KR20070016125A - 반사 방지 필름 - Google Patents

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KR20070016125A
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이사무 오구리
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데이진 듀폰 필름 가부시키가이샤
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Abstract

투명기재 및 그 위에 형성된 반사 방지층으로 이루어진 반사 방지 필름으로서, 반사 방지층은 투명기재 상에 형성된 제 1 층, 그 위에 형성된 제 2 층 및 그 위에 형성된 제 3 층으로 이루어지고, 제 1 층 및 제 2 층은 티탄 및 지르코늄으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 1 종류의 금속의 산화물로 이루어지고 하기 식을 만족시키는 것을 특징으로 하는 반사 방지 필름에 의해, 층 상호의 우수한 밀착성 그리고 우수한 물리적 및 화학적 내구성을 가지며, 양호한 반사 방지 기능을 갖는 반사 방지 필름을 제공한다.
P1＞P2
(단, P1=O1/M1, P2=O2/M2 이며, O1은 제 1 층을 구성하는 산소 원소의 수, M1은 제 1 층을 구성하는 금속 원소의 수, O2는 제 2 층을 구성하는 산소 원소의 수, M2는 제 2 층을 구성하는 금속 원소의 수)
투명기재, 반사 방지 필름

Description

반사 방지 필름{ANTIREFLECTIVE FILM}
본 발명은 반사 방지 필름에 관한 것이다.
쇼 케이스를 통해서 전시물을 보는 경우나, 창을 통해서 경치를 보는 경우에, 쇼 케이스나 창의 표면에 외광이 반사되어 매우 보기 어려운 경우가 있다. 그래서, 쇼 케이스나 창을 구성하는 투명기재 상에, 반사 방지 필름을 부착시키는 것이 행해지고 있다.
이 반사 방지 필름으로서는, 투명 플라스틱 필름 상에 무기 화합물이나 유기 불소 화합물로 이루어진 단층의 저굴절률층으로 이루어진 반사 방지층을 형성한 반사 방지 필름이 사용되는 것과 함께, 투명 플라스틱 필름 상에, 저(低)굴절률층과 고(高)굴절률층의 2층 이상의 층으로 이루어지는 반사 방지층을 형성한 반사 방지 필름이 사용되고 있다.
이들 반사 방지층은, 금속 산화물의 무기 화합물로 일반적으로 구성된다. 반사 방지층은 습식 코팅법이나 진공 프로세스법을 이용하여 형성된다. 진공 프로세스법을 이용하면 막대한 비용이 들기 때문에, 습식 코팅법을 이용하여 형성하는 것이 바람직하다. 그러나, 습식 코팅법으로는, 반사 방지 성능이 불충분하기 때문에, 충분한 반사 방지 성능을 얻는 방법으로서 습식 코팅법과 기상법을 조합하여 반사 방지층을 형성하는 방법이 제안되어 있다(일본 공개특허공보 평10-728호). 그러나, 습식 코팅법에 의해 형성된 층과 기상법에 의해 형성된 층 사이에 충분한 밀착을 얻는 것은, 지금까지 어려웠고 불충분한 내구성이 얻어질 뿐이었다. 밀착성을 향상시키기 위해서, 반사 방지층을 특정 물질의 조합으로 구성하는 방법이 알려져 있으나(일본 공개특허공보 2003-005069호), 아직까지 불충분한 밀착성밖에 얻지 못한다.
발명의 개시
본 발명의 목적은, 이들 문제를 해결하여, 반사 방지층의 중(中)굴절률층을 습식 코팅법으로 형성하고, 고굴절률층을 기상법으로 형성하면서도, 이들 층 상호의 우수한 밀착성 그리고 우수한 물리적 및 화학적 내구성을 가지며, 양호한 반사 방지 성능을 갖는 반사 방지 필름을 제공하는 것에 있다.
즉, 본 발명은 투명기재 및 그 위에 형성된 반사 방지층으로 이루어진 반사 방지 필름으로서, 반사 방지층은 투명기재 상에 형성된 제 1 층, 그 위에 형성된 제 2 층 및 그 위에 형성된 제 3 층으로 이루어지고, 제 1 층 및 제 2 층은 티탄 및 지르코늄으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 1 종류의 금속의 산화물로 이루어지고 하기 식을 만족시키는 것을 특징으로 하는 반사 방지 필름이다.
P1＞P2
단, P1=O1/M1, P2=O2/M2 이며, O1은 제 1 층을 구성하는 산소 원소의 수, M1은 제 1 층을 구성하는 금속 원소의 수, O2는 제 2 층을 구성하는 산소 원소의 수, M2는 제 2 층을 구성하는 금속 원소의 수이다.
이하, 본 발명을 상세하게 설명한다.
<투명기재＞
본 발명의 투명기재는, 반사 방지층을 유지하는 투명한 기재이다. 투명기재는, 공업 생산성이 우수하기 때문에 유기 고분자의 필름이 바람직하다.
유기 고분자로서는, 폴리에스테르 (예를 들어, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트), 폴리(메트)아크릴 (예를 들어, 폴리메틸메타크릴레이트), 폴리카보네이트, 폴리스티렌, 폴리비닐알코올, 폴리염화비닐, 폴리염화비닐리덴, 폴리에틸렌, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체, 폴리우레탄, 트리아세틸셀룰로오스, 셀로판 등을 예시할 수 있다. 이들 중에서, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리메틸메타크릴레이트, 트리아세틸셀룰로오스가 투명성, 강도 등 면에서 바람직하다.
유기 고분자의 필름은, 미연신 필름이어도 되고, 연신 필름이어도 된다. 예를 들어, 폴리에스테르필름은 통상적으로는 2축 연신 필름으로서 사용하고, 폴리 카보네이트 필름, 트리아세테이트 필름, 셀로판 필름은 통상적으로는 미연신 필름으로서 사용한다. 투명기재에는, 밀착성 부여층이 형성되어 있어도 된다.
투명기재는 바람직하게는 5∼1000㎛ 두께를 구비하는데, 이 두께는 반사 방지 필름의 용도에 따라 적절하게 정하면 된다.
<하드코트층＞
투명기재에는, 반사 방지 필름에 원하는 경도를 부여하기 위해서, 바람직하게는 하드코트층을 형성한다. 하드코트층은 바람직하게는 투명하고, 적당한 경도를 갖는다. 하드코트층은, 예를 들어 전리(電離) 방사선 경화 수지, 자외선 경화 수지, 열경화성 수지를 사용할 수 있다. 특히, 자외선 조사 경화형의 아크릴 수지 또는 유기 규소 수지, 열경화형 폴리실록산 수지가 매우 적합하다. 이들 수지는 공지된 것을 사용할 수 있다.
하드코트층을 형성함에 있어서, 표면을 평활하면서 또한 균일하게 형성하는 도포 방법을 취하는 것이 바람직하다.
하드코트층은, 평균 입자 직경 0.01∼3㎛의 투명한 무기 미립자 및/또는 유기 미립자를 함유하는 것이 바람직하다. 함유는 혼합 분산의 형태인 것이 바람직하다. 그럼으로써, 안티글레어라고 하는 광확산성을 얻을 수 있다. 그리고, 이 광확산성을 부여한 하드코트층 상에 반사 방지층을 형성함으로써, 화상의 희미함이 적아져, 단순한 광확산성의 처리를 실시한 경우보다 명료한 화상을 얻을 수 있다.
<반사 방지층＞
반사 방지층의 제 1 층 및 제 2 층은, 바람직한 굴절률 및 양호한 투명성 및 밀착성을 얻는 관점에서, 티탄 및 지르코늄으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 1 종류의 금속 산화물로 이루어진다.
본 발명의 반사 방지층은 하기 관계식을 만족시킨다. 이 조건을 만족시킴으로써, 우수한 반사 방지 성능을 얻을 수 있다.
P1＞P2
단, P1=O1/M1, P2=02/M2이며, 01은 제 1 층을 구성하는 산소 원소의 수, M1은 제 1 층을 구성하는 금속 원소의 수, 02는 제 2 층을 구성하는 산소 원소의 수, M2는 제 2 층을 구성하는 금속 원소의 수이다.
상기의 원소 비율을 만족시키기 위해서는, 반사 방지층의 제 1 층은 티탄 및/또는 지르코늄의 알콕시드에서 유래되는 물질의 층인 것이 바람직하다.
티탄 및/또는 지르코늄의 알콕시드에서 유래되는 물질의 층은, 티탄 및/또는 지르코늄의 알콕시드를 용제로 희석시키고, 도포, 건조 공정 중에 가수분해를 실시함으로써 형성하는 것이 바람직하다. 이 경우, 도포 후에 도포층을 열처리 하면 된다. 이 열처리는 투명기재의 열변형 온도 이하에서 실시하면 된다. 예를 들어, 투명기재가 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름인 경우, 약 80∼150℃ 온도에서 약 30초∼5분간 열처리를 실시하면 된다. 이 열처리에 의해, 산화 규소의 겔막을 형성할 수 있다. 열처리 조건은 투명기재의 종류나 두께에 따라 달라지므로, 적절하게 결정하면 된다.
티탄 및/또는 지르코늄의 알콕시드로서는 구체적으로 하기 식으로 표시된 화합물을 사용할 수 있다. 이들은 단량체를 사용해도 되고, 2∼6량체를 사용해도 된다.
M(OR)4
단, M은 Ti 또는 Zr, R은 탄소수 1∼10의 알킬기를 나타낸다.
반사 방지층의 제 1 층 및/또는 제 2 층에는, 금속 산화물의 미립자를 첨가 해도 되고, 굴절률 조정을 위해서 유기 규소 화합물을 첨가해도 된다.
반사 방지층의 제 2 층은 양호한 밀착성 및 투명성을 얻는 관점에서 하기 식을 만족시키는 것이 바람직하다.
1.65≤P2≤1.95
더욱 바람직하게는 하기 식을 만족시킨다.
1.75≤P2≤1.90
P2가 이 범위의 상한을 초과하면 강도가 낮은 반사 방지층이 되고, 하한이 미만이면 제 1 층과의 낮은 밀착성밖에 얻지 못하여 광의 흡수가 발생하고, 불량한 투명성을 나타내게 된다.
제 2 층은 대표적인 물리적 기상법인 스퍼터링법으로 형성되는 것이 바람직하다. 도포법으로 제 2 층을 형성하면, P2를 상기 범위로 컨트롤하기가 어렵다. 스퍼터링법에서는, 박막 형성시에 도입되는 희(希)가스와 반응성 가스의 조성을 변경함으로써, 형성되는 제 2 층의 P2를 쉽게 제어할 수 있다.
스퍼터링법으로 제 2 층이 형성되는 경우, 스퍼터링에 사용되는 타겟이 되는 원자가 높은 에너지를 수반하여 투명기재에 충돌되므로, 투명기재에 대한 투묘(投錨)효과를 얻을 수 있고, 투명기재의 웨트성에 관계없이 투명기재에 강하게 밀착된 제 2 층을 얻을 수 있다.
또한, 타겟을 크게 함으로써 비교적 쉽게 대면적의 스퍼터링을 실시할 수 있다.
제 2 층을 스퍼터링법으로 형성하는 경우, 타겟으로서 산화물을 사용하여 산화 티탄 또는 산화 지르코늄의 박막층(제 2 층)을 형성하는 방법과, 타겟으로서 금속을 사용하여 막 형성 중에 희가스와 산화성 가스(예를 들어, 산소나 오존)를 도입하여 산화 티탄 또는 산화 지르코늄의 박막층(제 2 층)을 형성하는 방법(반응성 스퍼터링법)을 이용할 수 있다.
전자의 방법에 의한 경우, 제 2 층의 P2를 콘트롤하기가 어렵다. 후자의 방법(반응성 스퍼터링법)에 의한 경우, 희가스와 산화성 가스의 조성을 변경함으로써 P2를 컨트롤할 수 있다. 또한, 이 방법에서는, 막 형성 속도가 느린 산화물 모드와 막 형성 속도가 빠른 금속 모드의 중간에서 제 2 층의 막을 형성할 수 있기 때문에, 전자의 방법에 비해 막 형성이 빠르다는 이점도 있다. 그래서, 후자의 방법(반응성 스퍼터링법)으로 제 2 층을 형성하는 것이 바람직하다.
제 2 층의 스퍼터링 방법을 더 상세하게 설명한다.
스퍼터링은, 플라즈마 발광 강도의 측정 수단과 반응성 가스의 유량 제어 수단을 조합한 장치에서 실시하는 것이 바람직하다. 플라즈마 발광 강도의 측정 수단으로는, 플라즈마 발광 영역을 감시할 수 있는 위치에 설치된, 플라즈마 중의 금속의 여기 발광 강도(플라즈마 발광 강도)를 계측할 수 있는 모니터를 사용하는 것이 바람직하다. 반응성 가스의 유량 제어 수단으로는, 설정값과 모니터가 측정한 플라즈마 발광 강도를 비교 연산하여, 측정값이 설정값과 동일해지도록 가스 유량 조정 밸브를 자동 조정하여 각 챔버의 산화성 가스 유량을 제어하는 장치(이하 「PEM」이라고 함)를 사용하는 것이 바람직하다.
플라즈마 발광 강도의 측정 수단과 반응성 가스의 유량 제어 수단을 조합한 장치로서는, 시판되는 아르덴네사 제조의 「PEM05」를 사용할 수 있다.
이 경우, 아르곤 가스만으로 금속 티탄 또는 금속 지르코늄의 타겟을 사용하여 방전했을 때(즉, 금속 티탄 또는 금속 지르코늄의 박막을 형성할 때)의 플라즈마 발광 강도의 측정값을 90 으로 하고, 플라즈마 발광 강도의 설정값을 이 값보다 작게 설정하면 된다. 플라즈마 발광 강도의 설정값을 작게 하면 산소 가스 도입 밸브의 개방도가 커져 산화도(P2)가 올라가고, 크게 하면 산소 가스 도입 밸브의 개방도가 작아져 산화도(P2)가 내려간다. 즉, P2는 반응성 스퍼터링을 채택하여 플라즈마 발광 강도를 조정함으로써 컨트롤할 수 있다.
P2를 본 발명의 범위로 하기 위해서, 플라즈마 발광 강도는 바람직하게는 20∼30, 더욱 바람직하게는 22∼28이다.
반응성 스퍼터링법에서는, 예를 들어 직류 마그네트론 방식, 고주파 마그네트론 방식, 듀얼 캐소드 마그네트론 방식, 전자 사이클로트론 공명 방식을 이용할 수 있다. 이들은 모두 방법 자체는 공지되어 있다.
제 3 층은, 양호한 강도, 굴절률 및 투명성을 얻는 관점에서 바람직하게는 규소의 산화물의 막이다. 제 3 층은, 습식법 및 기상법 중 어느 방법으로도 형성할 수 있지만, 저렴한 비용으로 형성할 수 있으며, 높은 투명성을 얻을 수 있기 때문에, 습식법으로 형성하는 것이 바람직하다. 습식법으로 제 2 층을 형성하는 경우, 규소의 알콕시드를 사용하여 형성하는 것이 바람직하다. 이 경우에는 높은 강도의 반사 방지층을 얻을 수 있다.
규소의 알콕시드로서는, 테트라에틸실리케이트, 테트라메틸실리케이트, 테트라이소프로폭시실리케이트, 테트라부톡시실리케이트를 사용할 수 있다. 이들은 단량체로 사용해도 되고, 다량체를 사용해도 된다.
제 3 층에는, 추가로 하기 일반식으로 표시된 유기 규소 화합물을, 원하는 막의 경도, 유연성 및 표면성에 따라 적절하게 첨가해도 된다.
R1 aR2 bSiX4 -(a+b)
(R1, R2는, 각각 알킬기, 알케닐기, 알릴기 또는 할로겐기, 에폭시기, 아미노기, 메르캅토기, 메타크릴기, 플로로기 또는 시아노기를 갖는 탄화수소기이며, X는 탄소수 1∼8의 알콕실기이며, a, b는 각각 0, 1 또는 2이며, a+b는 2 이하의 수이다)
규소 알콕시드로부터 제 3 층의 산화 규소의 막을 형성하는 방법으로서는, 바람직하게는 상기 규소 알콕시드를 가수분해함으로써 얻을 수 있는 졸을 제 2 층 상에 도포, 건조 및 경화시키는 방법을 취한다.
졸의 조정 방법으로는, 상기 규소 화합물을 유기용매에 용해시켜 가수분해하는 방법을 취하는 것이 바람직하다. 유기용매로서는, 예를 들어, 이소프로필알코올, 메탄올, 에탄올과 같은 알코올; 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤과 같은 케톤; 아세트산에틸, 아세트산부틸과 같은 에스테르; 톨루엔, 자일렌과 같은 방향족 탄화수소; 할로겐화 탄화수소를 사용할 수 있다. 이들은 단독으로 사용해도 되고, 혼합물로 사용해도 된다.
규소 알콕시드는, 용매 중에 규소 알콕시드가 100% 가수분해 및 축합되었을 때에 발생하는 산화 규소 환산으로, 바람직하게는 0.1 중량% 이상, 더욱 바람직하게는 0.1∼10 중량%가 되는 농도에서 용해시킨다. 농도가 0.1 중량% 미만이면 형성되는 졸막이 원하는 특성을 충분히 발휘할 수 없고, 10 중량%를 초과하면 투명 균질막의 형성이 어려워져 바람직하지 않다.
수득된 용액에, 적어도 가수분해에 필요한 양의 물을 첨가하여 바람직하게는 15∼35℃, 더욱 바람직하게는 22∼28℃ 온도에서, 바람직하게는 0.5∼48시간, 더욱 바람직하게는 2∼35 시간 교반하고 가수분해를 실시한다.
가수분해에 있어서는 촉매를 사용하는 것이 바람직하다. 촉매로서는, 염 산, 질산, 황산 또는 아세트산과 같은 산이 바람직하다. 촉매의 산을 바람직하게는 0.0001∼12N, 더욱 바람직하게는 0.0005∼5N의 수용액으로서 첨가하면 된다. 이 수용액 중의 수분을 가수분해용의 물로 사용해도 되지만, 용액 전체의 pH가 4∼10이 되도록 조제하는 것이 바람직하다. 촉매로서는, 암모니아와 같은 염기를 사용해도 된다.
수득된 졸의 도포 방법으로서는, 통상적인 코팅 작업에서 이용되는 방법을 이용할 수 있고, 예를 들어, 스핀코팅법, 디핑법, 스프레이법, 롤 코터법, 메니스커스 코터법, 플렉소 인쇄법, 스크린 인쇄법, 비트 코터법, 마이크로 그라비어 코터법을 이용할 수 있다.
졸의 도포 후에 도포층의 열처리를 실시한다. 이 열처리는, 투명기재의 열변형 온도 이하에서 실시한다. 예를 들어, 투명기재가 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름인 경우에는, 약 80∼150℃ 온도에서 약 30초∼5분간 열처리를 실시하여 산화 규소의 겔막을 형성하면 된다. 열처리의 조건은 사용되는 투명기재의 종류나 두께에 따라 달라지므로, 사용되는 투명기재의 종류에 따라 결정하면 된다.
<오염방지층＞
반사 방지층의 표면을 보호하고, 또한 오염방지성을 향상시키기 위해서 반사 방지층 상에 오염방지층을 형성해도 된다. 형성 재료로는, 예를 들어 소수기를 갖는 화합물을 사용할 수 있다. 구체적으로는, 예를 들어 플루오로카본이나 퍼플루오로실란, 또한 이들 고분자 화합물을 사용할 수 있다. 특히, 지문 제거성 향상을 위해서는, 발유성을 갖는 고분자 화합물을 사용하는 것이 바람직하다.
오염방지층은, 형성에 사용되는 재료에 따라, 진공 증착법, 스퍼터링법, 이온플레이팅법, 플라즈마 CVD법, 플라즈마 중합법과 같은 진공 막형성 프로세스를 이용하여 형성해도 되고, 마이크로그라비아, 스크린, 딥과 같은 웨트 프로세스의 코팅 방법을 이용하여 형성해도 된다.
오염방지층을 형성하는 경우, 반사 방지층의 기능을 손상시키지 않도록 오염방지층의 막두께가 1∼50㎚가 되도록 형성하는 것이 바람직하다. 이보다 두꺼우면 반사 방지층의 기능에 영향을 미치고, 이보다 얇으면 오염 방지 성능이 잘 발현되지 않아 바람직하지 않다.
발명의 효과
본 발명에 따르면, 반사 방지층의 중굴절률층을 습식코팅법으로 형성하고, 고굴절률층을 기상법으로 형성하면서도, 이들 층 상호의 우수한 밀착성 그리고 우수한 물리적 및 화학적 내구성을 가지며, 양호한 반사 방지 성능을 갖는 반사 방지 필름을 제공할 수 있다.
이하, 실시예를 들어 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다.
또한, 필름 특성을 다음과 같은 방법으로 평가하였다. 「부」는 중량부이다.
(1) 밀착성
반사 방지 필름을 60℃에서 500시간 경과시킨 후에, 반사 방지층 측에서부터 커터 나이프로 2㎜ 간격으로 종횡 각 6개의 절취선을 긋고 25개의 바둑판눈 모양을 만들었다. 이 바둑판눈 상에 니치반 셀로테이프를 부착하고, 셀로테이프를 90°의 박리 각도로 박리시키고, 반사 방지 필름 상에 잔류한 반사 방지층의 바둑판눈 수를 육안으로 카운팅하여 다음과 같은 기준으로 평가하였다.
○: 25개 잔류(박리 없음)
△: 20∼24개
×: 19개 이하
(2) M, O의 원소 비율
X선광 전자 분광 장치 PHI-QUANTAM-2000(PHI제)을 사용하며, 표면을 스퍼터 에칭하면서 M, O의 비율을 측정하였다.
에칭 조건; Ar+, E=0.5keV, 2㎜□ 라스터, 스퍼터 속도 1.5m/분 (Si02 환산)
(3) 크랙
반사 방지 필름을 8㎜Φ의 봉에 반사 방지층면이 바깥측이 되도록 감고 10초간 유지한 후, 반사 방지층을 관찰하여 균열의 유무를 육안으로 확인하였다.
○: 크랙 없음
×: 크랙 있음
도료 1
에틸실리케이트 25부에 대하여 에탄올 37.6부를 첨가하고, 추가로 정제수 17.5부, 0.001N HCl 6부를 첨가하여 23℃에서 24시간 가수분해한 것을 코팅제로 하였다.
실시예 1
투명기재로서 접착 용이 처리되어 있는 이축배향 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(테이진 제조: OPFW-188㎛)를 사용하고, 이 한 면에 UV 경화성 하드코트제(JSR제: 데소라이트 Z7501)를 바코터로 도포 건조, UV 경화시켜 하드코트층을 형성하고, 이어서 하드코트층 상에 테트라부틸티타네이트의 4량체(상품: TBT B-4 닛폰 소다 제조) 의 리그로인/n-부탄올(3/1) 용액을 바코터로 도포하고, 150℃에서 1분간 건조시켜, 두께 약 110㎚가 되는 반사 방지층의 제 1 층을 형성하였다.
수득된 필름을 PEM이 장착되어 있는 스퍼터링 장치에 세팅하고, 3×10-3Pa까지 감압시켰다. 그 다음 Ar 가스를 투입하여 가스압을 0.5Pa로 하고, 타겟에는 Ti를 사용하여 1kW의 전력을 가하여 스퍼터링을 실시하고, 이 때의 Ti의 플라즈마 발광 강도를 측정하여 90으로 하였다. 그 다음 플라즈마 발광 강도를 설정하여 O2 가스를 도입하고, Ti의 플라즈마 발광 강도를 25로 유지하도록 하면서 셔터를 열고 필름에 대한 막 형성을 개시하고, 반사 방지층의 제 2 층을 25㎚ 형성하였다. 또한, 도료 1을 바코터에서 도포 150℃ 1분간 건조시켜, 두께 100㎚의 반사 방지층의 제 3 층을 형성하여 반사 방지 필름을 수득하였다.
실시예 2
반사 방지층의 제 2 층 형성시에 Ti의 플라즈마 발광 강도를 27로 한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 실시하였다.
실시예 3
반사 방지층의 제 2 층 형성시에 Ti의 플라즈마 발광 강도를 30으로 한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 실시하였다.
실시예 4
반사 방지층의 제 2 층 형성시에 타겟으로서 Zr를 사용한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 실시하였다.
실시예 5
반사 방지층의 제 2 층 형성시에 Ti의 플라즈마 발광 강도를 20으로 한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 실시하였다.
비교예 1
반사 방지층의 제 2 층 형성시에 Ti의 플라즈마 발광 강도를 35로 한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 실시하였다.
비교예 2
반사 방지층의 제 2 층 형성시에 타겟으로서 TiO2를 사용하고, 전력을 500 W로 하며, 스퍼터링 가스로서 Ar/02=39/1로 한 것을 사용하고, 압력을 0.3Pa로 하며 13.56MHz의 고주파 전원에서 스퍼터링을 실시한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 실시하였다.
평가 결과를 정리하여 표 1에 나타낸다.
실시예 1 실시예 2 실시예 3 실시예 4 실시예 5 비교예 1 비교예 2
플라즈마 발광강도 25 27 30 25 20 35 -
P2 (M2/O2) 1.86 1.80 1.69 1.85 1.94 1.52 1.49
P1 (M1/O1) 2.06 1.91 1.85 2.00 2.10 1.62 1.66
밀착성 ○ ○ ○∼△ ○ ○ × ×
크랙 ○ ○ ○ ○ × ○ ○

Claims (6)

  1. 투명기재 및 그 위에 형성된 반사 방지층으로 이루어진 반사 방지 필름으로서, 반사 방지층은 투명기재 상에 형성된 제 1 층, 그 위에 형성된 제 2 층 및 그 위에 형성된 제 3 층으로 이루어지고, 제 1 층 및 제 2 층은 티탄 및 지르코늄으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 1 종류의 금속의 산화물로 이루어지고 하기 식을 만족시키는 것을 특징으로 하는 반사 방지 필름.
    P1＞P2
    (단, P1=O1/M1, P2=O2/M2 이며, O1은 제 1 층을 구성하는 산소 원소의 수, M1은 제 1 층을 구성하는 금속 원소의 수, O2는 제 2 층을 구성하는 산소 원소의 수, M2는 제 2 층을 구성하는 금속 원소의 수이다)
  2. 제 1 항에 있어서,
    P2가 1.65∼1.95인 반사 방지 필름.
  3. 제 1 항에 있어서,
    제 2 층이 기상법으로 형성된 반사 방지 필름.
  4. 제 1 항에 있어서,
    제 3 층이 규소의 산화물로 이루어진 반사 방지 필름.
  5. 제 1 항에 있어서,
    제 1 층이 산화 티탄으로 이루어진 반사 방지 필름.
  6. 제 5 항에 있어서,
    산화 티탄이 티탄의 알콕시드에서 유래되는 반사 방지 필름.
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