KR20050123136A - 반응성 염료의 혼합물 및 이의 용도 - Google Patents

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Abstract

하나 이상의 화학식 1의 염료와 하나 이상의 화학식 2의 염료를 포함하는 염료 혼합물은 우수한 빌드업 거동을 갖는 셀룰로즈 섬유 재료를 염색 또는 날염하는 데 적합하며, 견뢰도가 우수한 진한 색상의 염색을 생성한다.
화학식 1
화학식 2
위의 화학식 1 및 2에서,
R1, R2, (R3)0-3, (R4)0-3, D1, D2, Y1 및 Y2는 본원 명세서 및 제1항에서 정의한 바와 같다.

Description

반응성 염료의 혼합물 및 이의 용도 {Mixtures of reactive dyes and their use}
본 발명은 질소 함유 또는 하이드록시 그룹 함유 섬유 재료를 염색 또는 날염하는 데 적합하고 견뢰도가 다방면으로 우수한 염색물 또는 날염물을 생성하는 반응성 염료의 혼합물에 관한 것이다.
최근 염색을 수행하는 데 있어서 염색물의 품질 및 염색 공정의 유익성에 대한 요구가 점점 높아지고 있다. 그 결과, 특히 이들의 적용시 우수한 특성을 갖는 신규하고 쉽게 이용 가능한 염색 조성물에 대한 요구가 계속되고 있다.
오늘날, 염색에는, 예를 들면, 충분한 직접성을 갖는 동시에 비고착 염료의 세정 용이성이 우수한 반응성 염료가 요구되고 있다. 이들은 또한 우수한 착색 수율과 높은 반응성을 나타내여야 하며, 이의 목적은 특히 높은 고착도를 갖는 염색물을 수득하는 것이다. 다수의 경우에, 반응성 염료의 빌드-업(build-up) 거동은, 특히 매우 짙은 색상을 염색하는 경우에, 요구를 충족시키기에 불충분하다.
따라서, 본 발명에 내재하는 문제는 섬유 재료를 염색 및 날염하는 데 특히 적합하고 상기한 특성을 높은 수준으로 나타내는 신규한 반응성 염료의 혼합물을 제공하는 것이다. 또한, 염료는 견뢰도가 다방면으로 우수한, 예를 들면, 일광견뢰도 및 습윤견뢰도가 우수한 염색물을 생성하여야 한다.
따라서, 본 발명은 하나 이상의 화학식 1의 염료와 하나 이상의 화학식 2의 염료를 포함하는 염료 혼합물에 관한 것이다.
위의 화학식 1 및 2에서,
R1 및 R2는 각각 서로 독립적으로 수소 또는 치환되거나 치환되지 않은 C1-C8 알킬이고,
(R3)0-3 및 (R4)0-3은 각각 서로 독립적으로 할로겐, C1-C4 알킬, C1-C4 알콕시, 카복시 및 설포로 이루어진 그룹으로부터 선택된 동일하거나 상이한 0 내지 3개의 치환체이며,
D1 및 D2는 각각 서로 독립적으로 벤젠 또는 나프탈렌 계열의 디아조 성분의 라디칼이고,
r 및 s는 각각 서로 독립적으로 0 또는 1이며, r과 s의 합은 1 또는 2이고,
Y1 및 Y2는 각각 서로 독립적으로 화학식 3a, 3b, 3c, 3d, 3e 또는 3f의 섬유 반응성 라디칼이거나, 비-섬유 반응성 치환체 또는 화학식 4a, 4b, 4c, 4d 또는 4e의 섬유 반응성 라디칼이되,
라디칼 Y1 및 Y2 중의 적어도 하나는 화학식 3f의 라디칼이고,
화학식 2의 염료는 화학식 의 염료(여기서, X*는 불소이고, β-설페이토에틸설포닐 그룹은 4위치에 결합되어 있거나, X*는 염소이고, β-설페이토에틸설포닐 그룹은 3위치에 결합되어 있다)는 아니다.
-SO2-Z
-NH-CO-(CH2)m-SO2-Z
-CONH-(CH2)n-SO2-Z
-NH-CO-CH(Hal)-CH2-Hal
-NH-CO-C(Hal)=CH2
-NH-(CH2)2-3-SO2-Z
-NH-(CH2)2-3-O-(CH2)2-3-SO2-Z
위의 화학식 3a 내지 4e에서,
X는 할로겐이고,
T는 독립적으로 X와 동일한 정의를 나타내며,
(R5)0-2는 할로겐, C1-C4 알킬, C1-C4 알콕시 및 설포로 이루어진 그룹으로부터 선택된 동일하거나 상이한 0 내지 2개의 치환체이고,
Z는 비닐 또는 -CH2-CH2-U의 라디칼(여기서, U는 알칼리 조건하에서 제거 가능한 그룹이다)이며,
Q는 -CH(Hal)-CH2-Hal 또는 -C(Hal)=CH2의 그룹이고,
m 및 n은 각각 서로 독립적으로 2, 3 또는 4이며,
Hal은 할로겐이다.
화학식 4c의 라디칼에서, Me는 메틸 라디칼이고, Et는 에틸 라디칼이다. 명시한 라디칼은, 수소 이외에, 질소원자 상의 치환체로서 고려된다.
서로 독립적으로 R1 및 R2에서, C1-C8 알킬로서는, 예를 들면, 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 2급 부틸, 3급 부틸, 이소부틸, n-펜틸, n-헥실, n-헵틸 또는 n-옥틸이 고려된다. C1-C4 알킬 라디칼이 바람직하다. 상기한 알킬 라디칼은 치환되지 않거나, 예를 들면, 하이드록시, 설포, 설페이토, 시아노, 카복시, C1-C4 알콕시 또는 페닐로 치환되거나, 바람직하게는 하이드록시, 설페이토, C1-C4 알콕시 또는 페닐로 치환될 수 있다. 상응하는 치환되지 않은 라디칼이 바람직하다.
서로 독립적으로 R3, R4 및 R5에서, C1-C4 알킬로서는, 예를 들면, 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, 2급 부틸, 3급 부틸 또는 이소부틸, 바람직하게는 메틸 또는 에틸, 특히 메틸이 고려된다.
서로 독립적으로 R3, R4 및 R5에서, C1-C4 알콕시로서는, 예를 들면, 메톡시, 에톡시, n-프로폭시, 이소프로폭시, n-부톡시 또는 이소부톡시, 바람직하게는 메톡시 또는 에톡시, 특히 메톡시가 고려된다.
서로 독립적으로 R3, R4 및 R5에서, 할로겐으로서는, 예를 들면, 불소, 염소 또는 브롬, 바람직하게는 염소 또는 브롬, 특히 염소가 고려된다.
바람직하게는, R1 및 R2 중의 하나는 수소이고, 다른 하나는 상기한 치환되거나 치환되지 않은 C1-C8 알킬 라디칼 중의 하나이다.
R1 및 R2는 특히 수소이다.
(R3)0-3 및 (R4)0-3은 각각 서로 독립적으로, 바람직하게는 C1-C4 알킬, C1-C4 알콕시 및 설포로 이루어진 그룹으로부터 선택된 동일하거나 상이한 0 내지 3개의 치환체이다. 바람직한 양태에서, R3 및 R4는 각각 설포 그룹이다.
(R5)0-2는 바람직하게는 C1-C4 알킬, C1-C4 알콕시 및 설포로 이루어진 그룹으로부터 선택된 동일하거나 상이한 0 내지 2개의 치환체, 특히 메틸, 메톡시 및 설포이다.
R5는 특히 수소이다.
본 발명에 따르는 염료 혼합물에서 라디칼 D1 및 D2는 아조 염료에 대해 통상적인 치환체를 포함할 수 있다.
언급할 수 있는 치환체의 예로는 다음의 것이 포함된다: 탄소수 1 내지 12, 특히 탄소수 1 내지 4의 알킬 그룹, 예를 들면, 메틸, 에틸, n- 또는 이소-프로필 또는 n-, 이소-, 2급 또는 3급 부틸, 탄소수 1 내지 8, 특히 탄소수 1 내지 4의 알콕시 그룹, 예를 들면, 메톡시, 에톡시, n- 또는 이소-프로폭시 또는 n-, 이소-, 2급 또는 3급 부톡시, 알킬 잔기가, 예를 들면, 하이드록시, C1-C4 알콕시 또는 설페이토로 치환된 C1-C4 알콕시, 예를 들면, 2-하이드록시에톡시, 3-하이드록시프로폭시, 2-설페이토에톡시, 2-메톡시에톡시 또는 2-에톡시에톡시, 탄소수 2 내지 8의 알카노일아미노 그룹, 특히 C2-C4 알카노일아미노 그룹, 예를 들면, 아세틸아미노 또는 프로피오닐 아미노, 벤조일아미노 또는 C2-C4 알콕시카보닐아미노 그룹, 예를 들면, 메톡시카보닐아미노 또는 에톡시카보닐아미노, 아미노, 각각 알킬 잔기가, 예를 들면, 하이드록시, 설포, 설페이토 또는 C1-C4 알콕시로 치환되거나 치환되지 않은 N-모노- 또는 N,N-디-C1-C4 알킬아미노, 예를 들면, 메틸아미노, 에틸아미노, N,N-디메틸- 또는 N,N-디에틸아미노, 설포메틸아미노, β-하이드록시에틸아미노, N,N-디(β-하이드록시에틸아미노), N-β-설페이토에틸아미노, 페닐 잔기가 메틸, 메톡시, 할로겐 또는 설포로 치환되거나 치환되지 않은 페닐아미노, 알킬 잔기가 하이드록시, 설포 또는 설페이토로 치환되거나 치환되지 않거나 페닐 잔기가 메틸, 메톡시, 할로겐 또는 설포로 치환된 N-C1-C4 알킬-N-페닐아미노, 예를 들면, N-메틸-N-페닐아미노, N-에틸-N-페닐아미노, N-β-하이드록시에틸-N-페닐아미노 또는 N-β-설포에틸-N-페닐아미노, 설포로 치환되거나 치환되지 않은 나프틸아미노, 탄소수 2 내지 8, 특히 탄소수 2 내지 4의 알카노일 그룹, 예를 들면, 아세틸 또는 프로피오닐, 벤조일, 알콕시 라디칼의 탄소수가 1 내지 4인 알콕시카보닐, 예를 들면, 메톡시카보닐 또는 에톡시카보닐, 탄소수 1 내지 4의 알킬설포닐, 예를 들면, 메틸설포닐 또는 에틸설포닐, 페닐- 또는 나프틸-설포닐, 트리플루오로메틸, 니트로, 시아노, 하이드록시, 할로겐, 예를 들면, 불소, 염소 또는 브롬, 카바모일, N-C1-C4 알킬카바모일, 예를 들면, N-메틸카바모일 또는 N-에틸카바모일, 설파모일, N-C1-C4 알킬설파모일, 예를 들면, N-메틸설파모일, N-에틸설파모일, N-프로필설파모일, N-이소프로필설파모일 또는 N-부틸설파노일, N-(β-하이드록시에틸)설파모일, N,N-디(β-하이드록시에틸)설파모일, N-페닐설파모일, 우레이도, 카복시, 설포메틸, 설포 또는 설페이토 및 섬유 반응성 라디칼. 알킬 라디칼은 추가로 산소(-O-) 또는 아미노 그룹(-NH-, -N(C1-C4 알킬)-)에 의해 차단될 수 있다.
본 발명의 바람직한 양태에서, 라디칼 D1 및 D2 중의 적어도 하나는 하나 이상의 섬유 반응성 그룹을 갖는다.
본 발명의 추가의 바람직한 양태에서, 라디칼 D1 및 D2 각각은 하나 이상의 섬유 반응성 그룹을 갖는다.
섬유 반응성 라디칼이란 셀룰로즈의 하이드록시 그룹, 울 및 실크의 아미노, 카복시, 하이드록시 및 티올 그룹 및 가능하게는 합성 폴리아미드의 카복시 그룹과 반응하여 공유 화학결합을 형성할 수 있는 라디칼로서 이해해야 한다. 섬유 반응성 라디칼은 일반적으로 직접 또는 브릿징 구성원을 통해 염료 라디칼에 결합된다. 적합한 섬유 반응성 라디칼은, 예를 들면, 지방족, 방향족 또는 헤테로사이클릭 라디칼상에 하나 이상의 제거 가능한 치환체를 갖는 라디칼 또는 상기한 라디칼이 섬유 재료와 반응하기에 적합한 라디칼(예를 들면, 비닐 라디칼)을 함유하는 라디칼이다.
이러한 섬유 반응성 라디칼은 자체 공지되어 있으며, 다수가 문헌(참조; Venkataraman "The Chemistry of Synthetic Dyes" volume 6, pages 1-209, Academic Press, New York, London 1972) 또는 미국 특허 제5,684,138호에 기재되어 있다.
D1 및 D2는 바람직하게는 각각 서로 독립적으로 화학식 5의 라디칼이다.
위의 화학식 5에서,
(R6)0-3은 할로겐, C1-C4 알킬, C1-C4 알콕시, 카복시, 니트로 및 설포, 특히 할로겐, C1-C4 알킬, C1-C4 알콕시 및 설포로 이루어진 그룹으로부터 선택된 동일하거나 상이한 0 내지 3개의 치환체이고,
Y3은 상기한 화학식 3a, 3b, 3c, 3d, 3e 또는 3f의 라디칼이다.
화학식 3f의 섬유 반응성 라디칼에서, X는, 예를 들면, 불소, 염소 또는 브롬이고, 바람직하게는 불소 또는 염소이며, 특히 염소이다.
T는 바람직하게는 비-섬유 반응성 치환체 또는 화학식 4a, 4b, 4c, 4d 또는 4e의 섬유 반응성 라디칼이며, 특히 화학식 4a, 4b, 4c, 4d 또는 4e의 섬유 반응성 라디칼이다.
T가 비-섬유 반응성 치환체인 경우, 치환체는, 예를 들면, 하이드록시, C1-C4 알콕시, 치환되지 않거나, 예를 들면, 하이드록시, 카복시 또는 설포로 치환된 C1-C4 알킬티오, 아미노, C1-C8 알킬로 일치환 또는 이치환된 아미노(여기서, 알킬은 치환되지 않거나, 예를 들면, 설포, 설페이토, 하이드록시, 카복시 또는 페닐, 특히 설포 또는 하이드록시로 추가로 치환되고, 라디칼 -O-로 1회 이상 차단될 수 있다), 사이클로헥실아미노, 모르폴리노, N-C1-C4 알킬-N-페닐아미노 또는 페닐아미노 또는 나프틸아미노(여기서, 페닐 또는 나프틸은, 예를 들면, C1-C4 알킬, C1-C4 알콕시, 카복시, 설포 또는 할로겐으로 치환되거나 치환되지 않는다)일 수 있다.
적합한 비-섬유 반응성 치환체 T의 예는 아미노, 메틸아미노, 에틸아미노, β-하이드록시에틸아미노, N-메틸-N-β-하이드록시에틸아미노, N-에틸-N-β-하이드록시에틸아미노, N,N-디-β-하이드록시에틸아미노, β-설포에틸아미노, 사이클로헥실아미노, 모르폴리노, 2-, 3- 또는 4-클로로페닐아미노, 2-, 3- 또는 4-메틸페닐아미노, 2-, 3- 또는 4-메톡시페닐아미노, 2-, 3- 또는 4-설포페닐아미노, 디설포페닐아미노, 2-, 3- 또는 4-카복시페닐아미노, 1- 또는 2-나프틸아미노, 1-설포-2-나프틸아미노, 4,8-디설포-2-나프틸아미노, N-에틸-N-페닐아미노, N-메틸-N-페닐아미노, 메톡시, 에톡시, n- 또는 이소-프로폭시 및 하이드록시이다.
비-섬유 반응성 치환체로서, T는 바람직하게는 C1-C4 알콕시, 치환되지 않거나 하이드록시, 카복시 또는 설포로 치환된 C1-C4 알킬티오, 하이드록시, 아미노, 각각 알킬 잔기가 하이드록시, 설페이토 또는 설포로 치환되거나 치환되지 않은 N-모노- 또는 N,N-디-C1-C4 알킬아미노, 모르폴리노, 페닐 환이 설포, 카복시, 아세틸아미노, 염소, 메틸 또는 메톡시로 치환되거나 치환되지 않은 페닐아미노 또는 동일한 방식으로 치환되거나 치환되지 않은 N-C1-C4 알킬-N-페닐아미노(여기서, 알킬은 치환되지 않거나 하이드록시, 설포 또는 설페이토로 치환된다) 또는 1 내지 3개의 설포 그룹으로 치환되거나 치환되지 않은 나프틸아미노이다.
특히 바람직한 비-섬유 반응성 치환체 T는 아미노, N-메틸아미노, N-에틸아미노, N-β-하이드록시에틸아미노, N-메틸-N-β-하이드록시에틸아미노, N-에틸-N-β-하이드록시에틸아미노, N,N-디-β-하이드록시에틸아미노, β-설포에틸아미노, 모르폴리노, 2-, 3- 또는 4-카복시페닐아미노, 2-, 3- 또는 4-설포페닐아미노 및 N-C1-C4 알킬-N-페닐아미노이다.
화학식 4a 및 4b의 섬유 반응성 라디칼 T의 경우에, Z는 바람직하게는 β-클로로에틸이다. 화학식 4c 및 4d의 섬유 반응성 라디칼 T의 경우에, Z는 바람직하게는 비닐 또는 β-설페이토에틸이다.
T가 섬유 반응성 라디칼인 경우, T는 바람직하게는 화학식 4c 또는 4d의 라디칼, 특히 화학식 4c의 라디칼이다.
화학식 3d, 3e 및 4e의 섬유 반응성 라디칼에서 Hal은 바람직하게는 염소 또는 브롬, 특히 브롬이다.
이탈 그룹 U로서, 예를 들면, -Cl, -Br, -F, -OSO3H, -SSO3H, -OCO-CH3, -OPO3H2, -OCO-C6H5, -OSO2-C1-C4 알킬 또는 -OSO2-N(C1-C4 알킬)2를 고려할 수 있다. U는 바람직하게는 화학식 -Cl, -OSO3H, -SSO3H, -OCO-CH3, -OCO-C6H5 또는 -OPO3H2의 그룹, 특히 -Cl 또는 -OSO3H, 바람직하게는 -OSO3H이다.
따라서, 적당한 라디칼 Z의 예는 비닐, β-브로모- 또는 β-클로로-에틸, β-아세톡시에틸, β-벤조일옥시에틸, β-포스페이토에틸, β-설페이토에틸 및 β-티오설페이토에틸이다. Z는 바람직하게는 비닐, β-클로로에틸 또는 β-설페이토에틸이다.
D1 및 D2는 각각 서로 독립적으로 바람직하게는 화학식 5a 내지 5e의 라디칼, 특히 화학식 5a, 5b 또는 5c의 라디칼이다.
위의 화학식 5a 내지 5e에서,
(R6a)0-2는 할로겐, C1-C4 알킬, C1-C4 알콕시 및 설포, 특히 메틸, 메톡시 및 설포로 이루어진 그룹으로부터 선택된 동일하거나 상이한 0 내지 2개의 치환체이고,
Y3a는 α,β-디브로모프로피오닐아미노 또는 α-브로모아크릴로일아미노이며,
m은 2 또는 3, 특히 3이고,
n은 2 또는 3, 특히 2이며,
Z1, Z2, Z3 및 Z4는 각각 서로 독립적으로 비닐, β-클로로에틸 또는 β-설페이토에틸이다.
Z1 및 Z2는 각각 서로 독립적으로 바람직하게는 비닐 또는 β-설페이토에틸이다.
Z3은 바람직하게는 β-클로로에틸 또는 β-설페이토에틸, 특히 β-클로로에틸이다.
Z4는 바람직하게는 β-클로로에틸 또는 β-설페이토에틸, 특히 β-설페이토에틸이다.
r 및 s는 각각 바람직하게는 1이고, r+s의 합계는 2이다.
R1 및 R2가 수소이고, D1 및 D2가 각각 서로 독립적으로 화학식 5a, 5b, 5c, 5d 또는 5e의 라디칼, 바람직하게는 화학식 5a, 5b 또는 5e의 라디칼, 특히 화학식 5a의 라디칼인 화학식 1의 염료가 바람직하다.
화학식 1의 염료에서 라디칼 D1 및 D2는 동일하거나 상이하며, 동일하지 않은 것이 바람직하다.
R1 및 R2가 수소이고, D1이 화학식 5aa의 라디칼이며, D2가 화학식 5ab의 라디칼인 화학식 1의 염료가 특히 바람직하다.
위의 화학식 5aa 및 5ab에서,
R6a 및 R6b는 각각 서로 독립적으로 메틸 또는 메톡시이고,
R6a는 특히 메틸이고, R6b는 특히 메톡시이며,
Z1a 및 Z1b는 각각 서로 독립적으로 비닐, β-클로로에틸 또는 β-설페이토에틸이다.
또한, 화학식 1의 염료는 하나 이상의 화학식 1a 및 1b의 화합물과 하나 이상의 화학식 1c 및 1d의 화합물을 포함하는 염료 혼합물일 수 있다.
위의 화학식 1a 내지 1d에서,
D1 및 D2는 동일하지 않고,
R1, R2, D1 및 D2는 상기한 정의 및 바람직한 의미를 갖는다.
(R3)0-3 및 (R4)0-3이 상기한 정의 및 바람직한 의미를 갖고, r과 s가 각각 1이고, r+s의 합계가 2이며, 섬유 반응성 라디칼 Y1 및 Y2 중의 하나가 화학식 3a, 3b, 3c, 3d 또는 3e의 라디칼이고, 섬유 반응성 라디칼 Y1 및 Y2 중의 다른 하나가 화학식 3f의 라디칼이며, Y1이 특히 화학식 3f의 라디칼이고, Y2가 특히 화학식 3a, 3b, 3c, 3d 또는 3e의 라디칼, 보다 특히 3a의 라디칼(여기서, 상기한 정의 및 바람직한 의미가 화학식 3a, 3b, 3c, 3d, 3e 또는 3f의 섬유 반응성 라디칼에 적용된다)인 화학식 2의 염료가 바람직하다. 바람직한 양태에서, R3 및 R4는 각각 설포 그룹이다.
특히 바람직한 화학식 2의 염료는 화학식 2a의 염료이다.
위의 화학식 2에서,
(R3)0-2 및 (R4)0-2는 각각 서로 독립적으로 C1-C4 알킬, C1-C4 알콕시 및 설포, 특히 메틸, 메톡시 및 설포로 이루어진 그룹으로부터 선택된 동일하거나 상이한 0 내지 2개의 치환체이고,
섬유 반응성 라디칼 Y1 및 Y2 중의 하나는 화학식 3a, 3b, 3c, 3d 또는 3e의 라디칼이고, 섬유 반응성 라디칼 Y1 및 Y2 중의 다른 하나는 화학식 3f의 라디칼이며, Y1은 특히 화학식 3f의 라디칼이고, Y2는 특히 화학식 3a, 3b, 3c, 3d 또는 3e의 라디칼, 보다 특히 3a의 라디칼(여기서, 상기한 정의 및 바람직한 의미가 화학식 3a, 3b, 3c, 3d, 3e 또는 3f의 섬유 반응성 라디칼에 적용된다)이다.
보다 특히 바람직한 화학식 2의 염료는 화학식 2aa의 염료이다.
위의 화학식 2aa에서,
X는 할로겐, 특히 염소이고,
Z5 및 Z6은 각각 서로 독립적으로 Z에 대해 앞서 제공된 정의 및 바람직한 의미를 나타내며, 특히 비닐 또는 β-설페이토에틸이다.
본 발명에 따르는 염료 혼합물은, 예를 들면, 각각의 염료를 혼합하여 제조할 수 있다. 혼합 공정은, 예를 들면, 적당한 밀, 예를 들면, 볼 밀 또는 핀 밀, 및 혼련기 또는 혼합기 속에서 수행한다.
화학식 1 및 화학식 2의 염료의 일부는 공지되어 있거나, 자체 공지된 방법에 따라 제조할 수 있다. 화학식 1의 염료, 및 화학식 1a, 1b, 1c 및 1d의 염료의 혼합물은, 예를 들면, 제WO-A-00/06652호에 기재되어 있다. 화학식 2의 염료는, 예를 들면, 미국 특허 제4,622,390호에 기재되어 있다.
본 발명은 또한 상기한 신규한 화학식 2aa의 염료(여기서, 상기한 정의 및 바람직한 의미가 X, Z5 및 Z6에 적용된다)에 관한 것이기도 하다.
본 발명에 따르는 화학식 2aa의 염료는, 예를 들면, 화학식 6 내지 10의 화합물을 각각 약 1몰당량으로 서로 적당한 순서로 반응시킴으로써 제조된다.
위의 화학식 6 내지 10에서,
X, Z5 및 Z6은 각각 상기한 정의 및 바람직한 의미를 갖는다.
화학식 9의 시아누르산 할라이드로서 적합한 것은 시아누르산 클로라이드 또는 시아누르산 플루오라이드, 특히 시아누르산 클로라이드이다.
상기한 공정 단계를 상이한 순서로, 경우에 따라 동시에 수행할 수 있기 때문에, 상이한 공정 변수가 가능하다. 일반적으로, 반응은 단계별로 수행하며, 각 반응 성분들간의 단순 반응이 유리하게 수행되는 순서는 특정 조건에 따라 선택된다. 바람직한 양태에서,
(i) 화학식 6의 화합물 약 1몰당량을 디아조화시켜 화학식 7의 화합물 약 1몰당량과 커플링시키고;
(ii) 화학식 8의 화합물 약 1몰당량을 화학식 9의 화합물 약 1몰당량과 축합시키며;
(iii) 화학식 10의 화합물 약 1몰당량을 (ii)에 따라 수득된 화합물 약 1몰당량과 반응시켜 2차 축합 생성물을 형성하고;
(iv) (iii)에 따라 수득된 2차 축합 생성물 약 1몰당량을 디아조화시켜 (i)에 따라 수득된 화합물과 커플링시킨다.
디아조화와 커플링화는 통상의 방법으로, 예를 들면, 화학식 6의 화합물과 (iii)에 따라 수득된 2차 축합 생성물을 저온(예를 들면, 0 내지 5℃)에서 무기 산 용액(예를 들면, 염산 용액) 속에서 아질산염(예를 들면, 아질산나트륨)으로 아조화시킨 다음 중성 내지 약산성 매질 속에서, 예를 들면, pH 3 내지 7, 바람직하게는 pH 3 내지 4 또는 pH 5.5 내지 6.5 및 저온(예를 들면, 0 내지 30℃)에서 적당한 커플링 성분과 커플링시킴으로써 수행한다.
축합 반응은, 예를 들면, 0 내지 50℃의 온도와 예를 들면, 3 내지 10의 pH에서 수용액 속에서 공지된 공정과 유사하게 수행하는 것이 일반적이다.
화학식 6, 7, 8, 9 및 10의 화합물은 공지되어 있거나, 공지된 화합물과 유사하게 제조할 수 있다.
본 발명에 따르는 염료 혼합물 중의 화학식 1 및 2의 반응성 염료는 살포 그룹을 함유하는데, 이는 각각 유리 설폰산 형태로 존재하거나, 바람직하게는 염 형태, 예를 들면, 나트륨, 리튬, 칼륨 또는 암모늄 염 또는 유기 아민의 염, 예를 들면, 트리에탄올암모늄 염의 형태로 존재한다.
따라서, 염료 혼합물 중의 화학식 1 또는 2의 반응성 염료는 또한 추가의 첨가제, 예를 들면, 염화나트륨 또는 덱스트린을 포함할 수 있다.
화학식 1 또는 2의 염료는, 예를 들면, 1:99 내지 99:1, 바람직하게는 5:95 내지 95:5, 특히 10:90 내지 90:10의 중량비로 본 발명에 따르는 염료 혼합물 중에 존재한다.
경우에 따라, 본 발명에 따르는 염료 혼합물 및 본 발명에 따르는 화학식 2 aa의 반응성 염료는, 예를 들면, 취급을 개선시키거나 저장 안정성을 증가시키는 추가의 보조제, 예를 들면, 완충제, 분산제 또는 분진제거제를 포함할 수 있다. 이러한 보조제는 당해 기술분야의 숙련가들에게 공지되어 있다.
본 발명에 따르는 염료 혼합물 및 본 발명에 따르는 화학식 2aa의 염료는 매우 광범위하게 다양한 재료, 예를 들면, 하이드록실 그룹 함유 또는 질소 함유 섬유 재료를 염색 및 날염하는 데 적합하다. 예는 실크, 가죽, 울, 폴리아미드 섬유 및 폴리우레탄과 특히 모든 종류의 셀룰로즈 섬유 재료이다. 이러한 셀룰로즈 섬유 재료는, 예를 들면, 면, 리넨 및 대마와 같은 천연 셀룰로즈 섬유와 또한 셀룰로즈 및 재생 셀룰로즈이다. 본 발명에 따르는 염료 혼합물 및 본 발명에 따르는 염료는 블렌드 섬유, 예를 들면, 면과 폴리에스테르 섬유 또는 포릴아미드 섬유와의 혼합물에 존재하는 하이드록실 그룹 함유 섬유를 염색 또는 날염하는 데에도 적합하다. 본 발명에 따르는 염료 혼합물 및 본 발명에 따르는 염료는 셀룰로즈 섬유 재료, 특히 면을 함유하는 섬유 재료를 염색 또는 날염하는 데 특히 적합하다. 이들은 또한 천연 또는 합성 폴리아미드 섬유 재료를 염색 또는 날염하는 데 사용될 수 있다.
따라서, 본 발명은 하이드록실 그룹 함유 또는 질소 함유 섬유 재료, 특히 셀룰로즈 섬유 재료를 염색 또는 날염하는 데 있어서의 본 발명에 따르는 염료 혼합물 및 본 발명에 따르는 화학식 2aa의 염료의 용도에 관한 것이기도 하다.
본 발명에 따르는 염료 혼합물 및 본 발명에 따르는 화학식 2aa의 염료는 다양한 방법으로, 특히 수성 염료 용액 및 날염호의 형태로 섬유 재료에 적용하여 섬유에 고착시킬 수 있다. 이들은 침염 공정(exhaust process) 및 패드-염색 공정에 따른 염색 둘 다에 적합하며, 이러한 공정에 따르면 상품을 수성(경우에 따라 염 함유) 염료 용액에 함침시키고, 알칼리 처리 후 또는 알칼리 존재하에, 경우에 따라, 열의 작용에 의해 또는 실온에서 수 시간 동안 저장함으로써 염료를 고착시킨다. 고착시킨 후, 염색물 또는 날염물을, 경우에 따라 분산제로서 작용하고 비고착 염료의 확산을 촉진시키는 제제를 첨가하여, 냉수 및 열수로 철저히 세정한다.
본 발명에 따르는 염료 혼합물 및 본 발명에 따르는 염료는 높은 반응성, 우수한 고착 성능 및 매우 우수한 빌드업 성능을 특징으로 한다. 따라서, 이들은 낮은 염색 온도에서 침염 공정에 사용될 수 있으며 패드-스팀 공정에서는 단지 단시간의 스팀 처리를 필요로 한다. 고착도가 높으며, 비고착 염료를 쉽게 세척하여 제거할 수 있고, 침염도와 고착도 간의 차이가 현저하게 작으며, 즉 비누화 손실이 매우 작다. 또한, 본 발명에 따르는 염료 혼합물 및 본 발명에 따르는 염료는 특히 면을 날염하고, 질소 함유 섬유, 예를 들면, 울 또는 실크, 또는 울이나 실크를 함유하는 블렌드 섬유를 날염하는 데에도 특히 적합하다.
본 발명에 따르는 염료 혼합물 및 본 발명에 따르는 염료를 사용하여 제조된 염색물 및 날염물은 산성 및 알칼리 범위 둘 다에서 높은 착색 강도와 높은 섬유-염료 결합 안정성을 가질 뿐만 아니라 우수한 일광견뢰도 및 매우 우수한 습윤견뢰도, 예를 들면, 세탁견뢰도, 수분견뢰도, 해수견뢰도, 이색염색(cross-dyeing)견뢰도 및 발한견뢰도와 주름, 열압축 및 마찰에 대한 우수한 견뢰도를 갖는다. 수득된 염색은 섬유 균염성과 표면 균염성을 나타낸다.
본 발명에 따르는 염료 혼합물 및 본 발명에 따르는 화학식 2aa의 염료는 또한 기록 시스템에 사용하기 위한 착색제로서 적합하다. 이러한 기록 시스템은, 예를 들면, 종이 또는 텍스타일 인쇄용 시판 잉크젯 프린터 또는 집필 도구, 예를 들면, 만년필 및 볼펜, 특히 잉크젯 프린터이다. 이러한 목적으로, 본 발명에 따르는 염료 혼합물 또는 본 발명에 따르는 염료를 먼저 기록 시스템에 사용하기에 적합한 형태로 만든다. 적합한 형태는, 예를 들면, 본 발명에 따르는 염료 혼합물 또는 본 발명에 따르는 염료를 착색제로서 포함하는 수성 잉크이다. 잉크는 각각의 구성분들을 목적하는 양의 물 속에서 함께 혼합함으로써 통상의 방법으로 제조할 수 있다.
고려할 수 있는 기재에는 앞서 명시한 하이드록실 그룹 함유 또는 질소 함유 섬유 재료, 특히 셀룰로즈 섬유 재료가 포함된다. 기재는 바람직하게는 텍스타일 섬유 재료이다.
종이 또는 플라스틱 필름도 기재로서 적합하다.
언급할 수 있는 종이의 예는 시판 잉크젯지, 사진지, 광택지, 플라스틱-피복지, 예를 들면, 엡손(Epson) 잉크젯지, 엡손 사진지, 엡손 광택지, 엡손 광택 필름, HP 특수 잉크젯지, 앤캐드(Encad) 사진 광택지, 일포드(Ilford) 사진지를 포함한다. 플라스틱 필름은, 예를 들면, 투명하거나 혼탁/불투명하다. 적합한 플라스틱 필름은, 예를 들면, 3M 투명 필름이다.
사용 유형(예를 들면, 텍스타일 날염 또는 종이 인쇄)에 따라, 예를 들면, 잉크의 점도 또는 기타 물리적 특성, 이에 따라 특히 해당 기재에 대한 친화력에 영향을 미치는 특성들을 조절하는 것이 필요할 수 있다.
수성 잉크에 사용되는 염료는 바람직하게는 염 함량이 낮아야 하는데, 즉 이들은 총 염 함량이, 염료의 중량을 기준으로 하여, 0.5중량% 미만이어야 한다. 이들의 제조 결과 및/또는 희석제의 후속적인 첨가 결과로서 비교적 높은 염 함량을 갖는 염료는, 예를 들면, 한외여과, 역삼투 또는 투석과 같은 막 분리 과정에 의해 탈염시킬 수 있다.
잉크의 총 염료 함량은, 잉크의 총 중량을 기준으로 하여, 바람직하게는 1 내지 35중량%, 특히 1 내지 30중량%, 바람직하게는 1 내지 20중량%이다. 하한치로서, 제한치가 1.5중량%, 바람직하게는 2중량%, 특히 3중량%가 바람직하다.
잉크는 수-혼화성 유기 용매, 예를 들면, 메탄올, 에탄올, n-프로판올, 이소프로판올, n-부탄올, 2급 부탄올, 3급 부탄올 및 이소부탄올과 같은 C1-C4 알콜; 아미드, 예를 들면, 디메틸포름아미드 및 디메틸아세트아미드; 케톤 또는 케톤 알콜, 예를 들면, 아세톤 및 디아세톤 알콜; 에테르, 예를 들면, 테트라하이드로푸란 및 디옥산; 질소 함유 헤테로사이클릭 화합물, 예를 들면, N-메틸-2-피롤리돈 및 1,3-디메틸-2-이미다졸리돈; 폴리알킬렌 글리콜, 예를 들면, 폴리에틸렌 글리콜 및 폴리프로필렌 글리콜; C2-C6 알킬렌 글리콜 및 티오글리콜, 예를 들면, 에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜, 부틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 티오디글리콜, 헥실렌 글리콜 및 디에틸렌 글리콜; 추가의 폴리올, 예를 들면, 글리세롤 및 1,2,6-헥산트리올; 및 다가 알콜의 C1-C4 알킬 에테르, 예를 들면, 2-메톡시에탄올, 2-(2-메톡시에톡시)에탄올, 2-(2-에톡시에톡시)에탄올, 2-[2-(2-메톡시에톡시)에톡시]에탄올 및 2-[2-(2-에톡시에톡시)에톡시]에탄올; 바람직하게는 N-메틸-2-피롤리돈, 디에틸렌 글리콜, 글리세롤 또는 특히 1,2-프로필렌 글리콜을, 잉크의 총 중량을 기준으로 하여, 통상적으로 2 내지 30중량%, 특히 5 내지 30중량%의 양으로 포함할 수 있다.
잉크는 또한 가용화제, 예를 들면, ε-카프로락탐을 포함할 수 있다.
잉크는 점도 조절을 목적으로 하여 특히 천연 또는 합성 기원의 증점제를 포함할 수 있다.
언급할 수 있는 증점제의 예는 시판 알기네이트 증점제, 전분 에테르 또는 로커스트 콩가루 에테르, 특히 나트륨 알기네이트 자체 또는 개질된 셀룰로즈(예를 들면, 메틸셀룰로즈, 에틸셀룰로즈, 카복시메틸셀룰로즈, 하이드록시에틸셀룰로즈, 메틸하이드록시에틸셀룰로즈, 하이드록시프로필 셀룰로즈 또는 하이드록시프로필 메틸셀룰로즈)와 혼합된 나트륨 알기네이트, 특히 바람직하게는 카복시메틸셀룰로즈가 20 내지 25중량% 혼합된 나트륨 알기네이트를 포함한다. 언급할 수 있는 합성 증점제는, 예를 들면, 폴리(메트)아크릴산 또는 폴리(메트)아크릴아미드 및 분자량이 예를 들면 2,000 내지 20,000인 폴리알킬렌 글리콜, 예를 들면, 폴리에틸렌 글리콜 또는 폴리프로필렌 글리콜 또는 에틸렌 옥사이드와 프로필렌 옥사이드의 혼합된 폴리알킬렌 글리콜이다.
잉크는 이러한 증점제를, 잉크의 총 중량을 기준으로 하여, 예를 들면, 0.01 내지 2중량%, 특히 0.01 내지 1중량%의 양으로 포함한다.
잉크는 또한 완충 성분, 예를 들면, 보렉스, 보레이트, 포스페이트, 폴리포스페이트 또는 시트레이트를 포함할 수 있다. 언급할 수 있는 예는 보렉스, 붕산나트륨, 사붕산나트륨, 인산이수소나트륨, 인산수소이나트륨, 삼폴리인산나트룸, 오폴리인산나트륨 및 시트르산나트륨을 포함한다. 이들은, 예를 들면, 4 내지 9, 특히 5 내지 8.5의 pH값을 확립하기 위해, 잉크의 총 중량을 기준으로 하여, 통상적으로 0.1 내지 3중량%, 바람직하게는 0.1 내지 1중량%의 양으로 사용된다.
추가의 첨가제로서, 잉크는 계면활성제 또는 습윤제를 포함할 수 있다.
적합한 계면활성제는 시판 음이온성 또는 비이온성 계면활성제를 포함한다. 본 발명에 따르는 잉크 중의 습윤제로서, 예를 들면, 0.1 내지 30중량%, 특히 2 내지 30중량% 양의 우레아, 또는 나트륨 락테이트(유리하게는 50 내지 60% 수용액 형태)와 글리세롤 및/또는 프로필렌 글리콜과의 혼합물을 고려할 수 있다.
잉크의 점도가 1 내지 40mPa.s, 특히 1 내지 20mPa.s, 바람직하게는 1 내지 10mPa.s인 것이 바람직하다.
잉크는 또한 통상의 첨가제, 예를 들면, 소포제, 또는 특히 진균류 및/또는 박테리아의 성장을 억제하는 방부제를 포함할 수 있다. 이러한 첨가제는, 잉크의 총 중량을 기준으로 하여, 통상적으로 0.01 내지 1중량%의 양으로 사용된다.
고려할 수 있는 방부제는 포름알데히드 생성제, 예를 들면, 파라포름알데히드 및 트리옥산, 특히 수성, 약 30 내지 40중량% 포름알데히드 용액, 이미다졸 화합물, 예를 들면, 2-(4-티아졸릴)벤즈이미다졸, 티아졸 화합물, 예를 들면, 1,2-벤즈이소티아졸린-3-온 또는 2-n-옥틸-이소티아졸린-3-온, 요오드 화합물, 니트릴, 페놀, 할로알킬티오 화합물 또는 피리딘 유도체, 특히 1,2-벤즈이소티아졸린-3-온 또는 2-n-옥틸-이소티아졸린-3-온을 포함한다. 적합한 방부제는, 예를 들면, 디프로필렌 글리콜 중의 1,2-벤즈이소티아졸린-3-온의 20중량% 용액[프록셀(Proxel)R GXL]이다.
잉크는 또한 불소화 중합체 또는 텔로머, 예를 들면, 폴리에톡시퍼플루오로알콜[포라팩(Forafax)R 또는 조닐(Zonyl)R 제품]과 같은 추가의 첨가제를, 잉크의 총 중량을 기준으로 하여, 0.01 내지 1중량%의 양으로 포함할 수 있다.
잉크젯 인쇄법에서, 각각의 잉크 점적을 노즐로부터 제어된 방식으로 기재에 분무시킨다. 이러한 목적으로, 주로 연속 잉크젯법 및 열전사(drop-on-demand)법이 사용된다. 연속 잉크젯법에서는 점적을 연속적으로 생성하고, 인쇄에 필요하지 않는 점적을 수집 용기로 운반하여 재순환시키고, 반면에 열전사법에서는 점적을 필요에 따라 생성하여 인쇄한다: 즉 점적을 인쇄에 필요할 때에만 생성한다. 점적의 생성은, 예를 들면, 압전 잉크젯 헤드 또는 열에너지(버블 젯)에 의해 수행할 수 있다. 압전 잉크젯 헤드에 의한 인쇄 및 연속 잉크젯법에 따른 인쇄가 바람직하다.
따라서, 본 발명은 본 발명에 따르는 염료 혼합물 또는 본 발명에 따르는 화학식 2aa의 염료를 포함하는 수성 잉크 및 각종 기재, 특히 텍스타일 섬유 재료를 날염하는 잉크젯 날염법에서의 당해 잉크의 용도에 관한 것이기도 하며, 이때 앞서 언급한 정의 및 바람직한 의미가 염료 혼합물, 잉크 및 기재에 적용된다.
다음의 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것이다. 달리 언급하지 않는 한, 온도는 섭씨(℃)로 제공되고, 부는 중량부로 제공되며, %는 중량%를 기준으로 한다. 중량부는 kg 내지 ℓ 비율의 용적부에 관련된다.
실시예 1
면직물 100부를 60℃에서 물 1000부 중의 화학식 (101)의 염료 0.6부, 화학식 (102)의 염료 5.4부 및 염화나트륨 60부를 함유하는 염욕에 도입한다. 60℃에서 45분 후, 하소된 소다 20부를 가한다. 염욕의 온도를 45분 동안 65℃로 유지시킨다. 이어서, 염색된 직물을 통상의 방법으로 세정하고 건조시킨다. 견뢰도가 우수한 진한 감색 염색이 수득된다.
실시예 2
화학식 101의 염료 0.6부 대신에 화학식 (103)의 염료 0.6부를 사용하고, 화학식 102의 염료 5.4부 대신에 화학식 (104)의 염료 5.4부를 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1에서와 같이 수행하여, 견뢰도가 우수한 진한 감색 염색을 수득한다.
실시예 3 내지 59
화학식 101의 염료 0.6부 대신에 화학식 의 염료(여기서, D1 xy 및 D2 xy는 각각 표 1에 제시된 라디칼에 상응하며, 이들 라디칼은 표 2에서 정의한 바와 같다) 0.6부를 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1에서와 같이 수행하여, 견뢰도가 우수한 진한 감색 염색을 수득한다.
실시예 60 내지 62
화학식 102의 염료 5.4부 대신에 화학식 (105), (106) 또는 (107)의 염료 5.4부를 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1에서와 같이 수행하여, 견뢰도가 우수한 진한 감색 염색을 수득한다.
제조 실시예 :
(a) 4-(β-설페이토에틸설포닐)아닐린-2-설폰산 36.1부를 물 300부에 현탁시키고, 포화 탄산나트륨 용액으로 중성이 되도록 용해시킨 다음, 0℃로 냉각시킨다. 아질산나트륨 7부, 얼음 50부 및 진한 염산 30부를 가하여 혼합물을 2시간 동안 디아조화시킨다. 이어서, 설팜산을 사용하여 과량의 아질산염을 파괴시킨다.
(b) (a)에 따르는 디아조 용액에 물 500부 중의 1-아미노-8-하이드록시나프탈렌-3,6-디설폰산(H 산) 31.9부의 용액을 가하며, 이 용액의 pH를 염산을 사용하여 pH 4로 조절한다. 커플링 반응 동안, 나트륨 아세테이트를 사용하여 pH를 3 내지 3.5로 유지시킨다. 화학식 에 상응하는 모노아조 염료가 유리 산의 형태로 수득된다.
(c) 물 100부 중의 4-(β-설페이토에틸설포닐)아닐린 28.1부의 중성 용액을, 아세톤 80부 중의 시아누르산 클로라이드 19.5부의 용액을 물 200부와 얼음 200부의 혼합물 속에서 교반하여 수득한 현탁액에 가한다. 0 내지 5℃ 및 pH 3 내지 4에서 교반하면서 축합 반응을 1시간 동안 계속한다. 탄산수소나트륨을 첨가하여 pH를 상기한 값으로 유지시킨다.
(d) 물 180부 중의 1,3-페닐렌디아민-4-설폰산 17.6부의 중성 용액을 (c)에 따라 수득된 현탁액에 가하고, 이들 혼합물을 25℃ 및 pH 6.5 내지 7.2에서 1일 동안 교반한다. 화학식 에 상응하는 화합물이 유리 산의 형태로 수득된다.
(e) 이어서, 얼음 250부와 진한 염산 60부를 (d)에 따르는 용액에 가하고, 이들 혼합물을 0℃로 냉각시켜 이 온도에서 아질산나트륨 7부를 사용하여 서서히 디아조화시킨다.
(f) (e)에 따르는 디아조 용액을 탄산수소나트륨을 사용하여 pH 5.5 내지 6으로 조절하고, pH 5.8 내지 6.2에서 (b)에 따라 수득된 모노아조 염료와 커플링시킨다. 일단 반응이 완료되면, 염화칼륨을 첨가하여 반응 생성물을 침전시키고, 이를 여과하며, 포화 염화칼륨용액으로 세척하여, 40℃에서 진공 건조시킨다. 화학식 에 상응하는 화합물이 유리 산의 형태로 수득되며, 견뢰도가 다방면으로 우수한 진한 감색으로 면을 염색시킨다.
염색 과정 I
면직물 100부를 60℃에서 염화나트륨 45g/ℓ와 제조 실시예에 따라 수득된 반응성 염료 2부를 함유하는 염욕 1500부에 둔다. 60℃에서 45분 후, 하소된 소다 20g/ℓ를 가한다. 이 온도에서 추가로 45분 동안 염색을 계속한다. 이어서, 염색된 제품을 세정하여 1/4 시간 동안 비점에서 비이온성 세제로 비누화시킨 다음 다시 세정하여 건조시킨다.
상기한 과정의 대안으로서, 염색을 60℃ 대신에 80℃에서 수행할 수 있다.
염색 과정 II
제조 실시예에 따르는 염료 0.1부를 물 200부에 용해시키고, 황산나트륨 0.5부, 균염제(고급 지방족 아민과 에틸렌 옥사이드와의 축합 생성물을 기본으로 함) 0.1부 및 나트륨 아세테이트 0.5부를 가한다. 이어서, 아세트산(80%)을 사용하여 pH를 5.5로 조절한다. 염욕을 50℃에서 10분 동안 가열한 다음 방모 직물 10부를 가한다. 염욕을 100℃의 온도에서 약 50분 동안 가열하고, 염색을 이 온도에서 60분 동안 수행한다. 이어서, 염욕을 90℃로 냉각시키고, 염색된 제품을 제거한다. 방모 직물을 열수와 냉수로 세척한 다음, 회전시켜 건조시킨다.
날염 과정 I
신속하게 교반하면서, 제조 실시예에 따르는 염료 3부를 5% 나트륨 알기네이트 증점제 50부, 물 27.8부, 우레아 20부, 나트륨 m-니트로벤젠설포네이트 1부 및 탄산수소나트륨 1.2부를 함유하는 스톡 증점제 100부에 뿌린다. 이렇게 하여 수득된 날염호를 사용하여 면직물을 날염시키고, 염색을 수행하여, 수득된 날염 직물을 포화 스팀 속에서 102℃에서 2분 동안 스팀을 가한다. 이어서, 날염 직물을 세정하고, 경우에 따라, 비점에서 비누화시켜 다시 세정한 다음, 건조시킨다.
날염 과정 II
(a) 머서리화 가공된 면 주자 직물을 탄산나트륨 30g/ℓ와 우레아(액 흡수율 70%) 50g/ℓ를 함유하는 액을 사용하여 패드-염색한 다음 건조시킨다.
(b) 단계(a)에 따라 예비처리한 면 주자 직물을
- 제조 실시예에 따르는 화학식 102의 반응성 염료 15중량%,
- 1,2-프로필렌 글리콜 15중량% 및
- 물 70중량%를 함유하는 수성 잉크를 사용하여 열전사 잉크젯 헤드(버블젯)를 이용하여 날염시킨다. 날염물을 완전 건조시키고, 102℃에서 8분 동안 포화 스팀으로 고착시켜, 냉각 세정하고, 비점에서 세척한 다음, 다시 세정하여 건조시킨다.

Claims (11)

  1. 하나 이상의 화학식 1의 염료와 하나 이상의 화학식 2의 염료를 포함하는 염료 혼합물.
    화학식 1
    화학식 2
    위의 화학식 1 및 2에서,
    R1 및 R2는 각각 서로 독립적으로 수소 또는 치환되거나 치환되지 않은 C1-C8 알킬이고,
    (R3)0-3 및 (R4)0-3은 각각 서로 독립적으로 할로겐, C1-C4 알킬, C1-C4 알콕시, 카복시 및 설포로 이루어진 그룹으로부터 선택된 동일하거나 상이한 0 내지 3개의 치환체이며,
    D1 및 D2는 각각 서로 독립적으로 벤젠 또는 나프탈렌 계열의 디아조 성분의 라디칼이고,
    r 및 s는 각각 서로 독립적으로 0 또는 1이며, r과 s의 합은 1 또는 2이고,
    Y1 및 Y2는 각각 서로 독립적으로 화학식 3a, 3b, 3c, 3d, 3e 또는 3f의 섬유 반응성 라디칼이거나, 비-섬유 반응성 치환체 또는 화학식 4a, 4b, 4c, 4d 또는 4e의 섬유 반응성 라디칼이되,
    라디칼 Y1 및 Y2 중의 적어도 하나는 화학식 3f의 라디칼이고,
    화학식 2의 염료는 화학식 의 염료(여기서, X*는 불소이고, β-설페이토에틸설포닐 그룹은 4위치에 결합되어 있거나, X*는 염소이고, β-설페이토에틸설포닐 그룹은 3위치에 결합되어 있다)는 아니다.
    화학식 3a
    -SO2-Z
    화학식 3b
    -NH-CO-(CH2)m-SO2-Z
    화학식 3c
    -CONH-(CH2)n-SO2-Z
    화학식 3d
    -NH-CO-CH(Hal)-CH2-Hal
    화학식 3e
    -NH-CO-C(Hal)=CH2
    화학식 3f
    화학식 4a
    -NH-(CH2)2-3-SO2-Z
    화학식 4b
    -NH-(CH2)2-3-O-(CH2)2-3-SO2-Z
    화학식 4c
    화학식 4d
    화학식 4e
    위의 화학식 3a 내지 4e에서,
    X는 할로겐이고,
    T는 독립적으로 X와 동일한 정의를 나타내며,
    (R5)0-2는 할로겐, C1-C4 알킬, C1-C4 알콕시 및 설포로 이루어진 그룹으로부터 선택된 동일하거나 상이한 0 내지 2개의 치환체이고,
    Z는 비닐 또는 -CH2-CH2-U의 라디칼(여기서, U는 알칼리 조건하에서 제거 가능한 그룹이다)이며,
    Q는 -CH(Hal)-CH2-Hal 또는 -C(Hal)=CH2의 그룹이고,
    m 및 n은 각각 서로 독립적으로 2, 3 또는 4이며,
    Hal은 할로겐이다.
  2. 제1항에 있어서, D1 및 D2가 각각 서로 독립적으로 화학식 5의 라디칼인 염료 혼합물.
    화학식 5
    위의 화학식 5에서,
    (R6)0-3은 할로겐, C1-C4 알킬, C1-C4 알콕시, 카복시, 니트로 및 설포로 이루어진 그룹으로부터 선택된 동일하거나 상이한 0 내지 3개의 치환체이고,
    Y3은 제1항에서 정의한 화학식 3a, 3b, 3c, 3d, 3e 또는 3f의 라디칼이다.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, D1 및 D2가 각각 서로 독립적으로 화학식 5a, 5b, 5c, 5d 또는 5e의 라디칼인 염료 혼합물.
    화학식 5a
    화학식 5b
    화학식 5c
    화학식 5d
    화학식 5e
    위의 화학식 5a 내지 5e에서,
    (R6a)0-2는 할로겐, C1-C4 알킬, C1-C4 알콕시 및 설포로 이루어진 그룹으로부터 선택된 동일하거나 상이한 0 내지 2개의 치환체이고,
    Y3a는 α,β-디브로모프로피오닐아미노 또는 α-브로모아크릴로일아미노이며,
    m은 2 또는 3이고,
    n은 2 또는 3이며,
    Z1, Z2, Z3 및 Z4는 각각 서로 독립적으로 비닐, β-클로로에틸 또는 β-설페이토에틸이다.
  4. 제1항 내지 제3항 중의 어느 한 항에 있어서, R1 및 R2가 수소인 염료 혼합물.
  5. 제1항 내지 제4항 중의 어느 한 항에 있어서, R1 및 R2가 수소이고, D1이 화학식 5aa의 라디칼이며, D2가 화학식 5ab의 라디칼인 염료 혼합물.
    화학식 5aa
    화학식 5ab
    위의 화학식 5aa 및 5ab에서,
    R6a 및 R6b는 각각 서로 독립적으로 메틸 또는 메톡시이고,
    Z1a 및 Z1b는 각각 서로 독립적으로 비닐, β-클로로에틸 또는 β-설페이토에틸이다.
  6. 제1항 내지 제5항 중의 어느 한 항에 있어서, 화학식 2의 염료가 화학식 2a의 염료인 염료 혼합물.
    화학식 2a
    위의 화학식 2a에서,
    (R3)0-2 및 (R4)0-2는 각각 서로 독립적으로 C1-C4 알킬, C1-C4 알콕시 및 설포로부터 선택된 동일하거나 상이한 0 내지 2개의 치환체이고,
    섬유 반응성 라디칼 Y1 및 Y2 중의 하나는 화학식 3a, 3b, 3c, 3d 또는 3e의 라디칼이고, 섬유 반응성 라디칼 Y1 및 Y2 중의 다른 하나는 화학식 3f의 라디칼이며, 제1항에서 정의한 의미가 화학식 3a, 3b, 3c, 3d, 3e 또는 3f의 섬유 반응성 라디칼에 적용된다.
  7. 하이드록실 그룹 함유 또는 질소 함유 섬유 재료를 염색 또는 날염하는 데 있어서의, 제1항 내지 제6항 중의 어느 한 항에 따르는 염료 혼합물의 용도.
  8. 화학식 2aa의 염료.
    화학식 2aa
    위의 화학식 2aa에서,
    X는 할로겐이고,
    Z5 및 Z6은 각각 서로 독립적으로 비닐 또는 화학식 -CH2-CH2-U의 라디칼(여기서, U는 알칼리 조건하에서 제거 가능한 그룹이다)이다.
  9. 하이드록실 그룹 함유 또는 질소 함유 섬유 재료를 염색 또는 날염하는 데 있어서의, 제8항에 따르는 화학식 2aa의 염료의 용도.
  10. 제1항에 따르는 염료 혼합물 또는 제8항에 따르는 염료를 포함하는 수성 잉크.
  11. 하이드록실 그룹 함유 또는 질소 함유 섬유 재료를 날염하기 위한 잉크젯 날염법에 있어서의, 제10항에 따르는 수성 잉크의 용도.
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