KR20060014826A - 액정표시장치의 액정 배향막용 조성물 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 액정표시장치용 액정 배향막에 관한 것으로, 하기 화학식 1의 디아민 화합물, 산무수물 및 용매를 포함하며, 상기 화학식 1의 디아민 화합물은 15 내지 40 몰%로 포함하는 액정배향막용 조성물 및 이를 이용한 액정 배향막을 제공한다.
[화학식 1]
Figure 112004036063411-PAT00001
(상기 화학식 1에서, R은 헤테로원자로 치환되거나 치환되지 않은 탄소수 10 내지 30의 포화 또는 불포화된 알킬기, 알릴기, 또는 방향족 탄화수소기이다)
본 발명은 수직 배향성분으로 상기 화학식 1의 화합물을 일정함량으로 포함하여 액정표시장치 제조공정에서 ODF 공정 중 액정에 의한 적하 점얼룩을 최소화할 수 있다.
ODF 공정, 적하 점얼룩, 액정표시장치, 배향막

Description

액정표시장치의 액정 배향막용 조성물{COMPOSITION FOR FORMING LIQUID CRYSTAL ALIGNMENT LAYERS OF LIQUID CRYSTAL DISPLAYS}
도 1a 및 도 1는 각각 비교예 2와 본 발명의 실시예 1의 배향막에 대한 적하얼룩 상태를 나타낸 전자현미경 사진.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 액정 표시 장치의 단면도.
도 3은 액정 표시 장치에서 액정 적하 방식을 나타내기 위해 간략히 도시한 액정 적하 장치.
본 발명은 액정표시장치용 액정 배향막에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 액정표시장치에서 ODF(One Drop Filling: 이하 'ODF'라 함) 점얼룩 불량을 개선하여, 적하 얼룩의 감소 및 적하 공정 마진을 향상시킬 수 있는 액정표시장치의 액정배향막용 조성물 및 이를 이용한 수직배향(VA)막에 관한 것이다.
최근 5세대, 7세대 등 액정 표시 장치(이하, 'LCD' 라 함)는 그 크기가 대형화(예를 들면, 1870×2200 mm)되고 있는 경향이며, 상기 대형 기판을 사용하는 LCD 라인은 필수적으로 공정시간 단축 및 생산능력(line capability, line capa) 측면 때문에 액정 적하 공정으로서 ODF(One Drop Filling: 이하 'ODF'라 함) 공정을 액정 공정의 핵심 공정으로 적용하고 있다.
상기 액정 적하 공정은 도 3에 도시된 바와 같이, 기판 위에 일정량의 액정을 도팅(dotting)하면서 액정 디스펜서(dispenser) 또는 스테이지(stage)를 이동시켜 일정 패턴으로 액정이 기판위에 떨어지게 하는 방식이다. 이때, 액정의 셀갭은 컬럼 스페이서가 결정하게 되지만, 액정량에 의해 그 정확도가 달라진다.
그런데, 상기 ODF 공정은 이전의 액정을 두 기판 사이에 주입하는 진공 필링 방식에 대비해 많은 장점이 있으나, 상기 ODF 공정은 필링 방식에서는 발생하지 않았던 몇몇 신규 불량 현상들이 발생하기 시작하였으며, 대표적인 불량 현상이 적하 점얼룩이라는 현상이다.
상기 점얼룩은 ODF 공정시 초기 액정이 적하(drop)되었던 부분과 상하판 합착(assy's)때 액정이 적하되지 않은 부분 사이에 리타데이션(retardation)이 달라서 나타나는 현상이다. 상기 두 부분의 차이에 대한 근본적인 원인은 아직 규명되지 않았으나, 그 중 상당히 실험적으로 뒷받침되는 가설 중의 하나가 "두 기판이 서로 합착될 때 배향막에 적하(drop)된 액정이 유력(flow(shear) force)을 가하게 되면서 배향막에 손상을 주어 배향막의 선경사각(pretilt angle) 등을 변화시켜 점얼룩 상태로 나타나게 된다"는 가설이다.
이러한 문제점은 배향막의 선경사각 변화는 ODF 공정 후 열처리 과정에서 사라지긴 하나, 일부 배향막이나 공정 중 변형의 정도가 큰 경우는 열처리 이후에도 선경사각의 변화가 남아 있어 적하 점얼룩이 계속 남는 경우가 있다.
또한, 지금까지 개발되거나 사용하는 배향막들은 점하 점얼룩 측면을 고려하지 않고 외부 힘을 가하지 않은 상태에서 전압보유율(Voltage Holding Ratio: VHR) 및 RDC(잔류 DC) 등 특성 확보를 위한 개발만이 진행되었다.
또한 액정 배향막의 경우 배향막의 표면에너지가 표시장치의 모드 배향막보다 낮게 설정되기 때문에 액정이 퍼짐성이 떨어진다.
상기와 같은 종래 기술에서의 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명의 목적은 액정표시장치 제조공정에서 액정의 퍼짐성을 개선하고 ODF 공정 후 적하 얼룩을 최소화하여 적하 공정 마진을 향상시킬 수 있는 액정배향막용 조성물 및 이를 이용한 수직(VA) 배향막을 제공하는 것이다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 하기 화학식 1의 디아민 화합물, 산무수물 및 용매를 포함하며, 상기 화학식 1의 디아민 화합물은 15 내지 40 몰%로 포함하는 액정배향막용 조성물을 제공한다.
[화학식 1]
Figure 112004036063411-PAT00002
(상기 화학식 1에서, R은 헤테로원자로 치환되거나 치환되지 않은 탄소수 10 내지 30의 포화 또는 불포화된 알킬기, 알릴기, 또는 방향족 탄화수소기이다.)
또한, 본 발명은 상기 액정배향막용 조성물을 투명전극이 형성된 기판에 도포하고 경화하여 제조된 액정 배향막을 제공한다.
또한, 본 발명은 상기 액정 배향막을 포함하는 액정표시장치를 제공한다.
이하에서 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다.
배향막의 수직 배향력은 ODF 공정 중 액정의 유력(shear force)보다 충분히 강하다면 ODF 공정 중 선경사각의 변화가 아주 적거나 없어 얼룩이 나타나지 않을 것이다.
따라서, 본 발명자들은 상기한 점에 착안하여 액정배향막용 조성물에 포함되는 수직 배향성분의 함량을 일정 범위로 조절함으로써 배향성분의 용해성, 인쇄성, 표면장력을 최적화하여 액정표시장치 제조공정 중 기판에 액정을 적하하는 ODF 후에도 적하 점얼룩이 없는 액정 배향막을 제공하는 것이다.
즉, 본 발명은 액정의 적하 점얼룩을 억제하여 표시 품질을 높이기 위해서 외부 힘에 대한 선경사각을 높게 유지하고, 배향막 표면장력을 높여 액정의 퍼짐성을 높일 수 있는 액정 배향막용 조성물을 제공하는 것이다.
이러한 본 발명의 수직배향(VA)용 수직 배향막의 기본 구조는 다음과 같다. 상기 배향막은 폴리이미드계 고분자로 이루어지며, 이는 디아민과 산무수물을 용매내에서 반응시켜 얻어질 수 있다. 이때, 상기 배향막은 산무수물과 디아민이 1:1로 공중합된 중합체 구조를 가지는 것이 바람직하며, 중합체의 주사슬 구조에 따라 폴리아믹산(poly(armic acid))이나 폴리이미드 타입으로 구분 짓는다. 상기 중합시 사용되는 단량체는 적어도 2 내지 3종 이상의 디아민과 산이무수물이 사용된다.
이때, 본 발명에서 액정배향제로 사용되는 수직 배향 성분은 수직배향력을 유지시켜주는 것이 바람직하며, 그 예를 들면 디아민에 사이드 펜던트(side pendant)기 R이 치환되어 있는 하기 화학식 1로 표시되는 화합물이 사용될 수 있다.
[화학식 1]
Figure 112004036063411-PAT00003
(상기 화학식 1에서, R은 헤테로원자로 치환되거나 치환되지 않은 탄소수 10 내지 30의 포화 또는 불포화된 알킬기, 알릴기, 또는 방향족 탄화수소이다.)
따라서, 본 발명의 액정 배향제 구조는 하기 화학식 2를 포함한다.
[화학식 2]
Figure 112004036063411-PAT00004
(상기 화학식 2에서, R은 헤테로원자로 치환되거나 치환되지 않은 탄소수 10 내지 30의 포화 또는 불포화된 알킬기, 알릴기, 또는 방향족 탄화수소이고, X는 벤젠 또는 지방족 사이클 고리이고, n은 중합정도를 나타낸다.)
그런데, 상기 화학식 1의 화합물의 함량이 증가하면 수직배향력이 증가하여 이론적으로 사용할 수 있는 화학식 1의 화합물의 최대 함량은 50 몰%이다. 그러 나, 액정 배향막의 용해성, 인쇄성, 표면장력 등의 한계 및 배향막 제조의 한계 때문에 그 함량의 제한이 있다.
이에, 지금까지는 상기 화학식 1의 화합물의 함량은 5 내지 15 몰% 정도로만 사용되었다.(여기서 몰%는 주사슬 반복단위를 기준으로 함) 또한, 상기 ODF 공정에서 액정에 의한 유력(shear force)을 러빙력(rubbing force)과 직접적으로 수치화시키기는 어렵지만, ODF 공정 중 선경사각의 발생을 억제시키는 관점에서 보면, 상기 화학식 1의 함량이 증가하는 것이 적하 점얼룩 개선 측면에서는 좋다. 그러나, 상기 화학식 1의 함량이 증가하면 상대적으로 배향막 표면의 표면장력이 낮아져 액정의 퍼짐성에 불리하다. 현재 VA용으로 사용하고 있는 배향막의 표면장력은 35-36 dyne/㎠ 정도이다.
또한, 러빙하지 않은 배향막의 경우 상기 화학식 1의 화합물의 함량이 적은 경우도 수직 배향을 이룰 수는 있으나, 배향막에 외부 힘이 가해진 상태인 러빙을 하는 경우, 상기 화학식 1의 화합물의 함량은 일정 수준 이상이 되어야 수직 배향을 이룰 수 있다.
따라서, 상기에서 나타낸 배향막의 수직 배향력과 표면장력의 상관관계를 고려하고, 현재의 ODF 공정 중에 적하 점얼룩이 발생하는 정도와 배향막의 러빙에 의한 선경사각의 안정성을 고려하여, 최적화된 화학식 1의 함량 범위가 있어야 한다.
이를 위해, 본 발명에서는 상기 화학식 1의 함량을 최적범위로 조절함으로써, ODF 공정 후의 액정에 의한 적하 점얼룩을 최소화할 수 있다. 상기 화학식 1의 함량은 15 내지 40 몰%, 바람직하게는 20 내지 35 몰%의 농도로 사용된다.
즉, 본 발명에서 화학식 1의 화합물을 상기 함량으로 사용하는 것은 외부 힘(액정의 shear force)에 대한 선경사각의 발생이 최소화됨과 동시에 배향막의 표면장력이 지금 수직배향(VA)용으로 상용하는 배향막보다 표면장력을 높여 액정의 퍼짐성을 증가시킬 수 있기 때문이다.
이때 상기 화학식 1의 화합물의 함량이 15 몰% 미만이면 배향막을 러빙처리한 경우 수직 배향력을 얻을 수 없는 문제, 즉 적하 공정 진행시 적하 점얼룩이 다발할 가능성이 있고, 40 몰%를 넘으면 배향 안정성은 충분히 확보될 수 있으나, 표면장력이 낮아져 액정의 퍼짐성이 떨어지고 결국 적하 얼룩 측면에서 오히려 나쁘게 작용한다.
또한, 상기 산무수물은 폴리이미드계 배향막의 제조에 사용되는 것이라면 어느것이나 사용 가능하고, 특별히 한정되지는 않는다. 상기 산무수물의 예를 들면 카르복실산 이무수물 등을 사용할 수 있으며, 바람직하게는 방향족, 지방족 또는 지환족의 테트라카르복시산 이무수물을 1종 이상 혼합 사용할 수 있다. 상기 테트라카르복시산 이무수물로는 2,2-비스(3,4-디카복시페닐)헥사플루오로프로판 이무수물, 4,4-비스(3,4-디카복시트리플루오로페녹시)테트라플루오로벤젠 이무수물, 1,4-비스(3,4-디카복시트리플루오로페녹시)테트라플루오로벤젠 이무수물, (트리플루오로메틸)피로멜리트산 이무수물 및 디(트리플루오로메틸)피로멜리트산 이무수물, 디(헵타플루오로프로필)피로멜리트산 이무수물 등이 있다.
또한, 본 발명의 액정 배향제는 상기 화학식 1의 화합물과 산무수물을 균일하게 혼합하고, 중합시 사용하기 위한 용매를 포함할 수 있다. 상기 용매는 폴리 이미드를 용해시킬 수 있는 것이라면, 어느 것이나 사용가능하고, 폴리이미드 전구체를 용해시키지 않더라도 용해성을 크게 손상시키지 않는 것이라면 이역시 특별히 한정되지는 않아, 통상의 극성용매 및 비극성 용매로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 하나 이상의 용매를 사용할 수 있다.
상기 용매의 구체적인 예를 들면, 감마-부티로락톤, N-메틸피롤리돈(NMP), N-에틸피롤리돈, N-비닐피롤리돈, N,N-디메틸아세트아미드, N,N-디메틸포름아미드, 에틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 에틸카비톨, 부틸카비톨(BC), 에틸카비톨아세테이트, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜모노아세테이트, 프로필렌글리콜디아세테이트, 디프로필렌글리콜, 및 디프로필렌글리콜모노메틸에테르로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 하나 이상인 것이 바람직하다.
본 발명에서 액정배향막의 제조방법은 디아민, 산이무수물 및 용매를 혼합하여 원하는 농도로 폴리이미드 전구체 용액을 제조한 후, 미세 기공을 갖는 여과막에 용액을 통과시켜 용해되지 않은 불순물을 제거한다. 이후, 이 용액을 투명전극이 형성된 기판의 일면에 일정 두께로 도포하고, 경화시켜 용매의 제거와 함께 이미드화 반응으로 배향막을 얻을 수 있다. 이때, 상기 배향제의 도포 및 경화공정시의 조건은 질소, 헬륨, 아르곤 등의 불황성 가스 분위기 일 수 있으며, 또한 필요에 따라 수소 등의 환원성 가스를 혼입한 분위기에서 이루어질 수 있다. 또한, 배향제를 기판에 도포하는 방법은 롤코터법, 분사법, 스핀코팅법, 인쇄법, 잉크젯법 등의 방법을 이용할 수 있으며, 특별히 한정되지는 않는다. 또한, 상기 도포 두께는 700∼1200 Å가 바람직하고, 경화조건은 200 ∼ 230 ℃에서 수십분 내지 1 시간 동안 건조시켜 이미드화 반응을 진행하는 것이 바람직하다.
상기 기판으로는 실리콘 웨이퍼, 유리(glass), 플라스틱 등이 사용될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 또한, 상기 기판의 일면에 형성되는 투명전극은 주석, 인듐, 아연 등을 포함하는 금속 산화물이 사용될 수 있으며, 예를 들면, ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide) 또는 산화인듐-산화주석(In2O3-SnO2) 등을 사용할 수 있다. 또한, 상기 투명전극은 포토, 에칭, 마스크 공정 등에 의해 패턴이 형성될 수 있다.
또한, 본 발명은 상기 배향막의 표면에 이온빔, 분자빔, 원자빔 등의 방사선 조사 및 러빙처리와 같은 추가적인 표면 처리 방법을 실시하여, 액정배향능을 향상시킬 수 있다.
또한, 본 발명에서는 상기 배향막을 이용하여 통상의 방법으로 액정표시장치를 제공할 수 있다.
예를 들면, 상기 배향막이 형성된 제1기판 및 제2기판을 준비하고, 제1기판의 한면에 일정 패턴으로 자외선 경화성 밀봉제를 도포하고, 필요부분에 액정을 적하하여 ODF 공정을 실시한 후 제1기판과 제2기판을 VAS(Vacuum alignment system) 내에서 접합시키고 자외선 조사에 의해 밀봉제를 경화시켜 셀을 제조한다. 자외선 조사는 전면 노광을 실시할 수 있으나, 이에 반드시 한정되지는 않고, 마스크 노광, 스캔 노광 등의 방법을 이용할 수 있다.
이후, 기판 표면 및 밀봉제(접착제)에 의해 구획된 완성된 셀갭내에 액정을 주입하고 주입구를 밀봉함으로써, 액정 표시장치를 제조한다. 상기 액정셀을 구성하는 기판의 다른면에는 편광판이 위치될 수 있으며, 이는 액정배향막의 액정배향 방향과 일치 또는 직교하도록 접합시킬 수 있다.
이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 일 실시예를 설명하면 다음과 같다.
도 2는 본 발명에 따른 일 실시예의 액정 표시 장치의 단면도이다.
도 2에 도시한 바와 같이, 제2 기판(110) 면에는 투명한 화소 전극(190)이 형성되어 있고, 화소 전극(190)은 ITO (indium-tin-oxide) 또는 IZO (induin-zinc-oxide) 등의 투명 도전막으로 형성되어 있다. 화소 전극(190)에는 그 일부가 제거된 화소 절개 패턴(191)이 형성되어 있다. 또한, 제2 기판과 소정 간격 이격되어, 제2 기판(110)과 마주 보도록 제1 기판(210)이 대응되어 있다.
상기 제1 기판(210)의 저면에는 외부 블랙 매트릭스(220a)와 내부 블랙 매트릭스(220b)가 형성되어 있다. 상기 외부 블랙 매트릭스(220a)는 매트릭스 형태로 형성되어 화소 영역(A)을 정의하며, 내부 블랙 매트릭스(220b)는 화소 영역(A) 내에 소정의 패턴으로 형성되어 있다.
상기 외부 및 내부 블랙 매트릭스(220a, 220b) 위에는 R, G, B 등의 색 필터(230)가 형성되어 있다. 이때, 색 필터(230)는 내부 블랙 매트릭스(220b)와 중접하는 부분에서 제거되어 있어서 내부 블랙 매트릭스(220b)를 노출하고 있다. 또한, 외부 블랙 매트릭스(220b)도 색과 색 사이의 경계에서는 색 필터(230)에 의하여 덮어지지 않고 노출될 수 있다. 색 필터(230)의 일부는 외부 및 내부 블랙 매트 릭스(220a, 220b)와 겹쳐져 외부 및 내부 블랙 매트릭스(220a, 220b)와 접촉하고 있고, 색 필터(230)의 나머지 대부분은 제1 기판(210)과 직접 접촉하고 있다.
상기 노출된 외부 및 내부 블랙 매트릭스(220a, 220b)와 색 필터(230)의 저면에는 투명한 기준 전극(270)이 형성되어 있다. 이때, 도면에는 생략하하였지만, 상기 색필터의 저면과 기준전극 사이에는 오버코트막이 형성되어 있다. 상기 내부 블랙 매트릭스(220b) 아래에서 기준 전극은 홈(291)으로 형성된다. 본 발명의 배향막(250)은 기준 전극(270)의 일면으로 소정 영역에 걸쳐 형성되어 있다.
또한, 상기 제1 기판(210)과 제2 기판(110) 사이에는 음의 유전율 이방성을 가지는 액정 분자(3)가 주입되어 있다. 즉, 도 2에 도시된 바와 같이, 화소 전극(190)과 기준 전극(270) 사이에 전압이 인가되지 않은 상태에서는 액정 분자(3)가 두 기판(110, 210) 면에 대해 수직하게 배열되어 있다.
상기 액정은 화소 전극(190)과 기준 전극(270)에 전압이 인가된 상태에서는 제2 및 제1 기판(110, 210) 사이에 전기장(E)이 형성된다. 이 경우, 화소 전극(190)의 화소 절개 패턴(191)과 내부 블랙 매트릭스(220b)와 중첩하는 위치에 형성되는 기준 전극(270)의 홈(291)으로 인하여, 전기장은 두 기판(110, 210)에 대하여 완전히 수직으로 형성되지 않고 기울기를 가지는 곡선 형태의 프린지 필드(fringe field)를 형성한다. 음의 유전율 이방성을 가지는 액정 분자(3) 들은 전기장의 방향에 수직한 방향으로 배열하려는 경향이 있으므로, 액정 분자(3)는 그 장축이 두 기판(110, 210) 표면에 대하여 기울어진 형태로 재배열하게 된다. 이렇게 되면, 화소 절개 패턴(191)과 기준전극의 홈(291)을 중심으로 하여 양쪽에서 액정 분자(3)의 기울어지는 방향이 반대로 되는 영역들이 생기게 되고 이 들 영역의 광학적 특성이 서로 보상되어 시야각이 넓어지게 된다.
또한, 상기 액정표시장치를 제조하는 공정은 당해분야에서 널리 알려진 내용이므로, 본 명세서에서 구체적인 설명은 생략하여도, 당해 분해에 종사하는 사람들에게 쉽게 이해될 수 있는 내용이다.
본 발명의 액정표시장치는 첨부된 도면에 도시된 일 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 보호범위는 첨부된 청구범위에 의해서만 정해져야 할 것이다.
따라서, 본 발명의 액정 배향막은 상기 능동방식(active matrix method)의 TFT 방식 액정표시장치, 능동방식(active matrix method)의 MIM 방식 액정표시장치, 능동방식(active matrix method)의 IPS (In-plane switching) 방식 액정표시장치, 단순메트릭스형(Simple matrix type) 트위스트 네마틱 (Twistnematic) 방식 액정표시장치, 단순메트릭스형(Simple matrix type) 슈퍼트위스트 네마틱(Super twist nematic) 방식 액정표시장치, 박막트랜지스터-트위스트 네마틱(TFT-TN) 액정표시장치, AOC(Array on color filter) 또는 COA(Color filter on array) 액정표시장치, 광학적으로 보정된 밴드(optically compensated bend) 모드의 액정표시장치 등에 적용될 수 있다.
이하, 실시예 및 비교예를 통하여 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다. 단, 하기 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것으로서 본 발명이 하기 실시예에 의하여 한정되는 것은 아니다.
[실시예 1, 2 및 비교예 1, 2]
상기 화학식 1의 화합물을 다음 표 1과 같은 농도가 되도록, N-메틸피롤리돈(NMP)와 부틸셀로솔브의 1:1 혼합용매에 용해시키고 미세기공을 갖는 여과막을 통과시켜 불순물을 제거하였다. 이후, 이 용액을 ITO 전극이 형성된 글래스 기판에 1000 Å 두께로 도포하고, 200 ℃에서 30분 정도 건조시켜 이미드화 반응을 진행하여 각각 비교예 1,2 및 실시예 1,2의 배향막을 제조하였다. 이후, 각 배향막에 대하여 러빙을 실시하고, 액정표시장치 제조공정에서 적용하여 통상의 방법으로 도 3의 장치를 이용한 ODF 공정을 실시한 후의 선경사각 및 적하 테스트를 하였고, 그 결과를 하기 표 1에 나타내었다. 또한, 비교예 2 및 실시예 1의 배향막에 대한 적하얼룩 정도를 도 1a 및 도 1b에 각각 나타내었다.
배향막 화학식 1의 함량 (몰%) 선경사각(pretilt angle) 적하얼룩
non-rubbing rubbing
비교예 1 13 90.0 88.1 중수준
비교예 2 5 90.0 85.5 강수준
실시예 1 40 90.0 90.0 -
실시예 2 20 90.0 89.6 -
상기 표 1 및 도 1a, 1b의 결과에서 알 수 있듯이, 본 발명의 실시예 1, 2의 경우 적하얼룩이 전혀 나타나지 않았으나(도 1b: 실시예 2), 도 1a에서 알 수 있듯이 비교예 2의 경우 적하얼룩이 많이 나타났다.
본 발명은 배향막에 포함되는 배향성분의 함량을 최적화함으로써, 액정표시장치 제조공정에서 액정에 의한 ODF 공정후의 적하 점얼룩을 최소화할 수 있어 적하마진을 향상시킬 수 있다.

Claims (6)

  1. 하기 화학식 1의 디아민 화합물, 산무수물 및 용매를 포함하며,
    상기 화학식 1의 디아민 화합물은 15 내지 40 몰%로 포함하는 액정배향막용 조성물:
    [화학식 1]
    Figure 112004036063411-PAT00005
    상기 화학식 1에서, R은 헤테로원자로 치환되거나 치환되지 않은 탄소수 10 내지 30의 포화 또는 불포화된 알킬기, 알릴기, 또는 방향족 탄화수소기이다.
  2. 제 1항에 있어서, 상기 화학식 1의 화합물은 20 내지 35 몰%로 포함되는 조성물.
  3. 제 1항에 있어서, 상기 용매는 극성용매 및 비극성 용매로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 하나 이상인 조성물.
  4. 제 3항에 있어서, 상기 용매는 감마-부티로락톤, N-메틸피롤리돈(NMP), N-에틸피롤리돈, N-비닐피롤리돈, N,N-디메틸아세트아미드, N,N-디메틸포름아미드, 에 틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 에틸카비톨, 부틸카비톨(BC), 에틸카비톨아세테이트, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜모노아세테이트, 프로필렌글리콜디아세테이트, 디프로필렌글리콜, 및 디프로필렌글리콜모노메틸에테르로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 하나 이상인 것인 조성물.
  5. 제 1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 따른 액정배향막용 조성물을 투명전극이 형성된 기판에 도포하고 경화하여 제조된 액정 배향막.
  6. 제 5항에 따른 액정 배향막을 포함하는 액정표시장치.
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