JP2005220049A - ヒドロキシナフタレンカルボン酸類のウレイド誘導体の製造方法 - Google Patents

ヒドロキシナフタレンカルボン酸類のウレイド誘導体の製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】 短時間かつ高収率でヒドロキシナフタレンカルボン酸のウレイド誘導体を製造する方法を提供すること。
【解決手段】 一般式〔1〕で表されるアミノカルボニル基を有するナフトール誘導体と、一般式〔5〕で表されるイソシアネートを、有機溶媒中で90〜200℃の温度下で反応させることを特徴とする、一般式〔6〕で表されるヒドロキシナフタレンカルボン酸のウレイド誘導体の製造方法を提供する。
【化1】
Figure 2005220049

【化2】
Figure 2005220049

【化3】
Figure 2005220049

【選択図】なし

Description

本発明は、2−ヒドロキシナフタレンカルボン酸類のウレイド誘導体の製造方法に関する。
2−ナフトール誘導体は共役ポリエン系を形成し、電子帯に吸収を有する縮合芳香族化合物の中で最も安価であるため合成用原料としても利用し易いものであり、例えば、染料・顔料などの色材、感光材料、液晶性ポリエステルなどの高分子材料などの種々の特徴ある化合物の合成原料に用いられている。
このような2−ナフトール誘導体の中でも、2−ヒドロキシナフタレンカルボン酸類のカルボキシル基を、酸アミド化またはウレイド化した誘導体はアゾ色素合成用のカップラーとして特に重要な化合物である。
上記のカップラー用途の2−ナフトール誘導体の製造方法に関し、酸アミド化については、酸ハロゲン化物とアミンの反応など効率的な処方が種々知られており、大規模に工業的に実施されている。一方、ウレイド化については、例えば、カルボン酸クロリドと尿素誘導体の反応による2−ヒドロキシナフタレン−3,6−ジカルボン酸のウレイド化方法(特許文献1を参照。)が提案されているが、非常に長い反応時間を要することや、収率が低いなどの問題があるため、大規模な工業化には至らず、効率的なウレイド化方法が望まれている。
特許第3228516号公報
本発明の目的は、短時間かつ高収率でヒドロキシナフタレンカルボン酸のウレイド誘導体を製造する方法を提供することにある。
本発明は、一般式〔1〕で表されるアミノカルボニル基を有するナフトール誘導体と、一般式〔5〕で表されるイソシアネートを、有機溶媒中で90〜200℃の温度下で反応させることを特徴とする、一般式〔6〕で表されるヒドロキシナフタレンカルボン酸のウレイド誘導体の製造方法に関する。
Figure 2005220049
[式中、Xは水素原子、シアノ基、一般式〔2〕、一般式〔3〕、および一般式〔4〕
Figure 2005220049
Figure 2005220049
Figure 2005220049
からなる群から選ばれる基である;
は、炭素原子数1〜20の分岐を有してもよく置換基を有していてもよく不飽和結合を有してもよい脂肪族基、置換基を有してもよい芳香族基、および置換基を有してもよい共役二重結合を有する複素環基からなる群から選ばれる基;
は、炭素原子数1〜6の分岐を有してもよく不飽和結合を有してもよい脂肪族基;
Aは、置換基を有していてもよい、芳香族基または共役二重結合を有する複素環基;
Zは、−O−、−S−、−NH−から選択される基;
Qは、分岐を有してもよい低級アルキル基および低級アルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、およびニトロソ基からなる群から選ばれる基;
nは、0〜3の整数;
は、水素原子、低級アルキル基、炭素原子数2〜6のアシル基、およびフェニルアルキル基からなる群から選ばれる基である。]
Figure 2005220049
[式中、Yは置換基を有してもよい芳香族基、または置換基を有してもよい共役二重結合を有する複素環基である。]
Figure 2005220049
[式中、X、Q、n、R、およびYは、式〔1〕および式〔5〕と同義。]
なお、本明細書および特許請求の範囲において、「低級」とは、炭素原子数が1〜6であるものを示す。
「芳香族基」は6員の単環または縮合環であって、縮合環の環数4までの芳香族基を示す。
「共役二重結合を有する複素環基」は1以上のN、S、Oを含み、共役二重結合を有する5員乃至6員の単環または縮合環である複素環基。縮合環を形成する場合は、環数6までのものとする。
本発明の方法において原料として用いる一般式〔1〕で表されるナフトール誘導体は、3位をシアノ基、一般式〔2〕、一般式〔3〕、または一般式〔4〕で表される基により置換されていてもよい。
Xが一般式〔2〕で表される基である場合の例としては、アルキルアミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基などが挙げられる。
上記一般式〔2〕中、置換基を有していてもよい芳香族基としては、たとえばベンゼン環、ナフタレン環、アントラキノン環などが挙げられる。置換基を有していてもよい共役二重結合を有する複素環基としては、たとえばチオフェン、フラン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、イソチアゾール、イソオキサゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、トリアゾール、テトラゾール、インドール、1H−インダゾール、プリン、4H−キノリジン、イソキノリン、キノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、ベンゾフランなどが挙げられる。
これらの基の置換基としては、たとえばハロゲン原子、ハロゲン化低級アルキル、ニトロ基、低級アルキル基、低級アルコキシ基(たとえばメトキシ基)、シアノ基、フェノキシ基、ピリミジルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、スルホン酸基、エステル化されたカルボキシル基(たとえばアルコキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基)、アミド化されたカルボキシル基(たとえばフェニルアミノカルボニル基)、アルキルアミノスルホニル基、およびアリール基を有することのある炭素原子数2〜6のアルケニル基等が挙げられる。これらの置換基が芳香族基を含む場合には、その環上にさらに一個以上の別の置換基、例えば、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、フェニル基、シアノ基などを有していてもよい。
Xが一般式〔3〕で表される基である場合の例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−プロピルオキシカルボニル基、iso−プロピルオキシカルボニル基、n−ブチルオキシカルボニル基などが挙げられる。
Xが一般式〔4〕で表される基である場合の例としては、ベンゾチアゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基などが挙げられる。上記一般式〔4〕中の環Aを形成する置換基を有してもよい芳香族基の例としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラキノン環などが挙げられ、置換基を有していてもよい共役二重結合を有する複素環基の例としてはチオフェン、フラン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、イソチアゾール、イソオキサゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、トリアゾール、テトラゾール、インドール、1H−インダゾール、プリン、4H−キノリジン、イソキノリン、キノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、ベンゾフランなどが挙げられる。
一般式〔1〕で表されるナフトール誘導体のQは、分岐を有してもよい低級アルキル基および低級アルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、およびニトロソ基からなる群から選ばれる基であり、nが2または3である場合にはQは同じでも異なっていてもよい。
一般式〔1〕で表されるナフトール誘導体のRは、水素原子、低級アルキル基、炭素原子数2〜6のアシル基(例えばアセチル基)、およびフェニルアルキル基(例えばベンジル基)からなる群より選択される基である。これらの中でも、ウレイド化反応時に水酸基の保護基として作用し、副反応を防ぐ点で、Rが低級アルキル基、炭素原子数2〜6のアシル基、またはフェニルアルキル基であるものが好ましい。
が低級アルキル基、炭素原子数2〜6のアシル基、またはフェニルアルキル基である場合には、ウレイド化反応を行った後に所望により脱保護処理を行ってもよい。脱保護処理としては例えば、Rが低級アルキル基またはフェニルアルキル基の場合は、塩化アルミニウムや臭化水素酸を用いて処理すれば良く、Rが低級アシル基である場合は、水酸化ナトリウムなどの塩基性化合物や、硫酸などの酸性化合物で処理すればよい。
本発明において原料として用いられる、一般式〔1〕で表されるナフトール誘導体としては、Rが炭素原子数2〜6の低級アシル基であり、Xが水素原子であり、nが0であるものが調製が容易で安価であることなどから好ましい。
一般式〔1〕で表されるナフトール誘導体の製造方法は特に限定されないが、例えば、以下に示すスキーム1に従い、一般式〔7〕で表されるヒドロキシナフトエ酸誘導体に塩化チオニルを作用させ、カルボン酸塩化物である一般式〔8〕で表される化合物を得、次いでカルボン酸塩化物にアンモニアを作用させることにより調製することが出来る。
Figure 2005220049
[一般式〔7〕および一般式〔8〕において、X、Q、n、およびRは一般式〔1〕と同義。]
一般式〔7〕で示されるナフトール誘導体は、Xが一般式〔2〕、一般式〔3〕、および一般式〔4〕で表される基である場合には、国際公開第96/32366号パンフレット、および国際公開第01/87859号パンフレットに記載の方法を参照し調製することができる。また、一般式〔7〕においてXがシアノ基である場合には、例えば以下に示すスキーム2に従い調製することができる。
Figure 2005220049
[一般式〔9〕〜〔13〕において、Q、n、およびRは一般式〔1〕と同義。R’は低級アルキル基を示す。]
本発明の方法において、ウレイド化剤としては、一般式〔5〕で表されるイソシアネートを用いる。
一般式〔5〕で表されるイソシアネート中の基Yの具体例としては、フェニル基、ナフチル基、ピリジル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、キノリニル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズイミダゾロニル基などが挙げられる。
上記のYで表される基が有してもよい置換基は、例えば、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン化低級アルキル基、低級アルコキシ基、置換基を有してもよいフェノキシ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいフェニルアミノカルボニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、低級アシルアミノ基、置換基を有してもよいベンゾイルアミノ基、低級アルキルアミノスルホニル基などが挙げられる。これらの基がさらに置換基を有する場合の置換基としては、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン化低級アルキル基、低級アルコキシ基、ニトロ基、シアノ基などが挙げられる。
本発明に用いるウレイド化剤である一般式〔5〕で表されるイソシアネートは、例えば、酢酸エチルなどの溶媒中で、アミン類に、ホスゲン、トリホスゲンなどから選択されるホスゲン化剤を室温で作用させる方法により得ることが出来る。
本発明において、一般式〔1〕で表される、アミノカルボニル基を有するナフトール誘導体と一般式〔5〕で表されるイソシアネートの反応は、反応温度90〜200℃、好ましくは100〜180℃、より好ましくは120〜150℃で行われる。反応温度が90℃より低ければ、ナフトール誘導体の有機溶媒への溶解度が低下することにより反応速度が極端に低下する。反応温度が200℃より高ければ、加熱に多大なエネルギーを要するとともにイソシアネートの種類によっては副反応を起こす場合があり好ましくない。
本発明において用いられる有機溶媒は、イソシアネートとアミノカルボニル基の反応によるウレイド化を阻害しないものであれば特に制限されない。本発明において好適に使用される有機溶媒としては、例えば、キシレン、トルエン、メシチレン、ニトロベンゼン、クロルベンゼン、ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、N−メチル−2−ピロリドン、ヘキサメチルホスホルアミド、スルホラン、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、ジクロロメタン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチルエーテルなどから選択される1種以上が挙げられる。これらの中でも、キシレン、トルエン、メシチレン、ニトロベンゼン、クロルベンゼンから選ばれる有機溶媒を単独で用いるのが、沸点が高いことや、溶媒を回収後に精製し再利用しやすい点などで特に好ましい。
上記の方法により合成されたウレイド化されたナフトール誘導体は、濃縮晶析、冷却晶析、加水晶析、抽出などの常法によって反応液から回収され、所望により再結晶、有機溶媒洗浄、水洗浄などにより精製される。
このようにして得られたウレイド化されたナフトール誘導体は、例えばアゾ色素などの染料・顔料、液晶材料などの合成原料として好適に利用される。特に染料・顔料などの色材の合成原料用途においては、多様な色相の色材を合成可能にする点で有用なものである。
以下、実施例により本発明を詳細に説明する。
(実施例1)
Figure 2005220049
2−アセトキシ−6−アミノカルボニルナフタレン 2.3g(10mmol)をキシレン 46gに懸濁し、イソシアン酸 3−ニトロフェニル 1.97g(12mmol。ナフトール誘導体に対して1.2倍モル)を加えた。130℃で2時間反応させた後、室温まで冷却し、析出した結晶を濾過した。これをメタノールで洗浄した後、乾燥して白色粉末 3.2gを得た。2−アセトキシ−6−アミノカルボニルナフタレンを基準とする収率は81.4%であった。
(実施例2〜5)
ナフトール誘導体およびイソシアネートを表1に示すものに変える他は、実施例1と同様にしてウレイド化反応を行った。その結果を表1に示す。
Figure 2005220049
(比較例1)
Figure 2005220049
2−アセトキシナフタレン−6−カルボン酸9.21gをテトラヒドロフラン73.7gに懸濁し、N,N−ジメチルホルムアミドを加えた後、塩化チオニル7.2gを加えて50℃にて2時間反応させた。その後、残存する塩化チオニルを溶剤と共に留去し、これに3−ニトロフェニル尿素8.7gをテトラヒドロフラン73.7gに懸濁させた液を加え、還流下24時間反応させた。室温まで冷却後、析出した結晶を濾別し、繰り返しメタノール洗浄し、目的物2.8gを得た。2−アセトキシナフタレン−6−カルボン酸を基準とする収率は17.8%であった。
(実施例6、実施例7、比較例2、および比較例3)
ウレイド化反応時の反応温度、反応溶媒を表2に示す通りに変更する他は、実施例1と同様にしてウレイド化反応を行った。反応後の反応液を高速液体クロマトグラフにて分析し、目的物であるウレイド化されたナフトール誘導体の生成率を求めた。その結果を表2に示す。
Figure 2005220049

Claims (3)

  1. 一般式〔1〕で表されるアミノカルボニル基を有するナフトール誘導体と、一般式〔5〕で表されるイソシアネートを、有機溶媒中で90〜200℃の温度下で反応させることを特徴とする、一般式〔6〕で表されるヒドロキシナフタレンカルボン酸類のウレイド誘導体の製造方法。
    Figure 2005220049
    [式中、Xは水素原子、シアノ基、一般式〔2〕、一般式〔3〕、および一般式〔4〕
    Figure 2005220049
    Figure 2005220049
    Figure 2005220049
    からなる群から選ばれる基である;
    は、炭素原子数1〜20の分岐を有してもよく置換基を有していてもよく不飽和結合を有してもよい脂肪族基、置換基を有してもよい芳香族基、および置換基を有してもよい共役二重結合を有する複素環基からなる群から選ばれる基;
    は、炭素原子数1〜6の分岐を有してもよく不飽和結合を有してもよい脂肪族基;
    Aは、置換基を有していてもよい、芳香族基または共役二重結合を有する複素環基;
    Zは、−O−、−S−、−NH−から選択される基;
    Qは、分岐を有してもよい低級アルキル基および低級アルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、およびニトロソ基からなる群から選ばれる基;
    nは、0〜3の整数;
    は、水素原子、低級アルキル基、炭素原子数2〜6のアシル基、およびフェニルアルキル基からなる群から選ばれる基である。]
    Figure 2005220049
    [式中、Yは置換基を有してもよい芳香族基、または置換基を有してもよい共役二重結合を有する複素環基である。]
    Figure 2005220049
    [式中、X、Q、n、R、およびYは、式〔1〕および式〔5〕と同義。]
  2. 一般式〔1〕で表されるアミノカルボニル基を有するナフトール誘導体において、Rが炭素原子数2〜6のアシル基であり、Xが水素原子であり、nが0である、請求項1に記載のヒドロキシナフタレンカルボン酸類のウレイド誘導体の製造方法。
  3. 有機溶媒が、トルエン、キシレン、メシチレン、ニトロベンゼン、クロルベンゼンからなる群から選択される請求項1または2に記載のヒドロキシナフタレンカルボン酸類のウレイド誘導体の製造方法。
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