KR20070088566A - 하전 제어제 및 그 관련 기술 - Google Patents

하전 제어제 및 그 관련 기술 Download PDF

Info

Publication number
KR20070088566A
KR20070088566A KR1020077007761A KR20077007761A KR20070088566A KR 20070088566 A KR20070088566 A KR 20070088566A KR 1020077007761 A KR1020077007761 A KR 1020077007761A KR 20077007761 A KR20077007761 A KR 20077007761A KR 20070088566 A KR20070088566 A KR 20070088566A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
group
substituent
formula
compound
charge control
Prior art date
Application number
KR1020077007761A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100904972B1 (ko
Inventor
가즈요시 구로다
마사시 야스마츠
Original Assignee
오리엔트 가가쿠 고교 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 오리엔트 가가쿠 고교 가부시키가이샤 filed Critical 오리엔트 가가쿠 고교 가부시키가이샤
Publication of KR20070088566A publication Critical patent/KR20070088566A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100904972B1 publication Critical patent/KR100904972B1/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G9/00—Developers
    • G03G9/08—Developers with toner particles
    • G03G9/097—Plasticisers; Charge controlling agents
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G9/00—Developers
    • G03G9/08—Developers with toner particles
    • G03G9/097—Plasticisers; Charge controlling agents
    • G03G9/09733—Organic compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D213/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D213/60—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D213/62—Oxygen or sulfur atoms
    • C07D213/63—One oxygen atom
    • C07D213/68—One oxygen atom attached in position 4
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D213/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D213/60—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D213/78—Carbon atoms having three bonds to hetero atoms, with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals
    • C07D213/79—Acids; Esters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D213/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D213/60—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D213/78—Carbon atoms having three bonds to hetero atoms, with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals
    • C07D213/81—Amides; Imides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D213/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D213/60—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D213/78—Carbon atoms having three bonds to hetero atoms, with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals
    • C07D213/81—Amides; Imides
    • C07D213/82—Amides; Imides in position 3
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D215/00—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems
    • C07D215/02—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D215/04—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms, directly attached to the ring carbon atoms
    • C07D215/06—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms, directly attached to the ring carbon atoms having only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, attached to the ring nitrogen atom
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D215/00—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems
    • C07D215/02—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D215/16—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D215/20—Oxygen atoms
    • C07D215/22—Oxygen atoms attached in position 2 or 4
    • C07D215/233—Oxygen atoms attached in position 2 or 4 only one oxygen atom which is attached in position 4
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D309/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings
    • C07D309/34—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings having three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D309/36—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings having three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with oxygen atoms directly attached to ring carbon atoms
    • C07D309/38—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings having three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with oxygen atoms directly attached to ring carbon atoms one oxygen atom in position 2 or 4, e.g. pyrones
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D311/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings
    • C07D311/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D311/04—Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring
    • C07D311/06—Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring with oxygen or sulfur atoms directly attached in position 2
    • C07D311/08—Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring with oxygen or sulfur atoms directly attached in position 2 not hydrogenated in the hetero ring
    • C07D311/10—Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring with oxygen or sulfur atoms directly attached in position 2 not hydrogenated in the hetero ring unsubstituted
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D311/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings
    • C07D311/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D311/04—Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring
    • C07D311/22—Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring with oxygen or sulfur atoms directly attached in position 4
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D311/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings
    • C07D311/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D311/04—Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring
    • C07D311/42—Benzo[b]pyrans, not hydrogenated in the carbocyclic ring with oxygen or sulfur atoms in positions 2 and 4
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G9/00—Developers
    • G03G9/08—Developers with toner particles
    • G03G9/097—Plasticisers; Charge controlling agents
    • G03G9/09733—Organic compounds
    • G03G9/09758—Organic compounds comprising a heterocyclic ring

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Developing Agents For Electrophotography (AREA)
  • Pyridine Compounds (AREA)
  • Pyrane Compounds (AREA)

Abstract

실용 레벨의 부대전 부여성을 갖고, 무색 내지 담색으로 컬러 토너에 사용할 수 있고, 토너 등의 수지 분체의 대전에 의한 정전하가 환경 변화에 대하여 안정적이고, 보존 안정성·내구성이 우수하며, 안전성이 높은 하전 제어제, 그리고 그 하전 제어제를 이용하는 수지 분체의 하전 제어 방법 및 토너의 제공.
해결 수단
하기 식으로 표시되는 화합물을 유효 성분으로 하는 하전 제어제 그리고 그 하전 제어제를 이용하는 수지 분체의 하전 제어 방법 및 토너.
[화학식 1]
Figure 112007026288300-PCT00087
X : 산소 원자 또는 N-H, R1 내지 R4 : 수소 원자, 카르복실기, 치환기를 갖는 또는 갖지 않는 아미노카르보닐기, 치환기를 갖는 또는 갖지 않는 아미노카르보닐메틸기, 알콕시카르보닐기, 알킬기, 치환기를 갖는 또는 치환기를 갖지 않는 페닐기, R1 내지 R4 에서 선택되는 다른 어느 하나의 기와 함께 치환기를 갖는 또는 갖지 않는 포화 또는 불포화 고리를 형성하는 기를 나타낸다.

Description

하전 제어제 및 그 관련 기술{CHARGE CONTROL AGENT AND RELATED TECHNIQUE}
본 발명은 전자 사진, 정전 기록, 정전 인쇄 등에 있어서의 정전 잠상을 현상하기 위한 정전하상(靜電荷像) 현상용 토너, 그 토너 등의 대전량을 제어할 수 있는 하전 제어제, 그 하전 제어제로서 기능하는 신규 화합물, 및 수지 분체(粉體)의 하전 제어 방법에 관한 것이다.
전자 사진법을 이용한 복사기, 프린터 등에 있어서는, 무기 또는 유기 광 도전 재료를 함유하는 감광층을 구비한 감광체 상에 형성된 정전 잠상을 현상하기 위해서, 착색제 및 정착용 수지 등으로 이루어지는 각종 토너가 이용되고 있다.
이러한 토너의 대전성은 정전 잠상을 현상하는 시스템에 있어서는 특히 중요한 인자이다. 그래서 토너의 대전량을 적절하게 제어 또는 안정화시키기 위해서, 토너 중에 정(正)전하 또는 부(負)전하 부여성의 하전 제어제가 첨가되는 경우가 많다.
종래 실용화되어 있는 하전 제어제 중, 토너에 부전하를 부여하는 것으로는, 모노 아조 화합물의 금속 착염 염료나 알킬살리실산 등의 방향족 옥시카르복실산의 금속 착물 또는 금속염을 들 수 있다.
이들 중, 하전 제어제로서 제안되어 있는 아조 염료 구조의 금속 착물의 상 당수는, 일반적으로 안정성이 부족하고, 예를 들어, 기계적 마찰이나 충격, 전기적 충격이나 광 조사, 온도나 습도 조건의 변화 등에 의해, 분해 또는 변질되어 하전 제어성을 쉽게 상실하게 된다. 또, 실용 레벨의 대전 부여성을 갖는 것이라도, 전하의 안정성에 불충분한 점이 있거나, 유색이기 때문에 컬러 토너용으로서 사용할 수 없는 경우가 많다. 한편, 알킬살리실산 등의 금속 착물은 일반적으로 담색 내지 무색이기 때문에 컬러 토너용으로도 사용되고 있다.
이러한 문제를 해결하여, 복사기나 프린터 등의 성능의 향상에 한층 더 기여할 수 있는 부전하 부여성의 하전 제어제에 대한 제안이 몇 가지 이루어져 있다.
예를 들어, 일본 공개특허공보 평10-186728호 (특허 문헌 1) 에는, 하기 화합물의 금속 착물 또는 금속염이 제안되어 있다.
[화학식 1]
Figure 112007026288300-PCT00001
[식 중, A1 은 유기 고리형 잔기 (예를 들어, 플루오렌 고리, 시클로헥실 고리, 또는 잔텐 고리) 를 나타낸다.]
또 일본 공개특허공보 평8-50372호 (특허 문헌 2) 에는 하전 제어제로서, 예를 들어 하기와 같은 화합물이 개시되어 있다.
[화학식 2]
Figure 112007026288300-PCT00002
또한 일본 공개특허공보 평10-239910호 (특허 문헌 3) 에는, 하기의 쿠마린 (유도체), 이사토산 무수 물 (유도체), 이사틴 (유도체) 과 같은 벤젠 복소환 화합물을 하전 제어제로서 함유하는 부하전성 토너가 제안되어 있다.
[화학식 3]
Figure 112007026288300-PCT00003
또, 일본 공개특허공보 평4-139461호 (특허 문헌 4) 에는, 하전 제어제로서 예를 들어 하기와 같은 화합물이 개시되어 있다.
[화학식 4]
Figure 112007026288300-PCT00004
그러나, 이하의 비교예에서 분명하듯이, 앞서의 일본 공개특허공보 평10-186728호, 일본 공개특허공보 평8-50372호, 일본 공개특허공보 평10-239910호, 및 일본 공개특허공보 평4-139461호에 나타낸 하전 제어제의 특성을 검토한 바, 어느 경우도 무색 내지 담색이긴 하지만 충분한 대전량이나 환경 안정성을 부여하지 않는 것을 알 수 있었다.
특허 문헌 1 : 일본 공개특허공보 평10-186728호
특허 문헌 2 : 일본 공개특허공보 평8-50372호
특허 문헌 3 : 일본 공개특허공보 평10-239910호
특허 문헌 4 : 일본 공개특허공보 평4-139461호
발명의 개시
발명이 해결하고자 하는 과제
본 발명은 종래 기술에 존재하는 상기와 같은 과제를 감안하여 실시된 것으로서, 그 목적으로 하는 것은,
(1) 실용 레벨의 부대전 부여성을 갖고,
(2) 무색 내지 담색으로서, 컬러 토너에 사용할 수 있고,
(3) 사용한 토너 등의 수지 분체의 대전에 의한 정전하가 환경 변화에 대하여 안정적이고,
(4) 보존 안정성 [하전 제어 특성의 시간 경과적 안정성] 이 우수하고,
(5) 내구성 (사용한 토너 등이 여러 번 반복 사용된 경우의 하전 제어 특성의 안정성) 이 우수하며,
(6) 유해한 중금속을 함유하지 않아 안전성이 높다
하전 제어제, 그 하전 제어제로서 기능하는 신규 화합물, 및 그 하전 제어제를 이용하는 수지 분체의 하전 제어 방법, 그리고, 광범위한 온도 영역에 있어서의 정착성 및 비(非)오프셋성을 실현할 수 있음과 함께, 내환경성 (온도나 습도 변화에 대한 대전 특성의 안정성), 보존 안정성 (대전 특성의 시간 경과적 안정성) 및 내구성 (토너가 여러 번 반복 사용된 경우의 대전 특성의 안정성) 이 우수하고, 안정된 토너 화상이 얻어지는 정전하상 현상용 토너를 제공하는 것에 있다.
과제를 해결하기 위한 수단
(1-1) 상기 목적을 달성하는 본 발명의 하전 제어제는,
하기 일반식 (I) 으로 표시되는, 4-피론 고리 또는 4-1H-피리돈 고리를 함유하는 화합물을 유효 성분으로 한다.
[화학식 5]
Figure 112007026288300-PCT00005
… (I)
[식 (I) 중,
X 는 산소 원자 또는 N-H 를 나타내고,
R1 내지 R4 는 서로 독립적으로,
수소원자,
카르복실기,
치환기를 갖는 또는 갖지 않는 아미노카르보닐기,
치환기를 갖는 또는 갖지 않는 아미노카르보닐메틸기,
알콕시카르보닐기,
알킬기,
치환기를 갖는 또는 치환기를 갖지 않는 페닐기,
치환기를 갖는 또는 치환기를 갖지 않는 나프틸기, 또는,
R1 내지 R4 에서 선택되는 다른 어느 하나의 기와 함께 치환기를 갖는 또는 갖지 않는 포화 또는 불포화 고리를 형성하는 기를 나타낸다.]
(1-2) 본 발명의 하전 제어제는, 상기 일반식 (I) 의 화합물이 하기 화합물 1 내지 6 에서 선택되는 1 또는 2 이상인 것으로 하는 것이 바람직하다.
화합물 1
[화학식 6]
Figure 112007026288300-PCT00006
화합물 2
[화학식 7]
Figure 112007026288300-PCT00007
화합물 3
[화학식 8]
Figure 112007026288300-PCT00008
화합물 4
[화학식 9]
Figure 112007026288300-PCT00009
화합물 5
[화학식 10]
Figure 112007026288300-PCT00010
화합물 6
[화학식 11]
Figure 112007026288300-PCT00011
[화합물 1 내지 6 중, R5 내지 R34 는, 서로 독립적으로 수소원자, 알킬기, 치환기를 갖지 않는 또는 치환기를 갖는 시클로알킬기, 치환기를 갖는 또는 치환기를 갖지 않는 페닐기, 또는, 치환기를 갖는 또는 치환기를 갖지 않는 나프틸기를 나타낸다. 이들 페닐기 및 나프틸기에 있어서의 치환기의 예로는, 알킬기, 시클로알킬기, 할로겐 원자, 술폰산에스테르기, 아릴기, 아실아미노기, 아릴카르보닐아미노기, 아미노카르보닐기, 알콕시기, 아실기, 아릴카르보닐기를 들 수 있다. 상기 페닐기 및 나프틸기는, 이들 치환기를 방향 고리 상에 1 또는 2 이상 갖는 것이어도 된다. 치환기가 2 이상인 경우, 그들은 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.]
(1-3) 또 본 발명의 하전 제어제는, 상기 일반식 (Ⅰ) 의 화합물이 하기 화합물 7 및 8 의 일방 또는 양방인 것으로 하는 것이 바람직하다.
화합물 7
[화학식 12]
Figure 112007026288300-PCT00012
화합물 8
[화학식 13]
Figure 112007026288300-PCT00013
[화합물 7 및 8 중, R35 내지 R46 은, 서로 독립적으로 수소원자, 알킬기, 치환기를 갖는 또는 치환기를 갖지 않는 페닐기, 치환기를 갖는 또는 치환기를 갖지 않는 나프틸기, 치환기를 갖는 또는 갖지 않는 아미노카르보닐기, 또는 카르복실기를 나타낸다. 상기 페닐기 및 나프틸기에 있어서의 치환기의 예로는, 알킬기, 시클로알킬기, 할로겐 원자, 술폰산에스테르기, 아릴기, 아실아미노기, 아릴카르보닐아미노기, 아미노카르보닐기, 알콕시기, 아실기, 아릴카르보닐기를 들 수 있다. 상기 페닐기 및 나프틸기는, 이들 치환기를 방향 고리 상에 1 또는 2 이상 갖는 것이어도 된다. 치환기가 2 이상인 경우, 그들은 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.]
(1-4) 또 본 발명의 하전 제어제는, 상기 일반식 (Ⅰ) 의 화합물이 하기 화합물 9 및 10 의 일방 또는 양방인 것으로 하는 것이 바람직하다.
화합물 9
[화학식 14]
Figure 112007026288300-PCT00014
화합물 10
[화학식 15]
Figure 112007026288300-PCT00015
[화합물 9 및 10 중,
R47 및 R49 는. 서로 독립적으로 수산기, 또는 치환기를 갖는 또는 치환기를 갖지 않는 아미노기를 나타내고,
R48 및 R50 은, 서로 독립적으로 수소원자, 알킬기, 치환기를 갖는 또는 치환기를 갖지 않는 페닐기, 또는, 치환기를 갖는 또는 치환기를 갖지 않는 나프틸기를 나타낸다. 이들 페닐기 및 나프틸기에 있어서의 치환기의 예로는, 알킬기, 시클로알킬기, 할로겐 원자, 술폰산에스테르기, 아릴기, 아실아미노기, 아릴카르보닐아미노기, 아미노카르보닐기, 알콕시기, 아실기, 아릴카르보닐기를 들 수 있다. 상기 페닐기 및 나프틸기는, 이들 치환기를 방향 고리 상에 1 또는 2 이상 갖는 것이어도 된다. 치환기가 2 이상인 경우, 그들은 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.]
(2) 본 발명의 정전하상 현상용 토너는, 토너용 수지, 착색제, 및 상기 어느 하나의 하전 제어제를 구비하여 이루어지는 것이다.
(3) 본 발명의 하전 제어 방법은, 수지 분체에 상기 어느 하나의 하전 제어제를 함유시킴으로써 그 수지 분체의 하전 제어를 실시하는 것이다.
(4) 본 발명의 화합물은, 하기 식 (Ⅱ) 으로 표시되는 화합물 또는 하기 식 (Ⅲ) 으로 표시되는 화합물이다.
[화학식 16]
Figure 112007026288300-PCT00016
[식 (Ⅱ) 중,
R51 및 R52 는, 서로 독립적으로 탄소수 1 내지 18 의 분지를 갖지 않는 또는분지를 갖는 알킬기를 나타내고,
m 및 n 은, 서로 독립적으로 0 내지 3 의 정수를 나타낸다.]
또한, 본 명세서 중에 있어서의 알킬기는, 특별한 언급이 없는 한 분지의 유무에 대해서 한정되는 것은 아니다.
[화학식 17]
Figure 112007026288300-PCT00017
[식 (Ⅲ) 중,
R53 및 R54 는, 서로 독립적으로 탄소수 1 내지 18 의 분지를 갖지 않는 또는분지를 갖는 알킬기를 나타내고,
p 및 q 는, 서로 독립적으로 0 내지 3 의 정수를 나타낸다.]
발명의 효과
본 발명의 하전 제어제 및 신규 화합물은, 부전하 부여성 및 그 안정성이 우수함과 함께, 토너용 수지에 대한 분산성이 양호하고, 토너에 이용된 경우에, 대전량의 환경 안정성이 우수하고, 보존 안정성 및 내구성이 우수하며, 유해한 중금속을 함유하지 않기 때문에 안전성이 높고, 무색 내지 담색이기 때문에 토너 등에 이용된 경우에 색조 장해를 잘 일으키지 않는다.
본 발명의 하전 제어 방법에 의하면, 수지 분체의 부하전 제어를 안정적으로 실시할 수 있고, 유해한 중금속을 함유하지 않는 무색 내지 담색의 하전 제어제를 이용하기 때문에 안전성이 높고, 수지 분체의 색조 장해를 잘 일으키지 않는다.
본 발명의 정전하상 현상용 토너는, 광범위한 온도 영역에 있어서의 정착성 및 비오프셋성을 실현할 수 있음과 함께, 내환경성, 보존 안정성 및 내구성이 우수하며, 안정된 복사 화상의 형성이 가능하다.
발명을 실시하기 위한 최선의 형태
본 발명의 하전 제어제는, 상기 일반식 (I) 으로 표시되는 4-피론 고리 또는 4-1H-피리돈 고리를 함유하는 화합물을 유효 성분으로 하는 것이다.
상기 일반식 (I) 에 있어서의 R1 내지 R4 로서의, 치환기를 갖는 또는 갖지 않는 아미노카르보닐기, 치환기를 갖는 또는 갖지 않는 아미노카르보닐메틸기, 알콕시카르보닐기, 및 알킬기에 있어서는 각각 다음과 같은 예를 들 수 있다. 단, 이들에 한정되는 것은 아니다.
아미노카르보닐기로는, 카르바모일기 및 N- 또는 N,N-치환된 카르바모일기를 들 수 있고, 후자에 있어서의 치환기 (1 또는 2 개) 의 예로는, 탄소수 1 내지 18 (바람직하게는 탄소수 1 내지 8) 의 알킬기, 치환기를 갖지 않는 또는 치환기를 갖는 시클로알킬기, 치환기를 갖지 않는 또는 [탄소수 1 내지 18 (바람직하게는 탄소수 1 내지 8) 의 알킬기, 시클로알킬기, 할로겐 원자, 술폰산에스테르기, 아릴기, 아실아미노기, 아릴카르보닐아미노기, 아미노카르보닐기, 알콕시기, 아실기, 아릴카르보닐기 등] 을 치환기로서 갖는 페닐기 또는 나프틸기를 들 수 있다. N- 또는 N,N-치환 카르바모일기의 보다 구체적인 예로는, N-메틸아미노카르보닐기, N-t-부틸아미노카르보닐기, N-페닐아미노카르보닐기, N-(4-t-부틸페닐)아미노카르보닐기, N,N-디페닐아미노카르보닐기, N-(4-t-부틸시클로헥실)아미노카르보닐기, N-(2-클로로페닐)아미노카르보닐기, N-[2-(페녹시술포닐)페닐]아미노카르보닐기, N-(4-비페닐릴)아미노카르보닐기, N-{4-[(t-부틸아미노)카르보닐]페닐}아미노카르보닐기, N-[4-(t-부틸카르보닐아미노)페닐]아미노카르보닐기, N-(4-t-부톡시페닐)아미노카르보닐기, N-[4-(t-부틸카르보닐)페닐]아미노카르보닐기 등, N-(2-나프틸)아미노카르보닐기, N-(4-t-부틸-1-나프틸)아미노카르보닐기, N,N-디(2-나프틸)아미노카르보닐기, N-(4-클로로-2-나프틸)아미노카르보닐기, N-[2-(페녹시술포닐)-1-나프틸]아미노카르보닐기, N-{4-[(t-부틸아미노)카르보닐]-2-나프틸}아미노카르보닐기, N-[4-t-부틸카르보닐아미노)-1-나프틸]아미노카르보닐기, N-(4-t-부톡시-2-나프틸)아미노카르보닐기, N-[4-(t-부틸카르보닐)-1-나프틸]아미노카르보닐기를 들 수 있다.
아미노카르보닐메틸기로는, 카르바모일메틸기 및 N- 또는 N,N-치환된 카르바모일메틸기를 들 수 있고, 후자에 있어서의 치환기 (1 또는 2 개) 의 예로는, 탄소수 1 내지 18 (바람직하게는 탄소수 1 내지 8) 의 알킬기, 치환기를 갖지 않는 또는 치환기를 갖는 시클로알킬기, 치환기를 갖지 않는 또는 [탄소수 1 내지 18 (바람직하게는 탄소수 1 내지 8) 의 알킬기, 시클로알킬기, 할로겐 원자, 술폰산에스테르기, 아릴기, 아실아미노기, 아릴카르보닐아미노기, 아미노카르보닐기, 알콕시기, 아실기, 아릴카르보닐기 등] 을 치환기로서 갖는 페닐기 또는 나프틸기를 들 수 있다. N- 또는 N,N-치환 카르바모일메틸기의 보다 구체적인 예로는, N-메틸아미노카르보닐메틸기, N-t-부틸아미노카르보닐메틸기, N-페닐아미노카르보닐메틸기, N-(4-t-부틸페닐)아미노카르보닐메틸기, N,N-디페닐아미노카르보닐메틸기, N-(4-t-부틸시클로헥실)아미노카르보닐메틸기, N-(2-클로로페닐)아미노카르보닐메틸기, N-[2-(페녹시술포닐페닐)아미노카르보닐메틸기, N-(4-비페닐릴)아미노카르보닐메틸기, N-{4-[(t-부틸아미노)카르보닐]페닐}아미노카르보닐메틸기, N-[4-(t-부틸카르보닐아미노)페닐]아미노카르보닐메틸기, N-(4-t-부톡시페닐)아미노카르보닐메틸기, N-[4-(t-부틸카르보닐)페닐]아미노카르보닐메틸기, N-(2-나프틸)아미노카르보닐메틸기, N-(4-t-부틸-1-나프틸)아미노카르보닐메틸기, N,N-디(2-나프틸)아미노카르보닐메틸기, N-(4-클로로-2-나프틸)아미노카르보닐메틸기, N-[2-(페녹시술포닐)-1-나프틸]아미노카르보닐메틸기, N-{4-[(t-부틸아미노)카르보닐]-2-나프틸}아미노카르보닐메틸기, N-[4-(t-부틸카르보닐아미노)-1-나프틸]아미노카르보닐메틸기, N-(4-t-부톡시-2-나프틸)아미노카르보닐메틸기, N-[4-(t-부틸카르보닐)-1-나프틸]아미노카르보닐메틸기 등을 들 수 있다.
알콕시카르보닐기의 예로는, 메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기, t-부톡시카르보닐기 등의 알콕시기의 탄소수가 1 내지 18 (바람직하게는 탄소수 1 내지 8) 의 알콕시카르보닐기를 들 수 있다.
알킬기의 예로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, t-부틸 기 등의, 탄소수 1 내지 18 (바람직하게는 탄소수 1 내지 8) 의 알킬기를 들 수 있다.
R1 내지 R4 로서의 치환기를 갖는 페닐기 및 치환기를 갖는 나프틸기에 있어서의 치환기로는, 탄소수 1 내지 18 의 알킬기, 시클로알킬기, 할로겐 원자, 술폰산에스테르기, 아릴기, 아실아미노기, 아릴카르보닐아미노기, 아미노카르보닐기, 알콕시기, 아실기, 아릴카르보닐기가 바람직하다. 상기 페닐기 또는 나프틸기는, 이들 치환기를 방향 고리 상에 1 또는 2 이상 갖는 것이어도 된다. 치환기가 2 이상인 경우, 그들은 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.
각 치환기의 보다 구체적인 예를 들지만, 이들에 한정되는 것은 아니다.
알킬기의 예로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, t-부틸 기 등을 들 수 있다.
시클로알킬기의 예로는, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기 등을 들 수 있다.
할로겐 원자의 예로는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자 등을 들 수 있다.
술폰산에스테르기의 예로는, 술폰산메틸, 술폰산에틸, 술폰산부틸기, 술폰산페닐기 등을 들 수 있다.
아릴기의 예로는, 페닐기, 톨릴기, 나프틸기 등을 들 수 있다.
아미노카르보닐기의 예로는, 카르바모일기, N-메틸아미노카르보닐기, N-(4-t-부틸페닐)아미노카르보닐기 등을 들 수 있다.
아실아미노기의 예로는, 아세틸아미노기, 에틸카르보닐아미노기, t-부틸카르보닐아미노기 등을 들 수 있다.
아릴카르보닐아미노기의 예로는, 페닐카르보닐아미노기, (4-t-부틸페닐)카르보닐아미노기, 1-나프틸카르보닐아미노기 등을 들 수 있다.
알콕시기의 예로는, 메톡시기, 에톡시기, t-부톡시기 등을 들 수 있다.
아실기의 예로는 아세틸기, 에틸카르보닐, t-부틸카르보닐기 등을 들 수 있다. 아릴카르보닐기의 예로는 페닐카르보닐기, (4-t-부틸페닐)카르보닐기, 1-나프틸카르보닐기 등을 들 수 있다.
또, R1 내지 R4 가, R1 내지 R4 에서 선택되는 다른 어느 하나의 기와 함께 치환기를 갖는 또는 갖지 않는 포화 또는 불포화 고리를 형성하는 경우, 즉, 일반식 (I) 에 있어서의 R1 내지 R4 에서 임의로 선택되는 두 개의 기 (특히, R1 과 R2, R3 과 R4) 가, 치환기를 갖는 또는 갖지 않는 포화 또는 불포화 고리를 형성하는 경우에 있어서의 포화 또는 불포화 고리의 예로는, 시클로프로펜 고리, 시클로프로판 고리, 시클로 부타디엔 고리, 시클로부탄 고리, 시클로펜타디엔 고리, 시클로펜탄 고리, 시클로헥산 고리, 시클로헵타트리엔 고리, 벤젠 고리, 피리딘 고리, 피란 고리 등의 포화 또는 불포화의 탄소 또는 복소 (예를 들어 탄소와 질소 또는 산소로 이루어지는 복소환) 3 내지 8 원자 고리를 들 수 있다. 단, 이들에 한정되는 것은 아니다.
이 포화 또는 불포화 고리가 갖는 치환기의 예로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, t-부틸기 등의 탄소수 1 내지 18 (바람직하게는 탄소수 1 내지 8) 의 알킬기, 카르복실기, 카르바모일기, 및 N- 또는 N,N-치환된 카르바모일기 등을 들 수 있다. N- 또는 N,N-치환 카르바모일기에 있어서의 치환기 (1 또는 2 개) 의 예로는, 탄소수 1 내지 18 (바람직하게는 탄소수 1 내지 8) 의 알킬기, 치환기를 갖지 않는 또는 치환기를 갖는 시클로알킬기, 치환기를 갖지 않는 또는 [탄소수 1 내지 18 (바람직하게는 탄소수 1 내지 8) 의 알킬기, 시클로알킬기, 할로겐 원자, 술폰산에스테르기, 아릴기, 아실아미노기, 아릴카르보닐아미노기, 아미노카르보닐기, 알콕시기, 아실기, 아릴카르보닐기 등] 을 치환기로서 갖는 페닐기 또는 나프틸기 등을 들 수 있다. N- 또는 N,N-치환 카르바모일기의 보다 구체적인 예로는, N-메틸아미노카르보닐기, N-t-부틸아미노카르보닐기, N-페닐아미노카르보닐기, N-(4-t-부틸페닐)아미노카르보닐기, N,N-디페닐아미노카르보닐기, N-(4-t-부틸시클로헥실)아미노카르보닐기, N-(2-클로로페닐)아미노카르보닐기, N-[2-(페녹시술포닐)페닐]아미노카르보닐기, N-(4-비페닐릴)아미노카르보닐기, N-{4-[(t-부틸아미노)카르보닐]페닐}아미노카르보닐기, N-[4-(아세틸아미노)페닐]아미노카르보닐기, N-(4-t-부톡시페닐)아미노카르보닐기, N-[4-(t-부틸카르보닐)페닐]아미노카르보닐기, N-(2-나프틸)아미노카르보닐기, N-(4-t-부틸-1-나프틸)아미노카르보닐기, N,N-디(2-나프틸)아미노카르보닐기, N-(4-클로로-2-나프틸)아미노카르보닐기, N-[2-(페녹시술포닐)-1-나프틸]아미노카르보닐기, N-{4-[(t-부틸아미노)카르보닐]-2-나프틸}아미노카르보닐기, N-[4-(t-부틸카르보닐아미노)-1-나프틸]아미노카르보닐기, N-(4-t-부톡시-2-나프틸)아미노카르보닐기, N-[4-(t-부틸카르보닐)-1-나프틸]아미노카르보닐기 등을 들 수 있다.
상기 화합물 1 내지 10 에 있어서의, R5 내지 R46, R48, 및 R50 에 대한 알킬기의 예, 및 치환기를 갖는 페닐기에 있어서의 치환기의 예, 그리고 R35 내지 R46 에 대한 아미노카르보닐기의 예는, 상기 R1 내지 R4 에 대한 것과 동일하다.
또, 상기 화합물 1 내지 10 에 있어서의 R47 및 R49 에 대한 치환기를 갖고 있어도 되는 아미노기로는, N- 또는 N,N-치환된 또는 무치환의 아미노기를 들 수 있다. 그 치환기 (1 또는 2 개) 로는, 탄소수 1 내지 18 (바람직하게는 탄소수 1 내지 8) 의 알킬기, 치환기를 갖지 않는 또는 [탄소수 1 내지 18, 바람직하게는 탄소수 1 내지 8 의 알킬기, 시클로알킬기, 할로겐 원자, 술폰산에스테르기, 아릴기, 아실아미노기, 아릴카르보닐아미노기, 아미노카르보닐기, 알콕시기, 아실기, 아릴카르보닐기 등] 을 치환기로서 갖는 페닐기 또는 나프틸기를 들 수 있다. N- 또는 N,N-치환된 또는 무치환의 아미노기의 보다 구체적인 예로는, 아미노기, N-메틸아미노기, N-t-부틸아미노기, N-페닐아미노기, N-(4-t-부틸페닐)아미노기, N,N-디페닐아미노기, N-(4-t-부틸시클로헥실)아미노기, N-(2-클로로페닐)아미노기, N-[2-(페녹시술포닐)페닐]아미노기, N-(4-비페닐릴)아미노기, N-{4-[(t-부틸아미노)카르보닐]페닐}아미노기, N-[4-(아세틸아미노)페닐]아미노기, N-(4-t-부톡시페닐)아미노기, N-[4-(t-부틸카르보닐)페닐]아미노기, N-(2-나프틸)아미노카르보닐기, N-(4-t-부틸-1-나프틸)아미노카르보닐기, N,N-디(2-나프틸)아미노카르보닐기, N-(4-클로로-2-나프틸)아미노카르보닐기, N-[2-(페녹시술포닐)-1-나프틸]아미노카르보닐기, N-{4-[(t-부틸아미노)카르보닐]-2-나프틸}아미노카르보닐기, N-[4-(t-부틸카르보닐아미노)-1-나프틸]아미노카르보닐기, N-(4-t-부톡시-2-나프틸)아미노카르보닐기, N-[4-(t-부틸카르보닐)-1-나프틸]아미노카르보닐기 등을 들 수 있다.
또한, 일반식 (I) 으로 표시되는 4-피론 고리 또는 4-1H-피리돈 고리를 함유하는 화합물은 R1 내지 R4 가,
수소 원자;
탄소수 1 내지 18 (바람직하게는 1 내지 8) 의 알킬기;
치환기를 갖지 않는 또는 N- 또는 N,N-치환된 아미노카르보닐기 [그 치환기 (1 또는 2 개) 로는, 탄소수 1 내지 18 (바람직하게는 탄소수 1 내지 8) 의 알킬기, 치환기를 갖지 않는 또는 치환기를 갖는 시클로알킬기, 치환기를 갖지 않는 또는 치환기를 갖는 페닐기 또는 나프틸기를 예시할 수 있다. 그 페닐기 및 나프틸기의 치환기로는, 탄소수 1 내지 18 (바람직하게는 탄소수 1 내지 8) 의 알킬기, 시클로알킬기, 할로겐 원자, 술폰산에스테르기, 아릴기, 아실아미노기, 아릴카르보닐아미노기, 아미노카르보닐기, 알콕시기, 아실기, 아릴카르보닐기 등을 예시할 수 있다.];
치환기를 갖지 않는 또는 치환기를 갖는 페닐기 또는 나프틸기 [그 치환기로는, 탄소수 1 내지 18 (바람직하게는 1 내지 8) 의 알킬기, 시클로알킬기, 할로겐 원자, 술폰산에스테르기, 아릴기, 아실아미노기, 아릴카르보닐아미노기, 아미노카르보닐기, 알콕시기, 아실기, 아릴카르보닐기 등을 예시할 수 있다.];
또는
두 개의 기가, 치환기를 갖지 않는 또는 치환기를 갖는 6 원자 고리를 형성하고 있는 것 [그 치환기로는, 탄소수 1 내지 18 (바람직하게는 탄소수 1 내지 8) 의 알킬기, 카르복실기, 또는 N- 또는 N,N-치환된 아미노카르보닐기를 예시할 수 있다. 그 N- 또는 N,N-치환 아미노카르보닐기의 치환기 (1 또는 2 개) 로는, 치환기를 갖지 않는 또는 치환기를 갖는 페닐기 또는 나프틸기를 들 수 있고, 그 치환기로는, 탄소수 1 내지 18 (바람직하게는 탄소수 1 내지 8) 의 알킬기, 시클로알킬기, 할로겐 원자, 술폰산에스테르기, 아릴기, 아실아미노기, 아릴카르보닐아미노기, 아미노카르보닐기, 알콕시기, 아실기, 아릴카르보닐기 등을 예시할 수 있다.]
인 것이 바람직하다. 이 경우의 R1 내지 R4 에 대해서도, 일부 또는 전부가 서로 상이해도 되고 동일해도 된다.
일반식 (I) 으로 표시되는 4-피론 고리 또는 4-1H-피리돈 고리를 함유하는 화합물의 바람직한 구체예로서, 하기 화합물예 1 내지 43 을 들 수 있다. 단, 바람직한 예가 이들에 한정되는 것은 아니다.
[화합물예 1]
[화학식 18]
Figure 112007026288300-PCT00018
[화합물예 2]
[화학식 19]
Figure 112007026288300-PCT00019
[화합물예 3]
[화학식 20]
Figure 112007026288300-PCT00020
[화합물예 4]
[화학식 21]
Figure 112007026288300-PCT00021
[화합물예 5]
[화학식 22]
Figure 112007026288300-PCT00022
[화합물예 6]
[화학식 23]
Figure 112007026288300-PCT00023
[화합물예 7]
[화학식 24]
Figure 112007026288300-PCT00024
[화합물예 8]
[화학식 25]
Figure 112007026288300-PCT00025
[화합물예 9]
[화학식 26]
Figure 112007026288300-PCT00026
[화합물예 10]
[화학식 27]
Figure 112007026288300-PCT00027
[화합물예 11]
[화학식 28]
Figure 112007026288300-PCT00028
[화합물예 12]
[화학식 29]
Figure 112007026288300-PCT00029
[화합물예 13]
[화학식 30]
Figure 112007026288300-PCT00030
[화합물예 14]
[화학식 31]
Figure 112007026288300-PCT00031
[화합물예 15]
[화학식 32]
Figure 112007026288300-PCT00032
[화합물예 16]
[화학식 33]
Figure 112007026288300-PCT00033
[화합물예 17]
[화학식 34]
Figure 112007026288300-PCT00034
[화합물예 18]
[화학식 35]
Figure 112007026288300-PCT00035
[화합물예 19]
[화학식 36]
Figure 112007026288300-PCT00036
[화합물예 20]
[화학식 37]
Figure 112007026288300-PCT00037
[화합물예 21]
[화학식 38]
Figure 112007026288300-PCT00038
[화합물예 22]
[화학식 39]
Figure 112007026288300-PCT00039
[화합물예 23]
[화학식 40]
Figure 112007026288300-PCT00040
[화합물예 24]
[화학식 41]
Figure 112007026288300-PCT00041
[화합물예 25]
[화학식 42]
Figure 112007026288300-PCT00042
[화합물예 26]
[화학식 43]
Figure 112007026288300-PCT00043
[화합물예 27]
[화학식 44]
Figure 112007026288300-PCT00044
[화합물예 28]
[화학식 45]
Figure 112007026288300-PCT00045
[화합물예 29]
[화학식 46]
Figure 112007026288300-PCT00046
[화합물예 30]
[화학식 47]
Figure 112007026288300-PCT00047
[화합물예 31]
[화학식 48]
Figure 112007026288300-PCT00048
[화합물예 32]
[화학식 49]
Figure 112007026288300-PCT00049
[화합물예 33]
[화학식 50]
Figure 112007026288300-PCT00050
[화합물예 34]
[화학식 51]
Figure 112007026288300-PCT00051
[화합물예 35]
[화학식 52]
Figure 112007026288300-PCT00052
[화합물예 36]
[화학식 53]
Figure 112007026288300-PCT00053
[화합물예 37]
[화학식 54]
Figure 112007026288300-PCT00054
[화합물예 38]
[화학식 55]
Figure 112007026288300-PCT00055
[화합물예 39]
[화학식 56]
Figure 112007026288300-PCT00056
[화합물예 40]
[화학식 57]
Figure 112007026288300-PCT00057
[화합물예 41]
[화학식 58]
Figure 112007026288300-PCT00058
[화합물예 42]
[화학식 59]
Figure 112007026288300-PCT00059
[화합물예 43]
[화학식 60]
Figure 112007026288300-PCT00060
상기 본 발명의 하전 제어제는, 그 입경이 10㎛ 이하인 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 3㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 1㎛ 이하이다. 입경의 하한은 특별히 없지만, 예를 들어 0.01㎛ 이상으로 할 수 있다. 목적의 입경을 갖는 하전 제어제는, 볼 밀이나 비즈 밀 등의 각종 분쇄기에 의한 건식 또는 습식분쇄 또는 재결정이나 재침 등에 의해 얻을 수 있다.
또, 본 발명의 하전 제어제는, 이온 성분 함유량이 적은 것이 바람직하다. 구체적으로는, 수세시의 여과액의 전도도가 500μS㎝-1 이하인 것이 바람직하고, 300μS㎝-1 이하인 것이 보다 바람직하다.
또, 본 발명의 하전 제어제는, 순도 (하전 제어제 중의 일반식 (I) 으로 표시되는 화합물의 중량 백분율) 가 90% 이상인 것이 바람직하고, 95% 이상인 것이 보다 바람직하다.
다음으로, 본 발명의 정전하상 현상용 토너는, 토너용 수지, 착색제, 및 상기 본 발명의 하전 제어제를 구비하여 이루어지는 것이다. 토너 중에 있어서의 본 발명의 하전 제어제의 유효 성분을 구성하는 일반식 (Ⅰ) 으로 표시되는 화합물은, 단독 종의 화합물이어도 되고 여러 종의 화합물의 혼합물이어도 된다. 또 본 발명의 정전하상 현상용 토너는, 다른 하전 제어제 (예를 들어 아조 금속 착물나 살리실산 금속 착물 등) 를 함유하는 것이어도 된다.
본 발명의 정전하상 현상용 토너는, 상기 식 (I) 으로 표시되는 4-피론 고리 또는 4-1H-피리돈 고리를 함유하는 화합물이, 토너용 수지 100 중량부에 대하여 0.1 내지 10 중량부 배합된 것인 것이 바람직하다. 하전 제어제의 보다 바람직한 배합량은, 토너용 수지 100 중량부에 대하여 0.5 내지 5 중량부이다.
본 발명의 정전하상 현상용 토너에 이용할 수 있는 토너용 수지의 예로는, 다음과 같은 공지된 토너용 수지 (결착 수지) 를 들 수 있다. 즉, 스티렌 수지, 스티렌-아크릴 수지, 스티렌-부타디엔 수지, 스티렌-말레산 수지, 스티렌-비닐메틸에테르 수지, 스티렌-메타아크릴산에스테르 공중합체, 폴리에스테르 수지, 폴리프로필렌 수지 등의 열가소성 수지이다. 이들 수지는, 단독으로 또는 여러 종을 블렌드하여 이용할 수도 있다. 또한, 본 발명의 하전 제어제는, 정전분체 도료에 함유시켜 수지 분체의 전하의 제어 (증강) 를 위해서 이용할 수도 있다. 그 경우의 도료용 수지로는, 예를 들어, 아크릴계, 폴리올레핀계, 폴리에스테르계, 또는 폴리아미드계 등의 열가소성 수지, 그리고, 페놀계, 에폭시계, 폴리에스테르계 등의 열경화성 수지를 들 수 있고, 각각 단독으로 또는 여러 종을 블렌드하여 이용할 수 있다.
본 발명의 토너에 있어서는, 착색제로서 각종의 염료나 안료를, 각각 단독으로 또는 2 종 이상 배합하여 사용할 수 있다. 이용할 수 있는 착색제의 구체예는 다음과 같다. 즉, 퀴노프탈론 옐로우, 이소인돌리논 옐로우, 벤지딘 옐로우, 펠리논 오렌지, 펠리논 레드, 펠리렌 마룬, 로다민6G 레이크, 퀴나클리돈 레드, 안트안트론 레드, 로즈 벵갈, 구리 프탈로시아닌 블루, 구리 프탈로시아닌 그린, 디케토피롤로피롤계 안료 등의 유기 안료; 카본 블랙, 티탄 화이트, 티탄 옐로우, 군청, 코발트 블루, 벵갈라, 알루미늄분, 브론즈 등의 무기 안료 및 금속분; 아조 염료, 퀴노프탈론계 염료, 안트라퀴논계 염료, 프탈로시아닌계 염료, 인도페놀계 염료, 인도아니린계 염료 등의 각종 유용성 염료나 분산 염료 이외에, 로진, 로진 변성 페놀, 로진 변성 말레산 등의 수지에 의해 변성된 트리아릴메탄계 염료 및 잔텐계 염료 등을 예시할 수 있다.
본 발명의 정전하상 현상용 토너는, 예를 들어 다음과 같이 제조된다.
상기와 같은 토너용 수지, 착색제, 및 본 발명의 하전 제어제, 그리고 필요에 따라 자성 재료 (예를 들어, 철, 코발트, 페라이트 등의 강자성 재료제의 미분체), 유동성 개질제 (예를 들어, 실리카, 산화알루미늄, 산화티탄), 오프셋 방지제 (예를 들어, 왁스, 저분자량의 올레핀 왁스) 등을 볼 밀 그 이외의 혼합기에 의해 충분히 혼합한 후, 그 혼합물을 가열 롤, 니더, 익스트루더 등의 열 혼련기를 이용하여 용융 혼련하고, 그 혼련물을 냉각 고화시킨 후, 그 고화물을 분쇄 및 분급함으로써, 평균 입경 5 내지 20㎛ 의 토너를 얻을 수 있다.
또, 결착 수지 용액 중에 재료를 분산시킨 후,분무 건조시킴으로써 얻는 방법, 또는, 결착 수지를 구성해야 할 단량체에 소정 재료를 혼합하여 유화 현탁액으로 한 후에 중합시켜 토너 (소위 중합 토너) 를 얻는 중합법에 의한 토너 제조법 등을 응용할 수 있다.
예를 들어, 현탁 중합법에 있어서는, 중합 단량체, 착색제 및 하전 제어제, 그리고 필요에 따라 중합 개시제, 가교제, 이형제, 및 그 이외의 첨가제를 균일하게 용해 또는 분산시켜 단량체 조성물로 한 후, 이 단량체 조성물을분산 안정제를 함유하는 연속층 (예를 들어 수상) 중에 적당한 분산기를 이용하여 분산시킴과 함께 중합 반응을 시킴으로써, 원하는 입경을 갖는 토너 입자를 얻는 것이 가능하다.
중합 토너용의 수지를 형성하기 위한 중합성 단량체의 예로는, 스티렌, 메틸스티렌 등의 스티렌 유도체; 아크릴산메틸, 아크릴산에틸, 메타아크릴산에틸, 메타아크릴산 n-부틸 등의 (메트)아크릴산에스테르류; 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, 아크릴아미드 등의 비닐계 단량체를 들 수 있다.
상기분산 안정제로는, 각종 계면 활성제 (예를 들어, 도데실벤젠술폰산나트륨) 나 유기 또는 무기분산제 등을 사용할 수 있다. 유기분산제의 예로는, 폴리비닐알코올, 메틸셀룰로오스, 메틸히드록시프로필셀룰로오스 등을 들 수 있다. 무기분산제의 예로는, 인산칼슘, 인산마그네슘, 인산알루미늄과 같은 인산 다가 금속염 미분체; 탄산칼슘, 탄산마그네슘과 같은 탄산염 미분체; 메타 규산칼슘, 황산칼슘, 황산바륨, 수산화칼슘, 수산화알루미늄과 같은 무기분산제 등을 들 수 있다.
상기 중합 개시제로는, 2,2'-아조이소부티로니트릴, 아조비스부티로니트릴과 같은 아조계 또는 디아조계 중합 개시제; 벤조일퍼옥사이드와 같은 과산화물계 중합 개시제 등을 예시할 수 있다.
본 발명의 토너를 2 성분 현상제로서 이용하는 경우에는, 본 발명의 토너를 캐리어분(粉)과 혼합하여 이용할 수 있고, 자기 브러쉬 현상법 등에 의해 현상할 수 있다.
캐리어로는, 특별히 한정되지 않고, 공지된 것이 모두 사용 가능하다. 예시하자면, 입경 50 내지 200㎛ 정도의 철분, 니켈분, 페라이트분, 유리 비즈 등, 및 이들 표면을 아크릴산에스테르 공중합체, 스티렌-아크릴산에스테르 공중합체, 스티렌-메타크릴산에스테르 공중합체, 실리콘 수지, 폴리아미드 수지, 불화에틸렌계 수지 등으로 코팅한 것 등을 들 수 있다.
본 발명의 토너를 1 성분 현상제로서 이용하는 경우에는, 상기와 같이 하여 토너를 제조할 때에, 예를 들어 철분, 니켈분, 페라이트분 등의 강자성 재료제의 미분체를 적당량 첨가 분산시켜 이용할 수 있다. 이 경우의 현상법으로는, 예를 들어 접촉 현상법, 점핑 현상법 등을 들 수 있다.
이러한 본 발명의 토너를 이용한 정전하 이미지의 현상에 있어서는, 토너 중의 본 발명의 하전 제어제에 의해 그 토너의 하전 제어가 실시된다.
도 1 은, 실시예 1 에서 얻어진 화합물 (화합물예 2) 의 1H-NMR 스펙트럼의 차트이다.
도 2 는, 실시예 1 에서 얻어진 화합물 (화합물예 2) 의 IR 스펙트럼의 차트이다.
도 3 은, 실시예 2 에서 얻어진 화합물 (화합물예 15) 의 1H-NMR 스펙트럼의 차트이다.
도 4 는, 실시예 2 에서 얻어진 화합물 (화합물예 15) 의 IR 스펙트럼의 차트이다.
도 5 는, 실시예 2 에서 얻어진 화합물 (화합물예 15) 의 시차열·열 중량 분석의 차트이다.
도 6 은, 실시예 2 에서 얻어진 화합물 (화합물예 15) 의 X 선 회절 스펙트럼의 차트이다.
다음으로 실시예를 들어 본 발명의 토너를 보다 구체적으로 설명하지만, 물론 본 발명은 이들에만 한정되는 것은 아니다. 또한, 이하의 기술에 있어서는, 「 중량부」 를 「부」 라고 생략한다.
실시예 1 ( 화합물예 2 의 합성)
4-t-부틸벤조산메틸 10.0g (52.0mmol) 를 1,2-디메톡시에탄 200㎖ 에 용해시킨 용액에, 나트륨메톡사이드 3.37g (62.4m㏖) 을 첨가하여 환류시켰다. 이것에, 아세톤 3.02g (52.0m㏖) 을 1,2-디메톡시에탄 3.0㎖ 에 용해 용액을 적하하여, 4 시간 환류시킨 후, 방랭하였다. 이어서, 방랭 후의 반응 용액에 물과 10% 염산을 첨가하여, 그 반응 용액을 산성으로 한 것에 대하여 톨루엔 추출을 실시했다. 얻어진 톨루엔층을 포화 탄산수소나트륨 수용액 및 포화 식염수로 세정한 후, 무수 황산마그네슘을 이용하여 건조시켰다. 이어서, 용매를 감압 증류 제거하고, 잔류물을 감압 증류함으로써, 9mmHg 에서 139 내지 145℃ 의 유분(留分) 으로서 (4-t-부틸벤조일) 아세톤 4.71g (41.5% 수율) 을 얻었다.
1,2-디메톡시에탄 (40㎖) 에 수소화나트륨 (60%, 유성, 4.18g [0.105㏖]) 을 첨가하여 환류시킨 것에, 얻어진 (4-t-부틸벤조일)아세톤 4.57g (20.9m㏖) 과 4-t-부틸벤조산메틸 6.03g (31.3m㏖) 을 1,2-디메톡시에탄 (40㎖) 에 용해시킨 용액을 적하하여, 3 시간 환류시켰다. 그 후, 반응 용액에 물을 소량씩 첨가하여 과잉의 수소화나트륨을 분해시킨 후, 반응 용액에 아세트산에틸과 10% 염산수를 첨가하여 반응 용액을 산성으로 했다. 이어서 아세트산에틸을 추출하여, 아세트산에틸층을 포화 식염수로 세정한 후, 무수 황산마그네슘으로 건조시켰다. 이 어서, 용매를 감압 증류 제거한 후, 잔류물을 n-헥산을 이용하여 재결정시킴으로써, 1,5-디(4-t-부틸페닐)-1,3,5-펜탄트리온 5.43g (68.7% 수율) 을 얻었다.
진한 황산 10㎖ 를 빙수로 냉각한 것에, 얻어진 1,5-디(4-t-부틸페닐)-1,3,5-펜탄트리온 1.00g (2.64m㏖) 을 첨가하여 용해시켰다. 이것을 0℃ 에서 1 시간 교반한 후, 반응 용액을 500㎖ 의 물에 첨가하였다. 이어서, 탄산나트륨을 첨가하여 반응 용액을 알칼리성으로 한 후, 결정을 흡인 여과 재취하여 500㎖ 의 물로 세정하였다. 이 때의 전도도는 219μS㎝- 1 이었다. 이것을 감압 하에서 80℃ 에서 건조시켜, 얻어진 결정을 n-헥산을 이용하여 재결정시킴으로써, 0.657g (69.0% 수율) 의 화합물 (화합물예 2) 을 얻었다.
얻어진 화합물 (화합물예 2) 의 IR, NMR, MS, 원소분석의 각 데이터는 하기와 같다. 또, 얻어진 화합물 (화합물예 2) 의 1H-NMR 스펙트럼의 차트 및 IR 스펙트럼의 차트를, 각각 도 1 및 도 2 에 나타낸다.
Figure 112007026288300-PCT00061
화합물예 3, 4, 및 6 도 동일하게 합성을 실시했다.
실시예 2 ( 화합물예 15 의 합성)
THF 500㎖ 에 4-옥소-4H-피란-2,6-디카르복실산 10.0g (54.3m㏖) 을 첨가하여, 이것을 빙수로 냉각시키면서 N,N'-디시클로헥실카르보디이미드 (DCC) 22.4g (0.109㏖) 을 첨가하였다. 빙수로 냉각시키면서 1 시간 교반한 후, 빙수로 냉각하면서 4-t-부틸아닐린 16.2g (0.109㏖) 을 첨가하였다. 실온에서 3 시간 교반한 후, 반응 용액에 소량의 물을 첨가하여, 석출한 결정을 흡인 여과 재취하였다. 얻어진 결정을 DMF (200㎖) 를 이용하여 재결정시켜, 결정을 여과 분리하였다. 그 여과액을 3L 의 물에 첨가하여 결정을 석출시키고, 이것을 흡인 여과 재취하여, 물로 세정하였다. 이 때의 여과액의 전도도는 241μS㎝- 1 이었다. 세정한 결정을 건조시킨 후 아세트산에틸을 이용하여 재결정시킴으로써, 7.69g (31.7% 수율) 의 화합물 (화합물예 15) 을 얻었다.
얻어진 화합물 (화합물예 15) 의 IR, NMR, MS, 원소분석의 각 데이터는 하기와 같다. 또, 얻어진 화합물 (화합물예 15) 의 1H-NMR 스펙트럼의 차트, IR 스펙트럼의 차트, 시차열·열 중량분석의 차트, 및 X 선 회절 스펙트럼의 차트를 각각 도 3 내지 도 6 에 나타낸다.
Figure 112007026288300-PCT00062
실시예 3 ( 화합물예 17 의 합성)
1,4-디히드로-4-옥소피리딘-2,6-디카르복실산 1 수화물 5.00g (24.9m㏖) 을 톨루엔 100㎖ 에 첨가한 것에, 염화티오닐 14.8g (0.124㏖) 및 DMF 0.06㎖ 를 첨가하여, 6 시간 환류시켰다. 이것을 방랭시킨 후, 용매를 감압 증류 제거하여, 잔류물에 THF 100㎖ 와 트리에틸아민 8.82g (87.2m㏖) 을 첨가하고, 추가로 4-옥소-4H-피란-2,6-디카르복실산 8.18g (54.8m㏖) 을 첨가하여, 실온에서 3 시간 교반하였다. 그 후, 용매를 감압 농축하여, 잔류물을 5L 의 물에 첨가하였다. 이것을 실온에서 하룻밤 교반한 후, 결정을 흡인 여과 재취하여, 이것을 1000㎖ 의 물로 세정하였다. 이 때의 여과액의 전도도는 232μS㎝- 1 이었다. 이 결정을 80℃ 에서 건조시킨 후, 아세트산에틸로 재결정시킴으로써, 4.74g (42.7% 수율) 의 화합물 (화합물예 17) 을 얻었다.
화합물예 10, 12, 20, 22, 25, 27 도 동일하게 합성을 실시했다. 또, 화 합물예 7, 9, 11, 13, 18, 19, 21, 23, 24, 26, 28, 29, 30 은, 원료를 4-옥소-4H-피란-2,6-디카르복실산을 대신하여 동일하게 합성을 실시하였다. 또한, 화합물예 15 는 이 방법으로 합성할 수 있다. 또한 화합물예 8, 14, 16 은 합성예 1 과 동일하게 하여 디에스테르체를 합성, 에스테르 부분을 가수분해한 후, 동일하게 반응시킴으로써 합성하였다. 화합물예 34, 35 는 원료에 4-옥소-4H-피란-2,6-디카르복실산을 이용하여 아민을 대신하여 대응되는 알코올을 이용함으로써 합성하였다.
T.S. Wheeler, "Organic Syntheses" Coll.Vol.IV, p.478 (1963) 에는 2-히드록시아세토페논과 염화벤조일로부터, 에스테르화, 전이 반응을 거쳐 폐환을 실시하여, 2-페닐-4H-1-벤조피란-4-온을 합성하는 방법이 기재되어 있다. 화합물예 37 은 이 방법과 동일한 방법으로 합성하였다.
J.R.Prfister, W.E.Wymann, et.al., J.Med.Chem., 23 (3), 335-338 (1980) 에서는, 4-아세톡시벤조산에틸의 전이 반응, 거기에 계속되는 알데히드 유도체와의 축합, 추가로 폐환 반응을 거쳐, 페닐기에 치환기를 갖는 6-카르복시-2-페닐-4H-1-벤조피란-4-온 유도체의 합성을 실시하고 있다. 화합물예 39 는 이 방법과 동일한 방법으로 합성하였다. 또, 이것을 실시예 2 와 동일한 방법으로 아미드화하여 화합물예 40 을 얻었다.
Michael P.Sammes, et.al., J.Chem.Soc.Perkin Trans.I, 5, 1585-90 (1981) 에 있어서는, 2,4-펜탄디온과 에틸렌글리콜로부터, 케탈을 생성하고, 이것에 계속하여 옥살산디에틸과 축합시켜, 추가로 폐환함으로써, 6-메틸-4-옥소-4H-피란-2-카 르복실산을 합성하고 있다. 화합물예 32 는 이 방법과 동일한 방법으로 합성하였다. 또, 이것을 실시예 2 와 동일한 방법으로 아미드화함으로써 화합물예 42 를 얻었다.
M.Yamato and Y.Kusunoki, Chem. Pharm.Bull., 29 (5), 1214-1220 (1981) 에 있어서는, 아세톤디카르복실산디에틸을 마그네슘과의 착물로 하여, 아실화와 동시에 폐환함으로써, 3,5-디에톡시카르보닐-2,6-디메틸-4H-피란-4-온을 합성하고 있다. 화합물예 43 은, 이 방법과 동일하게 합성을 실시하여, 에스테르 부분을 가수분해한 후, 실시예 2 와 동일한 방법으로 아미드함으로써 얻었다.
M.Stiles and J.P.Selegue, J.Org.Chem., 56, 4067-4070 (1991) 에는 1-페닐부탄-1,3-디온과 옥살산디메틸로부터 트리케토산을 합성하고, 이것을 폐환시킴으로써 4-옥소-6-페닐-4H-피란-2-카르복실산을 합성하는 방법이 기재되어 있다. 화합물예 33 은 이 방법과 동일하게 하여 합성하였다.
J.S.Bradshaw, P.Huszthy, et.al., Supermolecule chemistry, Vol.1, 267-275 (1993) 에는 4-1H-피리돈-2,6-디카르복실산을 메탄올 중 염화티오닐을 이용함으로써 디메틸에스테르화를 실시하는 방법이 기재되어 있다. 화합물예 36 은 이 방법과 동일하게 하여 합성하였다.
Kumari Sadhana Banerjee and S.S.Deshapande, J.Indian.Chem.Soc, 52 (1), 41-44 (1975) 에는, 2-에틸-6-메틸-4-옥소-4H-피란을 봉관(封管) 중 암모니아와 반응시킴으로써, 2-에틸-6-메틸-1,4-디히드로-4-옥소피리딘을 합성하고 있다. 화합물예 5, 38, 41 은 각각, 실시예 1, 화합물예 37, 화합물예 40 과 동일하게 하여 피론 유도체를 합성한 것에 대하여 이 반응을 이용함으로써 합성하였다.
실시예 4
스티렌-아크릴 공중합수지 [산요 화성사 제조 상품명: CPR-600B] … 100 부
저중합 폴리프로필렌 [산요 화성사 제조 상품명 : 비스콜 550P] … 3 부
카본 블랙 [미츠비시 화학사 제조 상품명 : MA-100] … 6 부
하전 제어제 [화합물예 15] … 1 부
상기 배합물을 고속 밀로 균일하게 예비 혼합하여 프레 믹스를 조제하였다. 이 프레 믹스를 가열 롤로 용융 혼련하고, 이 혼련물을 냉각시킨 후, 초원심분쇄기로 조(粗)분쇄하였다. 얻어진 조쇄물을 분급기가 부착된 에어젯 밀을 이용하여 미분쇄함으로써, 평균 입경 10㎛ 의 흑색 토너를 얻었다.
얻어진 토너 5 부에 대하여 페라이트 캐리어 (파우다테크사 제조 상품명 : F-150) 95 부를 혼합하여 현상제를 조제하였다.
본 현상제를 폴리 병 중에 계량하여, 회전수 100rpm 의 볼 밀에 의해 교반하여 현상제를 대전시키고, 표준 조건 (20℃, 상대 습도 60%) 으로 시간 경과시 대전량을 측정하였다. 교반 시간 (분) 마다의 마찰 대전량의 측정 결과를 표 1 에 나타낸다. 또, 저온 저습 (5℃, 상대 습도 30%) 및 고온 고습 (35℃, 상대 습도 90%) 의 각 조건 하에서 동일하게 하여 초기 블로우 오프 대전량을 측정 (교반 시간 : 10 분간) 한 결과, 즉 대전량 환경 안정성의 측정 결과를 표 2 에 나타낸다.
또한, 대전량의 측정은 도시바 케미칼사 제조의 블로우 오프 대전량 측정기 [상품명 : TB-200] 에 의해 실시했다.
본 현상제를 이용하여 시판되는 복사기 [유기 감광체 (OPC) 드럼 사용의 기종] 로 토너의 화상을 형성했다. 얻어진 토너 화상에 대하여, 백화, 선 재현성, 대전 안정성 및 지속성, 오프셋 현상을 육안으로 관찰하여, 각각 2 단계 또는 3 단계로 평가했다. 토너 화상의 평가 결과를 표 3 에 나타낸다.
또한, 백화에 대해서는, 백화가 없는 것을 ○, 있는 것을 × 로 했다. 선 재현성에 있어서는, 선 재현성이 양호한 것을 ○, 그 중에서도 특히 양호한 것을 ◎, 나쁜 것을 × 로 했다. 대전 안정성 및 지속성에 대해서는, 대전 안정성 및 지속성이 좋은 것을 ○, 그 중에서도 특히 양호한 것을 ◎, 나쁜 것을 × 로 했다. 오프셋 현상에 대해서는, 오프셋 현상이 관찰되지 않은 것을 ○, 관찰된 것을 × 로 했다.
실시예 5
스티렌-아크릴 공중합수지 [산요 화성사 제조 상품명 : CPR-600B] … 100 부
저중합 폴리프로필렌 [산요 화성사 제조 상품명 : 비스콜 550P]… 3 부
C.I.피그먼트 레드 122 … 5 부
하전 제어제 [화합물예 15] … 1 부
상기 배합물을 실시예 4 와 동일하게 처리하여 마젠타 토너 및 현상제를 조제하여, 실시예 4 와 동일하게 측정한 시간 경과시 대전량 및 대전량 환경 안정성의 측정 결과를 각각 표 1 및 표 2 에 나타낸다.
또, 본 현상제를 이용하여 실시예 4 와 동일하게 형성한 토너 화상의 평가 결과를 표 3 에 나타낸다.
실시예 6
스티렌-아크릴 공중합수지 [산요 화성사 제조 상품명 : CPR-600B] … 100 부
저중합 폴리프로필렌 [산요 화성사 제조 상품명 : 비스콜 550P] … 3 부
C.I.피그먼트 옐로우 180 … 5 부
하전 제어제 [화합물예 15] … 1 부
상기 배합물을 실시예 4 와 동일하게 처리하여 옐로우 토너 및 현상제를 조제하고, 실시예 4 와 동일하게 측정한 시간 경과시 대전량 및 대전량 환경 안정성의 측정 결과를 각각 표 1 및 표 2 에 나타낸다.
또, 본 현상제를 이용하여 실시예 4 와 동일하게 형성한 토너 화상의 평가 결과를 표 3 에 나타낸다.
실시예 7
스티렌 … 80부
n-부틸메타크릴레이트 … 20 부
C.I. 피그먼트 옐로우 180 … 5 부
2,2'-아조이소부티로니트릴 … 1.8 부
하전 제어제 (화합물예 15) … 1 부
상기 배합물을 고속 믹서로 균일하게 프레 믹싱하여 중합성 단량체 조성물을 얻었다.
한편, 농도 0.1몰% 의 제 3 인산나트륨 수용액 100㎖ 를 증류수 600㎖ 에 의 해 희석하여, 이 액을 교반하면서, 이 액에 대하여 농도 1.0몰/리터의 염화칼슘 수용액 18.7㎖ 를 서서히 첨가하였다. 또한, 이 혼합액을 교반하면서, 이 혼합액에 대하여, 농도 20 중량% 의 도데실벤젠술폰산나트륨 수용액 0.15g 을 첨가하여 분산액을 조제하였다.
이 분산액을 상기 중합성 단량체 조성물에 첨가하여 TK 식 호모 믹서 (특수기 화공사 제조) 에 의해 고속 교반하면서 온도 65℃ 로 승온시키고, 승온 후 30 분간 교반한 후, 추가로 80℃ 까지 승온시켜, 통상의 교반기에 의해 회전수 100rpm 으로 교반하여, 온도 80℃ 인 채로 6 시간 중합시켰다.
중합 종료 후, 반응 혼합물을 냉각시켜 고형물을 여과 분리하고, 그 여과 재취물을 농도 5 중량% 의 염산 수용액 중에 침지시킴으로써, 분산제로서 이용한 인산칼슘을 분해하였다. 얻어진 고형물을 세정액이 중성이 될 때까지 수세하고, 탈수, 건조시킴으로써, 평균 입경 13㎛ 의 옐로우 토너를 얻었다.
얻어진 중합 토너 5 부에 대하여, 페라이트 캐리어 (파우다테크사 제조, 상품명 : F-150) 95 부를 혼합하여 현상제를 조제하고, 실시예 4 와 동일하게 측정한 시간 경과시 대전량 및 대전량 환경 안정성의 측정 결과를 각각 표 1 및 표 2 에 나타낸다.
또, 본 현상제를 이용하여 실시예 4 와 동일하게 형성한 토너 화상의 평가 결과를 표 3 에 나타낸다.
실시예 8
스티렌 … 80 부
n-부틸메타크릴레이트 … 20 부
카본 블랙 [미츠비시 화학사 제조 상품명 : MA-100] … 5 부
2,2'-아조이소부티로니트릴 … 1.8 부
하전 제어제 (화합물예 15) … 1 부
상기 배합물을 실시예 7 과 동일하게 처리하여 흑색 중합 토너 및 현상제를 조제하고, 실시예 4 와 동일하게 측정한 시간 경과시 대전량 및 대전량 환경 안정성의 측정 결과를 각각 표 1 및 표 2 에 나타낸다.
또, 본 현상제를 이용하여 실시예 4 와 동일하게 형성한 토너 화상의 평가 결과를 표 3 에 나타낸다.
실시예 9
스티렌-아크릴 공중합수지 [산요 화성사 제조 상품명 : CPR-600B] … 100 부
저중합 폴리프로필렌 [산요 화성사 제조 상품명 : 비스콜 550P] … 3 부
C.I. 피그먼트 레드 122 … 5 부
상기 배합물을 고속 밀로 균일하게 예비 혼합하여 프레 믹스를 조제하였다. 이 프레 믹스를 가열 롤로 용융 혼련하고, 이 혼련물을 냉각시킨 후, 초원심 분쇄기로 조분쇄하였다. 얻어진 조쇄물을 분급기가 부착된 에어젯 밀을 이용하여 미분쇄함으로써, 평균 입경 10㎛ 의 마젠타 토너의 모입자를 얻었다.
얻어진 모(母)입자 108 중량부에 대하여, 화합물예 15 (하전 제어제) 로 이루어지는 자 입자 1 중량부를 외첨(外添) 함으로써 토너를 얻었다.
이 토너 5 중량부에 대하여, 페라이트 캐리어 (F-150 : 파우다테크사 제조의 상품명) 95 중량부를 혼합하여 현상제를 조정하였다.
본 현상제를 폴리 병 중에 계량하여, 회전수 100rpm 의 볼 밀에서 교반하여, 현상제를 대전시켜 시간 경과시 대전량을 측정하였다. 실시예 4 와 동일하게 측정한 시간 경과시 대전량 및 대전량 환경 안정성의 측정 결과를 각각 표 1 및 표 2 에 나타낸다.
또, 본 현상제를 이용하여 실시예 4 와 동일하게 형성한 토너 화상의 평가 결과를 표 3 에 나타낸다.
실시예 10
폴리에스테르 수지 [미츠비시 레이온사 제조 상품명 : 다이아크론 ER-561] … 100 부
카본 블랙 [미츠비시 화학사 제조 상품명 : MA-100] … 5 부
하전 제어제 [화합물예 15] … 1 부
상기 배합물을 실시예 4 와 동일하게 처리하여 흑색 토너 및 현상제를 조제하고, 실시예 4 와 동일하게 측정한 시간 경과시 대전량 및 대전량 환경 안정성의 측정 결과를 각각 표 1 및 표 2 에 나타낸다.
또, 본 현상제를 이용하여 실시예 4 와 동일하게 형성한 토너 화상의 평가 결과를 표 3 에 나타낸다.
실시예 11 내지 25
실시예 11 내지 25 는, 실시예 4 의 하전 제어제를 각각 화합물예 1, 2, 4, 5, 8, 12, 14, 17, 20, 23, 26, 27, 33, 37, 및 43 을 대신한 것 이외에는 동일하 게 하여 흑색 토너 및 현상제를 얻었다. 실시예 4 와 동일하게 측정한 시간 경과시 대전량 및 대전량 환경 안정성의 측정 결과를 각각 표 1 및 표 2 에 나타낸다.
또, 본 현상제를 이용하여 실시예 4 와 동일하게 형성한 토너 화상의 평가 결과를 표 3 에 나타낸다.
비교예 1
하전 제어제를 일본 공개특허공보 평4-139461호에 기재된 화합물예 1 (하기) 로 바꾼 것 이외에는 실시예 4 와 동일하게 하여 흑색 토너 및 현상제를 얻었다. 실시예 4 와 동일하게 측정한 시간 경과시 대전량 및 대전량 환경 안정성의 측정 결과를 각각 표 1 및 표 2 에 나타낸다.
[화학식 61]
Figure 112007026288300-PCT00063
비교예 2
하전 제어제를 일본 공개특허공보 평4-139461호에 기재된 화합물예 2 (하기) 로 바꾼 것 이외에는 실시예 4 와 동일하게 하여 흑색 토너 및 현상제를 얻었다. 실시예 4 와 동일하게 측정한 시간 경과시 대전량 및 대전량 환경 안정성의 측정 결과를 각각 표 1 및 표 2 에 나타낸다.
[화학식 62]
Figure 112007026288300-PCT00064
비교예 3
하전 제어제를 일본 공개특허공보 평8-50372호에 기재된 화합물 1 (하기) 로 바꾼 것 이외에는 실시예 4 와 동일하게 하여 흑색 토너 및 현상제를 얻었다. 실시예 4 와 동일하게 측정한 시간 경과시 대전량 및 대전량 환경 안정성의 측정 결과를 각각 표 1 및 표 2 에 나타낸다.
[화학식 63]
Figure 112007026288300-PCT00065
비교예 4
하전 제어제를 일본 공개특허공보 평8-50372호에 기재된 화합물 8 (하기) 로 바꾼 것 이외에는 실시예 4 와 동일하게 하여 흑색 토너 및 현상제를 얻었다. 실시예 4 와 동일하게 측정한 시간 경과시 대전량 및 대전량 환경 안정성의 측정 결과를 각각 표 1 및 표 2 에 나타낸다.
[화학식 64]
Figure 112007026288300-PCT00066
비교예 5
하전 제어제를 일본 공개특허공보 평10-239910호에 기재된 실시예 1 (하기) 에 나타낸 화합물로 바꾼 것 이외에는 실시예 4 와 동일하게 하여 흑색 토너 및 현상제를 얻었다. 실시예 4 와 동일하게 측정한 시간 경과시 대전량 및 대전량 환경 안정성의 측정 결과를 각각 표 1 및 표 2 에 나타낸다.
[화학식 65]
Figure 112007026288300-PCT00067
비교예 6
하전 제어제를 일본 공개특허공보 평10-239910호에 기재된 실시예 15 에 나타낸 화합물 (하기) 로 바꾼 것 이외에는 실시예 4 와 동일하게 하여 흑색 토너 및 현상제를 얻었다. 실시예 4 와 동일하게 측정한 시간 경과시 대전량 및 대전량 환경 안정성의 측정 결과를 각각 표 1 및 표 2 에 나타낸다.
[화학식 66]
Figure 112007026288300-PCT00068
비교예 7
하전 제어제를 일본 공개특허공보 평10-239910호에 기재된 실시예 24 에 나타낸 화합물 (하기) 로 바꾼 것 이외에는 실시예 4 와 동일하게 하여 흑색 토너 및 현상제를 얻었다. 실시예 4 와 동일하게 측정한 시간 경과시 대전량 및 대전량 환경 안정성의 측정 결과를 각각 표 1 및 표 2 에 나타낸다.
[화학식 67]
Figure 112007026288300-PCT00069
비교예 8
하전 제어제를 2,6-디메틸퀴논 (하기) 으로 바꾼 것 이외에는 실시예 4 와 동일하게 하여 흑색 토너 및 현상제를 얻었다. 실시예 4 와 동일하게 측정한 시간 경과시 대전량 및 대전량 환경 안정성의 측정 결과를 각각 표 1 및 표 2 에 나타낸다.
[화학식 68]
Figure 112007026288300-PCT00070
Figure 112007026288300-PCT00071
Figure 112007026288300-PCT00072
Figure 112007026288300-PCT00073

Claims (8)

  1. 하기 일반식 (I) 으로 표시되는 화합물을 유효 성분으로 하는 하전 제어제.
    [화학식 1]
    Figure 112007026288300-PCT00074
    … (I)
    [식 (I) 중,
    X 는 산소 원자 또는 N-H 를 나타내고,
    R1 내지 R4 는 서로 독립적으로,
    수소 원자,
    카르복실기,
    치환기를 갖는 또는 갖지 않는 아미노카르보닐기,
    치환기를 갖는 또는 갖지 않는 아미노카르보닐메틸기,
    알콕시카르보닐기,
    알킬기,
    치환기를 갖는 또는 치환기를 갖지 않는 페닐기,
    치환기를 갖는 또는 치환기를 갖지 않는 나프틸기, 또는,
    R1 내지 R4 에서 선택되는 다른 어느 하나의 기와 함께 치환기를 갖는 또는 갖지 않는 포화 또는 불포화 고리를 형성하는 기를 나타낸다.]
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 일반식 (I) 의 화합물이 하기 화합물 1 내지 6 에서 선택되는 1 또는 2 이상인 하전 제어제.
    화합물 1
    [화학식 2]
    Figure 112007026288300-PCT00075
    화합물 2
    [화학식 3]
    Figure 112007026288300-PCT00076
    화합물 3
    [화학식 4]
    Figure 112007026288300-PCT00077
    화합물 4
    [화학식 5]
    Figure 112007026288300-PCT00078
    화합물 5
    [화학식 6]
    Figure 112007026288300-PCT00079
    화합물 6
    [화학식 7]
    Figure 112007026288300-PCT00080
    [화합물 1 내지 6 중,
    R5 내지 R34 는 서로 독립적으로 수소 원자, 알킬기, 치환기를 갖지 않는 또는 치환기를 갖는 시클로알킬기, 치환기를 갖는 또는 치환기를 갖지 않는 페닐기, 또는, 치환기를 갖는 또는 치환기를 갖지 않는 나프틸기를 나타내고,
    상기 치환기를 갖는 페닐기 및 치환기를 갖는 나프틸기는 각각, 방향 고리 상에 치환기로서 알킬기, 시클로알킬기, 할로겐 원자, 술폰산에스테르기, 아릴기, 아실아미노기, 아릴카르보닐아미노기, 아미노카르보닐기, 알콕시기, 아실기, 또는 아릴카르보닐기를 1 또는 2 이상 갖고, 치환기를 2 이상 갖는 경우, 그들은 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.]
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 일반식 (I) 의 화합물이 하기 화합물 7 및 8 의 일방 또는 양방인 하전 제어제.
    화합물 7
    [화학식 8]
    Figure 112007026288300-PCT00081
    화합물 8
    [화학식 9]
    Figure 112007026288300-PCT00082
    [화합물 7 및 8 중,
    R35 내지 R46 은 서로 독립적으로 수소 원자, 알킬기, 치환기를 갖는 또는 치환기를 갖지 않는 페닐기, 치환기를 갖는 또는 치환기를 갖지 않는 나프틸기, 치환기를 갖는 또는 갖지 않는 아미노카르보닐기, 또는 카르복실기를 나타내고,
    상기 치환기를 갖는 페닐기 및 치환기를 갖는 나프틸기는 각각, 방향 고리 상에 치환기로서 알킬기, 시클로알킬기, 할로겐 원자, 술폰산에스테르기, 아릴기, 아실아미노기, 아릴카르보닐아미노기, 아미노카르보닐기, 알콕시기, 아실기, 또는 아릴카르보닐기를 1 또는 2 이상 갖고, 치환기를 2 이상 갖는 경우, 그들은 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.]
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 일반식 (I) 의 화합물이 하기 화합물 9 및 10 의 일방 또는 양방인 하전 제어제.
    화합물 9
    [화학식 10]
    Figure 112007026288300-PCT00083
    화합물 10
    [화학식 11]
    Figure 112007026288300-PCT00084
    [화합물 9 및 10 중,
    R47 및 R49 는 서로 독립적으로 수산기, 또는 치환기를 갖는 또는 치환기를 갖지 않는 아미노기를 나타내고,
    R48 및 R50 은 서로 독립적으로 수소 원자, 알킬기, 치환기를 갖는 또는 치환기를 갖지 않는 페닐기, 또는 치환기를 갖는 또는 치환기를 갖지 않는 나프틸기를 나타내고,
    상기 치환기를 갖는 페닐기 및 치환기를 갖는 나프틸기는 각각, 방향 고리 상에 치환기로서 알킬기, 시클로알킬기, 할로겐 원자, 술폰산에스테르기, 아릴기, 아실아미노기, 아릴카르보닐아미노기, 아미노카르보닐기, 알콕시기, 아실기, 또는 아릴카르보닐기를 1 또는 2 이상 갖고, 치환기를 2 이상 갖는 경우, 그들은 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.]
  5. 토너용 수지, 착색제 및 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 기재된 하전 제어제를 구비하여 이루어지는 정전하상(靜電荷像) 현상용 토너.
  6. 수지 분체(粉體)에 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 기재된 하전 제어제를 함유시킴으로써 그 수지 분체의 하전 제어를 실시하는 하전 제어 방법.
  7. 하기 식 (Ⅱ) 으로 표시되는 화합물.
    [화학식 12]
    Figure 112007026288300-PCT00085
    [식 (Ⅱ) 중,
    R51 및 R52 는 서로 독립적으로 탄소수 1 내지 18 의 분지를 갖지 않는 또는 분지를 갖는 알킬기를 나타내고,
    m 및 n 은, 서로 독립적으로 0 내지 3 의 정수를 나타낸다.]
  8. 하기 식 (Ⅲ) 으로 표시되는 화합물.
    [화학식 13]
    Figure 112007026288300-PCT00086
    [식 (Ⅲ) 중,
    R53 및 R54 는, 서로 독립적으로 탄소수 1 내지 18 의 분지를 갖지 않는 또는 분지를 갖는 알킬기를 나타내고,
    p 및 q 는, 서로 독립적으로 0 내지 3 의 정수를 나타낸다.]
KR1020077007761A 2005-03-24 2006-03-22 부전하 부여성 하전 제어제, 정전하상 현상용 토너 및 하전 제어 방법 KR100904972B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005087246 2005-03-24
JPJP-P-2005-00087246 2005-03-24

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20070088566A true KR20070088566A (ko) 2007-08-29
KR100904972B1 KR100904972B1 (ko) 2009-06-26

Family

ID=37023804

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020077007761A KR100904972B1 (ko) 2005-03-24 2006-03-22 부전하 부여성 하전 제어제, 정전하상 현상용 토너 및 하전 제어 방법

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20110045397A1 (ko)
EP (1) EP1862860A4 (ko)
JP (1) JP4980208B2 (ko)
KR (1) KR100904972B1 (ko)
CN (1) CN100549847C (ko)
WO (1) WO2006101144A1 (ko)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5477092B2 (ja) * 2010-03-18 2014-04-23 株式会社リコー トナー、並びに該トナーを用いた画像形成方法及びプロセスカートリッジ
JP5494072B2 (ja) * 2010-03-18 2014-05-14 株式会社リコー トナー、並びに該トナーを用いた画像形成方法及びプロセスカートリッジ
CN103403625B (zh) * 2011-02-28 2016-04-06 东方化学工业株式会社 电荷控制剂以及含有其的静电图像显影用色粉
JP7099910B2 (ja) * 2018-08-31 2022-07-12 保土谷化学工業株式会社 電荷制御剤及びそれを用いたトナー
EP4058210A4 (en) 2019-11-14 2024-01-03 Swimc Llc METAL PACKAGING POWDER COATING COMPOSITIONS, COATED METAL SUBSTRATES AND METHODS

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55102504A (en) * 1979-01-29 1980-08-05 Kuraray Co Ltd Pyrrone-based fungicide for agriculture and gardening
IL59748A (en) * 1979-04-05 1983-11-30 Lilly Industries Ltd 5-substituted pyranone derivatives,their production and pharmaceutical compositions containing them
US4964896A (en) * 1980-05-12 1990-10-23 Monsanto Company Certain-2,6-diphenyl-1,4-dihydro-4-oxo-nicotinates which are useful for inducing male sterility in cereal grain plants
JPH0778059B2 (ja) * 1986-03-11 1995-08-23 ダイセル化学工業株式会社 ピロン−３−カルボキサミド誘導体及び除草剤
JPH07104623B2 (ja) 1987-02-24 1995-11-13 富士ゼロックス株式会社 静電荷像用現像剤組成物
US5075190A (en) * 1990-07-31 1991-12-24 Eastman Kodak Company Toners and developers containing N-substituted pyridinium salts as charge control agents
JPH04290882A (ja) * 1991-03-19 1992-10-15 Kao Corp γ−ピロン誘導体、これを含有する紫外線吸収剤及び化粧料
GB9413076D0 (en) * 1994-06-29 1994-08-17 Zeneca Ltd Composition and use
US5663029A (en) * 1996-01-24 1997-09-02 Xerox Corporation Electrostatic imaging process
GB9723856D0 (en) 1997-11-12 1998-01-07 Zeneca Ltd Compound,composition and use
GB9723858D0 (en) 1997-11-12 1998-01-07 Zeneca Ltd Compound,composition and use
JP4171343B2 (ja) 2003-04-28 2008-10-22 三井化学株式会社 ピラン化合物、及び該化合物を用いる光記録媒体

Also Published As

Publication number Publication date
US20110045397A1 (en) 2011-02-24
CN100549847C (zh) 2009-10-14
KR100904972B1 (ko) 2009-06-26
JPWO2006101144A1 (ja) 2008-09-04
WO2006101144A1 (ja) 2006-09-28
EP1862860A1 (en) 2007-12-05
EP1862860A4 (en) 2009-10-21
CN101044436A (zh) 2007-09-26
JP4980208B2 (ja) 2012-07-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8900785B2 (en) Charge control agent and toner using the same
KR100904972B1 (ko) 부전하 부여성 하전 제어제, 정전하상 현상용 토너 및 하전 제어 방법
JPH07224024A (ja) スルホンアミドおよびそれを含む現像剤並びに現像方法
JP2742084B2 (ja) グアニジン二量化物およびグアニジン二量化物を含有する静電荷像現像用トナー
JPH09281749A (ja) 静電荷像現像用トナー
US5385799A (en) Toner for development of electrostatic image
WO2012035990A1 (ja) 電荷制御剤及びそれを用いたトナー
JP3946558B2 (ja) 荷電制御剤およびそれを含む静電荷像現像用正帯電性トナー
JP6720196B2 (ja) ピラゾロン誘導体または該誘導体の塩を用いた電荷制御剤およびトナー
JP5294233B2 (ja) 荷電付与組成物およびそれを用いた荷電付与部材
WO2015046255A1 (ja) トナー、現像剤及びトナーカートリッジ
JP7099910B2 (ja) 電荷制御剤及びそれを用いたトナー
US9835965B2 (en) Charge control agent and toner using same
JP2009086655A (ja) 荷電制御剤及びその関連技術
JP2009042750A (ja) 荷電制御剤及びその関連技術
US20090053641A1 (en) Charge control agent and related art
JP5294232B2 (ja) 正帯電性荷電制御剤およびそれを含む静電荷像現像用正帯電性トナー
JPH08234495A (ja) 静電写真用乾式粒状トナー組成物
JP4086717B2 (ja) 荷電制御剤及びそれを含む静電荷像現像用正帯電性トナー
JP4150150B2 (ja) 荷電制御剤、静電荷像現像用トナー及び荷電制御方法
JP3533905B2 (ja) 静電荷像現像用帯電制御剤およびそれを用いたトナー
JP2020052373A (ja) 電荷制御剤及びそれを用いたトナー
JP4755540B2 (ja) 正帯電性荷電制御剤及びそれを用いるトナーの荷電制御方法
JP2009282238A (ja) 荷電制御剤、荷電制御剤を含む静電荷像現像用トナー、及び荷電制御方法
JP2003005449A (ja) 電荷調整剤、及びトナー

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
AMND Amendment
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
J201 Request for trial against refusal decision
AMND Amendment
B701 Decision to grant
GRNT Written decision to grant
LAPS Lapse due to unpaid annual fee