KR20070035454A - 조직이 강화된 알루미나 층 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 금속 가공에 사용되도록 설계된 코팅된 절삭 공구 인서트에 관한 것이다. 상기 코팅은 절삭 공구의 기능부 전체를 코팅하면서 기재부에 대하여 우수한 접착력을 가지고 있다. 상기 코팅은 적어도 한 층은 <001> 방향으로 강하게 배열된 α-Al2O3 층인 하나 이상의 내화층을 포함한다. 상기 α-Al2O3 층은 두께가 1-20㎛ 이고 폭에 대한 길이의 비가 2-15 인 원주형 입자를 포함한다. 상기 층은 XRD 로 측정시 강한 (006) 회절 피크 (peak) 를 가지며, (012), (104), (113), (024) 및 (116) 회절 피크에서 낮은 강도를 갖는데 특징이 있다. <001> 방향으로 조직된 α-Al2O3 층은 750-1000℃ 온도로 증착된다. 상기 조직은 황 및 불소를 함유하는 불순물과 결합하는 특정한 핵생성 과정에 의해 제어된다.
코팅, 인서트

Description

조직이 강화된 알루미나 층{ALUMINA LAYER WITH ENHANCED TEXTURE}
도 1a 는 본 발명에 따른 통상적인 층 조직의 표면 형태를 SEM 이미지로 나타낸 것이다.
(×15000)
도 1b 는 도 1a 와 같은 층의 단면을 나타낸 것이다. (×15000)
도 2 는 본 발명에 따른 α-Al2O3 층의 XRD 패턴을 나타낸 것이다. (20° < 2θ < 70°)
본 발명은 금속 가공에 사용되도록 설계된 코팅된 절삭 공구 인서트에 관한 것이다. 상기 코팅은 절삭 공구의 기능부 전체를 코팅하면서 기재부에 대하여 우수한 접착력을 가지고 있다. 상기 코팅은 적어도 한 층은 <001> 방향으로 강하게 배열된 α-Al2O3 층인 하나 이상의 내화층을 포함한다.
전체적인 핵생성 제어가 이루어진 α-Al2O3 층 및 κ-Al2O3 층을 용착하는 기술은 최근에서야 산업상에 소개되었고, α-Al2O3 가 최상의 금속 절삭 분야에서 바 람직한 상인 것으로 분명하게 알려져 있다.
α-Al2O3 는 예를 들어, Ti2O3 표면상에서 (Ti, Al)(C, O) 결합층을 이루거나, 또는 CO/CO2 혼합 가스를 사용하여 산화 전위를 제어함으로써 핵생성 될 수 있음이 실험적으로 밝혀졌다. 이러한 사상에 기초하여 면심 입방 구조로 된 TiC, TiN, Ti(C,N) 또는 Ti(C,O,N) 의 표면에서는 핵생성이 이루어지지 않고, κ-Al2O3 가 얻어진다.
종래에는 성장 조직을 얻기 위하여 핵생성 제어 기술을 사용하였다. 최근에 발행된 문헌 (S, Ruppi, Deposition. Microstructure and properties of texture-controlled CVD α-Al2O3 coatings, Int. J. Refractory Metals & Hard Materials 23(2005) 306-315) 에 개시된 바와 같이, 핵생성 표면의 처리는 <012>, <104> 또는 <003> 성장 조직을 얻는데 사용된다. 그러나, <001> 조직을 나타내는 (006) 피크 (peak) 가 항상 사라지고 있다. 또한, α-Al2O3 조직을 최적화하는 개선된 방법을 얻을 수 있음이 알려져 있다. 금속 절삭 용도 및 작업 시편 재료에 따라 α-Al2O3 조직을 조작하여 공구의 성능을 개선시키는 것이 가능하다.
종래 제품들의 경우와 같이, 핵생성 제어가 완전하지 않는 경우, 생성된 α-Al2O3 층은 적어도 부분적으로 κ-Al2O3 에서 α-Al2O3 상으로 변형된 결과로서 형성된 것들이다. 이러한 α-Al2O3 층은 변형 균열이 있는 큰 결정립으로 구성된다. 이러한 층은 핵생성 α-Al2O3 층으로 구성된 α-Al2O3 층에 비하여 기계적 강도 및 연성이 매우 낮다. 결과적으로, α-Al2O3 의 핵생성 단계 및 성장 조직을 제어할 수 있는 기술을 개발할 필요가 있다.
산업상에서 α-Al2O3 다형체를 제어하는 기술은 미국특허 5,137,774 에 기초한 제품이 생산된 1990 년대에 시작되었다. 후에 이 특허를 개량하여 바람직한 조직을 갖는 α-Al2O3 을 증착하는 방법이 사용되어 왔다. 미국특허 5,654,035 에서 <012> 방향의 알루미나층 조직이, 미국특허 5,980,988 에서 <110> 방향의 알루미나층 조직이 개시되어 있다. 미국특허 5,863,640 에는 <012>, <104>, 또는 <110> 방향 중 어느 한 방향에 따른 바람직한 성장이 개시되어 있다. 미국특허 6,333,103 에는 <10(10)> 방향을 따라 α-Al2O3 의 성장과 핵생성을 제어하는 개선된 방법이 개시되어 있다. 미국 특허 6,869,668 에는 조직 완화 물질인 ZrCl4 를 사용하여 강한 α-Al2O3 <300> 조직을 얻는 방법이 개시되어 있다. 상기 종래의 방법들은 약 1000℃ 의 증착 온도에서 사용된다.
미국특허 2004/0028951 A1 에는 현저한 <012> 조직을 얻는 방법이 개시되어 있다. 이러한 종류 제품의 상업적인 성공은 전체적으로 제어된 조직을 갖추기 위한 α-Al2O3 의 CVD 공정의 개량의 중요성을 나타낸다.
일반적으로 α-Al2O3 에서 관찰되는 회절 피크는 (012), (104), (110), (113) 및 (116) 이다. 회절 피크 (006) 은 종래 α-Al2O3 층 조직에서 얻어지는 XRD 패턴에서 항상 존재하지 않는다.
결정학 국제 테이블에서 사용되는 정의에 따라, α-Al2O3 c는 삼방 결정계에 포함되고, 사방정계 중심 육방 격자로 되어 있으며, 공간 그룹 기호는 R
Figure 112006070399356-PAT00001
c 이다. α-Al2O3 의 결정 구조는 종종 hcp 배열 (...ABAB...) 에서 산소 이온 (A, B) 과 팔각 간극의 2/3 을 자리잡고 있는 알루미늄 음이온을 포함하는 것으로 설명된다. 상기 알루미늄 양이온은 밀집된 배열 ....αβγαβγ... 로 산소 격자내에서 세가지 다른 공극 자리를 취할 수 있다. 이는 주로 cα, cβ, cγ 로 표현된다. α-Al2O3 유닛 셀 (unit cell) 은 여섯 층의 O 와 Al 을 포함하여 다음과 같은 방식으로 나타낼 수 있다 : AcαBcβAcγBcαAcβBcγ
후에 언급할 JPDS 카드는 육방계를 사용하며 결과적으로 네개의 축 (hkil) 이 사용되는데, 여기서 i=-(h+k) 이다. 이 경우에는 종종 i 를 빼고 사용되기도 한다.
본 발명의 목적은 강하고, 전체적으로 강하게 제어된 <001> 성장 조직이 있는 핵생성 α-Al2O3 를 포함하는 α-Al2O3 상이 있는 개선된 알루미늄 층을 제공하기 위한 것이다.
놀랍게도 <001> 조직은 제어된 방식으로 증착될 수 있음이 알려졌다. 이는 XRD 패턴에서 강한 (006) 피크로 특화된다. 강한 <001> 구조가 있는 알루미늄 층은 무규칙적 또는 다른 제어 조직이 있는 종래 기술을 능가한다. 또한, 개선된 인성 강도의 효과를 얻을 수 있다.
본 발명에 따르면, 금속 가공에 사용되는 기재부 및 코팅을 포함하는 코팅된 절삭 공구 인서트를 제공한다.
기재부는 초경합금, 도성합금, 세라믹, 고속도강과 같은 강화 재료, 또는 입방정질화붕소 (CBN) 와 같은 초강화재료, 또는 바람직하게 초경합금, CBN 으로 된 다이아몬드를 포함한다. 여기서 'CBN 을 포함하고 있음'은 절삭 공구 재료가 40 부피% 의 CBN 으로 되어 있음을 의미한다. 바람직한 실시형태에서 상기 기재부는 표면적을 넓게한 결합상이 있는 초경합금이다.
강화 및 내마모 코팅은 기재부의 모든 기능부를 코팅하면서 기재부에 대한 접착력이 우수하다. 적어도 한 층은 외부면 방향으로 알루미늄 성분을 증가시키며, (Ti, Al)(C, O, N) 결합층에 증착된 강화 조직의 α-Al2O3 층인 하나 이상의 내화층을 포함한다. 상기 α-Al2O3 층의 두께는 1 - 45㎛ 이며, 강한 <001> 조직으로 된 원주형 입자를 포함한다. 상기 알루미늄 입자의 폭에 대한 길이의 비는 2 - 15 이며, 바람직하게 5 이상이다. 상기 층은 XRD 를 사용하여 측정하였을 때, 강한 (006) 회절 피크를 나타내며 (012), (104), (113), (024) 및 (116) 회절 피크에서는 낮은 강도를 나타내었다.
상기 α-Al2O3 층에 대한 조직 계수 (texture coefficients : TC ) 는 아래와 같다.
Figure 112006070399356-PAT00002
I (hkl) = (hkl) 반사의 강도
I0 (hkl) = JCPDS 카드 46-1212 에 따른 표준 강도
n = 계산에 사용된 반사의 횟수
(hkl) 반사는 (012), (104), (110), (600), (113) 및 (116) 에 사용되었다. (012) 의 2 차 반사인 (024) 반사는 계산에서 제외되었다.
알루미나 층의 조직은 아래와 같다.
TC(006) 는 1.4 초과, 바람직하게 3.0 초과, 가장 바람직하게 4.0 초과이다. 이는 강한 <001> 조직을 나타내는 것이다.
(012), (104), (113), (024) 및 (116) 회절 피크에 대한 조직 계수는 0.5 미만, 바람직하게 0.2 미만, 가장 바람직하게 0.1 미만이다.
특히, 상기 코팅은 CVD Ti(C,N), CVD TiN, CVD TiC, MTCVD Ti(C,N), MTCVD Zr(C,N), MTCVD Ti(B,C,N), CVD HfN 또는 Ti(C,N) 의 화합물인 몸체부에 인접한 제 1 층을 하며, 그 두께는 1-20㎛, 바람직하게 1-10㎛ 이다. 바람직하게 상기 기재부와 상기 제 1 층 사이에는 두께가 3㎛ 미만, 바람직하게 0.5-2㎛ 인 TiN 중 간층이 존재한다.
일 실시형태에 있어서, α-Al2O3 층이 최상위 층이다.
다른 실시형태에 있어서, 상기 α-Al2O3 층 상부에는 하나 이상의 Ti, Zr 및 Hr 로 이루어진 탄화물, 질화물, 탄화질화물, 카르복시니트라이드인 층이 존재하며, 그 두께가 약 0.5-3㎛, 바람직하게 0.5-1.5㎛ 인 층이 존재한다. 또는, 이 층의 두께는 약 1-20㎛, 바람직하게 2-8㎛ 가 될 수 있다.
다른 실시형태에 있어서, 상기 코팅은 α-Al2O3 층 상부에 κ-Al2O3 또는 γ-Al2O3 층이 형성되어 있으며, 그 두께가 0.5-10㎛, 바람직하게 1-5㎛ 이다.
또한, 본 발명은 950-1000℃, 바람직하게 1000℃ 온도 범위에서 제어된 <001> 조직이 있는 조직된 α-Al2O3 층을 생산하기 위한 개선된 방법에 관한 것이다. 상기 α-Al2O3 층은 외부면을 향해 알루미늄 함량을 증가시키면서 (Ti,Al)(C,O,N) 결합층에 증착되어 있다. 이러한 층의 위에는 Ti(O,C) 층이 제어된 O 성분에 증착되어 있다. 매우 얇은 산화 티타늄 핵생성 층은 원자층 증착법 (Atomic Layer Deposition : ALD) 에서 사용되는 것과 같은 유사한 방법으로 얻을 수 있다. 처리 공정은 다음과 같다.
(ⅰ) 바람직하게 AlCl3 와 함께 제 1 전구물질 TiCl4 을 놓는다.
(ⅱ) (N2) 로 하제 (purge) 한다.
(ⅲ) 제 2 전구물질 (H2O) 을 놓는다.
(ⅳ) (N2) 로 하제한다.
제 (ⅰ) 공정과 제 (ⅲ) 공정 시간은 1-5분, 바람직하게 각각 2 분, 제 (ⅱ) 공정과 제 (ⅳ) 공정 시간은 2-10분, 바람직하게 각각 5분이다. α-Al2O3 의 증착은 비교적 긴 30-120 분, 바람직하게 60 분동안 황 함유 화합물 또는 불소 함유 화합물이 없는 상태로 핵생성 단계와 동시에 이루어진다. α-Al2O3 는 황 함유 화합물 H2S 또는 SO2, 바람직하게 H2S 와 불소 함유 화합물 SF6, 또는 HF, 바람직하게 SF6 를 사용하여 알맞은 두께로 성장된다. α-Al2O3 가 올바르게 핵성장된 경우, CO 와 CO2 가 결합된 CO=2×CO2 가스 혼합물로 된 비교적 작은 양의 불순물을 사용하여 증착 처리하여 강한 <001> 성장 조직이 제어된 방식으로 얻어질 수 있다. 종래 기술과 비교하여 가장 큰 차이점은 α-Al2O3 자체가 성장하는 동안 핵생성 과정이 이루어질 뿐만 아니라, 조직이 제어된다는 점이다. 전술한 조직은 만일 핵생성과 성장이 정확하게 제어되지 않는다면 얻어질 수 없다. 이는 <001> 조직 [(006) 회절 피크)] 가 널리 알려지지 않았다는 사실을 잘 설명할 수 있다.
핵생성 단계에 대한 상세한 설명
1. 2-3% 의 TiCl4, 0.5% 내지 6% 로 AlCl3 를 증가시키며, 3-10% 의 CO, 1- 3% 의 CO2, 0.2-1.0% 의 CH3CN, 0.2-1.0% 또는 2-10% 의 N2 및 잔부가 H2 인 혼합기체 상에서, 약 750-1000℃, 바람직하게 800℃ 의 온도 및 50-200 mbar 의 압력으로 0.1-1㎛ 두께의 결합층을 증착한다.
2. 5 분동안 N2 기체로 하제한다.
3. 수소에 5-15% 의 TiCl4, 5-20% 의 CO, 0.5-3% 의 CO2 및 10-20% 의 Ar 의 혼합기체를 5-15분, 바람직하게 10분 동안, 950-1000℃, 바람직하게 1000℃ 의 온도 및 50-200 mbar 의 압력으로 상기 결합 층에 처리한다.
4. 5 분동안 N2 기체로 하제한다.
5. 수소에 8-15% 의 TiCl4 및 0.5-2% 의 AlCl3 의 혼합기체를 5-15분동안, 950-1000℃, 바람직하게 1000℃ 의 온도 및 50-200 mbar 의 압력으로 상기 결합 층에 처리한다.
6. 0.05-0.5%, 바람직하게 0.01% 의 H2O 및 잔부가 H2 인 혼합 기체에서 처리한다.
7. 5 분동안 N2 기체로 하제한다.
8. 공지의 기술에 따라 알맞은 두께로 950-1000℃ 의 온도에서 알루미나 층을 핵생성하거나, 또는 어떠한 촉매 전구 물질을 반응시키지 않고 950-1000℃ 에서 알루미나 층을 증착한다.
9. 950-1000℃ 의 온도 및 50-200mbar 증착 압력으로, 촉매 작용제로 0.01- 0.05% 의 H2S 또는 SO2, 바람직하게 H2S 와, 0.01-0.02% 의 SF6 또는 HF, 바람직하게 SF6 를 사용하여 바람직한 두께의 알루미늄층을 증착한다. 1.0-4.5% 의 CO2 는 CO 와 함께 CO=2×CO2 를 형성하면서 산소 공급자로 사용된다.
실시예 1
조성이 5.9% 의 Co 및 잔부가 WC 인 초경합금 절삭 인서트 (강도 약 1600HV) 는 MTCVD Ti(C,N) 층으로 코팅되어 있다. 상기 MTCVD 층의 두께는 약 2㎛ 이다. 상기층 위로 약 10㎛ 의 α-Al2O3 층이 형성되어 있다. α-Al2O3 층은 본 발명에 따라 증착되었으며 코팅 a 로 나타낸다. 세부 처리 사항은 다음과 같다.
Figure 112006070399356-PAT00003
Figure 112006070399356-PAT00004
Figure 112006070399356-PAT00005
실시예 2
코팅 a 는 X-선 회절법을 사용하여 조사되었다. 상기 α-Al2O3 층의 조직 계수가 결정되고, 이를 표 1 에 나타내었다. <001> 조직이 형성된 코팅 a 의 평면 SEM 화상이 도 1a 에 나타나 있으며, 도 1b 는 단면을 나타낸 것이다. 상기 α-Al2O3 층은 원주형 입자로 형성되어 있다. 상기 X-선 회절 패턴은 도 2 에 나타나 있다.
Figure 112006070399356-PAT00006
실시예 3
종래 기술 (코팅 두께 약 10㎛) 에 따라 <012> 및 <104> 조직이 형성된 코팅 b, 코팅 c 가 증착되었다. 상기 코팅들은 X-선 회절을 이용하여 조사되었다. 상기 α-Al2O3 층의 조직 계수가 결정되고, 이를 표 2 에 나타내었다.
Figure 112006070399356-PAT00007
실시예 4
Co - 농축 기재부상에 증착된 코팅 a, b 및 c 는 단속 절삭과 동시에 종방향으로 회전하면서 인성에 대하여 시험하였다.
작업 시편 : 원통형 슬롯 바
재료 : SS1672
인서트 유형 : CNMG120408-M3
절삭 속도 : 140m/min
주입 : 0.1, 0.125, 0.16, 0.20, 0.25, 0.315, 0.4, 0.5, 0.63, 0.8mm/rev 로 절삭 길이가 10mm 이후에 점진적으로 증가
절삭 깊이 : 2.5mm
비고 : 건조 회전
공구 수명 기준 : 날이 파쇄될때 까지 주입을 점진적으로 증가. 10 개의 날에 대하여 각각 시험하였다.
절삭 후 2 분, 4 분후에 인서트가 조사되었다. 표 3 에 나타난 바와 같이, 날의 인성은 본 발명에 따라 층이 형성되었을때 매우 강화되었다.
Figure 112006070399356-PAT00008
표 3 의 결과는 본 발명에 따른 코팅 (코팅 a) 이 종래 기술에 따른 코팅 (코팅 b, 코팅 c) 에 비하여 명백하게 우수한 인성 특성을 나타냄을 보여주고 있다.
실시예 5
상기 코팅 a, 코팅 b 및 코팅 c 에 대하여 주철에 종방향으로 회전시키면서 날의 치핑 (chipping) 을 시험하였다.
작업 시편 : 원통형 바
재료 : SS0130
인서트 유형 : SNUN
절삭 속도 : 400m/min
주입 : 0.4mm/rev
절삭 깊이 : 2.0mm
비고 : 건조 회전
절삭 후 2 분, 4 분후에 인서트가 조사되었다. 표 4 에 나타난 바와 같이, 종래 제품의 날의 인성은 본 발명에 따라 층이 형성되었을때 매우 강화되었다.
Figure 112006070399356-PAT00009
실시예 6
약 90% 의 폴리크리스탈 CBN (PCBN) 을 함유하는 입방정질화붕소 (CBN) 인서트가 본 발명에 따라, 그리고 종래 기술 (코팅 b) 에 따라 각각 코팅되었다. 상기 코팅된 CBN 을 페라이트를 함유하는 강 절삭에 사용하면서 코팅되지 않은 CBN 과 비교하였다. B 는 페라이트에 친화도가 높으며, 절삭 속도가 높은 경우 확산 마모가 발생하는 것이 알려져 있다.
작업 시편 : 원통형 바
재료 : SS0130
인서트 유형 : SNUN
절삭 속도 : 800m/min
주입 : 0.4mm/rev
절삭 깊이 : 2.5mm
비고 : 건조 회전
수명 (분)
코팅된 CBN (본발명) 23
코팅된 CBN (종래 012 조직) 14
코팅되지 않은 CBN 9
표 5 에 나타난 바와 같이, 본 발명에 따른 코팅이 종래 코팅에 비하여 우수함을 알 수 있다.
실시예 7
κ-Al2O3 와 종래 기술의 α-Al2O3 이 형성된 코팅 a 내지 코팅 c 의 경도 및 영률을 나도압입을 사용하여 측정하였다. 그 결과를 표 6 에 나타내었다.
Figure 112006070399356-PAT00010
본 발명에 따른 코팅 a 가 경도와 영률 면에서 가장 높은 값을 가지며, 그 다음으로 코팅 c 가 높은 값을 갖는다.
본 발명에 의하면, 강하고, 전체적으로 강하게 제어된 <001> 성장 조직이 있는 핵생성 α-Al2O3 를 포함하는 α-Al2O3 상이 있는 개선된 알루미늄 층을 제공할 수 있다.

Claims (10)

  1. 하나 이상의 α-알루미나 층으로 된 하나 이상의 내화층을 포함하며, 두께가 5-40㎛, 바람직하게 5-25㎛ 인 코팅이 적어도 부분적으로 코팅된 기재부를 포함하는 절삭 공구 인서트에 있어서,
    상기 알루미나 층은 바람직하게 <001> 성장 방향으로 조직 계수 (006) 가 1.4 초과, 바람직하게 3.0 초과, 가장 바람직하게 4.0 초과인 원주형 α-Al2O3 입자를 포함하며,
    상기 조직 계수 TC(hkl) 는
    Figure 112006070399356-PAT00011
    이고,
    I (hkl) = (hkl) 반사의 강도,
    I0 (hkl) = JCPDS 카드 46-1212 에 따른 표준 강도,
    n = 계산에 사용된 반사의 횟수,
    (hkl) 반사는 (012), (104), (110), (006), (113) 및 (116) 에 사용되는 것을 특징으로 하는 절삭 공구 인서트.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 알루미나 원주형 입자는 길이/폭의 비가 2-15, 바람 직하게 5-10 인 것을 특징으로 하는 절삭 공구 인서트.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 기재부는 바람직하게 결합상의 표면적이 넓은 초경합금, CBN 또는 소결한 CBN 합금을 포함하는 것을 특징으로 하는 절삭 공구 인서트.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 코팅은 CVD Ti(C,N), CVD TiN, CVD TiC, MTCVD Ti(C,N), MTCVD Zr(C,N), MTCVD Ti(B,C,N), CVD HfN 또는 Ti(C,N) 의 화합물인 몸체부에 인접한 제 1 층을 포함하며, 그 두께는 1-20㎛, 바람직하게 1-10㎛ 이고,
    상기 α-Al2O3 층은 상기 1 층에 인접하여, 그 두께가 약 1-40㎛, 바람직하게 1-20㎛, 가장 바람직하게 1-10㎛ 인 것을 특징으로 하는 절삭 공구 인서트.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 α-Al2O3 층이 최상위 층인 것을 특징으로 하는 절삭 공구 인서트.
  6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 α-Al2O3 층 상부에는 하나 이상의 Ti, Zr 및 Hr 로 이루어진 탄화물, 질화물, 탄화질화물, 카르복시니트라이드인 층이 존재하며, 그 두께가 약 0.5-3㎛, 바람직하게 0.5-1.5㎛ 인 것을 특 징으로 하는 절삭 공구 인서트.
  7. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 α-Al2O3 층 상부에는 하나 이상의 Ti, Zr 및 Hr 로 이루어진 탄화물, 질화물, 탄화질화물, 카르복시니트라이드인 층이 존재하며, 그 두께가 약 1-20㎛, 바람직하게 2-8㎛ 인 것을 특징으로 하는 절삭 공구 인서트.
  8. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 α-Al2O3 층 상부에는 κ-Al2O3 또는 γ-Al2O3 층이 형성되어 있으며, 그 두께가 0.5-10㎛, 바람직하게 1-5㎛ 인 것을 특징으로 하는 절삭 공구 인서트.
  9. 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 기재부와 상기 제 1 층 사이에는 TiN 층이 있으며, 그 두께가 3㎛ 미만, 바람직하게 0.5-2㎛ 인 것을 특징으로 하는 절삭 공구 인서트.
  10. 제 1 항에 따른 α-Al2O3 층을 750-1000℃ 의 온도 범위에서 제조하는 방법에 있어서,
    상기 α-Al2O3 의 성장은 H2S 와 SF6 또는 SO2 와 SF6 와 같은 황 및 불소를 함유하는 전구 물질을 사용하여 α-Al2O3 핵생성 표면과 성장을 최적화하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 α-Al2O3 층 제조 방법.
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