KR20060090830A - 광촉매 층의 적어도 하나의 스택을 지지하는 기판, 특히유리 기판과, 상기 층의 헤테로에피택셜 성장을 위한하부층 - Google Patents

광촉매 층의 적어도 하나의 스택을 지지하는 기판, 특히유리 기판과, 상기 층의 헤테로에피택셜 성장을 위한하부층 Download PDF

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Abstract

본 발명은, 표면의 적어도 일부분 위에, 광촉매성과 오염방지 특성을 갖는 층을 지지하는 기판을 포함한 구조에 관한 것으로, 상기 층은 예추석 형태로 적어도 부분적으로 결정화되어 있는 이산화티타늄(TiO2)을 기초로 한다. 상기 구조는, 적어도 하나의 TiO2 층 바로 아래에 하부층(SC)을 포함하고, 상기 하부층은 TiO2를 기초로 한 상부층의 예추석 형태에서 헤테로에피택셜 성장에 의한 결정화를 보조하는 결정학적 구조를 갖고, 광촉매 특성은 임의의 가열 단계 없이 얻어지는 것을 특징으로 한다.

Description

광촉매 층의 적어도 하나의 스택을 지지하는 기판, 특히 유리 기판과, 상기 층의 헤테로에피택셜 성장을 위한 하부층{SUBSTRATE, IN PARTICULAR GLASS SUBSTRATE, SUPPORTING AT LEAST ONE STACK OF A PHOTOCATALYTIC LAYER AND A SUBLAYER FOR THE HETEROEPITAXIAL GROWTH OF SAID LAYER}
본 발명은, "오염 방지 또는 자정(自淨)" 기능이라 불리는 것을 제공하기 위해 광촉매 코팅을 구비한, 유리, 유리 세라믹 또는 플라스틱 기판과 같은 기판에 관한 것이다.
이러한 기판의 한 가지 중요한 용도는, 실용적인 창유리부터 가전 제품에 사용되는 창유리까지, 자동차용 창유리부터 건축용 창유리까지의 매우 많은 서로 다른 상황에 적용될 수 있는 창유리에 관한 것이다.
본 발명은 또한 거울 유형의 반사 창유리(가정용 거울 또는 운전용 거울)와, 조명 유형의 불투명 창유리에 적용된다.
이와 마찬가지로, 본 발명은 특히 건축재 (금속, 타일류 등)로 사용될 수 있는 세라믹 기판이나 이와 다른 임의의 기판과 같은 불투명 기판에 또한 적용된다. 본 발명은 기판의 성질에 관계없이 실질적으로 편평하거나 약간 휘어진 기판에 적용되는 것이 바람직하다.
광촉매 코팅(photocatalytic coating), 특히 예추석(anatase) 형태로 결정화된 산화 티타늄을 기초로 한 광촉매 코팅은 이미 연구되었다. UV 선의 작용을 통해 유기원(organic origin) 또는 미생물의 오염을 분해시키는 능력은 매우 유용하다. 광촉매 코팅은 또한 흔히 친수성 특징을 가져서, 물을 뿌리거나, 외부 창유리의 경우에는 비를 통해 무기물 오염물이 제거되도록 한다.
오염 방지, 살균 또는 살조(殺藻) 특성을 나타내는 이러한 유형의 코팅은 그 여러 실시예를 기술한 예를 들어 특허 WO 97/10186에 이미 기술되어 있다.
그 오염 방지 기능(친수성과 유기 오염 체인의 파괴)을 발휘하기 위해, TiO2는 예추석 구조(anatase structure)에서 적어도 부분적으로 결정화되어야 한다. 그렇지 않으면 TiO2는 기능성이 없고 이를 효과적으로 하는 결정학적 구조를 얻기 위해서는 증착 후 열 처리를 필요로 한다.
그래서, TiO2가 고온을 필요로 하는 화학 증기 증착(CVD) 기술에 의해 증착되면, 이는 자발적으로 올바른 구조를 갖는다. TiO2가 특히 진공 증착 기술에 의해 냉간(冷間) 증착되면 (실온에서), 적절한 열 처리 후에만 기능성을 갖게 된다.
본 발명의 목적은, 가열 단계를 사용하지 않고 TiO2의 올바른 상태를 얻기 위한 해결책을 제안하는 것이다. 그러나, 안전 용도 또는 유리 표면이 강화되어야만 하는 용도와 같은 특정한 경우에 보이는 이러한 가열 단계 (강인화 또는 어닐링 작업)는 배제되지 않는다.
이러한 목적을 위해, 본 출원은, TiO2 층을 증착하기 바로 전에, TiO2 층의 올바른 성장(헤테로에피택셜 성장)을 위해 적절한 기초를 제공하는 하부층의 증착을 제공하고, 이러한 하부층은 실온에서, 그리고 기판의 가열을 필요로 하지 않고 증착되는 것이 유리하다.
국제 출원 WO 02/40417호는, 가열을 필요로 하고, 예추석(anatase)의 바람직한 형성이 증명되지 않으며, 금홍석(rutile) 형태가 또한 선호되는 매우 많은 가능 조건에서 ZrO2 하부층에 이은 TiO2의 증착을 기술한다.
따라서, 본 발명의 제 1 주제는, 표면의 적어도 일부분 위에, 예추석 형태로 적어도 부분적으로 결정화된 이산화티타늄(TiO2)을 기초로 한 광촉매 특성을 갖는 오염방지 층을 갖는 기판을 포함한 구조로서, 상기 구조는, 적어도 하나의 TiO2 층 바로 아래에, 예추석 형태에서 헤테로에피택셜 성장에 의한 TiO2를 기초로 한 상부층의 결정화를 보조하는 결정학적 구조를 갖는 하부층(underlayer)(UL)을 포함하고, 임의의 가열 단계 없이 광촉매 특성이 얻어진 것을 특징으로 한다.
하부층(UL)은 특히 입방 또는 정방정계 시스템으로 결정화되고 예추석 형태로 결정화된 TiO2와 ±8%, 특히 ±6% 이내로 동일한 격자 셀 치수를 갖는 화합물을 기초로 한다.
하부층(UL)은 ATiO3로 이루어지는 것이 바람직하고, A는 바륨 또는 스트론튬을 나타낸다.
하부층(UL)의 두께는 중요하지 않다. 예를 들어, 10 내지 100nm의 두께 값을 들 수 있다.
기판은, 예를 들어, 평면이거나 휘어진 면을 갖는 것에 관계없이, 단일층 또는 적층 유리, 유리 세라믹 또는 열가소성 물질(폴리카보네이트와 같은)의 시트, 또는 이와 달리 유리 또는 유리 세라믹 섬유로 이루어지고, 상기 시트 또는 상기 섬유는 적절한 경우, 하부층(UL)을 도포하기 전 적어도 하나의 다른 기능성 층을 수용했다 (층이 하나를 초과하는 경우, 이를 다층 스택이라 또한 부를 수 있다).
이 시트의 용도는 앞에서 명시되었다. 섬유의 용도에 관해서, 공기나 물의 여과를 들 수 있고, 또한 살균 용도를 들 수 있다.
기판이 유리 또는 유리 세라믹으로 만들어지면, 하부층(UL)에 인접한 적어도 하나의 기능성 층은 유리 또는 유리 세라믹으로부터 알칼리 금속의 이동에 대한 장벽을 형성하는 층일 수 있다. 이러한 이동은 600℃를 넘는 온도를 가하는 것으로부터 일어날 수 있다. 알칼리 금속에 대한 장벽을 형성하는 이러한 층이 알려져 있고, PCT 국제 출원 WO 02/24971에 기술된 바와 같이, 두께가 예를 들어 적어도 50nm인 SiO2, SiOC 및 SiOxNy 층을 들 수 있다.
하부층(UL)에 인접한 적어도 한 장의 기능성 층은 광학 기능을 갖는 층 (유리하게는 반사시 광학 특성을 조절하기 위한), 열 조절 층 또는 전도층일 수 있다.
광학 기능을 갖는 층은 특히, 반사방지 층, 광선 여과 층, 착색 층, 산란 층 등이다. SiO2, Si3N4, 무정형 TiO2, 광촉매 결정화된 TiO2, SnO2, ZnO로 이루어진 층을 들 수 있다.
열 조절 층은 특히 태양광선 조절 층 또는 "저 방사율" (low-emissivity) 층이라고 불리는 것이다.
전도층은 특히 가열층, 안테나 층 또는 정전기 방지층으로, 전도선의 배열은 이러한 층에 포함될 수 있다.
예를 들어, 유리 또는 유리 세라믹으로부터 알칼리 금속의 이동에 대한 장벽으로 작용하는 층을 수용한 다음, 광학 기능을 갖는 단일층, 이중층 또는 삼중층을 수용한, 특히 시트 유형의 유리 또는 유리 세라믹 기판을 예로 들 수 있다.
이산화티타늄을 기초로 한 층은 TiO2로만 이루어지거나, 특히, N; Nb, Ta 및 V과 같은 5가 양이온; Fe; 및 Zr로부터 선택된 적어도 하나의 도핑제로 도핑된 TiO2로 이루어진다.
본 발명의 유리한 특징에 따라,
- TiO2 층은 진공 스퍼터링, 적절한 경우 마그네트론 및/또는 이온빔 스퍼터링에 의해 실온에서 증착되었고,
- 하부층(UL)은 진공 스퍼터링, 적절한 경우 마그네트론 및/또는 이온빔 스퍼터링에 의해 실온에서 증착되었으며,
- ATiO3은 진공 스퍼터링, 적절한 경우 마그네트론 및/또는 이온빔 스퍼터링에 의해, ATiO3, ATiO3-x (0 < x ≤3), 및 ATi로부터 선택된 세라믹 타깃을 이용하여, 실온에서 증착되었다.
전원은 무선주파수 전원이고 스퍼터링 챔버 안의 대기는 타깃으로 ATiO3가 사용된 경우 아르곤만을 함유하며, 전원은 DC 또는 AC 전원이고, 스퍼터링 챔버 안의 반응성 대기는 타깃으로 ATi 또는 ATiO3-x가 사용된 경우 산소와 규소를 함유한다.
- TiO2 층은 동일한 스퍼터링 챔버에서 다음 단계로 증착되었다.
TiO2 층은, TiO2 층의 오염방지 기능을 방해하지 않는, SiO2와 같은 물질의 적어도 하나의 상부층으로 코팅될 수 있다.
완성 구조에서 대기와 접하게 될 층은 경우에 따라 침수성 층 또는 소수성 층이다.
본 발명의 주제는, 또한, 선택적으로 도핑된 ATiO2를 기초로 한 상부 층의, 예추석 형태에서 헤테로에피택셜 성장(heteroepitaxial growth)에 의한 결정화를 보조하기 위한 층 형성에 ATiO3를 사용하는 것으로, A는 바륨 또는 스트론튬을 나타낸다.
본 발명의 주제는, 또한, 상술한 구조를 제조하기 위한 방법으로, ATiO3 하부층 (A는 바륨 또는 스트론튬을 나타냄)은 유리 또는 유리 세라믹 또는 폴리카보네이트 유형의 경질 플라스틱으로 만들어진 시트 유형의 기판 위에 증착되거나, 유리 또는 유리 세라믹 섬유 위에 증착된 다음, 선택적으로 도핑된 TiO2 층이 증착되고, TiO2 층의 오염방지 기능을 방해하지 않는 물질의 적어도 하나의 상부층이 적절한 경우 이 TiO2 층 위에 증착될 수 있는 것을 특징으로 한다.
ATiO3 하부층(UL)과 TiO2 층이 실온에서 진공 스퍼터링, 적절한 경우 마그네트론 및/또는 이온빔 스퍼터링에 의해, 동일 챔버에서 연속적으로 증착될 수 있고, 상기 하부층을 증착하는데 사용된 타깃은 ATiO3, ATiO3-x (0 < x ≤3), ATi로부터 선택되며, 전원은 무선주파수 전원이고 스퍼터링 챔버 안의 대기는 타깃으로 ATiO3가 사용된 경우 아르곤만을 함유하며, 전원은 DC 또는 AC 전원이고, 스퍼터링 챔버 안의 반응성 대기는 타깃으로 ATi 또는 ATiO3-x가 사용된 경우 산소와 규소를 함유하며,
TiO2를 증착하는데 사용된 타깃은 Ti 또는 TiOx (0 < X < 2)이다.
진공 스퍼터링에 의해 ATiO3가 증착되면, 압력은 10-1 내지 2.5 Pa일 수 있다.
TiO2가 스퍼터링, 적절한 경우 마그네트론 및/또는 이온빔 스퍼터링으로 증착되면, 전원은 일반적으로 DC 또는 AC이고, 압력은 약 1 내지 3 Pa인 것이 유리하다.
본 발명에 따라, TiO2 층과, 적절한 경우 상부층(들)이 증착된 후에는, 열 처리 단계가 수행되지 않을 수 있다.
유리 또는 유리 세라믹 기판의 코팅이 수행되면, 하부층(UL)이 도포되기 전에, 기판에 증착될, 유리 또는 유리 세라믹에 존재하는 알칼리 금속의 이동에 대한 장벽을 형성하는 적어도 하나의 층을 증착할 수 있고, TiO2 층과, 적절한 경우, 상부층(들)이 증착된 후에는, 어닐링(annealing) 작업의 경우 250℃ 내지 550℃, 바람직하게는 350℃ 내지 500℃의 온도에서, 그리고 강인화(toughening) 작업의 경우에는 적어도 600℃의 온도에서 어닐링 또는 강인화 작업이 수행될 수 있다.
강인화 또는 어닐링 작업은 TiO2 층의 활성을 향상시키는 것이 바람직할 경우 수행될 수 있다.
상기 장벽 층의 가능한 구성이 앞에서 기술되었다. 이러한 층은 스퍼터링, 적절한 경우 마그네트론 스퍼터링에 의해, 알려진 타깃을 이용해서, (예를 들어, 알루미늄 도핑된 SiO2 층의 경우 Al:Si), 유리하게는 펄스 모드와 (AC 또는 DC에 관계없이), 10-1 내지 1 Pa의 압력과, 기체 아르곤/산소에서 증착될 수 있다.
ATiO3 하부층(UL)이 도포되기 전에, 광학 기능을 갖는 층, 열 조절 층 및 전도층으로부터 선택된 적어도 하나의 기능성 층이 또한 증착될 수 있고, 상기 기능성 층은 진공 스퍼터링, 적절한 경우 마그네트론 및/또는 이온빔 스퍼터링에 의해 증착되는 것이 유리하다.
본 발명의 주제는 또한 단일 또는 다중 창유리로서, 이는 각각 상술한 하나 이상의 구조를 포함하고, TiO2를 기초로 한 오염방지 층과 이와 결합된 하부층(UL)은 그 외부 면 중 적어도 한 면에 존재하고, 면은 TiO2를 기초로 한 오염방지 층을 갖지 않으며, 결합된 하부층은 적어도 하나의 다른 기능성 층을 포함할 수 있다. 이러한 층은 상술한 층으로부터 선택될 수 있다.
이러한 창유리는 "자정(自淨)" 창유리, 특히 흐림방지, 응결방지 및 오염방지 창유리, 특히 이중 창유리 유형의 건축용 창유리, 자동차의 전면유리, 후면 창 및 측면 창의 자동차 창유리, 드라이빙 거울, 기차, 비행기 및 선박용 창유리, 아쿠아리움, 상점의 창문, 온실, 실내 가구, 도심 시설물 (버스 대합실, 광고판 등)과 같은 실용 창유리, 거울, 컴퓨터, 텔레비전 또는 전화 유형의 디스플레이 시스템용 스크린, 전기 변색성 또는 액정 창유리, 전기발광 창유리 및 광기전성 창유리와 같은 전기적으로 조절 가능한 창유리로 적용 가능하다.
다음 예는 본 발명의 범위를 제한하지 않으면서 본 발명을 예시적으로 설명한다.
예 1 (본 발명에 따른): 유리 / SiO 2 / BaTiO 3 / TiO 2 스택
다음의 연속 층이 4mm 두께의 유리 시트에 증착되었다.
- 두께가 150nm인 SiO2 층과,
- 두께가 10nm인 BaTiO3 층과,
- 두께가 100nm인 TiO2 층.
상기 세 개의 층인 SiO2, BaTiO3 및 TiO2는 다음 각 조건 하에서 마그네트론 스퍼터링에 의해 증착되었다.
- SiO2 층은, 2 ×10-3 mbar (0.2 Pa)의 압력, 2000W의 전력, 15 sccm Ar과 15 sccm O2에서, 펄스 모드(극성 변화 주파수: 30 kHz)의 전원을 갖고, Al:Si 타깃을 이용하고,
- BaTiO3 층은, 4.4 ×10-3 mbar (0.44 Pa)의 압력, 350W의 전력, 50 sccm의 아르곤에서, 무선주파수 전원을 갖고, BaTiO3 타깃을 이용하며,
- TiO2 층은, 24 ×10-3 mbar (2.4 Pa)의 압력, 2000W의 전력, 200 sccm의 Ar과 2 sccm의 O2에서, DC 전원을 갖고, TiOx 타깃을 이용해서 증착된다.
예 2 (본 발명에 따른)
BaTiO3 층의 두께가 20nm인 것을 제외하고, 예 1과 동일한 스택이 제조되었다.
예 3 (비교예): 유리 / SiO 2 / TiO 2 스택
BaTiO3 층이 증착되지 않은 것을 제외하고, 예 1과 동일한 조건에서 상기 스택이 제조되었다.
예 4 : 광촉매 활성의 평가
예 1 내지 3의 각 스택의 TiO2 층의 광촉매 활성과, "Bioclean™"이라는 상표명으로 Saint-Gobain Glass France가 판매하는 스택의 TiO2 층의 광촉매 활성이 평가되었고, 이 평가는 어닐링을 수행하지 않고, 그리고 5℃/min의 속도로 실온으로부터 500℃까지 상승, 500℃에서 2시간 유지, 자연 냉각의 조건에서 수행된 어닐링 후 수행되었다.
평가 시험은 PCT 국제 출원 WO 00/75087에 기술된, 스테아르산 광 분해 시험 후 적외선 투과였다.
이 결과는 표 1에 나타나 있다.
스택 어닐링이 없는 SAT* (×10-3cm-1.min-1) 어닐링 후 SAT* (×10-3cm-1.min-1)
예 1 (본 발명) 9.7 40
예 2 (본 발명) 9.2 32
예 3 (비교) 1.2 35
* 스테아르산 시험
상술한 바와 같이, 본 발명은, "오염 방지 또는 자정(自淨)" 기능이라 불리는 것을 제공하기 위해 광촉매 코팅을 구비한 기판을 제조하는데 사용된다.

Claims (20)

  1. 표면의 적어도 일부분 위에, 예추석 (anatase) 형태로 적어도 부분적으로 결정화된 이산화티타늄(TiO2)을 기초로 한, 광촉매 특성의 오염방지 층을 갖는 기판을 포함하는 구조로서,
    상기 구조는, 적어도 하나의 TiO2 층 바로 아래에, 예추석 형태에서 헤테로에피택셜 성장(heteroepitaxial growth)에 의한 TiO2를 기초로 한 상부층의 결정화를 보조하는 결정학적 구조를 갖는 하부층(underlayer)(UL)을 포함하고, 임의의 가열 단계 없이 상기 광촉매 특성이 얻어진 것을 특징으로 하는, 구조.
  2. 제 1항에 있어서, 하부층(UL)은, 입방 또는 정방정계 시스템으로 결정화되고 예추석 형태로 결정화된 TiO2와 ±8%, 특히 ±6% 이내로 동일한 격자 셀 치수를 갖는 화합물을 기초로 하는 것을 특징으로 하는, 구조.
  3. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 하부층(UL)은 ATiO3로 이루어지고, A는 바륨 또는 스트론튬을 나타내는 것을 특징으로 하는, 구조.
  4. 제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 하부층(UL)의 두께는 10 내지 100nm인 것을 특징으로 하는, 구조.
  5. 제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서, 기판은, 평면이거나 휘어진 면을 갖는 것에 관계없이, 단일층 또는 적층 유리, 유리 세라믹 또는 열가소성 물질(폴리카보네이트와 같은)의 시트, 또는 이와 달리 유리 또는 유리 세라믹 섬유로 이루어지고, 상기 시트 또는 상기 섬유는 적절한 경우, 하부층(UL)을 도포하기 전 적어도 하나의 다른 기능성 층을 수용한 것을 특징으로 하는, 구조.
  6. 제 5항에 있어서, 상기 기판은 유리 또는 유리 세라믹으로 만들어지고,
    상기 하부층(UL)에 인접한 적어도 하나의 기능성 층은 유리 또는 유리 세라믹으로부터 알칼리 금속의 이동에 대한 장벽을 형성하는 층인 것을 특징으로 하는, 구조.
  7. 제 5항 또는 제 6항에 있어서, 상기 하부층(UL)에 인접한 적어도 한 장의 기능성 층은 광학 기능을 갖는 층, 열 조절 층 또는 전도층인 것을 특징으로 하는, 구조.
  8. 제 5항 내지 제 7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 기판은 유리 또는 유리 세라믹으로 만들어지고,
    상기 기판은 유리 또는 유리 세라믹으로부터 알칼리 금속의 이동에 대한 장 벽으로 작용하는 층을 수용한 다음, 광학 기능을 갖는 단일층, 이중층 또는 삼중층을 수용한 것을 특징으로 하는, 구조.
  9. 제 1항 내지 제 8항 중 어느 한 항에 있어서, TiO2를 기초로 한 층은 TiO2로만 이루어지거나, 특히, N; Nb, Ta 및 V과 같은 5가 양이온; Fe; 및 Zr로부터 선택된 적어도 하나의 도핑제로 도핑된 TiO2로 이루어진 것을 특징으로 하는, 구조.
  10. 제 1항 내지 제 9항 중 어느 한 항에 있어서, TiO2 층은 진공 스퍼터링, 적절한 경우 마그네트론 및/또는 이온빔 스퍼터링에 의해 실온에서 증착된 것을 특징으로 하는, 구조.
  11. 제 1항 내지 제 8항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 하부층(UL)은 진공 스퍼터링, 적절한 경우 마그네트론 및/또는 이온빔 스퍼터링에 의해 실온에서 증착된 것을 특징으로 하는, 구조.
  12. 제 3항 내지 제 8항 중 어느 한 항에 있어서, ATiO3은 진공 스퍼터링, 적절한 경우 마그네트론 및/또는 이온빔 스퍼터링에 의해, ATiO3, ATiO3-x (0 < x ≤3), 및 ATi로부터 선택된 세라믹 타깃을 이용하여, 실온에서 증착되었고,
    전원은 무선주파수 전원이고 스퍼터링 챔버 안의 대기는 타깃으로 ATiO3가 사용된 경우 아르곤만을 함유하며, 상기 전원은 DC 또는 AC 전원이고, 상기 스퍼터링 챔버 안의 반응성 대기는 타깃으로 ATi 또는 ATiO3-x가 사용된 경우 산소와 규소를 함유하는 것을 특징으로 하는, 구조.
  13. 제 1항 내지 제 12항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 TiO2 층은, 상기 TiO2 층의 오염방지 기능을 방해하지 않는, SiO2와 같은 물질의 적어도 하나의 상부층으로 코팅된 것을 특징으로 하는, 구조.
  14. 선택적으로 도핑된 ATiO3를 기초로 한 상부 층의, 예추석 형태에서 헤테로에피택셜 성장(heteroepitaxial growth)에 의한 결정화를 보조하기 위한 층 형성에 ATiO3를 사용하는 방법으로서, A는 바륨 또는 스트론튬을 나타내는, 사용 방법.
  15. 제 1항 내지 제 13항 중 어느 한 항에 기재된 구조를 제조하는 방법으로서,
    A는 바륨 또는 스트론튬을 나타내는 ATiO3 하부층은, 유리 또는 유리 세라믹 또는 폴리카보네이트 유형의 경질 플라스틱으로 만들어진 시트 유형의 기판 위에 증착되거나, 유리 또는 유리 세라믹 섬유 위에 증착된 다음, 선택적으로 도핑된 TiO2 층이 증착되고, 상기 TiO2 층의 오염방지 기능을 방해하지 않는 물질의 적어도 하나의 상부층이 적절한 경우 상기 TiO2 층 위에 증착될 수 있는 것을 특징으로 하는, 제조 방법.
  16. 제 15항에 있어서, 상기 ATiO3 하부층(UL)과 TiO2 층은 실온에서 진공 스퍼터링, 적절한 경우 마그네트론 및/또는 이온빔 스퍼터링에 의해, 동일 챔버에서 연속적으로 증착되고, 상기 하부층을 증착하는데 사용된 타깃은 ATiO3, ATiO3-x (0 < x ≤3), ATi로부터 선택되며, 전원은 무선주파수 전원이고 상기 스퍼터링 챔버 안의 대기는 타깃으로 ATiO3가 사용된 경우 아르곤만을 함유하며, 전원은 DC 또는 AC 전원이고, 상기 스퍼터링 챔버 안의 반응성 대기는 타깃으로 ATi 또는 ATiO3-x가 사용된 경우 산소와 규소를 함유하며,
    상기 TiO2를 증착하는데 사용된 타깃은 Ti 또는 TiOx (0 < X < 2)인 것을 특징으로 하는, 제조 방법.
  17. 제 16항에 있어서, TiO2 층과, 적절한 경우, 상부층(들)이 증착된 후에는, 열 처리 단계가 수행되지 않는 것을 특징으로 하는, 제조 방법.
  18. 제 15항 또는 제 16항에 있어서, 유리 또는 유리 세라믹 기판의 코팅이 수행되고,
    상기 하부층(UL)이 도포되기 전에, 유리 또는 유리 세라믹에 존재하는 알칼리 금속의 이동에 대한 장벽을 형성하는 적어도 하나의 층이 상기 기판에 증착되고, TiO2 층과, 적절한 경우, 상부층(들)이 증착된 후에는, 어닐링(annealing) 작업의 경우 250℃ 내지 550℃, 바람직하게는 350℃ 내지 500℃의 온도에서, 그리고 강인화(toughening) 작업의 경우에는 적어도 600℃의 온도에서 어닐링 또는 강인화 작업이 수행될 수 있는 것을 특징으로 하는, 제조 방법.
  19. 제 15항 내지 제 18항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 ATiO3 하부층(UL)이 도포되기 전에, 광학 기능을 갖는 층, 열 조절 층 및 전도층으로부터 선택된 적어도 하나의 기능성 층이 증착되고, 상기 기능성 층은 진공 스퍼터링, 적절한 경우 마그네트론 및/또는 이온빔 스퍼터링에 의해 증착되는 것이 유리한 것을 특징으로 하는, 제조 방법.
  20. 단일 또는 다중 창유리로서,
    각각, 제 1항 내지 제 13항 중 어느 한 항에 기재된 하나 이상의 구조를 포함하고,
    TiO2를 기초로 하는 오염방지 층과, 이와 결합된 하부층(UL)은 모두 상기 창유리의 바깥 면 중 적어도 한 면에 존재하고,
    TiO2를 기초로 하는 상기 오염방지 층과 이와 결합된 하부층을 갖지 않는 면 은 적어도 하나의 다른 기능성 층을 포함할 수 있는,
    단일 또는 다중 창유리.
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