KR20080019187A

KR20080019187A - 판 형상체의 모따기 방법 및 그 장치

Info

Publication number: KR20080019187A
Application number: KR1020070085215A
Authority: KR
Inventors: 사또시 가네꼬; 준 오오까와; 다까노부 미즈노; 다쯔로오 고찌; 히로시 다께나까
Original assignee: 아사히 가라스 가부시키가이샤
Priority date: 2006-08-25
Filing date: 2007-08-24
Publication date: 2008-03-03
Also published as: JP2008049449A; TW200823013A; KR100967283B1; JP4883352B2; TWI363673B

Abstract

본 발명은, 액정 디스플레이, 플라즈마 디스플레이 등에 사용되는 FPD용의 유리 기판의 단부면을 효율적으로 모따기 가공할 수 있는 판 형상체의 모따기 방법 및 그 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.

액정 디스플레이용의 유리 기판(10)의 긴 변(10A, 10B)에 대향하여, 초벌 연마용 제1 모따기 지석(12), 초벌 연마용 제2 모따기 지석(14), 코너 에지용 모따기 지석(16), 제1 마무리 지석(18) 및 제2 마무리 지석(20)을 각각 소정의 위치에 배치한다. 유리 기판(10)은 모따기 테이블(22)에 흡착 고정되고, 제1 모따기 지석(12), 제2 모따기 지석(14), 코너 커트용 지석(16), 제1 마무리 지석(18) 및 제2 마무리 지석(20)이, 구동부에 의해 화살표로 나타내는 방향으로 일정 속도로 주행되고, 유리 기판(10)의 긴 변(10A, 10B)의 모따기, 마무리 가공 및 코너(C1, C2)의 커트 가공을 행한다.

유리 기판, 제1 모따기 지석, 제2 모따기 지석, 코너 에지용 모따기 지석, 테이블

Description

판 형상체의 모따기 방법 및 그 장치 {METHOD OF CHAMFERING PLATE-LIKE SUBSTANCE AND APPARATUS THEREOF}

본 발명은 판 형상체의 모따기 방법 및 그 장치에 관한 것으로, 특히 액정 디스플레이, 플라즈마 디스플레이 등에 사용되는 FPD(Flat Panel Display)용의 유리 기판의 단부면을, 모따기 지석에 의해 모따기하는 판 형상체의 모따기 방법 및 그 장치에 관한 것이다.

액정 디스플레이, 플라즈마 디스플레이 등에 사용되는 FPD용의 유리 기판은, 용융 유리를 판 형상으로 성형하고, 그 후, 절단/꺾음/모따기 공정에 있어서, 소정 직사각형 사이즈의 유리 기판으로 잘려 꺾어진 후, 모따기 장치의 모따기 지석에 의해, 그 모서리면이 모따기 가공된다.

그러나, 유리 기판의 모따기 장치는, 한 변에 대해 1대의 모따기 지석으로 구성되어 있는 것이 일반적이고, 이 구성에서는 가공 효율의 향상에는 한계가 있다.

한편, 특허 문헌 1에는, 유리 기판의 한 변에 대해 연삭 지석과 연마 지석을 배치하고, 연삭에 이어 연마를 행하는 모따기 장치가 개시되어 있다.

[특허 문헌 1] 일본 특허 공개 제2001-9689호 공보

그러나, 특허 문헌 1의 모따기 장치는, 유리 기판의 한 변에 대해 2대의 모따기 지석을 배치하고 있지만, 이들의 모따기 지석은 다른 가공(연삭, 연마)을 행하는 것이므로, 2대의 모따기 지석 모두, 유리 기판의 한 변 길이분을 각각 이동해야만 하고, 구성적으로는 한 변에 대해 1대의 모따기 지석으로 구성된 모따기 장치와 마찬가지로, 가공 효율의 향상에는 한계가 있다.

또한, 유리 기판의 한 변에 대해 모따기 지석을 2대 이용하여, 유리 기판의 모따기 범위를 분할하면, 연마 장치가 갖는 기계 정밀도의 오차나 모따기 지석의 마모량의 차이로부터, 양방의 모따기 지석에 의해 겹쳐서 모따기되는 겹침 부분에 단차가 생겨 필요한 모따기 품질을 얻을 수 없는 것이 예측된다.

그러나, 최근의 액정 디스플레이용의 유리 기판은 사이즈가 대형화되어 오고 있고, 절단/꺾음 모따기 공정에 있어서, 모따기 프로세스가 율속으로 되어 있어, 가공 효율의 향상이 요구되고 있다.

본 발명은, 이러한 사정에 비추어 이루어진 것으로, 판 형상체를 효율적으로 종래와 동등한 가공 품질로, 모따기 가공할 수 있는 판 형상체의 모따기 방법 및 그 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명은 상기 목적을 달성하기 위해, 직사각 형상의 판 형상체를 소정의 위치로 고정하고, 상기 판 형상체의 단부면을 모따기하는 방법이며, 판 형상체의 한 변에 대해 적어도 제1 모따기 지석과 제2 모따기 지석의 2대의 모따기 지석을 구비하고, 상기 제1 및 제2 모따기 지석을 판 형상체의 한 변의 단부면에 접촉시킨 상태에서 한 변을 따라 이동시키고, 한 변의 단부면을 모따기하는 판 형상체의 모따기 방법에 있어서, 상기 제1 모따기 지석이 상기 판 형상체의 한 변의 도중으로부터 모따기를 개시하고, 상기 제2 모따기 지석이 상기 한 변의 한쪽의 단부로부터 제1 모따기 지석과 대략 동일한 모따기 영역에서 모따기를 개시하고, 제2 모따기 지석이, 제1 모따기 지석의 모따기 개시점 후방 위치로부터 개시점 전방 위치에 있어서, 상기 단부면으로부터 판 형상체 중앙측을 향해 중앙부가 최정상부로 되고 양단부를 향해 경사지는 형상으로 되는 궤적으로 이동되는 것에 의해, 상기 제2 모따기 지석이 상기 최정상부로 되는 단부면을, 제1 모따기 지석의 모따기 개시점의 모따기된 단부면보다도 깊게 모따기하는 것을 특징으로 하는 모따기 방법을 제공한다.

본 발명에 따르면, 판 형상체의 한 변에 2대의 모따기 지석을 배치하고, 한 변을 2대의 모따기 지석으로 분담하여 모따기를 행하므로, 판 형상체를 효율적으로 모따기 가공할 수 있다. 또한, 본 발명에 따르면, 2대의 모따기 지석에 의해 겹쳐서 모따기되는 겹침 부분에 있어서, 선행하는 제1 모따기 지석에 의한 통상의 모따기 영역보다도, 후속하는 제2 모따기 지석의 모따기 영역을 넓게 설정했으므로, 상기 겹침 부분의 단차를 완화시킬 수 있다. 이것에 의해, 판 형상체의 외관을 손상하는 일도 없어, 필요한 모따기 품질을 얻을 수 있다.

또한, 본 발명은, 판 두께 0.4 내지 2.8 ㎜ 액정 디스플레이 및 플라즈마 디 스플레이용 유리 기판에도 유효하고, 특히 2000× 1800 ㎜ 이상인 대형 사이즈의 유리 기판에 있어서 특히 유효하다.

본 발명에 있어서, 상기 제1 모따기 지석이 상기 판 형상체의 한 변에 있어서, 판 형상체의 한 변의 대략 중앙부로부터 한 변의 다른 쪽의 단부까지 모따기를 행하고, 상기 제2 모따기 지석이 상기 한 변의 한쪽의 단부로부터 상기 한 변의 대략 중앙부까지 모따기를 행하는 것이 바람직하다.

제1 모따기 지석이, 판 형상체의 한 변의 대략 중앙부로부터 변의 다른 쪽의 단부까지 모따기를 행하고, 제2 모따기 지석은, 한 변의 한쪽의 단부로부터 한 변의 대략 중앙부에서 모따기를 행하는 경우, 제1 모따기 지석 및 제2 모따기 지석에 의해 판 형상체의 코너 에지를 모따기 가공할 수 있다.

본 발명에 있어서, 상기 제1 모따기 지석에 의한 상기 판 형상체의 한 변의 대략 중앙부로부터의 모따기 개시와, 상기 제2 모따기 지석에 의한 상기 한 변의 한쪽의 단부로부터의 모따기 개시를 대략 동시에 개시하는 것이 바람직하다. 제 모따기 지석을 한 변의 중앙부로부터 모따기를 제2 모따기 지석과 대략 동시에 개시시키고, 제2 모따기 지석을 한 변의 한쪽의 단부로부터 한 변의 중앙부를 통과한 시점에서 가공을 정지시키는 경우, 가공 시간을 대략 절반으로 단축할 수 있다.

본 발명은 상기 목적을 달성하기 위해, 직사각 형상의 판 형상체를 소정의 위치에 고정하고, 상기 판 형상체의 단부면을 모따기하는 방법이며, 판 형상체의 한 변에 대해 적어도 제1 모따기 지석, 제2 모따기 지석 및 제3 모따기 지석의 3대의 모따기 지석을 구비하고, 상기 제1, 제2 및 제3 모따기 지석을 판 형상체의 한 변의 단부면에 접촉시킨 상태에서 한 변을 따라 이동시키고, 한 변의 단부면을 모따기하는 판 형상체의 모따기 방법에 있어서, 상기 제1 모따기 지석 및 상기 제2 모따기 지석이 각각 상기 판 형상체의 한 변의 도중으로부터 모따기를 개시하고, 상기 제3 모따기 지석이 상기 한 변의 한쪽의 단부로부터 제1 모따기 지석 및 제2 모따기 지석과 대략 동일한 모따기 영역에서 모따기를 개시하고, 2의 모따기 지석이, 제1 모따기 지석의 모따기 개시점 후방 위치로부터 개시점 전방 위치에 있어서, 상기 단부면으로부터 판 형상체 중앙측을 향해 중앙부가 최정상부로 되고 양단부를 향해 경사지는 형상으로 되는 궤적으로 이동되는 것에 의해, 상기 최정상부로 되는 단부면을, 제1 모따기 지석의 모따기 개시점의 모따기된 단부면보다도 깊게 모따기하고, 제3 모따기 지석이, 제2 모따기 지석의 모따기 개시점 후방 위치로부터 개시점 전방 위치에 있어서, 상기 단부면으로부터 판 형상체 중앙측을 향해 중앙부가 최정상부로 되고 양단부를 향해 경사지는 형상으로 되는 궤적으로 이동되는 것에 의해, 상기 최정상부로 되는 단부면을, 제2 모따기 지석의 모따기 개시점의 모따기된 단부면보다도 깊게 모따기하는 것을 특징으로 하는 모따기 방법을 제공한다.

본 발명에 따르면, 판 형상체의 한 변에 3대의 모따기 지석을 배치하고, 한 변을 3대의 모따기 지석으로 분담하여 모따기를 행하므로, 판 형상체를 효율적으로 모따기 가공할 수 있다. 또한, 본 발명은, 2대의 모따기 지석에 의해 겹쳐서 모따기되는 겹침 부분에 있어서, 선행하는 1대의 모따기 지석에 의한 통상의 모따기 영역보다도, 후속하는 1대의 모따기 지석의 모따기 영역을 넓게 설정했으므로, 상기 겹침 부분의 단차를 완화시킬 수 있다. 이것에 의해, 판 형상체의 판 균열을 방지할 수 있다.

본 발명에 있어서, 상기 제1 모따기 지석이 상기 판 형상체의 한 변의 대략 삼분의 일의 부분으로부터 모따기를 개시하고, 상기 제2 모따기 지석이 상기 한 변의 대략 삼분의 이의 부분으로부터 모따기를 개시하고, 상기 제3 모따기 지석이 상기 한 변의 한쪽의 단부로부터 제1 모따기 지석 및 제2 모따기 지석과 대략 동시에 모따기를 개시하는 것이 바람직하다. 이와 같이 모따기 범위를 한 변에 있어서 3분할하고, 대략 동시에 모따기를 개시시키는 것에 의해, 모따기를 효율적으로 실시할 수 있다.

본 발명에 있어서, 상기 모따기 지석의 이동 방향 상류측에 마무리 지석을 배치하고, 상기 마무리 지석은 상기 모따기 지석의 이동에 연동하여 모따기 지석과 동일한 방향으로 이동하는 것에 의해, 모따기 지석의 모따기부를 마무리 가공하는 것이 바람직하다.

각각의 모따기 지석의 이동에 연동하여 마무리 지석을 동일한 방향으로 이동시키고, 모따기 지석에 의해 가공된 모따기부를, 마무리 지석에 의해 즉시 마무리 가공하는 경우, 판 형상체의 모따기부의 마무리 가공을 효율적으로 행할 수 있다.

본 발명에 있어서, 상기 판 형상체의 대향하는 두 변을 동시에 모따기하는 것이 바람직하다.

한 변에 대향하는 변의 모따기를 동시에 행하는 경우, 한 변에 대향하는 변의 모따기를 동시에 행한 후, 판 형상체를 90도 회전시키는 것에 의해, 나머지 두 변의 모따기도 동시에 행하는 것이 바람직하다. 이것에 의해, 동일한 장소에서 두 변의 모따기를 동시에 실시할 수 있기 때문에, 생산 라인 길이를 짧게 할 수 있어, 설비도 저렴하게 된다. 또한, 판 형상체의 네 변을 동시에 모따기할 수도 있지만, 좁은 공간에 다수의 헤드를 배치해야만 하기 때문에, 설비 구성상 곤란하다.

본 발명은 상기 목적을 달성하기 위해, 상기 기재된 판 형상체의 모따기 방법에 의해, 상기 판 형상체의 단부면을 모따기하는 장치이며, 판 형상체를 고정하는 모따기 테이블과, 판 형상체의 한 변에 대해 적어도 2대의 모따기 지석을 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 판 형상체의 모따기 장치를 제공한다.

본 발명에 관한 판 형상체의 모따기 방법 및 그 장치에 따르면, 판 형상체의 한 변에 2대 이상의 모따기 지석을 배치하고, 한 변을 2대 이상의 모따기 지석으로 분담하여 모따기를 행하므로, 판 형상체를 효율적으로 모따기 가공할 수 있다. 또한, 본 발명은, 인접하는 2대의 모따기 지석에 의해 겹쳐서 모따기되는 겹침 부분에 있어서, 선행하는 1대의 모따기 지석에 의한 통상의 모따기 영역보다도, 후속하는 1대의 모따기 지석의 모따기 영역을 넓게 설정했으므로, 상기 겹침 부분의 단차를 완화시킬 수 있다. 이것에 의해, 외관을 손상하는 일도 없고, 또한 필요한 모따기 품질을 얻을 수 있다.

이하 첨부 도면에 따라서, 본 발명에 관한 판 형상체의 모따기 방법 및 그 장치의 바람직한 실시 형태에 대해 상세하게 설명한다.

도1의 (A)에는, 2000 ×1800 ㎜인 액정 디스플레이용의 유리 기판(10)의 긴 변(10A, 10B)에 대향하여, 코너 커트용 모따기 지석(16), 초벌 연마용 제1 모따기 지석(12) 및 제1 마무리 지석(18), 초벌 연마용 제2 모따기 지석(14) 및 제2 마무리 지석(20)을, 각각 유리 기판의 모따기되는 변에 대략 평행하고, 지석의 진행 방향(이하 X 방향이라고도 함)의 전방으로부터 전술한 순서로 소정의 위치에 배치한 평면도가 도시되어 있다. 또한, 도1에는, 액정 디스플레이용의 유리 기판(10)을 도시했지만, 플라즈마 디스플레이용의 유리 기판에도 적용할 수 있다. 또한, 코너 커트용 지석(16)은, X 방향의 가장 후방에 배치해도 좋지만, 전방에 배치한 쪽이 택트 향상의 관점에서 바람직하다.

유리 기판(10)은, 도면 중 파선으로 나타내는 모따기 테이블(22)에 흡착 고정되고, 코너 커트용 지석(16), 제1 모따기 지석(12) 및 제1 마무리 지석(18), 제2 모따기 지석(14) 및 제2 마무리 지석(20)이 도시하지 않은 회전용 구동부에 의해 소정 회전수로 회전하면서, 도시되지 않은 이동용 구동부에 의해 화살표로 나타내는 방향으로 일정 속도로 주행되고, 코너(C1, C2)의 코너 커트 가공, 유리 기판(10)의 긴 변(10A, 10B)의 모따기 및 마무리 가공을 행한다.

바람직하게는, 제1 모따기 지석(12)은, 긴 변(10A, 10B)의 대략 중앙부로부터 모따기를 개시하는 동시에 긴 변(10A, 10B)을 통과한 시점에서 모따기 가공을 정지한다. 또한, 제2 모따기 지석(14)은, 제1 모따기 지석(12)의 개시점을 약간 통과한 시점에서 모따기 가공을 정지한다. 제1, 제2 마무리 지석(18, 20)에 대해서도 제1, 제2 모따기 지석과 각각 같은 동작을 한다. 또한, 마무리 지석은 필요 에 따라서 사용하면 좋다. 예를 들어, 선행하는 지석의 입도를 거칠게 하고, 마무리 지석의 입도를 최종 모따기 상태에 맞추어, 가공 속도를 올리는 것에 의해 더 효율화를 도모하거나, 모따기면을 버프 마무리나 경면 마무리로 할 수 있다. 제1, 제2 마무리 지석(18, 20)의 연마 부재로서는, 예를 들어 다이아몬드 지석, 부직포, SiC사제, 또는 수지 본드제 등의 버프 마무리의 것을 적용할 수 있다.

코너 커트는, 택트 향상의 관점으로부터 코너 커트용 지석(16)을 설치한 예에서 설명했지만, 모따기 지석(12) 또는 모따기 지석(14)을 X 방향 및 X 방향과 대략 직각이며 유리 기판의 모따기되는 방향(이하, Y 방향이라 함)으로 비스듬하게 이동시켜 코너 커트해도 좋다.

도1의 (A)와 같이, 긴 변(10A, 10B)의 모따기 및 코너(C1, C2)의 커트 가공을 동시에 행하고, 이 후, 도1의 (B)와 같이, 유리 기판(10)을 90도 회전시키는 것에 의해, 짧은 변(10C, 10D)의 모따기, 마무리 가공 및 나머지 코너(C3, C4)의 커트 가공을 동시에 행할 수 있다. 또한, 동일 장소에서 네 변의 모따기를 동시에 실시하면, 유리 기판(10)의 생산 라인 길이를 짧게 할 수 있어 설비도 저렴하게 되지만, 유리 기판(10)의 네 변을 동시에 모따기하는 것은, 좁은 공간에 다수의 모따기용 헤드를 배치해야만 하기 때문에 설비 구성상 곤란하다. 또한, 모따기는 유리 기판(10)의 한 변마다 행해도 좋지만, 전술한 바와 같이 두 변 동시에 모따기를 행하는 것이 택트 향상의 관점으로부터 바람직하다.

〔실시예〕

모따기는, 제1 모따기 지석(12) 및 마무리 지석(18)을 유리 기판(10)의 변의 길이의 대략 중심으로부터, 제2 모따기 지석(14) 및 마무리 지석(20)을 유리 기판(10)의 변의 단부로부터, 대략 동시에 퇴피 위치로부터 X 방향으로 이동시키는 동시에, 유리 기판(10)의 변으로부터 모따기 영역 위치까지 Y 방향으로 이동시켜 개시했다. 또한, 이때의 제1 모따기 지석(12)의 속도는 105 ㎜/초, X 방향의 이동 거리는 90 ㎜로 했다.

제1 모따기 지석(12), 제2 모따기 지석(14), 제1 마무리 지석(18) 및 제2 마무리 지석(20)의 X 방향의 속도는 90 ㎜/초 내지 150 ㎜/초의 범위가 바람직하다. X 방향의 속도가, 90 ㎜/초보다도 느리면 생산성이 나쁘고, 150 ㎜/초보다도 빠르면 유리 기판(10)의 모따기부에 결함부나 눌음이 생겨 모따기 품질 불량으로 되거나, 또한 유리 기판(10)이 파손될 우려가 있다. 본 실시예에서는 X 방향의 속도는 110 ㎜/초로 했다.

모따기 영역은 0.15 내지 0.2 ㎜인 것이 바람직하다. 모따기 영역이 0.15 이하이면 유리 기판(10)을 절단했을 때에 발생한 에지의 결함부를 모따기로 제거할 수 없고, 모따기 영역이 0.2 ㎜보다 크면 생산성이 나빠진다.

도2는, 도1에 도시한 모따기 지석의 이동 궤적을 나타낸 설명도이다. 제1 모따기 지석(12) 및 마무리 지석(18)에 의해 모따기 영역을 일정하게 하여 유리 기판(10)의 모따기시켰지만, 제2 모따기 지석(14) 및 마무리 지석(20)은, 제1 모따기 지석(12) 및 마무리 지석(18)에 의해 모따기된 부분의 전방으로부터, 모따기 영역을 늘리면서 모따기하고, 모따기가 겹친 후 X 방향으로 이동하면서 Y 방향 퇴피 위치까지 이동시켰다.

즉, 도2와 같이, 제2 모따기 지석(14)은, 제1 모따기 지석(12)의 모따기 개시점(A점)의 X 방향의 후방 위치(B점)로부터 개시점(A점)의 X 방향의 전방 위치(C점)에 있어서, 중앙부가 최정상부(D점)로 되고 양단부를 향해 경사지는 형상으로 되는 궤적(E)에 의해 이동된다. 이것에 의해, 궤적(E)의 최정상부(D점)로 되는 단부면에 있어서, 제1 모따기 지석(12)에 의해 모따기된 단부면보다도 깊게 모따기되는 것이 된다. 또한, 마무리 지석(18)도 같은 궤적으로 이동된다.

즉, 도1의 모따기 장치는, 유리 기판(10)의 한 변에 2대의 모따기 지석(12, 14) 및 마무리 지석(18, 20)을 배치하고, 한 변을 2대의 모따기 지석(12, 14) 및 마무리 지석(18, 20)으로 분담하여 모따기를 행하므로, 유리 기판(10)을 효율적으로 모따기 가공할 수 있다. 또한, 도1의 모따기 장치는, 2대의 모따기 지석(12, 14)의 도2에 나타낸 X 방향의 A점으로부터 C점의 겹침 부분에 있어서, 제2 모따기 지석(14)의 모따기 영역을, 제1 모따기 지석(12)의 모따기 영역보다도 넓게 설정했으므로, 겹침 부분의 단차를 완화시킬 수 있고, 유리 기판(10)은 필요한 모따기 품질을 얻을 수 있다.

도3은, 유리 기판(10)의 한 변에 대향하여, 3대의 모따기 지석(12, 14, 22)을 X 방향의 전방으로부터 전술한 순서로 배치한 모따기 장치의 실시예이고, 도4는 도3에 도시한 모따기 지석의 이동 궤적을 나타낸 설명도이다. 또한, 도3에 있어서, 코너 커트 지석(16)을 제1 모따기 지석의 X 방향의 전방에, 3대의 모따기 지석(12, 14, 24) 각각의 X 방향의 하류에 마무리 지석(18, 20, 26)을 배치한다.

이 모따기 장치에 따르면, 제1 모따기 지석(12) 및 제2 모따기 지석(14)이 유리 기판(10)의 한 변의 도중으로부터, 또한 제3 모따기 지석(24)이 한 변의 단부로부터 제1 모따기 지석(12) 및 제2 모따기 지석(14)과 대략 동시에 대략 동일한 모따기 영역에서 모따기를 개시한다. 그리고, 제2 모따기 지석(14)이, 도4와 같이 제1 모따기 지석(12)의 모따기 개시점(A점 : 한 변의 대략 삼분의 일의 위치)의 X 방향의 후방 위치(B점 : 한 변의 대략 삼분의 이의 위치)로부터 개시점(A점)의 X 방향의 전방 위치(C점)에 있어서, 중앙부가 최정상부(D점)로 되고 양단부를 향해 경사지는 형상으로 되는 궤적(E)에 의해 이동하는 것에 의해, 최정상부(D점)로 되는 단부면에 있어서 제1 모따기 지석(12)에 의해 모따기된 단부면보다도 깊게 모따기된다. 그리고 또한, 제3 모따기 지석(24)이, 제2 모따기 지석(14)의 모따기 개시점(A')의 X 방향의 후방 위치(B')로부터 개시점(A')의 X 방향의 전방 위치(C')에 있어서, 중앙부가 최정상부(D')로 되고 양단부를 향해 경사지는 형상으로 되는 궤적(E')에 의해 이동하는 것에 의해, 최정상부(D')로 되는 단부면에 있어서 제2 모따기 지석(14)에 의해 모따기된 단부면보다도 깊게 모따기된다.

즉, 도3의 모따기 장치는, 유리 기판(10)의 한 변에 3대의 모따기 지석(12, 14, 24)을 대략 동일한 간격에 배치하고, 한 변을 3대의 모따기 지석(12, 14, 24)으로 각각 대략 삼분의 일씩 분담하여 모따기를 행하므로, 유리 기판(10)을 효율적으로 모따기 가공할 수 있다. 또한, 이 모따기 장치는, 2대의 모따기 지석(12, 14)의 도4에 나타낸 X 방향 A점으로부터 C점의 겹침 부분에 있어서, 제2 모따기 지석(14)의 모따기 영역을, 제1 모따기 지석(12)의 모따기 영역보다도 넓게 설정했으므로, 겹침 부분의 단차를 완화시킬 수 있다. 게다가 또한, 2대의 모따기 지 석(14, 24)의 도4에 나타낸 X 방향 A'점으로부터 C'점의 겹침 부분에 있어서, 제3 모따기 지석(24)의 모따기 영역을 제2 모따기 지석(14)의 모따기 영역보다도 넓게 설정했으므로, 겹침 부분의 단차를 완화시킬 수 있다. 이것에 의해, 유리 기판(10)은 필요한 모따기 품질을 얻을 수 있다. 또한, 마무리 지석(18, 20, 26)도 같은 궤적으로 이동된다.

도2, 도4와 같이, 제2 모따기 지석(14)의 Y 방향의 접근량(α)[제2 모따기 지석(14)이 제1 모따기 지석(12)의 모따기 영역보다도 Y 방향으로 많이 깎는 양]이, 0.03 ㎜보다 작으면 지석의 마모량의 차이나 조치의 기계 정밀도의 오차에 의해 모따기할 수 없는 일이 있고, 0.5 ㎜보다도 크면 지석(12)과 지석(14)의 모따기된 단부면의 단차가 커지므로, 접근량(α)은 0.03 내지 0.5 ㎜가 바람직하고, 0.1 내지 0.2 ㎜가 더욱 바람직하다. 이것에 의해, 두 개의 모따기 지석으로 모따기된 단부면의 겹침 부분의 단차를 대폭 완화시킬 수 있다.

제2 모따기 지석(14)의 X 방향의 접근량(β)[지석(12)의 모따기 영역보다도 많이 모따기를 취하기 시작하는 점 B점으로부터 점 D점까지의 X 방향의 길이]은, 100 ㎜보다 작으면 두 개의 모따기 지석으로 모따기된 단부면의 겹침 부분의 단차가 눈에 띄어 버리므로 100 내지 500 ㎜가 바람직하고, 400 ㎜ 정도이면 좋다.

제2 모따기 지석(14)의 궤적의 최정상부(D점)로부터 X 방향으로 모따기하는 길이(X)는, 1 ㎜보다도 작으면 두 개의 모따기 지석으로 모따기된 단부면의 겹침 부분의 단차가 눈에 띄어 버리고, 길어지면 택트가 늘어나 버리므로, 1 내지 500 ㎜가 바람직하고, 특히 3 내지 5 ㎜ 정도가 좋다.

제1 모따기 지석(12)이 모따기 영역까지 도달한 A점으로부터 제2 모따기 지석(14)의 피크 D점까지의 X 방향의 길이(γ)는 0 이상이면 좋다. 또한, 상술한 α, β, γ는 제3 모따기 지석(24)에 있어서도 마찬가지이다.

모따기 지석(12, 14, 24)의 높이 방향(이하, Z 방향이라고도 함)의 위치 관계는 동일한 것이 바람직하지만, 최대 0.2 ㎜의 차가 있어도 가공에 지장은 없다.

본 발명의 판 형상체의 모따기 장치는, 건재용이나 미러용 등의 일반적인 유리판의 모따기에도 적용할 수 있고, 또한, 금속 등 판 형상체의 재질을 불문하고 적용 가능하다.

도1은 실시 형태의 유리 기판 모따기 장치의 평면도.

도2는 도1에 도시한 모따기 지석의 이동 궤적을 나타낸 설명도.

도3은 유리 기판의 한 변에 대향하여, 3대의 모따기 지석을 X 방향의 전방으로부터 전술의 순서로 배치한 유리 기판 모따기 장치의 평면도.

도4는 도3에 도시한 모따기 지석의 이동 궤적을 나타낸 설명도.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>

10 : 유리 기판

12 : 제1 모따기 지석

14 : 제2 모따기 지석

16 : 코너 에지용 모따기 지석

18 : 제1 마무리 지석

20 : 제2 마무리 지석

22 : 테이블

24 : 제3 모따기 지석

26 : 제3 마무리 지석

Claims

직사각 형상의 판 형상체를 소정의 위치에 고정하고, 상기 판 형상체의 단부면을 모따기하는 방법이며, 판 형상체의 한 변에 대해 적어도 제1 모따기 지석과 제2 모따기 지석의 2대의 모따기 지석을 구비하고, 상기 제1 및 제2 모따기 지석을 판 형상체의 한 변의 단부면에 접촉시킨 상태에서 한 변을 따라 이동시키고, 한 변의 단부면을 모따기하는 판 형상체의 모따기 방법에 있어서,

상기 제1 모따기 지석이 상기 판 형상체의 한 변의 도중으로부터 모따기를 개시하고, 상기 제2 모따기 지석이 상기 한 변의 한쪽의 단부로부터 제1 모따기 지석과 대략 동일한 모따기 영역에서 모따기를 개시하고, 제2 모따기 지석이, 제1 모따기 지석의 모따기 개시점 후방 위치로부터 개시점 전방 위치에 있어서, 상기 단부면으로부터 판 형상체 중앙측을 향해 중앙부가 최정상부로 되고 양단부를 향해 경사지는 형상으로 되는 궤적으로 이동되는 것에 의해, 상기 제2 모따기 지석이 상기 최정상부로 되는 단부면을, 제1 모따기 지석의 모따기 개시점의 모따기된 단부면보다도 깊게 모따기하는 것을 특징으로 하는 판 형상체의 모따기 방법.
제1항에 있어서, 상기 제1 모따기 지석이 상기 판 형상체의 한 변에 있어서, 판 형상체의 한 변의 대략 중앙부로부터 상기 한 변의 다른 쪽의 단부까지 모따기를 행하고, 상기 제2 모따기 지석이 상기 한 변의 한쪽의 단부로부터 상기 한 변의 대략 중앙부까지 모따기를 행하는 것을 특징으로 하는 판 형상체의 모따기 방법.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 제1 모따기 지석에 의한 상기 판 형상체의 한 변의 대략 중앙부로부터의 모따기 개시와, 상기 제2 모따기 지석에 의한 상기 한 변의 한쪽의 단부로부터의 모따기 개시를 대략 동시에 개시하는 것을 특징으로 하는 판 형상체의 모따기 방법.
직사각 형상의 판 형상체를 소정의 위치에 고정하고, 상기 판 형상체의 단부면을 모따기하는 방법이며, 판 형상체의 한 변에 대해 적어도 제1 모따기 지석, 제2 모따기 지석 및 제3 모따기 지석의 3대의 모따기 지석을 구비하고, 상기 제1, 제2 및 제3 모따기 지석을 판 형상체의 한 변의 단부면에 접촉시킨 상태에서 한 변을 따라 이동시키고, 한 변의 단부면을 모따기하는 판 형상체의 모따기 방법에 있어서,

상기 제1 모따기 지석 및 상기 제2 모따기 지석이 각각 상기 판 형상체의 한 변의 도중으로부터 모따기를 개시하고, 상기 제3 모따기 지석이 상기 한 변의 한쪽의 단부로부터 제1 모따기 지석 및 제2 모따기 지석과 대략 동일한 모따기 영역에서 모따기를 개시하고,

제2 모따기 지석이, 제1 모따기 지석의 모따기 개시점 후방 위치로부터 개시점 전방 위치에 있어서, 상기 단부면으로부터 판 형상체 중앙측을 향해 중앙부가 최정상부로 되고 양단부를 향해 경사지는 형상으로 되는 궤적으로 이동되는 것에 의해, 상기 최정상부로 되는 단부면을, 제1 모따기 지석의 모따기 개시점의 모따기 된 단부면보다도 깊게 모따기하고,

제3 모따기 지석이, 제2 모따기 지석의 모따기 개시점 후방 위치로부터 개시점 전방 위치에 있어서, 상기 단부면으로부터 판 형상체 중앙측을 향해 중앙부가 최정상부로 되고 양단부를 향해 경사지는 형상으로 되는 궤적으로 이동되는 것에 의해, 상기 최정상부로 되는 단부면을, 제2 모따기 지석의 모따기 개시점의 모따기된 단부면보다도 깊게 모따기하는 것을 특징으로 하는 판 형상체의 모따기 방법.
제4항에 있어서, 상기 제1 모따기 지석이 상기 판 형상체의 한 변의 대략 삼분의 일의 부분으로부터 모따기를 개시하고, 상기 제2 모따기 지석이 상기 한 변의 대략 삼분의 이의 부분으로부터 모따기를 개시하고, 상기 제3 모따기 지석이 상기 한 변의 한쪽의 단부로부터 제1 모따기 지석 및 제2 모따기 지석과 대략 동시에 모따기를 개시하는 것을 특징으로 하는 판 형상체의 모따기 방법.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 모따기 지석의 이동 방향 상류측에 마무리 지석을 배치하고, 상기 마무리 지석은 상기 모따기 지석의 이동에 연동하여 모따기 지석과 동일한 방향으로 이동하는 것에 의해, 모따기 지석의 모따기부를 마무리 가공하는 것을 특징으로 하는 판 형상체의 모따기 방법.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 판 형상체의 대향하는 두 변을 동시에 모따기하는 것을 특징으로 하는 판 형상체의 모따기 방법.
제1항 또는 제2항에 기재된 판 형상체의 모따기 방법에 의해, 상기 판 형상체의 단부면을 모따기하는 장치이며, 판 형상체를 고정하는 모따기 테이블과, 판 형상체의 한 변에 대해 적어도 2대의 모따기 지석을 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 판 형상체의 모따기 장치.