KR20080004586A - ２，３치환된 피라진 술폰아미드 - Google Patents

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에릭 세빌
크리스토프 클레바
세드릭 멀롯
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Abstract

본 발명은 알레르기성 질환, 염증성 피부병 및 염증성 인자를 지닌 다른 질병의 치료 및/또는 예방을 위한 화학식 (I)의 2,3 치환된 피라진 술폰아미드의 용도에 관한 것이다. 특히, 본 발명은 CRTH2 활성의 조정, 주로 억제를 위한 2,3 치환된 피라진 술폰아미드의 용도에 관한 것이다.
피라진, 술폰아미드, 벤젠술폰아미드, CRTH2

Description

２，３치환된 피라진 술폰아미드{2,3 SUBSTITUTED PYRAZINE SULFONAMIDS}
본 발명은 2,3 치환된 피라진 술폰아미드를 포함하는 약학 제제뿐만 아니라, 약학적 활성 화합물로 사용하기 위한 2,3 치환된 피라진 술폰아미드에 관한 것이다. 상기 유도체는 알레르기성 질환 및 염증성 피부병의 치료 및/또는 예방에 유용하다. 특히, 본 발명은 CRTH2 활성의 조정, 주로 억제를 위한 2,3 치환된 피라진 술폰아미드의 용도에 관한 것이다. 더욱이, 본 발명은 신규한 2,3 치환된 피라진 술폰아미드뿐만 아니라, 그들의 제조 방법에 관한 것이다.
프로스타글란딘 (prostaglandin) D2 (PGD2)는, 염증 및 아토피 증상, 특히 천식, 비염 및 아토피 피부염과 같은 알레르기성 질환과 오랫동안 연관돼 왔다 (Lewis et al. (1982) J. Immunol. 129, 1627). PGD2는 아라키돈산 (arachidonic acid)의 20-탄소 지방산 골격으로부터 유래된 화합물 군 (class)에 속한다. 항원 공격에 반응하여, PGD2가 급성 알레르기 반응 동안 피부뿐만 아니라 기도로 많은 양이 방출된다. G-단백질 결합 수용체 (GPCR) 아형의 일원인 DP 수용체는 오랫동안 PGD2의 유일한 수용체로 알려져 왔다. 알레르기성 천식에서 DP의 역할은 DP 결핍 생쥐에 대한 실험을 통해 증명되었다 (Matsuoka et al. (2000) Science 287, 2013-2017). 하지만, 염증 반응에서 PGE2의 역할에 대한 집중적인 관심에도 불구하고, DP 수용체 활성화와 PGD2-자극 호산구증가증 (eosinophil) 이동 사이의 직접적인 관련성은 밝혀지지 않았다 (Woodward et al. (1990) Inves. Ophthalomol Vis. Sci. 31, 138-146; Woodward et al. (1993) Eur. J. Pharmacol. 230, 327-333).
더욱 최근에, "T-보조 2 세포로 발현된 화학유인물질 수용체-동종 분자 (CRTH2)[Nagata et al. (1999) J. Immunol. 162, 1278-1286, Hirai et al. (2001) J Exp. Med. 193, 255-261]"로 불리는 또 다른 G-단백질 결합 수용체가 PGD2에 대한 수용체로 확인되었고, 이러한 발견을 시작으로, PGD2의 활동 메커니즘에 대한 연구가 활기를 띠었다. 또한 DP2, GPR44 또는 DLIR로 불리는 CRTH2는 DP 수용체 및 다른 프로스타노이드 (prostanoid) 수용체와 구조적으로 거의 유사하지 않다. 하지만, CRTH2는 PGD2에 대한 유사한 친화력을 소유하고 있다. 말초혈액 T 림프구 가운데, 인간 CRTH2가 Th2 세포에서 선택적으로 발현하며, 호산구, 호염기구 (basophile) 및 Th2 세포와 같은 알레르기성 염증과 연관된 세포 유형에서 높게 발현된다. 더욱이, CRTH2는 혈액 호산구 및 호염기구의 PGD2 의존성 세포 이동을 조정한다. 또한, CRTH2를 발현시키는 순환 T 세포 수의 증가는 아토피 피부염의 중증도와 상관관계가 있다 (Cosmi et al. (2000) Eur. J. Immunol. 30, 2972-2979). CRTH2와 PGD2의 상호작용이 알레르기성 염증의 표적 조직에서 Th2 세포의 알레르기항원-유발성 증가에 중요한 역할을 한다. 따라서, CRTH2과 PGD2의 결합을 억제하는 화합물은 알레르기성 질환 치료에 유용하여야 하는 것은 당연하다.
천식, 염증성 피부병과 같은 알레르기성 질환은, 현재 총 인구의 약 10%가 겪고 있으며, 점점 증가 추세를 보이는 복잡하고, 전형적으로 만성인, 염증성 질환의 주요 군을 대표한다 (Bush, R. K., Georgitis J.W., Handbook of asthma and rhinitis. 1st ed. (1997), Abingdon: Blackwell Science. 270). 아토피 피부염은 만성적인 피부 질환으로, 피부가 극도로 가렵다. 피부과를 찾는 사람의 10 내지 20%가 이 질환을 겪고 있다. 알레르기성 질환 및 염증성 피부병 발생이 전세계적으로 증가하고 있어, 상기 질환을 효과적으로 치료하거나 예방하기 위한 새로운 치료법이 절실히 요구되고 있다. 현재, 수많은 부류의 약학 제제가 상기 질환 치료에 널리 사용되고 있는데, 예를 들어, 항히스타민제 (antihistamine), 충혈제거제 (decongestant), 항콜린제 (anticholinergic), 메틸크산틴 (methylxanthine), 크로몰린 (cromolyn), 코르티코스테로이드 (corticosteroid), 및 루코트리엔 (leukotriene) 조정자가 있다. 하지만, 상기 약학 제제는 종종 그것의 부작용 및 낮은 효능으로 인해 한정적으로 이용된다.
3-황-치환된 인돌 유도체 (A)가 CRTH2 활성을 보이며 (국제 공개공보 제WO 04/106302호, AstraZeneca AB), 다양한 호흡기 질환 치료에 잠재적으로 유용하다는 것이 최근에 보고되었다.
Figure 112007079842438-PCT00001
국제 공개공보 제WO 04/096777 (Bayer Healthcare AG)는 CRTH2로 조정되는 질환 치료에 유용한 피리미딘 유도체를 언급한다.
Figure 112007079842438-PCT00002
국제 공개공보 제WO 04/035543호 및 제WO 05/102338호 (Warner-Lambert Company LLC)는 CRTH2 길항제 (C)로서 테트라하이드로키놀린 유도체를 개시하는데, 상기 유도체가 신경병증성 통증 치료에 효과적일 것이라고 기재하였다.
Figure 112007079842438-PCT00003
또한, 국제 공개공보 제WO 04/032848호 (Millennium Pharmaceutical Inc.) 및 제WO 05/007094호 (Tularik Inc.)는 CRTH2 조정자로서 특이적 테트라하이드로키놀린 유도체를 제공한다. 이러한 테트라하이드로키놀린 유도체는 알레르기성 염증 진행과 연관된 질환 치료에 유용하다.
G 단백질-결합 수용체의 다른 아형, 즉 CCR 및 CXCR의 수용체가 알레르기성 질환 및 자가면역 병리학 치료를 위한 잠재적 약물 목적물로서 논의되어 왔다. 국제 공개공보 제WO 04/108692호 및 제WO 04/108717호 (AstraZeneca AB)는 특이적으 로 CCR4를 조정하는 피라진 술폰아미드 화합물을 개시한다.
Figure 112007079842438-PCT00004
또한, 피라진 술폰아미드 화합물이 G 단백질-결합 수용체와 상호작용하는 화합물로서 국제 공개공보 제WO 04/058265호에 개시되었다.
Figure 112007079842438-PCT00005
발명의 요약
본 발명의 첫 번째 양태는 약학적 활성 화합물로서 일반식 (I)로 대표되는 2,3 치환된 피라진 술폰아미드의 용도를 구성한다. 그러한 화합물은 알레르기성 질환 및 염증성 피부병의 치료 및/또는 예방에 적합하다. 상기 화합물은 G 단백질-결합 형의 특이적 구성원, 즉 CRTH2를 조정한다. 보다 구체적으로, 본 발명은 화학식 (I)의 2,3 치환된 피라진 술폰아미드에 관한 것이다:
Figure 112007079842438-PCT00006
여기서, A, B, R1, R2, R3 및 m은 약제로서 사용하기 위해, 하기 상세한 설명에 기재된 대로 정의된다.
또한, 본 발명은 약학적으로 허용가능한 부형제 또는 담체와 함께, 화학식 (I)의 화합물을 포함하는 약학 조성물을 제공한다.
본 발명은 알레르기성 천식, 알레르기성 비염, 알레르기성 결막염, 전신 아나필락시스 (systemic anaphylaxis) 또는 과민 반응과 같은 알레르기성 질환, 및 아토피 피부염, 습진, 알레르기성 접촉 피부염 및 두드러기, 근육염과 같은 염증성 피부병, 신경병증성 통증과 같은 신경퇴행성질환, 및 류마티스 관절염, 다발성 경화증, 골관절염 및 염증성 장질환 (IBD)과 같은 다른 염증성 질환, 및 CTRH2 활성과 연관된 다른 질환 또는 질병으로부터 선택된 질환의 치료 및/또는 예방을 위한 약제 제조에 있어 화학식 (I)의 화합물 용도에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 본 발명은 CRTH2 활성의 조정, 주로 억제를 위한 화학식 (I)을 지닌 화합물의 용도에 관한 것이다.
또한, 본 발명은 알레르기성 천식, 알레르기성 비염, 알레르기성 결막염, 전신 아나필락시스 또는 과민 반응과 같은 알레르기성 질환, 및 아토피 피부염, 습진, 알레르기성 접촉 피부염, 및 두드러기, 근육염과 같은 염증성 피부병, 신경병증성 통증과 같은 신경퇴행성 질환, 및 류마티스 관절염, 다발성 경화증, 골관절염 및 염증성 장질환 (IBD)와 같은 다른 염증성 질환, 및 CTRH2와 연관된 다른 질환 및 질병으로부터 선택된 질환을 겪고 있는 환자에게 화학식 (I)에 따른 화합물을 투여함으로서 치료 및/또는 예방하는 방법에 관한 것이다.
본 발명은 약학 조성물 제조를 위한 화학식 (I)의 화합물의 용도에 관한 것이다.
마지막으로, 본 발명은 화학식 (I)의 신규한 화합물뿐만 아니라, 이러한 분자를 합성하는 방법에 관한 것이다.
발명의 상세한 설명
다음 단락은 본 발명에 따른 화합물을 구성하는 다양한 화학적 모이어티 (moieties)의 정의를 제공하며, 달리 명확히 설명된 정의가 더 광범위한 정의를 제공하지 않는 한, 본 명세서 및 청구항 전체에 동일하게 적용하고자 한다.
"C1-C6-알킬"은 1 내지 6개의 탄소 원자를 갖는 일가 (monovalent) 알킬기 (alkyl group)를 의미한다. 이 용어는 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, 이소부틸, tert-부틸, n-헥실 등과 같은 기능기로 예시된다.
"아릴"은 단 하나의 고리 (예를 들어, 페닐) 또는 다중 축합 고리들 (예를 들어, 나프틸)을 지닌 6 내지 14개의 탄소 원자의 불포화 아로마틱 (aroomatic) 카르보시클릭기를 의미한다. 아릴은 페닐, 나프틸, 페난트레닐 (phenantrenyl) 등을 포함하는 것이 바람직하다. 또한, 아릴 고리는 헤테로시클로알킬기에 융합될 수도 있다. 그러한 융합된 알릴은 디하이드로벤즈이미다졸-2-온, 벤조[1,3]디옥솔 등을 포함한다.
"C1-C6-알킬 아릴"은 예를 들어,벤질, 펜에틸 등과 같은 아릴 치환기를 갖는 C1-C6-알킬기를 의미한다.
"헤테로아릴"은 일가 헤테로아로마틱, 또는 이환 (bicyclic) 또는 삼환 (tricyclic) 융합-고리 헤테로아로마틱기를 의미한다. 특히, 헤테로아로마틱기의 예로는 선택적으로 치환된 피리딜, 피롤릴, 피리미디닐, 푸릴, 티에닐, 이미다졸릴, 옥사졸릴, 이속사졸릴, 티아졸릴, 이소티아졸릴, 피라졸릴, 1,2,3-트리아졸릴, 1,2,4-트리아졸릴, 1,2,3-옥사디아졸릴, 1,2,4-옥사디아졸릴, 1,2,5-옥사디아졸릴, 1,3,4-옥사디아졸릴, 1,3,4-트리아지닐, 1,2,3-트리아지닐, 1,3,4-티아디아졸릴, 벤조푸릴, [2,3-디하이드로]벤조푸릴, 이소벤조푸릴, 벤조티에닐, 벤조트리아졸릴, 이소벤조티에닐, 인돌릴, 이소인돌릴, 3H-인돌릴, 벤즈이미다졸릴, 이미다조[1,2-a]피리딜, 벤조티라졸릴, 벤즈옥사졸릴, 퀴놀리지닐, 퀴나졸리닐, 프탈라지닐, 퀴녹살리닐, 신놀리닐, 나프티리디닐, 피리다지닐, 피리도[3,4-d]피리딜, 피리도[3,2-b]피리딜, 피리도[4,3-b]피리딜, 퀴놀릴, 이소퀴놀릴, 테트라졸릴, 5,6,7,8-테트라하이드로퀴놀릴, 5,6,7,8-테트라하이드로이소퀴놀릴, 퓨리닐, 프테리디닐, 카르바졸릴, 크산테닐 또는 벤조퀴놀릴 등이 있다.
"C1-C6-알킬 헤테로아릴"은 예를 들어, 2-푸릴메틸, 2-티에닐메틸, 2-(1H-인돌-3-일)에틸 등과 같은 헤테로아릴 치환기를 갖는 C1-C6-알킬기를 의미한다.
"C3-C8-시클로알킬"은 단 하나의 고리 (예를 들어, 시클로헥실) 또는 다중 축합 고리들 [예를 들어, 노르보닐 (norbornyl)]을 갖는 3 내지 8개의 탄소 원자의 포화 카르보시클릭기를 의미한다. 시클로알킬은 시클로펜틸, 시클로헥실, 노르보닐 등을 포함하는 것이 바람직하다.
"C3-C8-헤테로시클로알킬"은 상기 정의에 따른 C3-C8-시클로알킬기를 의미하는데, 여기서 최대 3개의 탄소 원자는 O, S, NR (여기서, R은 수소 또는 메틸로 정의됨)로 구성된 그룹으로부터 선택된 헤테로원자로 치환된다. 헤테로시클로알킬은 피롤리딘, 피페리딘, 피페라진, 1-메틸피페라진, 모르폴린 등을 포함하는 것이 바람직하다.
"C1-C6-알킬 시클로알킬"은 시클로헥실메틸, 시클로펜틸프로필 등을 포함하는, 시클로알킬 치환기를 갖는 C1-C6-알킬기를 의미한다.
"C1-C6-알킬 헤테로시클로알킬"은 2-(1-피롤리디닐)에틸, 4-모르폴리닐메틸, (1-메틸-4-피페리디닐)메틸 등을 포함하는, 헤테로시클로알킬 치환기를 갖는 C1-C6-알킬기를 의미한다.
"C2-C6-알케닐"은 바람직하게는 2 내지 6개의 탄소 원자를 지니며, 적어도 하나 이상의 알케닐 불포화 부위 (site)를 갖는 알케닐기를 의미한다. 알케닐기는 에테닐(-CH=CH2), n-2-프로페닐 (아릴, -CH2CH=CH2) 등을 포함하는 것이 바람직하다.
"C2-C6-알키닐"은 바람직하게는 2 내지 6개의 탄소 원자를 지니며, 적어도 하나 이상의 알키닐 불포화 부위를 갖는 아키닐기를 의미한다. 알키닐기는 에티닐 (-C≡CH), 프로피닐 (-CH2C≡CH) 등을 포함하는 것이 바람직하다.
"카르복시"는 -C(O)OR기를 의미하는데, 여기서 R은 수소 또는 "C1-C6-알킬"을 포함한다.
"아실"은 -C(O)R기를 의미하는데, 여기서 R은 "C1-C6-알킬", "아릴", "헤테로아릴", "C3-C8-시클로알킬", "C3-C8-헤테로시클로알킬", "C1-C6-알킬 아릴" 또는 "C1-C6-알킬 헤테로아릴"을 포함한다.
"아실옥시"는 -OC(O)R기를 의미하는데, 여기서 R은 "C1-C6-알킬", "아릴", "헤테로아릴", "C1-C6-알킬 아릴", 또는 "C1-C6-알킬 헤테로아릴"을 포함한다.
"아릴 아실"은 2-아세틸페닐 등을 포함하는, 아실 치환기를 갖는 아릴기를 의미한다.
"헤테로아릴 아실"은 2-아세틸피리딜 등을 포함하는, 아실 치환기를 갖는 헤테로아릴기를 의미한다.
"알콕시"은 -O-R기를 의미하는데, 여기서 R은 "C1-C6-알킬", "C2-C6-알케닐", "C2-C6-알키닐", "C3-C8-시클로알킬", "헤테로시클로알킬", "아릴", "헤테로아릴", "C1-C6-알킬 아릴", 또는 "C1-C6-알킬 헤테로아릴", "C2-C6-알케닐 아릴", "C2-C6-알케닐 헤테로아릴", "C2-C6-알키닐 아릴", "C2-C6-알키닐헤테로아릴", "C1-C6-알킬 시클로알킬", "C1-C6-알킬 헤테로시클로알킬"을 포함한다. 알콕시기는 예를 들어, 메톡시, 에톡시, 페녹시 등을 포함하는 것이 바람직하다.
"C1-C6-알킬 알콕시"는 2-에톡시에틸 등을 포함하는, 알콕시 치환기를 갖는 C1-C6-알킬기를 의미한다.
"알콕시카르보닐"은 -C(O)OR기를 의미하는데, 여기서 R은 "C1-C6-알킬", "아릴", "헤테로아릴", "C1-C6-알킬 아릴", 또는 "C1-C6-알킬 헤테로아릴"기를 포함한다.
"아미노카르보닐"은 -C(O)NRR'기를 의미하는데, 여기서 각각의 R, R'는 독립적으로 수소, "C1-C6-알킬", "아릴", "헤테로아릴", "C1-C6-알킬 아릴", 또는 "C1-C6-알킬 헤테로아릴"을 포함한다.
"아실아미노"는 -NR(CO)R'기를 의미하는데, 여기서 각각의 R, R'는 독립적으로 수소, "C1-C6-알킬", "아릴", "헤테로아릴", "C1-C6-알킬 아릴" 또는 "C1-C6-알킬 헤테로아릴"이다.
"할로겐"은 플루오로 (fluoro), 클로로 (chloro), 브로모 (bromo) 및 요오드 (iodo) 원자를 의미한다.
"술포닐옥시"는 -OSO2-R기를 의미하는데, 여기서 R은 H, "C1-C6-알킬", 할로겐으로 치환된 "C1-C6-알킬", 예를 들어 -OSO2-CF3기, "C2-C6-알케닐", "C2-C6-알키닐", "C3-C8-시클로알킬", "헤테로시클로알킬", "아릴", "헤테로아릴", "C1-C6-알킬 아릴" 또는 "C1-C6-알킬 헤테로아릴", "C2-C6-알케닐 아릴", "C2-C6-알케닐 헤테로아릴", "C2-C6-알키닐 아릴", "C2-C6-알키닐헤테로아릴", "C1-C6-알킬 시클로알킬", "C1-C6-알킬 헤테로시클로알킬"로부터 선택된다.
"술포닐"은 "-SO2-R"기를 의미하는데, 여기서 R은 H, "아릴", "헤테로아릴", "C1-C6-알킬", 할로겐으로 치환된 "C1-C6-알킬", 예를 들어 -SO2-CF3기, "C2-C6-알케닐", "C2-C6-알키닐", "C3-C8-시클로알킬", "헤테로시클로알킬", "아릴", "헤테로아릴", "C1-C6-알킬 아릴" 또는 "C1-C6-알킬 헤테로아릴", "C2-C6-알케닐 아릴", "C2-C6-알케닐 헤테로아릴", "C2-C6-알키닐 아릴", "C2-C6-알키닐헤테로아릴", "C1-C6-알킬 시클로알킬", "C1-C6-알킬 헤테로시클로알킬"로부터 선택된다.
"술피닐"은 "-S(O)-R"기를 의미하는데, 여기서 R은 H, "C1-C6-알킬", 할로겐으로 치환된 "C1-C6-알킬", 예를 들어 -SO-CF3기, "C2-C6-알케닐", "C2-C6-알키닐", "C3-C8-시클로알킬", "헤테로시클로알킬", "아릴", "헤테로아릴", "C1-C6-알킬 아릴" 또는 "C1-C6-알킬 헤테로아릴", "C2-C6-알케닐 아릴", "C2-C6-알케닐 헤테로아릴", "C2-C6-알키닐 아릴", "C2-C6-알키닐헤테로아릴", "C1-C6-알킬 시클로알킬", "C1-C6-알킬 헤테로시클로알킬"로부터 선택된다.
"술파닐"은 -S-R기를 의미하는데, 여기서 R은 H, "C1-C6-알킬", 할로겐으로 선택적으로 치환된 "C1-C6-알킬", 예를 들어 -S-CF3기, "C2-C6-알케닐", "C2-C6-알키닐", "C3-C8-시클로알킬", "헤테로시클로알킬", "아릴", "헤테로아릴", "C1-C6-알킬 아릴" 또는 "C1-C6-알킬 헤테로아릴", "C2-C6-알케닐 아릴", "C2-C6-알케닐 헤테로아릴", "C2-C6-알키닐 아릴", "C2-C6-알키닐헤테로아릴", "C1-C6-알킬 시클로알킬", "C1-C6-알킬 헤테로시클로알킬"로부터 선택된다. 술파닐기는 메틸술파닐, 에틸술파닐 등을 포함하는 것이 바람직하다.
"술포닐아미노"는 -NRSO2-R'기를 의미하는데, 여기서 각각의 R, R'는 독립적으로 수소, "C1-C6-알킬", "C2-C6-알케닐", "C2-C6-알키닐", "C3-C8-시클로알킬", "헤테로시클로알킬", "아릴", "헤테로아릴", "C1-C6-알킬 아릴" 또는 "C1-C6-알킬 헤테로아릴", "C2-C6-알케닐 아릴", "C2-C6-알케닐 헤테로아릴", "C2-C6-알키닐 아릴", "C2-C6-알키닐헤테로아릴", "C1-C6-알킬 시클로알킬", "C1-C6-알킬 헤테로시클로알킬"을 포함한다.
"아미노술포닐"은 -SO2-NRR'기를 의미하는데, 여기서 각각의 R, R'는 독립적으로 수소, "C1-C6-알킬", "C2-C6-알케닐", "C2-C6-알키닐", "C3-C8-시클로알킬", "헤테로시클로알킬", "아릴", "헤테로아릴", "C1-C6-알킬 아릴" 또는 "C1-C6-알킬 헤테로아릴", "C2-C6-알케닐 아릴", "C2-C6-알케닐 헤테로아릴", "C2-C6-알키닐 아릴", "C2-C6-알키닐헤테로아릴", "C1-C6-알킬 시클로알킬", "C1-C6-알킬 헤테로시클로알킬"을 포함한다.
"아미노"는 -NRR'기를 의미하는데, 여기서 각각의 R, R'는 독립적으로 수소, "C1-C6-알킬", "C2-C6-알케닐", "C2-C6-알키닐", "C3-C8-시클로알킬", "헤테로시클로알킬", "아릴", "헤테로아릴", "C1-C6-알킬 아릴" 또는 "C1-C6-알킬 헤테로아릴", "C2-C6-알케닐 아릴", "C2-C6-알케닐 헤테로아릴", "C2-C6-알키닐 아릴", "C2-C6-알키닐헤테로아릴", "C1-C6-알킬 시클로알킬", "C1-C6-알킬 헤테로시클로알킬"이며, 여기서 R과 R'는 그것들이 부착되는 질소 원자와 함께 3 내지 8 원자의 헤테로시클로알킬 고리를 선택적으로 형성할 수 있다.
"치환된 또는 비치환된": 개별적인 치환기의 정의로 한정되지 않는 한, "알킬", "알케닐", "알키닐", "알콕시", "아릴" 및 "헤테로아릴" 등과 같은 상기 설정된 기능기는 다음으로 구성된 그룹으로부터 선택된 1 내지 5개의 치환기로 선택적으로 치환될 수 있다: "C1-C6-알킬", "C1-C6-알킬 아릴", "C1-C6-알킬 헤테로아릴", "C2-C6-알케닐", "C2-C6-알키닐", 일차, 이차, 삼차 아미노기 또는 사차 암모늄 모이어티 (moieties), "아실", "아실옥시", "아실아미노", "아미노카르보닐", "알콕시카르보닐", "아릴", "아릴옥시", "헤테로아릴", "헤테로아릴옥시", "카르복시", "시아노 (cyano)", "할로겐", "하이드록시", "니트로 (nitro)", "술파닐", "술폭시", "술포닐", "술폰아미드", "알콕시", "티오알콕시", "트리할로메틸" 등. 본 발명의 구성 내에서, 상기 "치환"은 특히 인근 기능적 치환기가 연관되었을 때, 이웃하는 치환기의 고리가 닫히는 상황을 포함하는 것을 의미하는데, 그 결과, 예를 들어, 락탐 (lactam), 락톤 (lacton), 시클릭 무수물 (anhydride), 또는 보호기를 얻기 위한 노력의 일환으로 고리 닫힘에 의해 형성된 아미날 (aminal), 아세탈, 티오아세탈을 형성한다.
"약학적으로 허용가능한 양이온 염 (salt) 또는 복합체"는 알칼리금속 염 (예를 들어, 나트륨 및 칼륨), 알칼리토금속 염 (예를 들어, 칼슘 또는 마그네슘), 알루미늄 염, 암모늄 염 및 메틸아민, 디메틸아민, 트리메틸아민, 에틸아민, 트리에틸아민, 모르폴린, N-Me-D-글루카민, N,N'-bis(페닐메틸)-1,2-에탄디아민, 에탄올아민, 디에탄올아민, 에틸렌디아민, N-메틸모르폴린, 피페리딘, 벤자틴 (N, N'-디벤질에틸렌디아민), 클로린, 에틸렌-디아민, 메그루민 (meglumine)(N-메틸글구카민), 벤타민 (N-벤질펜에틸아민), 디에틸아민, 피페라진, 트로메타민 (2-아미노-2-하이드록시메틸-1,3-프로파네디올), 프로카인 (procaine)과 같은 유기 아민뿐만 아니라 화학식 -NR,R',R''(여기서, R, R', R''는 독립적으로 수소, 알킬 또는 벤질을 의미함)의 아민의 염을 정의하는 것을 의미한다. 특히, 나트륨 및 칼륨 염이 바람직하다.
"약학적으로 허용가능한 염 또는 복합체"는 바람직한 생물학적 활성을 보유한 화학식 (I)의 하기 확인된 화합물의 염 또는 복합체를 의미한다. 그러한 염의 예는 이에 한정되지 않지만, 무기산 (inorganic acid)[예를 들어, 염산 (hydrochloric acid), 브롬화수소산 (hydrobromic acid), 황산 (sulfuric acid), 인산 (phosphoric acid), 질산 (nitric acid) 등]으로 형성되는 산 부가 염, 및 아세트산 (acetic acid), 옥살산 (oxalic acid), 타르타르산 (tartari acid), 호박산 (succinic acid), 말산 (malic acid), 푸마르산 (fumaric acid), 말레산 (maleic acid), 아스코르브산 (ascorbic acid), 벤조산 (benzoic acid), 타닌산 (tannic acid), 파모산 (pamoic acid), 알긴산 (alginic acid), 폴리글루타민산 (polyglutamic acid), 나프탈렌 술폰산 (naphthalene sulfonic acid), 나프탈렌 디술폰산 (naphthalene disulfonic acid), 및 폴리-갈락투론산 (poly-galacturonic acid)과 같은 유기산 (organic acid)으로 형성된 염을 포함한다. 상기 화합물은 또한 당업자에게 알려진 약학적으로 허용가능한 사차 염으로 투여될 수 있는데, 특히, 클로라이드, 브로마이드, 요오다이드, -O-알킬, 톨루엔술포네이트, 메틸술포네이트, 술포네이트, 포스페이트, 또는 카르복실레이트 (예를 들어, 벤조에이트, 숙시네이트, 아세테이트, 글리코레이트, 말리에이트 (maleate), 말레이트 (malate), v푸마레이트, 시트레이트, 타르트레이트, 아스코르베이트, 시나모에이트, 만델로에이트 및 디페닐아세테이트)를 포함하여, 화학식 -NR,R',R'' + Z- (여기서 R, R', R''는 독립적으로 수소, 알킬, 또는 벤질이며, Z는 반대이온이다)의 사차 암모늄 염을 포함한다.
"약학적 활성 유도체"는, 수용자에게 투여함으로서, 본 발명에서 밝혀진 활성을 직접적으로 또는 간접적으로 제공할 수 있는 어느 화합물을 의미한다.
화학식 (I)에 따른 본 발명의 화합물은 알레르기성 천식, 알레르기성 비염, 알레르기성 결막염, 전신 아나필락시스 또는 과민 반응과 같은 알레르기성 질환, 및 아토피 피부염, 습진, 알레르기성 접촉 피부염, 및 두드러기, 근육염와 같은 염증성 피부병, 신경병증성 통증과 같은 신경퇴행성 질환, 및 류마티스 관절염, 다발성 경화증, 골관절염, 염증성 장질환 (IBD)와 같은 다른 염증성 질환으로부터 선택된 질환의 치료 및/또는 예방에 유용한다.
Figure 112007079842438-PCT00007
일 실시예에서, 화학식 (I)에 따른 화합물은 CRTH2의 조정자, 주로 길항제로서 적합하다. 따라서, 본 발명의 상기 화합물은 특히, CRTH2 활성에 의해 조정된 질환의 치료 및/또는 예방에 유용하다. 상기 치료는 CRTH2의 조정, 주로 포유류, 특히 인간의 CRTH2의 억제 또는 CRTH2의 길항 효과를 포함한다. CRTH2의 조정자는 CRTH2의 길항제, 역작용제, 부분작용제 및 작용제로 구성된 그룹으로부터 선택된다.
다른 실시예에서, CRTH2의 조정자는 CRTH2의 길항제이다.
일 실시예에서, CRTH2의 조정자는 CRTH2의 역작용제이다.
또 다른 실시예에서, CRTH2의 조정자는 CRTH2의 부분작용제이다.
또 다른 실시예에서, CRTH2의 조정자는 CRTH2의 작용제이다.
화학식 (I)에 따른 화합물은 약제로 사용하기에 적합하다.
화학식 (I)의 화합물은 또한, 그것의 기하 이성질체 (geometrical isomer), 그것의 거울상체 (enantiomer), 부분입체이성질체 (diastereomer), 라세미체 (racemate) 형태와 같은 광학적 활성 형태 및 토우토머 (tautomer)뿐만 아니라, 그것의 약학적으로 허용가능한 염을 포함하며:
여기서, A는 다음으로 구성된 그룹으로부터 선택딘 아민이거나:
Figure 112007079842438-PCT00008
또는 다음으로 구성된 그룹으로부터 선택된 알킬, 아실, 아미노 카르보닐 또는 에테르이며:
Figure 112007079842438-PCT00009
여기서, 각각의 n은 독립적으로 0,1,2,3 또는 4로부터 선택된 정수이며;
m은 1 또는 2이며;
여기서, R7은 수소, 치환 또는 비치환된 C1-C6-알킬, 치환 또는 비치환된 C2-C6-알케닐, 치환 또는 비치환된 C2-C6-알키닐, 치환 또는 비치환된 아릴, 치환 또는 비치환된 헤테로아릴, 치환 또는 비치환된 C3-C8-시클로알킬, 치환 또는 비치환된 C3-C8-헤테로시클로알킬, 카르복실, 시아노, 아미노 및 하이드록실로 구성된 그룹으로부터 선택된다.
R8은 수소, 치환 또는 비치환된 C1-C6-알킬, 치환 또는 비치환된 아릴, 및 치환 또는 비치환된 헤테로아릴로 구성된 그룹으로부터 선택된다.
B는 치환 또는 비치환된 C2-C6-알키닐, 치환 또는 비치환된 C3-C8-시클로알킬, 치환 또는 비치환된 C3-C8-헤테로시클로알킬, 치환 또는 비치환된 아릴, 및 치환 또는 비치환된 일가 헤테로아릴로 구성된 그룹으로부터 선택된다.
B의 예로는 에티닐, 프로피닐, 시클로프로필, 시클로부틸, 시클로펜틸, 시클로헥실, 시클로헵틸, 시클로옥틸, 피롤리디닐, 피라졸리디닐, 피페리디닐, 피페라지닐, 피리딜, 이미다졸리디닐, 1,2,4-옥사디아졸리디닐, 1,2,5-옥사디아졸리디닐, 1,3,4-옥사디아졸리디닐, 이속사졸리디닐, 모르폴리닐, 페닐, 나프틸, 피롤릴, 피리미딜, 푸릴, 티에닐, 이미다졸릴, 옥사졸릴, 이속사졸릴, 티아졸릴, 이소티아졸릴, 카르바졸릴, 1,2,3-트리아졸릴, 1,2,4-트리아졸릴, 1,2,3-옥사디아졸릴, 1,2,4-옥사디아졸릴, 1,2,5-옥사디아졸릴, 1,3,4-옥사디아졸릴, 테트라졸릴, 1,3,4-트리아지닐, 1,2,3-트리아지닐, 옥솔라닐, 피롤리디닐, 피라졸리디닐, 피페리디닐, 피페라지닐이 있다.
일 실시예에 따라, B는 치환 또는 비치환된 아릴, 치환 또는 비치환된 C3-C8-헤테로시클로알킬 및 치환 또는 비치환된 알키닐로 구성된 그룹으로부터 선택된다.
일 실시예에 따라, B는 치환 또는 비치환된 아릴기 (예를 들어, 페닐)이다. 또 다른 실시예에 따라, 상기 페닐기는 오르토 (ortho), 메타 (meta) 또는 파라 (para) 위치에서 단일-치환된다.
또 다른 실시예에서, B는 C3-C8-헤테로시클로알킬기 (예를 들어, 피페라지닐, 푸릴 또는 티에닐)이다.
또 다른 실시예에 따라, B는 알키닐기 (예를 들어, 에티닐 또는 프로피닐)이다.
R1은 수소 또는 치환 또는 비치환된 C1-C6-알킬이다. 바람직한 실시예에서, R1은 수소이다.
R2는 치환 또는 비치환된 C1-C6-알킬, 수소 또는 치환 또는 비치환된 아릴, 및 치환 또는 비치환된 헤테로아릴, 치환 또는 비치환된 C3.-C8-시클로알킬 및 치환 또는 비치환된 C3-C8-헤테로시클로알킬로 구성된 그룹으로부터 선택된다.
R2의 예로는 메틸, 에틸, 프로필, n-부틸, 시클로프로필, 시클로부틸, 시클로펜틸, 시클로헥실, 시클로헵틸, 시클로옥틸, 피롤리디닐, 피라졸리디닐, 피페리디닐, 피페라지닐, 피리딜, 이미다졸리디닐, 1,2,4-옥사디아졸리디닐, 1,2,5-옥사디아졸리디닐, 1,3,4-옥사디아졸리디닐, 이속사졸리디닐 또는 모르폴리닐, 페닐, 나프틸, 피롤릴, 피리미딜, 퀴놀리지닐, 푸릴, 티에닐, 이미다졸리, 옥사졸릴, 이속사졸릴, 티아졸릴, 이소티아졸릴, 카르바졸릴, 1,2,3-트리아졸릴, 1,2,4-트리아졸릴, 1,2,3-옥사디아졸릴, 1,2,4-옥사디아졸릴, 1,2,5-옥사디아졸릴, 1,3,4-옥사디아졸릴, 테트라졸릴, 1,3,4-트리아지닐, 1,2,3-트리아지닐, 벤조푸릴, 이소벤조푸릴, 벤조티에닐, 벤조트리아졸릴, 이소벤조티에닐, 인돌릴, 이소인돌릴, 3H-인돌릴, 벤즈이미다졸릴, 벤조티아졸릴, 벤즈옥사졸릴, 옥솔라닐, 피롤리디닐, 피라졸리디닐, 피페리디닐, 피레라지닐, 피리딜, 이미다졸리디닐, 1,2,4-옥사디아졸리디닐, 1,2,5-옥사디아졸리디닐, 1,3,4-옥사디아리디닐, 이속사졸리디닐, 퀴나졸리닐, 프탈라지닐, 퀴녹살리닐, 신놀리닐, 나프티리디닐, 퀴놀릴, 이소퀴놀릴, 테트라졸릴, 5,6,7,8-테트라하이드로퀴놀릴, 5,6,7,8-테트라하이드로이소퀴놀릴, 퓨리닐, 프테리디닐, 크산테닐 또는 벤조퀴놀릴이 있다.
일 실시예에 따라, R2는 치환 또는 비치환된 아릴기 (예를 들어, 페닐)이다.
치환된 R2의 치환기는 할로겐, 시아노, C1-C6-알킬, C1-C6-알콕시, 티오알콕시 및 티오알킬로 구성된 그룹으로부터 선택된다.
일 실시예에서, R2는 할로겐, 시아노, C1-C6-알킬, C1-C6-알콕시, 티오알콕시 및 티오알킬로 구성된 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 치환기로 선택적으로 치환된다.
또 다른 실시예에 따라, R2는 오르토, 메타 또는 파라 위치에서 치환된다. 일 실시예에서, R2는 클로로페닐이다.
또 다른 실시예에 따라, R2는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기 (예를 들어, 피리디닐 또는 티에닐)이다.
또 다른 실시예에 따라, R2는 치환 또는 비치환된 C1-C6-알킬기 (예를 들어, 메틸)이다.
R3은 치환 또는 비치환된 C1-C6-알킬, 치환 또는 비치환된 아릴, 치환 또는 비치환된 헤테로아릴, 치환 또는 비치환된 C3-C8-시클로알킬 및 치환 또는 비치환된 C3-C8-헤테로시클로알킬로 구성된 그룹으로부터 선택되며; 여기서, 상기 치환 또는 비치환된 아릴, 헤테로아릴, C3-C8-시클로알킬 또는 C3-C8-헤테로시클로알킬은 하나 이상의 치환 또는 비치환된 아릴, 헤테로아릴, C3-C8-시클로알킬 또는 C3-C8-헤테로시클로알킬기에 융합될 수도 있으며, C1-C6-알킬, 알콕시, 아릴, 헤테로아릴, 카르복실, 시아노, 할로겐, 하이드록시, 아미노, 아미노 카르보닐, 니트로, 술폭시, 술포닐, 술폰아미드 및 트리할로-C1-C6-알킬로 구성된 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 치환기로 치환될 수도 있을 것이다.
R3의 예로는 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, t-부틸, 페닐, 나프틸, 페난트레닐, 피롤릴, 푸릴, 티에닐, 이미다졸릴, 옥사졸릴, 이속사졸릴, 티아졸릴, 이소티아졸릴, 피라졸릴, 카르바졸릴, 1,2,3-트리아졸릴, 1,2,4-트리아졸릴, 1,2,3-옥사디아졸릴, 벤조(2,1,3)옥사디아졸릴, 벤조(1,2,5)옥사디아졸릴, 벤조[1,3]디옥솔, 1,2,4-옥사디아졸릴, 1,2,5-옥사디아졸릴, 1,3,4-옥사디아졸릴, 테트라졸릴, 1,3,4-트리아지닐, 1,2,3-트리아지닐, 벤조푸릴, [2,3-디하이드로]벤조푸릴, 3,4-디하이드로1H-벤조[1,4]디아제핀-2,5-디온, 이소벤조푸릴, 벤조티에닐, 벤조트리아졸릴, 이소벤조티에닐, 인돌릴, 이소인돌릴, 3H-인돌릴, 벤즈이미다졸릴, 벤조티아졸릴, 벤즈옥사졸릴, 피리다지닐, 피리미딜, 퀴놀리지닐, 퀴나졸리닐, 프탈라지닐, 퀴녹살리닐, 신놀리닐, 나프티리디닐, 퀴놀릴, 이소퀴놀릴, 테트라졸릴, 5,6,7,8-테트라하이드로퀴놀릴, 5,6,7,8-테트라하이드로이소퀴놀릴, 퓨리닐, 프테리디닐, 카르바졸릴, 크산테닐, 벤조퀴놀릴, 시클로프로필, 시클로부틸, 시클로펜틸, 시클로헥실, 시클로헵틸, 시클로옥틸, 옥솔라닐, 피롤리디닐, 피라졸리디닐, 피페리디닐, 피페라지닐, 피리딜, 이미다졸리디닐, 1,2,4-옥사디아졸리디닐, 1,2,5-옥사디아졸리디닐, 1,3,4-옥사디아졸리디닐, 이속사졸리디닐 또는 모르폴리닐을 포함한다.
일 실시예에 따라, R3은 치환 또는 비치환된 아릴기 (예를 들어, 페닐 또는 나프틸)이다. 치환된 R3의 치환기는 할로겐, 시아노, C1-C6-알킬, C1-C6-알콕시, 헤테로아릴, 아릴, 티오알콕시 및 티오알킬로 구성된 그룹으로부터 선택된다.
일 실시예에서, R3은 할로겐, 시아노, C1-C6-알킬, C1-C6-알콕시, 헤테로아릴, 아릴, 티오알콕시 및 티오알킬로 구성된 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 치환기로 선택적으로 선택된다.
치환된 페닐 모이어티의 예는 4-트리플루오로메톡시페닐, 3-메톡시페닐, 4-클로로페닐, 3,5-디메틸페닐, 2-벤즈아미드 또는 2-벤조산이다.
또 다른 실시예에서, R3은 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기 (예를 들어, 피리딜, 퀴놀릴, 벤즈이미다졸릴, 인돌릴, 피리다지닐, 피라지닐 또는 1,3,4-티아디아졸릴)이다. 치환된 벤즈이미다졸의 예는 2-에틸-2H-벤즈이미다졸릴이다.
또 다른 실시예에서, R3은 C3-C8-헤테로시클로알킬기 (예를 들어, 1,3-디하이드로벤즈이미다졸-2-온, 3,4-디하이드로1H-벤조[1,4]디아제핀-2,5-디온)에 융합된 아릴기이다.
또 다른 실시예에서, R3은 치환 또는 비치환된 아릴기 (예를 들어, 1,2,3,4-테트라하이드로키놀린, 1,2,3,4-테트라하이드로키녹살린, 2,3-디하이드로벤조1,4-옥사진, 2,3-디하이드로-인돌 또는 디하이드로벤조-피롤로디아제핀)에 융합된 치환 또는 비치환된 C3-C8-헤테로시클로알킬기이다.
또 다른 실시예에서, R3은 치환 또는 비치환된 아릴기 및 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기 (예를 들어, 디하이드로벤조피롤로디아제핀)에 융합된 치환 또는 비치환된 C3-C8-헤테로시클로알킬기이다.
또 다른 실시예에서, R3은 치환 또는 비치환된 아릴기 (예를 들어, 이소프로필)이다.
또 다른 실시예에서, R2 또는 R3에서 치환기는 C1-C6-알킬, 알콕시, 시아노, 아미노 및 할로겐 (예를 들어, 메틸, 에틸, 부틸, tert-부틸, 메톡시, 에톡시, tert-부톡시, 페녹시, 클로로, 플루오로)로 구성된 그룹으로부터 선택되며; 여기서, 알킬, 알콕시 또는 아릴옥시는 할로겐 (예를 들어, 트리플루오로메틸, 트리플루오로메톡시)으로 치환된다.
화학식 (I)의 또 다른 특이적 아형는 화학식 (I')를 갖는 화합물이며, 여기서 A, B, R2 및 R3은 상기 정의된 바와 같고, 각각의 R1은 독립적으로 할로겐 또는 치환 또는 비치환된 C1-C6-알킬일 수 있다.
바람직한 실시예에서, R1은 수소이다.
Figure 112007079842438-PCT00010
화학식 (I) 및 (I')의 특이적 아형은 화학식 (Ia-Id)를 갖는 화합물이며, 여기서 A, R2 및 R3는 상기 정의된 바와 같고 Z는 O 또는 S이다.
Figure 112007079842438-PCT00011
화학식 (I)의 화합물 및 예를 들어, 일차, 이차, 또는 삼차 아민 또는 피리딜 모이어티와 같은 염기성 잔기를 포함하는 화학식 (Ia)-(Id)의 아형 화합물의 약학적으로 허용가능한 염은 하이드로클로라이드, 하이드로브로마이드, 술페이트 또는 비술페이트, 포스페이트 또는 수소 포스페이트, 아세테이트, 벤조에이트, 숙시네이트, 푸마레이트, 말리에이트, 락테이트, 시트레이트, 글루코네이트, 메탄-술포네이트, 벤젠술포네이트, 및 para-톨루엔술포네이트 염과 같은 약학적으로 허용가능한 산으로 형성된 산 부가 염인 것이 바람직하다.
특히 약제로서 사용하기에 적합한 본 발명의 화합물은, 특히 다음으로 구성된 그룹의 화합물을 포함한다:
실시예 번호 이름
1 N-{3-[4-(1H-인돌-1-일메틸)페닐]피라진-2-일}-2- (트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드
2 2-클로로-N-{3-[4-({메틸[4-(트리플루오로메톡시)페닐]아미노}- 메틸)페닐]피라진-2-일}벤젠술폰아미드
3 N-(3-{4-[(2-에틸-1H-벤즈이미다졸-1-일)메틸]페닐}피라진-2-일)-2- (트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드
4 2-클로로-N-[3-(4-{[메틸(페닐)아미노]메틸}페닐)피라진-2-일] 벤젠술폰아미드
5 2-클로로-N-(3-{4-[(2-나프틸옥시)메틸]페닐}피라진-2-일)- 벤젠술폰아미드
6 2-클로로-N-{3-[4-(1H-인돌-1-일-일메틸)페닐]피라진-2-일}- 벤젠술폰아미드
7 2-클로로-N-(3-{4-[(5,6,7,8-테트라하이드로나프탈렌-2-일옥시) 메틸]-페닐}피라진-2-일)벤젠술폰아미드
8 2-클로로-N-(3-{4-[(2-에틸-1H-벤즈이미다졸-1-일)메틸]페닐} 피라진-2-일)벤젠술폰아미드
9 N-(3-{4-[(1,3-벤조디옥솔-5-일아미노)메틸]페닐}피라진-2-일)-2- (트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드
10 N-[3-(4-{[3-메톡시벤질)옥시]메틸}페닐)피라진-2-일]-2- (트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드
11 3-클로로-N-{3-[4-({메틸[4-(트리플루오로메톡시)페닐]아미노}- 메틸)페닐]피라진-2-일}벤젠술폰아미드
12 N-[3-(4-{[4-클로로페닐)(메틸)아미노]메틸}페닐)피라진-2-일]- 티오펜-2-술폰아미드
13 4-페녹시-N-{3-[4-(퀴놀린-2-일메틸)피페라진-1-일]피라진-2-일}- 벤젠술폰아미드
14 4-메틸-N-{3-[4-({메틸[4-(트리플루오로메톡시)페닐]아미노- 메틸)페닐]피라진-2-일}벤젠술폰아미드
15 4-클로로-N-[3-(4-{[메틸(페닐)아미노]메틸}페닐)피라진-2-일]- 벤젠술폰아미드
16 4-시아노-N-{3-[4-({메틸[4-(트리플루오로메톡시)페닐]-아미노}- 메틸)페닐]피라진-2-일}벤젠술폰아미드
17 N-[3-(4-{[(4-플루오로-페닐)-메틸-아미노]-메틸}-페닐)-피라진-2-일-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드
18 N-(3-{4-[(메틸-페닐-아미노)-메틸]-페닐}-피라진-2-일)-2- 트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드
19 N-[3-(4-{[(4-시아노-페닐)-메틸-아미노]-메틸}-페닐)-피라진-2-일- 2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드
20 N-{3-[4-(4-플루오로-페녹시메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드
21 N-(3-{4-[(에틸-페닐-아미노)-메틸]-페닐}-피라진-2-일)-2- 트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드
22 N-{3-[4-(2,3-디하이드로-벤조[1,4]옥사진-4-일메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드
23 N-{3-[4-{[(3-플루오로-페닐)-메틸-아미노]-메틸}-페닐)-피라진-2-일]-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드
24 N-{3-[4-(6-클로로-피리딘-3-일옥시메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2- 트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드
25 N-{3-[4-(2-피리딘-2-일-인돌-1-일메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2- 트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드
26 N-{3-[4-(5-플루오로-인돌-1-일메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2- 트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드
27 N-[3-(4-페녹시메틸-페닐)-피라진-2-일]-2-트리플루오로메틸- 벤젠술폰아미드
28 N-[3-(4-{[(4-클로로-페닐)-메틸-아미노]-메틸}-페닐)-피라진-2-일]-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드
29 2-클로로-N-[3-(4-{[(4-시아노-페닐)-메틸-아미노]-메틸}-페닐)- 피라진-2-일]-벤젠술폰아미드
30 N-[3-(4-{{(3,4-디클로로-페닐)-메틸-아미노]-메틸}-페닐)-피라진- 2-일]-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드
31 N-{3-[4-(4-시아노-페녹시메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드
32 N-{3-[4-(6-플루오로-인돌-1-일메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2- 트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드
33 2-클로로-N-{3-[4-(5-메톡시-2-메틸-인돌-1-일메틸)-페닐]-피라진- 2-일}-벤젠술폰아미드
34 N-{3-[4-(4-메톡시-페녹시메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2- 트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드
35 N-(3-{4-[(벤질-피리딘-2-일-아미노)-메틸]-페닐}-피라진-2-일)-2- 클로로-벤젠술폰아미드
36 N-{3-[4-(2,3-디하이드로-인돌-1-일메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2- 트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드
37 N-[3-(4-{[(2,4-디클로로-페닐)-메틸-아미노]-메틸}-페닐)-피라진-2-일]-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드
38 N-{3-[4-(3-클로로-페녹시메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드
39 2-클로로-N-[3-(4-{[(2,4-디플루오로-페닐)-메틸-아미노]-메틸}-페닐)-피라진-2-일]-벤젠술폰아미드
40 N-{3-[4-(2-메틸-인돌-1-일메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2- 트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드
41 2-클로로-N-{3-[4-(5-플루오로-인돌-1-일메틸)-페닐]-피라진-2-일}- 벤젠술폰아미드
42 2-클로로-N-[3-(4-{[(2-플루오로-페닐)-메틸-아미노]-메틸}-페닐)- 피라진-2-일]-벤젠술폰아미드
43 2-클로로-N-{3-[4-(2-메틸-인돌-1-일메틸)-페닐]-피라진-2-일}- 벤젠술폰아미드
44 N-(3-{4-[(벤질-피리딘-2-일-아미노)-메틸]-페닐}-피라진-2-일)-2- 트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드
45 2-클로로-N-(3-{4-[(에틸-피리딘-2-일-아미노)-메틸]-페닐}-피라진-2-일)-벤젠술폰아미드
46 N-{3-[4-(5-클로로-2-메틸-인돌-1-일메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2- 트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드
두 번째 양태에서, 본 발명은 약학적으로 허용가능한 부형제 또는 담체와 함께, 화학식 (I)에 따른 2,3 치환된 피라진 술폰아미드를 포함하는 약학 조성물을 제공한다.
세 번째 양태에서, 본 발명은 알레르기성 천식, 알레르기성 비염, 알레르기성 결막염, 전신 아나필락시스 또는 과민 반응과 같은 알레르기성 질환, 및 아토피 피부염, 습진, 알레르기성 접촉 피부염, 두드러기, 근육염과 같은 염증성 피부병, 및 류마티스 관절염, 골관절염 및 염증성 장질환 (IBD)과 같은 염증성 요인을 지닌 다른 질환, 및 CTRH2 활성과 연관된 다른 질환 또는 질병으로부터 선택된 질환의 치료 및/또는 예방을 위한 약제 제조에 있어 화학식 (I)에 따른 2,3 치환된 피라진 술폰아미드의 용도를 제공한다.
네 번째 양태에서, 본 발명은 알레르기성 천식, 알레르기성 비염, 알레르기성 결막염, 전신 아나필락시스 또는 과민 반응과 같은 알레르기성 질환, 및 아토피 피부염, 습진, 알레르기성 접촉 피부염, 두드러기, 근육염과 같은 염증성 피부병, 신경병증성 통증과 같은 신경퇴행성질환, 및 류마티스 관절염, 다발성 경화증, 골관절염 및 염증성 장질환 (IBD)과 같은 다른 염증성 질환, 및 CTRH2 활성과 연관된 다른 질환 또는 질병으로부터 선택된 질환을 겪고 있는 환자에게 화학식 (I)에 따른 2,3 치환된 피라진 술폰아미드를 투여함으로서, 치료 및/또는 예방하는 방법에 관한 것이다.
본 명세서 사용된 용어 "예방"은 알레르기성 질환 또는 염증성 피부병의 하나 이상의 증상 또는 원인을 부분적으로 또는 전체적으로 예방, 억제, 완화, 또는 역전시키는 것으로 이해되어야만 한다.
다섯 번째 양태에서, 본 발명은 알레르기성 천식, 알레르기성 비염, 알레르기성 결막염, 전신 아나필락시스 또는 과민 반응과 같은 알레르기성 질환, 및 아토피 피부염, 습진, 알레르기성 접촉 피부염, 두드러기, 근육염과 같은 염증성 피부병, 신경병증성 통증과 같은 신경퇴행성질환, 및 류마티스 관절염, 다발성 경화증, 골관절염 및 염증성 장질환 (IBD)과 같은 다른 염증성 질환, 및 CTRH2 활성과 연관된 다른 질환 또는 질병으로부터 선택된 질환을 치료 및/또는 예방하는 것을 포함하여, 다양한 치료법에 유용한 약학 조성물의 제조를 위한 화학식 (I)의 2,3 치환된 피라진 술폰아미드의 용도를 제공한다.
또한, 본 발명은 알레르기성 천식, 알레르기성 비염, 알레르기성 결막, 전신 아나필락시스 또는 과민 반응염과 같은 알레르기성 질환, 및 아토피 피부염, 습진, 알레르기성 접촉 피부염, 두드러기, 근육염과 같은 염증성 피부병, 신경병증성 통증과 같은 신경퇴행성질환, 및 류마티스 관절염, 다발성 경화증, 골관절염 및 염증성 장질환 (IBD)과 같은 다른 염증성 질환, 및 CTRH2 활성과 연관된 다른 질환 또는 질병으로부터 선택된 질환을 치료 및/또는 예방하기 위한 화학식 (I)의 2,3 치환된 피라진 술폰아미드의 용도를 제공한다.
본 발명의 화합물은 종래에 이용된 항원보강제 (adjuvant), 담체, 희석제 또는 부형제와 함께, 약학 조성물 형태 및 그것의 단위 투여량 형태로 사용될 수도 있을 것이며, 그러한 형태는 경구용 정제 (tablet) 또는 충진된 캡슐 (capsule)과 같은 고체 형태, 또는 용액, 현탁액, 에멀젼, 엘릭시르 (elixir), 또는 그와 같은 것으로 충진된 캡슐과 같은 액체 형태 (모두 경구용), 또는 비경구용 (피하 투여를 포함) 멸균주사용 용액 형태이다. 그러한 약학 조성물 및 그것의 단위 투여량 형태는 부가 활성 화합물 또는 성분 (principle)과 함께 또는 그것들 없이 종래 비율로 구성 성분들을 포함할 수도 있으며, 그러한 단위 투여량 형태는 이용되도록 의도된 일일 투여량 범위와 동일한 양의 활성 성분의 어느 적합한 유효량을 포함할 수도 있을 것이다.
본 발명의 화학식 (I)에 따른 화합물은 일반적으로 약학 조성물 형태로 투여된다. 그러한 조성물은 약학 기술에서 잘 알려져 있는 방법으로 제조될 수 있으며, 적어도 하나의 활성 화합물을 포함한다. 일반적으로, 본 발명의 화합물은 약학적 유효량으로 투여된다. 실제로 투여되는 상기 화합물의 양은 일반적으로, 치료될 조건, 선택된 투여 경로, 투여되는 실제 화합물, 연령, 체중, 및 환자 개개인의 반응, 환자 증상의 중증도 등을 포함하는 관련된 정황에 비추어 의사에 의해 결정될 것이다.
본 발명의 약학 조성물은 경구, 직장 (rectal), 경피 (transdermal), 피하, 정맥내 (intravenous), 근육내 (intramuscular) 및 비강내 (intranasal)를 포함하는 다양한 경로로 투여될 수 있다. 경구 투여용 조성물은 벌크 (bulk) 액상 용액 또는 현탁액, 또는 벌크 분말 형태를 취할 수 있다. 하지만 더 일반적으로, 상기 조성물은 정확한 투여를 용이하게 하기 위하여 단위 투여량 형태로 나타낸다. 용어 "단위 투여량 형태"는 인간 대상자 및 다른 포유류에 대한 단일 투여량으로서 적합하게 물리적으로 분리시킨 단위 형태를 의미하는데, 각각의 단위 형태는 적합한 약학 부형제와 관련하여 바람직한 치료 효과를 얻도록 계산된 소정의 양의 활성 물질을 포함한다. 일반적인 단위 투여량 형태는 액체 조성물의 사전에 충진된 또는 측정된 앰플 (ampoule) 또는 시린지 (syringe), 또는 고체 조성물의 알약, 정제, 캡슐을 포함한다. 그러한 조성물에서, 본 발명에 따른 치환된 메틸렌 아미드 유도체는 일반적으로 최소 성분 (약 0.1 내지 50 중량% 또는 바람직하게는 1 내지 40 중량%)과 함께, 나머지는 다양한 매개체 또는 담체 그리고 바람직한 투여 형태를 형성하는데 유용한 보조물이다.
경구 투여에 적합한 액체 형태는 완충제 (buffer), 현탁액 및 분배제, 착색제 (colorant), 향미제 (flavor) 등의 적합한 수성 (aqueous) 또는 비수성 (nonaqueous) 매개체를 포함할 수도 있을 것이다. 고체 형태는, 예를 들어 다음의 성분 또는 유사한 성질을 지닌 화합물을 포함할 수도 있을 것이다: 미정질 셀룰로오스 (microcrystalline cellulose), 검 트라가칸트 (gum tragacanth) 또는 젤라틴 (gelatine); 전분 (starch) 또는 락토스 (lactose)와 같은 부형제; 알긴산 (alginic acid), 프리모겔 (Primogel), 또는 옥수수전분 (corn starch)과 같은 붕괴제 (disintegratimg agent); 스테아린산 마그네슘 (magnesium stearate)과 같은 윤활제 (lubricant); 콜로이드성 이산화규소 (colloidal silicon dioxide)와 같은 유동화제 (glidant); 슈크로스 (sucrose) 또는 사카린 (saccharin)과 같은 감미제 (sweetening agent); 또는 박하 (peppermint), 메틸 살리실산염 (salicylate), 또는 오렌지 향과 같은 향미제.
주사 가능 조성물은 일반적으로 주사 가능 무균 식염수 또는 포스페이트-완충 식염수 또는 당업자에게 알려져 있는 다른 주사 가능 담체에 바탕을 둔다. 위에서 언급했듯이, 그러한 조성물의 화학식 (I)의 치환된 메틸렌 아미드 유도체는 일반적으로 최소 성분으로서, 종종 0.05 내지 10 중량% 내이며, 나머지는 상기 주사 가능 담체 등이다.
위에서 설명한 경구 투여용 성분 또는 주사 가능 조성물은 단지 대표적인 것이다. 공정 기술뿐만 아니라 또 다른 물질들 등이, 여기서 참조문으로 통합된 레밍톤의 약학 과학 (Remington's Pharmaceutical Sciences, 20th Edition, 2000, Marck Publishing Company, Easton, Pennsylvania) 5부에 기재되어 있다.
본 발명의 화합물은 또한 지효성 (sustained release) 형태로 또는 지효성 약물 전달 시스템으로 투여될 수 있다. 또한, 대표적인 지효성 물질의 설명은 레밍톤의 약학 과학 (Remington's Pharaceutical Sciences)에 통합된 물질에서 발견될 수 있다.
여섯번째 양태에서, 본 발명은 화학식 (Ia)-(Id)의 신규한 2,3-치환된 피라진 술폰아미드를 제공하며, 여기서 A, R2, 및 R3은 상기 정의된 바와 같다. 화학식 (Ia)-(Id)의 신규한 화합물은 특히 다음으로 구성된 그룹의 화합물이다:
N-{3-[4-(1H-인돌-1-일메틸)페닐]피라진-2-일}-2-(트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드,
2-클로로-N-{3-[4-({메틸[4-(트리플루오로메톡시)페닐]아미노}-메틸)페닐]피라진-2-일}벤젠술폰아미드,
N-(3-{4-[(2-에틸-1H-벤즈이미다졸-1-일)메틸)페닐}피라진-2-일)-2-(트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드,
2-클로로-N-[3-(4-{[메틸(페닐)아미노]메틸}페닐)피라진-2-일]벤젠술폰아미드,
2-클로로-N-(3-{4-[(2-나프틸옥시)메틸]페닐}피라진-2-일)-벤젠술폰아미드,
2-클로로-N-{3-[4-(1H-인돌-1-일-일메틸)페닐]피라진-2-일}-벤젠술폰아미드,
2-클로로-N-(3-{4-[(5,6,7,8-테트라하이드로나프탈렌-2-일옥시)메틸]-페닐}피라진-2-일)벤젠술폰아미드,
2-클로로-N-(3-{4-[(2-에틸-1H-벤즈이미다졸-1-일)메틸]페닐}피라진-2-일)벤젠술폰아미드,
N-(3-{4-[(1,3-벤조디옥솔-5-일아미노)메틸]페닐}피라진-2-일)-2-(트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드,
N-[3-(4-{[3-메톡시벤질)옥시]메틸}페닐)피라진-2-일]-2-(트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드,
3-클로로-N-{3-[4-({메틸[4-(트리플루오로메톡시)페닐]아미노}-메틸)페닐]피라진-2-일}벤젠술폰아미드,
N-[3-(4-{[4-클로로페닐)(메틸)아미노]메틸}페닐)피라진-2-일]-티오펜-2-술폰아미드,
4-페녹시-N-{3-[4-(퀴놀린-2-일메틸)피페라진-1-일]피라진-2-일}-벤젠술폰아미드,
4-메틸-N-{3-[4-({메틸[4-(트리플루오로메톡시)페닐]아미노-메틸)페닐]피라진-2-일}벤젠술폰아미드,
4-클로로-N-[3-(4-{[메틸(페닐)아미노]메틸}페닐)피라진-2-일]-벤젠술폰아미드,
4-시아노-N-{3-[4-({메틸[4-(트리플루오로메톡시)페닐]-아미노}-메틸)페닐]피라진-2-일}벤젠술폰아미드,
N-[3-(4-{[(4-플루오로-페닐)-메틸-아미노]-메틸}-페닐)-피라진-2-일-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
N-(3-{4-[(메틸-페닐-아미노)-메틸]-페닐}-피라진-2-일)-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
N-[3-(4-{[(4-시아노-페닐)-메틸-아미노]-메틸}-페닐)-피라진-2-일-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
N-{3-[4-(4-플루오로-페녹시메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
N-(3-{4-[(에틸-페닐-아미노)-메틸]-페닐}-피라진-2-일)-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
N-{3-[4-(2,3-디하이드로-벤조[1,4]옥사진-4-일메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
N-{3-[4-{[(3-플루오로-페닐)-메틸-아미노]-메틸}-페닐)-피라진-2-일]-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
N-{3-[4-(6-클로로-피리딘-3-일옥시메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
N-{3-[4-(2-피리딘-2-일-인돌-1-일메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
N-{3-[4-(5-플루오로-인돌-1-일메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
N-[3-(4-페녹시메틸-페닐)-피라진-2-일]-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
N-[3-(4-{[(4-클로로-페닐)-메틸-아미노]-메틸}-페닐)-피라진-2-일]-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
2-클로로-N-[3-(4-{[(4-시아노-페닐)-메틸-아미노]-메틸}-페닐)-피라진-2-일]-벤젠술폰아미드,
N-[3-(4-{{(3,4-디클로로-페닐)-메틸-아미노]-메틸}-페닐)-피라진-2-일]-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
N-{3-[4-(4-시아노-페녹시메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
N-{3-[4-(6-플루오로-인돌-1-일메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
2-클로로-N-{3-[4-(5-메톡시-2-메틸-인돌-1-일메틸)-페닐]-피라진-2-일}-벤젠술폰아미드,
N-{3-[4-(4-메톡시-페녹시메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
N-(3-{4-[(벤질-피리딘-2-일-아미노)-메틸]-페닐}-피라진-2-일)-2-클로로-벤젠술폰아미드,
N-{3-[4-(2,3-디하이드로-인돌-1-일메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
N-[3-(4-{[(2,4-디클로로-페닐)-메틸-아미노]-메틸}-페닐)-피라진-2-일]-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
N-{3-[4-(3-클로로-페녹시메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
2-클로로-N-[3-(4-{[(2,4-디플루오로-페닐)-메틸-아미노]-메틸}-페닐)-피라진-2-일]-벤젠술폰아미드,
N-{3-[4-(2-메틸-인돌-1-일메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
2-클로로-N-{3-[4-(5-플루오로-인돌-1-일메틸)-페닐]-피라진-2-일}-벤젠술폰아미드,
2-클로로-N-[3-(4-{[(2-플루오로-페닐)-메틸-아미노]-메틸}-페닐)-피라진-2-일]-벤젠술폰아미드,
2-클로로-N-{3-[4-(2-메틸-인돌-1-일메틸)-페닐]-피라진-2-일}-벤젠술폰아미드,
2-클로로-N-{3-[4-(2-메틸-인돌-1-일메틸)-페닐]-피라진-2-일}-벤젠술폰아미드,
N-(3-{4-[(벤질-피리딘-2-일-아미노)-메틸]-페닐}-피라진-2-일)-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
2-클로로-N-(3-{4-[(에틸-피리딘-2-일-아미노)-메틸]-페닐}-피라진-2-일)-벤젠술폰아미드,
N-{3-[4-(5-클로로-2-메틸-인돌-1-일메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드.
일곱번째 양태에서, 본 발명은 화학식 (Ia)-(Id)에 따른 화합물의 합성 방법을 제공한다.
본 발명에서 예시된 2,3 치환된 술폰아미드는 다음의 일반적인 방법 및 절차를 사용하여 손쉽게 이용가능한 개시 물질로부터 제조될 수 있을 것이다. 일반적이거나 바람직한 실험 조건 (즉, 반응 온도, 시간, 시약의 몰 (mole), 용매 등)이 주어지더라도, 달리 언급되지 않는 한, 다른 실험 조건 또한 사용될 수 있다는 것이 이해될 것이다. 최적의 반응 조건은 사용된 특정 반응물질 또는 용매에 따라 다양하지만, 그러한 조건은 일반적인 최적화 절차를 사용하여, 당업자에 의해 결정될 수 있다.
화학식 (I)의 화합물을 제조하는 방법에 대한 일반적인 설명은 국제 공개공보 제WO04/058265호 (PCT/GB03/005668)에 기재되어 있다.
화학식 (Ia)-(Id)의 화합물을 얻기 위한 일반적인 합성 접근 방법이 하기 도식 1에 나타나 있다. 여기서, 일반식 (I)에 따른 2,3-치환된 피라진 술폰아미드 유도체는 시판가능한 2,3-디클로로피라진으로부터, 4 내지 5개의 화학 단계를 걸쳐 제조될 수 있을 것이다. 합성 프로토콜 (protocol)은 도식 1 내지 10에 약술되어 있다.
도식 1
Figure 112007079842438-PCT00012
더 구체적인 방법으로는, 술폰아미드 유도체 XXI (여기서, R2는 상기 정의된 바와 같음)를 2,3-디클로로피라진 II와 반응시켜, 대응하는 3-클로로피라진 술폰아미드 화합물 III을 얻는 것이다. 몇 가지 반응 조건이 상기 첫 번째 반응 단계를 수행하기 위해 이용될 수 있는데, 즉, 세슘 카르보네이트, 칼륨 카르보네이트 등과 같은 염기의 존재 하에 술폰아미드 유도체 XXI를 사용하는 것이다. 당업자에게 잘 알려진 표준 조건 또는 하기 도식 2에 나타난 조건을 사용하여, 종래의 열 (thermal) 또는 마이크로파 (microwave) 방법으로, 화합물 XXI 및 II의 고유 반응성에 따른 다양한 온도에서 NMP, DMF 또는 DMA와 같은 용매로 상기 반응을 수행할 수 있다:
도식 2
Figure 112007079842438-PCT00013
상기 술폰아미드 유도체 XXI를 시판되는 물질로부터 얻거나, 당업자에게 잘 알려진 표준 조건을 사용하여, 1시간 동안 실온에서 EtOH 또는 디옥산의 2M 암모늄 용액으로 대응하는 술포닐 클로라이드 XX를 처리하여 제조하거나, 또는 당업자에게 잘 알려진 표준 조건 또는 하기 도식 3에 나타난 조건을 사용하여, 종래의 열 방법 또는 마이크로파 기술로, 화합물 XXI의 고유 반응성에 따른 다양한 온도에서 수행하여 얻을 수 있다:
도식 3
Figure 112007079842438-PCT00014
상기 일반식 (Ia)에 따른 2,3-치환된 피라진 술폰아미드 유도체를 개시 물질과 빌딩 블록 (building block)의 이용성에 따라 연속적인 3 단계로 얻을 수 있다. 하나의 합성 경로가 도식 4에 나타나 있다. 1 단계에서, 보론산 XXII으로 3-클로로피라진 술폰아미드 화합물 III을 응축한 후, 2,3-치환된 피라진 술폰아미드 유도체 IVa를 분리한다. 팔라듐 (palladium) 디아세테이트 (diacetate)와 같은 적당한 팔라듐 촉매제의 존재 하에서, 디옥산, 메탄올과 같은 용매 또는 두 용매를 다양한 비율로 포함하는 용액에서 상기 반응을 수행할 수 있다. 당업자에게 잘 알려진 표준 조건을 사용하여, 종래의 열 방법 또는 마이크로파 기술로, 화합물 III의 고유 반응성에 따른 다양한 온도에서 상기 반응을 수행할 수 있다.
2 단계에서, 티오닐 클로라이드의 존재 하에서 중간 화합물 IVa를 염소처리 (chlorination)한 후, 상기 2,3-치환된 피라진 술폰아미드 유도체 Va (여기서, 치환기 R2는 상의 정의된 바와 같음)를 분리한다. 일반적으로, 당업자에게 잘 알려진 표준 조건을 사용하여, 디클로로메탄, 디클로로에탄 또는 DMF와 같은 용매로 실온에서 상기 반응을 수행한다.
3 단계에서, 도식 4에 나타난 대로, 상기 2,3-치환된 피라진 술폰아미드 유도체 Va를 다양한 친핵체 (nucleophile), 예를 들어 아민 XXIV 또는 알코올 XXV (여기서 R4, R5, R6는 각각 수소, 알킬, 아릴, 헤테로아릴, 시클로알킬, 헤테로시클로알킬로 구성된 그룹으로부터 선택되거나 또는 상기 그룹의 융합 고리 시스템이다.)로 처리하여, 기대된 2,3-치환된 피라진 술폰아미드 유도체 Ia를 얻을 수 있다. 상기 아민 XXIV 또는 알코올 XXV에 의한 벤질 모이어티의 클로라인 (chlorine) 원자의 친핵체 치환은, 예를 들어 DMF, THF와 같은 용매 또는 유사 용매에서 촉매제로 요오드화 테트라부틸암모늄 또는 요오드화 나트륨의 존재 또는 부재 하에, 무수 (anhydrous) 조건에서 수소화나트륨 또는 칼륨 tert-부톡사이드와 같은 적당한 염기로 처리하여 성취된다. 당업자에게 잘 알려진 표준 조건을 사용하여, 종래의 열 방법 또는 마이크로파 기술로, 화합물 Va, XXIV 및 XXV의 고유 반응성에 따른 다양한 온도에서 상기 반응을 수행할 수 있다.
도식 4
Figure 112007079842438-PCT00015
또한, 일반식 (Ia)에 따른 2,3-치환된 피라진 술폰아미드 유도체를 개시 물질 및 빌딩 블록의 이용성에 따라 연속적인 3 단계로 얻을 수 있다. 또 다른 합성 경로가 도식 5에 나타나 있다. 1 단계에서, 보론산 XXIII으로 3-클로피라진 술폰아미드 화합물 III을 응축한 후, 상기 2,3-치환된 피라진 술폰아미드 유도체 IVb를 분리한다. 팔라듐 디아세테이트와 같은 적당한 팔라듐 촉매제의 존재 하에서, 디옥산, 메탄올과 같은 용매 또는 두 용매를 다양한 비율로 포함하는 용액에서 상기 반응을 수행할 수 있다. 당업자에게 잘 알려진 표준 조건을 사용하여, 종래의 열 방법 또는 마이크로파 기술로 화합물 III의 고유 반응성에 따른 다양한 온도에서 상기 반응을 수행할 수 있다.
2 단계에서, 옥살릴 (oxalyl) 클로라이드의 존재 하에서 중간 화합물 IVb를 염소처리한 후, 또는 DIPEA 또는 트리에틸아민과 같은 염기의 존재 하에서 DCC, HATU 또는 무카야마 (Mukayama) 시약과 같은 적당한 결합 시약으로 화합물 IVb를 처리한 후에, 상기 2,3-치환된 피라진 술폰아미드 유도체 Vb (여기서, 치환기 R2는 상기 정의된 바와 같음)를 분리한다. 일반적으로, 당업자에게 잘 알려진 표준 조건을 사용하여, 디클로로메탄, 디클로로에탄 또는 DMF와 같은 용매로 실온에서 상기 반응을 수행한다.
3 단계에서, 도식 5에 나타난 대로, 2,3-치환된 피라진 술폰아미드 유도체 Vb를 다양한 친핵체, 예를 들어 아민 XXIV로 처리하여, 기대된 2,3-치환된 피라진 술폰아미드 유도체 Ia를 얻는다. 아미드 결합 형성은, DMF, THF와 같은 용매 또는 유사 용매에서, DIPEA 또는 트리에틸아민과 같은 적당한 염기로 처리하여 성취된다. 당업자에게 잘 알려진 표준 조건을 사용하여, 종래의 열 방법 또는 마이크로파 기술로 화합물 Vb 및 XXIV의 고유 반응성에 따른 다양한 온도에서 상기 반응을 수행할 수 있다.
도식 5
Figure 112007079842438-PCT00016
일반식 (Ib)에 따른 2,3-치환된 피라진 술폰아미드 유도체를 개시 물질 및 빌딩 블록의 이용성에 따라 연속적인 3 단계로 얻을 수 있다. 하나의 합성 경로가 도식 6에 나타나 있다. 1 단계에서, 보론산 XXVI로 3-클로로피라진 술폰아미드 화합물 III을 응축한 후, 2,3-치환된 피라진 술폰아미드 유도체 VIa를 분리한다. 팔라듐 디아세테이트와 같은 적당한 팔라듐 촉매제의 존재 하에서, 디옥산, 메탄올과 같은 용매 또는 두 용매를 다양한 비율로 포함하는 용액에서 상기 반응을 수행할 수 있다. 당업자에게 잘 알려진 표준 방법을 사용하여, 종래의 열 방법 또는 마이크로파 기술로, 화합물 III의 고유 반응성에 따른 다양한 온도에서 상기 반응을 수행할 수 있다.
2 단계에서, 티오닐 클로라이드의 존재 하에서 중간 화합물 VIa (여기서, 치환기 R2는 상기 정의된 바와 같음)를 염소처리한 후, 상기 2,3-치환된 피라진 술폰아미드 유도체 VIIa를 분리한다. 일반적으로, 당업자에게 잘 알려진 표준 조건을 사용하여, 디클로로메탄, 디클로로에탄 또는 DMF와 같은 용매로 실온에서 상기 반응을 수행한다.
3 단계에서, 도식 6에 나타난 대로, 2,3-치환된 피라진 술폰아미드 유도체 VIIa를 다양한 친핵체, 예를 들어 아민 XXIV 또는 알코올 XXV로 처리하여, 기대된 2,3-치환된 피라진 술폰아미드 유도체 Ib를 얻을 수 있다. 아민 XXIV 또는 알코올 XXV에 의한 벤질 모이어티의 클로라인 원자의 친핵체 치환은, 예를 들어 DMF, THF와 같은 용매 또는 유사 용매에서 촉매제로 요오드화 테트라부틸암모늄 또는 요오드화 나트륨의 존재 또는 부재 하에, 무수 조건에서 수소화나트륨 또는 칼륨 tert-부톡사이드와 같은 적당한 염기로 처리하여 성취된다. 당업자에게 잘 알려진 표준 조건을 사용하여, 종래의 열 방법 또는 마이크로파 기술로, 화합물 VIIa, XXIV 및 XXV의 고유 반응성에 따른 다양한 온도에서 상기 반응을 수행할 수 있다.
도식 6
Figure 112007079842438-PCT00017
또한, 일반식 (Ib)에 따른 2,3-치환된 피라진 술폰아미드 유도체를 개시 물질 및 빌딩 블록의 이용성에 따라 연속적인 3 단계로 얻을 수 있다. 또 다른 합성 경로가 도식 7에 나타나 있다. 1 단계에서, 보론산 XXVII로 3-클로로피라진 술폰아미드 화합물 III을 응축한 후, 2,3-치환된 피라진 술폰아미드 유도체 VIb를 분리한다. 팔라듐 디아세테이트와 같은 적당한 팔라듐 촉매제의 존재 하에서, 디옥산, 메탄올과 같은 용매 또는 두 용매를 다양한 비율로 포함하는 용액에서 상기 반응을 수행할 수 있다. 당업자에게 잘 알려진 표준 방법을 사용하여, 종래의 열 방법 또는 마이크로파 기술로, 화합물 III의 고유 반응성에 따른 다양한 온도에서 상기 반응을 수행할 수 있다.
2 단계에서, 옥살릴 클로라이드의 존재 하에서 중간 화합물 VIb (여기서, 치환기 R2는 상기 정의된 바와 같음)를 염소처리한 후, 또는 DIPEA 또는 트리에틸아민과 같은 염기의 존재 하에서 DCC, HATU 또는 무카야마 시약과 같은 적당한 결합 시약으로 화합물 VIb를 처리한 후에, 상기 2,3-치환된 피라진 술폰아미드 유도체 VIb 를 분리한다. 일반적으로, 당업자에게 잘 알려진 표준 조건을 사용하여, 디클로로메탄, 디클로로에탄 또는 DMF와 같은 용매로 실온에서 상기 반응을 수행한다.
3 단계에서, 도식 7에 나타난 대로, 2,3-치환된 피라진 술폰아미드 유도체 VIIb를 다양한 친핵체, 예를 들어 아민 XXIV로 처리하여, 기대된 2,3-치환된 피라진 술폰아미드 유도체 Ib를 얻을 수 있다. 아미드 결합 형성은, DMF, THF와 같은 용매 또는 유사 용매에서, DIPEA 또는 트리에틸아민과 같은 적당한 염기로 처리하여 성취된다. 당업자에게 잘 알려진 표준 조건을 사용하여, 종래의 열 방법 또는 마이크로파 기술로 화합물 VIIb 및 XXIV의 고유 반응성에 따른 다양한 온도에서 상기 반응을 수행할 수 있다.
도식 7
Figure 112007079842438-PCT00018
일반식 (Ic)에 따른 2,3-치환된 피라진 술폰아미드 유도체를 개시 물질 및 빌딩 블록의 이용성에 따라 연속적인 3 단계로 얻을 수 있다. 하나의 합성 경로가 도식 8에 나타나 있다. 1 단계에서, 보론산 XXVIII로 3-클로로피라진 술폰아미드 화합물 III을 응축한 후, 2,3-치환된 피라진 술폰아미드 유도체 VIIIa를 분리한다. 요오드화 구리 및 아세테이트 칼륨의 존재 하의 팔라듐 트리페닐 (triphenyl) 포스핀 (phosphine) 테트라키스 (tetrkis) 또는 Pd(Ph3)2Cl2와 같은 적당한 팔라듐 촉매제의 존재 하에서, 디옥산, DMF와 같은 용매 또는 두 용매를 다양한 비율로 포함하는 용액에서 상기 반응을 수행할 수 있다. 당업자에게 잘 알려진 표준 방법을 사용하여, 종래의 열 방법 또는 마이크로파 기술로, 화합물 III의 고유 반응성에 따른 다양한 온도에서 상기 반응을 수행할 수 있다.
2 단계에서, 티오닐 클로라이드의 존재 하에서 중간 화합물 VIIIa를 염소처리한 후, 상기 2,3-치환된 피라진 술폰아미드 유도체 IXa (여기서, 치환기 R2는 상기 정의된 바와 같음)를 분리한다. 일반적으로, 당업자에게 잘 알려진 표준 조건을 사용하여, 디클로로메탄, 디클로로에탄 또는 DMF와 같은 용매로 실온에서 상기 반응을 수행한다.
3 단계에서, 도식 8에 나타난 대로, 2,3-치환된 피라진 술폰아미드 유도체 IXa를 다양한 친핵체, 예를 들어 아민 XXIV 또는 알코올 XXV로 처리하여, 기대된 2,3-치환된 피라진 술폰아미드 유도체 Ic를 얻을 수 있다. 아민 XXIV 또는 알코올 XXV에 의한 벤질 모이어티의 클로라인 원자의 친핵체 치환은, 예를 들어 DMF, THF 와 같은 용매 또는 유사 용매에서 촉매제로 요오드화 테트라부틸암모늄 또는 요오드화 나트륨의 존재 또는 부재 하에, 무수 조건에서 수소화 나트륨 또는 칼륨 tert-부톡사이드와 같은 적당한 염기로 처리하여 성취된다. 당업자에게 잘 알려진 표준 조건을 사용하여, 종래의 열 방법 또는 마이크로파 기술로, 화합물 IXa, XXIV 및 XXV의 고유 반응성에 따른 다양한 온도에서 상기 반응을 수행할 수 있다.
도식 8
Figure 112007079842438-PCT00019
일반식 (Ic)에 따른 2,3-치환된 피라진 술폰아미드 유도체를 개시 물질 및 빌딩 블록의 이용성에 따라 연속적인 3 단계로 얻을 수 있다. 또 다른 합성 경로가 도식 9에 나타나 있다. 1 단계에서, 아세틸렌 XXIX로 3-클로로피라진 술폰아미드 화합물 III을 응축한 후, 2,3-치환된 피라진 술폰아미드 유도체 VIIIb를 분리한다. 요오드화 구리 및 아세테이트 칼륨의 존재 하의 팔라듐 트리페닐 포스핀 테트라키스 또는 Pd(Ph3)2Cl2와 같은 적당한 팔라듐 촉매제의 존재 하에서, 디옥산, DMF와 같은 용매 또는 두 용매를 다양한 비율로 포함하는 용액에서 상기 반응을 수행할 수 있다. 당업자에게 잘 알려진 표준 방법을 사용하여, 종래의 열 방법 또는 마이크로파 기술로, 화합물 III의 고유 반응성에 따른 다양한 온도에서 상기 반응을 수행할 수 있다.
2 단계에서, 옥살릴 클로라이드의 존재 하에서 중간 화합물 VIIIb를 염소처리한 후, 또는 DIPEA 또는 트리에틸아민과 같은 염기의 존재 하에서 DCC, HATU 또는 무카야마 시약과 같은 적당한 결합 시약으로 화합물 VIIIb를 처리한 후에, 상기 2,3-치환된 피라진 술폰아미드 유도체 IXb (여기서, 치환기 R2는 상기 정의된 바와 같음)를 분리한다. 일반적으로, 당업자에게 잘 알려진 표준 조건을 사용하여, 디클로로메탄, 디클로로에탄 또는 DMF와 같은 용매로 실온에서 상기 반응을 수행한다.
3 단계에서, 도식 9에 나타난 대로, 2,3-치환된 피라진 술폰아미드 유도체 IXb를 다양한 친핵체, 예를 들어 아민 XXIV로 처리하여, 기대된 2,3-치환된 피라진 술폰아미드 유도체 Ic를 얻을 수 있다. 아미드 결합 형성은, DMF, THF와 같은 용매 또는 유사 용매에서 DIPEA 또는 트리에틸아민과 같은 적당한 염기로 처리하여 성취된다. 당업자에게 잘 알려진 표준 조건을 사용하여, 종래의 열 방법 또는 마이크로파 기술로, 화합물 IXb 및 XXIV의 고유 반응성에 따른 다양한 온도에서 상기 반응을 수행할 수 있다.
도식 9
Figure 112007079842438-PCT00020
일반식 (Id)에 따른 2,3-치환된 피라진 술폰아미드 유도체를 개시 물질 및 빌딩 블록의 이용성에 따라 연속적인 3 단계로 얻을 수 있다. 하나의 합성 경로가 도식 10에 나타나 있다. 1 단계에서, 피페라진-1-카르복실산 tert-부틸 에스테르 XXX으로 3-클로피라진 술폰아미드 화합물 III을 응축한 후, 상기 2,3-치환된 피라진 술폰아미드 유도체 X를 분리한다. DIPEA 또는 트리에틸아민과 같은 적당한 염기의 존재 하에서, NMP, DMF와 같은 용매 또는 두 용매를 다양한 비율로 포함하는 용액에서 상기 반응을 수행할 수 있다. 당업자에게 잘 알려진 표준 조건을 사용하여, 종래의 열 방법 또는 마이크로파 기술로 화합물 III의 고유 반응성에 따른 다양한 온도에서 상기 반응을 수행할 수 있다.
2 단계에서, 다른 농도의 TFA 또는 HCl 용액을 사용하는 산성 조건 하에서 2,3-치환된 피라진 술폰아미드 유도체 XI (여기서, 치환기 R2는 탈보호됨)를 얻는다. 일반적으로, 당업자에게 잘 알려진 표준 조건을 사용하여, 디클로로메탄, 클로로에탄 또는 DMF와 같은 용매로 실온에서 상기 반응을 수행한다.
3 단계에서, 도식 10에 나타난 대로, 2,3-치환된 피라진 술폰아미드 유도체 X를 다양한 구전자기 (electrophile), 예를 들어 Cs2CO3, DIPEA 또는 트리에틸아민과 같은 적당한 염기의 존재 하에서 알킬 할로겐화물 (halide) XXXIa로, 또는 DCC, 무카야마 시약, PyBrop와 같은 적당한 결합 시약으로 처리하여 처음에 예비활성화된 아실 클로라이드 또는 카르복실산 XXXIb로 처리하여, 기대된 2,3-치환된 피라진 술폰아미드 유도체 Id를 얻는다. 알킬 할로겐화물 XXXIa 또는 아실 클로라이드 또는 카르복실산 XXXIb에 의한 할로겐화물 원자의 친핵체 치환 또는 아미드 결합 형성 각각은, 당업자에게 잘 알려진 표준 조건을 사용하여, 종래의 열 방법 또는 마이크로파 기술로 화합물 XI, XXXIa 및 XXXIb의 고유 반응성에 따른 다양한 온도에서 수행될 수 있다.
도식 10
Figure 112007079842438-PCT00021
다음의 약어는 하기 정의를 각각 의미한다:
min (minute: 분), h (hour: 시간), g (gram: 그램), MHz (Megahertz: 메가헤르츠), ml (milliliter: 밀리리터), mmol (millimole: 밀리몰), mM (millimolar: 밀리몰라), RT (room temperature: 실온), ATP (Adenoside Triphosphate: 아데노사이드 트리포스페이트), BSA (Bovine Serum Albumin: 소 혈청 알부민), DCM (Dichloromethane: 디클로로메탄), DCC (dicyclohexylcarbodiimide: 디시클로헥실 카르보디이미드), DIPEA (Diisopropyl ethylamine: 디이소프로필에틸아민), DMSO (Dimethyl sulfoxide: 디메틸 술폭사이드), Mukayama reagent (1-methyl-2-chloropyridinium iodide)[무카야마 시약(1-메틸-2-클로로피리디늄 요오드화물)], DMF (Dimethylformamide: 디메틸포름아미드), CsCO3 (Cesium Carbonate: 세슘 카르보네이트), cHex (Cyclohexanes: 시클로헥산), Et3N (Triethylamine: 트리에틸아민), EtOAc (Ethyl acetate: 에틸 아세테이트), EtOH (Ethanol: 에탄올), K2CO3 (potassium carbonate: 칼륨 카르보네이트), NaI (Sodium Iodine: 요오드화 나트륨), NaH (Sodium hydride: 수소화 나트륨), NaHCO3 (Sodium bicarbonate: 나트륨 비카르보네이트), NH4Cl (Ammonium chloride: 암모늄 클로라이드), TEA (Triethylamine: 트리에틸아민), TFA (Trifluoroacetic acid: 트리플루오로아세트 산), THF (Tetrahydrofuran: 테트라하이드로푸란), Pd(PPh3)4(Palladium triphenylphophine tetrakis: 팔라듐 트리페닐포스핀 테트라키스), CuI (Copper iodide: 요오드화 구리), Pd(OAc)2(Palladium II acetate: 팔라듐 II 아세테이트), Pd(PPh3)2 Cl2 (Bis(triphenylphosphine)Palladium II Chloride: Bis(트리페닐포스핀)팔라듐 II 클로라이드), CH3COOK (Potassium acetate: 아세테이트 칼륨), PPh3 (Triphenylphosphine: 트리페닐포스핀), HATU (N,N,N',N'-Tetrametyl-O-(7-Azabenzotriazol-1-yl)uranium hexafluorophophate: N,N,N',N'-테트라메틸-O-(7-아자벤조트리아졸-1-일)우라늄 헥사플루오로포스페이트), (CO)2Cl2 (Oxalyl Chloride: 옥살릴 클로라이드), SoCl2 (Thionyl chloride: 티오닐 클로라이드), tBuOK (Potassium tert-butoxide: 칼륨 tert-부톡사이드), MeOH (Methanol: 메탄올), MgSO4 (Magnesium sulfate: 마그네슘 술페이트), NMP N-Methyl pyrrolidinone (N-메틸 피롤리디논), PetEther (Petroleum ether: 석유 에테르), rt (room temperature: 실온). HPLC (High Perfomance Liquid chromatography: 고성능 액체 크로마토그래피), FC (Flash Chromatography on silica gel: 실리카 겔 섬광 크로마토그래피), MS (Mass Spectrometry: 질량 분광법), NMR (Nuclear Magnetic Resonance: 핵자기공명), PBS (Phosphate Buffered Saline: 포스페이트 완충 식염수), SPA (Scintillation Proximity Assay: 섬광 근접 분석), TLC (Thin Layer Chromatography: 얇은 막 크로마토그래피), UV (Ultraviolet: 자외선).
만일 상기 설정된 일반적인 합성 방법이 화학식 (I)에 따른 화합물 및/또는 화학식 (I)의 화합물 합성을 위해 필요한 중간체를 얻기에 적합하지 않다면, 당업자에게 알려진 적합한 제조 방법이 사용되어야만 한다. 일반적으로, 화학식 (I)의 개별적인 화합물에 대한 합성 경로는 분자 각각의 특이적 치환기 및 필요한 중간체의 즉각적인 이용성에 따라 다를 것이며; 그러한 요소들은 당업자에 의해 이해될 것이다. 모든 보호 및 탈보호 방법은 Philip J. Kocienski, in "Protecting Groups", Georg Thieme Verlag Stuttgart, New York, 1994 and, Theodora W. Greene and Peter G. M. Wuts in "Protective Groups in Organic Synthesis", Wiley Interscience, 3rd Edition 1999를 참조한다.
본 발명의 화합물은 적당한 용매의 증발로부터 결정화에 의해 용매 분자와 관련하여 분리될 수 있다. 염기 중심 (center)을 포함하는 화학식 (I) 화합물의 약학적으로 허용가능한 산 부가 염은 종래의 방법으로 제조될 수 있다. 예를 들어, 유리 (free) 염기 용액은 순수한 또는 적합한 용액에서 적합한 산으로 처리될 수 있으며, 그 결과로 얻어진 염은 상기 반응 용매의 진공 상태 하에서 여과 또는 증발에 의해 분리될 수 있다. 약학적으로 허용가능한 염기 부가 염은 적합한 염기로 화학식 (I)의 화합물 용액을 처리하여, 유사 방법으로 얻어질 수 있다. 두 가지 유형의 염은 이온-교환 수지 기술을 사용하여 형성되거나 상호전환될 수 있다.
이하에서, 본 발명은 본 발명의 범위를 제한하는 것으로 해석되지 않는 일부 실시예로 설명되어야 한다.
실험 부분
하기 설명된 실시예에 제공된 HPLC, NMR 및 MS 데이터를 다음과 같이 얻는다: HPLC: 컬럼 워터스 시메트리 (column Waters Symmetry) C8 50 x 4.6mm, 조건: MeCN/H2O, 5 내지 100% (8분), 최대 플롯 (plot) 230-400nm; 질량 스펙트럼: PE-SCIEX API 150 EX (APCI 및 ESI), LC/MS 스펙트럼: 워터스 (Waters) ZMD (ES); 1H-NMR: 브루커 (Bruker) DPX-300MHz.
제조용 HPLC 정제는 컬럼 프렙 (Prep) 노바-팩 (Nova-Pak)®HR C186μm 60Å, 40 x 30mm (최대 100mg) 또는 엑스테라 (XTerra)® 프렙 MS C8, 10μm, 50 x 300mm (최대 1g)이 장착된 HPLC 워터스 프렙 (Prep) LC 4000 시스템으로 수행한다. 모든 정제는 구배 MeCN/H2O 0.09% TFA로 수행한다. 반(semi)-제조용 역상 HPLC는 컬럼 수펠코실 (Supelcosil)TM ABZ + Plus (25cm x 21.2mm, 12μm); 254nm 및 220nm에서 UV 검출; 흐름 20mL/분 (최대 50mg)가 장착된 바이오타제 파랄렉스 플렉스 시스템 (Biotage Parallex Flex System)으로 수행한다. TLC 분석은 머크 프레코티드 (Merck Precoated) 60 F254 플레이트에서 수행한다. 섬광 크로마토그래피에 의한 정제는 용리액으로서 시클로헥산/EtOAc 또는 DCM/MeOH 혼합물을 사용하여, SiO2 지지 (support)에서 수행한다.
중간체 1: 2-( 트리플루오로메틸 ) 벤젠술폰아미드
(참조: 도식 3, 화합물 XXI)
Figure 112007079842438-PCT00022
무수 THF (5.00ml)의 2-(트리플루오메틸)벤젠술포닐 클로라이드 (5g; 20.44mmol; 1.00eq.) 용액에 에탄올 2M의 암모니아 71ml 용액을 실온에서 질소 하에 첨가하였다. 상기 반응 혼합물을 실온에서 20시간 동안 흔들었다. 상기 용매를 증발시키고, 잔여물을 EtOAc (150mL)로 재용해시킨 후, NH4Cl 포화 수용액 (50mL) 및 식염수 (50mL)로 세척하였다. 유기층을 MgSO4로 건조하고, 여과한 후, 상기 용매를 증발시켜, 순수한 2-(트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드를 노란빛을 띤 고체 (4.6g, 수율 89%, HPLC 순도 98.6%)로 얻었다. 상기 화합물을 다음 반응에 그대로 사용하였다.
1H NMR (300MHz, CDCl3); 5.0 (m, 2H), 7.6 (m, 2H), 7.8 (m, 1H), 8.3 (m, 1H). MS (ESI-): 224.1.
중간체 2: 2- 클로로 -N-(3- 클로로피라진 -2-일) 벤젠술폰아미드
(참조: 도식 2, 화합물 III)
Figure 112007079842438-PCT00023
2,3-디클로로피라진 (1g; 6.71mmol; 1.00eq.) 및 2-디클로로벤젠술폰아미드 (1.29g, 6.71mmol, 1.00eq.)을 NMP (9ml)에서 교반하였다. 상기 반응 혼합물에 세슘 카르보네이트 (2g, 6mmol, 0.90eq.)을 첨가하고, 상기 반응 혼합물을 교반한 후, 20시간 동안 최대 130℃까지 가열하였다. 상기 반응물을 실온까지 냉각한 후, 물 98ml을 첨가하고 AcOEt (2 x 30ml)로 세척하였다. 상기 수성 상을 시트르산으로 산성화하고 AcOEt (3 x 60ml)로 추출하였다. 상기 유기 추출물을 수집하고, 식염수 (10ml)로 세척한 후, MgSO4로 건조하고 아래로 증발시켰다. 잔여물을 45분간 AcOEt/cHex 2:8에서, AcOEt 100%까지의 구배로 섬광 마스터 (masater)로 정제하고, 여과 및 증발시킨 후, 상기 목적 화합물을 분리하였다. 상기 고체를 EtOAc:Chex (30:70)의 혼합물로 재결정화하여, 순수한 2-클로로-N-(3-클로로피라진-2-일)벤젠 술폰아미드를 노란빛을 띤 고체 (1g, 수율 49%, HPLC 순도 100%)로 얻었다.
1H NMR (300MHz, CDCl3); 7.3-7.5 (m,3H), 7.8-8.0 (m, 3H), 8.3 (m, 1H). MS (ESI+): 304.1; MS (ESI-): 302.0.
중간체 3: N-(3- 클로로피라진 -2-일)-2-( 트리플루오로메틸 ) 벤젠술폰아미드
(참조: 도식 2, 화합물 III)
Figure 112007079842438-PCT00024
상기 중간체 2의 일반적인 방법을 따르는데, 2,3-디클로로피라진 및 2-(트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드로부터 개시하여, 증발 및 재결정화한 후, 목적 화합물을 수율 63%의 (HPLC 순도 97%) 노란빛을 띤 고체로 얻었다.
1H NMR (300MHz, CDCl3); 7.6-7.8 (m,4H), 7.9-8.1 (m, 2H), 8.5 (m, 1H). MS (ESI+): 338.0; MS (ESI-): 336.0.
중간체 4: 2- 클로로 -N-{3-[4-( 하이드록시메틸 ) 페닐 ]피라진-2-일} 벤젠술폰아미드
(참조: 도식 4, 화합물 IVa)
Figure 112007079842438-PCT00025
2-클로로-N-(3-클로로피라진-2-일)벤젠술폰아미드 (2.2g, 7.23mmol, 1.00eq.) 및 4-하이드록시메틸 벤젠 보론산 (1.21g, 7.96mmol, 1.10eq.)를 사전에 가스가 제거된 디옥산:MeOH의 1:1 혼합물 48mL에서 용해시켰다. 칼륨 카르보네이트 (2.75g, 19.89mmol, 2.75eq.) 및 트리페닐포스핀 (284.58mg, 1.08mmol, 0.15eq.)를 질소 하에서 상기 반응 혼합물에 첨가한 후, 팔라듐 II (81.19mg, 0.36mmol, 0.05eq.)을 첨가하였다. 그런 후, 상기 반응 혼합물을 30분 동안 N2 하에 110℃에서 가열하였다. 상기 반응 혼합물을 실온까지 냉각한 후, 디에틸 에테르 (50mL) 및 물 (25mL)로 희석하고 셀라이트 (celite)로 여과시켰다. 수성 층을 분리하고 유기 층을 물 (50mL)로 세척하였다. 수집된 수용액을 디에틸 에테르 (50mL)로 세척한 후, 수성 층을 HCl 5N으로 산성화하고, AcOEt로 추출하였다. 유기 추출물을 수집한 후, 식염수 (10ml)로 세척하고, MgSO4로 건조하고 아래로 증발시켜, 순수한 2-클로로-N-{3-[4-(하이드록실메틸)페닐]피라진-2-일}벤젠 술폰아미드를 노란빛을 띤 고체 (2.5g, 수율 91%, HPLC 순도 98%)로 얻었다. 상기 화합물을 다음 반응에 그대로 사용하였다.
1H NMR (300MHz, CDCl3); 4.688 (m,2H), 7.5-7.7 (m, 7H), 8.1-8.2 (m, 3H), 8.3 (m, 1H). MS (ESI+): 376.1; MS (ESI-): 374.1.
중간체 5: 2- 트리플루오로메틸 -N-{3-[4-( 하이드록시메틸 ) 페닐 ]피라진-2-일}벤젠술폰아미드
(참조: 도식 4, 화합물 IVa)
Figure 112007079842438-PCT00026
상기 중간체 4의 일반적인 방법을 따르는데, N-(3-클로로피라진-2-일)-2-(트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드 및 4-하이드록시메틸 벤젠 보론산으로부 개시하여, 증발 및 재결정화한 후, 목적 화합물을 수율 85% (HPLC 순도 97%)의 노란빛을 띤 고체로 얻었다.
1H NMR (300MHz, CDCl3); 4.83 (m,2H), 7.5-7.9 (m, 8H), 8.1 (m, 1H), 8.3 (m, 1H), 8.64 (m, 1H). MS (ESI+): 410.3; MS (ESI-): 408.5.
중간체 6: 4-(3-{[(2- 클로로페닐 ) 술포닐 ]아미노}피라진-2-일)벤조산
(참조: 도식 5, 화합물 IVb)
Figure 112007079842438-PCT00027
중간체 4의 일반적인 방법을 따르는데, 2-클로로-N-(3-클로로피라진-2-일)벤젠술폰아미드 및 4-카르복시벤젠 보론산으로부터 개시하여, 증발 및 재결정화한 후, 목적 화합물을 수율 83% (HPLC 순도 96%)의 노란빛을 띤 고체로 얻었다.
1H NMR (300MHz, CDCl3); 7.5-7.7 (m,4H), 7.9-8.0 (m, 2H), 8.1-8.4 (m, 5H). MS (ESI+): 390.8; MS (ESI-): 388.9.
중간체 7: 4-(3-{[(2- 트리플루오로메틸페닐 ) 술포닐 ]아미노}피라진-2-일)벤조산
(참조: 도식 5, 화합물 IVb)
Figure 112007079842438-PCT00028
중간체 4의 일반적인 방법을 따르는데, N-(3-클로로피라진-2-일)-2-(트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드 및 4-카르복시벤젠 보론산을로부터 개시하여, 증발 및 재결정화한 후, 목적 화합물을 수율 80% (HPLC 순도 98%)의 노란빛을 띤 고체로 얻었다.
MS (ESI+): 424.4; MS (ESI-): 422.2.
중간체 8: 2- 클로로 -N-{3-[4-( 클로로메틸 ) 페닐 ]피라진-2-일}벤젠-술폰아미드
(참조: 도식 4, 화합물 Vb)
Figure 112007079842438-PCT00029
2-클로로-N-{3-[4-(하이드록시메틸)페닐]피라진-2-일}벤젠 술폰아미드 (3.15g, 8.4mmol, 1.00eq.)를 디클로로메탄 (80mL)에서 용해시키고, 티오닐 클로라이드 (8.5mL, 117mmol, 14eq.)를 적하하였다. 상기 반응 혼합물을 하룻밤 동안 교반하였다. 상기 반응 혼합물을 얼음/물 (200mL)에 조심스럽게 붓고, 깨끗한 층이 형성될 때까지 교반하였다. 상기 혼합물을 분리하고, 유기 층을 MgSO4로 건조한 후 아래로 증발시켜, AcOEt/시클로헥산으로 재결정화된 조 (crude) 고체를 얻어, 순수한 2-클로로-N-{3-[4-(클로로메틸)페닐]피라진-2-일}벤젠술폰아미드를 흰색 고체 (3.02g, 수율 95%, HPLC 순도 99%)로 얻었다.
1H NMR (300MHz, CDCl3); 4.69 (m,2H), 7.45-7.6 (m, 3H), 7.65-7.7 (m, 5H), 8.0 (m, 1H), 8.3 (m, 1H), 8.38 (m, 1H). MS (ESI+): 396.1; MS (ESI-): 393.1.
중간체 9: N-{3-[4-( 클로로메틸 ) 페닐 ]피라진-2-일}-2-( 트리플루오로메틸 ) 벤젠술폰아미드
(참조: 도식 4, 화합물 Vb)
Figure 112007079842438-PCT00030
중간체 8의 일반적인 방법을 따르는데, 2-트리플루오로메틸-N-{3-[4-(하이드록시메틸)페닐]피라진-2-일}벤젠 술폰아미드 및 티오닐 클로라이드로부터 개시하여, 증발 및 재결정화한 후, 목적 화합물을 수율 96% (HPLC 순도 97%)의 흰색 고체로 얻었다.
MS (ESI+):428.9; MS (ESI-): 426.7.
중간체 10: N-[3-(3- 하이드록시프로프 -1-인-1-일)피라진-2-일]-2-( 트리플루오로메틸 ) 벤젠술폰아미드
(참조: 도식 8, 화합물 VIIIa)
Figure 112007079842438-PCT00031
방법 A:
N-(3-클로로피라진-2-일)-2-(트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드 (1.35g, 4.0mmol, 1.00eq.) 및 2-프로핀-1-올 (336mg, 6.0mmol, 1.5eq.)을 질소 대기 하에 DMF 10ml에서 용해시켰다. 상기 반응 혼합물에 CH3COOK (588mg, 6.0mmol, 1.5eq.) 및 Pd(PPh3)4(232mg; 0.2mmol)을 질소 하에 첨가하였다. 그런 후, 상기 반응 혼합물을 2시간 동안 질소 하에 100℃에서 가열하였다. 상기 용매를 진공상태에서 증류시켜 제거한 후, 잔여물을 물 (40mL)로 분쇄하여, 디에틸 에테르 (3 x 30mL)로 추출하였다. 유기 층을 MgSO4로 건조하고 아래로 증발시켰다. 조생성물을 헥산 및 AcOEt의 혼합물을 사용하여, 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피로 정제하여, 순수한 N-[3-(3-하이드록시프로프-1-인-1-일)피라진-2-일]-2-(트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드를 노란빛을 띤 고체 (686mg, 수율 48%, HPLC 순도 98%)로 얻었다.
방법 B:
N-(3-클로로피라진-2-일)-2-(트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드 (1.35g, 4.0mmol, 1.00eq.) 및 2-프로핀-1-올(336mg, 6.0mmol, 1.5eq.)를 질소 대기 하에 DMF 10mL에서 용해시켰다. 상기 반응 혼합물에 CH3COOK (588mg, 6.0mmol, 1.5eq.) CuI (40mg, 0.2mmol, 0.05eq.) 및 Pd(PPh3)2Cl2 (28mg, 0.04mmol)을 질소 하에 첨가하였다. 그런 후, 상기 반응 혼합물을 2시간 동안 질소 하에 100℃에서 가열하였다. 상기 용매를 진공상태에서 증류시켜 제거한 후, 잔여물을 물 (40mL)로 분쇄하여, 디에틸 에테르 (3 x 30mL)로 추출하였다. 유기 층을 MgSO4로 건조하고 아래로 증발시켰다. 조생성물을 헥산 및 AcOEt의 혼합물을 사용하여, 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피로 정제하여, 순수한 N-[3-(3-하이드록시프로프-1-인-1-일)피라진-2-일]-2-(트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드를 노란빛을 띤 고체 (702mg, 수율 50%, HPLC 순도 98%)로 얻었다.
MS (ESI+): 358.6; MS (ESI-): 356.5.
중간체 11: N-(3-피페라진-1- 일피페라진 -2-일)-2-( 트리플루오로메틸 ) 벤젠술폰아미드
(참조: 도식 10, 화합물 XI)
Figure 112007079842438-PCT00032
tert-부틸 4-[3-({[2-(트리플루오로메틸)페닐]술포닐}아미노)피라진-2-일]피페라진-1-카르복시레이트 (1.46g, 3mmol)를 디클로로메탄 (50mL)에서 용해시키고, 트리플루오로아세트산 (4.5g, 40mmol)을 0℃에서 첨가하였다. 상기 반응 혼합물을 2시간 동안 교반하였다. 상기 용매를 증발시키고, 잔여물을 디클로로메탄 (50ml)에서 재용해시킨 후, 증발시켜 건조하여, 기대된 생성물 N-(3-피페라진-1-일피라진-2-일)-2-(트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드를 노란빛을 띤 고체 (1.1g, 수율 95%, HPLC 순도 95%)로 얻었다.
MS (ESI+): 388.4; MS (ESI-): 386.3.
실시예 1: 일반식 (I)의 2,3-치환된 피라진 술폰아미드 유도체의 합성 절차 [여기서, A 및 Z는 상기 정의된 바와 같음](도식 1, 4, 5, 6, 7, 8, 9 및 10): N-{3-[4-(1H-인돌-1- 일메틸 ) 페닐 ]피라진-2-일}-2-( 트리플루오로메틸 )벤젠 술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00033
방법 A:
디메틸포름아미드 (10mL)의 1H-인돌 (234mg, 2.0mmol, 1eq.) 용액에 수소화 나트륨 (80mg, 2mmol, 1eq.)을 첨가하였다. 수소의 전개가 멈춘 후, 디메틸포름아미드 (5mL)의 N-{3-[4-(클로로메틸)페닐]피라진-2-일}-2-(트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드 (중간체 26)(854mg, 2mmol, 1eq.)을 첨가하고, 상기 반응 혼합물을 3시간 동안 80℃에서 가열하였다. 상기 반응물을 냉각한 후, 물 30mL로 희석하고 디에틸 에테르로 추출하였다. 유기 층을 MgSO4로 건조하고 증발시킨 후, AcOEt 및 시클로헥산으로 세척분리하는 실리카 겔 섬광 크로마토그래피로 정제하여, 순수한 N-{3-[4-(1H-인돌-1-일메틸)페닐]피라진-2-일}-2-(트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드를 노란색 고체 (630mg, 1.24mmol, 수율 62%, HPLC 순도 97%)로 얻었다.
방법 B
N-{3-[4-(클로로메틸)페닐]피라진-2-일}-2-(트리플루오로메틸)벤젠 술폰아미드 (중간체 26)(854mg, 2mmol, 1eq.) 및 1H-인돌 (234mg, 2.0mmol, 1eq)을 테트라 하이드로푸란 (20mL)에서 흔들고 10분 동안 50℃까지 가열하였다. 상기 반응 혼합물에 칼륨 tert-부톡사이드 (THF의 1M 용액 4.5mL)를 첨가하였다. 상기 반응 혼합물을 5시간 동안 50℃에서 유지한 후, 실온까지 냉각시켰다. 상기 반응 혼합물을 수성 시트르산 용액 (물 100mL의 20g) 10mL로 처리한 후, AcOEt로 추출하였다. 유기 층을 MgSO4로 건조하고 증발시켰다. 조물질을 방법 A와 유사하게 정제하여, 순수한 N-{3-[4-(1H-인돌-1-일메틸)페닐]피라진-2-일}-2-(트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드를 노란색 고체 (691mg, 1.36mmol, 수율 68%, HPLC 순도 98%)로 얻었다.
N-{3-[4-(1H-인돌-1- 일메틸 ) 페닐 ]피라진-2-일}-2-( 트리플루오로메틸 )벤젠
술폰아미드: 노란색 고체; 1H NMR (300MHz, CDCl3); 5.50 (m, 2H), 6.5 (m, 1H), 7.0-7.2 (m, 2H), 7.4-7.65 (m, 8H), 7.65-7.7 (m, 2H), 8.0 (m, 2H), 8.3 (m, 1H), 8.38 (m, 1H). MS (ESI+): 509.5, MS (ESI-): 507.6.
실시예 2: 2- 클로로 -N-{3-[4-({메틸[4-(트리플루오로메톡시)페닐]아미노}-메틸)- 페닐 ]피라진-2-일} 벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00034
실시예 1 (방법 B)의 일반적인 방법을 따르는데, 2-클로로-N-{3-[4-(클로로메틸)페닐]피라진-2-일}벤젠술폰아미드 (중간체 8) 및 N-메틸-4-(트리플루오로메톡 시)아닐린으로부터 개시하여, 목적 화합물을 수율 72% (HPLC 순도 99%)의 노란색 고체로 얻었다.
MS (ESI+): 550.1; MS (ESI-): 547.8.
실시예 3: N-(3-{4-[(2-에틸-1H- 벤즈이미다졸 -1-일) 메틸 ] 페닐 }피라진-2-일)-2-(트 리플루오로메 틸) 벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00035
실시예 1 (방법 B)의 일반적인 방법을 따르는데, N-{3-[4-(클로로메틸)페닐]피라진-2-일}-2-(트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드 (중간체 9) 및 2-에틸벤즈이미다졸로부터 개시하여, 목적 화합물을 수율 63% (HPLC 순도 96%)의 노란색 고체로 얻었다.
MS (ESI+): 538.6; MS (ESI-): 536.5.
실시예 4: 2- 클로로 -N-[3-(4-{[메틸(페닐)아미노]메틸}페닐)피라진-2-일]-벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00036
실시예 1 (방법 B)의 일반적인 방법을 따르는데, 2-클로로-N-{3-[4-(클로로메틸)페닐]피라진-2-일}벤젠술폰아미드 (중간체 8) 및 N-메틸-아닐린으로부터 개시하여, 목적 화합물을 수율 83% (HPLC 순도 99%)의 노란색 고체로 얻었다.
MS (ESI+): 465.6; MS (ESI-): 463.8.
실시예 5: 2- 클로로 -N-(3-{4-[(2- 나프틸옥시 ) 메틸 ]페닐}피라진-2-일)벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00037
실시예 1 (방법 A)의 일반적인 방법을 따르는데, 2-클로로-N-{3-[4-(클로로메틸)페닐]피라진-2-일}벤젠술폰아미드 (중간체 8) 및 2-하이드록시 나프탈렌으로부터 개시하여, 목적 화합물을 수율 72% (HPLC 순도 99%)의 노란색 고체로 얻었다.
MS (ESI+): 503.4; MS (ESI-): 501.2.
실시예 6: 2- 클로로 -N-{3-[4-(1H-인돌-1- 일메틸 ) 페닐 ]피라진-2-일} 벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00038
실시예 1 (방법 B)의 일반적인 방법을 따르는데, 2-클로로-N-{3-[4-(클로로메틸)페닐]피라진-2-일}벤젠술폰아미드 (중간체 8) 및 1-H-인돌로부터 개시하여, 목적 화합물을 수율 71% (HPLC 순도 98%)의 노란색 고체로 얻었다.
MS (ESI+): 475.9; MS (ESI-): 473.5.
실시예 7: 2- 클로로 -N-(3-{4-[(5,6,7,8- 테트라하이드로나프탈렌 -2- 일옥시 ) 메 틸]- 페닐 }-피라진-2-일) 벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00039
실시예 1 (방법 B)의 일반적인 방법을 따르는데, 2-클로로-N-{3-[4-(클로로메틸)페닐]피라진-2-일}벤젠술폰아미드 (중간체 8) 및 6-하이드록시-1,2,3,4-테트라하이드로나프탈렌으로부터 개시하여, 목적 화합물을 수율 69% (HPLC 순도 99%)의 노란색 고체로 얻었다.
MS (ESI+): 507.6; MS (ESI-): 505.2.
실시예 8: 2- 클로로 -N-(3-{4-[(2-에틸-1H- 벤즈이미다졸 -1-일)메틸]페닐}피라 진-2-일) 벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00040
실시예 1 (방법 B)의 일반적인 방법을 따르는데, 2-클로로-N-{3-[4-(클로로메틸)페닐]피라진-2-일}벤젠술폰아미드 (중간체 8) 및 2-에틸 벤즈이미다졸로부터 개시하여, 목적 화합물을 수율 65% (HPLC 순도 96%)의 노란색 고체로 얻었다.
MS (ESI+): 505.4; MS (ESI-): 503.2.
실시예 9: N-(3-{4-[(1,3- 벤조디옥솔 -5- 일아미노 ) 메틸 ] 페닐 }피라진-2-일)-2-(트 리플루오로메틸 ) 벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00041
실시예 1 (방법 B)의 일반적인 방법을 따르는데, N-{3-[4-(클로로메틸)페닐]피라진-2-일}-2-(트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드 (중간체 9) 및 3,4-(메틸렌디옥시)아닐린으로부터 개시하여, 목적 화합물을 수율 69% (HPLC 순도 96%)의 노란색 고체로 얻었다.
MS (ESI+): 529.7; MS (ESI-): 527.5.
실시예 10: N-[3-(4-{[(3-메톡시벤질) 옥시 ] 메틸 } 페닐 )피라진-2-일]-2-( 트리플루오로메틸 ) 벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00042
실시예 1 (방법 B)의 일반적인 방법을 따르는데, N-{3-[4-(클로로메틸)페닐]피라진-2-일}-2-(트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드 (중간체 9) 및 3-아니실 알코올로부터 개시하여, 목적 화합물을 수율 64% (HPLC 순도 92%)의 노란색 고체로 얻었다.
MS (ESI+): 530.4; MS (ESI-): 528.8.
실시예 11: 3- 클로로 -N-{3-[4-({메틸[4-( 트리플루오로메톡시 ) 페닐 ]아미노} 메틸 ) 페닐 ]피라진-2-일} 벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00043
실시예 1 (방법 B)의 일반적인 방법을 따르는데, 3-클로로-N-{3-[4-(클로로메틸)페닐]피라진-2-일}벤젠술폰아미드 및 N-메틸-4-(트리플루오로메톡시)아닐린으로터 개시하여, 목적 화합물을 수율 69% (HPLC 순도 94%)의 노란색 고체로 얻었다.
MS (ESI+): 550.2; MS (ESI-): 547.6.
실시예 12: N-[3-(4-{[(4- 클로로페닐 )( 메틸 )아미노] 메틸 } 페닐 )피라진-2-일]티오펜-2-술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00044
실시예 1 (방법 B)의 일반적인 방법을 따르는데, N-{3-[4-(클로로메틸)페닐]피라진-2-일}티오펜-2-술폰아미드 및 N-메틸-4-클로로 아닐린으로부터 개시하여, 목적 화합물을 수율 69% (HPLC 순도 94%)의 노란색 고체로 얻었다.
MS (ESI+): 472.8; MS (ESI-): 470.7.
실시예 13: 4- 페녹시 -N-{3-[4-(퀴놀린-2- 일메틸 )피페라진-1-일]피라진-2-일}- 벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00045
디메틸포름아미드 (10mL)의 4-페톡시-N-(3-피페라진-1-일피라진-2-일)벤젠술폰아미드 (411mg, 1.0mmol, 1eq) 용액에 2-(클로로메틸) 퀴놀린 하이드로클로라이드 (214mg, 1mmol, 1eq) 및 DIPEA (322mg, 2.5mmol, 2.5eq)을 첨가하였다. 상기 반응 혼합물을 1시간 동안 50℃까지 가열하였다. 상기 반응물을 냉각하고, 물 30mL로 희석한 후, 디에틸 에테르로 추출하였다. 유기 층을 MgSO4로 건조하고 증발시킨 후, AcOEt 및 시클로헥산으로 세척분리하는 실리카 겔 섬광 크로마토그래피로 정제하여, 순수한 4-페녹시-N-{3-[4-(퀴놀린-2-일메틸)피페라진-1-일]피라진-2-일}벤젠술폰아미드를 노란색 고체 (419mg, 0.76mmol, 수율 76%, HPLC 순도 97%)로 얻었다.
MS (ESI+): 553.6; MS (ESI-): 551.2.
실시예 14: 4- 메틸 -N-{3-[4-({메틸[4-( 트리플루오로메톡시 ) 페닐 ]아미노}- 메틸 ) 페닐 ]피라진-2-일} 벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00046
실시예 1 (방법 B)의 일반적인 방법을 따르는데, N-{3-[4-(클로로메틸)페닐]피라진-2-일}-4-메틸벤젠술폰아미드 및 N-메틸-4-(트리플루오로메톡시)아닐린으로부터 개시하여, 목적 화합물을 수율 69% (HPLC 순도 94%)의 노란색 고체로 얻었다.
MS (ESI+): 529.5; MS (ESI-): 526.6.
실시예 15: 4- 클로로 -N-[3-(4-{[메틸( 페닐 )아미노] 메틸 } 페닐 )피라진-2-일]-벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00047
실시예 1 (방법 B)의 일반적인 방법을 따르는데, 4-클로로-N-{3-[4-(클로로 메틸)페닐]피라진-2-일}벤젠술폰아미드 및 N-메틸-아닐린으로부터 개시하여, 목적 화합물을 수율 76% (HPLC 순도 96%)의 노란색 고체로 얻었다.
MS (ESI+): 465.6; MS (ESI-): 463.7.
실시예 16: 4- 시아노 -N-{3-[4-({메틸[4-( 트리플루오로메톡시 ) 페닐 ]아미노}-메틸) 페닐 ]피라진-2-일} 벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00048
실시예 1 (방법 B)의 일반적인 방법을 따르는데, N-{3-[4-(클로로메틸)페닐]피라진-2-일}-4-시아노벤젠술폰아미드 및 N-메틸-4-(트리플루오로메톡시)아닐린으로부터 개시하여, 목적 화합물을 수율 70% (HPLC 순도 92%)의 노란색 고체로 얻었다.
MS (ESI+): 540.6; MS (ESI-): 538.5.
실시예 17: N-[3-(4-{[(4- 플루오로 - 페닐 )- 메틸 -아미노]- 메틸 }- 페닐 )-피라진-2-일]-2- 트리플루오로메틸 - 벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00049
실시예 1 (방법 B)의 일반적인 방법을 따르는데, N-{3-[4-(클로로메틸)페닐]피라진-2-일}-2-(트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드 (중간체 9) 및 4-플루오로-N-메틸아닐린으로부터 개시하여, 목적 화합물을 수율 78% (HPLC 순도 98%)의 노란색 고체로 얻었다.
MS (ESI+): 517.9; MS (ESI-): 515.8.
실시예 18: N-(3-{4-[( 메틸 - 페닐 -아미노)- 메틸 ]- 페닐 }-피라진-2-일)-2- 트리플루오로메틸 - 벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00050
실시예 1 (방법 B)의 일반적인 방법을 따르는데, N-{3-[4-(클로로메틸)페닐]피라진-2-일}-2-(트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드 (중간체 9) 및 N-메틸아닐린으로부터 개시하여, 목적 화합물을 수율 75% (HPLC 순도 99%)의 노란색 고체로 얻었다.
MS (ESI+): 499.9; MS (ESI-): 497.8.
실시예 19: N-[3-(4-{[(4- 시아노 - 페닐 )- 메틸 -아미노]- 메틸 }- 페닐 )-피라진-2-일]-2- 트리플루오로메틸 - 벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00051
실시예 1 (방법 B)의 일반적인 방법을 따르는데, N-{3-[4-(클로로메틸)페닐]피라진-2-일}-2-(트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드 (중간체 9) 및 4-(N-메틸아미노)벤조니트릴로부터 개시하여, 목적 화합물을 수율 71% (HPLC 순도 94%)의 노란색 고체로 얻었다.
MS (ESI+): 524.6; MS (ESI-): 522.4.
실시예 20: N-{3-[4-(4- 플루오로 - 페톡시메틸 )- 페닐 ]-피라진-2-일}-2- 트리플루오로메틸 - 벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00052
실시예 1 (방법 A)의 일반적인 방법을 따르는데, N-{3-[4-(클로로메틸)페닐]피라진-2-일}-2-(트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드 (중간체 9) 및 4-플루오로페놀로부터 개시하여, 목적 화합물을 수율 67% (HPLC 순도 95%)의 노란색 고체로 얻었다.
MS (ESI+): 504.6; MS (ESI-): 502.6.
실시예 21: N-(3-{4-[(에틸- 페닐 -아미노)- 메틸 ]- 페닐 }-피라진-2-일)-2-트리 플루오로메틸- 벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00053
실시예 1 (방법 B)의 일반적인 방법을 따르는데, N-{3-[4-(클로로메틸)페닐]피라진-2-일}-2-(트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드 (중간체 9) 및 N-에틸아닐린으로부터 개시하여, 목적 화합물을 수율 70% (HPLC 순도 96%)의 노란색 고체로 얻었다.
MS (ESI+): 513.6; MS (ESI-): 511.7.
실시예 22: N-{3-[4-(2,3- 디하이드로 - 벤조[1,4]옥사진 -4- 일메틸 )- 페닐 ]-피라진-2-일}-2- 트리플루오로메틸 - 벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00054
실시예 1 (방법 B)의 일반적인 방법을 따르는데, N-{3-[4-(클로로메틸)페닐]피라진-2-일}-2-(트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드 (중간체 9) 및 3,4-디하이드로-2H-1,4-벤즈옥사진으로부터 개시하여, 목적 화합물을 수율 65% (HPLC 순도 97%)의 노란색 고체로 얻었다.
MS (ESI+): 527.7; MS (ESI-): 525.5.
실시예 23: N-[3-(4-{[(3- 플루오로 - 페닐 )- 메틸 -아미노]- 메틸 }- 페닐 )-피라진-2-일]-2- 트리플루오로메틸 - 벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00055
실시예 1 (방법 B)의 일반적인 방법을 따르는데, N-{3-[4-(클로로메틸)페닐]피라진-2-일}-2-(트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드 (중간체 9) 및 3-플루오로-N-메틸아닐린으로부터 개시하여, 목적 화합물을 수율 69% (HPLC 순도 92%)의 노란색 고체로 얻었다.
MS (ESI+): 517.7; MS (ESI-): 515.6.
실시예 24: N-{3-[4-(6- 클로로 -피리딘-3- 일옥시메틸 )- 페닐 ]-피라진-2-일}-2-트리플루오로메틸- 벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00056
실시예 1 (방법 A)의 일반적인 방법을 따르는데, N-{3-[4-(클로로메틸)페닐]피라진-2-일}-2-(트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드 (중간체 9) 및 2-클로로-5-하이드록시-피리딘으로부터 개시하여, 목적 화합물을 수율 73% (HPLC 순도 98%)의 노란색 고체로 얻었다.
MS (ESI+): 522.1; MS (ESI-): 520.1.
실시예 25: N-{3-[4-(2-피리딘-2-일-인돌-1- 일메틸 )- 페닐 ]-피라진-2-일}-2-트리플루오로메틸- 벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00057
실시예 1 (방법 A)의 일반적인 방법을 따르는데, N-{3-[4-(클로로메틸)페닐]피라진-2-일}-2-(트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드 (중간체 9) 및 2-피리딘-2-일-1H-인돌로부터 개시하여, 목적 화합물을 수율 56% (HPLC 순도 92%)의 노란색 고체로 얻었다.
MS (ESI+): 586.8; MS (ESI-): 584.6.
실시예 26: N-{3-[4-(5- 플루오로 -인돌-1- 일메틸 )- 페닐 ]-피라진-2-일}-2-트리플루오로메틸- 벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00058
실시예 1 (방법 A)의 일반적인 방법을 따르는데, N-{3-[4-(클로로메틸)페닐]피라진-2-일}-2-(트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드 (중간체 9) 및 5-플루오로-인돌 로부터 개시하여, 목적 화합물을 수율 69% (HPLC 순도 99%)의 노란색 고체로 얻었다.
MS (ESI+): 527.6; MS (ESI-): 525.7.
실시예 27: N-[3-(4- 페녹시메틸 - 페닐 )-피라진-2-일]-2- 트리플루오로메틸 - 벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00059
실시예 1 (방법 A)의 일반적인 방법을 따르는데, N-{3-[4-(클로로메틸)페닐]피라진-2-일}-2-(트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드 (중간체 9) 및 페놀로부터 개시하여, 목적 화합물을 수율 75% (HPLC 순도 98%)의 노란색 고체로 얻었다.
MS (ESI+): 486.8; MS (ESI-): 484.7.
실시예 28: N-[3-(4-{[(4- 클로로 - 페닐 )- 메틸 -아미노]- 메틸 }- 페닐 )-피라진-2-일]-2- 트리플루오로메틸 - 벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00060
실시예 1 (방법 B)의 일반적인 방법을 따르는데, N-{3-[4-(클로로메틸)페닐] 피라진-2-일}-2-(트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드 (중간체 9) 및 4-클로로-N-메틸아닐린으로부터 개시하여, 목적 화합물을 수율 72% (HPLC 순도 94%)의 노란색 고체로 얻었다.
MS (ESI+): 534.1; MS (ESI-): 532.1.
실시예 29: 2- 클로로 -N-[3-(4-{[(4- 시아노 - 페닐 )- 메틸 -아미노]- 메틸 }- 페닐 )-피라진-2-일]- 벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00061
실시예 1 (방법 B)의 일반적인 방법을 따르는데, N-{3-[4-(클로로메틸)페닐]피라진-2-일}-2-(클로로)벤젠술폰아미드 (중간체 8) 및 4-(N-메틸아미노)-벤조니트릴로부터 개시하여, 목적 화합물을 수율 52% (HPLC 순도 99%)의 노란색 고체로 얻었다.
MS (ESI+): 491.0; MS (ESI-): 489.0.
실시예 30: N-[3-(4-{[(3,4- 디클로로 - 페닐 )- 메틸 -아미노]- 메틸 }- 페닐 )-피라진-2-일]-2- 트리플루오로메틸 - 벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00062
실시예 1 (방법 B)의 일반적인 방법을 따르는데, N-{3-[4-(클로로메틸)페닐]피라진-2-일}-2-(트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드 (중간체 9) 및 3,4-디클로로-N-메틸아닐린으로부터 개시하여, 목적 화합물을 수율 63% (HPLC 순도 91%)의 노란색 고체로 얻었다.
MS (ESI+): 569.6; MS (ESI-): 565.1.
실시예 31: N-{3-[4-(4- 시아노 - 페녹시메틸 )- 페닐 ]-피라진-2-일}-2-트리플루오로메틸- 벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00063
실시예 1 (방법 B)의 일반적인 방법을 따르는데, N-{3-[4-(클로로메틸)페닐]피라진-2-일}-2-(트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드 (중간체 9) 및 4-시아노페놀로부터 개시하여, 목적 화합물을 수율 73% (HPLC 순도 93%)의 노란색 고체로 얻었다.
MS (ESI+): 511.6; MS (ESI-): 509.6.
실시예 32: N-{3-[4-(6-플루오로-인돌-1-일메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2-트리 플루오로메틸- 벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00064
실시예 1 (방법 B)의 일반적인 방법을 따르는데, N-{3-[4-(클로로메틸)페닐]피라진-2-일}-2-(트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드 (중간체 9) 및 6-플루오로-1H-인돌로부터 개시하여, 목적 화합물을 수율 77% (HPLC 순도 97%)의 노란색 고체로 얻었다.
MS (ESI+): 527.8; MS (ESI-): 525.6.
실시예 33: 2- 클로로 -N-{3-[4-(5- 메톡시 -2- 메틸 -인돌-1- 일메틸 )- 페닐 ]-피라진-2-일}- 벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00065
실시예 1 (방법 B)의 일반적인 방법을 따르는데, N-{3-[4-(클로로메틸)페닐]피라진-2-일}-2-(클로로)벤젠술폰아미드 (중간체 8) 및 2-메틸-5-메톡시인돌로부터 개시하여, 목적 화합물을 수율 72% (HPLC 순도 98%)의 노란색 고체로 얻었다.
MS (ESI+): 520.2; MS (ESI-): 518.3.
실시예 34: N-{3-[4-(4- 메톡시 - 페녹시메틸 )- 페닐 ]-피라진-2-일}-2- 트리플루 오로메틸 - 벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00066
실시예 1 (방법 B)의 일반적인 방법을 따르는데, N-{3-[4-(클로로메틸)페닐]피라진-2-일}-2-(트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드 (중간체 9) 및 4-하이드록시아니솔로부터 개시하여, 목적 화합물을 수율 48% (HPLC 순도 91%)의 노란색 고체로 얻었다.
MS (ESI+): 516.6; MS (ESI-): 514.5.
실시예 35: N-(3-{4-[(벤질-피리딘-2-일-아미노)- 메틸 ]- 페닐 }-피라진-2-일)-2- 클로로 - 벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00067
실시예 1 (방법 B)의 일반적인 방법을 따르는데, N-{3-[4-(클로로메틸)페닐]피라진-2-일}-2-(클로로)벤젠술폰아미드 (중간체 8) 및 2-벤질아미노피리딘으로부터 개시하여, 목적 화합물을 수율 35% (HPLC 순도 94%)의 노란색 고체로 얻었다.
MS (ESI+): 543.3; MS (ESI-): 541.3.
실시예 36: N-{3-[4-(2,3- 디하이드로 -인돌-1- 일메틸 )- 페닐 ]-피라진-2-일}-2- 트리플루오로메틸- 벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00068
실시예 1 (방법 B)의 일반적인 방법을 따르는데, N-{3-[4-(클로로메틸)페닐]피라진-2-일}-2-(트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드 (중간체 9) 및 2,3-디하이드로-1H-인돌로부터 개시하여, 목적 화합물을 수율 66% (HPLC 순도 94%)의 노란색 고체로 얻었다.
MS (ESI+): 511.6; MS (ESI-): 509.4.
실시예 37: N-[3-(4-{[(2,4-디클로로-페닐)-메틸-아미노]-메틸}-페닐)-피라진-2-일]-2- 트리플루오로메틸 - 벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00069
실시예 1 (방법 B)의 일반적인 방법을 따르는데, N-{3-[4-(클로로메틸)페닐]피라진-2-일}-2-(트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드 (중간체 9) 및 2,4-디클로로-N-메틸아닐린으로부터 개시하여, 목적 화합물을 수율 69% (HPLC 순도 96%)의 노란색 고체로 얻었다.
MS (ESI+): 569.6; MS (ESI-): 566.8.
실시예 38: N-{3-[4-(3- 클로로 - 페녹시메틸 )- 페닐 ]-피라진-2-일}-2- 트리플루오로메틸 - 벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00070
실시예 1 (방법 A)의 일반적인 방법을 따르는데, N-{3-[4-(클로로메틸)페닐]피라진-2-일}-2-(트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드 (중간체 9) 및 3-클로로페놀로부터 개시하여, 목적 화합물을 수율 70% (HPLC 순도 98%)의 노란색 고체로 얻었다.
MS (ESI+): 521.0; MS (ESI-): 519.0.
실시예 39: 2- 클로로 -N-[3-(4-{[(2,4- 디플루오로 - 페닐 )- 메틸 -아미노]- 메틸 }-페닐)-피라진-2-일]- 벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00071
실시예 1 (방법 B)의 일반적인 방법을 따르는데, N-{3-[4-(클로로메틸)페닐]피라진-2-일}-2-(클로로)벤젠술폰아미드 (중간체 8) 및 2,4-디플루오로-N-메틸아닐린으로부터 개시하여, 목적 화합물을 수율 77% (HPLC 순도 92%)의 노란색 고체로 얻었다.
MS (ESI+): 502.0; MS (ESI-): 500.0.
실시예 40: N-{3-[4-(2- 메틸 -인돌-1- 일메틸 )- 페닐 ]-피라진-2-일}-2- 트리플루오로메틸 - 벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00072
실시예 1 (방법 A)의 일반적인 방법을 따르는데, N-{3-[4-(클로로메틸)페닐]피라진-2-일}-2-(트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드 (중간체 9) 및 2-메틸-1-H-인돌로부터 개시하여, 목적 화합물을 수율 70% (HPLC 순도 98%)의 노란색 고체로 얻었다.
MS (ESI+): 523.5; MS (ESI-): 521.5.
실시예 41: 2-클로로-N-{3-[4-(5-플루오로-인돌-1-일메틸)-페닐]-피라진-2-일}- 벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00073
실시예 1 (방법 B)의 일반적인 방법을 따르는데, 2-클로로-N-{3-[4-(클로로메틸)페닐]피라진-2-일}벤젠술폰아미드 (중간체 8) 및 5-플루오로인돌로부터 개시하여, 목적 화합물을 수율 72% (HPLC 순도 96%)의 노란색 고체로 얻었다.
MS (ESI+): 493.9; MS (ESI-): 491.9.
실시예 42: 2- 클로로 -N-[3-(4-{[(2- 플루오로 - 페닐 )- 메틸 -아미노]- 메틸 }-페닐)-피라진-2-일]- 벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00074
실시예 1 (방법 B)의 일반적인 방법을 따르는데, 2-클로로-N-{3-[4-(클로로메틸)페닐]피라진-2-일}벤젠술폰아미드 (중간체 8) 및 2-플루오로-N-메틸-아닐린으로부터 개시하여, 목적 화합물을 수율 79% (HPLC 순도 99%)의 노란색 고체로 얻었다.
MS (ESI+): 484.1; MS (ESI-): 482.1.
실시예 43: 2- 클로로 -N-{3-[4-(2- 메틸 -인돌-1- 일메틸 )- 페닐 ]-피라진-2-일}-벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00075
실시예 1 (방법 B)의 일반적인 방법을 따르는데, 2-클로로-N-{3-[4-(클로로메틸)페닐]피라진-2-일}벤젠술폰아미드 (중간체 8) 및 2-메틸-1-H-인돌로부터 개시하여, 목적 화합물을 수율 81% (HPLC 순도 96%)의 노란색 고체로 얻었다.
MS (ESI+): 490.0; MS (ESI-): 488.1.
실시예 44: N-(3-{4-[(벤질-피리딘-2-일-아미노)- 메틸 ]- 페닐 }-피라진-2-일)-2- 트리플루오로메틸 - 벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00076
실시예 1 (방법 A)의 일반적인 방법을 따르는데, N-{3-[4-(클로로메틸)페닐]피라진-2-일}-2-(트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드 (중간체 9) 및 N-(2-피리딘)-벤질아민으로부터 개시하여, 목적 화합물을 수율 79% (HPLC 순도 98%)의 노란색 고체로 얻었다.
MS (ESI+): 576.6; MS (ESI-): 574.6.
실시예 45: 2- 클로로 -N-(3-{4-[(에틸-피리딘-2-일-아미노)- 메틸 ]- 페닐 }-피라진-2-일)- 벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00077
실시예 1 (방법 B)의 일반적인 방법을 따르는데, 2-클로로-N-{3-[4-(클로로메틸)페닐]피라진-2-일}벤젠술폰아미드 (중간체 8) 및 2-(에틸아미노)-피리딘으로부터 개시하여, 목적 화합물을 수율 64% (HPLC 순도 96%)의 노란색 고체로 얻었다.
MS (ESI+): 481.0; MS (ESI-): 478.1.
실시예 46: N-{3-[4-(5- 클로로 -2- 메틸 -인돌-1- 일메틸 )- 페닐 ]-피라진-2-일}-2- 트리플루오로메틸 - 벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00078
실시예 1 (방법 A)의 일반적인 방법을 따르는데, N-{3-[4-(클로로메틸)페닐]피라진-2-일}-2-(트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드 (중간체 9) 및 2-메틸-5-클로로인돌로부터 개시하여, 목적 화합물을 수율 71% (HPLC 순도 95%)의 노란색 고체로 얻었다.
MS (ESI+): 558.3; MS (ESI-): 556.4.
실시예 47: 약학 제제 제조
다음의 제제 예는 본 발명에 따른 대표적인 약학 조성물을 예시하지만, 본 발명은 이에 한정되지는 않는다.
제제 1 - 정제
화학식 (I)의 2,3-치환된 피라진 술폰아미드 유도체를 약 1:2 중량 비율로 건조 젤라틴 결합제와 건조 분말로 혼합한다. 소량의 스테아린산 마그네슘을 윤활제로서 첨가한다. 상기 혼합물을 정제기에서 240-270mg 정제 (정제 당 활성 2,3-치 환된 피라진 술폰아미드 화합물 80-90mg)로 형성한다.
제제 2 - 캡슐
화학식 (I)의 2,3-치환된 피라진 술폰아미드 유도체를 약 1:1 중량 비율로 전분 (starch) 희석제와 건조 분말로 혼합한다. 상기 혼합물을 250mg 캡슐 (캡슐 당 2,3-치환된 피라진 술폰아미드 화합물 125mg)안에 채운다.
제제 3 - 액제
화학식 (I)의 2,3-치환된 피라진 술폰아미드 유도체 (1250mg), 슈크로스 (sucrose)(1.75g) 및 산탄검 (xanthan gum)(4mg)을 혼합하고, 제 10 메시 (mesh) 미국 표준체로 거른 다음, 사전에 준비한 미정질 셀룰로오스 및 카르복시메틸 나트륨 셀룰로오스 (11:89, 50mg) 수용액과 혼합한다. 벤조산 나트륨 (10mg), 향미제, 및 착색제를 물로 희석하여 교반하며 첨가한다. 그런 후, 충분한 물을 첨가하여, 총 부피 5ml로 제조한다.
제제 4 - 정제
화학식 (I)의 2,3-치환된 피라진 술폰아미드 유도체를 약 1:2 중량 비율로 건조 젤라틴 결합제와 건조 분말로 혼합한다. 소량의 스테아린산 마그네슘을 윤활제로서 첨가한다. 상기 혼합물을 정제기에서 450-900mg 정제 (활성 2,3-치환된 피라진 술폰아미드 화합물 150-300mg)로 형성한다.
제제 5 - 주사제
화학식 (I)의 2,3-치환된 피라진 술폰아미드 유도체를, 농도 약 5mg/ml까지 완충 무균 식염수 주사 가능한 수성 배지로 용해시킨다.
실시예 48: pCEP4 - hCRTH2 표유류 발현 벡터 ( vector )의 구성
pCEP4 벡터 [인비트로겐 (Invitrogen) 사]로 클로닝 (cloning)하기 위한 힌드(Hind) III 및 밤 (Bam) HI 제한 부위 (site)를 포함하는 특이적 프라이머 (primer)와 템플레이트 (template)로서, 인간 방광 cDNA 라이브러리 (library)를 사용하여 PCR로 인간 CRTH2 cDNA를 증식하였다. 상기 벡터 구성은 Sawyer et al., Br. J. Pharmocol 2002, 137, 1163-72에 자세히 기술되어 있다. 상기 클론된 cDNA의 뉴클레오티드 (nucleotide) 서열은 이전에 보고된 hCRTH2 서열 (Nagata et al., 1999, J. Immunol. 162, 1278-1286)과 동일하였다.
실시예 49: pCEP4 - hCRTH2 - HEK293 ( EBNA ) 세포주의 설정
칼슘 포스페이트기술을 사용하는 pCEP4-hCRTH2 구조로 HEK293 (EBNA) 세포를 핵산전달감염 (transfect)하였다. 10% 열-불활성 태아소 혈청 (foetal calf serum)[TerraCell International, Canada], 2mM 글루타민 (Glutamine), 페니실린 (penicillin) 100유니트/ml 및 스트렙토마이신 (streptomycin)[인비트로겐사]의 100μg/ml을 포함하는, 둘베코 (Dulbecco) 변형 이글 (Eagle) F12 배지 (인비트로겐사)에서 5% CO2 대기 하에 37℃에서 세포를 배양하였다. 핵산전달감염 48시간 이후, 히그로마이신 (Hygromycin) B [인비트로겐사] 300μg/ml의 존재 하에 4주간 세포를 증식하고, 항생제내성 세포를 세포 막 제조를 위해 증식하였다.
실시예 50: hCRTH2 -발현 막의 제조
hCRTH2를 발현시키는 유착성 HEK293 (EBNA) 세포 배지 30ml의 225㎠ 세포 배양병 (culture flask)[코닐 (Corning)사, 미국]에서 배양하였다. 포스페이트 완충 식염수 (Phosphate buffered saline: PBS)로 두 번 헹군 후, 1mM EDTA를 포함하는 PBS 10ml에서 세포를 수집하고, 4℃에서 5분간 500 x g에서 원심분리한 후, -80℃에서 동결시켰다. 프로테아제 억제 칵테일 정제 [완전히 EDTA-제거, 로체 (Roche)사, 독일]을 포함하여, 50mM Tris-HCl, pH 7.4, 2mM EDTA, 250mM 슈크로스 (Sucrose)에서 재현탁하고, 4℃에서 30분 동안 배양하였다. 세포를 4℃ (30분 동안 800 p.s.i.)에서 질소 캐비테이션 (cavitation)[파르 인스트루먼트 (Parr Instrument)사, 미국]으로 붕괴하고, 4℃에서 10분 동안 500 x g에서 원심분리하였다. 핵 및 세포 잔해물 (debris)를 포함하는 펠레트를 폐기하고, 상청액을 4℃에서 60분간 45000 x g에서 원심분리하였다. 도운스 (Dounce) 균질화를 사용하는 보존 완충액 (10mM HEPES/KOH pH 7.4, 1mM EDTA, 250mM 슈크로스, 프로테아제 억제제 칵테일 정제)으로 막 펠레트를 재현탁시킨 후, 액체 질소에서 동결시키고, -80℃에서 보관하였다.
실시예 51: 방사능리간드 ( Radioligand ) 결합 분석
본 발명의 화합물은 PGD2와 그것의 수용체 CRTH2의 결합을 억제한다. 상기 억제 활성은 방사능리간드 결합 분석 (Sawyer et al., Br. J. Pharmocol 2002, 137, 1163-72)에 의해 조사될 수 있다. 1.5nM [3H]PGD2 [아머샴 (Amersham, 156Cie/mmol] 및 hCRTH2 HEK293 (EBNA) 세포 막 단백질 10μg을 포함하는 최종 부피 100μl의 결합 완충액 (프로테아제 억제제 칵테일 정제로 10mM HEPES/KOH pH 7.4, 10mM MnCl2)에서 96 웰 플레이트 (well plate)[코닝 (Corning)사, 미국]로 실온에서 방사능리간드 결합 분석을 수행하였다. PGD2 1μM [케이맨 (Cayman)사, 미국]의 존재 하에 비-특이적 결합을 결정하였다. 경쟁 (competing) 피라진 술폰아미드를 디메틸술폭사이드로 희석하여, 디메틸술폭사이드 총 부피를 1%의 디메틸술폭사이드 (Me2SO)로 유지시켰다. 피라진 술폰아미드 10μl를 첨가하였다. 96 웰 소수성 (hydrophobic) GF/C 유니필터 (Unifilter) 플레이트 [와트만 (Whatman)사, 미국]를 통해 급속 여과하여 배양 (실온에서 60분 동안)을 종결하였다. 필터를 Tris-HCl 250μl, pH 7.4, 10mM MnCl2로 두 번 세척하고, 상기 필터에 결합된 잔여 방사능리간드를 액체 섬광 칵테일 [옵티페이즈 수퍼미스 (Optiphase Supermix), Perkin Elmer, 미국] 100μl에 혼합시키고, 1450 마이크로-베타 섬광 계측기 [왈락 (Wallac)사, 영국]를 사용하여 잔여 방사능리간드를 세어, 결합 활성을 측정하였다. 상기 결합 분석 결과는 하기 표 1에 나와 있다.
화합물/ 번호 명칭 구조 억제 hCRTH2[%]
1 N-{3-[4-(1H-인돌-1-일메틸)페닐] 피라진-2-일}-2-(트리플루오로메틸) 벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00079
 94.5
2 2-클로로-N-{3-[4-({메틸[4-(트리플루오로메톡시)페닐]아미노}-메틸)페닐]피라진-2-일}벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00080
 91.5
3 N-(3-{4-[(2-에틸-1H-벤즈이미다졸-1-일)메틸]페닐}피라진-2-일)-2-(트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00081
 86.5
4 2-클로로-N-[3-(4-{[메틸(페닐) 아미노]메틸}페닐)피라진-2-일]벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00082
 84.5
5 2-클로로-N-(3-{4-[2-나프틸옥시)메틸]페닐}피라진-2-일)-벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00083
 82.0
6 2-클로로-N-{3-[4-(1H-인돌-1-일메틸)페닐]-피라진-2-일}-벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00084
 81.5
7 2-클로로-N-(3-{4-[(5,6,7,8-테트라하이드로나프탈렌-2-일옥시)메틸]-페닐}-피라진-2-일)벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00085
 80.0
8 2-클로로-N-(3-{4-[(2-에틸-1H-벤즈이미다졸-1-일)메틸]페닐}피라진-2-일)벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00086
 79.0
9 N-(3-{4-[(1,3-벤조디옥솔-5-일아미노)메틸]-페닐}피라진-2-일)-2-(트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00087
 72.5
10 N-[3-(4-{[(3-메톡시벤질)옥시]메틸}페닐)피라진-2-일]-2-(트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00088
 72.0
11 3-클로로-N-{3-[4-({메틸[4-(트리플루오로메톡시)페닐]-아미노}-메틸)페닐]피라진-2-일}벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00089
 65.0
12 N-[3-(4-{[(4-클로로페닐)(메틸)아미노]-메틸}페닐)피라진-2-일]-티오펜-2-술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00090
 65.0
13 4-페녹시-N-{3-[4-(퀴놀린-2-일메틸)피페라진-1-일]피라진-2-일}-벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00091
 64.5
14 4-메틸-N-{3-[4-({메틸[4-(트리플루오로메톡시)페닐]-아미노}-메틸)페닐]피라진-2-일}벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00092
 53.0
15 4-클로로-N-[3-(4-{[메틸페닐)아미노] 메틸}페닐)피라진-2-일]-벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00093
 51.0
16 4-시아노-N-{3-[4-({메틸[4-(트리플루오로메톡시)페닐]-아미노}메틸)페닐]피라진-2-일}벤젠술폰아미드
Figure 112007079842438-PCT00094
 47.0
실시예 52: K i 의 결정 ( 방사능리간드 결합 분석)
[3H]PGD2에 대한 평행 경쟁 결합 실험으로 Ki 값을 결정하였다. Ki 값을 하기 화학식으로부터 계산하였는데, 이 값은 적어도 세 개의 독립 투여량 반응 실험의 평균을 나타낸다. Ki 값은 CRTH2와 3[H]PGD2의 결합 50%를 억제하는 데 필요한 리간드 농도를 나타낸다.. Ki = IC50/(1+[리간드 농도]/Kd].
상기 기재된 여과 분석에 따라, 최종 부피 100μl로 96 웰 플레이트에서 모든 실험을 수행하였다. 막 및 3[H]PGD2 농도뿐만 아니라, 양성 및 음성 대조군 역시 상기 기재된 조건과 동일하였다.
일 실시예에서, 본 발명의 피라진 술폰아미드가 ＜ 100μM 농도에서 CRTH2를 억제한다. 또 다른 실시예에서, 본 발명의 피라진 술폰아미드가 ＜ 10μM 농도에서 CRTH2를 억제한다. 바람직한 실시예에서, 본 발명의 피라진 술폰아미드가 ＜ 5μM농도에서 CRTH2를 억제한다. 또 다른 바람직한 실시예에서, 본 발명의 피라진 술폰아미드가 ＜ 1μM 농도에서 CRTH2를 억제한다.
Ki 값이 표 2에 나와있다. 화학식 (I)에 따른 상기 화합물이 CRTH2와 PGD2의 결합을 상당히 억제시킨다는 것이 유추될 수 있다.
화합물 번호 K i [μM] 화합물 번호 K i [μM] 화합물 번호 K i [μM]
1 1.01 17 0.38 33 2.21
2 1.26 18 0.40 34 2.60
3 0.45 19 0.47 35 2.64
4 1.57 20 0.48 36 2.69
5 2.32 21 0.59 37 2.82
6 2.12 22 0.62 38 2.90
7 2.59 23 0.70 39 2.95
8 1.42 24 0.72 40 3.06
9 2.98 25 0.85 41 3.90
10 1.40 26 0.95 42 3.90
11 5.16 27 1.32 43 4.11
12 8.43 28 1.47 44 4.44
13 4.03 29 1.49 45 4.51
14 5.85 30 1.58 46 4.65
15 5.38 31 1.59
16 5.71 32 1.93
실시예 53: [ 35 S] GTP γS 결합 분석
[35S]GTPγS 분석은, 작용제 (PGD2)와 CRTH2의 결합에서부터 기인하는 세포 막의 G-단백질에서 구아닌 (guanin) 뉴클레오티드 교환 증가를 측정한다. 상기 과정은, G-단백질 및 GDP와 방사성표지된 가수분해-저항 GTP 유사체인 [35S]GTPγS를 갖는 CRTH2를 포함하는 세포 막을 배양하여 시험관내에서 모니터할 수 있다 (참조: Harrison et al., Life Sciences 74, 489-508, 2003). 피라진 술폰아미드의 첨가로 인해, CRTH2에 결합하고, 그 결과 작용제 결합을 억제하는데, 이는 GTP/GDP 교환 자극의 억제로서 모니터될 수 있다.
분석 조건은 실시예 21에 기재된 대로 방사능리간드 결합 분석의 조건과 동일하였다. [35S]GTPγS 분석은 2%의 디메틸술폭사이드 (Me2SO)를 포함하며, 최종 부피 200μl으로 96-웰 섬광 흰색 폴리스티렌 플레이트 [펄킨 엘머 (Perkin Elmer)사, 미국]에서 부드럽게 흔들며 30℃에서 수행되었다. 10분 동안, hCRTH2 수용체를 발현시키는 막 10μg [유로스크린 (Euroscreen)사, 벨기에]를 포함하는, 20mM HEPES/KOH pH 7.4, 10mM MgCl2, 10μg/ml 사포닌 (Saponin), 3μM GDP, 150nM NaCl에서 상기 2,3 치환된 피라진 술폰아미드를 배양하였다. 10μM의 GTPγS 존재 하에서 비-특이적 결합을 결정하였다. 작용제 활성을 결정하기 위하여 PGD2의 농도를 증가하면서, 또는 길항제 활성을 결정하기 위하여 80nM의 PGD2으로 30분 동안 샘플을 각각 배양하였다. 그런 후, 0.15nM의 [35S]GTPγS을 각각의 샘플에 연속해서 첨가하고, 30분 동안 배양한 후, 4℃에서 10분 동안 1000 x g에서 원심분리하여, 반응을 종결하였다. 상청액을 제거하고, 1450 마이크로-베타 섬광 계측기를 사용하여 [35S]GTPγS 결합을 측정하였다. "프리즘 (Prism)"[그래프패드 소프트웨어 인코포레이션 (GraphPad Software, Inc.) 샌디에이고, 미국]을 사용하여 데이터를 분석하였다. 상기 기재된 여과 분석에 따라, 최종 부피 100μl의 96 웰 플레이트에서 IC50 값 [즉, 결합 (μM)의 50% 억제를 성취하기 위해 필요한 양]을 결정하였다. 막 및 방사능리간드의 농도뿐만 아니라, 양성 및 음성 대조군이 상기 실시예 21 및 22에 사용된 조건과 동일하였다.
실시예 1의 화합물이 1.9μM의 IC50 값을 보여주고, 실시예 2의 화합물이 4.6μM의 IC50 값을 보여주며, 실시예 3의 화합물이 1.4μM의 IC50 값을 보여주었다.
실시예 54: CHS 모델
T 세포에 의해 조정된 피부 염증에 대한 2,3-치환된 피라진 술폰아미드의 치료 효능을 평가하기 위해, 접촉 과민 모델이 사용될 수 있다. 상기 모델은 건선 (psoriasis) 및 알레르기성 접촉 피부염과 같은 피부과 징후에 대한 화합물의 특성이 잘 설정되있다 (Xu et al. J Exp Med. 183, 1001-12, 1996). 상기 모델은 감작 (sensitization) 상 및 항원과의 차후 공격 (DNFB, 2,4-디니트로플루오로벤젠)을 수반한다. 그 결과, 피부에 부종 (edema) 및 세포 침윤물 형성과 더불어 피부 염증이 일어난다. 상기 부종은 공격 부위 (생쥐의 귀)에서 캘리퍼 (caliper)로 측정할 수 있다. DNFB로 공격하기 30분 전에, 본 발명의 화합물을 정맥내 투입함으로써, 종창 (swelling)이 줄어들고 그 결과, 오직 항원으로 공격하기 전에 매개제로 치료된 양성 대조군에 비교하여 피부 염증이 줄어든다. 음성 대조군 생쥐는 감작시키진 않았지만, DNFB로 공격하였으며, 어떠한 T 세포 의존성 염증도 일어나지 않고 부종도 형성되지 않는다. 찰스리버 (CharlsRiver)[캘코 (Calcco), 이탈리아] 사로부터 Balb/c 생쥐를 얻는다. 생쥐들을 종래의 생쥐 시설에 수용한다. 치료는 평균 나이 8-12주에서 시작한다.
시그마-알드리치 (Sigma-Aldrich)[세인트 루이스, MO 미국] 사로부터 DNFB (2,4-디니트로플루오르벤젠)을 구입한다.
DNFB에 의한 CHS의 감작 및 공격
생쥐를 감작하고 공격하여, CHS를 DNFB으로 유도한다. 감작 상에 이어 공격 상이 생성된다. 사용 직전에 DNFB를 아세톤/올리브 오일 (4/1)로 희석한다. 0.5% DNFB 용액 25μl을 생쥐의 면도한 등쪽 피부에 발라, 생쥐를 DNFB에 감작시킨다. 5일 후, 0.2% DNFB 10μl을 생쥐의 오른쪽 귀 양면에 바른다 (공격). 캘리퍼 [미투토요 (Mitutoyo)사, 밀라노, 이탈리아]를 사용하여, 6일째 되는 날 (공격 이후 첫 날) 귀 두께를 모니터한다. 귀 종창 (swelling)을 ((Tn-T5) 오른쪽 귀 - (Tn-T5)왼쪽 귀)로 계산하는데, 여기서 Tn 및 T5는 각각 조사 n 날 및 공격하기 전 5일째 되는 날에 귀 두께 값을 나타낸다.
참고 목록
Cosmi et al. (2000) Eur. J. Immunol. 30, 2972-2979
Bush, R. K., Georgitis J. W., Handbook of asthma and rhinitis. 1st ed. (1997), Abingdon: Blackwell Science. 270.
Harrison et al. (2003) Life Sciences 74, 489-508.
Hirai et al. (2001) J Exp. Med. 193, 255-261.
Lewis et al. (1982) J. Immunol. 129, 1627.
Matsuoka et al. (2000) Science 287, 2013-2017.
Nagata et al. (1999) J. Immunol. 162, 1278-1286.
Sawyer et al. (2002) Br. J. Pharmacol. 137, 1163-1172
Woodward et al. (1990) Invest. Ophthalomol Vis. Sci. 31, 138-146.
Woodward et al. (1993) Eur. J. Pharmacol. 230, 327-333.
Xu et al. (1996) J Exp Med. 183, 1001-12.
WO 04/106302
WO 04/096777
WO 04/035543
WO 04/032848
WO 05/007094
WO 04/108692
WO 04/108717
WO 04/058265
WO 05/102338

Claims (16)

  1. 약제로 사용하기 위한 화학식 (I)에 따른 화합물뿐만 아니라, 그것의 기하 이성질체, 그것의 거울상체, 부분입체이성질체 및 라세미체 형태와 같은 그것의 광학적 활성 형태, 및 토우토머, 그것의 약학적으로 허용가능한 염 및 약학적 활성 유도체:
    Figure 112007079842438-PCT00095
    여기서, A는 다음으로 구성된 그룹으로부터 선택되며:
    Figure 112007079842438-PCT00096
    여기서, n은 각각 0,1,2,3 또는 4로부터 선택된 정수이며;
    m은 1 또는 2이며;
    B는 C2-C6-알키닐, C3-C8-시클로알킬, C3-C8-헤테로시클로알킬, 아릴, 및 일가 헤테로아릴로 구성된 그룹으로부터 선택되며;
    R1은 수소 또는 C1-C6-알킬이며;
    R2는 C1-C6-알킬, 아릴, 헤테로아릴, C3 .-C8-시클로알킬 및 C3 .-C8-헤테로시클로알킬로 구성된 그룹으로부터 선택되며, 여기서 R2는 할로겐, 시아노, C1-C6-알킬, C1-C6-알콕시, 티오알콕시 및 티오알킬로 구성된 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 치환기로 선택적으로 치환되며;
    R3은 C1-C6-알킬, 아릴, 헤테로아릴, C1-C6-알킬 아릴, C1-C6-알킬 헤테로아릴, C3-C8-시클로알킬 및 C3-C8-헤테로시클로알킬로 구성된 그룹으로부터 선택되며, 여기서 상기 C1-C6-알킬, 아릴, 헤테로아릴, C1-C6-알킬 아릴, C1-C6-알킬 헤테로아릴, C3-C8-시클로알킬 및 C3-C8-헤테로시클로알킬은 각각 할로겐, 시아노, C1-C6-알킬, C1-C6-알콕시, 헤테로아릴, 아릴, 티오알콕시 및 티오알킬로 구성된 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 치환기로 선택적으로 치환되거나, 또한 상기 아릴, 헤테로아릴, C1-C6-알킬 아릴, C1-C6-알킬 헤테로아릴, C3-C8-시클로알킬 또는 C3-C8-헤테로시클로알킬은 하나 이상의 아릴, 헤테로아릴, C3-C8-시클로알킬 또는 C3-C8-헤테로시클로알킬기에 융합될 수도 있으며, C1-C6-알킬, 알콕시, 아릴, 헤테로아릴, 카르복실, 시아노, 할로겐, 하이드록시, 아미노, 아미노 카르보닐, 니트로, 술폭시, 술포 닐, 술폰아미드 및 트리할로알킬로 구성된 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 치환기로 치환될 수도 있으며;
    R7은 수소, C1-C6-알킬, C2-C6-알케닐, C2-C6-알키닐, 아릴, 헤테로아릴, C3-C8-시클로알킬, C3-C8-헤테로시클로알킬, 카르복실, 시아노, 아미노 및 하이드록시로 구성된 그룹으로부터 선택되며; 및
    R8은 수소, C1-C6-알킬, 아릴, 및 헤테로아릴로 구성된 그룹으로부터 선택된다.
  2. 제 1항에 있어서, 상기 B가 아릴, C3-C8-헤테로시클로알킬 및 C2-C6-알키닐로 구성된 그룹으로부터 선택된 것을 특징으로 하는, 약제로 사용하기 위한 화학식 (I)에 따른 화합물.
  3. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 R2가 아릴, 헤테로아릴 및 C1-C6-알킬로 구성된 그룹으로부터 선택된 것을 특징으로 하는, 약제로 사용하기 위한 화학식 (I)에 따른 화합물.
  4. 제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서, R1가 수소인 것을 특징으로 하 는, 약제로 사용하기 위한 화학식 (I)에 따른 화합물.
  5. 제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서, R2 및 R3이 각각 C1-C6-알킬, 알콕시, 시아노, 아미노 또는 할로겐 (여기서, 상기 C1-C6-알킬 또는 알콕시는 할로겐으로 치환될 수 있다)으로부터 선택된 1-3 치환기로 치환되는 것을 특징으로 하는, 약제로 사용하기 위한 화학식 (I)에 따른 화합물.
  6. 제 1항 내지 제 5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 화합물이 다음의 그룹으로부터 선택된 것을 특징으로 하는, 약제로 사용하기 위한 화학식 (I)에 따른 화합물:
    N-{3-[4-(1H-인돌-1-일메틸)페닐]피라진-2-일}-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰아미드,
    2-클로로-N-{3-[4-({메틸[4-(트리플루오로메톡시)페닐]아미노}메틸)페닐]-피라진-2-일}벤젠술폰아미드,
    N-(3-{4-[(2-에틸-1H-벤즈이미다졸-1-일)메틸]페닐}피라진-2-일)-2-(트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드,
    2-클로로-N-[3-(4-{[메틸(페닐)아미노]메틸}페닐)피라진-2-일]-벤젠술폰아미드,
    2-클로로-N-(3-{4-[(2-나프틸옥시)메틸]페닐}피라진-2-일)-벤젠술폰아미드,
    2-클로로-N-{3-[4-(1H-인돌-1-일-일메틸)페닐]피라진-2-일}벤젠술폰아미드,
    2-클로로-N-(3-{4-[(5,6,7,8-테트라하이드로나프탈렌-2-일옥시)메틸]페닐}-피라진-2-일)벤젠술폰아미드,
    2-클로로-N-(3-{4-[(2-에틸-1H-벤즈이미다졸-1-일)메틸]페닐}피라진-2-일)-벤젠술폰아미드,
    N-(3-{4-[(1,3-벤조디옥솔-5-일아미노)메틸]페닐}피라진-2-일)-2-(트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드,
    N-[3-(4-{[3-메톡시벤질)옥시]메틸}페닐)피라진-2-일]-2-(트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드,
    3-클로로-N-{3-[4-({메틸[4-(트리플루오로메톡시)페닐]아미노}-메틸)페닐]피라진-2-일}벤젠술폰아미드,
    N-[3-(4-{[4-클로로페닐)(메틸)아미노]메틸}페닐)피라진-2-일]-티오펜-2-술폰아미드,
    4-페녹시-N-{3-[4-(퀴놀린-2-일메틸)피페라진-1-일]피라진-2-일}-벤젠술폰아미드,
    4-메틸-N-{3-[4-({메틸[4-(트리플루오로메톡시)페닐]아미노}메틸)페닐]-피라진-2-일}벤젠술폰아미드,
    4-클로로-N-[3-(4-{[메틸(페닐)아미노]메틸}페닐)피라진-2-일]-벤젠술폰아미드,
    4-시아노-N-{3-[4-({메틸[4-(트리플루오로메톡시)페닐]-아미노}-메틸)페닐] 피라진-2-일}벤젠술폰아미드,
    N-[3-(4-{[(4-플루오로-페닐)-메틸-아미노]-메틸}-페닐)-피라진-2-일-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    N-(3-{4-[(메틸-페닐-아미노)-메틸]-페닐}-피라진-2-일)-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    N-[3-(4-{[(4-시아노-페닐)-메틸-아미노]-메틸}-페닐)-피라진-2-일}-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    N-{3-[4-(4-플루오로-페녹시메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    N-(3-{4-[(에틸-페닐-아미노)-메틸]-페닐}-피라진-2-일)-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    N-{3-[4-(2,3-디하이드로-벤조[1,4]옥사진-4-일메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    N-{3-[4-{[(3-플루오로-페닐)-메틸-아미노]-메틸}-페닐)-피라진-2-일]-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    N-{3-[4-(6-클로로-피리딘-3-일옥시메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    N-{3-[4-(2-피리딘-2-일-인돌-1-일메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    N-{3-[4-(5-플루오로-인돌-1-일메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2-트리플루오로메 틸-벤젠술폰아미드,
    N-[3-(4-페녹시메틸-페닐)-피라진-2-일]-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    N-[3-(4-{[(4-클로로-페닐)-메틸-아미노]-메틸}-페닐)-피라진-2-일]-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    2-클로로-N-[3-(4-{[(4-시아노-페닐)-메틸-아미노]-메틸}-페닐)-피라진-2-일]-벤젠술폰아미드,
    N-[3-(4-{{(3,4-디클로로-페닐)-메틸-아미노]-메틸}-페닐)-피라진-2-일]-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    N-{3-[4-(4-시아노-페녹시메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    N-{3-[4-(6-플루오로-인돌-1-일메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    2-클로로-N-{3-[4-(5-메톡시-2-메틸-인돌-1-일메틸)-페닐]-피라진-2-일}-벤젠술폰아미드,
    N-{3-[4-(4-메톡시-페녹시메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    N-(3-{4-[(벤질-피리딘-2-일-아미노)-메틸]-페닐}-피라진-2-일)-2-클로로-벤젠술폰아미드,
    N-{3-[4-(2,3-디하이드로-인돌-1-일메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2-트리플루오 로메틸-벤젠술폰아미드,
    N-[3-(4-{[(2,4-디클로로-페닐)-메틸-아미노]-메틸}-페닐)-피라진-2-일]-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    N-{3-[4-(3-클로로-페녹시메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    2-클로로-N-[3-(4-{[(2,4-디플루오로-페닐)-메틸-아미노]-메틸}-페닐)-피라진-2-일]-벤젠술폰아미드,
    N-{3-[4-(2-메틸-인돌-1-일메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    2-클로로-N-{3-[4-(5-플루오로-인돌-1-일메틸)-페닐]-피라진-2-일}-벤젠술폰아미드,
    2-클로로-N-[3-(4-{[(2-플루오로-페닐)-메틸-아미노]-메틸}-페닐)-피라진-2-일]-벤젠술폰아미드,
    2-클로로-N-{3-[4-(2-메틸-인돌-1-일메틸)-페닐]-피라진-2-일}-벤젠술폰아미드,
    N-(3-{4-[(벤질-피리딘-2-일-아미노)-메틸]-페닐}-피라진-2-일)-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    2-클로로-N-(3-{4-[(에틸-피리딘-2-일-아미노)-메틸]-페닐}-피라진-2-일)-벤젠술폰아미드,
    N-{3-[4-(5-클로로-2-메틸-인돌-1-일메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2-트리플루오 로메틸-벤젠술폰아미드.
  7. 알레르기성 질환, 염증성 피부병, 면역성 질환 및 신경퇴행성 질환의 치료 및/또는 예방을 위한 약제 제조에 있어 화학식 (I)에 따른 화합물뿐만 아니라, 그것의 기하 이성질체, 거울상체, 부분입체이성질체, 라세미체 형태, 토우토머 및 그것의 약학적으로 허용가능한 염의 용도:
    Figure 112007079842438-PCT00097
    여기서, A는 다음으로 구성된 그룹으로부터 선택되며:
    Figure 112007079842438-PCT00098
    여기서, n은 각각 0,1,2,3 또는 4로부터 선택된 정수이며;
    m은 1 또는 2이며;
    B는 C2-C6-알키닐, C3-C8-시클로알킬, C3-C8-헤테로시클로알킬, 아릴, 및 일가 헤테로아릴로 구성된 그룹으로부터 선택되며;
    R1은 수소 또는 C1-C6-알킬이며;
    R2는 C1-C6-알킬, 아릴, 헤테로아릴, C3.-C8-시클로알킬 및 C3.-C8-헤테로시클로알킬로 구성된 그룹으로부터 선택되며, 여기서 R2는 할로겐, 시아노, C1-C6-알킬, C1-C6-알콕시, 티오알콕시 및 티오알킬로 구성된 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 치환기로 선택적으로 치환되며;
    R3은 C1-C6-알킬, 아릴, 헤테로아릴, C1-C6-알킬 아릴, C1-C6-알킬 헤테로아릴, C3-C8-시클로알킬 및 C3-C8-헤테로시클로알킬로 구성된 그룹으로부터 선택되며, 여기서 상기 C1-C6-알킬, 아릴, 헤테로아릴, C1-C6-알킬 아릴, C1-C6-알킬 헤테로아릴, C3-C8-시클로알킬 및 C3-C8-헤테로시클로알킬은 각각 할로겐, 시아노, C1-C6-알킬, C1-C6-알콕시, 헤테로아릴, 아릴, 티오알콕시 및 티오알킬로 구성된 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 치환기로 선택적으로 치환되거나, 또한 상기 아릴, 헤테로아릴, C1-C6-알킬 아릴, C1-C6-알킬 헤테로아릴, C3-C8-시클로알킬 또는 C3-C8-헤테로시클로알킬은 하나 이상의 아릴, 헤테로아릴, C3-C8-시클로알킬 또는 C3-C8-헤테로시클로알킬기에 융합될 수도 있으며, C1-C6-알킬, 알콕시, 아릴, 헤테로아릴, 카르복실, 시아노, 할로겐, 하이드록시, 아미노, 아미노 카르보닐, 니트로, 술폭시, 술포 닐, 술폰아미드 및 트리할로알킬로 구성된 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 치환기로 치환될 수도 있으며;
    R7은 C1-C6-알킬, C2-C6-알케닐, C2-C6-알키닐, 아릴, 헤테로아릴, C3-C8-시클로알킬, C3-C8-헤테로시클로알킬, 카르복실, 시아노, 아미노 및 하이드록시로 구성된 그룹으로부터 선택되며; 및
    R8은 수소, C1-C6-알킬, 아릴, 및 헤테로아릴로 구성된 그룹으로부터 선택된다.
  8. 제 7항에 있어서, 상기 알레르기성 질환이 알레르기성 천식, 알레르기성 비염, 알레르기성 결막염, 전신 아나필락시스 또는 과민 반응으로 구성된 그룹으로부터 선택된 것을 특징으로 하는, 화학식 (I)에 따른 화합물의 용도.
  9. 제 7항에 있어서, 상기 염증성 피부병이 아토피 피부염, 접촉 피부염, 및 두드러기 및 근육염으로 구성된 그룹으로부터 선택된 것을 특징으로 하는, 화학식 (I)에 따른 화합물의 용도.
  10. 제 7항에 있어서, 상기 질환이 류마티스 관절염, 다발성 경화증, 골관절염, 및 염증성 장질환 (IBD)으로 구성된 그룹으로부터 선택된 것을 특징으로 하는, 화 학식 (I)에 따른 화합물의 용도.
  11. 제 7항에 있어서, 상기 질환이 신경병증성 통증인 것을 특징으로 하는, 화학식 (I)에 따른 화합물의 용도.
  12. 제 7항 내지 제 11항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 화합물이 CRTH2 활성의 조정자, 특히 억제제인 것을 특징으로 하는, 화학식 (I)에 따른 화합물의 용도.
  13. 제 7항 내지 제 12항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 화합물이 다음으로 구성된 그룹으로부터 선택된 것을 특징으로 하는, 화학식 (I)에 따른 화합물의 용도:
    N-{3-[4-(1H-인돌-1-일메틸)페닐]피라진-2-일}-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰아미드,
    2-클로로-N-{3-[4-({메틸[4-(트리플루오로메톡시)페닐]아미노}메틸)페닐]-피라진-2-일}벤젠술폰아미드,
    N-(3-{4-[(2-에틸-1H-벤즈이미다졸-1-일)메틸]페닐}피라진-2-일)-2-(트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드,
    2-클로로-N-[3-(4-{[메틸(페닐)아미노]메틸}페닐)피라진-2-일]-벤젠술폰아미드,
    2-클로로-N-(3-{4-[(2-나프틸옥시)메틸]페닐}피라진-2-일)-벤젠술폰아미드,
    2-클로로-N-{3-[4-(1H-인돌-1-일-일메틸)페닐]피라진-2-일}벤젠술폰아미드,
    2-클로로-N-(3-{4-[(5,6,7,8-테트라하이드로나프탈렌-2-일옥시)메틸]페닐}-피라진-2-일)벤젠술폰아미드,
    2-클로로-N-(3-{4-[(2-에틸-1H-벤즈이미다졸-1-일)메틸]페닐}피라진-2-일)-벤젠술폰아미드,
    N-(3-{4-[(1,3-벤조디옥솔-5-일아미노)메틸]페닐}피라진-2-일)-2-(트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드,
    N-[3-(4-{[3-메톡시벤질)옥시]메틸}페닐)피라진-2-일]-2-(트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드,
    3-클로로-N-{3-[4-({메틸[4-(트리플루오로메톡시)페닐]아미노}-메틸)페닐]피라진-2-일}벤젠술폰아미드,
    N-[3-(4-{[4-클로로페닐)(메틸)아미노]메틸}페닐)피라진-2-일]티오펜-2-술폰아미드,
    4-페녹시-N-{3-[4-(퀴놀린-2-일메틸)피페라진-1-일]피라진-2-일}-벤젠술폰아미드,
    4-메틸-N-{3-[4-({메틸[4-(트리플루오로메톡시)페닐]아미노}메틸)페닐]-피라진-2-일}벤젠술폰아미드,
    4-클로로-N-[3-(4-{[메틸(페닐)아미노]메틸}페닐)피라진-2-일]-벤젠술폰아미드,
    4-시아노-N-{3-[4-({메틸[4-(트리플루오로메톡시)페닐]아미노}메틸)페닐]피라진-2-일}벤젠술폰아미드,
    N-[3-(4-{[(4-플루오로-페닐)-메틸-아미노]-메틸}-페닐)-피라진-2-일-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    N-(3-{4-[(메틸-페닐-아미노)-메틸]-페닐}-피라진-2-일)-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    N-[3-(4-{[(4-시아노-페닐)-메틸-아미노]-메틸}-페닐)-피라진-2-일}-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    N-{3-[4-(4-플루오로-페녹시메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    N-(3-{4-[(에틸-페닐-아미노)-메틸]-페닐}-피라진-2-일)-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    N-{3-[4-(2,3-디하이드로-벤조[1,4]옥사진-4-일메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    N-{3-[4-{[(3-플루오로-페닐)-메틸-아미노]-메틸}-페닐)-피라진-2-일]-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    N-{3-[4-(6-클로로-피리딘-3-일옥시메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    N-{3-[4-(2-피리딘-2-일-인돌-1-일메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    N-{3-[4-(5-플루오로-인돌-1-일메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    N-[3-(4-페녹시메틸-페닐)-피라진-2-일]-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    N-[3-(4-{[(4-클로로-페닐)-메틸-아미노]-메틸}-페닐)-피라진-2-일]-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    2-클로로-N-[3-(4-{[(4-시아노-페닐)-메틸-아미노]-메틸}-페닐)-피라진-2-일]-벤젠술폰아미드,
    N-[3-(4-{{(3,4-디클로로-페닐)-메틸-아미노]-메틸}-페닐)-피라진-2-일]-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    N-{3-[4-(4-시아노-페녹시메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    N-{3-[4-(6-플루오로-인돌-1-일메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    2-클로로-N-{3-[4-(5-메톡시-2-메틸-인돌-1-일메틸)-페닐]-피라진-2-일}-벤젠술폰아미드,
    N-{3-[4-(4-메톡시-페녹시메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    N-(3-{4-[(벤질-피리딘-2-일-아미노)-메틸]-페닐}-피라진-2-일)-2-클로로-벤젠술폰아미드,
    N-{3-[4-(2,3-디하이드로-인돌-1-일메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    N-[3-(4-{[(2,4-디클로로-페닐)-메틸-아미노]-메틸}-페닐)-피라진-2-일]-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    N-{3-[4-(3-클로로-페녹시메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    2-클로로-N-[3-(4-{[(2,4-디플루오로-페닐)-메틸-아미노]-메틸}-페닐)-피라진-2-일]-벤젠술폰아미드,
    N-{3-[4-(2-메틸-인돌-1-일메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    2-클로로-N-{3-[4-(5-플루오로-인돌-1-일메틸)-페닐]-피라진-2-일}-벤젠술폰아미드,
    2-클로로-N-[3-(4-{[(2-플루오로-페닐)-메틸-아미노]-메틸}-페닐)-피라진-2-일]-벤젠술폰아미드,
    2-클로로-N-{3-[4-(2-메틸-인돌-1-일메틸)-페닐]-피라진-2-일}-벤젠술폰아미드,
    N-(3-{4-[(벤질-피리딘-2-일-아미노)-메틸]-페닐}-피라진-2-일)-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    2-클로로-N-(3-{4-[(에틸-피리딘-2-일-아미노)-메틸]-페닐}-피라진-2-일)-벤젠술폰아미드,
    N-{3-[4-(5-클로로-2-메틸-인돌-1-일메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드.
  14. 다음으로 구성된 그룹으로부터 선택된 2,3 치환된 피라진 술폰아미드:
    N-{3-[4-(1H-인돌-1-일메틸)페닐]피라진-2-일}-2-(트리플루오로메틸)-벤젠술폰아미드,
    2-클로로-N-{3-[4-({메틸[4-(트리플루오로메톡시)페닐]아미노}메틸)페닐]-피라진-2-일}벤젠술폰아미드,
    N-(3-{4-[(2-에틸-1H-벤즈이미다졸-1-일)메틸]페닐}피라진-2-일)-2-(트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드,
    2-클로로-N-[3-(4-{[메틸(페닐)아미노]메틸}페닐)피라진-2-일]-벤젠술폰아미드,
    2-클로로-N-(3-{4-[(2-나프틸옥시)메틸]페닐}피라진-2-일)-벤젠술폰아미드,
    2-클로로-N-{3-[4-(1H-인돌-1-일-일메틸)페닐]피라진-2-일}벤젠술폰아미드,
    2-클로로-N-(3-{4-[(5,6,7,8-테트라하이드로나프탈렌-2-일옥시)메틸]페닐}-피라진-2-일)벤젠술폰아미드,
    2-클로로-N-(3-{4-[(2-에틸-1H-벤즈이미다졸-1-일)메틸]페닐}피라진-2-일)-벤젠술폰아미드,
    N-(3-{4-[(1,3-벤조디옥솔-5-일아미노)메틸]페닐}피라진-2-일)-2-(트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드,
    N-[3-(4-{[3-메톡시벤질)옥시]메틸}페닐)피라진-2-일]-2-(트리플루오로메틸)벤젠술폰아미드,
    3-클로로-N-{3-[4-({메틸[4-(트리플루오로메톡시)페닐]아미노}메틸)페닐]-피라진-2-일}벤젠술폰아미드,
    N-[3-(4-{[4-클로로페닐)(메틸)아미노]메틸}페닐)피라진-2-일]티오펜-2-술폰아미드,
    4-페녹시-N-{3-[4-(퀴놀린-2-일메틸)피페라진-1-일]피라진-2-일}-벤젠술폰아미드,
    4-메틸-N-{3-[4-({메틸[4-(트리플루오로메톡시)페닐]아미노}메틸)페닐]-피라진-2-일}벤젠술폰아미드,
    4-클로로-N-[3-(4-{[메틸(페닐)아미노]메틸}페닐)피라진-2-일]-벤젠술폰아미드,
    4-시아노-N-{3-[4-({메틸[4-(트리플루오로메톡시)페닐]-아미노}-메틸)페닐]피라진-2-일}벤젠술폰아미드,
    N-[3-(4-{[(4-플루오로-페닐)-메틸-아미노]-메틸}-페닐)-피라진-2-일-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    N-(3-{4-[(메틸-페닐-아미노)-메틸]-페닐}-피라진-2-일)-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    N-[3-(4-{[(4-시아노-페닐)-메틸-아미노]-메틸}-페닐)-피라진-2-일}-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    N-{3-[4-(4-플루오로-페녹시메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    N-(3-{4-[(에틸-페닐-아미노)-메틸]-페닐}-피라진-2-일)-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    N-{3-[4-(2,3-디하이드로-벤조[1,4]옥사진-4-일메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    N-{3-[4-{[(3-플루오로-페닐)-메틸-아미노]-메틸}-페닐)-피라진-2-일]-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    N-{3-[4-(6-클로로-피리딘-3-일옥시메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    N-{3-[4-(2-피리딘-2-일-인돌-1-일메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    N-{3-[4-(5-플루오로-인돌-1-일메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    N-[3-(4-페녹시메틸-페닐)-피라진-2-일]-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    N-[3-(4-{[(4-클로로-페닐)-메틸-아미노]-메틸}-페닐)-피라진-2-일]-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    2-클로로-N-[3-(4-{[(4-시아노-페닐)-메틸-아미노]-메틸}-페닐)-피라진-2-일]-벤젠술폰아미드,
    N-[3-(4-{{(3,4-디클로로-페닐)-메틸-아미노]-메틸}-페닐)-피라진-2-일]-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    N-{3-[4-(4-시아노-페녹시메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    N-{3-[4-(6-플루오로-인돌-1-일메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    2-클로로-N-{3-[4-(5-메톡시-2-메틸-인돌-1-일메틸)-페닐]-피라진-2-일}-벤젠술폰아미드,
    N-{3-[4-(4-메톡시-페녹시메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    N-(3-{4-[(벤질-피리딘-2-일-아미노)-메틸]-페닐}-피라진-2-일)-2-클로로-벤젠술폰아미드,
    N-{3-[4-(2,3-디하이드로-인돌-1-일메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    N-[3-(4-{[(2,4-디클로로-페닐)-메틸-아미노]-메틸}-페닐)-피라진-2-일]-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    N-{3-[4-(3-클로로-페녹시메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    2-클로로-N-[3-(4-{[(2,4-디플루오로-페닐)-메틸-아미노]-메틸}-페닐)-피라진-2-일]-벤젠술폰아미드,
    N-{3-[4-(2-메틸-인돌-1-일메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    2-클로로-N-{3-[4-(5-플루오로-인돌-1-일메틸)-페닐]-피라진-2-일}-벤젠술폰아미드,
    2-클로로-N-[3-(4-{[(2-플루오로-페닐)-메틸-아미노]-메틸}-페닐)-피라진-2-일]-벤젠술폰아미드,
    2-클로로-N-{3-[4-(2-메틸-인돌-1-일메틸)-페닐]-피라진-2-일}-벤젠술폰아미드,
    N-(3-{4-[(벤질-피리딘-2-일-아미노)-메틸]-페닐}-피라진-2-일)-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드,
    2-클로로-N-(3-{4-[(에틸-피리딘-2-일-아미노)-메틸]-페닐}-피라진-2-일)-벤젠술폰아미드,
    N-{3-[4-(5-클로로-2-메틸-인돌-1-일메틸)-페닐]-피라진-2-일}-2-트리플루오로메틸-벤젠술폰아미드.
  15. 제 1항 내지 14항 중 어느 한 항에 따른 적어도 하나의 화합물 및 그것의 약학적으로 허용가능하는 담체, 희석제 또는 부형제를 포함하는 약학 조성물.
  16. 다음 반응 중 하나가 수행되는 것을 특징으로 하는, 제 14항에 따른 화합물의 제조 방법:
    Figure 112007079842438-PCT00099
    여기서, R4, R5, R6은 각각 수소, 알킬, 아릴, 헤테로아릴, C3-C8-시클로알킬 및 C3-C8-헤테로시클로알킬로 구성된 그룹으로부터 선택되거나, 또는 상기 아릴, 헤테로아릴, 시클로알킬 또는 헤테로시클로알킬의 융합된 고리들이다.
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