KR20080009718A - 디스크 성형용 금형, 그 제조방법 및 금형부품 - Google Patents

디스크 성형용 금형, 그 제조방법 및 금형부품 Download PDF

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KR20080009718A
KR20080009718A KR1020077026679A KR20077026679A KR20080009718A KR 20080009718 A KR20080009718 A KR 20080009718A KR 1020077026679 A KR1020077026679 A KR 1020077026679A KR 20077026679 A KR20077026679 A KR 20077026679A KR 20080009718 A KR20080009718 A KR 20080009718A
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요시유키 고토
유지 시부타니
유이치 이나다
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스미도모쥬기가이고교 가부시키가이샤
가부시키가이샤 세이코기켄
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Abstract

금형부품의 내마모성을 향상시킬 수 있어, 디스크 기판의 정밀도를 향상시킬 수 있도록 한다.
제1 지지 플레이트, 및 제1 지지 플레이트에 장착된 제1 경면반을 구비한 제1 금형과, 제2 지지 플레이트, 및 제2 지지 플레이트에 장착된 제2 경면반을 구비한 제2 금형을 가진다. 그리고, 제1, 제2 금형 중의 일방에 설치된 금형부품의 슬라이드면에, 저온 질화처리가 시행된다.
이 경우, 금형부품에 대하여 저온 질화처리가 시행되므로, 금형부품의 내마모성을 향상시킬 수 있다. 더욱이, 처리 온도가 낮기 때문에, 복잡한 형상을 가지는 금형부품에 대하여 저온 질화처리를 시행하여도, 금형부품이 변형되지 않아, 치수 편차를 작게 할 수 있다.

Description

디스크 성형용 금형, 그 제조방법 및 금형부품{Mold for forming disc, method for manufacture same and mold parts}
본 발명은, 디스크 성형용 금형, 그 제조방법 및 금형부품에 관한 것이다
종래, 성형기, 예컨대, 디스크 기판을 성형하기 위한 사출성형기에 있어서는, 가열실린더 내에 있어서 용융된 수지를 디스크 성형용 금형 내의 캐비티(cavity) 공간에 충전하고, 이 캐비티 공간 내에 있어서 수지를 냉각하여, 고화(固化)시킴으로써 디스크 기판을 얻도록 하고 있다.
이를 위하여, 상기 사출성형기는, 고정(固定)측 금형 조립체 및 가동(可動)측 금형 조립체로 이루어지는 상기 디스크 성형용 금형, 상기 수지를 캐비티 공간에 충전하기 위한 사출장치, 및 상기 가동측 금형 조립체를 고정측 금형 조립체에 대하여 접근 분리시키기 위한 형체(型締)장치를 구비한다. 그리고, 이 형체장치에 의하여 상기 가동측 금형 조립체를 진퇴시켜서, 디스크 성형용 금형의 형폐(型閉), 형체 및 형개(型開)를 행하며, 형체시에, 고정측 금형 조립체의 원반(圓盤) 플레이트와 가동측 금형 조립체의 원반 플레이트 사이에 캐비티 공간이 형성된다.
또한, 상기 사출장치는, 가열실린더, 이 가열실린더의 전단에 장착된 사출노즐, 및 상기 가열실린더 내에 있어서 회전 가능하게, 또한, 진퇴 가능하게 설치된 스크루(screw)를 구비한다.
그리고, 계량 공정에 있어서, 상기 스크루가 회전되고, 수지가 용융되어 스크루의 전방에 축적되고, 그에 수반하여, 스크루가 후퇴되며, 그 동안에, 디스크 성형용 금형의 형폐 및 형체가 행하여진다. 이어서, 사출 공정에 있어서, 상기 스크루가 전진되고, 상기 스크루의 전방에 축적된 수지가 사출노즐로부터 사출되어, 캐비티 공간에 충전된다. 그리고, 냉각 공정에 있어서, 상기 캐비티 공간 내의 수지가 냉각되고, 홀 펀칭(hole punching) 가공이 시행되어, 디스크 기판이 성형된다. 이어서, 형개가 행하여져, 상기 디스크 기판이 인출된다.
한편, 고정측의 원반 플레이트에, 디스크 기판의 정보면(面)에 요철을 형성하기 위한 스탬퍼(stamper)가 장착됨과 함께, 가동측의 원반 플레이트에 디스크 기판의 외주 가장자리를 형성하기 위한 캐비티 링(cavity ring)이 장착되며, 이 캐비티 링에 의하여 캐비티 공간의 외주 가장자리가 형성된다.
그런데, 상기 캐비티 링은, 성형이 행하여질 때마다, 고정측 금형 조립체에 설치된 버트 링(butt ring)과 접촉하며, 또한, 슬라이드된다. 따라서, 캐비티 링의 표면에 질화(窒化)처리를 시행하여, 캐비티 링의 내마모성(耐摩耗性)을 향상시키는 것을 생각할 수 있다.
[발명의 개시]
[발명이 해결하고자 하는 과제]
그러나, 상기 종래의 디스크 성형용 금형에 있어서는, 일반적으로, 질화처리의 처리 온도는 530∼570〔℃〕의 범위 내로 되어, 높다. 따라서, 캐비티 링과 같은, 얇고, 또한, 복잡한 형상을 가지는 금형부품에 대하여 질화처리를 시행하면, 캐비티 링이 변형될 뿐만 아니라, 치수 편차가 커져 버린다. 따라서, 디스크 기판의 정밀도가 낮아져 버린다.
본 발명은, 상기 종래의 디스크 성형용 금형의 문제점을 해결하여, 금형부품의 내마모성을 향상시킬 수 있고, 디스크 기판의 정밀도를 향상시킬 수 있는 디스크 성형용 금형, 그 제조방법 및 금형부품을 제공하는 것을 목적으로 한다.
[과제를 해결하기 위한 수단]
이를 위하여, 본 발명의 디스크 성형용 금형에 있어서는, 제1 지지 플레이트, 및 이 제1 지지 플레이트에 장착된 제1 경면반(鏡面盤)을 구비한 제1 금형과, 제2 지지 플레이트, 및 이 제2 지지 플레이트에 장착된 제2 경면반을 구비한 제2 금형을 가진다.
그리고, 상기 제1, 제2 금형 중의 일방(一方)에 설치된 금형부품의 슬라이드 면(面)에, 저온(低溫) 질화(窒化)처리가 시행된다.
[발명의 효과]
본 발명에 의하면, 디스크 성형용 금형에 있어서는, 제1 지지 플레이트, 및 이 제1 지지 플레이트에 장착된 제1 경면반을 구비한 제1 금형과, 제2 지지 플레이트, 및 이 제2 지지 플레이트에 장착된 제2 경면반을 구비한 제2 금형을 가진다.
그리고, 상기 제1, 제2 금형 중의 일방에 설치된 금형부품의 슬라이드면에, 저온 질화처리가 시행된다.
이 경우, 금형부품에 대하여 저온 질화처리가 시행되므로, 금형부품의 내마모성을 향상시킬 수 있다. 더욱이, 처리 온도가 낮으므로, 복잡한 형상을 가지는 금형부품에 대하여 저온 질화처리를 시행하여도, 금형부품이 변형되지 않아, 치수 편차를 작게 할 수 있다. 그 결과, 디스크 기판의 정밀도를 높일 수 있다.
도 1은, 본 발명의 실시예에 있어서의 디스크 성형용 금형의 단면도이다.
도 2는, 본 발명의 실시예에 있어서의 처리 온도와 캐비티 링의 치수 편차의 관계도이다.
*부호의 설명*
12, 32 : 금형 조립체
15 : 베이스 플레이트
16, 36 : 원반(圓盤) 플레이트
18 : 버트 링(butt ring)
35 : 베이스 플레이트
37 : 캐비티 링(cavity ring)
40 : 중간 플레이트
[발명을 실시하기 위한 최량의 형태]
이하, 본 발명의 실시예에 대하여 도면을 참조하면서 상세히 설명한다. 다만, 이 경우, 성형기로서 사출성형기에 대하여 설명한다.
도 1은 본 발명의 실시예에 있어서의 디스크 성형용 금형의 단면도, 도 2는 본 발명의 실시예에 있어서의 처리 온도와 캐비티 링의 치수 편차의 관계도이다. 다만, 도 2에 있어서, 가로축에 처리 온도를, 세로축에 치수 편차를 취하고 있다.
도면에 있어서, 12는 도시되지 않은 고정 플래튼에, 장착판(13)을 통하여 장착된 제1 금형으로서의 고정측 금형 조립체이며, 이 금형 조립체(12)는, 제1 지지 플레이트로서의 베이스 플레이트(15), 이 베이스 플레이트(15)에 장착된 제1 경면반으로서의 원반 플레이트(16), 상기 장착판(13) 내에 있어서 고정 플래튼측으로 향하게 하여 설치되고, 베이스 플레이트(15)를 고정 플래튼에 대하여 위치 결정하는 로케이팅 링(23), 및 상기 베이스 플레이트(15) 내에 있어서 상기 로케이팅 링(23)에 인접시켜 설치된 스프루 부시(24)를 구비한다. 이 스프루 부시(24)의 전단에, 캐비티 공간(C)으로 향하여 다이(die)(28)가 형성되고, 이 다이(28)와 연결시켜, 도시되지 않은 사출장치의 사출노즐로부터 사출된 성형재료로서의 수지를 통 과시키는 스프루(26)가 형성된다. 여기서, 상기 사출장치는, 도시되지 않은 가열실린더, 이 가열실린더의 전단에 장착된 사출노즐, 및 상기 가열실린더 내에 있어서 회전 가능하게, 또한, 진퇴 가능하게 설치된 스크루를 구비한다.
그리고, 상기 원반 플레이트(16)에는, 도시되지 않은 성형품으로서의 디스크 기판의 정보면에 요철을 형성하기 위한 도시되지 않은 스탬퍼가 장착되고, 상기 스프루 부시(24)의 전반(前半)부의 지름방향 바깥쪽에는, 상기 스탬퍼의 내주 가장자리를 누르기 위한 스탬퍼 홀딩 부시(14)가 설치된다. 여기서, 상기 금형 조립체(12)에는 도시되지 않은 에어 블로우(air blow) 부시 등도 설치된다.
또한, 상기 원반 플레이트(16)의 외주 가장자리에 링 형상의 버트 링(18)이 볼트(b1)에 의하여 장착되고, 상기 원반 플레이트(16) 및 버트 링(18)보다 지름방향 바깥쪽에 링 형상의 제1 외주 링(19)이 베이스 플레이트(15)에 장착된다. 상기 스탬퍼 홀딩 부시(14), 원반 플레이트(16), 버트 링(18), 제1 외주 링(19), 에어 블로우 부시 등에 의하여 금형 조립체(12) 측의 금형부품이 구성된다.
한편, 32는 도시되지 않은 가동 플래튼에 도시되지 않은 볼트에 의하여 장착된 제2 금형으로서의 가동측 금형 조립체이며, 이 금형 조립체(32)는, 베이스 플레이트(35), 이 베이스 플레이트(35)에 볼트(b2)에 의하여 장착된 중간 플레이트(40), 이 중간 플레이트(40)에 볼트(b3)에 의하여 장착된 제2 경면반으로서의 원반 플레이트(36), 상기 베이스 플레이트(35) 내에 있어서 가동 플래튼으로 향하게 하여 설치되고, 중간 플레이트(40)에 볼트(b4)에 의하여 장착된 포위(包圍)부재로서의 실린더(44), 및 이 실린더(44)를 따라 진퇴되어, 전단이 상기 다이(28)에 대 응하는 형상을 가지는 홀 펀칭(穴開)부재로서의 컷 펀치(48)를 구비한다. 여기서, 상기 베이스 플레이트(35) 및 중간 플레이트(40)에 의하여 제2 지지 플레이트가 구성된다.
또한, 상기 원반 플레이트(36)의 외주 가장자리부에 있어서, 원반 플레이트(36)에 대하여 이동 가능하게, 또한, 버트 링(18)과 대향시켜, 링 모양의 형상을 가지는 캐비티 링(37)이 설치되고, 상기 원반 플레이트(36) 및 캐비티 링(37)보다 지름방향 바깥쪽에 있어서 상기 제1 외주 링(19)과 대향시켜 링 형상의 제2 외주 링(38)이 중간 플레이트(40)에 장착된다. 상기 캐비티 링(37)은, 볼트(b5)에 의하여 로드(rod)(41)에 장착되고, 이 로드(41)를 통하여 중간 플레이트(40)에 대하여 이동 가능하게 설치된다. 그리고, 상기 로드(41)에 제1 바이어싱 부재로서의 스프링(63)이 접촉되며, 이 스프링(63)은 로드(41) 및 캐비티 링(37)을 금형 조립체(12) 측으로 향하여 바이어싱한다. 그리고, 39는 도시되지 않은 볼트에 의하여 제2 외주 링(38)에 장착된 캐비티 링 누름부재이며, 이 캐비티 링 누름부재(39)는 상기 캐비티 링(37)의 외주 가장자리와 맞물린다. 또한, 상기 캐비티 링(37)은 원반 플레이트(36)의 전단면(前端面)보다 돌출되어, 캐비티 링(37)의 내주면에 의하여, 디스크 기판의 외주 가장자리가 형성된다.
상기 실린더(44) 내에는, 상기 컷 펀치(48)와 일체로 형성된 플랜지(flange)(51)가 진퇴 가능하게 설치되며, 이 플랜지(51)의 후단(51a)이 상기 실린더(44)에 의하여 받아들여진다. 또한, 플랜지(51)의 전방에 제2 바이어싱 부재로서의 컷 펀치 복귀용 스프링(52)이 설치되며, 이 컷 펀치 복귀용 스프링(52)에 의 하여 상기 플랜지(51)가 후방으로 바이어싱된다.
여기서, 상기 금형 조립체(12, 32)에 의하여 디스크 성형용 금형이 구성되며, 금형 조립체(32)를 금형 조립체(12)에 대하여 접근 분리시키기 위하여 도시되지 않은 형체장치가 설치된다. 이 형체장치의 형체용 구동부로서의 형체 실린더를 구동하여, 상기 금형 조립체(32)를 진퇴시킴으로써, 디스크 성형용 금형의 형폐, 형체 및 형개를 행할 수 있으며, 형체시에, 원반 플레이트(16, 36) 사이에 상기 캐비티 공간(C)이 형성된다.
또한, 형체시에, 도시되지 않은 홀 펀칭용 구동부로서의 구동실린더를 구동함으로써 컷 펀치(48)를 전진시키면, 상기 컷 펀치(48)의 전단이 다이(28) 내에 진입한다. 그 결과, 상기 캐비티 공간(C) 내의 수지에 홀 펀칭 가공을 행할 수 있다. 여기서, 상기 컷 펀치(48)의 전반부에 있어서의 지름방향 바깥쪽에는, 디스크 기판을 돌출시키기 위한 이젝터 부시(62)가 설치되며, 이 이젝터 부시(62)보다 지름방향 바깥쪽에는, 디스크 기판에 압축공기를 분출하여 디스크 기판을 원반 플레이트(36)로부터 이형(離型)시키기 위한 에어 블로우 부시(47)가 설치된다. 또한, 상기 금형 조립체(32)에는 도시되지 않은 이젝터 핀 등도 설치된다. 여기서, 원반 플레이트(36), 캐비티 링(37), 제2 외주 링(38), 로드(41), 에어 블로우 부시(47), 컷 펀치(48), 이젝터 부시(62) 등에 의하여 금형 조립체(32) 측의 금형부품이 구성된다.
상기 원반 플레이트(16, 36)에 각각 제1, 제2 온도 조절용 유로(流路)(93, 94)가 형성되며, 이 제1, 제2 온도 조절용 유로(93, 94)에 물, 기름, 공기 등의 온 도 조절용 매체가 공급됨으로써, 원반 플레이트(16, 36)가 냉각된다.
또한, 상기 캐비티 링(37)과 스탬퍼 사이에는, 캐비티 공간(C)에 대한 수지의 충전에 수반하여, 캐비티 공간(C) 내의 공기를 내보낼 수 있도록, 축 방향에 있어서 약간의 클리어런스(clearance)가 형성된다.
그리고, 계량 공정에 있어서, 상기 스크루가 회전되고, 수지가 용융되어 스크루의 전방에 축적되고, 그에 수반하여, 스크루가 후퇴되며, 그 동안에, 디스크 성형용 금형의 형폐 및 형체가 행하여진다. 이어서, 사출 공정에 있어서, 상기 스크루가 전진되어, 상기 스크루의 전방에 축적된 수지가 사출노즐로부터 사출되어, 캐비티 공간(C)에 충전된다. 그리고, 냉각 공정에 있어서, 상기 캐비티 공간(C) 내의 수지가 냉각되고, 홀 펀칭 가공이 행하여져, 디스크 기판이 형성된다. 이어서, 형개가 행하여져, 상기 디스크 기판이 인출된다.
그런데, 상기 캐비티 링(37)은, 원반 플레이트(36) 및 제2 외주 링(38)에 의하여 형성된 링 형상의 홈 내에 수용되고, 축 방향으로 이동 가능하게 설치됨과 함께, 스프링(63)에 의하여 금형 조립체(12)를 향하여 바이어싱된다. 따라서, 캐비티 링(37)은, 형폐가 행하여져, 버트 링(18)에 접촉되면, 그 후, 스프링(63)의 바이어싱 힘에 저항하여 후퇴되고, 형개가 행하여져, 버트 링(18)으로부터 벗어나면, 스프링(63)의 바이어싱 힘에 의하여 전진된다.
또한, 형체가 행하여지고 있는 동안에, 수지가 캐비티 공간(C)에 충전됨에 수반하여, 캐비티 공간(C)의 형 내압(型內壓)이 높아지면, 상기 원반 플레이트(16, 36) 사이의 분할면에 있어서, 각 원반 플레이트(16, 36) 사이가 100∼300〔㎛〕정 도 열리고, 이어서, 냉각 공정에 있어서, 캐비티 공간(C) 내의 수지가 냉각되어 수축함에 수반하여, 형 내압이 낮아지면, 각 원반 플레이트(16, 36) 사이가 서서히 닫힌다.
그리고, 이 각 원반 플레이트(16, 36) 사이가 열림에 수반하여, 캐비티 공간(C) 내의 수지가 외주 가장자리에서 흘러나가는 것을 방지하고, 측면 버(burr)가 발생하는 것을 방지하기 위하여, 상기 캐비티 링(37)은 금형 조립체(12) 측으로 이동하여, 접촉상태를 유지한다.
이와 같이, 캐비티 링(37)은, 성형이 행하여질 때마다, 버트 링(18)과 접촉하고, 또한, 슬라이드된다. 또한, 캐비티 링(37)은, 성형이 행하여질 때마다, 상기 홈 내에 있어서 진퇴되므로, 캐비티 링(37)의 외주면 및 내주면은, 홈의 내측 표면(홈 내에 있어서의 원반 플레이트(36)의 외주면, 및 제2 외주 링(38)의 내주면)과 슬라이드된다.
따라서, 캐비티 링(37)의 내마모성을 향상시키기 위하여, 상기 캐비티 링(37)의 표면, 본 실시예에 있어서는, 캐비티 링(37)에 있어서의 버트 링(18)과 접촉하여, 슬라이드되는 슬라이드면인 접촉면에, 저온 질화처리가 시행된다.
이 저온 질화처리는, 상기 캐비티 링(37)이, 예컨대, 본 실시예에 있어서 사용되는 철(鐵)계의 금속재료로 이루어질 경우, Na+, K+ 등의 카티온(양이온) 성분, 및 CN-, CNO-, CO3 2 - 등의 아니온(음이온) 성분을 포함하는 용융염(鹽) 조성물의 염욕(鹽浴) 중에서, 300〔℃〕 이상, 또한, 500〔℃〕 이하의 범위 내의 처리 온도로 행하여진다.
다만, 처리 온도가 낮을수록 용융염 조성물의 일부가 석출되어 버리는 등, 욕(浴) 조성이 변화되기 쉬워지거나, 균일한 질화층을 형성하는 것이 그만큼 곤란하게 되고, 처리 온도가 높을수록 캐비티 링의 치수가 변화되기 쉬워지기 때문에, 처리 온도를 430〔℃〕 이상, 또한, 480〔℃〕 이하의 범위 내에서 소정 시간 저온 질화처리를 행하는 것이 바람직하다.
도 2에 나타내는 바와 같이, 예컨대, 질화처리를 약 570〔℃〕 전후의 온도에서 행하면, 캐비티 링(37)의 치수에, 영역 AR1과 같이 40∼70〔㎛〕의 편차가 발생하는 것에 대하여, 질화처리를 약 480〔℃〕의 온도에서 행하면, 캐비티 링(37)의 치수에, 영역 AR2와 같이 0∼5〔㎛〕의 편차가 발생할 뿐이다. 따라서, 성형된 디스크 기판에 발생하는 편차를 0∼5〔㎛〕의 범위 내에 수용시킬 수 있다. 본 실시예에 있어서, 캐비티 링(37)의 치수 편차 및 디스크 기판의 편차는, 표면 거칠기에 의하여 표시하며, 이 표면 거칠기는, JIS B0601에 의한 중심선 평균 거칠기의 측정방법에 의하여 측정된다.
여기서, 버트 링(18)에 있어서의 캐비티 링(37)과 접촉하여, 슬라이드하는 접촉면에도, 같은 처리 조건으로 저온 질화처리가 시행된다. 또한, 캐비티 링(37)에 있어서의 다른 슬라이드면, 즉, 캐비티 링(37)의 외주면 및 내주면, 및 홈의 내측 표면에도, 같은 처리 조건으로 저온 질화처리를 시행할 수 있다.
이와 같이, 캐비티 링(37)의 슬라이드면에 저온 질화처리가 시행되므로, 캐비티 링(37)의 내마모성을 향상시킬 수 있다. 또한, 처리 온도가 낮으므로, 캐비티 링(37)과 같은, 얇고, 또한, 복잡한 형상을 가지는 금형부품에 대하여 저온 질화처리를 시행하는 경우이더라도, 캐비티 링(37)이 변형되지 않고, 치수 편차를 작게 할 수 있다. 그 결과, 디스크 기판의 정밀도를 높일 수 있다. 특히, DVD―R 등과 같은 고밀도의 디스크 기판을 성형하는 경우이더라도, 충분한 정밀도를 얻을 수 있다.
또한, 상기 질화처리는, 코팅 처리와는 다르며, 표면 개질(改質)을 행하도록 되어 있기 때문에, 처리의 대상이 되는 캐비티 링(37)의 내부에 있어서도, 내마모성을 향상시킬 수 있다. 더욱이, 코팅 처리를 시행하는 경우보다, 작업을 위한 처리 비용을 억제할 수 있어, 비용을 낮출 수 있다.
그리고, 수리에 있어서, 코팅 처리가 시행된 경우와 달라서, 피복층(被覆層)을 일단 벗겨낸 후, 다시 코팅 처리를 시행할 필요가 없다.
본 실시예에 있어서는, 원반 플레이트(16)에 스탬퍼 및 버트 링(18)이, 원반 플레이트(36)에 캐비티 링(37)이 설치되도록 되어 있지만, 원반 플레이트(16)에 캐비티 링을, 원반 플레이트(36)에 스탬퍼 및 버트 링을 설치할 수도 있다.
다만, 본 발명은 상기 실시예에 한정되는 것은 아니고, 본 발명의 취지에 근거하여 다양하게 변형시키는 것이 가능하며, 그들을 본 발명의 범위에서 배제하는 것은 아니다.
본 발명을 디스크 기판을 성형하기 위한 디스크 성형용 금형에 적용할 수 있다.

Claims (6)

  1. (a)제1 지지 플레이트, 및 이 제1 지지 플레이트에 장착된 제1 경면반(鏡面盤)을 구비한 제1 금형과,
    (b)제2 지지 플레이트, 및 이 제2 지지 플레이트에 장착된 제2 경면반을 구비한 제2 금형을 가짐과 함께,
    (c)상기 제1, 제2 금형 중의 일방(一方)에 설치된 금형부품의 슬라이드면(面)에, 저온(低溫) 질화(窒化)처리가 시행되는 것을 특징으로 하는 디스크 성형용 금형.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 금형부품은 링 모양의 형상을 가지는 디스크 성형용 금형.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 저온 질화처리는, 500〔℃〕 이하의 온도에서 행하여지는 디스크 성형용 금형.
  4. 청구항 1에 있어서,
    상기 제1, 제2 금형의 타방(他方)에 설치된 금형부품의 슬라이드면에, 저온 질화처리가 시행되는 디스크 성형용 금형.
  5. 제1 지지 플레이트, 및 이 제1 지지 플레이트에 장착된 제1 경면반을 구비한 제1 금형, 그리고 제2 지지 플레이트, 및 이 제2 지지 플레이트에 장착된 제2 경면반을 구비한 디스크 성형용 금형의 제조방법에 있어서,
    상기 제1, 제2 금형 중의 일방에 설치된 금형부품의 슬라이드면에, 저온 질화처리를 시행하는 것을 특징으로 하는 디스크 성형용 금형의 제조방법.
  6. 제1 지지 플레이트, 및 이 제1 지지 플레이트에 장착된 제1 경면반을 구비한 제1 금형, 그리고 제2 지지 플레이트, 및 이 제2 지지 플레이트에 장착된 제2 경면반을 구비한 디스크 성형용 금형의, 제1, 제2 금형 중의 일방에 설치된 금형부품에 있어서,
    슬라이드면에 저온 질화처리가 시행되는 것을 특징으로 하는 금형부품.
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