in a state in which the substrate is positioned in one direction with respect to the substrate stage; And rotating the substrate in the other direction, and then inspecting the substrate in the other direction about the substrate stage.

상기 제 1 단계에서 기판의 검사 영역과 제 2 단계에서 기판의 검사 영역을 달리하면서 기판을 검사하는 것이 바람직하다. 이때, 상기 제 1 단계와 제 2 단계에서 기판을 검사할 때 각 단계의 기판의 검사 영역에 빛을 조사하면서 기판을 검사하는 것이 바람직하다.Preferably, the substrate is inspected while the inspection region of the substrate is different from the inspection region of the substrate in the first step. At this time, when inspecting the substrate in the first step and the second step, it is preferable to inspect the substrate while irradiating light to the inspection area of the substrate of each step.

상기 제 1 단계와 제 2 단계의 검사 공간은 별개의 공간에서 이루어질 수 있고, 이때, 상기 제 1 단계와 제 2 단계 사이에는 상기 기판 스테이지를 제 1 단계의 검사 공간에서 제 2 단계의 검사 공간으로 이동시키는 단계를 포함한다.The inspection spaces of the first and second stages may be made in separate spaces, wherein the substrate stage is moved from the inspection space of the first stage to the inspection space of the second stage between the first and second stages. Moving.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

참고로, 도 5 내지 도 7에 예시된 실시예는 별도의 공간에서 기판 양쪽 검사가 이루어지도록 구성된 것이고, 도 8 내지 9에 예시된 실시예는 하나의 공간에서 기판 양쪽 검사가 이루어지도록 구성된 것이다. 이와 같은 실시예를 설명함에 있어서 동일 유사한 구성 부분에 대해서는 중복 설명을 피하기 위해 동일한 참조 번호를 부여하고 그에 대한 자세한 설명은 생략한다.For reference, the embodiment illustrated in FIGS. 5 to 7 is configured to inspect both substrates in a separate space, and the embodiment illustrated in FIGS. 8 to 9 is configured to inspect both substrates in one space. In describing such an embodiment, like reference numerals refer to like elements, and detailed descriptions thereof will be omitted to avoid repetitive description.

도 5 내지 도 7을 참조하여 별도의 공간에서 기판의 양쪽 검사가 이루어지는 실시예를 설명한다.An embodiment in which both inspections of the substrate are performed in separate spaces will be described with reference to FIGS. 5 to 7.

도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 검사 장치가 도시된 사시도이고, 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 검사 장치의 개략적인 평면 구성도이며, 도 7은 도 5의 "A" 방향에서 본 개략적인 구성도이다.5 is a perspective view showing a substrate inspection apparatus according to an embodiment of the present invention, Figure 6 is a schematic plan view of a substrate inspection apparatus according to an embodiment of the present invention, Figure 7 is a "A of FIG. Is a schematic configuration seen from the "direction.

도시된 바와 같이 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 검사 장치는, 연속된 두 공간에 배치된 제 1 및 제 2 검사부(P1)(P2)를 갖도록 구성되고, 이 두 개의 검사부(P1)(P2)는 검사할 기판(S)이 안착된 기판 스테이지(60)가 두 공간을 이동할 수 있도록 구성된다.As shown, the substrate inspection apparatus according to an embodiment of the present invention is configured to have first and second inspection portions P1 and P2 arranged in two consecutive spaces, and these two inspection portions P1 and P2 are provided. ) Is configured such that the substrate stage 60 on which the substrate S to be inspected is seated can move between the two spaces.

상기 제 1 검사부(P1)는 상기 기판 스테이지(60)를 중심으로 도면상 좌측에 검사자가 위치된 상태에서 기판(S)을 검사할 수 있도록 구성되는 반면, 상기 제 2 검사부(P2)는 상기 기판 스테이지(60)를 중심으로 도면상 우측에 검사자가 위치된 상태에서 기판(S)을 검사할 수 있도록 구성된다.The first inspection unit P1 is configured to inspect the substrate S while the inspector is positioned on the left side of the drawing with respect to the substrate stage 60, while the second inspection unit P2 is configured to inspect the substrate. It is configured to be able to inspect the substrate S in a state where the inspector is positioned on the right side of the drawing with respect to the stage 60.

이러한 상기 제 1 검사부(P1)와 제 2 검사부(P2)는 상기 기판 스테이지(60)를 중심으로 좌우 대칭적으로 구성되는 것이 바람직한데, 이와 같은 구성을 자세히 설명한다.The first inspection unit P1 and the second inspection unit P2 are preferably configured to be symmetrically around the substrate stage 60. Such a configuration will be described in detail.

먼저, 상기 제 1 검사부(P1)는 하나의 검사 공간을 구성하도록 베이스(51) 및 골조 구조의 프레임(55)이 조합된 베이스 프레임(50)이 구비된다.First, the first inspection unit P1 includes a base frame 50 in which the base 51 and the frame 55 of the frame structure are combined to form one inspection space.

통상 상기 베이스 프레임(50)은 육면체 공간 구조로 형성될 수 있으며, 특히 베이스(51)에는 상기 기판 스테이지(60)가 이동할 수 있도록 이동 레일(53)이 구비된다.Typically, the base frame 50 may be formed in a hexahedral space structure, and in particular, the base 51 may include a moving rail 53 to move the substrate stage 60.

또한 상기 베이스 프레임(50)의 도면상 좌측에는 검사자가 올라와서 검사할 수 있도록 검사대(57)가 위치되고, 이 검사대(57)에는 상기 기판(S)을 리뷰 카메라(미도시)를 통해 고배율로 촬영한 이미지를 보여주는 모니터(90)와 전제 장비를 제어하고 조작할 수 있는 조작부(95) 등이 설치될 수 있다.In addition, an inspection table 57 is positioned on the left side of the drawing of the base frame 50 so that an inspector can come up to inspect the substrate frame 50, and the inspection table 57 has a high magnification through the review camera (not shown). A monitor 90 showing the captured image and an operation unit 95 for controlling and manipulating the entire equipment may be installed.

또한 상기 베이스 프레임(50)의 상부에는 상기 기판 스테이지(60)를 중심으로 좌측 영역에 상기 기판(S)에 빛을 조사하는 조명 기구(80)가 설치된다. 이때 조명 기구(80)는 주로 기판(S)의 하부 영역(S1)에 빛을 조사할 수 있도록 배치되는 것이 바람직하다.In addition, the upper part of the base frame 50 is provided with a lighting device 80 for irradiating light to the substrate (S) in the left area around the substrate stage 60. At this time, the lighting fixture 80 is preferably arranged to irradiate light to the lower region (S 1 ) of the substrate (S).

이러한 상기 조명 기구(80)는 빛을 조사하는 광원부(81), 이 광원부로부터 조사된 빛을 기판 방향으로 반사시키는 반사부(83), 이 반사부에서 반사된 빛을 집 광 산란시키는 집광부 및 산란부(85)로 구성된다.The lighting device 80 includes a light source unit 81 for irradiating light, a reflecting unit 83 for reflecting light emitted from the light source unit in the direction of a substrate, a light collecting unit for collecting and scattering light reflected from the reflecting unit; It consists of a scattering part 85.

상기 조명 기구(80)의 구성은 반드시 상기와 같은 구체적인 구성에 한정되지 않고, 실시 조건에 따라 공지의 검사 장비에 설치되는 조명 기구이면 필요에 따라 다양하게 선택하여 설치 가능하나, 바람직하게는 상기 광원부(81), 반사부(83), 집광부 및 산란부(85)가 모두 구성되는 것이 바람직하다.The configuration of the lighting fixture 80 is not necessarily limited to the specific configuration as described above, if the lighting fixture to be installed in a known inspection equipment according to the implementation conditions can be selected and installed in various ways, preferably, the light source unit It is preferable that all of the 81, the reflecting portion 83, the light collecting portion, and the scattering portion 85 are configured.

다음, 상기 제 2 검사부(P2)는 상기 제 1 검사부(P1)와 대칭적으로 구성되는 바, 우측에 검사대(57')가 위치되고, 그 검사대(57') 위에 모니터(90') 및 조작부가 설치되며, 우측 상부에 조명 기구(80')가 설치된다.Next, the second inspection unit P2 is symmetrically configured with the first inspection unit P1, and an inspection table 57 'is positioned on the right side, and the monitor 90' and the operation unit are disposed on the inspection table 57 '. Is installed, the lighting fixture 80 'is installed on the upper right.

이러한 제 2 검사부(P2)의 구성은 제 1 검사부(P1)의 구성과 동일하게 구성되는 것이 바람직하나, 기판의 검사 영역 및 조건에 따라서는 그 위치 및 구조를 변경하여 실시하는 것도 가능함은 물론이다.Although the configuration of the second inspection unit P2 is preferably the same as that of the first inspection unit P1, the position and structure of the second inspection unit P2 may be changed depending on the inspection region and the condition of the substrate. .

즉, 제 1 검사부(P1)와 제 2 검사부(P2)가 기판 스테이지(60)를 중심으로 반드시 대칭적으로 구성될 필요는 없으며, 한 쪽 검사부에 구성되지 아니한 구성 요소를 더 포함하거나, 일부 구성을 삭제하여 구성하는 것도 가능하다.That is, the first inspection unit P1 and the second inspection unit P2 do not necessarily have to be symmetrically configured around the substrate stage 60, and may further include components that are not configured on one inspection unit, or some components. It is also possible to configure by deleting.

다음, 상기와 같은 제 1 검사부(P1)와 제 2 검사부(P2) 사이를 이동하는 기판 스테이지(60)에 대하여 설명한다.Next, the substrate stage 60 moving between the first inspection unit P1 and the second inspection unit P2 as described above will be described.

상기 기판 스테이지(60)는 상기 제 1 검사부(P1)의 검사 방향과 제 2 검사부(P2)의 검사 방향으로 기판(S)을 회전시켜 위치시킬 수 있도록 구성된 것으로서, 상기 베이스(51)에 이동 가능하게 지지되는 받침대(61)와, 이 받침대의 양쪽에 수직으로 세워지는 지지대(63)와, 이 지지대의 상부에 회전 가능하게 지지됨과 아울 러 기판(S)이 안착되는 기판 홀더(65)로 이루어진다.The substrate stage 60 is configured to rotate and position the substrate S in the inspection direction of the first inspection unit P1 and the inspection direction of the second inspection unit P2, and is movable to the base 51. A support 61 which is securely supported, a support 63 which is erected vertically on both sides of the support, and a substrate holder 65 which is rotatably supported on the upper part of the support and on which the substrate S is seated. .

여기서 상기 지지대(63)는 그 하부에 상기 양쪽 검사부(P1)(P2)의 베이스에 결합되는 가이드(61a)가 구성되고, 상기 베이스(51)에는 상기 지지대(63)의 가이드(61a)에 결합되어 직선 이동토록 안내하는 이동 레일(53)이 구성된다.Here, the support 63 has a guide 61a coupled to the base of both inspection parts P1 and P2 at a lower portion thereof, and the base 51 is coupled to the guide 61a of the support 63. And a moving rail 53 which guides the linear movement.

이러한 기판 스테이지(60)의 직선 이동 구조는 리니어 모터 및 볼 스크류, 구동 모터를 이용한 타이밍 벨트, 피니언 랙 기구 등 공지의 다양한 직선 이동 기구 중의 하나를 선택하여 적용할 수 있으므로, 이에 대한 자세한 설명은 생략한다.Since the linear movement structure of the substrate stage 60 may be applied to one of various known linear movement mechanisms such as a linear motor, a ball screw, a timing belt using a drive motor, and a pinion rack mechanism, a detailed description thereof will be omitted. do.

상기 기판 스테이지(60)는 기본적으로 제 1 검사부(P1)와 제 2 검사부(P2)의 양쪽 영역을 이동할 수 있도록 구성되는데, 필요에 따라서는 상기 기판 스테이지가 검사자 방향으로 이동하거나 멀어지도록 각 검사부(P1)(P2)에서 상기 이동 레일(53)과 직교하는 방향으로 좌우 방향으로 이동되게 구성하는 것도 가능하다.The substrate stage 60 is basically configured to be able to move both regions of the first inspection unit P1 and the second inspection unit P2, and if necessary, the inspection stages may be moved or moved away from the inspection stage. It is also possible to comprise so that it may be moved to the left-right direction in the direction orthogonal to the said moving rail 53 in P1) P2.

또한 상기 기판 스테이지(60)는 상기 기판 홀더(65)가 홀더 지지대(63)로부터 상하 방향으로 슬라이딩 가능하게 구성하는 것도 가능하다.In addition, the substrate stage 60 may be configured such that the substrate holder 65 can slide upward and downward from the holder support 63.

상기와 같이 구성되는 본 발명의 일 실시예의 검사 순서를 설명하면 다음과 같다.Referring to the inspection procedure of an embodiment of the present invention configured as described above are as follows.

도 5 및 도 6에 도시된 바와 같이 제 1 검사부(P1)에서 기판(S)이 좌측을 향하도록 위치시킨 상태에서 기판을 검사한다.As illustrated in FIGS. 5 and 6, the substrate is inspected in a state where the substrate S is positioned to the left side in the first inspection unit P1.

이때에는 조명 기구(80)에서 조사된 빛은 기판의 하부 영역(S1)에 조사되고, 검사자는 자신의 눈높이에 있는 기판의 하부 영역(S1)의 결함을 육안으로 검사한다. 물론, 도면에 표현되지는 않았지만 리뷰 카메라가 설치된 경우에는 리뷰 카메라를 이용하여 기판의 특정 부분을 모니터(90)를 통해 디스플레이 하면서 보다 정밀하게 검사할 수도 있다.At this time, the light irradiated from the lighting fixture 80 is irradiated to the lower region S 1 of the substrate, the inspector visually inspects the defect of the lower region S 1 of the substrate at the eye level. Of course, although not shown in the drawings, when a review camera is installed, a specific portion of the substrate may be displayed on the monitor 90 by using the review camera, thereby more precisely inspecting.

이와 같이 하여, 기판의 하부 영역(S1)의 결함 검사가 끝나면 기판의 상부 영역(S2)의 검사가 진행되는데, 기판의 상부 영역의 검사는 제 2 검사부(P2)에서 이루어진다.In this manner, when the defect inspection of the lower region S 1 of the substrate is completed, the inspection of the upper region S 2 of the substrate is performed, and the inspection of the upper region of the substrate is performed by the second inspection unit P2.

이를 위하여, 상기 제 1 검사부(P1)에서 검사된 기판을 제 2 검사부(P2)로 이동시키게 되는데, 기판 스테이지(60)를 직선 이동시키는 기구를 작동시키면 기판 스테이지(60)가 베이스(51)에 구비된 이동 레일(53)을 따라 제 2 검사부(P2)로 이동하게 된다.To this end, the substrate inspected by the first inspection unit P1 is moved to the second inspection unit P2. When a mechanism for linearly moving the substrate stage 60 is operated, the substrate stage 60 is connected to the base 51. It moves to the 2nd inspection part P2 along the movable rail 53 provided.

제 2 검사부(P2)로 기판이 이동되면, 기판(S)이 우측을 향하도록 기판 홀더(65)를 회전시키고, 조명 기구(80')를 통해 기판에 빛을 조사하면서 기판의 상부 영역(S2)을 검사한다.When the substrate is moved to the second inspection unit P2, the substrate holder 65 is rotated so that the substrate S faces to the right, and the upper region S of the substrate is irradiated with light through the lighting fixture 80 ′. 2 ) Check.

여기서 상기 기판 홀더(65)를 회전시키는 작동은 제 2 검사부(P2)에서만 이루어지지 않고, 제 1 검사부(P1)나 기판 이송 중에 이루어질 수도 있다.In this case, the operation of rotating the substrate holder 65 is not performed only in the second inspection unit P2, but may be performed during the first inspection unit P1 or the substrate transfer.

그리고 상기 제 2 검사부(P2)에서 조명 기구(80')가 조사하는 빛은 기판의 하부 영역에 조사되나, 제 2 검사부(P2)에서는 제 1 검사부(P1)의 기판 위치에서 역전된 상태이므로, 사실상 기판의 상부 영역(S2)에 빛을 조사하는 것과 같고, 이때 검사 영역도 기판의 상부 영역의 검사가 이루어진다.Since the light irradiated by the lighting device 80 ′ from the second inspection unit P2 is irradiated to the lower region of the substrate, the second inspection unit P2 is inverted at the substrate position of the first inspection unit P1. In fact, it is like irradiating light to the upper region S 2 of the substrate, where the inspection region is also inspected in the upper region of the substrate.

제 2 검사부(P2)에서도 필요에 따라서는 리뷰 카메라 등을 이용하여 특정 부분을 촬영된 영상을 모니터(90')를 통해서 관찰하면서 정밀하게 검사하는 것도 가능하다.In the second inspection unit P2, if necessary, it is also possible to precisely inspect the specific portion of the image by using a review camera while observing the captured image through the monitor 90 '.

한편, 상기한 본 발명의 실시예에서는 두 개의 검사부(P1)(P2)를 갖는 구성을 예시하였으나 실시 조건에 따라서는 3개 이상의 검사부를 갖도록 구성되는 것도 가능하다. 이때, 검사 위치 및 방향은 좌우 번갈아가면서 이루어지도록 배치되는 것이 바람직하다.Meanwhile, in the above-described embodiment of the present invention, the configuration having two inspection units P1 and P2 is illustrated, but it may be configured to have three or more inspection units depending on the implementation conditions. At this time, the inspection position and direction is preferably arranged to be made alternately left and right.

이와는 달리 검사 방향을 좌우로 번갈아가면서 위치시키지 않더라도 일측에서 조명의 조사 위치 및 검사자가 위치하는 검사대(57)의 높이를 다르게 설정하는 등의 방법으로, 한쪽 방향(예를 들면 좌측 방향)에서만 기판을 영역별로 순차적으로 검사하는 것도 가능하다.On the other hand, even if the inspection direction is not alternately positioned from side to side, by setting the height of the irradiation table of the illumination and the height of the inspection table 57 where the inspector is located on one side, the substrate is placed only in one direction (for example, the left direction). It is also possible to check sequentially by area.

다음, 도 8 내지 도 9를 참조하여 상기한 실시예와 달리 하나의 공간에서 기판의 양쪽 검사가 이루어지는 실시예를 설명한다.Next, with reference to FIGS. 8 to 9, an embodiment in which both inspections of the substrate are performed in one space will be described.

도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판 검사 장치가 도시된 사시도이고, 도 9는 도 8의 "B" 방향에서 본 개략적인 구성도이다.FIG. 8 is a perspective view illustrating a substrate inspection apparatus according to another exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 9 is a schematic configuration view seen from a direction “B” of FIG. 8.

본 발명의 다른 실시예에서는 하나의 공간에서 양쪽에 제 1 검사부(P1)와 제 2 검사부(P2)가 각각 배치되어 구성된다.In another embodiment of the present invention, the first inspection unit P1 and the second inspection unit P2 are disposed at both sides in one space.

즉, 기판 스테이지(60)를 중심으로 도면에서 좌측에 제 1 검사부(P1)가 위치되고, 도면에서 우측에 제 2 검사부(P2)가 위치된다.That is, the first inspection unit P1 is positioned at the left side in the drawing, and the second inspection unit P2 is positioned at the right side in the drawing, centering on the substrate stage 60.

따라서 상기 기판 스테이지(60)는 기판(S)이 좌측 및 우측을 향하도록 회전시킬 수 있도록 구성되고, 필요한 경우에 좌우 방향으로 직선 이동되도록 구성하는 것도 가능하다.Accordingly, the substrate stage 60 may be configured to rotate the substrate S toward the left and the right, and may be configured to linearly move in the left and right directions when necessary.

또한 상기 각 검사부(P1)(P2)에는 전술한 일 실시예에서 설명한 바와 같은 조명 기구(80)(80')와, 검사대(57)(57'), 모니터(90)(90') 등이 각각 설치된다.In addition, each of the inspection units P1 and P2 includes lighting fixtures 80 and 80 ', test benches 57 and 57', monitors 90 and 90 'as described in the above-described embodiment. Each is installed.

다만, 본 발명의 다른 실시예에서는 하나의 공간에 두 검사부(P1)(P2)가 설치되는 관계로, 하나의 베이스 프레임(50)이 사용된다.However, in another embodiment of the present invention, since two inspection units P1 and P2 are installed in one space, one base frame 50 is used.

상기와 같은 본 발명의 다른 실시예의 검사 순서를 설명하면 다음과 같다.Referring to the inspection procedure of another embodiment of the present invention as described above are as follows.

도 8과 도 9에 도시된 바와 같이 먼저, 기판(S)을 제 1 검사부(P1)를 향하도록 위치시킨 상태에서 기판을 검사한다. 이때 좌측 조명 기구(80)에서 조사된 빛은 기판의 하부 영역(S1)에 조사되고, 검사자도 기판의 하부 영역의 결함을 육안으로 검사한다.As shown in FIGS. 8 and 9, first, the substrate is inspected while the substrate S is positioned to face the first inspection unit P1. At this time, the light irradiated from the left lighting device 80 is irradiated to the lower region S 1 of the substrate, and the inspector also visually inspects the defect of the lower region of the substrate.

기판의 하부 영역(S1)의 결함 검사가 끝나면 기판이 제 2 검사부(P2)를 향하도록 기판 홀더(65)를 우측으로 회전시키고, 조명 기구(80)를 통해 기판의 하부 영역에 빛을 조사하면서 실질적으로 역전된 기판의 상부 영역(S2)을 검사한다.After the defect inspection of the lower region S 1 of the substrate is finished, the substrate holder 65 is rotated to the right so that the substrate faces the second inspection unit P2, and the light is irradiated to the lower region of the substrate through the lighting device 80. While inspecting the upper region S 2 of the substantially reversed substrate.

이와 같은 기판 검사 순서는 기판 스테이지(60)가 이동하는 순서를 제외하고는 전술한 일 실시예와 동일하게 이루어진다. Such a substrate inspection sequence is performed in the same manner as in the above-described embodiment except for the sequence in which the substrate stage 60 moves.

한편, 상기에 설명한 본 발명의 다른 실시예에서는 좌우 양측에서 기판(S)의 상부와 하부를 검사할 수 있도록 구성되어 있으나, 실시 조건에 따라서는 기판 스테이지(60) 전체가 베이스를 중심으로 회전할 수 있도록 구성하여, 상기와 같이 좌우측은 물론 베이스 프레임(50)의 전방측과 후방측에서도 기판을 검사할 수 있도록 구성하는 것이 가능하다. 이때 조명 장치도 프레임(50)의 좌측 및 우측, 그리고 전방측과 후방측에 모두 설치하여 구성할 수 있다.Meanwhile, in another embodiment of the present invention described above, the upper and lower portions of the substrate S may be inspected from both left and right sides, but the entire substrate stage 60 may rotate around the base according to the implementation conditions. It is possible to configure such that the substrate can be inspected on the front and rear sides of the base frame 50 as well as the left and right sides as described above. In this case, the lighting device may also be installed on both the left and right sides of the frame 50 and on the front side and the rear side.

상기와 같이 구성되고 작용되는 본 발명에 따른 기판 검사 장치 및 방법은, 기판을 좌우로 회전시켜 양쪽에서 검사할 수 있도록 구성되기 때문에 기판이 대형화됨에 따라 조사 영역이 한정되어 검사에 어려움이 따르는 문제를 해결할 수 있고, 기판 검사시 특정 부분 검사에 대한 전문성을 실현할 수 있는 등 기판 검사의 편의성, 신뢰성 및 효율성을 높일 수 있는 이점이 있다.Substrate inspection apparatus and method according to the present invention configured and acted as described above is configured to be inspected from both sides by rotating the substrate from side to side, so that the irradiation area is limited as the substrate is enlarged, which causes difficulty in inspection. It is possible to solve the problem, and to improve the convenience, reliability, and efficiency of the board inspection, such as realizing expertise in inspecting a specific part of the board inspection.

또한 본 발명은 기판을 검사 영역을 나누어서 각 검사자가 검사할 수 있도록 구성되기 때문에 기판 검사 시간을 단축할 수 있고, 또한 전체적으로 장비의 높이를 크게 하지 않아도 되므로, 검사 장비를 설치하는데 있어서 레이아웃 구조도 유리해지는 이점이 있다.In addition, since the present invention is configured so that each inspector can inspect the substrate by dividing the inspection area, the inspection time of the substrate can be shortened and the height of the equipment does not have to be increased. There is an advantage to getting lost.

Claims (13)

검사할 기판이 안착되고, 안착된 기판을 회전시킬 수 있게 구성되어 회전 각도에 따라 기판이 좌측이나 우측을 향하도록 위치시키는 기판 스테이지와; 상기 기판 스테이지를 중심으로 좌측과 우측 방향에서 각각 상기 기판을 검사할 수 있도록 이루어진 제 1 검사부 및 제 2 검사부를 포함하며,A substrate stage on which a substrate to be inspected is seated, the substrate stage configured to rotate the seated substrate so that the substrate faces left or right according to the rotation angle; A first inspection unit and a second inspection unit configured to inspect the substrate in left and right directions about the substrate stage, respectively; 상기 제 1 검사부는, 좌측을 향하도록 회전된 기판의 상부 영역과 하부 영역 중 어느 하나에 육안 검사를 위한 빛을 조사하는 조명 기구를 포함하고,The first inspection unit includes a lighting device for irradiating light for visual inspection to any one of the upper region and the lower region of the substrate rotated to the left, 상기 제 2 검사부는, 우측을 향하도록 회전된 기판의 상부 영역과 하부 영역 중 상기 제 1 검사부에서 육안 검사가 이루어지지 않은 나머지 영역에 육안 검사를 위한 빛을 조사하는 조명 기구를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 검사 장치.The second inspection unit may include a lighting device that irradiates light for visual inspection to the remaining areas of the first inspection unit, which are not visually inspected, among the upper and lower regions of the substrate rotated to the right side. Board inspection apparatus. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 제 1 검사부와 제 2 검사부는, 검사자가 위치되는 검사대를 각각 더 포함하는 기판 검사 장치.The first inspection unit and the second inspection unit, the substrate inspection apparatus further comprises an inspection table on which the inspector is located, respectively. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 제 1 검사부와 제 2 검사부는 상기 기판 스테이지를 중심으로 대칭적으로 구성된 것을 특징으로 하는 기판 검사 장치.And the first inspection unit and the second inspection unit are symmetrically configured around the substrate stage. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 제 1 검사부와 제 2 검사부는 별도의 공간에 배치되어 구성된 것을 특징으로 하는 기판 검사 장치.And the first and second inspection units are arranged in separate spaces. 청구항 4에 있어서,The method of claim 4, 상기 기판 스테이지는 상기 제 1 검사부와 제 2 검사부의 양쪽 공간으로 이동 가능하게 설치된 것을 특징으로 하는 기판 검사 장치.And the substrate stage is movably installed in both spaces of the first inspection unit and the second inspection unit. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 제 1 검사부와 제 2 검사부는, 각각 상기 기판을 촬영하는 리뷰 카메라 및 상기 리뷰 카메라에 의하여 촬영된 이미지를 표시하는 모니터를 더 포함하고,The first inspecting unit and the second inspecting unit further include a review camera photographing the substrate and a monitor displaying an image photographed by the review camera, respectively. 상기 제 1과 제 2 검사부의 모니터는, 각각 상기 제 1과 제 2 검사부의 검사대에 설치된 것을 특징으로 하는 기판 검사 장치.The monitor of the said 1st and 2nd inspection part is respectively provided in the inspection stand of the said 1st and 2nd inspection part, The board | substrate inspection apparatus characterized by the above-mentioned. 삭제delete 삭제delete 기판 스테이지에 안착된 기판이 상기 기판 스테이지를 중심으로 좌측과 우측 중 어느 한쪽 방향을 향하도록 위치시키고, 상기 기판의 상부 영역과 하부 영역 중 어느 하나에 육안 검사를 위한 빛을 조사한 상태에서 상기 좌측과 우측 중 한쪽 방향에서 기판을 검사하는 제 1 단계와;The substrate seated on the substrate stage is positioned so as to face either of the left and right sides with respect to the substrate stage, and the left side and the left side in the state of irradiating light for visual inspection to any one of the upper region and the lower region of the substrate A first step of inspecting the substrate in one of right directions; 상기 기판을 상기 좌측과 우측 중 다른 쪽 방향으로 회전시킨 후, 상기 기판의 상부 영역과 하부 영역 중 육안 검사가 이루어지지 않은 나머지 영역에 육안 검사를 위한 빛을 조사한 상태에서 상기 좌측과 우측 중 다른 쪽 방향에서 기판을 검사하는 제 2 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 검사 방법.After rotating the substrate in the other direction of the left and right, the other of the left and right in the state in which light for visual inspection is irradiated to the remaining area of the upper region and the lower region of the substrate that is not visual inspection And a second step of inspecting the substrate in a direction. 삭제delete 삭제delete 청구항 9에 있어서,The method of claim 9, 상기 제 1 단계와 제 2 단계의 검사 공간은 별개의 공간에서 이루어지는 것을 특징으로 하는 기판 검사 방법.The inspection space of the first step and the second step is a substrate inspection method, characterized in that made in a separate space. 청구항 12에 있어서,The method of claim 12, 상기 제 1 단계와 제 2 단계 사이에는 상기 기판 스테이지를 제 1 단계의 검사 공간에서 제 2 단계의 검사 공간으로 이동시키는 단계를 포함한 것을 특징으로 하는 기판 검사 방법.And moving the substrate stage from the inspection space of the first stage to the inspection space of the second stage between the first and second stages.
KR1020060075226A 2006-08-09 2006-08-09 Device for inspecting substrate and method therefor KR101300098B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020060075226A KR101300098B1 (en) 2006-08-09 2006-08-09 Device for inspecting substrate and method therefor

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020060075226A KR101300098B1 (en) 2006-08-09 2006-08-09 Device for inspecting substrate and method therefor

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20080013550A KR20080013550A (en) 2008-02-13
KR101300098B1 true KR101300098B1 (en) 2013-08-30

Family

ID=39341296

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020060075226A KR101300098B1 (en) 2006-08-09 2006-08-09 Device for inspecting substrate and method therefor

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101300098B1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200010762A (en) * 2018-07-23 2020-01-31 주식회사 신코 Optic Film Inspection Apparatus with Image Sensor

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101880272B1 (en) * 2017-12-28 2018-07-19 주식회사 맥슨 Pcb maker equipment for communication equipment and making method using that
CN108956641A (en) * 2018-07-24 2018-12-07 武汉华星光电技术有限公司 Base board checking device

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10332600A (en) * 1997-06-03 1998-12-18 Dainippon Printing Co Ltd Inspecting base for large substrate
JP2004286621A (en) * 2003-03-24 2004-10-14 Olympus Corp Substrate inspection apparatus
JP2004361178A (en) * 2003-06-03 2004-12-24 Kurabo Ind Ltd Substrate visual inspection device
KR20060049154A (en) * 2004-11-08 2006-05-18 가부시키가이샤 니혼 마이크로닉스 Apparatus for inspecting of display panel

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10332600A (en) * 1997-06-03 1998-12-18 Dainippon Printing Co Ltd Inspecting base for large substrate
JP2004286621A (en) * 2003-03-24 2004-10-14 Olympus Corp Substrate inspection apparatus
JP2004361178A (en) * 2003-06-03 2004-12-24 Kurabo Ind Ltd Substrate visual inspection device
KR20060049154A (en) * 2004-11-08 2006-05-18 가부시키가이샤 니혼 마이크로닉스 Apparatus for inspecting of display panel

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200010762A (en) * 2018-07-23 2020-01-31 주식회사 신코 Optic Film Inspection Apparatus with Image Sensor
KR102080043B1 (en) 2018-07-23 2020-04-07 주식회사 신코 Optic Film Inspection Apparatus with Image Sensor

Also Published As

Publication number Publication date
KR20080013550A (en) 2008-02-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI333544B (en) Substrate inspection apparatus
KR100783618B1 (en) Apparatus for inspecting flat display panel
JP6104016B2 (en) LCD panel inspection equipment
KR101013573B1 (en) Appearance inspecting method of semiconductor chip and its device
JP2008076218A (en) Visual inspection apparatus
KR20070094471A (en) Visual inspection apparatus
JP2003270155A (en) Substrate holding device and inspection device
KR20120080135A (en) Substrate inspection system
KR101300098B1 (en) Device for inspecting substrate and method therefor
KR100506702B1 (en) Substrate Inspection Apparatus
KR20170122540A (en) Automated Vision Inspection System
CN214174184U (en) Defect detection imaging device
KR100606568B1 (en) A Flood Light for appearance inspection of LCD surface
JP2008175548A (en) Visual inspection device and method
KR100596334B1 (en) Device for appearance inspection
KR100776732B1 (en) Macro inspection apparatus for flat panel display
KR101282020B1 (en) Macro type device for inspecting substrate
JP2008014767A (en) Substrate inspecting device
KR20100084829A (en) Inspecting apparatus having line scan camera
JP2011141127A (en) Visual inspection method and visual inspection device for defect part of glass plate
KR101063417B1 (en) Board Inspection Device
KR20070039667A (en) An inspection apparatus for display panel and inspection method thereof
KR20100067538A (en) Device for appearance inspection
KR101134692B1 (en) Apparatus for macro inspection and micro inspection of flat display panel
KR200431309Y1 (en) Macro inspection apparatus for Flat Panel Display

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
LAPS Lapse due to unpaid annual fee