KR20060057438A

KR20060057438A - 플라즈마 디스플레이 패널의 제판 세정장치

Info

Publication number: KR20060057438A
Application number: KR1020040096587A
Authority: KR
Inventors: 김웅식
Original assignee: 엘지마이크론 주식회사
Priority date: 2004-11-23
Filing date: 2004-11-23
Publication date: 2006-05-26

Abstract

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널의 제판 세정장치에 관한 것이다.

본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제판 세정장치는 기판 상에 형성되는 전극과, 상기 전극을 덮도록 형성된 유전체와, 상기 유전체상에 식각공정으로 형성되는 격벽을 구비하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제판 세정장치에 있어서, 세정할 제판을 거취하는 로딩부와, 상기 제판을 적어도 2회 세정하는 세정부와; 상기 세정부를 거친 제판을 건조시키는 건조부와, 세정과 건조가 완료된 상기 제판의 재 세정 여부를 검사하는 검사부를 구비하고, 상기 세정부는 다수개의 단위 습식세정부로 구성된 습식세정부와, 사용된 전용 세정액과 사용된 2차 세정액과 제거된 페이스트를 처리하는 폐액 처리부를 구비한다.

Description

플라즈마 디스플레이 패널의 제판 세정장치{SCREEN MASK CLEANING DEVICE OF PLASMA DISPLAY PANEL}

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제판 세정장치의 구성을 나타낸 도면이다.

도 2는 본 발명의 제판 세정장치의 이송부를 나타낸 도면이다.

< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 >

10 : 로딩부 20 : 센서부

30 : 제어부 40 : 이송부

50 : 세정부 60 : 단위 습식 세정부

70 : 건조부 80 : 검사부

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것으로, 특히 에칭공법후 각각 의 기능층에 남아있는 페이스트와 이물질을 제거하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제판 세정장치에 관한 것이다.

일반적으로 플라즈마 디스플레이 패널은 전면 글라스 기판과 후면 글라스 기판 사이에 방전 공간을 형성하고 전극 사이에서 플라즈마 방전을 일으켜 주위에 존재하는 형광체로 하여금 여기되도록 발광시킴으로써 화면을 표시하는 장치이다.

상기 후면판을 형성하기 위한 제조방법으로는 샌드블라스트공법이 널리 사용되고 있는데, 샌드블라스트법에 의한 후면판 제조방법은 다음과 같다.

후면 글라스기판에 샌드블라스트용 전극 페이스트를 전극제판 위에 올려놓고 스퀴지로 전극패턴인쇄를 실시하여 전극패턴을 형성하고 이를 120℃ ~ 150℃의 온도로 5 ~ 10분정도 건조시킨후 500℃ ~ 600℃로 10분정도 소성을 행한다.

이어, 상기 소성체에 샌드블라스트용 유전체 페이스트를 유전체 제판 위에 올려놓고 스퀴지로 유전체 전면인쇄를 실시하여 유전체층을 형성하고 이를 120℃ ~ 150℃의 온도로 5 ~ 10분정도 건조시킨후 550℃ ~ 580℃로 10분정도 소성을 행한다.

그후, 유전체층 위에 샌드블라스트용 격벽 페이스트를 격벽제판 위에 올려놓고 스퀴지로 격벽 전면인쇄를 실시하여 격벽층을 형성하고, 이를 120℃ ~ 150℃의 온도로 5 ~ 10분정도 건조시킨후 다시 형성된 격벽층 위에 격벽 전면인쇄 공정과 건조 공정을 8 ~ 10회 정도 실시한 후 포토레지스트를 상기 건조체 위에 코팅하여 노광 현상을 실시한 뒤 샌드로 샌드블라스팅하여 격벽층을 형성한다. 이후, 다시 포토레지스트를 제거하고 550℃ ~ 600℃로 10분정도 소성을 행하여 격벽을 완성한 다.

그후, 상기 소성체에 샌드블라스트용 적색 형광체 페이스트를 적색 형광체 제판위에 올려놓고 스퀴지로 적색형광체 패턴인쇄를 실시하여 적색 형광체층을 형성하고, 이를 120℃ ~ 150℃의 온도로 5 ~ 10분정도 건조 시킨 후 샌드블라스트용 녹색 형광체 페이스트를 녹색 형광체 제판 위에 올려놓고 상기와 동일한 방법으로 녹색 형광체층을 형성한다. 그리고, 샌드블라스트용 청색 형광체 페이스트를 청색 형광체 제판 위에 올려놓고 상기와 동일한 방법으로 청색 형광체층을 형성한 후 450℃ ~ 520℃로 10 ~ 60분정도로 소성을 행하여 후면판을 완성한다.

상기 샌드블라스트용 전극 페이스트와 유전체 페이스트와 격벽 페이스트와 적색, 녹색, 청색 형광체용 페이스트를 각각의 제판에 1 배치(batch) 인쇄한 후에는 잔류한 페이스트와 이물을 제판에서 제거하기 위하여 샌드블라스트용 페이스트들을 제거할 수 있는 전용 제판 세정기로 투입하여 제판을 세정하여 보관한다.

그러나, 상기 샌드블라스트용 페이스트를 제판에서 제거하는 전용 제판 세정기는 에칭공법으로 제조되는 플라즈마 디스플레이 패널의 페이스트를 제거하기가 어렵다. 상세히 설명하면, 에칭공법용 전극 페이스트 및 유전체 페이스트는 내식성을 가져야 하고 에칭공법용 격벽 페이스트는 화학적 식각이 선택적으로 잘 이루어지는 특성을 가진다. 또한, 에칭공법용 형광체 페이스트는 에칭공법에 의해 제조된 격벽의 형상과 표면이 샌드블라스트법으로 제조된 격벽과는 달라서 샌드블라스트용 형광체 페이스트와는 다른 유변성을 가진다. 그러므로, 샌드블라스트용 페이스트와 에칭 공법용 페이스트는 서로 다른 세정특성을 나타낸다. 따라서, 각 단위 층을 형성한 후 제판에 남아있는 페이스트와 이물을 샌드블라스트용 제판 세정기를 이용하여 세정할 경우 제판에 이물이 계속 남아있는 문제점이 있었다.

따라서, 본 발명의 목적은 각 단위층을 형성한 후 제판에 남게되는 페이스트 및 이물질을 완벽하게 세정할 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널의 제판 세정장치를 제공하는데 있다.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제판 세정장치는 기판 상에 형성되는 전극과, 상기 전극을 덮도록 형성된 유전체와, 상기 유전체상에 식각공정으로 형성되는 격벽을 구비하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제판 세정장치에 있어서, 세정할 제판을 거취하는 로딩부와, 상기 제판을 적어도 2회 세정하는 세정부와; 상기 세정부를 거친 제판을 건조시키는 건조부와, 세정과 건조가 완료된 상기 제판의 재 세정 여부를 검사하는 검사부를 구비하고, 상기 세정부는 다수개의 단위 습식세정부로 구성된 습식세정부와, 사용된 전용 세정액과 사용된 2차 세정액과 제거된 페이스트를 처리하는 폐액 처리부를 구비한다.

상기 단위 습식세정부는 로딩된 제판에 묻어 있는 상기 페이스트와 이물을 세척할 수 있는 상기 전용 세정액이 보관되는 전용 세정액조와, 상기 전용 세정액조로부터 배관을 통하여 이동된 상기 전용 세정액을 노즐을 통하여 분사하여 페이 스트를 세정하는 전용 세정액 분사부와, 사용되고 잔류된 상기 전용 세정액과 이물을 제거할 수 있는 2차 세정액이 보관되는 2차 세정액조와, 상기 2차 세정액으로부터 배관을 통하여 이동된 상기 2차 세정액을 노즐을 통해 분사하여 잔류된 상기 전용 세정액과 이물을 제거하는 2차 세정액 분사부를 구비한다.

상기 세정부는 적어도 하나의 물리적 수단 및 화학적 수단을 구비하고, 상기 물리적 수단은 로딩된 상기 제판에 묻어있는 제거하고자 하는 페이스트를 제거용 치구로 닦아내는 기계 세정부와, 고속 흐름을 가지고 초음파 진동을 하는 기체를 세정하고자 하는 제판의 표면에 공급하는 초음파 공급부와 상기 초음파 공급부에 인접하고, 상기 고속 흐름을 가지고 초음파 진동을 하는 기체에 의해 제판에서 분리된 페이스트와 이물을 흡입하는 진공부를 가지는 초음파 건식세정부와 중 적어도 하나로 형성되며, 상기 화학적 수단은 자외선을 발생시키고 상기 자외선을 세정하고자 하는 제판의 표면에 공급하는 자외선 공급부와 상기 자외선 공급부에 인접하고 상기 자외선에 의해 제판에서 분리된 페이스트와 이물을 흡입하는 진공부를 가지는 자외선 건식 세정부로 형성된다.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널을 제조하기 위한 제판 세정장치를 상세히 설명하기로 하자.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제판 세정장치를 보인 구성도이고, 도 2는 본 발명의 제판 세정장치의 이송부를 보인도이다.

도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제판 세정장치는 제거하고자 하는 페이스트와 이물이 남아 있는 제판을 거취 할 수 있는 로딩부(10)와, 로딩부(10)에 세정하고자 하는 제판을 거취여부를 감지하는 센서부(20)와, 상기 거취된 제판을 이송시키는 이송부(40)와, 제판을 세정하는 세정부(50)와, 센서부(20)로부터의 정보를 인지하여 세정부(50)를 제어하는 제어부(30)와, 세정부(50)에서 세정된 제판을 건조시키는 건조부(70)를 구비한다.

세정부(50)는 적어도 하나의 단위 습식 세정부(60)로 이루어진 습식 세정부(51)를 구비한다. 단위 습식 세정부(60)는 일차로 제판을 세정하는 전용세정부와, 일차로 세정된 제판을 2차로 세정하는 2차 세정부를 구비한다.

전용세정부는 세정액의 농도와 온도 및 양을 조절하고 저장하는 전용 세정액조(61)와, 제판에 세정액을 분사하는 전용 세정액 분사부(63)를 구비한다.

2차 세정부는 세정액의 농도와 온도 및 양을 조절하고 저장하는 2차 세정액조(65)와, 제판에 2차 세정액을 분사하는 2차 세정액 분사부(67)를 구비한다. 여기서, 2차 세정액 분사부(67)는 2차 세정액을 순수세정액을 분사하는 순수세정액 분사부로 대치될 수 있다.

여기서, 단위 습식 세정(60)의 개수는 제판 세정 장치의 설치 면적과 투자금액과 세정 효율과 총 세정시간 등을 고려하여 선정한다.

이와 같은 구조를 가지는 본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제판 세정장치의 세정방법에 대해서 살펴보기로 하자.

먼저, 이송부(40)에 의해 세정부(50)로 이송된 제판은 전용 세정액 분사부(63)에 위치하게 되고 전용 세정액 분사부(63)에 위치된 것을 센서부(20)가 인지하여 상기 위치 사실을 제어부(30)에 정보를 제공하고 상기 정보를 인지한 제어부 (30)는 세정부(50)를 동작시킨다. 그러면, 상기 제판은 전용 세정액조(61)에 보관되어 있는 전용 세정액에 의하여 세정되는데, 상기 전용 세정액은 일정 간격으로 배치된 상기 전용 세정액에 반응하지 않는 재질의 파이프와 상기 파이프 위에 일정 간격으로 배치된 노즐을 통해 0.5~10kgf/cm²의 압력으로 분사되면서 에칭공법용 페이스트와 이물질을 세정한다. 상기 전용 세정액에 의한 세정시간은 세정하고자 하는 제판 상태와 세정 조건을 고려하여 작업자가 조절할 수 있다.

전용 세정액 분사부(63)에서 세정이 완료된 제판은 사용되고 남아있는 전용 세정액과 이물을 제거할 수 있는 2차 세정액조(65)에 보관되어 있는 2차 세정액에 의하여 2차 세정된다. 상기 2차 세정액은 일정 간격으로 배치된 2차 세정액에 반응하지 않는 재질의 파이프와 상기 파이프 위에 일정간격으로 배치된 노즐을 통해 0.5~10kgf/cm²의 압력으로 분사되어 상기 제판을 세정한다. 상기 2차 세정액에 의한 세정시간은 세정하고자 하는 제판 상태와 세정조건을 고려하여 작업자가 조정할 수 있다. 한편, 상기 사용된 전용 세정액과 2차 세정액과 제거된 페이스트와 이물등의 폐액은 페액처리부(53)로 이송되어 처리된다.

세정부(50)에서 세정 완료를 인지한 센서부(20)는 세정완료 정보를 제어부(30)에 제공하고 제어부(30)는 세정완료 정보를 건조부(70)에 제공하여 건조를 시작한다. 건조부(70)는 0.5~10kgf/cm²의 압력을 가진 건조한 기체를 이용하여 제판에 남아 있는 상기 2차 세정액을 건조한다. 그리고, 세정과 건조가 완료된 제판은 검사부(80)로 이송되어 검사한 후 재 제정여부 결정한다.

한편, 이송부(40)는 프레임(43)과 프레임(43)에 마련되어 제판(90)과 프레임(43)이 소정각도를 유리하도록 제판(90)을 지지하는 가이드(41)를 가진다. 이때, 제판(90)과 프레임(43)의 각도(θ)는 0°에서 90°까지 조절된다. 제어부(30)는 로딩부(10)와 세정부(50)와 건조부(70)와 검사부(80) 및 이송부(40)에 각각 마련된 센서부(20)에서 신호를 전달받아 상기 각각의 작업을 제어한다.

본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제판 세정장치의 세정부(50)는 제판(90)의 세정효과를 더욱 크게 할 수 있도록 하기 위하여 물리적수단과 화학적 수단과 물리적 수단 및 화학적 수단이 혼합된 수단을 더 구비할 수 있다. 예를 들면, 세정부(50)는 로딩된 제판에 묻어있는 제거하고자 하는 페이스트를 제거용 치구로 닦아내는 기계 세정부를 포함한다. 상기 제거용 치구는 롤라형태 또는 바(Bar)형태가 가능하며 제판의 양면에 설치되는 것이 바람직하다. 이때, 상기 기계 세정부는 습식 세정부(51) 이전 단계에 설치되어 제판에 묻어있는 제거하고자 하는 페이스트 및 이물질을 치구로 닦아냄으로써 세정액의 사용을 줄일 수 있다.

상기 제판 세정장치의 세정효과를 더욱 크게 하기 위한 또 다른 물리적 수단으로, 세정부(50)는 초음파에 의하여 진동하면서 고속으로 흐르는 기체를 세정하고자 하는 제판의 표면에 공급하는 초음파 공급부와 상기 초음파 공급부에 인접되어 마련되며 상기 기체에 의해 제판에서 분리된 페이스트와 이물을 흡입하는 진공부를 가지는 초음파 건식 세정부를 더 포함할 수 있다. 상기 초음파 공급부는 고압의 기체를 폭이 좁은 입구를 통하여 분사하고 상기 폭이 좁은 입구에는 초음파 발진자 가 설치되어 기체를 초음파로 진동한다. 그러면, 상기 초음파 공급부의 입구를 통하여 분사되는 고압의 기체는 초음파에 의하여 진동되면서 제판에 붙어있는 페이스트와 이물을 제거한다. 그리고, 상기 진공부는 상기 고압의 기체에 의해 제거된 페이스트와 이물질을 흡입하는데, 상기 페이스트 및 이물질은 압력차이에 의하여 흐르는 기체로 인하여 상기 진공부로 흡입된다.

상기 제판 세정장치의 세정효과를 더욱 크게 하기 위한 또 다른 화학적 수단으로, 세정부(50)는 자외선을 발생시키고 상기 자외선을 세정하고자 하는 제판의 표면에 공급하는 자외선 공급부와, 상기 자외선 공급부에 인접하고 상기 자외선에 의해 제판에서 분리된 페이스트와 이물을 흡입하는 진공부를 가지는 자외선 건식 세정부를 더 포함할 수 있다. 상기 자외선 공급부는 에너지가 큰 자외선을 상기 세정하고자 하는 제판에 주사하여 제판에 붙어있는 페이스트와 이물을 제판으로부터 분리하고, 상기 공급부는 압력차이에 의하여 흐르는 기체를 이용하여 분리된 페이스트와 이물질을 흡입하여 제거한다.

상기 제판 세정장치의 세정효과를 더욱 크게 하기 위한 또 다른 방법으로, 세정부(50)는 세정액을 보관하는 세정액조와 상기 세정액조 내에 배치되는 초음파 진동자를 가지는 초음파 진동자 습식 세정부를 더 포함할 수 있다. 상기 초음파 진동자를 이용한 습식 세정부는 제판 메쉬의 표면 또는 제판 메쉬와 유제 사이 또는 메쉬와 메쉬가 겹친 부위의 틈에 부착된 제거하고자 하는 페이스트와 이물을 제판에서 분리하기 위하여 제판을 적어도 1개 이상의 초음파 진동자가 설치된 세정액조에 담그고 초음파 진동자를 이용하여 초음파 세정을 실시한다. 상기 초음파 진동 의 매질인 세정액으로서 전용 세정액과 순수 등이 사용될 수 있으나 초음파 진동에 의한 세척 효과가 크므로, 세정액의 특성을 규정지을 필요는 없다.

상기 제판 세정장치의 효과를 더욱 크게 하기 위한 또 다른 방법으로, 세정부(50)는 초음파를 발생시키는 초음파 진동바를 가지는 초음파 진동바 습식 세정부를 더 포함할 수 있다. 상기 초음파 진동바를 이용한 습식 세정은 제판 메쉬의 표면 또는 제판 메쉬와 유제 사이 또는 메쉬와 메쉬가 겹친 부위의 틈에 부착된 제거하고자 하는 페이스트와 이물을 바(bar)형상의 초음파 진동바에서 발생된 진동을 유체를 통해 전달하여 제판에서 분리한다. 상기 초음파 진동파는 매질로서 유체를 이용하므로, 제판은 유체에 의해 적셔져 있고 상기 유체로 전용 세정액과 순수 등이 사용될 수 있으나, 초음파 진동에 의한 세척 효과가 크므로 유체 특성을 규정 지을 필요는 없다. 또한, 이송 방식은 장비가 위치할 공간의 크기에 따라 제판이 정지한 채로 초음파 진동바가 움직이는 방식도 가능하고, 제판이 이송되는 방식도 가능하다.

상기 제판 세정장치의 세정효과를 더욱 크게 하기 위한 또 다른 방법으로, 검사부(80)는 제판 메쉬의 세정 상태를 검사하여 재세정 여부를 판단하여 제판 세정 불량을 검출하는 검출부와, 세정이 양호한 제판을 반출하는 반출부와, 재세정이 필요한 제판을 세정부로 재이송하는 재이송부를 가진다. 상기 검사에 의한 제판의 재세정은 제판을 완벽하게 세정하고 보관하여, 이후 재사용할 경우에 발생할 수 있는 인쇄 불량을 줄이므로써, 에칭 공법에 의한 격벽 제조의 수율을 현격히 높이는 효과가 있다.

상술한 바와 같이 본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제판 세정장치는 전극층과 유전체층과 격벽 및 형광체층을 형성한 후 제판에 남아있는 페이스트와 이물질을 완전하게 세정할 수 있으므로, 제품의 신뢰성이 향상된다.

또한, 제판을 세정한 후 재 사용할 때 인쇄불량을 줄일 수 있으므로, 에칭공법에 의한 격벽제조의 수율을 높일 수 있다.

이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허청구의 범위에 의해 정하여 져야만 할 것이다.

Claims

기판 상에 형성되는 전극과, 상기 전극을 덮도록 형성된 유전체와, 상기 유전체상에 식각공정으로 형성되는 격벽을 구비하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제판 세정장치에 있어서,

세정할 제판을 거취하는 로딩부와,

상기 제판을 적어도 2회 세정하는 세정부와;

상기 세정부를 거친 제판을 건조시키는 건조부와,

세정과 건조가 완료된 상기 제판의 재 세정 여부를 검사하는 검사부를 구비하고,

상기 세정부는 다수개의 단위 습식세정부로 구성된 습식세정부와, 사용된 전용 세정액과 사용된 2차 세정액과 제거된 페이스트를 처리하는 폐액 처리부를 구비하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제판 세정장치.
제 1 항에 있어서,

상기 단위 습식세정부는

로딩된 제판에 묻어 있는 상기 페이스트와 이물을 세척할 수 있는 상기 전용 세정액이 보관되는 전용 세정액조와,

상기 전용 세정액조로부터 배관을 통하여 이동된 상기 전용 세정액을 노즐을 통하여 분사하여 페이스트를 세정하는 전용 세정액 분사부와,

사용되고 잔류된 상기 전용 세정액과 이물을 제거할 수 있는 2차 세정액이 보관되는 2차 세정액조와,

상기 2차 세정액으로부터 배관을 통하여 이동된 상기 2차 세정액을 노즐을 통해 분사하여 잔류된 상기 전용 세정액과 이물을 제거하는 2차 세정액 분사부를 구비하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제판 세정장치.
제 1 항에 있어서,

상기 세정부는

적어도 하나의 물리적 수단 및 화학적 수단을 구비하고,

상기 물리적 수단은 로딩된 상기 제판에 묻어있는 제거하고자 하는 페이스트를 제거용 치구로 닦아내는 기계 세정부와, 고속 흐름을 가지고 초음파 진동을 하는 기체를 세정하고자 하는 제판의 표면에 공급하는 초음파 공급부와 상기 초음파 공급부에 인접하고, 상기 고속 흐름을 가지고 초음파 진동을 하는 기체에 의해 제판에서 분리된 페이스트와 이물을 흡입하는 진공부를 가지는 초음파 건식세정부와 중 적어도 하나로 형성되며,

상기 화학적 수단은 자외선을 발생시키고 상기 자외선을 세정하고자 하는 제판의 표면에 공급하는 자외선 공급부와 상기 자외선 공급부에 인접하고 상기 자외선에 의해 제판에서 분리된 페이스트와 이물을 흡입하는 진공부를 가지는 자외선 건식 세정부인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제판 세정장치.