KR20050079228A - 2-히드록시-6-우레이도카르보닐 나프탈렌 유도체의 제조방법 - Google Patents
2-히드록시-6-우레이도카르보닐 나프탈렌 유도체의 제조방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20050079228A KR20050079228A KR1020050009584A KR20050009584A KR20050079228A KR 20050079228 A KR20050079228 A KR 20050079228A KR 1020050009584 A KR1020050009584 A KR 1020050009584A KR 20050009584 A KR20050009584 A KR 20050009584A KR 20050079228 A KR20050079228 A KR 20050079228A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- group
- formula
- optionally substituted
- hydroxy
- ureidocarbonyl
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C273/00—Preparation of urea or its derivatives, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups
- C07C273/18—Preparation of urea or its derivatives, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups of substituted ureas
- C07C273/1809—Preparation of urea or its derivatives, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups of substituted ureas with formation of the N-C(O)-N moiety
- C07C273/1818—Preparation of urea or its derivatives, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups of substituted ureas with formation of the N-C(O)-N moiety from -N=C=O and XNR'R"
- C07C273/1827—X being H
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C273/00—Preparation of urea or its derivatives, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups
- C07C273/02—Preparation of urea or its derivatives, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups of urea, its salts, complexes or addition compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C273/00—Preparation of urea or its derivatives, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups
- C07C273/02—Preparation of urea or its derivatives, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups of urea, its salts, complexes or addition compounds
- C07C273/06—Preparation of urea or its derivatives, i.e. compounds containing any of the groups, the nitrogen atoms not being part of nitro or nitroso groups of urea, its salts, complexes or addition compounds from cyanamide or calcium cyanamide
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
2-히드록시-6-우레이도카르보닐 나프탈렌 유도체의 제조 방법이 개시된다. 본 방법은 90 - 200℃ 의 온도에서 유기 용매 내에서 2-히드록시-6-아미노카르보닐 나프탈렌 및 이소시아네이트를 반응시키는 단계를 포함한다. 본 발명에 따르면, 2-히드록시-6-우레이도카르보닐 나프탈렌 유도체를 상대적으로 단시간 내에 고수율로 쉽게 수득할 수 있다.
Description
본 발명은 2-히드록시-6-우레이도카르보닐 나프탈렌 유도체의 제조 방법에 관한 것이다.
공액 폴리엔계를 제공할 수 있고 전자띠에 흡광도를 갖는 축합 방향족 화합물중에서 2-나프톨 유도체는 상대적으로 값싸며 산업 분야에서 광범위하게 적용된다. 예를 들어, 2-나프톨 유도체는 염료 및 안료와 같은 채색 물질, 감광성 물질 및 액정 중합체와 같은 중합체 물질을 제조하는 데 이용된다.
다양한 2-나프톨 유도체 중에서, 카르복실산기가 아미노카르보닐 또는 우레이도카르보닐기로 전환된 2-히드록시나프토산 유도체는 아조 안료를 제조하기 위한 커플러 성분으로서 특히 유용하다.
아미드화된 2-히드록시나프토산 유도체의 제조를 위해서는, 몇 가지 산업적으로 적용가능한 효과적인 방법이 있다; 예를 들어, 대응 산 할로겐화된 화합물 및 아민을 반응시킴으로써 수득할 수 있다. 2-히드록시-우레이도카르보닐 나프탈렌 유도체의 제조를 위해서는, 2-히드록시나프탈렌-3,6-디카르복실산의 산 클로라이드 및 우레아 유도체를 반응시켜 3,6-디-우레이도카르보닐 유도체를 얻는 단계를 포함하는 방법이 제안되어 있다 (그 내용이 본원에 참고로 도입된 USP 6,252,104 참고). 그러나 상기 방법은 장시간이 걸리고 저수율로만 제공하기 때문에 산업적 합성에는 적합하지 않다.
본 발명의 목적은 더 짧은 시간 내에 고수율로 목적하는 화합물을 제공할 수 있는 2-히드록시-6-우레이도카르보닐 나프탈렌 유도체의 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명은 2-히드록시-6-우레이도카르보닐 나프탈렌 유도체의 제조 방법을 제공하는데, 상기 방법은 하기 화학식 1 :
(여기서 X 는 수소 원자, 시아노기 또는 하기 화학식 2, 3 또는 4 로 나타낸 기이며 :
(여기서, X1 은 임의로 분지화되고, 불포화 결합(들)을 가질 수 있는 임의로 치환된 C1-20 지방족 탄화수소기, 임의로 치환된 방향족기 및 공액 이중 결합을 가지는 임의로 치환된 헤테로시클릭기로 이루어진 군으로부터 선택된다) ;
(여기서, X2 는 불포화 결합(들)을 가질 수 있는 임의로 분지화된 C1-6 지방족 탄화수소기이다) ;
(여기서, A 는 임의로 치환된 방향족기 및 공액 이중 결합을 가지는 임의로 치환된 헤테로시클릭기로 이루어진 군으로부터 선택되며,
Z 는 -O-, -S- 및 -NH- 로 이루어진 군으로부터 선택된다);
Q 는 임의로 분지화된 C1-6 알킬 및 알콕시기, 할로겐 원자, 니트로기 및 니트로소기로 이루어진 군으로부터 선택되며 ;
n 은 0 - 3 의 정수이며 ;
R1 은 수소 원자, C1-6 알킬, C2-6 아실 및 페닐알킬기로 이루어진 군으로부터 선택된다) 로 나타낸 2-히드록시-6-아미노카르보닐 나프탈렌 유도체를 하기 화학식 5 :
(여기서, Y 는 임의로 치환된 방향족기 및 공액 이중 결합을 가지는 임의로 치환된 헤테로시클릭기로 이루어진 군으로부터 선택된다) 로 나타낸 이소시아네이트와 90 - 200℃ 의 온도에서 유기 용매 내에서 반응시켜 하기 화학식 6 :
(여기서, X, Q, n, R1 및 Y 는 상기 정의와 동일하다) 으로 나타낸 2-히드록시-6-우레이도카르보닐 나프탈렌 유도체를 얻는 단계를 포함한다.
본 명세서 및 특허청구범위에서, "저급" 은 탄소수 1 - 6 인 기를 나타낸다.
"방향족기" 는 6-원 모노-시클릭 방향족기 또는 4 개 이하의 6-원 방향족 고리로 이루어진 축합 고리기를 나타낸다.
"공액 이중 결합을 가진 헤테로시클릭기" 는 5- 또는 6-원 모노-시클릭기 또는 N, S 및 O 로부터 선택되는 하나 이상의 헤테로-원자 및 공액 이중 결합을 가진 축합 고리기를 나타낸다. 이것이 축합 고리기를 나타낼 때, 상기 기는 6 개 이하의 고리를 가질 수 있다.
본 발명의 방법에 있어서 출발 물질인 화학식 1 의 2-히드록시-6-아미노카르보닐 나프탈렌 유도체뿐만 아니라, 생성물인 화학식 6 의 2-히드록시-6-우레이도카르보닐 나프탈렌은 그것의 3-위치에서 치환기를 가질 수 있다. 치환기는 시아노기 또는 화학식 2, 3 또는 4 로 나타낸 기일 수 있다.
화학식 2 로 나타낸 기의 예는 알킬아미노카르보닐, 나프틸아미노카르보닐 및 페닐아미노카르보닐기를 포함할 수 있다.
화학식 2 의 X1 의 임의로 치환된 방향족기의 예는 벤젠, 나프탈렌 및 안트라퀴논 고리를 포함할 수 있다. X1 의 공액 이중 결합을 가지는 임의로 치환된 헤테로시클릭기의 예는 티오펜, 푸란, 피롤, 이미다졸, 피라졸, 이소티아졸, 이속사졸, 피리딘, 피라진, 피리미딘, 피리다진, 트리아졸, 테트라졸, 인돌, 1H-인다졸, 퓨린, 4H-퀴놀리진, 이소퀴놀린, 퀴놀린, 프탈라진, 나프틸리딘, 퀴녹살린, 퀴나졸린, 신놀린, 프테리딘 및 벤조푸란을 포함할 수 있다.
상기 기들의 치환기의 예는 할로겐 원자, 할로겐화된 저급 알킬, 니트로, 저급 알킬, 메톡시와 같은 저급 알콕시, 시아노, 페녹시, 피리미딜아미노, 벤조일아미노, 술포닉, 알콕시카르보닐 및 페녹시카르보닐과 같은 에스테르화된 카르복실, 페닐아미노카르보닐, 알킬아미노술포닐과 같은 아미드화된 카르복실 및 아릴기를 포함할 수 있는 탄소수 2 - 6 의 알케닐기를 포함할 수 있다.
치환기가 방향족 고리를 포함하는 경우, 화합물은 상기 방향족 고리상에서 할로겐 원자, 저급 알킬, 저급 알콕시, 페닐 및 시아노기와 같은 하나 이상의 치환기를 추가로 가질 수 있다.
화학식 3 으로 나타낸 기의 예는 메톡시카르보닐, 에톡시카르보닐, n-프로필옥시카르보닐, 이소-프로필옥시카르보닐 및 n-부틸카르보닐기를 포함할 수 있다.
화학식 4 로 나타낸 기의 예는 벤조티아졸릴, 벤족사졸릴 및 이미다졸릴기를 포함할 수 있다. 화학식 4 에 있는 A 의 임의로 치환된 방향족기의 예는 벤젠, 나프탈렌 및 안트라퀴논 고리를 포함할 수 있다. 화학식 4 에 있는 A 의 공액 이중 결합을 가지는 임의로 치환된 헤테로시클릭기의 예는 티오펜, 푸란, 피롤, 이미다졸, 피라졸, 이소티아졸, 이속사졸, 피리딘, 피라진, 피리미딘, 피리다진, 트리아졸, 테트라졸, 인돌, 1H-인다졸, 퓨린, 4H-퀴놀리진, 이소퀴놀린, 퀴놀린, 프탈라진, 나프틸리딘, 퀴녹살린, 퀴나졸린, 신놀린, 프테리딘 및 벤조푸란을 포함할 수 있다.
화학식 1 의 2-히드록시-6-아미노카르보닐 나프탈렌뿐만 아니라 화학식 6 의 2-히드록시-6-우레이도카르보닐 나프탈렌 유도체는 "Q" 로 나타낸 치환기(들)을 포함할 수 있다. 치환기 Q 의 예는 임의로 분지화된 저급 알킬 또는 저급 알콕시기, 할로겐 원자, 니트로 및 니트로소기를 포함할 수 있다. "n" 으로 나타낸 치환기의 수가 2 또는 3 인 경우, Q 들은 동일하거나 상이할 수 있다.
화학식 1 뿐만 아니라 화학식 6 에 있는 R1 은 수소 원자, C1-6 알킬기, 아세틸과 같은 C2-6 아실기 및 벤질과 같은 페닐알킬렌기로 이루어진 군으로부터 선택된다. 이 중에서, C1-6 알킬, C2-6 아실 및 페닐알킬기는 반응 동안에 히드록시기를 위한 보호기로서 작용하며 부반응을 피하는데 바람직하다.
R1 이 수소 원자인 화학식 6 의 2-히드록시-6-우레이도카르보닐 나프탈렌 유도체가 필요한 경우, 출발 물질의 R1 은 C1-6 알킬, C2-6 아실 또는 페닐알킬의 보호기인 것이 바람직하다. 상기 보호기는 아미노카르보닐기를 우레이도카르보닐기로 전환하는 반응이 완료된 후에 제거될 수 있다. 저급 알킬 또는 페닐 알킬 보호기의 탈보호는 알루미늄 클로라이드 또는 브롬화수소산으로 수행될 수 있다. 저급 아실 보호기의 탈보호는 수산화나트륨과 같은 염기성 제제 또는 황산과 같은 산성 제제로 수행될 수 있다.
본 발명에 따르면, R1 이 C2-6 아실기이고, X 가 수소 원자이고 n 은 0 인 화학식 1 의 2-히드록시-6-아미노카르보닐 나프탈렌 유도체는 그것이 더 낮은 비용으로도 쉽게 합성될 수 있기 때문에 출발 물질로서 바람직하게 사용될 수 있다.
화학식 1 의 2-히드록시-6-아미노카르보닐 나프탈렌 유도체는 예를 들어, 하기에 나타낸 반응식 1 에 따라서 임의의 공지된 방법에 의해 제조될 수 있다. 즉, 히드록시나프토산 유도체 7 은 티오닐 클로라이드로 처리되어서 산 클로라이드 유도체 8 을 얻고, 산 클로라이드 유도체는 암모니아로 처리되어서 [1] 의 목적하는 2-히드록시-6-아미노카르보닐 나프탈렌 유도체를 얻는다.
반응식 1
화학식 7 및 8 에서, X, Q, n 및 R1 은 화학식 1 의 정의에 있는 것들과 동일하다.
X 가 화학식 2, 3 또는 4 의 기인 화학식 7 의 나프톨 유도체는 WO96/32366 및 WO01/87859 에 개시된 방법에 따라서 제조될 수 있으며, 그 내용은 본원에 참고로 도입된다. X 가 시아노기인 화학식 7 의 화합물은 하기에 나타낸 반응식 2 에 따라서 제조될 수 있다 :
반응식 2
화학식 9 - 13 에서, Q, n 및 R1 은 화학식 1 의 정의에 있는 것들과 동일하다. R' 는 저급 알킬기를 나타낸다.
본 발명에 따라서, 하기 화학식 5 :
[화학식 5]
OCN-Y
(여기서, Y 는 임의로 치환된 방향족기 또는 공액 이중 결합을 가지는 임의로 치환된 헤테로시클릭기이다) 의 이소시아네이트를 화학식 1 의 2-히드록시-6-아미노카르보닐 나프탈렌 유도체와 반응시켜 우레이도-유도체를 얻는다.
화학식 5 에서 Y 기의 예는 페닐, 나프틸, 피리딜, 피리미디닐, 피리다지닐, 퀴놀리닐, 벤조티아졸릴, 벤족사졸릴, 벤즈이미다졸릴 및 벤즈이미다졸로닐기를 포함할 수 있다.
Y 상에 있는 치환기의 예는 할로겐 원자, 저급 알킬, 할로겐화된 저급 알킬, 저급 알콕시, 임의로 치환된 페녹시, 니트로, 시아노, 임의로 치환된 페닐아미노카르보닐, 임의로 치환된 벤조일, 저급 아실아미노, 임의로 치환된 벤조일아미노 및 저급 알킬아미노 술포닐기를 포함할 수 있다. 상기 치환기가 추가의 치환기를 갖는 경우, 추가의 치환기의 예는 할로겐 원자, 저급 알킬, 할로겐화된 저급 알킬, 저급 알콕시, 니트로 및 시아노기를 포함할 수 있다.
화학식 5 의 이소시아네이트 유도체는 실온에서 에틸아세테이트와 같은 용매 내에서 아민을 포스겐 또는 트리포스겐과 같은 포스겐화제로 처리함으로써 제조될 수 있다.
본 발명에 따르면, 화학식 1 의 2-히드록시-6-아미노카르보닐 나프탈렌 유도체 및 화학식 5 의 이소시아네이트 사이의 반응은 90 - 200℃, 바람직하게는 100 - 180℃, 더 바람직하게는 120 - 150℃ 의 온도에서 수행된다. 반응 온도가 90℃ 미만일 때, 상기 용매 내에서 나프톨 유도체의 용해도는 매우 낮아지며 반응 속도는 극히 감소된다. 반응 온도가 200℃ 초과일 때, 가열을 위해 너무 많은 에너지가 필요할 것이며, 목적하지 않은 부반응이 일부 이소시아네이트로 발생할 수 있다.
본 발명에 따르면, 상기 반응에 이용되는 유기 용매는 상기 용매가 이소시아네이트 및 아미노카르보닐기 사이의 반응을 방해하지 않는 한, 특정하게 제한되지 않는다. 바람직한 유기 용매는 자일렌, 톨루엔, 메시틸렌, 니트로벤젠, 클로로벤젠, 디메틸 술폭시드, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, 1,3-디메틸-2-이미다졸리디논, N-메틸-2-피롤리돈, 헥사메틸포스포르아미드, 술폴란, 테트라히드로푸란, 1,4-디옥산, 디클로로메탄, 에틸렌 글리콜 디메틸 에테르, 디에틸 에테르 및 이것의 혼합물을 포함할 수 있다. 상기 중에서, 자일렌, 톨루엔, 메시틸렌, 니트로벤젠 및 클로로벤젠은 그것들의 상대적으로 높은 비점때문에 단독 용매로서 바람직하게 이용된다.
상기 반응이 종료된 후에, 생성 우레이도-유도체는 상기 혼합물을 농축시키거나 냉각시켜서 생성물을 결정화시키거나, 상기 혼합물에 물을 첨가함으로써 생성물을 침전시키거나, 상기 혼합물로부터 생성물을 추출하는 것과 같은 종래 방식으로 상기 혼합물로부터 획득될 수 있다. 필요하다면, 이렇게 수득된 생성물은 재결정화 또는 유기 용매 또는 물로 세척됨으로써 정제될 수 있다.
본 발명의 방법으로 수득된 2-히드록시-6-우레이도카르보닐 나프탈렌 유도체는 염료, 아조 안료와 같은 안료, 또는 액정 물질을 제조하는 데 사용될 수 있다. 생성물은 그것이 다양한 색채를 가지고 있는 물질의 생성을 촉진할 수 있으므로 염료 및 안료와 같은 채색 물질을 제조하는데 특히 유용하다.
실시예
본 발명은 하기 실시예에 의해 추가로 예시된다. 하기 실시예는 본 발명을 예시하고자 하는 것이며 본 발명의 범위를 제한하는 것으로는 간주되어서는 안된다.
실시예 1
2-아세톡시-6-아미노카르보닐 나프탈렌 2.3 g (10 mmol) 을 자일렌 46 g 내에 분산시켰다. 3-니트로페닐 이소시아네이트 1.97 g (12 mmol, 나프톨 유도체의 1.2 배 (mol)) 를 거기에 첨가하였다. 상기 혼합물을 130℃ 에서 2 시간 동안 반응시키고 실온으로 냉각시켰다. 침전물을 여과하여 수집하고, 메탄올로 세척하고 건조시켜서 백색 분말로서 상기에 나타낸 목적한 우레이도 유도체 3.2 g 을 얻었다. 2-아세톡시-6-아미노카르보닐 나프탈렌의 출발 양으로부터 계산된 수율은 81.4% 였다.
실시예 2 - 5
우레이도 유도체는 표 1 에 나타낸 2-히드록시-아미노카르보닐 나프탈렌 유도체 및 이소시아네이트를 이용하여 실시예 1 과 동일한 방식으로 제조되었다.
결과를 표 1 에 나타내었다.
비교예 1
2-아세톡시나프탈렌-6-카르복실산 9.21 g 을 테트라히드로푸란 73.7 g 에 분산시키고, N,N-디메틸포름아미드를 거기에 첨가한 다음, 티오닐클로라이드 7.2 g 을 거기에 첨가하였다. 상기 혼합물을 50℃ 에서 2 시간 동안 반응시켰다. 그 후, 미반응 티오닐클로라이드를 증발시켜 용매와 함께 제거하였다. 테트라히드로푸란 73.7 g 에 분산된 3-니트로페닐 우레아 8.7 g 을 잔류물에 첨가하고 상기 혼합물을 환류하에 24 시간 초과로 반응시켰다. 그 후, 상기 반응 혼합물을 실온으로 냉각시키고, 여과하여 침전물을 수집하였다. 생성물을 메탄올로 반복 세척하여 목적한 화합물 2.8 g 을 얻었다. 2-아세톡시나프탈렌-6-카르복실산의 출발 양으로부터 계산된 수율은 17.8% 였다.
실시예 6 및 7, 비교예 2 및 3
2-아세톡시-6-아미노카르보닐 나프탈렌 및 3-니트로페닐 이소시아네이트의 반응을 반응 온도 및 용매가 각각 표 2 에 나타낸 것이라는 점을 제외하고는 실시예 1 과 동일한 방식으로 수행하였다. 반응이 완료된 후, 반응 혼합물을 고속 액체 크로마토그래프로 분석하고 목적한 우레이도-유도체의 수율을 결정하였다. 결과를 표 2 에 나타내었다.
더 짧은 시간 내에 고수율로 목적하는 화합물을 제공할 수 있는 2-히드록시-6-우레이도카르보닐 나프탈렌 유도체의 제조 방법을 제공할 수 있다.
Claims (3)
- 2-히드록시-6-우레이도카르보닐 나프탈렌 유도체의 제조 방법에 있어서, 하기 화학식 [1] :[화학식 1](여기서, X 는 수소 원자, 시아노기 또는 하기 화학식 2, 3 또는 4 로 나타낸 기이며 :[화학식 2]-CONH-X1(여기서, X1 은 임의로 분지화되고 불포화 결합(들)을 가질 수 있는 임의로 치환된 C1-20 지방족 탄화수소기, 임의로 치환된 방향족기 및 공액 이중 결합을 가지는 임의로 치환된 헤테로시클릭기로 이루어진 군으로부터 선택된다) ;[화학식 3]-CO-O-X2(여기서, X2 는 불포화 결합(들)을 가질 수 있는 임의로 분지화된 C1-6 지방족 탄화수소기이다) ;[화학식 4](여기서, A 는 임의로 치환된 방향족기 및 공액 이중 결합을 가지는 임의로 치환된 헤테로시클릭기로 이루어진 군으로부터 선택되며,Z 는 -O-, -S-, 및 -NH- 로 이루어진 군으로부터 선택된다) ;Q 는 임의로 분지화된 C1-6 알킬 및 알콕시기, 할로겐 원자, 니트로기 및 니트로소기로 이루어진 군으로부터 선택되며 ;n 은 0 - 3 의 정수이며 ;R1 은 수소 원자, C1-6 알킬, C2-6 아실 및 페닐알킬기로 이루어진 군으로부터 선택된다) 로 나타낸 2-히드록시-6-아미노카르보닐 나프탈렌 유도체를 하기 화학식 5 :[화학식 5]OCN-Y(여기서, Y 는 임의로 치환된 방향족기 및 공액 이중 결합을 가지는 임의로 치환된 헤테로시클릭기로 이루어진 군으로부터 선택된다) 로 나타낸 이소시아네이트와 90 - 200℃ 의 온도에서 유기 용매 내에서 반응시켜 하기 화학식 6 :[화학식 6](여기서, X, Q, n, R1 및 Y 는 상기 정의와 동일하다) 으로 나타낸 2-히드록시-6-우레이도카르보닐 나프탈렌 유도체를 얻는 단계를 포함하는 방법.
- 제 1 항에 있어서, R1 은 C2-6 아실기이며, X 는 수소원자이며, n 은 0 인 방법.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 유기 용매를 톨루엔, 자일렌, 메시틸렌, 니트로벤젠 및 클로로벤젠으로 이루어진 군으로부터 선택하는 방법.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2004-00028343 | 2004-02-04 | ||
JP2004028343A JP4364663B2 (ja) | 2004-02-04 | 2004-02-04 | ヒドロキシナフタレンカルボン酸類のウレイド誘導体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20050079228A true KR20050079228A (ko) | 2005-08-09 |
Family
ID=34697858
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020050009584A KR20050079228A (ko) | 2004-02-04 | 2005-02-02 | 2-히드록시-6-우레이도카르보닐 나프탈렌 유도체의 제조방법 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7030261B2 (ko) |
EP (1) | EP1564206A1 (ko) |
JP (1) | JP4364663B2 (ko) |
KR (1) | KR20050079228A (ko) |
CN (1) | CN100400506C (ko) |
TW (1) | TW200528421A (ko) |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1996032366A1 (fr) * | 1995-04-12 | 1996-10-17 | Kabushiki Kaisha Ueno Seiyaku Oyo Kenkyujo | Derives du naphtol et procede de fabrication |
-
2004
- 2004-02-04 JP JP2004028343A patent/JP4364663B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-02-02 KR KR1020050009584A patent/KR20050079228A/ko not_active Application Discontinuation
- 2005-02-03 US US11/048,876 patent/US7030261B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2005-02-03 EP EP05002251A patent/EP1564206A1/en not_active Withdrawn
- 2005-02-03 TW TW094103357A patent/TW200528421A/zh unknown
- 2005-02-04 CN CNB2005100518492A patent/CN100400506C/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN100400506C (zh) | 2008-07-09 |
CN1680302A (zh) | 2005-10-12 |
US7030261B2 (en) | 2006-04-18 |
JP2005220049A (ja) | 2005-08-18 |
EP1564206A1 (en) | 2005-08-17 |
TW200528421A (en) | 2005-09-01 |
JP4364663B2 (ja) | 2009-11-18 |
US20050192442A1 (en) | 2005-09-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20040063963A1 (en) | Binaphthol derivative and process for producing the same | |
CN108383749B (zh) | 阿帕鲁胺的合成方法及其中间体 | |
JP3228516B2 (ja) | ナフトール誘導体およびその製法 | |
EP2215050B1 (en) | Manufacturing method of 2-hydroxy-5-phenylalkylaminobenzoic acid derivatives and their salts | |
KR20060052532A (ko) | 히드록시나프토산 히드라지드 화합물 및 그의 제조 방법 | |
CA3022444C (en) | Method for preparing azoxystrobin | |
JP2006290839A (ja) | ヒドラジド化されたヒドロキシナフタレンジカルボン酸二量体およびその誘導体ならびにその製造方法 | |
KR20050079228A (ko) | 2-히드록시-6-우레이도카르보닐 나프탈렌 유도체의 제조방법 | |
EP0142718A1 (en) | Preparation of substituted and unsubstituted 2-((1-carbamoyl-1,2-dimethylpropyl)-carbamoyl)-3-quinolinecarboxylic, nicotinic and benzoic acids | |
EP1652837A1 (en) | Aminocarbonyl naphthol derivative, cyanonaphthol derivative, and method for producing them | |
CN110627732A (zh) | 一种合成硝基喹喔啉或其衍生物以及氨基喹喔啉或其衍生物的方法 | |
CN111848423A (zh) | 3-氧代环丁基氨基甲酸叔丁酯的制备方法 | |
CN104109131A (zh) | 一种制备n-甲酰基吩噻嗪的方法 | |
CN113956209B (zh) | Nh-1,2,3-三氮唑类化合物的制备方法 | |
JP3594662B2 (ja) | ヘキサヒドロキシトリフェニレンの製造方法 | |
CN102838639A (zh) | 一种n-芳基-d-氨基葡萄糖的合成方法 | |
CN107663165A (zh) | 一种吲哚c‑3位置的c‑h键活化高效酯化的新方法 | |
JPH09188662A (ja) | スルホン酸アミド化合物の製造方法 | |
JP2536756B2 (ja) | 5−アルコキシアントラニル酸エステル | |
JP2911296B2 (ja) | トリス(4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート化合物の製造法 | |
JP3882546B2 (ja) | 4−フタロニトリル誘導体の製造方法 | |
JP3547497B2 (ja) | ベンゾチアゾロン化合物の製造方法 | |
CN114805191A (zh) | 一种新型杀虫剂氟啶脲的合成方法 | |
SK50402005A3 (sk) | Spôsob prípravy zaleplonu | |
JP2008247799A (ja) | 2−ナフトール誘導体の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
N231 | Notification of change of applicant | ||
WITN | Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid |