KR20050021531A - 기판에 물질을 균일하게 분산시키는 방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 담체 또는 기판, 또는 상이한 담체 또는 기판의 혼합물에 물질 또는 물질의 혼합물의 신규한 향상된 분산 방법에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 이러한 방법에 의해 수득된 원료, 다중성분 조성물, 반-가공된 생성물 또는 최종 제품, 및 이러한 방법에 사용된 물질 또는 물질의 혼합물의 미세분말에 관한 것이다. 특히 본 발명은 가소성 물질에 첨가제의 혼입에 있어서 이러한 방법의 적용 및 이 목적을 위해 제조된 가소성 첨가제 미세분말에 관한 것이다.

Description

기판에 물질을 균일하게 분산시키는 방법{METHOD OF UNIFORMLY DISTRIBUTING A SUBSTANCE IN SUBSTRATE}

본 발명은 담체 또는 기판, 또는 상이한 담체 또는 기판의 혼합물에 물질 또는 물질의 혼합물의 신규한 향상된 분산 방법에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 이러한 방법에 의해 수득된 원료, 다중성분 조성물, 반-가공된 생성물 또는 최종 제품, 및 이러한 방법에 사용된 물질 또는 물질의 혼합물의 미세분말에 관한 것이다. 특히, 본 발명은 가소성 물질에 첨가제의 혼입에 있어서 이러한 방법의 적용 및 이 목적을 위해 제조된 가소성 첨가제 미세분말에 관한 것이다.

수많은 산업 분야는 담체에 소량의 하나 이상의 물질을 균일하게 분산시킬 것을 요구한다. 많은 경우 이들 물질은 임의의 요구되는 기능을 수득하거나 유지하기 위하여, 이들로부터 제조된 각각의 담체 또는 제품의 제조를 위해 중요한 물질이다. 따라서, 소량으로 사용된 첨가제는 기능적인 성질의 손실 없이 중단될 수 없다. 이러한 적용에서, 한편으로 분리는 방지되므로, 분말보다 과립을 사용하는 것이 일반적이고, 다른 한편으로 먼지가 없는 형태가 바람직하다. 그러나, 만족스러운 균일한 분산은 통상적으로 형태 전환 작동으로 제한된 범위로만 달성된다. 이왕 복잡한 공합 단계에 의해 수득된다면, 사실상 요구되는 균질한 분산이 순차적으로 야기된다. 예를 들어 가소성 물질에서 향상된 분산을 위하여 첨가제 및 안료는 마스터배치(masterbatch)(유사하거나 또는 상이한 가소성 물질에서 첨가제 또는 안료의 농축물)로 먼저 가공되고, 이들이 가소성 물질에 유입되는 형태로 존재한다.

따라서, 본 발명의 목적은 복잡한 공학 단계 없이 담체 또는 기판, 또는 상이한 담체 또는 기판의 혼합물에 상대적으로 소량의 물질 또는 물질의 혼합물의 균일한 분산을 달성하고, 기술적으로 단순하고 경제적인 방법에 의해 균일한 다중성분 원료 조성물, 반-가공된 생성물 또는 최종 제품을 제조하는 것이다.

이러한 목적은 입자 크기 50㎛ 미만인 물질 또는 물질의 혼합물(이하, A로 지칭함)을 입자 크기 5㎛ 미만인 담체 또는 기판의 표면 또는 상이한 담체 또는 기판의 혼합물(이하, B로 지칭함)에 균일하게 적용하고, 수득된 혼합물을 압력 및/또는 온도를 사용하여 형태 전환 작동을 수행함으로써 달성되고, 이때 작동동안 혼합물의 점도는 50mPas*s 이상이다.

물질 A의 미세한 분쇄화는 기판 B의 표면상에 균일하게 분산되도록 하는 크기를 유도한다. 성분이 혼합된 후, 수득된 상이한 입자 크기를 갖는 분말을 포함하는 혼합물은 압력 및/또는 온도에 의해 점성 상태(50mPas*s 이상의 점도)로 전환되고, 상응하는 원료 조성물, 반-가공된 생성물 또는 최종 제품으로 가공된다. 기하학 비율의 특정한 선택은 존재하는 기술과 비교하여, 전체적으로 실질적으로 보다 균질한 분산을 제조하고 상응하는 긍정적 특성을 초래하거나, 또는 적은 노력으로 동일한 버금가는 성질을 유도한다.

본 발명의 방법은 기판에 활성 물질로서 혼입된 물질이 기판에 균질하게 분산된 결과로서 더 우수한 활성을 갖도록 하는 효과를 갖는다. 즉 이전에 비해 보다 작은 양으로 효과적이고, 균질한 분산을 달성하는데 요구되는 노력이 통상적인 방법을 사용하는 경우 보다 덜 요구된다.

미분된 왁스에 의해 중합체로 안료를 분산하는 공지된 기술과 비교하여, 본 발명은 거친 입자화 기판에 미분된 물질을 보다 우수하게 분산하는 것을 포함하는 반면, 상기 기술은 미분된 거친 물질에 미분된 왁스(그러나, 안료보다 더 거친 입자 크기로)에 의해 초미세 입자 및/또는 이들의 응집물을 분산하는 것으로 구성된다. 따라서, 공지된 기술에서, "기판"에 대한 보조제의 크기 비율은 반대이며, 각각의 경우 세 개의 상이한 입자 크기는 서로 가공되는 반면, 본 발명에서는-크기에서 상이한 혼합물을 사용할 때를 제외하고- 단지 두 개의 상이한 입자 크기가 조합된다.

본 발명의 하나의 바람직한 양태에서, 형태 전환 작동 후 물질 A에 완전히 용해되도록 적어도 일부분으로 존재한다.

본 발명이 신규한 방법의 하나의 전형적인 적용은 균일한 분산이 첨가제의 활성을 위해 본질적으로 미리 요구되는 가소성 물질에 첨가제를 혼입하는 것이다. 신규한 방법을 사용하여, 가소성 물질에 임의의 요구되는 첨가제를 보다 균일하게 분산하는 것이 실제로 가능하여, 실제로 적은 양의 이들 첨가제는 가소성 물질에서 보다 우수한 효과를 유도한다.

중요한 추가의 적용은 규화 물질에 응집물의 향상된 분산 또는 분말 피복 물질에 첨가제의 향상된 분산이다.

물질 A는 공지된 기술 및 에너지 유입에 의해 보다 거친 입자로부터 요구되는 크기 범위를 초래할 수 있다. 입자 순서의 측정으로서 각각 보다 크고 작은 입자의 절반의 초과 및 미만인 물질 A의 중간 값 D₅₀을 50㎛ 미만으로 정하였다. D₅₀으로 언급된 입자 크기의 중간 값은 보다 크고 보다 작은 입자의 50%가 위치하는 초과 및 미만의 수를 나타낸다. 근원적인 분산 함수는 임의적이고 D₉₀을 가져야하고 보다 작은 입자의 90%가 100㎛에 위치되는 미만의 수로서 이해된다. 그러나, 이러한 물질 A의 크기 순서는 적합한 입자의 구성에 의해 또는 직접적인 제조 또는 분류에 의해 수득할 수 있다. 물질 A는 바람직하게 20㎛ 미만의 입자 크기, 더욱 바람직하게 10㎛ 미만의 입자 크기를 갖는다.

물질 A는 일반적으로 기판 B에 대해 1:20 미만, 바람직하게 1:50 미만, 더욱 바람직하게 1:100 미만의 크기 비율로 존재하며, 이때 바람직하게 5mm 미만, 더욱 바람직하게 2mm 미만, 보다 바람직하게 1mm 미만의 입자 크기를 갖는다.

기판 B의 표면에 물질 A의 적용은(표면 위에 이의 부착) 물질에 의존하여, 작동동안 부착력에 의해서 뿐만 아니라(비전도성 물질의 경우) 정전기 전하에 의해서 야기되고 유지된다. 따라서, 이들의 인력의 결과로서 예를 들어 A의 충분히 작은 입자와 다양한 물질을 단순히 접촉시킴으로써 단순한 방식으로 피복하는 것이 가능하다. A의 입자의 선택된 작은 크기는 중량 힘 작용이 작고, 보다 거친 입자화 제제로 빈번하게 관찰되는 일종의 분리를 방지하는 것을 의미한다.

이후에, A 및 B의 혼합물을 압력 및/또는 온도를 사용하여 형태 전환 작동시켜 선택적으로 원료 조성물, 반-가공된 생성물로 유도하거나 또는 가공된 최종 제품으로 직접 유도한다. 이 경우에, 혼합물을 50mPas*s 이상, 바람직하게는 100mPas*s 이상, 더욱 바람직하게는 200mPas*s 이상, 특히 500mPas*s 이상의 점도를 갖는 점도 상태로 유도하는 임의의 형태 전환 방법을 사용하는 것이 가능하다. 압출성형, 니딩(kneading), 규소화, 회전 용융, 압착 성형, 주조 및 분말 피복에 있어서 언급될 수 있다.

본 발명의 하나의 바람직한 양태는 가소성 물질에 가소성을 위한 첨가제를 미세분말의 형태로 혼입하는 단계를 포함한다.

가소성을 위한 첨가제는 미세분말로서가 아닌 보편적으로 플레이크, 과립, 분말, 분산액 또는 유화액으로서 첨가되며, 바람직한 사용 형태는 첨가제의 활성에서 이제까지 발견된 상이함 없이, 단지 취급이 용이한 관점에서 선택된다. 가소성 첨가제의 다양한 시판되는 형태는 분말 내지 과립으로 공지되어 있고, 모든 형태를 의미한다. 다양한 이유로(직업적 위생, 취급, 제조 공정, 중합체 과립과 혼합 등), 분말보다 거칠고 먼지가 없는 시판되는 형태로 되어가는 경향이 있다.

그러나, 첨가제는 이들의 활성을 균일하게 진보시키기 위해서, 가소성 물질중에 효과적으로 분산되고, 바람직하게는 용해되어야한다.

가소성 물질의 공정은 중합체 및 첨가제의 용융점 초과의 온도에서 수행된다. 이러한 가공중 압출성형기에서, 중합체 및 첨가제 또는 추가의 보조제는 화학적 방법에 의해 강하게 용융 혼합된다. 따라서, 특히 많은 경우에서 첨가제를 사용하는 하나 이상의 가공 단계가 수행되기 때문에 이러한 작동의 결과로서 첨가제가 중합체에 충분히 혼입되고 균질하게 분산된다는 것이 추정된다.

첨가제 제조에 대한 소책자에서 반복적으로 첨가제의 적당한 혼입을 지칭할 지라도 적절한 전문 도서는 이 주제를 전혀 다루지 않는다(개츠테르/뮐레르(Gaechter/Mueller)의 문헌[Plastics Additives Handbook] 참조). 따라서, 첨가제의 활성/효율은 시판되는 형태에 독립적임이 추정된다.

그러나, 놀랍게도 미세분말의 사용을 통해서 첨가제의 활성의 놀라운 증가가 달성되는 것이 가능함을 발견하였다. 미분된 첨가제를 사용할 때 효율이 훨씬 더 높고, 따라서 선택적으로

-동일한 양을 첨가하여 생산성에서 놀라운 증가를 수득할 수 있거나; 또는

-첨가제의 동일한 활성을 보다 적게 첨가된 양으로 수득할 수 있거나; 또는

-단순화된 혼입으로 동일한 활성을 달성할 수 있거나(더 낮은 기계 비용 등); 또는

-가능하게, 단순화된 가공 작동이(첨가제의 효과적인 혼입을 위해서 더 낮은 가공 단계) 실제로 가능하다.

미세분말의 사용이 효과적인 혼입을 유도하는 가공 기계에서 기계적 혼합/니딩을 동시에 사용하여 중합체 및 첨가제의 용융점보다 높은 온도에서 수행시킴에도 불구하고 이러한 방법으로 효율성이 향상된다는 사실이 놀랍다.

따라서, 본 발명의 하나의 바람직한 목적은 이들의 미분된 형태인 가소성 첨가제 및 혼합물이다.

미분된 형태(미세분말)는 50㎛ 미만의 입자 크기를 갖는 분말을 100㎛ 미만의 입자 크기 분포 D₉₀ 및 50㎛ 미만의 D₅₀, 바람직하게는 50㎛ 미만의 D₉₀ 및 20㎛ 미만의 D₅₀, 각각 30㎛ 미만의 D₉₀ 및 15㎛ 미만의 D₅₀임을 의미한다.

본 발명의 추가의 목적은 적당한 방법에 의해 이러한 마이크로니세이트(micronisate)의 제조, 및 가소성 물질 및 고무에서 이들의 사용이다. 제제화는 에너지 유입, 예컨대 밀, 예컨대 기계적 밀 또는 에어 제트 밀(비교 문헌[Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry; 5th edition, vol. B2: unit operations I; chapter 5: Size Reduction])에서 상대적으로 거친 형태의 분쇄로 보다 거친 입자를 연마하거나 또는 음향 또는 초음파에 노출시키거나, 결정화, 분무 또는 다른 공지된 방법 또는 직접 제조 또는 분리시킴으로서 더 작은 입자로부터 구성적인 방법에 의해 수행된다. 마이크로니세이트는 또한 분말 혼합물로부터 분리에 의해 제조될 수 있다(문헌[Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry; 5th edition, vol. B2: unit operations I; chapter 14-23: Solid-Solid Separation] 참조)

본 발명의 미세분말은 통상적으로 중합체 기판에 혼입될 수 있지만, 향상된 활성의 관점에서 볼 때 혼입의 다른 단순화된 방법이 고려될 수도 있다. 첨가제는 개츠테르/뮐레르의 문헌[Plastics Additives Handbook]에서 기술된 바와 같이 가공 성질을 증강시키고 또한 최종 제품의 요구되는 성질을 달성할 수 있다. 확실하게 강조할 만한 것은 폴리올레핀, 예컨대 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 등의 광 및 열에 대한 안정성 뿐만 아니라, 상기 언급된 문헌에서 개시된 모든 이외의 성질이다.

본 발명의 하나의 바람직한 목적은 HALS같은 공지된 부류로부터 선택된 안정화제이다. 기타로는 산화방지제, 가공 안정화제, 금속 탈활성화제, 공안정화제 등이 있다.

요구되는 특성을 유입하고, 이루거나 수득할 수 있는 안정화제외에도, 이들의 산업적인 제제화, 예컨대 보조제 또는 방출제 또는 건조제의 연마를 허용하는 미세한 분말로 보조제를 사용할 수 있다. 두 개의 후자 보조제는 이후의 응집을 방지하고자 한다.

중합성 물질중 다음이 언급될 수 있다:

1. 모노올레핀 및 다이올레핀의 중합체, 예컨대 폴리프로필렌, 폴리아이소뷰틸렌, 폴리부트-1-엔, 폴리-4-메틸펜트-1-엔, 폴리아이소프렌 또는 폴리뷰타다이엔, 및 사이클로올레핀, 예컨대 사이클로펜텐 또는 노보넨의 중합체; 추가적으로 폴리에틸렌(이는 선택적으로 가교될 수 있음); 예컨대 고밀도 폴리에틸렌(HDPE), 저밀도 폴리에틸렌(LDPE), 선형 저밀도 폴리에틸렌(LLDPE), 분지형 저밀도 폴리에틸렌(BLDPE), 폴리올레핀, 즉 상기 문단에 예시된 바와 같은 모노올레핀의 중합체, 특히 폴리에틸렌 및 폴리프로필렌은 다양하게, 특히 하기 방법에 의해 제조될 수 있다:

a) 자유-라디칼 중합화(보편적으로 고압 및 승온하에서)

b) 보편적으로 IVb, Vb, VIb 또는 VIII족의 하나 이상의 금속을 함유하는 촉매를 이용한 촉매 중합화. 이들 금속은 대체로 π- 또는 σ-배위될 수 있는 1개 이상의 리간드, 예컨대 옥사이드, 할라이드, 알콜레이트, 에스터, 에테르, 아민, 알킬, 알켄일 및/또는 아릴을 갖는다. 이들 금속 착체는 유리 형태일 수도 있고, 또는 기판, 예컨대 활성화된 염화마그네슘, 염화티탄(III), 알루미나 또는 산화규소상에 고정될 수도 있다. 이들 촉매는 중합 매질에서 가용성이거나 불용성일 수 있다. 상기 촉매는 중합 반응에서 활성일 수 있고, 또는 추가의 활성화제, 예컨대 금속 알킬, 금속 하이드라이드, 금속 알킬 할라이드, 금속 알킬 옥사이드 또는 금속 알킬옥세인을 사용할 수 있고, 상기 금속은 주기율표의 Ia, IIa 및/또는 IIIa족 원소이다. 활성화제는, 예컨대 추가의 에스터, 에테르, 아민 또는 실릴 에테르 기를 사용하여 개질될 수도 있다. 이들 촉매 시스템은 통상적으로 필립스(Phillips), 스탠다드 오일 인디아나(Standard Oil Indiana), 지글러(Ziegler)(-나타(-Natta)), TNZ(듀폰(Dupont)), 메탈로센 또는 단일 부위 촉매(SSC)라 부른다.

2. 상기 1에 언급된 중합체의 혼합물, 예컨대 폴리아이소뷰틸렌과 폴리프로필렌, 폴리에틸렌과 폴리프로필렌(예: PP/HDPE/LDPE)의 혼합물 및 서로 상이한 유형의 폴리에틸렌(예: LDPE/HDPE)의 혼합물.

3. 모노올레핀 및 다이올레핀 서로간 또는 다른 바이닐 단량체와의 공중합체, 예컨대 에틸렌-프로필렌 공중합체, 선형 저밀도 폴리에틸렌(LLDPE) 및 저밀도 폴리에틸렌(LDPE)과 이들의 혼합물, 프로필렌-부트-1-엔 공중합체, 프로필렌-아이소뷰틸렌 공중합체, 에틸렌-부트-1-엔 공중합체, 에틸렌-헥센 공중합체, 에틸렌-메틸펜텐 공중합체, 에틸렌-헵텐 공중합체, 에틸렌-옥텐 공중합체, 프로필렌-뷰타다이엔 공중합체, 아이소뷰틸렌-아이소프렌 공중합체, 에틸렌-알킬 아크릴레이트 공중합체, 에틸렌-알킬 메트아크릴레이트 공중합체, 에틸렌-바이닐 아세테이트 공중합체 및 일산화탄소와 이들의 공중합체, 또는 에틸렌-아크릴산 공중합체 및 이들의 염(아이오노머), 및 프로필렌 및 다이엔, 예컨대 헥사다이엔, 다이사이클로펜타다이엔 또는 에틸리덴-노보넨과 에틸렌의 삼원공중합체; 이러한 공중합체 서로간 및 상기 1에 언급했던 중합체와의 혼합물, 예컨대 폴리프로필렌-에틸렌-프로필렌 공중합체, LDPE-에틸렌-바이닐 아세테이트 공중합체, LDPE-에틸렌-아크릴산 공중합체, LLDPE-에틸렌-바이닐 아세테이트 공중합체, LLDPE-에틸렌-아크릴산 공중합체 및 교호 또는 랜덤 폴리알킬렌-일산화탄소 공중합체 및 다른 중합체, 예컨대 폴리아미드와 이들의 혼합물.

4. 수소화 개질제(예: 점착 부여제 수지) 및 폴리알킬렌 및 전분의 혼합물을 포함하는 탄화수소 수지(예: C₅-C₉).

5. 폴리스타이렌, 폴리(p-메틸스타이렌), 폴리(σ-메틸스타이렌).

6. 다이엔 또는 아크릴산 유도체와 스타이렌 또는 σ-메틸스타이렌의 공중합체, 예컨대 스타이렌-뷰타다이엔, 스타이렌-아크릴로나이트릴, 스타이렌-알킬 메트아크릴레이트, 스타이렌-뷰타다이엔-알킬 아크릴레이트, 스타이렌-뷰타다이엔-알킬 메트아크릴레이트, 스타이렌-말레산 무수물, 스타이렌-아크릴로나이트릴-메트아크릴레이트; 고충격강도를 갖는 스타이렌 공중합체 및 다른 중합체, 예컨대 폴리아크릴레이트, 다이엔 중합체 또는 에틸렌-프로필렌-다이엔 삼원공중합체의 혼합물; 스타이렌의 블록 공중합체, 예컨대 스타이렌-뷰타다이엔-스타이렌, 스타이렌-아이소프렌-스타이렌, 스타이렌-에틸렌/뷰틸렌-스타이렌 또는 스타이렌-에틸렌/프로필렌-스타이렌.

7. 스타이렌 또는 σ-메틸스타이렌의 그래프트 공중합체, 예컨대 폴리뷰타다이엔상의 스타이렌, 폴리뷰타다이엔-스타이렌 또는 폴리뷰타다이엔-아크릴로나이트릴 공중합체상의 스타이렌, 폴리뷰타다이엔상의 스타이렌 및 아크릴로나이트릴(또는 메트아크릴로나이트릴); 폴리뷰타다이엔상의 스타이렌, 아크릴로나이트릴 및 메틸 메트아크릴레이트; 폴리뷰타다이엔상의 스타이렌 및 말레산 무수물; 폴리뷰타다이엔상의 스타이렌, 아크릴로나이트릴 및 말레산 무수물 또는 말레이미드; 폴리뷰타다이엔상의 스타이렌 및 말레이미드; 폴리뷰타다이엔상의 스타이렌 및 알킬 아크릴레이트 또는 알킬 메트아크릴레이트, 에틸렌-프로필렌-다이엔 삼원공중합체상의 스타이렌 및 아크릴로나이트릴, 폴리알킬 아크릴레이트 또는 폴리알킬 메트아크릴레이트상의 스타이렌 및 아크릴로나이트릴, 아크릴레이트-뷰타다이엔 공중합체상의 스타이렌 및 아크릴로나이트릴 뿐만 아니라 상기 6에 언급했던 공중합체와 이들의 혼합물, 예를 들어 ABS, MBS, ASA 또는 AES 중합체로서 공지된 공중합체 혼합물.

8. 할로겐-함유 중합체, 예컨대 폴리클로로프렌, 염소화 고무, 염소화 또는 설포염소화 폴리에틸렌, 에틸렌 및 염소화 에틸렌의 공중합체, 에피클로로하이드린 단일중합체 및 공중합체, 특히 할로겐-함유 바이닐 화합물의 중합체, 예를 들어 폴리바이닐 클로라이드, 폴리바이닐리덴 클로라이드, 폴리바이닐 플루오라이드, 폴리바이닐리덴 플루오라이드; 뿐만 아니라 이들의 공중합체, 예를 들어 바이닐 클로라이드-바이닐리덴 클로라이드, 바이닐 클로라이드-바이닐 아세테이트 또는 바이닐리덴 클로라이드-바이닐 아세테이트.

9. α,β-불포화 산 및 이들의 유도체로부터 유도된 중합체, 예컨대 뷰틸 아크릴레이트로 충격-개질된 폴리아크릴레이트 및 폴리메트아크릴레이트, 폴리아크릴로나이트릴, 폴리아크릴아미드 및 폴리메틸 메트아크릴레이트.

10. 상기 9에서 언급했던 단량체 서로간 또는 다른 불포화 단량체와의 공중합체, 예컨대 아크릴로나이트릴-뷰타다이엔 공중합체, 아크릴로나이트릴-알킬 아크릴레이트 공중합체, 아크릴로나이트릴-알콕시알킬 아크릴레이트 공중합체, 아크릴로나이트릴-바이닐 할라이드 공중합체 또는 아크릴로나이트릴-알킬 메트아크릴레이트-뷰타다이엔 삼원공중합체.

11. 불포화 알콜 및 아민 또는 아실 유도체 또는 이들의 아세탈로부터 유도된 중합체, 예컨대 폴리바이닐 알콜, 폴리바이닐 아세테이트, 폴리바이닐 스테아레이트, 폴리바이닐 벤조에이트, 폴리바이닐 말레에이트, 폴리바이닐 뷰티랄, 폴리알릴 프탈레이트 또는 폴리알릴 멜라민; 및 상기 1에서 언급했던 올레핀과 이들의 공중합체.

12. 사이클릭 에테르의 단일중합체 및 공중합체, 예컨대 폴리알킬렌 글리콜, 폴리에틸렌 옥사이드, 폴리프로필렌 옥사이드 또는 비스글리시딜 에테르와 이들의 공중합체.

13. 폴리아세탈, 예컨대 폴리옥시메틸렌 및 공단량체, 예컨대 에틸렌 옥사이드를 함유한 폴리옥시메틸렌; 열가소성 폴리유레테인, 아크릴레이트 또는 MBS로 개질된 폴리아세탈.

14. 폴리페닐렌 옥사이드 및 설파이드, 및 스타이렌 중합체 또는 폴리아미드와 이들의 혼합물.

15. 한편은 하이드록실-말단 폴리에테르, 폴리에스터 및 폴리뷰타다이엔, 그리고 다른 한편은 지방족 또는 방향족 폴리아이소사이아네이트로부터 유도된 폴리유레테인, 및 이들의 전구체.

16. 다이아민 및 다이카복실산, 및/또는 아미노카복실산 또는 상응하는 락탐, 예컨대 폴리아미드 4, 6, 6/6, 6/10, 6/9, 6/12, 4/6, 12/12, 11 및 12, m-자일렌, 다이아민 및 아디프산으로부터 출발하는 방향족 폴리아미드로부터 유도된 코폴리아미드 및 폴리아미드; 개질제로서 엘라스토머, 예컨대 폴리-2,4,4-트라이메틸헥사메틸렌 테레프탈아미드 또는 폴리-m-페닐렌 아이소프탈아미드를 사용하거나 사용하지 않고 헥사메틸렌다이아민 및 아이소프탈산 및/또는 테레프탈산으로부터 제조된 폴리아미드, 폴리올레핀, 올레핀 공중합체, 아이오노머 또는 화학적으로 결합된 또는 그래프팅된 엘라스토머; 또는 폴리에테르, 예를 들어 폴리에틸렌 글리콜, 폴리프로필렌 글리콜 또는 폴리테트라메틸렌 글리콜과 전술한 폴리아미드의 블록 공중합체. 추가적으로, EPDM 또는 ABS로 개질된 폴리아미드 또는 코폴리아미드; 및 가공동안 응축된 폴리아미드(RIM 폴리아미드 시스템).

17. 폴리유레아, 폴리이미드, 폴리아미드-이미드 및 폴리벤즈이미다졸.

18. 다이카복실산 및 다이알콜 및/또는 하이드록시카복실산 또는 상응하는 락톤으로부터 유도된 폴리에스터, 예컨대 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리뷰틸렌 테레프탈레이트, 폴리-1,4-다이메틸올사이클로헥세인 테레프탈레이트, 폴리하이드록시벤조에이트, 및 하이드록실-말단 폴리에테르로부터 유도된 블록 폴리에테르-에스터; 및 폴리카보네이트 또는 MBS로 개질된 폴리에스터.

19. 폴리카보네이트 및 폴리에스터 카보네이트.

20. 폴리설폰, 폴리에테르 설폰 및 폴리에테르 케톤.

21. 한편은 알데하이드, 그리고 다른 한편은 페놀, 유레아 또는 멜라민으로부터 유도된 가교된 중합체, 예컨대 페놀/포름알데하이드 수지, 유레아/포름알데하이드 수지 및 멜라민/포름알데하이드 수지.

22. 건조 및 비건조 알키드 수지.

23. 가교제로서 다가 알콜 및 바이닐 화합물과 포화 및 불포화 다이카복실산의 코폴리에스터, 및 낮은 가연성을 갖는 이들의 할로겐 함유 개질제로부터 유도된 불포화 폴리에스터 수지.

24. 치환된 아크릴레이트, 예컨대 에폭시 아크릴레이트, 유레테인 아크릴레이트 또는 폴리에스터 아크릴레이트로부터 유도된 가교가능한 아크릴 수지.

25. 멜라민 수지, 유레아 수지, 아이소사이아네이트, 폴리아이소사이아네이트 또는 에폭시 수지로 가교된 알키드 수지, 폴리에스터 수지 및 아크릴 수지.

26. 폴리에폭시드, 예를 들어 비스글리시딜 에테르 또는 사이클로지방족 다이에폭시드로부터 유도된 가교된 에폭시 수지.

27. 중합체-상동 방식으로 화학적으로 개질된 천연 중합체, 예컨대 셀룰로즈, 천연 고무, 젤라틴 및 이들의 유도체, 예컨대 셀룰로즈 아세테이트, 셀룰로즈 프로피오네이트 및 셀룰로즈 뷰티레이트, 또는 셀룰로즈 에테르, 예컨대 메틸셀룰로즈; 및 로진 및 유도체.

28. 전술한 중합체의 혼합물(폴리블렌드), 예컨대 PP/EPDM, 폴리아미드/EPDM 또는 ABS, PVC/EVA, PVC/ABS, PVC/MBS, PC/ABS, PBTP/ABS, PC/ASA, PC/BT, PVC/CPE, PVC/아크릴레이트, POM/열가소성 PUR, PC/열가소성 PUR, POM/아크릴레이트, POM/MBS, PPO/MBS, PPO/HIPS, PPO/PA 6.6 및 공중합체, PA/HDPE, PA/PP, PA/PPO.

29. 순수한 단량체성 화합물 또는 이들의 혼합물로 구성된 천연 및 합성 유기 물질, 예컨대 광유, 동물성 또는 식물성 지방, 오일 및 왁스, 또는 합성 에스터(예: 프탈레이트, 아디페이트, 포스페이트 또는 트라이멜리테이트)계 오일, 왁스 및 지방, 및 예컨대 회전 연마제로서 이용된 것과 같은 임의의 목적하는 중량 비율로 이루어진 광유와 합성 에스터의 블렌드, 및 이들의 수성 유제.

30. 천연 또는 합성 고무의 수성 유화제, 예컨대 천연 고무 라텍스 또는 카복실화 스타이렌-뷰타다이엔 공중합체의 라텍스.

이들 중합체는 예를 들어 하기와 같은 추가의 첨가제를 포함할 수 있다:

1. 산화방지제

1.1 알킬화 모노페놀, 예를 들어 2,6-다이-t-뷰틸-4-메틸페놀, 2-뷰틸-4,6-다이메틸페놀, 2,6-다이-t-뷰틸-4-에틸페놀, 2,6-다이-t-뷰틸-4-n-뷰틸-페놀, 2,6-다이-t-뷰틸-4-아이소뷰틸페놀, 2,6-다이사이클로펜틸-4-메틸페놀, 2-(α-메틸사이클로헥실)-4,6-다이메틸페놀, 2,6-다이옥타데실-4-메틸페놀, 2,4,6-트라이사이클로헥실페놀, 2,6-다이-t-뷰틸-4-메톡시메틸페놀, 2,6-다이논일-4-메틸페놀, 2,4-다이메틸-6-(1'-메틸운데크-1'-일)페놀, 2,4-다이메틸-6-(1'-메틸헵타데실)페놀, 2,4-다이메틸-6-(1'-메틸트라이데실)페놀 및 이들의 혼합물.

1.2 알킬싸이오메틸페놀, 예를 들어 2,4-다이옥틸싸이오메틸-6-t-뷰틸페놀, 2,4-다이옥틸싸이오메틸-6-메틸페놀, 2,4-다이옥틸싸이오메틸-6-에틸페놀, 2,6-다이도데실싸이오메틸-4-논일페놀.

1.3 하이드로퀴논 및 알킬화 하이드로퀴논, 예를 들어 2,6-다이-t-뷰틸-4-메톡시페놀, 2,5-다이-t-뷰틸하이드로퀴논, 2,5-다이-t-아밀하이드로퀴논, 2,6-다이페닐-4-옥타데실옥시페놀, 2,6-다이-t-뷰틸하이드로퀴논, 2,5-다이-t-뷰틸-4-하이드록시아니솔, 3,5-다이-t-뷰틸-4-하이드록시아니솔, 3,5-다이-t-뷰틸-4-하이드록시페닐 스테아레이트, 비스(3,5-다이-t-뷰틸-4-하이드록시페닐) 아디페이트.

1.4 토코페롤, 예컨대 α-토코페롤, β-토코페롤, γ-토코페롤, δ-토코페롤 및 이들의 혼합물(비타민 E)

1.5 하이드록실화 싸이오다이페닐 에테르, 예를 들어 2,2'-싸이오비스(6-t-뷰틸-4-메틸-페놀), 2,2'-싸이오비스(4-옥틸페놀), 4,4'-싸이오비스(6-t-뷰틸-3-메틸페놀), 4,4'-싸이오비스(6-t-뷰틸-2-메틸페놀), 4,4'-싸이오비스(3,6-다이-s-아밀페놀), 4,4'-비스(2,6-다이메틸-4-하이드록시페닐)다이설파이드.

1.6 알킬리덴비스페놀, 예를 들어 2,2'-메틸렌비스(6-t-뷰틸-4-메틸-페놀), 2,2'-메틸렌비스(6-t-뷰틸-4-에틸페놀), 2,2'-메틸렌비스[4-메틸-6-(α-메틸사이클로헥실)페놀], 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-사이클로-헥실페놀), 2,2'-메틸렌비스(6-논일-4-메틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(4,6-다이-t-뷰틸페놀), 2,2'-에틸리덴비스(4,6-다이-t-뷰틸페놀), 2,2'-에틸리덴-비스(6-t-뷰틸-4-아이소뷰틸페놀), 2,2'-메틸렌비스[6-(α-메틸벤질)-4-논일페놀], 2,2'-메틸렌비스[6-(α,α-다이메틸벤질)-4-논일페놀], 4,4'-메틸렌비스(2,6-다이-t-뷰틸페놀), 4,4'-메틸렌비스(6-t-뷰틸-2-메틸-페놀), 1,1-비스(5-t-뷰틸-4-하이드록시-2-메틸페닐)뷰테인, 2,6-비스(3-t-뷰틸-5-메틸-2-하이드록시벤질)-4-메틸페놀, 1,1,3-트리스(5-t-뷰틸-4-하이드록시-2-메틸페닐)뷰테인, 1,1-비스(5-t-뷰틸-4-하이드록시-2-메틸페닐)-3-n-도데실머캡토부테인, 에틸렌 글리콜 비스[3,3-비스(3'-t-뷰틸-4'-하이드록시-페닐)뷰티레이트], 비스(3-t-뷰틸-4-하이드록시-5-메틸페닐)-다이사이클로펜타-다이엔, 비스[2-(3'-t-뷰틸-2'-하이드록시-5'-메틸벤질)-6-t-뷰틸-4-메틸-페닐]테레프탈레이트, 1,1-비스(3,5-다이메틸-2-하이드록시페닐)뷰테인, 2,2-비스(3,5-다이-t-뷰틸-4-하이드록시페닐)프로페인, 2,2-비스(5-t-뷰틸-4-하이드록시-2-메틸페닐)-4-n-도데실머캡토뷰테인, 1,1,5,5-테트라(5-t-뷰틸-4-하이드록시-2-메틸페닐)펜테인.

1.7 O-, N- 및 S-벤질 화합물, 예를 들어 3,5,3',5'-테트라-t-뷰틸-4,4'-다이-하이드록시다이벤질 에테르, 옥타데실 4-하이드록시-3,5-다이메틸벤질머캡토아세테이트, 트리스(3,5-다이-t-뷰틸-4-하이드록시벤질)아민, 비스(4-t-뷰틸-3-하이드록시-2,6-다이-메틸벤질)다이싸이오테레프탈레이트, 비스(3,5-다이-t-뷰틸-4-하이드록시벤질)설파이드, 아이소옥틸 3,5-다이-t-뷰틸-4-하이드록시벤질머캡토아세테이트.

1.8 하이드록시벤질화 말로네이트, 예를 들어 다이옥타데실 2,2-비스(3,5-다이-t-뷰틸-2-하이드록시벤질)말로네이트, 다이옥타데실 2-(3-t-뷰틸-4-하이드록시-5-메틸-벤질)말로네이트, 다이도데실 머캡토에틸-2,2-비스(3,5-다이-t-뷰틸-4-하이드록시-벤질)말로네이트, 다이-[4-(1,1,3,3-테트라메틸뷰틸)페닐] 2,2-비스(3,5-다이-t-뷰틸-4-하이드록시벤질)말로네이트.

1.9 방향족 하이드록시벤질 화합물, 예를 들어 1,3,5-트리스(3,5-다이-t-뷰틸-4-하이드록시벤질)-2,4,6-트라이메틸벤젠, 1,4-비스(3,5-다이-t-뷰틸-4-하이드록시-벤질)-2,3,5,6-테트라메틸벤젠, 2,4,6-트리스(3,5-다이-t-뷰틸-4-하이드록시벤질)-페놀.

1.10 트라이아진 화합물, 예를 들어 2,4-비스옥틸머캡토-6-(3,5-다이-t-뷰틸-4-하이드록시아닐리노)-1,3,5-트라이아진, 2-옥틸머캡토-4,6-비스(3,5-다이-t-뷰틸-4-하이드록시아닐리노)-1,3,5-트라이아진, 2-옥틸머캡토-4,6-비스(3,5-다이-t-뷰틸-4-하이드록시페녹시)-1,3,5-트라이아진, 2,4,6-트리스(3,5-다이-t-뷰틸-4-하이드록시페녹시)-1,2,3-트라이아진, 1,3,5-트리스(3,5-t-뷰틸-4-하이드록시벤질)-아이소사이아뉴레이트, 1,3,5-트리스(4-t-뷰틸-3-하이드록시-2,6-다이메틸벤질)-아이소사이아뉴레이트, 2,4,6-트리스(3,5-다이-t-뷰틸-4-하이드록시페닐에틸)-1,3,5-트라이아진, 1,3,5-트리스(3,5-다이-t-뷰틸-4-하이드록시-페닐-프로피오닐)헥사하이드로-1,3,5-트라이아진, 1,3,5-트리스-(3,5-다이사이클로헥실-4-하이드록시벤질)아이소사이아뉴레이트.

1.11 벤질포스포네이트, 예를 들어 다이메틸 2,5-다이-t-뷰틸-4-하이드록시벤질-포스포네이트, 다이에틸 3,5-다이-t-뷰틸-4-하이드록시벤질포스포네이트, 다이옥타데실 3,5-다이-t-뷰틸-4-하이드록시벤질포스포네이트, 다이옥타데실 5-t-뷰틸-4-하이드록시-3-메틸벤질포스포네이트, 3,5-다이-t-뷰틸-4-하이드록시벤질포스폰산의 모노에틸 에스터의 Ca 염.

1.12 아실아미노페놀, 예를 들어 4-하이드록시라우르아닐라이드, 4-하이드록시스테아르아닐라이드 옥틸 N-(3,5-다이-t-뷰틸-4-하이드록시페닐)카바메이트.

1.13 일가 또는 다가 알콜, 예를 들어 메탄올, 에탄올, 옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥세인다이올, 1,9-노네인다이올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로페인다이올, 네오펜틸 글리콜, 싸이오다이에틸렌 글리콜, 다이에틸렌 글리콜, 트라이에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(하이드록시에틸)아이소사이아뉴레이트, N,N'-비스(하이드록시에틸)옥살아미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타-데칸올, 트라이메틸헥세인다이올, 트라이메틸올프로페인, 4-하이드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트라이옥사바이사이클로[2.2.2]옥테인과 β-(3,5-다이-t-뷰틸-4-하이드록시페닐)프로피온산의 에스터.

1.14 일가 또는 다가 알콜, 예를 들어 메탄올, 에탄올, 옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥세인다이올, 1,9-노네인다이올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로페인다이올, 네오펜틸 글리콜, 싸이오다이에틸렌 글리콜, 다이에틸렌 글리콜, 트라이에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(하이드록시에틸)아이소사이아뉴레이트, N,N'-비스(하이드록시에틸)옥살아미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트라이메틸헥세인다이올, 트라이메틸올프로페인, 4-하이드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트라이옥사바이사이클로[2.2.2]옥테인과 β-(5-t-뷰틸-4-하이드록시-3-메틸페닐)프로피온산의 에스터.

1.15 일가 또는 다가 알콜, 예를 들어 메탄올, 에탄올, 옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥세인다이올, 1,9-노네인다이올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로페인다이올, 네오펜틸 글리콜, 싸이오다이에틸렌 글리콜, 다이에틸렌 글리콜, 트라이에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(하이드록시에틸)아이소사이아뉴레이트, N,N'-비스(하이드록시에틸)옥살아미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트라이메틸헥세인다이올, 트라이메틸올프로페인, 4-하이드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트라이옥사바이사이클로[2.2.2]옥테인과 β-(3,5-다이사이클로헥실-4-하이드록시페닐)프로피온산의 에스터.

1.16 일가 또는 다가 알콜, 예를 들어 메탄올, 에탄올, 옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥세인다이올, 1,9-노네인다이올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로페인다이올, 네오펜틸 글리콜, 싸이오다이에틸렌 글리콜, 다이에틸렌 글리콜, 트라이에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(하이드록시에틸)아이소사이아뉴레이트, N,N'-비스(하이드록시에틸)옥살아미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타-데칸올, 트라이메틸헥세인다이올, 트라이메틸올프로페인, 4-하이드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트라이옥사바이사이클로[2.2.2]옥테인과 3,5-다이-t-뷰틸-4-하이드록시페닐아세트산의 에스터.

1.17 β-(3,5-다이-t-뷰틸-4-하이드록시페닐)프로피온산의 아미드, 예를 들어, N,N'-비스(3,5-다이-t-뷰틸-4-하이드록시페닐프로피오닐)헥사메틸렌다이아민, N,N'-비스(3,5-다이-t-뷰틸-4-하이드록시페닐프로피오닐)트라이메틸렌다이아민, N,N'-비스(3,5-다이-t-뷰틸-4-하이드록시페닐프로피오닐)하이드라진.

2. UV 흡수제 및 광 안정화제

2.1 2-(2'-하이드록시페닐)벤조트라이아졸, 예를 들어 2-(2'-하이드록시-5'-메틸-페닐)벤조트라이아졸, 2-(3',5'-다이-t-뷰틸-2'-하이드록시페닐)벤조트라이아졸, 2-(5'-t-뷰틸-2'-하이드록시페닐)벤조트라이아졸, 2-[2'-하이드록시-5'-(1,1,3,3-테트라메틸-뷰틸)페닐]벤조트라이아졸, 2-(3',5'-다이-t-뷰틸-2'-하이드록시페닐)-5-클로로-벤조트라이아졸, 2-(3'-t-뷰틸-2'-하이드록시-5'-메틸페닐)-5-클로로벤조트라이아졸, 2-(3'-s-뷰틸-5'-t-뷰틸-2'-하이드록시페닐)벤조트라이아졸, 2-(2'-하이드록시-4'-옥톡시페닐)벤조트라이아졸, 2-(3',5'-다이-t-아밀-2'-하이드록시페닐)벤조트라이아졸, 2-(3',5'-비스(α,α-다이메틸벤질)-2'-하이드록시페닐)벤조트라이아졸, 2-(3'-t-뷰틸-2'-하이드록시-5'-(2-옥틸옥시카보닐에틸)페닐)-5-클로로벤조-트라이아졸, 2-(3'-t-뷰틸-5'-[2-(2-에틸헥실옥시)카보닐에틸]-2'-하이드록시페닐)-5-클로로벤조트라이아졸, 2-(3'-t-뷰틸-2'-하이드록시-5'-(2-메톡시카보닐에틸)페닐)-5-클로로벤조트라이아졸, 2-(3'-t-뷰틸-2'-하이드록시-5'-(2-메톡시카보닐에틸)페닐)벤조트라이아졸, 2-(3'-t-뷰틸-2'-하이드록시-5'-(2-옥틸옥시-카보닐에틸)페닐)벤조트라이아졸, 2-(3'-t-뷰틸-5'-[2-(2-에틸헥실옥시)-카보닐에틸]-2'-하이드록시페닐)벤조트라이아졸, 2-(3'-도데실-2'-하이드록시-5'-메틸페닐)벤조트라이아졸 및 2-(3'-t-뷰틸-2'-하이드록시-5'-(2-아이소옥틸옥시-카보닐에틸)페닐벤조트라이아졸, 2,2'-메틸렌비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸-뷰틸)-6-벤조트라이아졸-2-일페놀]의 혼합물; 폴리에틸렌 글리콜 300과 2-[3'-t-뷰틸-5'-(2-메톡시카보닐에틸)-2'-하이드록시페닐]벤조트라이아졸의 트랜스에스터화 생성물; [R-CH₂CH₂-COO(CH₂)₃]₂(여기서, R은 3'-t-뷰틸-4'-하이드록시-5'-2H-벤조트라이아졸-2-일페닐임).

2.2 2-하이드록시벤조페논, 예를 들어 4-하이드록시, 4-메톡시, 4-옥톡시, 4-데실옥시, 4-도데실옥시, 4-벤질옥시, 4,2',4'-트라이하이드록시 및 2'-하이드록시-4,4'-다이-메톡시 유도체.

2.3 치환되거나 비치환된 벤조산의 에스터, 예를 들어 4-t-뷰틸-페닐 살리실레이트, 페닐 살리실레이트, 옥틸페닐 살리실레이트, 다이벤조일레조르시놀, 비스(4-t-뷰틸벤조일)레조르시놀, 벤조일레조르시놀, 2,4-다이-t-뷰틸페닐 3,5-다이-t-뷰틸-4-하이드록시벤조에이트, 헥사데실 3,5-다이-t-뷰틸-4-하이드록시벤조에이트, 옥타데실 3,5-다이-t-뷰틸-4-하이드록시벤조에이트, 2-메틸-4,6-다이-t-뷰틸페닐 3,5-다이-t-뷰틸-4-하이드록시벤조에이트.

2.4 아크릴레이트, 예를 들어 에틸 또는 아이소옥틸 α-사이아노-β,β-다이페닐아크릴레이트, 메틸 α-카보메톡시신나메이트, 메틸 또는 뷰틸 α-사이아노-β-메틸-p-메톡시-신나메이트, 메틸 α-카보메톡시-p-메톡시신나메이트, N-(β-카보메톡시-β-사이아노바이닐)-2-메틸인돌린.

2.5 니켈 화합물, 예를 들어 2,2'-싸이오비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸뷰틸)페놀]의 니켈 착체, 예컨대 추가의 리간드를 갖거나 갖지 않은, 1:1 또는 1:2 착체, 예컨대 n-뷰틸아민, 트라이에탄올아민 또는 N-사이클로헥실다이에탄올아민, 니켈 다이뷰틸다이싸이오카바메이트, 모노알킬 에스터, 예컨대 메틸 또는 에틸 에스터, 4-하이드록시-3,5-다이-t-뷰틸벤질포스폰산 니켈 염, 케톡심의 니켈 착체, 예를 들어 2-하이드록시-4-메틸페닐 운데실 케톡심의 니켈 착체, 추가의 리간드를 갖거나 갖지 않은 1-페닐-4-라우로일-5-하이드록시피라졸의 니켈 착체.

2.6 입체 장애 아민, 예를 들어 비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딜) 세바케이트, 비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딜) 석시네이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-피페리딜) 세바케이트, n-뷰틸-3,5-다이-t-뷰틸-4-하이드록시벤질말론산 비스-(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜)-에스터, 1-하이드록시에틸-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리딘 및 숙신산의 응축물, N,N'-비스-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)헥사메틸렌다이아민 및 4-t-옥틸아미노-2,6-다이클로로-1,3,5-s-트라이아진의 응축물, 트리스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)나이트릴로트라이아세테이트, 테트라키스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-1,2,3,4-뷰테인테트라오에이트, 1,1'-(1,2-에테인다이일)-비스(3,3,5,5-테트라메틸피페라진온), 4-벤조일-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 4-스테아릴옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜)-2-n-뷰틸-2-(2-하이드록시-3,5-다이-t-뷰틸벤질)말로네이트, 3-n-옥틸-7,7,9,9-테트라메틸-1,3,8-트라이아자스피로[4.5]데케인-2,4-다이온, 비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라-메틸피페리딜) 세바케이트, 비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜) 석시네이트, N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)헥사메틸렌다이아민 및 4-모폴리노-2,6-다이클로로-1,3,5-트라이아진의 응축물, 2-클로로-4,6-다이-(4-n-뷰틸아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)-1,3,5-트라이아진 및 1,2-비스(3-아미노프로필아미노)에테인의 응축물, 2-클로로-4,6-다이-(4-n-뷰틸아미노-메톡시프로필아미노-1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜)-1,3,5-트라이아진 및 1,2-비스-(3-아미노프로필아미노)에테인의 응축물, 8-아세틸-3-도데실-7,7,9,9-테트라메틸-1,3,8-트라이아자스피로[4.5]데케인-2,4-다이온, 3-도데실-1-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)피롤리딘-2,5-다이온, 3-도데실-1-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)-피롤리딘-2,5-다이온.

2.7 옥살아미드, 예를 들어 4,4'-다이옥틸옥시옥사닐라이드, 2,2'-다이에톡시옥사닐라이드, 2,2'-다이옥틸옥시-5,5'-다이-t-뷰틸옥사닐라이드, 2,2'-다이도데실옥시-5,5'-다이-t-뷰틸옥사닐라이드, 2-에톡시-2'-에틸옥사닐라이드, N,N'-비스(3-다이메틸아미노프로필)-옥살아미드, 2-에톡시-5-t-뷰틸-2'-에틸옥사닐라이드 및 2-에톡시-2'-에틸-5,4'-다이-t-뷰틸옥사닐라이드와의 혼합물 및 o- 및 p-메톡시-이치환된 및 o- 및 p-에톡시-이치환된 옥사닐라이드의 혼합물.

2.8 2-(2-하이드록시페닐)-1,3,5-트라이아진, 예를 들어 2,4,6-트리스(2-하이드록시-4-옥틸-옥시페닐)-1,3,5-트라이아진, 2-(2-하이드록시-4-옥틸옥시페닐)-4,6-비스(2,4-다이메틸-페닐)-1,3,5-트라이아진, 2-(2,4-다이하이드록시페닐)-4,6-비스(2,4-다이메틸페닐)-1,3,5-트라이아진, 2,4-비스(2-하이드록시-4-프로필옥시페닐)-6-(2,4-다이메틸페닐)-1,3,5-트라이아진, 2-(2-하이드록시-4-옥틸옥시페닐)-4,6-비스(4-메틸페닐)-1,3,5-트라이아진, 2-(2-하이드록시-4-도데실옥시페닐)-4,6-비스(2,4-다이메틸페닐)-1,3,5-트라이아진, 2-[2-하이드록시-4-(2-하이드록시-3-뷰틸옥시-프로필옥시)페닐]-4,6-비스(2,4-다이메틸페닐)-1,3,5-트라이아진, 2-[2-하이드록시-4-(2-하이드록시-3-옥틸옥시프로필-옥시)페닐]-4,6-비스(2,4-다이메틸페닐)-1,3,5-트라이아진.

3. 금속 탈활성화제, 예를 들어 N,N'-다이페닐옥살아미드, N-살리실알-N'-살리실오일하이드라진, N,N'-비스(살리실오일)하이드라진, N,N'-비스(3,5-다이-t-뷰틸-4-하이드록시페닐프로피오닐)하이드라진, 3-살리실오일아미노-1,2,4-트라이아졸, 비스(벤질리덴)옥살릴 다이하이드라자이드, 옥사닐라이드, 아이소프탈로일 다이하이드라자이드, 세바코일 비스-페닐하이드라자이드, N,N'-다이아세틸아디포일 다이하이드라자이드, N,N'-비스(살리실오일)옥살릴 다이하이드라자이드, N,N'-비스(살리실오일)싸이오프로피오닐 다이하이드라자이드.

4. 포스파이트 및 포스포나이트, 예를 들어 트라이페닐 포스파이트, 다이페닐 알킬 포스파이트, 페닐 다이알킬 포스파이트, 트리스(논일페닐) 포스파이트, 트라이라우릴 포스파이트, 트라이옥타데실 포스파이트, 다이스테아릴 펜타에리트리톨 다이포스파이트, 트리스(2,4-다이-t-뷰틸페닐)포스파이트, 다이아이소데실 펜타에리트리톨 다이포스파이트, 비스(2,4-다이-t-뷰틸페닐) 펜타에리트리톨 다이포스파이트, 비스(2,6-다이-t-뷰틸-4-메틸페닐) 펜타에리트리톨 다이포스파이트, 비스아이소데실옥시 펜타에리트리톨 다이포스파이트, 비스(2,4-다이-t-뷰틸-6-메틸페닐) 펜타에리트리톨 다이포스파이트, 비스(2,4,6-트라이-t-뷰틸-페닐) 펜타에리트리톨 다이포스파이트, 트라이스테아릴 소르비톨 트라이포스파이트, 테트라키스(2,4-다이-t-뷰틸페닐) 4,4'-바이페닐렌다이포스포나이트, 6-아이소옥틸옥시-2,4,8,10-테트라-t-뷰틸-12H-다이벤조[d,g]-1,3,2-다이옥사포스포신, 6-플루오로-2,4,8,10-테트라-t-뷰틸-12-메틸-다이벤조[d,g]-1,3,2-다이옥사포스포신, 비스(2,4-다이-t-뷰틸-6-메틸-페닐)메틸 포스파이트, 비스(2,4-다이-t-뷰틸-6-메틸페닐) 에틸 포스파이트.

5. 퍼옥사이드 제거제, 예를 들어 β-싸이오다이프로피온산의 에스터, 예를 들어, 라우릴, 스테아릴, 미리스틸 또는 트라이데실 에스터, 머캡토벤즈이미다졸, 2-머캡토벤즈이미다졸의 아연 염, 아연 다이뷰틸다이싸이오카바메이트, 다이옥타데실 다이설파이드, 펜타에리트리톨 테트라키스(β-도데실머캡토)프로피오네이트.

6. 폴리아미드 안정화제, 예를 들어 요오드 및/또는 인 화합물과 조합된 구리 염 및 이가 마그네슘의 염.

7. 염기성 공안정화제, 예를 들어 멜라민, 폴리바이닐피롤리돈, 다이싸이안다이아미드, 트리알릴 시아눌레이트, 유레아 유도체, 하이드라진 유도체, 아민, 폴리-아미드, 폴리유레탄, 고급 지방산의 알칼리 금속 및 토금속 염, 예를 들어 Ca 스테아레이트, Zn 스테아레이트, Mg 베헤네이트, Mg 스테아레이트, Na 리시놀레이트, K 팔미테이트, 안티몬 피로카테콜 또는 주석 파이로카테콜.

8. 핵형성제, 예를 들어 4-t-뷰틸벤조산, 아디프산, 다이-페닐아세트산.

9. 충진제 및 강화제, 예를 들어 칼슘 카보네이트, 실리케이트, 유리 섬유, 석면, 활석, 카올린, 운모, 바륨 설페이트, 금속 산화물 및 금속 수산화물, 카본 블랙, 그래파이트.

10. 기타 첨가제, 예를 들어 그밖의 첨가제, 예를 들어 가소제, 윤활제, 유화제, 안료, 광학 증백제, 내연제, 대전방지제, 취입성형제.

이들 추가적인 첨가제는 중합체에 본 발명의 미세 분말의 첨가 전, 동시 또는 후에 첨가될 수 있다. 이들 첨가제 및 본 발명의 미세분말의 모든 첨가는 고체 형태, 액체 또는 용융으로서 수행되고 고체 또는 액체 혼합물, 또는 마스터배치/농축액의 형태로도 수행될 수 있다.

본 발명의 구체적 양태는 하기 실시예에 의해 제시되지만, 유사 영역에 대한 이의 적합성을 제한하고자하지 않는다.

실시예 1

실험실 기구

1. 마이크로-머시나지온(Micro-Machinazione)의 MC 100

2. 호소가와 알핀(Hosokawa Alpine)의 AFG 100

재료 처리량 약 1kg/시간

제조 단위

호소가와 알핀의 AFG 710-4

재료 처리량: 40kg/시간

실험적인 제제화 지시

미분된 생성물을 마이크로-머시나지온 S.A.의 MC 100 제분기상에서 제조한다. 최종 효과에서 초미세 분말의 유출 통로에 상응하는 거친 분말의 유동을 일으키도록 진동성 급류로 밀에 출발 생성물을 공급한다. 밀을 작동하기 위한 공기 압력을 7바로 설정한 다음, 계량된 첨가를 개시한다. 사용된 밀은 미세한 분획을 분리하기 위해 정지된 분류기를 가지며, 따라서 추가의 조정이 가능하지 않다. 시간당 약 1kg의 재료 처리량을 사용하여 다음 결과를 수득하였다:

생성물 1

출발 생성물: D₅₀: 53㎛, D₉₀: 102㎛

최종 생성물: D₅₀: 3.4㎛, D₉₀: 5.8㎛

생성물 2

출발 생성물: 63㎛ 미만에서 12.4%, 500㎛ 미만에서 95.8%

최종 생성물: D₅₀:3.5㎛, D₉₀: 8.6㎛

생성물 3

출발 생성물: D₅₀=57㎛

최종 생성물: D₅₀: 4.5㎛

생성물 1: 2,2,4,4-테트라메틸-7-옥사-3,20-다이아자디스피로[5.1.11.2]헤네이코세인-21-온

생성물 2: 2,2,4,4-테트라메틸-7-옥사-3,20-다이아자다이스피로[5.1.11.2]헨아이코세인-21-온 및 에피클로로하이드린의 중합체

생성물 3: 펜타에리트리틸 테트라키스(3-(3,5-다이-t-뷰틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트)

용도에서 하기 개시된 원료 물질을 사용한다:

거친 분말: 호스타빈(Hostavin) N 30(=생성물 2) 분말: 30㎛ 미만에서 30%, 500㎛ 미만에서 100%

미세분말: 호스타빈 N 30(=생성물 2): d50=9㎛(즉, 50% 더작게/50% 더크게), 50㎛ 미만에서 100%

컴파운더를 사용하여 PP에서 사용

실시예 2

PP 분말(MFR 230/2.16=1.2g/10분) 100부를 호스타빈 N 30 분말 0.2phr 또는 동일한 양의 미세분말과 혼합하였다. 분말을 200℃ 및 40rpm에서 10분동안 실험실 컴파운더중에서 니딩하였다. 그후 니딩된 분말을 웨더로메터(Ci4000)중에 조사되는 실험실 압력 상에서 100㎛ 필름을 제조하는데 사용하였다. CO 수의 증가에 의해 중합체의 분해를 측정하였다. 시간이 길수록 정의된 CO 수에 도달되었으며, 안정화가 좋아졌다.

결과: 620시간의 조사 후 CO 수는 거친 분말을 갖는 중합체의 경우 1.5이고, 미세분말을 갖는 중합체의 경우 0.0이다.

실험은 미세분말의 사용과 관련된 향상된 효율을 분명하게 나타낸다.

컴파운더 없이 PP에서 사용

실시예 3

본 과정은 컴파운더중에 혼입없는 것을 제외하고 실시예 2에서와 같다. 압력상에 분말 혼합물로부터 100㎛ 필름을 직접 제조한다. 수득된 필름을 절편으로 추가 2회 절단하고 다시 필름에 가압한다. 미분된 분말을 사용하여 실험을 1회 반복하였다.

실험은 미세분말의 사용과 관련된 향상된 효율을 다시 보여준다.

컴파운더 없이 PE에서 사용

실시예 4

PP 대신 LDPE 분말(MFR=1.8g/10분)을 사용하는 것을 제외하고 실시예 3과 같이 실험을 수행하였다.

Claims (16)

1. 담체 또는 기판, 또는 상이한 담체 또는 기판의 혼합물(B로 지칭함)에 물질 또는 물질의 혼합물(A로 지칭함)을 균일하게 분산하는 방법으로서, 입자 크기 50㎛ 미만인 물질 A를 입자 크기 5mm 미만인 기판 B의 표면에 균일하게 적용하고, A 및 B의 혼합물을 압력 및/또는 온도를 사용하여 형태 전환 작동을 수행시키는 것(이때 작동동안 점도는 50mPas*s 이상임)을 특징으로 하는 방법.
2. 제 1 항에 있어서,

   물질 A 대 기판 B의 크기 비가 1:20 미만, 바람직하게는 1:50 미만, 더욱 바람직하게는 1:100 미만인 것을 특징으로 하는 방법.
3. 제 1 항에 있어서,

   물질 A가 20㎛ 미만, 바람직하게는 10㎛ 미만의 입자 크기 갖는 것을 특징으로 하는 방법.
4. 제 3 항에 있어서,

   물질 A가 100㎛ 미만의 입자 크기 분포 D₉₀ 및 50㎛ 미만의 입자 크기 분포 D₅₀, 바람직하게는 50㎛ 미만의 입자 크기 분포 D₉₀ 및 20㎛ 미만의 입자 크기 분포 D₅₀, 각각 30㎛ 미만의 입자 크기 분포 D₉₀, 및 10㎛ 미만의 입자 크기 분포 D₅₀을 갖는 것을 특징으로 하는 방법.
5. 제 1 항에 있어서,

   기판 B가 2㎛ 미만, 바람직하게는 1㎛ 미만의 입자 크기를 갖는 것을 특징으로 하는 방법.
6. 제 1 항에 있어서,

   A 및 B의 혼합물의 점도가 100mPas*s 이상, 바람직하게는 200mPas*s 이상, 특히 500mPas*s 이상인 것을 특징으로 하는 방법.
7. 제 1 항 내지 제 6 항중 어느 한 항에 있어서,

   물질 A가 기판 B에 용해되는 것을 특징으로 하는 방법.
8. 제 1 항 내지 제 6 항에 따른 방법에 의해 수득된 원료 조성물, 반-가공된 생성물 또는 최종 제품.
9. 가소성 첨가제 및 이의 혼합물인 미분된 형태.
10. 제 9 항에 있어서,

    가소성 첨가제가 HALS 부류중 하나인 미세분말(micropowder).
11. 제 9 항 또는 제 10 항에 있어서,

    가소성 첨가제가 다른 첨가제를 갖는 혼합물중에 있는 미세분말.
12. 제 9 항 내지 제 11 항중 어느 한 항에 있어서,

    100㎛ 미만의 입자 크기 분포 D₉₀ 및 50㎛ 미만의 입자 크기 분포 D₅₀, 바람직하게는 50㎛ 미만의 입자 크기 분포 D₉₀ 및 20㎛ 미만의 입자 크기 분포 D₅₀, 각각 30㎛ 미만의 입자 크기 분포 D₉₀ 및 15㎛ 미만의 입자 크기 분포 D₅₀인 미세분말.
13. 가소성 첨가제 및 이들의 혼합물을 보다 거친 형태를 연마하거나, 또는 결정화 또는 분무에 의한 직접 제조에 의해 제조하는 것을 특징으로 하는, 미분화된 가소성 첨가제 및 이들의 혼합물의 제조방법.
14. 제 13 항에 있어서,

    거친 분말을 공기 제트 밀(jet mill)에 의해 요구되는 입자 크기로 전환하는 것을 특징으로 하는 방법.
15. 중합성 기판에 혼입하기 위한 제 9 항 내지 제 12 항중 어느 한 항에 따른 미세분말의 용도.
16. 제 15 항에 있어서,

    폴리올레핀이 광의 악영향에 대해 안정화된 것을 특징으로 하는 용도.