KR101200455B1 - 가시광선 스펙트럼에서 광자를 흡수하도록 변형된 광촉매기능 층을 구비한 유리기판과 같은 기판 - Google Patents

가시광선 스펙트럼에서 광자를 흡수하도록 변형된 광촉매기능 층을 구비한 유리기판과 같은 기판 Download PDF

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Abstract

본 발명은 가시광선 스펙트럼에서 광자를 흡수할 수 있는 동일하게 부여하기 위해서 티타늄 이산화물(TiO2)을 원료료 하고, UV영역, 및 특히 UVA 영역에서 광자를 흡수할 수 있는 광촉매 및 오염방지 특성을 갖는 층을 변경시키는 방법에 관한 것이며 상기 TiO2를 원료로 하는 층은 직접 또는 적어도 하나의 기능성 내부층의 삽입과 함께 기판에 도포된다. 본 발명은 바람직한 가시광선 광자 흡수 특성을 획득하기 위해서 충분한 시간의 기간 동안 질소 또는 질소 및 적어도 하나의 환원가스를 포함하는 대기에서 TiO2를 원료로 하는 층이 가열처리받게 되고, 상기 기판, 필요하다면, 상기 내부층은 가열처리를를 견디는 능력에 따라 선택되는 것을 특징으로 한다.

Description

가시광선 스펙트럼에서 광자를 흡수하도록 변형된 광촉매 기능 층을 구비한 유리기판과 같은 기판{SUBSTRATE, SUCH AS A GLASS SUBSTRATE, BEARING A LAYER WITH PHOTOCATALYTIC PROPERTIES WHICH HAS BEEN MODIFIED TO ABSORB PHOTONS IN THE VISIBLE SPECTRUM}
본 발명은 유리, 세라믹 또는 유리세라믹 기판과 같은 기판, 또는 건축 재료 또는 섬유재료로 만들어진 기판에 관한 것으로, “오염방지(antisoiling)"또는 "자기정화(self-cleaning)"라 불리는 기능을 기판에 부여하도록 광촉매 특성을 갖는 코팅을 구비한다.
이러한 기판의 중요한 용도는 실용적인 창유리에서 가전제품에 사용되는 창유리, 차량용 창유리에서 건물 창유리 및 도시 가구용 창유리, 및 조명장치의 구성성분으로 매우 다양한 용도일 수 있는 창유리에 관한 것이다.
또한 이것은 거울타입의 반사성 창유리(주거용 거울, 또는 차량용 후면 또는 측면 거울), 및 안전벽(safety wall) 또는 장막벽(curtain wall) 타입의 불투명 창유리에 적용된다. 또한 이것은 무기 또는 유기 눈의 렌즈에 적용된다.
또한 본 발명은 세라믹 기판과 같은 불투명 기판 또는 특히 건축재료{금속, 포장, 타일, 돌, 시멘트 조성물, 외관 부여제(facade render), 콘크리트 슬랩, 건축 콘크리트, 테라코타(terracotta), 슬레이트 등}과 같은 임의의 다른 기판에 유 사하게 적용한다. 또한 이것은 기판의 특성과 관계없이 실질적으로 편평하거나 굽은 기판에 바람직하게 적용된다.
또한 유리섬유, 석영섬유, 규소섬유등 으로 형성된 기판으로 만들어질 수 있다는 것이 언급되며, 공기 또는 수분 여과에 적용되거나 살균용도, 절연 유리면, 또는 직물 유리 강화 얀(yarns)에 사용된다.
광촉매 코팅은 특히 에너테이스(anatase)형태로 적어도 부분적으로 결정화된 티타늄 산화물을 원료로 하는 것이 이미 연구되었다. UV 방사선, 특히 UVA 방사선(파장:315～400nm)의 영향 하에서 유기원(organic origin) 또는 미생물에 대한 이들의 오염 분해력은 매우 이롭다. 또한 이들은 물로 스프레이 하거나 야외 창유리의 경우 비에 의해 광물 오염이 제거되게 하는친수성 특성을 종종 갖는다.
그러므로 UV 방사선의 영향 하에 유기화합물의 산화를 초래하는 라디칼 반응을 개시하는 선택적으로 도핑된 TiO2의 활성은 유기오염을 제거하는데 매우 만족할만 하겠지만, 이러한 활성은 이것을 UV 방사선에 조사하는 것에 달려있다. 왜냐하면 이것은 매우 작은 UVA 방사선이 침투하는 경우 빌딩 내부 또는 인공적인 광에 대한 자기정화 활성이 실질적으로 존재하지 않기 때문이다.
본 발명은 이러한 목적을 위해, 이러한 결점 및 목적에 대한 해결책으로, 가시영역(400 ～ 800 ㎚)에서 광자를 흡수하도록 TiO2 원료 필름을 변형하기 위한 간단하고, 효과적이고, 위험성이 없고 비오염 수단을 제공한다. 그러므로, 한편으로 활성은 UV 하에서 오염제거에 더 이상 제한되지 않으나, 가시광선에서 오염의 제거가 확대되고, 다른 한편으로는 이러한 활성은 UV 와 가시광선 모두에서 증가될 수 있기 때문에, 이것은 활성을 얻게 하는 것을 가능하게 한다.
그러므로 본 발명의 과제는 가시광선에서 광자를 흡수할 수 있게 만들기 위해, 티타늄 이산화물(TiO2)을 원료로, UV, 특히 UVA에서 광자를 흡수할 수 있는 광촉매 오염방지특성을 가진 필름을 변형하는 방법으로서, 상기 TiO2를 원료로 하는 필름은 직접 또는 적어도 하나의 내부필름(subflim)의 삽입과 함께 기판에 도포되는 광촉매 오염방지특성을 가진 필름을 변형하는 방법에 있어서, 상기 TiO2 원료의 필름은 가시광선에서 광자를 흡수하는 바람직한 특성을 획득하는데 충분한 시간 동안, 질소 대기 또는 질소 및 적어도 하나의 환원가스를 포함하는 대기에서 가열처리를 받게 되고, 상기 기판 및 적절할 경우 상기 내부필름과 상기 가열처리를 저항할 있도록 선택되는 것을 특징으로 하는 광촉매 오염방지특성을 가진 필름을 변형하는 방법이다.
또한 본 발명의 과제는 티타늄 이산화물(TiO2)을 원료로 하는 광촉매 오염방지특성을 갖는 필름을 적어도 하나의 면의 적어도 일부분에 구비하는 기판, 특히 유리기판을 제조하는 방법으로서, 직접, 또는 적어도 하나의 기능성 내부필름의 삽입과 함께 기판에 도포되는 기판을 제조하는 방법에 있어서, 가열처리는 TiO2를 원료로 하는 필름을 만드는데 충분한 시간 동안 질소 대기 또는 질소 및 적어도 하나의 환원가스를 포함하는 대기에서 상기 TiO2를 원료로 하는 필름을 구비하는 기판 상에서 수행되며, UV 영역에서 당연히 광자를 흡수할 수 있고, 또한 가시영역에서 광자를 흡수할 수 있고/흡수할 수 있거나 상기 TiO2를 원료로 하는 필름의 광촉매 특성을 강화할 수 있는 것을 특징으로 하는 기판을 제조하는 방법이다.
그러므로, 유리기판, 표면이 탈알킬화된 유리기판, 세라믹 또는 유리세라믹 기판 및 건축재료의 기판으로부터 선택된 기판에 도포되는 TiO2를 원료로 하는 필름이 처리될 수 있고, 이것은 상기 기판이 평면 또는 굽은 면을 가지는 것에 관계없이, 그리고 일체형 또는 적층형인 것에 관계없이 플레이트 형태로, 또는 그밖에 섬유 형태로 되는 것을 가능하게 하며, 조립기판, 부직기판 등을 형성할 수 있다.
특히, 적어도 하나의 기능성 내부필름의 삽입과 함께 기판에 도포되는 TiO2 원료의 필름이 처리될 수 있으며, 상기 기능성 내부필름은 다음으로부터 선택된다.
- 예를 들어, 프랑스 특허출원 FR 03/50729호에 기재된 상기 TiO2를 원료로 하는 필름으로부터 이종접합(heteroepitaxially)적으로 생성된 내부필름.
- 알칼리금속의 이동에 대한 장벽을 형성하고, 유리 또는 세라믹 또는 유리세라믹 기판의 경우에 사용되는 내부필름.
- 광학 기능성을 갖는 내부필름.
- 열조절 내부필름; 및
- 전도성 내부필름.
먼저 언급된 바와 같이, 알칼리금속의 이동은 600 ℃ 이상의 온도를 적용하여 초래할 수 있다. 계속적인 열처리 동안 알칼리 금속에 대한 장벽을 형성시키는 이러한 필름은 공지되어 있고, SiO2, SiOC, SiOxNy 및 Si3N4 필름으로 만들어진다고 언급될 수 있고, 상기 필름은 예를 들어 적어도 5 또는 10 ㎚의 두께를 가지며, PCT 국제공개공보 WO 02/24971호에 기재된 바와 같은 많은 경우에 적어도 50 ㎚의 두께를 갖는다.
광학 기능성을 갖는 필름은 특히 다음의 기능, 즉 반사방지, 광방사선 여과, 착색, 산란 등을 제공하는 필름이다. 상기 언급된 예는 SiO2, Si3N4, TiO2, SnO2 및 ZnO 필름을 포함한다.
열조절 필름은 특히 태양광선 조절필름, 또는 "저-E(저 방사율)"필름이라 불리우는 것이다.
전도성 필름은 특히 가열, 광기전(photovoltaic), 안테나 또는 정전기 방지 필름이다. 이러한 필름은 전도성 와이어(wire) 어레이를 포함할 수 있다.
본 발명에 따라, 이것은 TiO2 단독, 또는 적어도 하나의 반전도 금속산화물{선택적으로 도핑되는 티타늄 산화물, 주석 산화물, 안티몬 산화물, 아연 산화물, 텅스텐 산화물, 코발트 산화물, 니켈 산화물, 혼합된 코발드 니켈 산화물, 아망간산염(manganites)과 코발타이트(cobaltites)로 부터 선택되는 혼합산화물, 선택적으로 도핑되는 지르코늄 산화물 및 알루미늄 산화물(WO 02/92879)}을 포함하는 필수적으로 광물 결합제와 같은 결합제와 결합된 TiO2, 또는 상기 언급된 바와 같은 예를 들어 동일한 산화물과 합금된 TiO2, 또는 예를 들어, 특히 N, 니오븀, 탄탈륨, 철, 비스무스, 코발트, 니켈, 구리, 루테늄, 세륨, 몰리브븀, 바나디움 및 지르코늄(유럽특허 EP 850204)으로 부터 선택된 적어도 하나의 도핑제로 도핑된, 도핑된 TiO2로 구성된 티타늄 이산화물을 기본으로 하는 필름을 처리할 수 있다.
도핑제 또는 합금요소는 격자간(interstitial) 요소 또는 치환요소 만큼 TiO2도 동일한 결정 격자(lattace)에서 발견될 수 있다.
TiO2를 원료로 하는 필름은 금속(Ti) 또는 TiOx 타겟(x〈 2인 경우) 및 산화대기를 이용하거나 또는 TiO2 타겟 및 불활성 대기를 이용하면서 졸겔 공정 또는 열분해공정, 특히 CVD 타입의 기체 열분해 또는 마그네트론 스퍼터링 및/또는 이온빔 스퍼터링일 수 있는 실온 진공 스퍼터링에 의해 증착될 수 있다.
특히 TiO2 필름은 DC 또는 AC 공급조건, 1～3 mbar의 압력, 및 Ti 또는 TiOx(x=1.5 내지 2) 타켓을 이용하면서 아르곤과 같은 불활성 가스와 산소를 포함하는 대기 하에서 마그네트론 및/또는 이온 빔 스퍼터링일 수 있는 진공 스퍼터링에 의해 증착될 수 있다.
이것은 본 발명에 따라 가열처리를 받기 때문에, 스퍼터링에 의해 생산된 TiO2는 초기에 이것이 이러한 형태가 아니었다 하더라도, 광촉매 활성형태(적어도 부분적으로 에너테이즈)로 결정화된 상태에 있다. 사실상, 초기에 TiO2는 결정질일 수 있거나 또는 에너테이즈 또는 금홍석(rutile) /또는 에너테이즈/금홍석 형태로 부분적으로 또는 완전히 결정화될 수 있다.
본 발명에 따라, 특히 최소 1 ㎛, 특히 5 ㎚ 내지 1 ㎛ 및 특히 5 ㎚내지 800 ㎚ 두께를 갖는 TiO2를 원료로 하는 필름이 처리될 수 있다. 졸겔 기법에 의해 증착된 TiO2 원료의 필름의 경우, 두께는 5 내지 800 ㎚ 일 수 있다. 열분해에 의해 증착된 TiO2의 필름의 경우, 이 두께는 5 내지 200 ㎚ 일 수 있다. 스퍼터링에 의해 증착된 필름의 경우, 두께는 5 내지 200 ㎚ 일 수 있다.
본 발명에 따른 열처리는 적어도 250 ℃ 및 최고 700 ℃의 온도에서 수행되는 것이 이롭다. 만약 기판이 유리기판이라면, 가열처리는 어닐링 처리 또는 상기 유리 기판 상에서 처리되는 강인화 처리, 또는 기타 면(4) 상의 광촉매 필름 및 면(3) 상의 태양광선 차단 또는 저방사율(열조절)을 포함하는 유리기판 상에서 수행되는 굽힘/강인화 처리에 해당할 수 있고, 이중 창유리 유닛에서 면은 1-2-3-4를 나타내고, 면(4)은 건물의 내부를 향한다.
본 발명에 따른 가열처리는 1 대기(1.013 ×105 Pa)의 압력 하에서 수행될 수 있다.
본 발명에 따라, 가열처리는 수부분의 일초(second)(플래쉬 어닐링)에서 수 시간 범위 시간의 기간 동안 수행되는 것이 유리하다. 기술분야의 당업자는 TiO2원료의 필름, 처리온도, 유리 두께 등과 같은 매개변수에 따라 처리시간의 조절방법을 알 것이다.
그러므로, 예를 들어 마그네트론 스퍼터링에 의해 증착된 TiO2 원료의 필름의 경우, 온도 고정에 도달하기 위해 4 ℃/분 온도증가로 500 ℃에서 4 내지 8분의 처리시간, 및 주변대기로 되돌리기 위해 온도 고정 후에 자연감소로 만들어진다고 언급될 수 있다. 또한 졸겔 공정에 의해 증착된 TiO2 원료의 필름의 경우, 온도 고정에 도달하기 위해 100 ℃/30분의 온도 증가로 450 ℃에서 2 시간의 처리시간으로 만들어진다고 언급될 수 있다.
이미 기재된 바와 같이, 가열처리는 강인화 처리에 해당하는 약 700 ℃의 온도로 수행될 수 있고, 이러한 경우, 기판은 그 후에 급속냉각을 거친다. 본 발명 기술분야의 당업자는 과도한 가열처리 또는 과도하게 긴 가열에 의해서 가열처리에 의해 그리고 불충분한 가열처리 또는 과도하게 짧은 가열처리에 의해 부적당한(금홍석) 형태로 결정화하는 TiO2를 방지하기 위한 공정 매개변수의 조절방법을 알아서, 바람직한 효과를 생산하지 못한다.
본 발명에 따라, 메탄과 같은 수소 및 탄화수소로부터 취해진 적어도 하나의 가스는 환원가스로서 사용되는 것이 바람직하며, 질소/환원가스 부피비는 특히 100/0 내지 50/50이다. 혼합물의 경우, 질소/환원가스 부피비가 특히 N2/H2에 대해 99/1 내지 50/50, 특히 95/5 내지 90/10인 것으로 만들어진다고 언급될 수 있다.
또한 본 발명은 적어도 하나의 기판 면의 적어도 일부분 상에 광촉매 오염방지 특성을 갖고 티타늄 이산화물(TiO2)을 원료로 하는 필름을 구비하는 기판, 특히 유리기판에 관한 것으로, 직접 또는 적어도 하나의 기능성 내부필름의 삽입에 의해 기판에 도포되고, 상기 TiO2 필름은 상기 기재된 바와 같이 상기 방법에 의해 변경되고, 상기 기판은 상기 기재된 바와 같이 방법에 의해 제조된다.
상기 기판은 SiO2, SiOC, SiO2:Al, 또는 Pd, Pt 또는 Ag 금속 섬(island)의 필름과 같이 적어도 하나의 기능성 또는 보호 덧필름(overfilm)을 포함할 수 있다.
또한 본 발명은 다음의 용도에 관한 것이다.
- 자기 정화, 특히 흐림방지(antifogging), 오염방지 및 응축방지의 창유리, 특히 이중 창유리 타입의 건물용 창유리, 자동차 바람막이 후면창 또는 측창 타입의 차량용 창유리, 기차, 항공기 및 선박용 창유리, 수족관 유리, 상점 창문 유리 또는 온실 유리와 같은 실용적인 창유리, 인테리어 가구용 창유리, 도시 가구, 거울, 컴퓨터, 텔레비전 또는 텔레폰 타입의 디스플레이 시스템을 위한 스크린용 창유리, 전기변색, 액정 또는 전계발광 창유리와 같은 전기제어가능한 창유리, 광기전력 창유리, 및 커버와 같은 조명 장치의 구성성분 제조의 필수적인 투명기판의 용도.
- 파티션, 장막벽, 실내 또는 야외 중 어느 하나의 지붕 또는 바닥의 제조에 건축재료로 만들어진 기판 용도.
- 임시천정(false ceiling) 또는 여과물질 제조에 광물 절연면과 유리강화섬유를 원료로 하는 직물기판을 기본으로 하는 기판 용도.
- 냄새 흡수 필터, 산업폐액 오염제거용 필터, 세균 필터, 내부 오염제거 필터, 가정공기 정화필터, 수송차량 즉, 자동차, 기차, 항공기 및 선박의 승객 칸막이방을 정화시키는 필터, 담배연기 정화용 필터 및 가전시스템 정화용 필터의 제조에, 소결된 용융 실리카섬유, 세척 유리섬유, 알루미나 섬유 또는 멀라이트(mullite)섬유로 구성된 조립, 부직, 결합, 편조(braided) 또는 블록기판의 용도.
다음의 예는 범위를 제한하지 않으면서 본 발명을 도시한다.
도 1은 스테아릭산 광분해 테스트(SAT)의 결과인 적외선 투과에 따라 평가된 결과를 나타낸 그래프.
도 2는 가시광선을 필수적으로 방출하는 튜브에 1시간 노출 후에 SAT에 의해 평가된 동일한 활성을 나타내는 그래프.
도 3은 가시광선을 필수적으로 방출하는 튜브에 2시간 노출 후에 SAT에 의해 평가된 동일한 활성을 나타내는 그래프.
도 4는 TiO2 100 ㎚를 함유하는 스택에 대해 공기에서 8 분간 어닐링 전후의 흡수 비교를 나타낸 그래프.
도 5는 TiO2 100 ㎚를 포함하는 스택에 대해 질소에서 8분간 어닐링 전후의 흡수 비교를 나타낸 그래프.
도 6은 TiO2 100 ㎚를 포함하는 스택에 대해 질소/수소에서 8 분간 어닐링 전후의 흡수 비교를 나타낸 그래프.
예 1 : 유리/SiO 2 :Al/AlO 2 스택
150 ㎚ 두께의 SiO2 : Al 필름과 100 ㎚ 두께의 TiO2 필름은 다음의 조건 하에서 마그네틱 강화된(마그네트론) 스퍼터링에 의해 4 ㎜ 두께의 유리 플레이트 상에 증착되었다.
- 압력 2 ×10-3 mbar(0.2 Pa), 전력 2000 W 및 Ar 14 sccm/O2 16 sccm 하에서 펄스된 모드(극성 주파수의 변화 40 ㎑)에서 공급으로, Si:Al 타겟으로부터 SiO2 : Al 필름 ; 및
- 압력 24 ×10-3 mbar (2.4 Pa), 전력 2000 W 및 Ar 200 sccm/O2 2 sccm 하에서 DC 바이어스 공급으로, TiOx 타겟으로부터 TiO2 필름.
예 2 : 다양한 대기에서 스택 어닐링
예 1에서 제조된 플레이트는 공기 또는 질소 또는 질소/수소(N2/H2 = 95/5 v/v) 중 하나로 조절된 대기를 구비하는 챔버 내에 위치되었고, 가열처리는 다양한 시간 동안(최대 16분), 대기압에서, 4 ℃/분 온도 증가로 500 ℃에서 수행되었고 자연냉각이 수행되었다.
그 다음 다양한 플레이트가 연구되었다.
예 3 : 결과
광촉매 활성의 평가
예 2의 다양항 플레이트 상에 TiO2 필름의 광촉매 활성은 PCT 국제공개공보 WO00/75087호에 기재된 바와 같이 스테아릭산 광분해 테스트(SAT)의 결과인 적외선 투과에 따라 평가되었다.
그 결과는 도 1에 나타내며, 다양한 어닐링 시간 동안 어닐링 대기, 공기(대조구), N2 및 N2 ＋ H2에서 UV 램프(UVA에서 50 W/m2)에 노출 10분 후에 분해된 스테아릭산의 퍼센티지를 작성한다.
이 동일한 활성은 가시광선을 필수적으로 방출하는 튜브{UVA에서 1.4 W/m2의 종래의 조명램프(네온 튜브)}에 1시간 또는 2시간 노출 후에 SAT에 의해 평가되었고, 그 결과는 도 2(1시간) 및 도 3(2시간)에 나타내었다.
흡수 스펙트라의 비교예
공기, N2 및 N2 ＋ H2 에서 다양한 타입의 어닐링에 대한 흡수 스펙트라의 비교는 처리 대기에 따라 흡수에 대한 차이를 나타낸다.
도 4 : TiO2 100 ㎚를 함유하는 스택에 대해 공기에서 8 분간 어닐링 전후의 흡수 비교를 나타낸다.
도 5 : TiO2 100 ㎚를 포함하는 스택에 대해 질소에서 8분간 어닐링 전후의 흡수 비교를 나타낸다.
도 6 : TiO2 100 ㎚를 포함하는 스택에 대해 질소/수소에서 8 분간 어닐링 전후의 흡수 비교를 나타낸다.
공기에서 어닐링을 위해, 열처리 전후의 흡수는 동일하다. 그러나, 질소 또는 질소/수소에서 어닐링 후, 흡수는 열처리 후 가시광선 스펙트럼의 초기에 증가시킨다.
이러한 결과는 가열처리가 질소 또는 질소/환원가스 대기에서 수행된다면, 이것은 단지 TiO2 100 ㎚를 포함하는 스택용 실내 자기정화 에플레케이션에 유용한 수준에서 가시광선에서 감광성(photoactivity)을 획득하는 것을 가능하게 한다는 것을 나타낸다.
상기에서 상세히 설명한 바와 같이, 본 발명은 유리, 세라믹 또는 유리세라믹 기판과 같은 기판, 또는 건축 재료 또는 섬유재료로 만들고, “오염방지(antisoiling)" 또는 "자기정화(self-cleaning)"라 불리는 기능을 기판에 부여하도록 광촉매 특성을 갖는 코팅을 구비하는 기판에 사용된다.

Claims (27)

  1. 가시광선에서 광자를 흡수할 수 있게 만들기 위해, 티타늄 이산화물(TiO2)을 원료로 하고, UV 영역에서 광자를 흡수할 수 있는 광촉매 오염방지특성을 가진 필름을 변형하는 방법으로서, 상기 TiO2를 원료로 하는 필름은 직접 또는 적어도 하나의 내부필름(subflim)의 삽입과 함께 기판에 도포되는, 광촉매 오염방지특성을 가진 필름을 변형하는 방법에 있어서,
    상기 TiO2 원료의 필름은 가시광선에서 광자를 흡수하는 특성을 획득하는 시간 동안, 질소 대기 또는 질소 및 적어도 하나의 환원가스를 포함하는 대기에서 가열처리를 받게 되고, 상기 기판 및 상기 내부필름은 상기 가열처리를 견딜 수 있도록 선택되는 것을 특징으로 하는,
    광촉매 오염방지특성을 가진 필름을 변형하는 방법.
  2. 제 1항에 있어서, 유리기판, 표면이 탈알킬화된 유리기판, 세라믹 또는 유리세라믹 기판 및 건축재료의 기판으로부터 선택된 기판에 도포되는 TiO2를 원료로 하는 필름이 처리되고, 이것은 상기 기판이 평면 또는 굽은 면을 가지는 것에 관계없이, 그리고 일체형 또는 적층형인 것에 관계없이 플레이트 형태로, 또는 섬유 형태로 되는 것을 가능하게 한 것을 특징으로 하는,
    광촉매 오염방지특성을 가진 필름을 변형하는 방법.
  3. 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
    TiO2 를 원료로 하는 필름은
    - 상기 TiO2를 원료로 하는 필름으로부터 이종접합(heteroepitaxially)적으로 생성된 내부필름;
    - 알칼리 금속의 이동에 대한 장벽을 형성하고, 유리 또는 세라믹 또는 유리세라믹 기판의 경우에 사용되는 내부필름;
    - 광학 기능성을 갖는 내부필름;
    - 열조절 내부필름; 및
    - 전도성 내부필름
    으로부터 선택되는 적어도 하나의 기능성 내부필름의 삽입과 함께 기판에 도포되어 처리되는 것을 특징으로 하는,
    광촉매 오염방지특성을 가진 필름을 변형하는 방법.
  4. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, TiO2 단독, 또는 결합제와 결합된 TiO2, 또는 합금된 또는 도핑된 TiO2로 구성된 티타늄 이산화물을 원료로 하는 필름이 처리되는 것을 특징으로 하는,
    광촉매 오염방지특성을 가진 필름을 변형하는 방법.
  5. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 최대 1 ㎛의 두께를 갖는 TiO2를 원료로 하는 필름이 처리되는 것을 특징으로 하는,
    광촉매 오염방지특성을 가진 필름을 변형하는 방법.
  6. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 가열처리는 적어도 250 ℃ 내지 최대 700 ℃의 온도에서 수행되는 것을 특징으로 하는,
    광촉매 오염방지특성을 가진 필름을 변형하는 방법.
  7. 제 6항에 있어서, 상기 기판은 유리 기판이며,
    가열처리는 어닐링 처리 또는 상기 유리 기판 상에서 처리되는 강인화 처리, 또는 면(4) 상의 광촉매 필름 및 면(3) 상의 태양광선 차단 또는 저방사율(열조절)을 포함하는 유리기판 상에서 수행되는 굽힘/강인화 처리에 해당하고, 면이 1-2-3-4로 언급되는 이중 창유리 유닛에서, 면(4)은 건물의 내부를 향하는 것을 특징으로 하는,
    광촉매 오염방지특성을 가진 필름을 변형하는 방법.
  8. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 가열처리는 수분의 일 초 내지 수 시간 범위의 기간 동안 수행되는 것을 특징으로 하는,
    광촉매 오염방지특성을 가진 필름을 변형하는 방법.
  9. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 메탄을 포함하는 수소 및 탄화수소로부터 취해진 적어도 하나의 가스는 환원가스로서 사용되고, 질소/환원가스 부피 비는 100/0 내지 50/50인 것을 특징으로 하는,
    광촉매 오염방지특성을 가진 필름을 변형하는 방법.
  10. 티타늄 이산화물(TiO2)을 원료로 하는 광촉매 오염방지특성을 갖는 필름을 적어도 하나의 면의 일부분에 구비하는 기판의 제조방법으로서, 직접, 또는 적어도 하나의 기능성 내부필름의 삽입과 함께 기판에 도포 되는 기판의 제조방법에 있어서,
    가열처리는, UV 영역에서 광자를 흡수할 수 있고, 또한 가시영역에서 광자를 흡수할 수 있는 TiO2를 원료로 하는 필름을 만들거나 또는 상기 TiO2를 원료로 하는 필름의 광촉매 특성을 강화하는 시간 동안 질소 대기 또는 질소 및 적어도 하나의 환원가스를 포함하는 대기에서 TiO2를 원료로 하는 필름을 구비하는 기판 상에서 수행되는 것을 특징으로 하는,
    기판의 제조방법.
  11. 제 10항에 있어서, 유리기판, 표면이 탈알킬화된 유리기판, 세라믹 또는 유리세라믹 기판 및 건축재료의 기판으로부터 선택된 기판에 도포되는 TiO2를 원료로 하는 필름이 처리되고, 이것은 상기 기판이 평면 또는 굽은 면을 가지는 것에 관계없이, 그리고 일체형 또는 적층형인 것에 관계없이 플레이트 형태로, 또는 섬유 형태로 되는 것을 가능하게 하는 것을 특징으로 하는,
    기판의 제조방법.
  12. 제 10항 또는 제 11항에 있어서,
    TiO2를 원료로 하는 필름은
    - 상기 TiO2를 원료로 하는 필름으로부터 이종접합(heteroepitaxially)적으로 생성된 내부필름;
    - 알칼리금속의 이동에 대한 장벽을 형성하고, 유리 또는 세라믹 또는 유리세라믹 기판의 경우에 사용되는 내부필름;
    - 광학 기능성을 갖는 내부필름;
    - 열조절 내부필름; 및
    - 전도성 내부필름
    으로부터 선택되는 적어도 하나의 기능성 내부필름의 삽입과 함께 기판에 도포되어 처리되는 것을 특징으로 하는,
    기판의 제조방법.
  13. 제 10항 또는 제 11항에 있어서, TiO2 단독, 또는 결합제와 결합된 TiO2, 또는 합금 또는 도핑된 TiO2로 구성된 티타늄 이산화물을 원료로 하는 필름이 처리되는 것을 특징으로 하는,
    기판의 제조방법.
  14. 제 10항 또는 제 11항에 있어서, 최대 1 ㎛의 두께를 갖는 TiO2를 원료로 하는 필름이 처리되는 것을 특징으로 하는,
    기판의 제조방법.
  15. 제 10항 또는 제 11항에 있어서, 가열처리는 적어도 250 ℃ 내지 최대 700 ℃의 온도에서 수행되는 것을 특징으로 하는,
    기판의 제조방법.
  16. 제 15항에 있어서, 상기 기판이 유리기판이며, 상기 가열처리는 어닐링 처리 또는 상기 유리기판에서 수행되는 강인화처리에 상응하는 것을 특징으로 하는,
    기판의 제조방법.
  17. 제 10항 또는 제 11항에 있어서, 상기 가열처리는 수분의 일 초 내지 수 시간 범위의 기간 동안 수행되는 것을 특징으로 하는,
    기판의 제조방법.
  18. 제 10항 또는 제 11항에 있어서, 메탄을 포함하는 수소 및 탄화수소로부터 취해진 적어도 하나의 가스는 환원가스로서 사용되고, 질소/환원가스 부피 비는 100/0 내지 50/50인 것을 특징으로 하는,
    기판의 제조방법.
  19. 제 10항 또는 제 11항에 있어서, 상기 TiO2를 원료로 하는 필름은 금속(Ti) 또는 TiOx 타겟(x〈 2인 경우) 및 산화 대기를 이용하는, 마그네트론 스퍼터링 또는 이온빔 스퍼터링인 실온 진공 스퍼터링에 의해 증착되는 것을 특징으로 하는,
    기판의 제조방법.
  20. 제 10항 또는 제 11항에 있어서, 상기 TiO2를 원료로 하는 필름은 CVD 타입의 가스 열분해 공정에 의해 증착되는 것을 특징으로 하는,
    기판의 제조방법.
  21. 제 10항 또는 제 11항에 있어서, 상기 TiO2를 원료로 하는 필름은 졸겔 공정에 의해 증착되는 것을 특징으로 하는,
    기판의 제조방법.
  22. 적어도 하나의 면 상의 일부분 상에 티타늄 이산화물(TiO2)을 원료로 하는 광촉매 오염방지 특성을 갖는 필름을 구비하는 기판에 있어서,
    상기 필름은 직접, 또는 적어도 하나의 기능성 내부필름의 삽입과 함께 기판에 도포되고, 상기 TiO2 필름은 제 1항의 방법에 의해 변형되는,
    기판.
  23. 자기 정화, 흐림방지(antifogging), 오염방지 및 응축방지의 창유리, 이중 창유리 타입의 건물용 창유리, 자동차 바람막이, 후면창 또는 측창 타입의 차량용 창유리, 기차, 항공기 및 선박용 창유리, 수족관 유리, 상점 창문 유리 또는 온실 유리를 포함하는 실용 창유리, 인테리어 가구용 창유리, 도시 가구, 거울, 컴퓨터, 텔레비전 또는 텔레폰 타입의 디스플레이 시스템을 위한 스크린용 창유리, 전기변색, 액정 또는 전계발광 창유리를 포함하는 전기제어 창유리, 광기전력 창유리, 및 조명 장치의 구성성분 제조에, 제 22항에 기재된 기판을 사용하는 방법.
  24. 파티션, 장막벽, 실내 또는 야외 중 어느 하나의 지붕 또는 바닥의 제조에 건축재료로 만들어진 제 22항에 기재된 기판을 사용하는 방법.
  25. 임시천정(false ceiling) 또는 여과물질 제조에 광물 단열면과 유리강화섬유를 원료로 하는 직물기판을 기본으로 하는 제 22항에 기재된 기판의 사용방법.
  26. 삭제
  27. 적어도 하나의 면 상의 일부분 상에 티타늄 이산화물(TiO2)을 원료로 하는 광촉매 오염방지 특성을 갖는 필름을 구비하는 기판에 있어서,
    상기 필름은 직접, 또는 적어도 하나의 기능성 내부필름의 삽입과 함께 기판에 도포되고, 상기 기판은 제 10항의 방법에 의해 제조되는,
    기판.
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