KR20070070047A - 평면가공 장치 및 이 가공장치로 가공한 평면 스테이지의지지방법 - Google Patents

Abstract

비교적 적은 공수로 대형 워크의 표면을 평탄하게 가공하는 평면가공 장치를 제공함과 동시에, 가공된 워크를 표면이 평면이 되도록 지지하는 방법을 제공한다.

워크(W)를, 3개소의 높이가 고정인 고정식 지지체(1)의 진공 흡착부 상에 얹어 유지 고정한다. 다음으로 변위식 지지체(2)의 에어 실린더에 에어를 공급하여 상승시켜 워크(W)의 이면에 접촉한 시점에서, 변위식 지지체(2)의 높이 방향의 위치를 고정하고, 워크(W)를 유지 고정한다. 이 상태에서, 가공 헤드(10)를 이동시켜, 워크(W)의 표면을 연마 연삭하여 평면으로 가공한다. 이렇게 하여 가공한 워크를, 예를 들면 노광장치의 워크 스테이지로서 이용하는 경우에는, 가공했을 때의 고정식 지지체(1)의 배치와 같은 위치관계가 되도록 지지체를 배치하여, 가공했을 때와 같은 지지상태를 재현시킴으로써, 워크의 표면이 평탄해지도록 설치한다.

Description

평면가공 장치 및 이 가공장치로 가공한 평면 스테이지의 지지방법{FLAT SURFACE MACHINING DEVICE AND METHOD OF SURPORT OF FLAT STAGE MACHINED BY THE SAME}

도 1은 본 발명의 실시예의 평면가공 장치의 구성을 나타낸 도면.

도 2는 고정식 지지체의 구조를 나타낸 단면도.

도 3은 변위식 지지체의 구조를 나타낸 단면도.

도 4는 제1 실시예에서의 지지체의 배치예를 나타낸 평면도.

도 5는 본 발명의 제1 실시예의 가공순서를 나타낸 도면.

도 6은 제1 실시예의 순서로 가공한 워크를 워크 스테이지로서 이용하는 경우의 지지 구조를 나타낸 도면.

도 7은 제2 실시예에서의 지지체의 배치예를 나타낸 평면도.

도 8은 본 발명의 제2 실시예의 가공 순서를 나타낸 도면.

도 9는 각 점에 걸리는 중력의 시뮬레이션 결과의 일례를 나타낸 도면.

도 10은 제2 실시예의 순서로 가공한 워크를 워크 스테이지로서 이용하는 경우의 지지구조를 나타낸 도면.

도 11은 지지체를 모두 변위식 지지체로 한 경우의, 워크를 평면 가공하는 순서를 설명하는 도면.

도 12는 도 11의 순서로 가공한 워크를 워크 스테이지로서 이용하는 경우의 지지구조를 나타낸 도면.

도 13은 워크를 3점 이상의 지지체로 지지하여 가공하는 평면가공 장치의 개략 구성을 나타낸 도면.

도 14는 주 고정부재, 보조 고정부재의 구체적인 구성예를 나타낸 도면.

도 15는 도 13의 장치에 의한 가공 순서를 설명하는 도면.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>

1 : 고정식 지지체 2, 2': 변위식 지지체

3 : 에어 배관 5 : 스테이지용 고정식 지지체

6 : 스테이지용 변위식 지지체 10 : 가공 헤드

11 : 이동기구 12 : 베이스 플레이트

13 : 가공 스테이지 15 : 베이스 플레이트(워크 스테이지)

16 : 스토퍼 50 : 평면판(평탄하게 가공된 워크)

50a : 평면 보상판

본 발명은, 표면을 연마·감삭 등을 하여 평면형상으로 가공하기 위한 평면가공 장치 및 이렇게 하여 가공된 평면판을 스테이지로서 사용할 때의 지지방법에 관한 것으로서, 특히 대형의 프린트 기판이나 액정기판이 재치되는 노광장치의 노 광 스테이지 등에 사용하는 데 알맞은 평면판의 평면가공 장치 및 이렇게 하여 가공된 평면판의 지지방법에 관한 것이다.

종래부터 피가공물(워크)의 표면이 평탄해지도록 가공하는 장치로서, 평면 연삭반이 알려져 있다(예를 들면, 특허문헌 1, 특허문헌 2 등 참조).

평면 연삭반은, 통상, 테이블을 구비하고 있고, 그 테이블 상에 워크를 재치하여 표면을 연삭 가공하는 것으로, 상기 테이블 표면은 평면으로 형성되어 있지 않으면 안된다.

그러나, 가공되는 워크가 크면, 테이블도 대형화한다. 표면이 평면인 대형 테이블을 제작하는 것은 어려우며, 또한 테이블의 중량도 증가한다.

그래서, 노광장치의 스테이지 등에 사용되는 대형의 평면판을 제작하는 경우에는, 예를 들면, 워크를 평탄한 테이블 상에 얹는 것이 아니라, 지지체에 의해 워크를 3점 이상에서 평면형상으로 지지하여 가공하는 것이 생각된다.

도 13에 워크를 3점 이상의 지지체로 지지하여 가공하는 평면가공 장치의 개략 구성을 나타낸다. 또, 동 도면 (a)는 워크 표면에 평행한 방향으로부터 본 측면도이다.

동 도면에서, 가공 헤드(10)에는, 워크(W)를 평면으로 연마 연삭하는 날붙이가 장치된다. 가공장치의 베이스 플레이트(12) 상에는, 가공 스테이지(13)가 설치되고, 가공 스테이지(13)에는 가공할 워크(W)를 유지 고정하는 고정부재(20, 30)가 설치되어 있다.

워크(W)는 가공 스테이지(13) 상에 재치 후, 고정부재(20, 30)에 의해 고정 된다.

고정부재(20, 30)는, 워크(W)의 평면을 정하기 위한 3개의 주 고정부재(20)(도 13에서는 삼각형으로 도시)와, 주 고정부재(20)만으로는 워크(W)를 충분히 고정할 수 없는 경우, 1 또는 복수의 보조 고정부재(30)(도 13에서는 T자형으로 도시)가 설치된다.

주 고정부재(20)는, 가공 스테이지(13)에 대해 높이방향(도면 상하방향)이 고정되어 있다. 보조 고정부재(30)는, 높이의 조정이 가능하다. 또, 도 13(a) 및 이하의 도 14에서는 설명의 편의상, 고정부재(20, 30)가 직선형상으로 배치되어 있도록 나타나 있는 데, 주 고정부재(20)는 삼각형의 정점위치에 배치되고, 보조 고정부재(30)는, 예를 들면 주 고정부재(20)의 사이 및 워크(W)의 주변부에 배치된다.

가공 헤드(10) 또는 가공 스테이지(13)의 (적어도) 어느 한쪽에는, 이동기구(11)가 설치되고, 가공 헤드(10) 또는 가공 스테이지(13), 또는 양쪽이 XY 방향(도면 중 좌우방향과 앞쪽 안쪽방향)으로 이동하고, 워크(W)의 표면이 가공 헤드(10)의 날붙이에 의해 연마 연삭된다. 또, 도 13에서는 가공 헤드(10)가 이동하는 경우가 나타나 있다.

도 14에 상기 고정부재(20, 30)의 구체적인 구성예를 나타낸다. (a)는 보조 고정부재(30), (b)는 주 고정부재(20)이고, (c)는 (a),(b)의 평면도이다.

고정부재(20, 30)는, 가공할 워크(W)의 높이 위치를 설치하는 워크 지지부(21, 31), 워크 지지부(21, 31) 상의 워크(W)를 눌러 고정하는 워크 고정부(22, 32), 워크 고정부(22, 32)의 지점이 되는 지점부(23, 33)로 구성된다.

워크 고정부(22, 32)는, 가공 스테이지에 직립한 나사(22b, 32b)가 통과되어 있고, 너트(22a, 32a)를 조임으로써, 지점부(23, 33)를 지점으로 하여, 워크 지지부(21, 31) 상의 워크(W)를 누른다.

도 14(b)에 나타낸 주 고정부재(20)는, 워크 지지부(21)의 높이가 정해져 있고, 이 높이에 의해 재치되는 워크(W)의 평면이 정해진다.

동 도면(a)에 나타낸 보조 고정부재(30)의 워크 지지부(31)는, 나사(31a)와 너트(31b)로 구성되고, 높이를 조정할 수 있다.

도 15에, 상기한 바와 같은 평면가공 장치를 이용한 가공의 순서를 나타낸다.

도 15(a)에 나타낸 바와 같이, 예를 들면, 위로 블록한 휨이 있는 워크(W)를 가공하는 경우, 동 도면 (b)에 나타낸 바와 같이, 가공 스테이지(13)에 워크(W)를 둔다.

워크(W)는, 가공 스테이지(13)에 설치된 고정부재(20, 30) 중, 우선 3개의 주 고정부재(20)의 워크 지지부(21) 상에 얹어지고, 워크 고정부(22)의 너트(22a)를 조여 워크(W)를 유지 고정한다. 3개의 주 고정부재(20)의 워크 지지부(21)의 높이는, 가공 헤드(10) 또는 가공 스테이지(13)의 이동 평면에 대해, 평행한 평면을 형성하도록 미리 조절되어 있다.

워크(W)가 작으면 주 고정부재(20)만에 의한 고정으로 되지만, 워크(W)가, 1변이 1m를 넘는 대형의 것인 경우, 주 고정부재(20)로 3개소를 유지하는 것만으로 는, 연마 연삭 중에, 특히 워크(W)의 주변부에서 진동이 생겨, 고정밀도의 가공을 할 수 없다.

1변이 1m를 넘는 대형 워크의 예로는, 대형의 프린트 기판이나 액정 기판용 노광장치의 노광 스테이지를 예로 들 수 있다.

그래서, 도 15(c)에 나타낸 바와 같이, 워크(W)의 주 고정부재(20)가 유지하는 이외의 부분을, 보조 고정부재(30)에 의해 유지한다. 이때, 워크(W)로부터, 휨이나 자중 뒤틀림에 의한 플래핑(flapping)이 없어져, 워크(W)의 표면이 전체적으로 평면이 되도록 가공 스테이지(13)로부터의 높이를 다이얼 게이지(100)로 측정하면서, 보조 지지부재(30)의 워크 지지부(31)의 높이를 조정한다. 그 후, 워크 고정부(32)의 너트(32a)를 조여 워크(W)를 유지 고정한다.

워크(W)가 평면이 되었으면, 도 13에 나타낸 가공 헤드(10)의 날붙이에 의해, 워크(W)의 표면을 연마 연삭하고, 평면으로 가공한다.

평면 가공이 끝나면, 워크(W)를 고정수단(20, 30)으로부터 떼낸다. 그러나, 이때, 워크(W)는, 휨이나 뒤틀림이 없어지도록 가해지고 있던 힘으로부터 해방되게 된다. 따라서, 고정수단(20, 30)으로부터 떼내진 워크(W)는, 도 15(d)에 나타낸 바와 같이 다시 휘게 된다.

그래서, 워크(W)를 상하 뒤집어, 다시 가공 스테이지(13)에 얹고, 상기와 같은 순서로 아까와는 반대측의 면을 평면 가공한다.

가공후, 고정수단(20, 30)을 떼낸다. 워크의 휨이 또 생기는 경우는, 또 워크를 뒤집어 가공한다. 이하, 원하는 평면도가 얻어질 때까지 이 작업을 되풀이한 다.

[특허문헌 1 일본국 특허 공개공보 평11-58227호]

[특허문헌 2 일본국 특허 공개공보 평5-237765호]

노광장치의 워크 스테이지는, 예를 들면 상술한 바와 같은 방법으로 가공되는 데, 높은 노광 정밀도를 얻기 위해, 표면 정밀도의 요구가 엄격하고, 예를 들면, 200㎜×200㎜의 크기에 대해 10μm의 평탄도가 요구된다.

최근은, 노광하는 대상이, 액정 패널이나 프린트 기판과 같은 큰 물건이고, 노광장치의 워크 스테이지도 대형화되고 있다. 이러한 워크 스테이지에서는, 1000㎜×1000㎜의 크기에 대해 20∼50μm의 평탄도가 요구된다.

이 때문에, 상기 순서를 7회 정도 되풀이하고 있는 데, 워크의 반전작업이 대규모이고 힘들며, 가공에 시간이 걸린다. 또, 워크의 반전을 되풀이해도, 원하는 평면 정밀도가 얻어질지 알 수 없다는 문제도 있다.

본 발명은 상기 사정을 감안하여 이루어진 것으로서, 그 목적은, 워크의 반전을 되풀이하지 않고, 비교적 적은 공정수로 대형 워크의 표면을 정밀도 있게 평탄하게 가공하는 평면가공 장치를 제공함과 동시에, 이 평면가공 장치에서 가공된 워크를 그 표면이 평면이 되도록 지지하는 방법을 제공하는 것이다.

워크의 반전을 되풀이하지 않고, 비교적 적은 공정수로 대형 워크의 표면을 정밀도 있게 평탄하게 가공하는 방법을 검토한 결과, 이하와 같이 하면 되는 것을 발견하였다.

즉, 판형상의 워크를 평면으로 연마 연삭하는 가공 헤드와, 평면으로 연마 연삭되는 워크가 장치되어 유지되는 지지체를 설치한 가공 스테이지를 구비하고, 상기 가공 헤드 또는 상기 가공 스테이지가 평면내를 이동하여, 가공 스테이지에 유지된 워크의 표면이, 상기 가공 헤드에 의해 평면으로 가공되는 평면가공 장치에서, 상기 지지체를, 높이가 불변인 고정식 지지체와, 설치 위치에 유지하는 수단을 구비한 높이가 가변인 변위식 지지체로 구성하고, 합계가 4개 이상의 상기 고정식 지지체 혹은 변위식 지지체 중, 3개의 지지체를 삼각형의 정점 위치가 되도록 배치하고, 이 3개의 지지체의 위에 워크를 얹어, 그 지지체에 의해 워크를 유지한다.

또한, 다른 지지체는 변위식 지지체로 하고, 이 변위식 지지체에 의한 워크의 밀어올리는 힘을 조정하여, 변위식 지지체가 워크에 힘을 걸지 않고 접하고 있는 상태, 혹은, 워크의 자중에 의한 비틀림을 캔슬하는 힘으로 워크를 밀어올리는 상태로 설정하고, 이 상태에서 변위식 지지체의 높이를 유지하여, 각 변위식 지지체에 의해 워크를 유지시킨다.

그리고, 이 상태에서 가공 헤드에 의해, 워크 표면을 평면으로 연마 연삭한다. 또, 상기 지지체 중, 고정식 지지체를 3개 이하로 해도 되고, 상기 지지체의 전부를 변위식 지지체로 해도 된다.

이렇게 하여 연마 연삭된 워크는, 상기 가공장치로부터 떼어냈을 때, 상기한 바와 같이 가해져 있던 힘으로부터 해방되게 되고, 그 표면은 반드시 평탄하게 되지 않지만, 상기 가공시에서의 지지체에 의한 지지방법을 재현할 수 있으면, 그 표면은 평탄하게 유지될 것이다.

그래서, 이상과 같이 하여 가공된 워크를 평면 스테이지로서 사용하는 경우는, 상기 워크를 가공했을 때의 상기 지지체의 배치와 동일한 배치가 되도록 지지체를 배치하고, 그 위에 상기 가공된 워크를, 평면형상으로 가공한 면이 상측이고, 또한, 지지체에 의한 지지점이 가공시와 같아지도록 재치한다.

또, 가공시에 변위식 지지체의 밀어올리는 힘을, 워크에 힘을 걸지 않고 접하고 있는 상태로 한 경우는, 평면 스테이지로서 사용할 때, 상기 변위식 지지체와 같은 위치에 지지체를 설치할 필요는 없고, 그 이외의 지지점에서 지지해도 된다.

즉, 본 발명에서는, 다음과 같이 하여 상기 과제를 해결한다.

(1) 판형상의 워크를 평면으로 연마 연삭하는 가공 헤드와, 평면으로 연마 연삭되는 워크가 재치되어 유지되는 지지체를 설치한 가공 스테이지를 구비하고, 상기 가공 헤드 또는 상기 가공 스테이지가 평면내를 이동하여, 가공 스테이지에 유지된 워크의 표면이, 상기 가공 헤드에 의해 평면으로 가공되는 평면가공 장치에서, 상기 지지체를, 가공 스테이지 상에 장치된 대좌의 위에 회전 베이링을 통해 장치되고, 워크를 이면으로부터 유지하는 진공 흡착부를 갖는 높이가 불변인 고정식 지지체와, 임의의 추력으로 샤프트를 상하이동시키는 에어 실린더 등의 구동수단과, 상기 샤프트에 연결된 판형상체와, 그 판형상체를 고정 유지함으로써 상기 샤프트의 위치를 설정 위치로 유지하는 유지수단과, 상기 샤프트의 선단에 회전 베이링을 통해 장치되고, 워크를 이면으로부터 유지하는 진공 흡착부로 구성되는 높이가 가변인 변위식 지지체로 구성된다.

그리고, 상기 고정식 지지체와 변위식 지지체의 합계를 4개 이상으로 하고, 그 중의 적어도 3개의 지지체를, 삼각형의 정점위치가 되도록 배치한다.

(2) 상기 (1)에서, 상기 지지체 중, 고정식 지지체를 3개 이하로 한다.

(3) 상기 (1)에서, 상기 지지체는, 전부를 변위식 지지체로 한다.

(4) 삼각형의 정점위치가 되도록 배치된 적어도 3개의 지지체로 판형상의 워크를 지지하고, 그 지지체로 지지된 면의 반대측의 면을 가공장치에 의해 평면형상으로 가공하고, 상기 워크를 평면 스테이지로서 사용할 때, 상기 워크를 가공했을 때의 상기 지지체의 배치와 동일한 배치가 되도록 지지체를 배치하고, 그 위에 상기 가공된 워크를, 평면형상으로 가공한 면이 상측이고, 또한 지지체에 의한 지지점이 가공시와 같아지도록 재치한다.

도 1은 본 발명의 실시예의 평면가공 장치의 구성을 도시한 도면이고, 동 도면은 측면으로부터 본 도면이다.

동 도면에서 가공 스테이지(13) 상에, 높이가 고정인 3개의 고정식 지지체(1)(삼각형으로 도시)와, 높이가 가변인 복수의 변위식 지지체(2)(T자형으로 도시)가 설치되어 있다.

또, 동 도면에서는, 지지체(1, 2)가 직선형상으로 나열되어 있도록 나타나 있지만, 후술하는 바와 같이, 고정식 지지체(1)는 삼각형의 정점위치에 배치되고, 변위식 지지체(2)는, 예를 들면 가공 스테이지(13)의 주변부나, 지지체(1)의 사이에 배치된다.

가공 헤드(10)에는, 워크를 평면으로 연마 연삭하는 날붙이가 장치되고, 도 시하지 않은 워크가 상기 지지체(1, 2)의 위에 재치되어 유지된다.

가공 헤드(10) 또는 가공 스테이지(13)의 어느 한쪽에는, 이동기구(11)가 설치되고, 가공 헤드(10) 또는 가공 스테이지(13), 또는 양쪽이 XY 방향(도면 중 좌우방향과 앞쪽 안쪽방향)으로 이동하고, 워크의 표면이 가공 헤드(10)의 날붙이에 의해 연마 연삭된다. 또, 도 1에서는 가공 헤드(10)가 이동하는 경우가 나타나 있다.

도 2에 고정식 지지체(1)의 구조를 나타낸다.

고정식 지지체(1)는, 종래 기술에서 나타낸 주 고정부재(20)와 마찬가지로, 가공 스테이지(13)에 대해 높이 방향이 고정되어 있다.

대좌(1a)의 위에 회전 베이링(1b)을 통해, 표면에 진공 흡착홈(1d)이 형성된 진공 흡착부(1c)가 장치되어 있다. 진공 흡착홈(1d)에는 진공배관(1e)이 접속되어 있다.

도 3에 변위식 지지체(2)의 구조를 나타낸다. 동 도면은 단면도이다.

종래 기술의 보조 고정부재(30)와 마찬가지로 높이의 조정이 가능한데, 나사식이 아니라, 에어 실린더를 사용한다.

가공 스테이지(13) 상에 에어 실린더(2a)가 설치된다. 에어 실린더(2a)는, 공급하는 에어의 압력을 변화시킴으로써, 샤프트(2b)가 임의의 추력으로 상하한다.

에어 실린더(2a)의 샤프트(2b)는 중간대(2c)에 접속되어 있다. 에어 실린더(2a)와 중간대(2c)의 사이에 스프링(2g)이 설치되어 있다.

중간대(2c)의 양측에는, 고정 디스크(2d)(예를 들면, 판스프링)가 아래방향 으로 신장되어 장치되고, 고정 디스크(2d)의 양측에는 에어록 기구(2f)의 패드(2e)가 설치되어 있다.

에어록 기구(2f)에 에어가 공급되면, 패드(2e)는 도면 중, 화살표 방향으로 이동하고, 고정 디스크(2d)가 끼워져 고정된다.

중간대(2c)의 상부에는 회전 베이링(2h)을 통해, 진공 흡착부(2i)가 설치되어 있다. 진공 흡착부(2i)의 구조는, 고정식 지지체의 것과 동일하고, 표면에 진공 흡착홈(2j)이 형성되어 진공배관(2k)이 접속되어 있다.

도 1로 되돌아가, 상기 각 변위식 지지체(2)의 에어 실린더(2a)에는, 에어 배관(3)이 접속되고, 에어 배관(3)은, 게이지(3a) 및 레귤레이터(3b)를 통해 압력원에 접속되어 있다. 그리고, 레귤레이터(3b)에 의해, 각 지지체(2)의 에어 실린더(2a)에 공급하는 에어의 압력을 설정함으로써, 변위식 지지체(2)의 진공 흡착부(2i)는 에어의 압력에 따른 힘으로 밀어 올려진다.

또한, 지지체(1, 2)의 진공 흡착부(1c, 2i)에는, 진공배관(1e, 2k)을 통해 진공원이 접속되어 있는 데, 동 도면에서는 도시하지 않았다.

다음으로 도 4, 도 5에 의해, 워크를 평면 가공하는 본 발명의 제1 실시예의 순서를 설명한다. 도 4는 본 실시예에서의 지지체(1, 2)의 배치예를 나타낸 평면도, 도 5는 측면도이다. 또, 도 5에서는 설명의 형편상, 지지체(1, 2)가 직선형상으로 나열되어 있도록 나타나 있지만, 각 지지체(1, 2)는, 예를 들면 도 4에 나타낸 바와 같이 배치되어 있다.

본 실시예에서는, 도 4에 나타낸 바와 같이, 높이가 같은 3개의 고정식 지지 체(1)를 삼각형의 정점위치가 되도록 배치하고, 워크의 하중을 3개의 고정식 지지체로 지지하고, 변위식 지지체(2)는 베이스 플레이트(13)(워크)의 주변부에 배치하고, 가공시에 워크가 진동하는(슬라이트 웨이브니스라 한다) 것을 방지한다.

(1) 도 5(a)에 나타낸 바와 같이, 가공 스테이지(13)에 워크(W)를 둔다. 워크(W)는, 가공 스테이지(13)에 설치된 3개소의 고정식 지지체(1)의 진공 흡착부(1c) 상에 얹어져, 유지 고정된다. 고정식 지지체(1)의 높이는, 3개의 고정식 지지체가 형성하는 평면이, 가공 헤드(10)가 이동하는 평면과 평행해지도록 미리 설정되어 있다. 이때 변위식 지지체(2)는 내려져 있고, 워크(W)와는 접촉하지 않는다. 여기까지는, 기본적으로 종래 기술의 경우와 동일하다.

(2) 도 5(b)에 나타낸 바와 같이, 변위식 지지체(2)의 에어 실린더(2a)에 에어를 공급하고, 진공 흡착부(2i)를 상승시킨다. 그리고, 진공 흡착부(2i)가 워크(W)의 이면에 접촉하고, 워크를 유지한 시점에서, 에어록 기구(2f)를 동작시켜 고정 디스크(2d)를 패드(2e)로 끼고, 변위식 지지체(2)의 높이 방향의 위치를 고정하고, 진공 흡착부(2i)에 의해 워크(W)를 유지한다.

(3) 변위식 지지체(2)는 워크(W)에 접하고 있는 상태이고, 워크(W)에는 밀어올리는 힘이 작용하고 있지 않다. 즉, 변위식 지지체(21)는 워크에 접하고 있을 뿐으로, 워크(W)에 힘은 작용하고 있지 않다.

워크(W)를 밀어올리는 힘이 작용하고 있는 것은, 고정식 지지체(1)의 부분만이다.

(4) 이 상태에서, 도 5(c)에 나타낸 바와 같이, 가공 헤드(10)를 이동시키 고, 워크(W)의 표면을 연마 연삭하여 평면으로 가공한다. 변위식 지지체(2)는, 워크(W)를 밀어올리고 있지 않지만, 진공 흡착부(2i)에 의해 워크(W)를 유지하고, 패드(2e)가 고정 디스크(2d)를 끼고 있기 때문에, 높이 방향이 고정되어 있다. 따라서, 가공시에 워크(W)가 진동하는 인은 없다.

이상으로 워크의 평면 가공은 종료한다.

다음으로, 이렇게 하여 가공한 워크를 광 조사장치, 예를 들면 노광장치의 워크 스테이지로서 이용하는 경우에 대해, 도 6에 의해 설명한다. 여기서는, 지지체로서 에어 패드를 갖는 지지체를 이용하여, 상기 가공 완료의 워크(평면판(50)이라 한다)를 에어에 의해 부상시켜 지지하는 경우에 대해 설명한다.

도 6(a)에 나타낸 바와 같이, 노광장치의 워크 스테이지를 재치하는 베이스 플레이트(15) 상에, 워크(W)(평면판(50))의 표면을 가공했을 때의 고정식 지지체(1)의 배치와 같은 위치 관계가 되도록 스테이지용 고정식 지지체(5)를 배치한다.

즉, 베이스 플레이트(15) 상에, 가공시의 고정식 지지체(1)의 배치와 동일 배치가 되도록 스테이지용 고정식 지지체(5)를 배치하고, 표면을 평탄하게 가공한 평면판(50)을, 평면형상으로 가공한 면이 상측이고, 지지체(5)에 의한 지지점이 가공시와 대략 같은 위치가 되도록 재치한다.

도 6(b)는 상기 에어로 부상시키는 스테이지용 고정식 지지체(5)의 구성예를 나타낸다.

동 도면에 나타낸 바와 같이, 대좌(5a)의 위에 회전 베이링(5b)를 통해 에어패드(5c)가 장치되고, 에어 공급배관(5e)으로부터 에어를 공급함으로써, 에어패드 (5c)의 에어 분출구(5d)로부터 에어가 분출하고, 상기 가공된 평면판(50)을 부상시킨다.

또, 상기 평면판(50)의 이면측의 상기 고정식 지지체(5)에 대향하는 부분에는, 에어패드(5c)로부터 분출되는 에어가 새는 것을 방지하기 위해 표면이 평탄한 평면 보상판(50a)을 장치한다.

상기와 같이 평면판(50)을 고정식 지지체(5)의 위에 재치하고, 3개의 고정식 지지체(5)의 에어패드(5c)에 소정의 압력의 에어를 공급함으로써, 평면판(50)은 에어패드(5c)로부터 10㎛ 정도 부상하여 지지된다.

이에 의해, 노광장치의 베이스 플레이트(15) 상에서는, 가공기에 의해 상기 평면판(50)을 평면으로 가공했을 때와 같은 지지상태가 재현되게 되어, 평면판(50)의 표면, 즉 스테이지의 표면은 평면이 된다.

또, 가공시에는, 고정식 지지체(1)에 더하여 변위식 지지체(2)로 지지하였지만, 변위식 지지체(2)는 워크(W)에 접하고 있을 뿐으로, 워크(W)에 밀어올리는 힘이 작용하고 있지 않기 때문에, 평면판(50)을 스테이지로서 이용하는 경우에는 상기 변위식 지지체(2)로 지지할 필요는 없다.

본 실시예에 의하면, 종래와 같이, 워크를 뒤집어 몇 번이나 평면 가공을 반복할 필요가 없고, 1회의 평면 가공에 의해 평면 스테이지를 제작할 수 있어, 가공 공수를 대폭 삭감할 수 있다. ·

다음으로, 본 발명에 제2 실시예에 대해 설명한다.

상기한 제1 실시예에서는, 3개의 고정식 지지체(1)로 워크의 하중을 지지하 고, 변위식 지지체에서는 워크를 밀어올리지 않도록 하였지만, 본 실시예는 3개의 고정식 지지체(1)로 워크를 지지함과 동시에, 변위 지지체(2)로 워크의 자중 뒤틀림을 캔슬하는 힘으로 워크를 밀어올려, 보다 무거운 워크에 대응할 수 있도록 한 것이다.

도 7은 본 실시예에서의 지지체의 배치예를 나타낸 평면도, 도 8은 측면도이다.

또, 도 8에서는 지지체(1, 2, 2')가 직선형상으로 나열되어 있도록 나타나고, 또한, 변위식 지지체의 수도 도 7과는 다르지만 도 8은 개념도이고, 각 지지체(1, 2, 2')는, 예를 들면 도 7에 나타낸 바와 같이 배치되어 있다.

본 실시예에서는, 도 7에 나타낸 바와 같이, 높이가 같은 3개의 고정식 지지체(1)를 삼각형의 정점위치가 되도록 배치함과 동시에, 그 사이에 변위식 지지체(2)를 워크의 자중 뒤틀림을 방지하기 위해 배치하고, 또, 베이스 플레이트(13)(워크)의 주변부에 변위식 지지체(2')를 배치하고, 가공시에 워크가 진동하는(슬라이트 웨이브니스라 한다) 것을 방지하고 있다. 또, 상기 고정식 지지체(1)와 변위식 지지체(2)의 설치 위치는, 후술하는 바와 같이 시뮬레이션에 의해 구해진다.

다음으로, 도 8을 이용하여, 워크를 평면 가공하는 본 발명의 제2 실시예의 순서를 설명한다.

(1) 도 8(a)에 나타낸 바와 같이, 가공 스테이지(13)에 워크(W)를 둔다. 워크(W)는, 가공 스테이지(13) 상에 설치된 3개의 고정식 지지체(1)의 진공 흡착부(1c) 상에 얹어져, 유지 고정된다. 이때 변위식 지지체(2, 2')는 내려져 있고, 워 크(W)와는 접촉하지 않는다. 또, 상기 고정식 지지체(1)와 변위식 지지체(2)의 배치는, 이하에서 설명하는 시뮬레이션에 의해 요구된다.

(2) 도 8(b)에 나타낸 바와 같이, 변위식 지지체(2)의 에어 실린더(2a)에 에어를 공급하고, 진공 흡착부(2i)를 상승시킨다. 진공 흡착부(2i)는 워크(W)의 이면에 접하여, 워크(W)를 흡착 유지한다. 이 상태에서 변위식 지지체(2)에, 워크(W)에 발생하고 있는 자중에 의한 뒤틀림을 캔슬하는 만큼의 추력을 가하여, 워크(W)를 밀어올린다.

여기서, 「자중에 의한 뒤틀림을 캔슬하는 만큼의 추력」이란, 실제로는 엄밀한 계산이 필요하지만, 다음과 같이 설명할 수 있다.

예를 들면, 60㎏의 워크를, 3개소의 고정식 지지체(1)와 3개소의 변위식 지지체(2)의 도합 6개소로 지지하는 경우, 이상적으로는, 60㎏÷6=10㎏의 10㎏가 「자중에 의한 뒤틀림을 캔슬하는 만큼의 추력」이 된다.

실제로 「자중에 의한 뒤틀림을 캔슬하는 만큼의 추력」을 워크에 주는 방법을 이하에 나타낸다.

(가) 예를 들면, 도 9는, 2470㎜×2170㎜×10㎜로 무게 약 140㎏의 워크를 6점에서 지지하는 경우의, 각 점에 걸리는 중력의 시뮬레이션을 행하고 있는 도면이다.

동 도면은, 컴퓨터 시뮬레이션에 의해, 상기 평면판을 6점에서 지지하는 경우에, 가장 뒤틀림이 적어지는 지지점의 위치와, 각 지지점에 가해지는 하중과, 평면판의 뒤틀림량을 구한 것이다. 동 도면 중에 나타나는 24.7㎏, 21.6㎏, …은 각 지지점에 가해지는 하중, 각 지지점을 둘러싸도록 나타난 선은, 변위량이 같은 점을 이은 등고선이다.

이렇게 하여, 컴퓨터의 시뮬레이션에 의해, 미리 워크의 크기와 무게 및 지지체의 위치에 의거하여, 각 지지체에 걸리는 중력을 계산한다. 여기서, 상기 계산시에는, 워크의 뒤틀림량이 가장 작아지는 지지점을 탐색하고, 그 지지점에 걸리는 중력을 구한다.

(나) 계산에 의해 얻어진 각 지지체에 걸리는 중력이, 도 9에 나타낸 바와 같이 24.7㎏, 21.6㎏, 24.7㎏, 24.6㎏, 21.6㎏, 24.6㎏이었다.

(다) 상기 시뮬레이션에 의해 구한 지지점의 위치 관계가 재현되도록, 가공 스테이지(13) 상에 지지체(1, 2)를 설치한다. 여기서는, 3개소를 고정식 지지체(1)로 지지하고, 다른 3개소를 변위식 지지체(2)로 지지한다.

(라) 변위식 지지체(2)의 에어 실린더(2a)에는, 그 변위식 지지체(2)를 설치한 위치에 걸리는 중력에 상당하는 추력이 얻어지도록 에어를 공급한다.

에어 실린더는, 공급하는 에어 압력에 대해 추력(유지력)은 일률적으로 결정되기 때문에, 대상이 되는 변위식 지지체(2)에 걸리는 중력이 24.7㎏이면, 실린더에 24.7㎏의 추력(유지력)이 얻어지는 압력을 걸고, 중력이 21.6㎏이면, 21.6㎏의 추력(유지력)이 얻어지는 압력을 건다.

에어의 압력은, 도 1에 나타낸 각 변위식 지지체(2)에 접속된 에어 배관(3)에 설치된 레귤레이터(3b)에 의해 조절한다.

변위식 지지체(2)에, 상기 계산에 의해 구한 소정의 추력을 거는 것에 의해, 고정식 지지체(1)에도 계산 값대로의 중력이 걸린다.

(3) 도 8(b)로 되돌아가, 변위식 지지체(2)에, 워크(W)의 자중에 의한 뒤틀림을 캔슬하는 추력이 워크(W)에 걸린 상태에서, 에어록을 동작시켜 고정 디스크를 패드로 끼고, 변위식 지지체의 높이 방향의 위치를 고정한다. 고정식 지지부재와 변위식 지지부재에는, 워크의 무게가 균등하게 걸린 상태가 된다.

또, 도 7에 나타낸 바와 같이, 본 실시예에서는, 상기 변위식 지지체(2)에 더하여, 워크(W)의 주변부에, 가공시의 워크의 슬라이트 웨이브니스를 방지하기 위한 변위식 지지체(2')가 설치되어 있다.

이 변위식 지지체(2')에 대해서는, 상기와 마찬가지로, 자중 뒤틀림을 캔슬하는 추력을 주도록 해도 되지만, 제1 실시예에서 설명한 바와 같이, 워크에 접하고 있을 뿐으로 워크(W)에 힘을 작용시키지 않도록 하는 것이 좋다. 즉, 상기 제1 실시예에서 설명한 바와 같이, 변위식 지지체(2)의 에어 실린더(2a)에 에어를 공급하고, 진공 흡착부(2i)를 상승시켜, 진공 흡착부(2i)가 워크(W)의 이면에 접촉하고, 워크를 유지한 시점에서, 에어록 기구(2f)를 동작시켜 고정 디스크(2d)를 패드(2e)로 끼고, 변위식 지지체(2)의 높이 방향의 위치를 고정하여, 진공 흡착부(2i)에 의해 워크(W)를 유지한다.

(4) 도 8(c)에 나타낸 바와 같이, 이 상태에서, 가공 헤드(10)를 이동시켜, 워크(W)의 표면을 연마 연삭하여 평면으로 가공한다. 변위식 지지체(2, 2')는, 진공 흡착부(2i)에 의해 워크(W)를 유지하고, 패드(2e)가 고정 디스크(2d)를 끼고 있기 때문에, 높이 방향이 고정되어 있다. 따라서, 가공시에 워크가 진동하는 일은 없다.

이상으로 워크의 평면 가공은 종료한다.

또, 상기에서 워크(W)를 고정식 지지체(1)의 위에 얹고 나서 변위식 지지체(2)를 상승시켰지만, 워크(W)를 얹기 전에, 변위식 지지체(2)를 상승시켜 두어도 된다. 즉, 미리 변위식 지지체(2)에 시뮬레이션으로 구한 추력을 얻는 압력을 공급하여, 실린더를 상승시켜 두고, 그 위에 워크(W)를 재치한다.

이렇게 하여 가공한 워크를, 광 조사장치, 예를 들면 노광장치의 워크 스테이지로서 이용하는 경우는, 상기 제1 실시예에서 설명한 것과 동일하며, 여기서는, 제1 실시예와 마찬가지로, 지지체로서 에어 패드를 갖는 지지체를 이용하여, 상기 워크(평면판(50)이라 한다)를 에어에 의해 부상시켜 지지하는 경우에 대해 설명한다.

도 10(a)에 나타낸 바와 같이, 노광장치의 워크 스테이지를 재치하는 베이스 플레이트(15) 상에, 평면판(50)의 표면을 평탄하게 가공했을 때의 고정식 지지체(1), 변위식 지지체(2)의 배치와 같은 위치 관계가 되도록 스테이지용 고정식 지지체(5), 스테이지용 변위식 지지체(6)를 배치하고, 표면을 평탄하게 가공한 평면판(50)을, 평면형상으로 가공한 면이 상측이고, 지지체(5)에 의한 지지점이 가공시와 대략 같은 위치가 되도록 재치한다. 또, 스테이지용 고정식 지지체(5)는 상기 도 6(b)에 나타낸 것을 사용한다.

상기 변위식 지지체(6)는, 상기 도 6(b)에 나타낸 고정식 지지체(5)와 마찬가지로, 도 3에 나타낸 변위식 지지체의 진공 흡착부(2i)를 에어 패드로 치환한 것 으로, 그 구성을 도 10(b)에 나타낸다. 동 도면에 나타낸 바와 같이, 변위식 지지체(6)는, 에어 실린더(6a)와, 샤프트(6b)와, 중간대(6c)와, 스프링(6g)과, 고정 디스크(6d)와, 에어록 기구(6f)와, 패드(6e)와, 회전 베이링(6h)과, 에어패드(6i)가 설치되어 있다.

그리고, 에어패드(6i)의 에어 분출구멍(6j)으로부터 에어가 분출하여, 상기 가공된 평면판(50)을 부상시킨다.

또, 상기 고정식 지지체(5)와 마찬가지로, 상기 평면판(50)의 이면측의 상기 변위식 지지체(6)에 대향하는 부분에는, 에어패드(5c)로부터 분출되는 에어가 새는 것을 막기 위해 표면이 평탄한 평면 보상판(50a)이 장치된다.

또, 워크에 접해 있을 뿐으로 워크(W)에 힘을 작용시키지 않도록 한 변위식 지지체(2')는, 베이스 플레이트(15) 상에 설치할 필요는 없다.

상기와 같이 평면판(50)을 스테이지용 고정식 지지체(5) 및 스테이지용 변위식 지지체(6)의 위에 재치하고, 변위식 지지체(6)의 에어패드(6i)를 상승시키고, 가공기에서 가공했을 때와 같은 압력으로 평면판(50)을 밀어올려, 에어록 기구(6f)에 의해 높이 방향을 고정한다.

또, 워크를 얹기 전에, 변위식 지지체(6)에 가공시와 같은 추력을 얻는 압력을 공급하여, 에어 실린더를 상승시켜 두고, 그 위에 워크를 재치하도록 해도 된다.

그리고, 3개의 고정식 지지체(5) 및 3개의 변위식 지지체(6)의 에어 패드에 같은 압력의 에어를 공급하고, 평면판(50)은 에어패드(5c)로부터 10μm 정도 부상 시켜 지지한다.

이에 의해, 노광장치의 베이스 플레이스(15) 상에서는, 가공기에 의해 상기 평면판(50)을 평면으로 가공했을 때와 같은 지지상태가 재현되게 되어, 평면판(50)의 표면, 즉 스테이지의 표면은 평면이 된다.

이상과 같이 본 실시예에 의하면, 제1 실시예와 마찬가지로, 종래와 같이, 워크를 뒤집어 몇 번이나 평면 가공을 되풀이할 필요가 없고, 1회의 평면 가공에 의해 평면 스테이지를 제작할 수 있어, 가공 공수를 대폭 삭감할 수 있다.

또한, 고정식 지지체로 워크를 지지함과 동시에, 변위식 지지체에 의해 워크의 자중을 캔슬하는 추력으로 워크를 밀어올리기 때문에, 한 개당 지지체에 가해지는 하중을 작게 할 수 있다. 이 때문에 중량이 무거운 큰 워크에 적용할 수도 있다.

상기 제1, 제2 실시예에서는, 고정식 지지체로서 도 2의 구조의 것을 예시하였지만, 도 3에 나타낸 변위식 지지체를 고정식 지지체로서 사용하고, 모든 지지체를 변위식 지지체로 할 수도 있다.

즉, 고정식 지지체는 높이 방향이 고정되고, 3점에서 평면을 내는 것이지만, 도 3에 나타낸 변위식 지지체도, 에어록 기구(2f)에 의해 높이 방향을 고정해 두면, 고정식 지지체와 같은 작용을 할 수 있다.

변위식 지지체(2)를 고정식 지지체(1)로서 사용하면, 변위식 지지체(2)와 고정식 지지체(1)라는 2개의 부재를 준비할 필요가 없다.

다음으로, 도 11에 의해, 지지체를 모두 변위식 지지체로 한 경우의, 워크를 평면 가공하는 순서를 설명한다. 또, 도 11에서는, 변위식 지지체가 직선형상으로 배치되도록 나타나 있지만, 상기한 바와 같이, 각 지지체(2)는, 예를 들면 상기 도 7에 도시한 바와 같이 배치되어 있다.

또, 이하에서는, 변위식 지지체(2')는 설치되어 있지 않고, 고정식 지지체(1)의 설치 위치에, 고정식 지지체(1)를 대신해, 변위식 지지체(2)가 설치되어 있는 경우에 대해 설명한다.

(1) 도 11(a)에 나타낸 바와 같이, 가공 스테이지(13)에 워크(W)를 둔다. 워크(W)는, 에어 실린더(2a)가 내려간 상태의 변위식 지지체(2)의 진공 흡착부(2i) 상에 얹어져, 유지 고정된다.

가공 스테이지 상에는, 가공하는 워크가 가공 헤드의 이동 평면에 대해 평행한 면을 형성하는 3개의 스토퍼(16)(도면에서는 2개만 나타낸다)가 설치되어 있다.

(2) 도 11(b)에 나타낸 바와 같이, 변위식 지지체(2)의 각 에어 실린더(2a)에, 상기 제2 실시예로 나타낸, 시뮬레이션에 의해 구한 워크의 자중 뒤틀림을 캔슬하는 추력이 얻어지는 압력으로, 에어를 공급한다.

워크(W)는 각 지지점의 중력 밸런스가 잡힌 상태에서 상승하여, 상기의 스토퍼(16)에 약간의 밀어올리는 압력으로 접촉하고, 워크(W)는 가공 헤드(10)의 이동 평면에 대해 평행해진다.

이 상태에서, 변위식 지지체(2)의 에어록 기구(2f)를 동작시켜 고정 디스크(2d)를 패드(2e)로 끼고, 변위식 지지체(2)의 높이 방향의 위치를 고정한다. 각 변 위식 지지부재(2)에는, 워크(W)의 무게가 균등하게 걸려 있다.

(3) 도 11(c)에 나타낸 바와 같이, 스토퍼(16)를 퇴피시키고, 이 상태에서 가공 헤드(10)를 이동시켜, 워크(W)의 표면을 연마 연삭하여 평면으로 가공한다. 변위식 지지체(2)는, 진공 흡착부(2i)에 의해 워크(W)를 유지하고, 패드(2e)가 고정 디스크(2d)를 끼고 있기 때문에, 높이 방향이 고정되어 있다. 따라서, 가공시에 워크가 진동하는 일은 없다.

이상으로 워크의 평면 가공은 종료한다.

이렇게 하여 가공한 워크를, 예를 들면 노광장치의 워크 스테이지로서 이용하는 경우에는, 도 12에 나타낸 바와 같이, 노광장치의 워크 스테이지를 재치하는 베이스 플레이트(15) 상에, 평면판(50)의 표면을 평탄하게 가공했을 때의 변위식 지지체(2)의 배치와 같은 위치 관계가 되도록 스테이지용 변위식 지지체(6)(도 10(b) 참조)를 배치한다. 여기서는, 제1, 2의 실시예와 마찬가지로, 지지체로서 에어 패드를 갖는 스테이지용 변위식 지지체(6)를 이용하여, 에어에 의해 부상시켜 지지하는 경우에 대해 설명한다. 이 경우, 평면판(50)의 이면측에는, 상기한 바와 같이 평면 보상판(50a)이 장치된다.

상기 변위식 지지체(6)의 에어 실린더(2a)가 내려간 상태에서, 표면을 평탄하게 가공한 평면판(50)을 평면형상으로 가공한 면이 상측이고, 지지체(6)에 의한 지지점이 가공시와 대략 같은 위치가 되도록 변위식 지지체(6)의 진공 흡착부 상에 재치하여, 유지 고정한다.

다음으로, 변위식 지지체(6)의 에어 실린더(6a)에 가공기로 가공했을 때와 같은 압력을 걸어 샤프트(6b)를 상승시키고, 평면판(50)을 밀어올려, 에어록 기구(6f)에 의해 높이 방향을 고정한다.

또, 평면판(50)을 얹기 전에, 미리 변위식 지지체(6)에 가공시와 같은 추력을 얻는 압력을 공급하여, 에어패드를 상승시켜 두고, 그 위에 평면판(50)을 재치하록 해도 된다.

본 실시예에서도, 제1, 제2 실시예와 마찬가지로, 종래와 같이, 워크를 뒤집어 몇 번이나 평면 가공을 되풀이할 필요가 없고, 1회의 평면 가공에 의해 평면 스테이지를 제작할 수 있어, 가공 공수를 대폭 삭감할 수 있다. 또한, 변위식 지지체(2)와 고정식 지지체(1)라는 2개의 부재를 준비할 필요가 없다.

본 발명에서는, 이하의 효과를 얻을 수 있다.

(1) 워크가 재치되어 유지되는 지지체를 높이가 불변인 고정식 지지체와, 높이를 설정 위치로 유지하는 수단을 구비한 높이가 가변 변위식 지지체로 구성하고, 워크를 4개 이상의 지지체로 유지하여 워크의 표면을 평탄하게 가공하기 때문에, 워크를 가공했을 때의 상기 지지체의 배치와 동일한 배치가 되도록 지지체를 배치하고, 그 위에 상기 가공된 워크를 재치함으로써, 가공시의 상태를 재현할 수 있고, 워크 표면이 평탄해지도록 설치할 수 있다. 따라서, 이 상태에서, 예를 들면 노광장치의 워크 스테이지 등에 이용할 수 있다.

이 때문에, 종래예와 같이 워크를 반전시키지 않고, 적은 공수로, 표면이 평탄해지도록 설치할 수 있는 평면판을 제작할 수 있다.

(2) 변위식 지지체를 지지체로서 이용하고, 워크의 자중 뒤틀림을 캔슬하는 추력으로 워크를 밀어올림으로써, 3개의 지지체를 이용하여 워크의 하중을 3점에서 지지하는 경우보다 한개당 지지체에 가해지는 하중을 작게 할 수 있다.

이 때문에, 중량이 무거운 큰 워크에 적용하는 것이 가능해진다.

(3) 지지체의 전부를 변위식 지지체로 함으로써, 변위식 지지체와 고정식 지지체라는 2개의 부재를 준비할 필요가 없다.

Claims (4)

1. 판형상의 워크를 평면으로 연마 연삭하는 가공 헤드와, 평면으로 연마 연삭되는 워크가 재치되어 유지되는 지지체를 설치한 가공 스테이지를 구비하고,

   상기 가공 헤드 또는 상기 가공 스테이지가 평면내를 이동하여, 가공 스테이지에 유지된 워크의 표면이, 상기 가공 헤드에 의해 평면으로 가공되는 평면가공 장치에 있어서,

   상기 지지체는,

   가공 스테이지 상에 장치된 대좌의 위에 회전 베이링을 통해 장치되고, 워크를 이면으로부터 유지하는 진공 흡착부를 갖는 높이가 불변인 고정식 지지체와,

   임의의 추력으로 샤프트를 상하이동시키는 수단과, 상기 샤프트의 위치를 설정 위치로 유지하는 유지수단과, 상기 샤프트의 선단에 회전 베이링을 통해 장치되고, 워크를 이면으로부터 유지하는 진공 흡착부로 구성되는 높이가 가변인 변위식 지지체로 이루어지고,

   상기 고정식 지지체와 변위식 지지체의 합계는 4개 이상이고, 그 중의 적어도 3개의 지지체가 삼각형의 정점위치에 있도록 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 평면가공 장치.
2. 청구항 1에 있어서,

   상기 지지체 중, 고정식 지지체는 3개 이하인 것을 특징으로 하는 평면가공 장치.
3. 청구항 1에 있어서,

   상기 지지체는, 전부가 변위식 지지체인 것을 특징으로 하는 평면가공 장치.
4. 삼각형의 정점위치가 되도록 배치된 적어도 3개의 지지체로, 판형상의 워크를 지지하고, 그 지지체로 지지된 면의 반대측의 면을 가공장치에 의해 평면형상으로 가공하고,

   상기 워크를, 평면 스테이지로서 사용할 때,

   상기 워크를 가공했을 때의 상기 지지체의 배치와 동일한 배치가 되도록 지지체를 배치하고, 그 위에 상기 가공된 워크를, 평면형상으로 가공한 면이 상측이고, 또한, 지지체에 의한 지지점이 가공시와 같아지도록 재치하는 것을 특징으로 하는 평면 스테이지의 지지방법.

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