KR20040069247A - Ｐｆｃ 및/또는 ｈｆｃ를 포함하는 배기 가스의 처리방법및 장치 - Google Patents

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Abstract

PFC 및/또는 HFC, 오존 및 물을 포함하는 배기 가스의 혼합물을 산화철 촉매와 50 내지 300℃의 온도에서 기체-고체간 접촉시켜, 산화 반응을 진행함으로써, PFC 및/또는 HFC의 양을 감소시키는 단계를 포함하여 구성되는, PFC 및/또는 HFC를 포함하는 배기 가스의 처리 방법. PFC 또는 HFC를 포함하는 배기 가스를 처리하기 위한 장치 역시 제공된다. 본 발명에서의 작용 온도는 종래 기술에 비해 훨씬 낮아서, 낮은 에너지 소비 및 낮은 화재의 위험성을 제공한다. 본 발명은 PFC 및/또는 HFC를 포함하는 배기 가스의 처리, 특히, 반도체 및 광전기 제품 제조 설비로부터의 퍼플로로 화합물을 제거하는데 적합하다.

Description

ＰＦＣ 및/또는 ＨＦＣ를 포함하는 배기 가스의 처리방법 및 장치{METHOD AND APPARATUS FOR TREATING WASTE GAS CONTAINING PFC AND/OR HFC}
본 발명은 배기 가스의 처리 방법 및 장치에 관한 것으로, 특히, PFC 및/또는 HFC를 포함하는 배기 가스의 처리 방법 및 장치에 관한 것이다.
퍼플로리네이트 화합물(PFC) 배기 가스 감소를 위한 기술에 있어서, 공정에서 퍼플로리네이트 화합물의 사용 효율을 향상시키거나 퍼플로리네이트 화합물의대체물을 사용하는 것과 같은 공정의 변형, 재생 및 재사용과 사후 처리법(end-of-pipe)이 일반적으로 사용된다. 사후 처리법은 배기 가스의 감소에 있어서 가장 좋은 방법은 아니나, 퍼플로리네이트 화합물 및/또는 하이드로플로로카본(HFCs)을 감소시키는데 있어서 가장 발전되고, 경제적이며, 효과적인 방법이다. 여러 가지 사후 처리법 중에서, 연소에 기초한 분해 방법은 가장 잘 발전된 PFC 처리 기술인데, 이는 1200℃ 이상의 연소 온도가 사용된다. 촉매 연소에 기초한 분해 방법은 촉매를 사용하여, 500-750℃의 비교적 낮은 온도 PFC류를 처리한다. 플라즈마에 기초한 공정은 PFC를 처리하기 위하여 국부적으로 비교적 높은 온도를 사용하며, 중심 온도가 3000℃를 초과할 수도 있다. 이러한 방법들은 과량의 에너지를 소비하며, 화재의 위험성이 크다. 미국 특허 출원 제 20020150527 및 WO 01/21304 A1 은 촉매 조성물 및 처리 방법을 개시하고 있는 바, 이는 PFC 및 HFC를 촉매 조성물을 이용하여 분해한다. 상기 촉매 조성물은 알루미늄 옥사이드를 포함하는데, 이러한 알루미늄 옥사이드는 바람직하게는 예를 들어, 티타늄, 지르코늄, 코발트나 이들의 화합물 또는 이들의 혼합물을 첨가함으로써 안정화된 것이다. 작용 온도는 오존 및 산화철을 사용하지 않고, 300℃보다 높게 되며, 바람직하게는 500 내지 800℃로 된다.
전이 금속 산화물 중에서, 페릭 옥사이드는 H2, CO, CH4및 파라핀에 대해 온건한 산화 반응성을 가진다. 촉매로서 전이 금속 산화물의 예는 산화, 수소화 및 탈 수소화에의 적용에서 볼 수 있다. 페릭 옥사이드는 예를 들어, 고온의 전환 반응, 스티렌으로부터 폴리 스티렌을 합성하는 반응, 암모니아 합성 반응 및 하이드로젠 설파이드의 제거 반응에서 촉매로써 일반적으로 사용된다.
오존은 매우 강한 산화제이며, 물의 처리, 유기 합성 및 음식물 살균에 널리 이용된다. 오존으로 오염원을 분해하면, 오존은 잔류물 또는 제 2 차 오염원을 발생시키지 않고, 즉시 산소 분자로 환원된다.
그럼에도 불구하고, 산화철 및 오존은 PFC류 및 HFC류를 처리함에 있어서, 조합되어 사용되지 않는다.
기후 변화에 대한 국제적 협약(the United Nations Framework Convention on Climate Change)과 쿄토 의정서(Kyoto Protocol)의 관점에서, 그리고 이러한 의정서의 가맹국의 관점에서, 온실 기체(PFC류 및 HFC류 포함.)의 방출은 2008년에서 2012년 사이에 환경 보호를 위해 더욱 제한되어야 한다. 이에 따라, PFC 및/또는 HFC를 포함하는 배기 가스를 처리하기 위한 더욱 우수한 방법 및 장치에 대한 요구가 있다.
따라서, 상술한 바와 같은, 종래 방법에서 나타나는 과량의 에너지 소비와 화재의 큰 위험성과 같은 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명은 PFC 및/또는 HFC를 포함하는 배기 가스를 처리하기 위한 방법 및 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.
도 1은 본 발명에 의한 PFC 및/또는 HFC를 포함하는 배기 가스 처리 장치의 일실시예를 나타내는 도면이다.
도 2는 본 발명에 의한 PFC 및/또는 HFC를 포함하는 배기 가스 처리 장치의 일실시예에 있어서, 제거 효율과 온도의 관계를 나타낸 그래프이다.
도 3은 본 발명에 의한 PFC 및/또는 HFC를 포함하는 배기 가스 처리 장치의 일실시예에 있어서, 제거 효율과 오존 농도의 관계를 나타낸 그래프이다.
이러한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 PFC 및/또는 HFC, 오존 및 물을 포함하는 배기 가스의 혼합물을 산화철 촉매와 접촉시켜, 50 내지 300℃의 온도에서 기체-고체간 접촉 및 산화 반응을 진행함으로써, PFC 및/또는 HFC의 양을 감소시키는 단계를 포함하여 구성되는, PFC 및/또는 HFC를 포함하는 배기 가스의 처리 방법을 제공한다.
본 발명은 또한, (i) PFC 및/또는 HFC를 100 내지 50000 ppmv의 농도로, 그리고, 물을 1 내지 1000 ppmv의 농도로 포함하는 배기 가스를 50 내지 300℃로 가열하는 단계, (ii) (i)단계의 결과물에 오존을 100 내지 50000 ppmv의 농도로 도입하고, 혼합하여 균일한 혼합물을 형성시키는 단계 및 (iii) PFC 및/또는 HFC, 오존 및 물을 포함하는 배기 가스의 혼합물과 산화철 촉매에 대하여, 50 내지 300℃의 온도에서 1.0 내지 10 초의 보유 시간 동안, 기체-고체간 접촉 및 산화 반응을 진행하여 PFC 및/또는 HFC의 양을 감소시키는 단계를 포함하여 구성되는, PFC 및/또는 HFC를 포함하는 배기 가스의 처리 방법을 제공한다.
본 발명은 또한 유입되는 PFC 및/또는 HFC와 물을 포함하는 배기 가스를 50 내지 300℃의 온도로 가열하기 위한 가열기, 오존을 발생시키기 위한 오존 발생기, 오존 발생기로부터 유입되는 오존과 가열기로부터 유입되는 PFC 및/또는 HFC와 물을 포함하는 배기 가스를 수용하고, 균일하게 혼합하여 기체 혼합물을 형성하기 위한 혼합기 및 혼합기로부터 유입된 기체 혼합물을 수용하는 반응기를 포함하여 구성되며, 상기 반응기는 철 산화 촉매와 기체 혼합물을 포함하고, 상기 철 산화 촉매는 50 내지 300℃의 온도에서 기체-고체간 접촉 및 산화 반응을 일으키는 PFC및/또는 HFC를 포함하는 배기 가스의 처리 장치를 제공한다.
PFC 및/또는 HFC를 포함하는 배기 가스는, 특히, PFC 및/또는 HFC가 반도체 산업 또는 광전기 산업 분야에서 원료 물질로 사용되는 경우, 본 발명에 의한 장치 및 방법을 사용하여 효과적으로 처리될 수 있다. 이러한 화합물 중에서, C2F6의 처리가 가장 어려우나, 본 발명에 따르면 이 역시 쉽게 처리될 수 있다. 또한, 본 발명에 있어서, PFC 및/또는 HFC는 300℃ 이하의 조절 온도에서 오존 및 촉매와 반응하므로, 반응 후의 오존 함유 기체로 인한 2 차 오염의 문제점, 과량의 에너지 소비 및 화재의 큰 위험성을 제거할 수 있다.
이하 첨부한 도면을 참고로 본 발명의 실시예를 구체적으로 설명하기로 한다.
본 발명은 첨부한 도면을 참고로 하기와 같은 상세한 설명 및 실시예를 살핌으로써 더욱 구체적으로 이해될 수 있다.
이하 본 발명을 도 1을 참고로 상세히 설명한다.
본 발명의 PFC 및/또는 HFC를 포함하는 배기 가스 처리 방법에서, PFC 및/또는 HFC를 포함하는 배기 가스(9)와 수분(10)은 가열기(1)을 통하여 가열된다. 이러한 결과 발생하는 기체 혼합물은 50 내지 300℃의 온도로 조절되는데, 다만, 종래의 퍼플로리네이트 화합물 처리 기술에서 사용되던 500℃보다는 높지 않도록 조절되어, 에너지의 소비를 크게 감소시킨다. 오존 발생기(2)에 의하여 발생된 오존(도 1에는 미도시)과 가열기(1)로부터 유입된 PFC 및/또는 HFC를 포함하는 배기가스(9)와 수분(10)은 혼합기(4)로 도입되고, 충분히 교반, 혼합된다. 선택가능하게는, 상기 오존의 도입부는 가열기에 비해 선행될 수 있다.
본 발명에 의한 방법에서 처리될 수 있는 PFC류의 예로는 CF4, C2F6, C3F8, NF3, SF6, 및 이들의 조합이 있다. HFC의 예로는 CHF3가 있다. 처리되는 배기 가스의 부하는 100 내지 5000ppmv로 될 수 있으며, 바람직하게는 1000 내지 10000ppmv의 농도로 된다.
유입되는 수분(10)의 농도(즉, 물의 농도)는 1 내지 1000ppmv로 될 수 있고, 바람직하게는 200 내지 500ppmv로 된다.
유입되는 오존의 농도는 100 내지 5000ppmv로 될 수 있고, 바람직하게는 1000 내지 10000ppmv로 된다.
상기 혼합된 PFC 및/또는 HFC를 포함하는 배기 가스(9), 오존 및 수분(10)은 반응기(3)로 도입되어 50 내지 300℃의 온도가 유지된 상태에서 기체-고체간 접촉 및 반응기(3) 내에서 촉매를 이용한 산화 반응이 진행된다. 촉매층은 수직적 또는 수평적으로 될 수 있다. 적절한 촉매는 페릭 옥사이드, 페릭 옥사이드 모노하이드레이트, 페리페로스 옥사이드, 페리페로스 옥사이드 모노하이드레이트 및 이들의 조합을 포함하는 산화철이며, 바람직하게는 페릭 옥사이드 모노하이드레이트가, 구체적으로는 침철광(goethite)으로써 알려진 바늘 형태의 페릭 옥사이드 모노하이드레이트(FeOOH)가 사용된다.
촉매층 안에서 배기 가스에 대한 보유 시간은 0.1 내지 10초로 될 수 있다.10 초 이상으로도 될 수 있으나, 경제적인 고려로 인하여, 더 작은 시간이 바람직하다. 오존에 대한 PFC 및/또는 HFC의 농도비는 0.1 내지 10 ppmv/ppmv로 된다. 반응기(3)의 흡입구 전방에서의 습도는 20 내지 100%로 조절되어, 유지된다. 본 명세서에서의 습도는 상대 습도를 의미하며, 조작에 의해 이루어진 것이다.
상술한 바와 같이, 처리되어야 할 PFC 및/또는 HFC를 포함하는 배기 가스(9)에 대하여 반응기(3) 내에서 접촉 및 촉매를 이용한 산화 반응을 진행한 후에, 배기가스에 포함되는 퍼플로리네이트 화합물 및/또는 하이드로플로로카본은 CO2, H2O 및 배출될 수 있는 무기산으로 분해될 수 있다. 바람직하게는, 배출 전에 상기 처리에 의하여 제조된 무기산을 제거하기 위하여, 세정액을 가지는 세정탑(5)이 더욱 설치될 수 있다.
선택적으로, 풍차(8)가, 기체 수집의 기능을 제공하면서, 본 발명에 의한 시스템의 흡입구 전방 또는 상기 시스탬 배출구의 후방에 설치될 수 있다.
선택적으로, 배기 가스 및 물의 가열 단계 전에 또는 기체-고체 간의 접촉 단계 전이나 후에, 기체 흐름의 습도, 온도 및 오존 농도는 습도, 온도 및 오존 농도 모니터에 및 자동 조절 장치(6)에 의하여 감지될 수 있다. 특히, 높은 농도 또는 매우 다양한 농도의 PFC 및/또는 HFC를 포함하는 배기 가스를 처리하는 경우에 이러한 인자의 조절을 통한 전체 장치의 안정적이고, 높은 처리 효율을 유지하기 위하여, 수집된 데이터의 변화가 습도, 온도, 오존 농도 및 세정액(사용되는 경우)의 유량 조절을 위해 비교되어 제공될 수 있다.
본 발명은 퍼플로리네이트 화합물 배기 가스와 이들 카테고리 및 처리 가능한 퍼플로리네이트 화합물의 농도 범위에 대한 연소 기술에 직접적으로 적용될 수 있다. 부가적으로, 본 발명의 작용 온도는 300℃보다 작게 되어, 종래의 연소 기술에서 나타나던 과량의 에너지 소비 및 큰 화재의 위험성이 방지될 수 있다. 또한, 본 발명에 의한 방법은 PFC의 농도가 높거나, 농도 부하가 매우 다양하게 되는 경우에 대해 안정한 처리를 제공할 수 있다. 본 발명은 다양한 농도 범위 및 다양한 종류의 PFC를 효과적으로 처리할 수 있다.
도 1을 참고하면, PFC 및/또는 HFC를 함유하는 배기 가스를 처리하기 위한 본 발명의 장치는 하기에 기술되는 방법으로 제조된다. 각 구성 장치 및 도관은 바람직하게는 내부식성, 내열성의 물질로 제조된다. 본 발명에서는 작용 온도가 300℃이하로 되므로, 내열성의 한계는 종래 기술에서보다 덜 엄격하다. PFC 및/또는 HFC를 포함하는 배기 가스 및 오존과 같은 기체에 접촉하는 물질은 예를 들어, SS316 스테인레스 스틸, 세라믹, 석영 및 테플론 중에서 선택될 수 있다.
적절한 가열기는 유입되는 PFC 및/또는 HFC를 함유하는 배기 가스(9)와 물(10)을 수용하여, 50 내지 300℃의 온도로 가열하기 위한 통상의 가열기로 된다. 바람직한 온도를 이룰 수 있는 한, 그 편의성으로 인하여 외부 가열기가 바람직하다.
적절한 오존 발생기로는 공기 또는 산소(11)의 공급으로부터, PFC 및/또는 HFC를 포함하는 배기 가스(9)의 처리에 필요한 오존을 발생시킬 수 있는 통상의 오존 발생기가 있다. 상기 오존 발생기(2)는 가열기 전방(1) 또는 후방에 연결될 수있다.
혼합기(4)는 오존과 가열기(1)로부터의 PFC 및/또는 HFC를 포함하는 배기 가스(9) 및 수분(10)을 수용하여 균일하게 혼합하기 위한 것이다. 적절한 혼합기로는 기체를 교반하여 균일한 기체 혼합물을 형성할 수 있고, 50 내지 300℃의 온도에 이르기까지 내부식성 및 내열성을 가질 수 있는 것이 바람직하다.
반응기(3)는 산화철 촉매를 포함하며, 혼합기(4)로부터 기체 혼합물을 수용하여, 기체-고체 간의 접촉 및 산화 반응이 진행된다. 촉매로써 사용되는 적절한 산화철은 페릭 옥사이드, 페릭 옥사이드 모노하이드레이트, 페리페로스 옥사이드, 페리페로스 옥사이드 모노하이드레이트 및 이들의 조합이 있으며, 바람직하게는 입자 또는 분말 형태이다. 50 내지 300℃의 온도, 바람직하게는 100 내지 200℃의 온도에서 기체-고체간의 접촉 및 산화 반응을 수행하기 위하여, 상기 반응기(3)에는 자동 온도 조절 장치 또는 가열기(도 1에는 미도시)가 부설될 수 있다. 산화철 촉매층은 수직적 또는 수평적으로 될 수 있다.
또한, 반응기(3)로부터 기체를 수용하여 상기 반응기(3)로부터 제조되는 무기산을 세정액으로 이송할 수 있도록 하는 세정탑(5)이 반응기(3)에 연결될 수 있다. 상기 세정액은 소디움 하이드록사이드 액체로 될 수 있다. 세정액의 유량은 유량 조절기(7)에 의하여 조절된다. 세정액이 포화된 후에는, 상기 세정액은 폐수 처리 설비로 배출될 수 있다.
또한, 습도, 온도 및 오존 농도 모니터 및 자동 조절 장치(6)는, 최상의 처리 조건 조절을 위하여, 가열기(1)의 흡입구 전방부, 반응기(3)의 흡입구 전방부또는 반응기(3)의 배출구 후방부에 설치될 수 있다. 최적의 처리 효율을 얻기 위하여, 처리 가능한 조건은 예를 들어, 습도, 온도, 오존 농도 및 세정액(사용되는 경우)의 유량을 포함한다.
선택적으로, 풍차(8)가, 기체 수집의 기능을 제공하면서, 본 발명의 시스템의 흡입구 전방 또는 시스템의 배출구 후방에 설치될 수 있다.
상술한 바와 같이, 본 발명에 의한 장치는 PFC 및/또는 HFC를 포함하는 배기 가스를 처리하는데 적당하다. PFC의 예로는 CF4, C2F6, C3F8, NF3, SF6, 및 이들의 조합이 있다. HFC의 예로는 CHF3가 있다.
실시예 1
PFC 또는 HFC를 포함하는 배기 가스의 처리는 도 1에 나타난 바와 같은 본 발명에 의한 PFC 및/또는 HFC를 포함하는 배기 가스 처리 장치를 이용하여 수행되었다. 처리되어야 할 배기 가스는, 반도체 및 광전기 제조에 흔히 사용되는 통상적인 퍼플로리네이트 화합물이며, 가장 처리하기 힘든 PFC류의 하나인 헥사플로로에탄이었다. 사용된 촉매는 바늘 형태의 페릭 옥사이드 모노하이드레이트(FeOOH)였다. 헥사플로로에탄의 유입 농도는 4000 내지 6000ppmv의 농도로 유지되었다. 반응기의 흡입구 바로 전방에서의 기체의 습도는 50%였다. 온도는 100 내지 150℃로 유지되었다.
여러 가지 농도의 오존이 사용되었다. 정상 상태(steady state)에서, 촉매층 내의 헥사플로로에탄, 오존 및 수분의 혼합물에 대한 보유 시간은 0.5초 였다. 이러한 결과는 표 1 및 도 2에 나타난 바와 같다.
[표 1]
실시예 1에서 다른 농도의 오존을 사용한 결과
오존 농도(ppmv) C2F6농도(ppmv) 제거된 C2F6
흡입구 배출구 흡입구 배출구 농도(ppmv) 제거율(%)
2600 <1 4200 1500 2700 64
2000 <1 4000 2000 2000 50
1200 <1 4000 3000 1000 25
5200 <1 6000 1500 4500 83
상기 표 1에서 볼 수 있는 바와 같이, 퍼플로리네이트 화합물에 대한 오존의 농도가 높을 수록, 페플로리네이트 화합물의 제거 효율이 좋아졌다. 오존의 농도가 5200ppmv로 높아지는 경우에는, 헥사플로로에탄의 제거 효율이 증가되어 83%에 이르렀다.
실시예 2
실시예 2는 여러 가지 온도가 사용되었다는 것을 제외하면 실시예 1과 같은 방법으로 진행되었다. 정상 상태에서의 작용 조건은 하기와 같다. 헥사플로로에탄의 유입 농도는 4000 내지 5000 ppmv로 유지되었으며, 오존의 농도는 2600 ppmv 였고, 반응기의 흡입구 바로 전방의 습도는 50% 였으며, 보유 시간은 0.5초였다. 이러한 결과는 표 2 및 도 3에 나타난 바와 같다.
[표 2]
실시예 2에서 다른 작용 온도를 사용한 결과
온도(℃) 오존 농도(ppmv) C2F6농도(ppmv) 제거된 C2F6
흡입구 배출구 흡입구 배출구 농도(ppmv) 제거율(%)
25 2600 <1 4200 4100 100 2
50-80 2600 <1 4000 3000 1000 25
80-100 2600 <1 4000 2200 1800 45
100-150 2600 <1 4000 1500 3000 75
상기 표 2에서 볼 수 있는 바와 같이, 온도가 25℃인 경우, 헥사플로로에탄에 대한 제거율은 거의 0에 가까웠다. 온도가 100-150℃로 상승된 경우에는, 헥사플로로에탄에 대한 제거율은 75%로 향상되었다.
본 발명은 바람직한 체현예 및 실시예를 통하여 설명되었으나, 본 발명의 권리 범위가 이와 같이 개시된 체현예로 한정되는 것으로는 해석될 수 없다. 반대로, 여러 가지 변형 및 등가물(당업자에게 자명한 것)을 포괄하도록 의도된 것이다. 그러므로, 첨부한 청구 범위의 권리 범위는 이러한 모든 변형 및 등가물을 포괄하도록 가장 넓게 해석될 것이다.
따라서, 본 발명에 의하면, 과량의 에너지 소비와 화재의 큰 위험성과 같은 문제점이 없이도, 배기 가스에 포함된 PFC 및/또는 HFC를 효과적으로 처리할 수 있다.

Claims (22)

  1. PFC 및/또는 HFC, 오존 및 물을 포함하는 배기 가스의 혼합물을 산화철 촉매와 접촉시켜, 50 내지 300℃의 온도에서 기체-고체간 접촉 및 산화 반응을 진행함으로써, PFC 및/또는 HFC의 양을 감소시키는 단계를 포함하여 구성되는, PFC 및/또는 HFC를 포함하는 배기 가스의 처리 방법.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 산화철은 페릭 옥사이드, 페릭 옥사이드 모노하이드레이트, 페리페로스 옥사이드, 페리페로스 옥사이드 모노하이드레이트 및 이들의 조합으로 이루어진 그룹에서 선택되는 배기 가스의 처리 방법.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 PFC는 CF4, C2F6, C3F8, NF3, SF6또는 이들의 조합인 배기 가스의 처리 방법.
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 HFC는 CHF3인 배기 가스의 처리 방법.
  5. 제 1 항에 있어서, 상기 산화철 촉매층 안에서 PFC 및/또는 HFC를 포함하는 배기 가스에 대한 보유 시간은 0.1 내지 10초이며, 오존에 대한 PFC 및/또는 HFC의 농도비는 0.1 내지 10 이고, 반응 전의 습도는 20 내지 100%로 되는 배기 가스의 처리 방법.
  6. 제 1 항에 있어서, 상기 반응 온도는 약 100 내지 150℃로 되는 배기 가스의 처리 방법.
  7. (i) PFC 및/또는 HFC를 100 내지 50000 ppmv의 농도로, 그리고, 물을 1 내지 1000 ppmv의 농도로 포함하는 배기 가스를 50 내지 300℃로 가열하는 단계;
    (ii) (i)단계의 결과물에 오존을 100 내지 50000 ppmv의 농도로 도입하고, 혼합하여 균일한 혼합물을 형성시키는 단계; 및
    (iii) PFC 및/또는 HFC, 오존 및 물을 포함하는 배기 가스의 혼합물과 산화철 촉매에 대하여, 50 내지 300℃의 온도에서 1.0 내지 10 초의 보유 시간 동안, 기체-고체간 접촉 및 산화 반응을 진행하여 PFC 및/또는 HFC의 양을 감소시키는 단계;
    를 포함하여 구성되는, PFC 및/또는 HFC를 포함하는 배기 가스의 처리 방법.
  8. 제 7 항에 있어서, 상기 산화철은 페릭 옥사이드, 페릭 옥사이드 모노하이드레이트, 페리페로스 옥사이드, 페리페로스 옥사이드 모노하이드레이트 및 이들의 조합으로 이루어진 그룹에서 선택되는 배기 가스의 처리 방법.
  9. 제 7 항에 있어서, 상기 PFC는 CF4, C2F6, C3F8, NF3, SF6또는 이들의 조합인 배기 가스의 처리 방법.
  10. 제 7 항에 있어서, 상기 HFC는 CHF3인 배기 가스의 처리 방법.
  11. 제 7 항에 있어서, 상기 반응 온도는 약 100 내지 150℃로 되는 배기 가스의 처리 방법.
  12. 제 7 항에 있어서, (iv) 상기 (iii) 단계에서 생성되는 무기산을 세정액으로 제거하는 단계;
    를 부가적으로 포함하여 구성되는 배기 가스의 처리 방법.
  13. 제 7 항에 있어서, 상기 (i) 단계를 진행한 후나, (iii) 단계를 진행하기 전 또는 진행한 후에, 온도, 습도 및 오존의 농도를 모니터하고, 조절하는 단계;
    를 부가적으로 포함하여 구성되는 배기 가스의 처리 방법.
  14. 제 12 항에 있어서, 상기 (i) 단계를 진행한 후나, (iii) 단계를 진행하기 전 또는 진행한 후에, 온도, 습도 및 오존의 농도를 모니터하고, 조절하는 단계;
    를 부가적으로 포함하여 구성되는 배기 가스의 처리 방법.
  15. 유입되는 PFC 및/또는 HFC와 물을 포함하는 배기 가스를 50 내지 300℃의 온도로 가열하기 위한 가열기;
    오존을 발생시키기 위한 오존 발생기;
    오존 발생기로부터 유입되는 오존과 가열기로부터 유입되는 PFC 및/또는 HFC와 물을 포함하는 배기 가스를 수용하고, 균일하게 혼합하여 기체 혼합물을 형성하기 위한 혼합기; 및
    혼합기로부터 유입된 기체 혼합물을 수용하는 반응기를 포함하여 구성되며,상기 반응기는 철 산화 촉매와 기체 혼합물을 포함하고, 상기 철 산화 촉매는 50 내지 300℃의 온도에서 기체-고체간 접촉 및 산화 반응을 일으키는 PFC 및/또는 HFC를 포함하는 배기 가스의 처리 장치.
  16. 제 15 항에 있어서, 상기 가열기가 오존 발생기의 상류에 존재하거나, 상기 오존 발생기가 가열기의 상류에 존재하는 배기 가스의 처리 장치.
  17. 제 15 항에 있어서, 해당 부위에서의 습도, 온도 및 오존 농도를 모니터하고, 조절하기 위하여, 가열기의 흡입구 전방부, 반응기의 흡입구 전방부 또는 반응기의 배출구 후방부 중 적어도 한 부위에 연결되는 모니터 및 자동 조절 장치를 보가적으로 포함하여 구성되는 배기 가스의 처리 장치.
  18. 제 15 항에 있어서, 상기 산화철은 페릭 옥사이드, 페릭 옥사이드 모노하이드레이트, 페리페로스 옥사이드, 페리페로스 옥사이드 모노하이드레이트 및 이들의 조합으로 이루어진 그룹에서 선택되는 배기 가스의 처리 장치.
  19. 제 15 항에 있어서, 상기 PFC는 CF4, C2F6, C3F8, NF3, SF6또는 이들의 조합인 배기 가스의 처리 장치.
  20. 제 15 항에 있어서, 상기 HFC는 CHF3인 배기 가스의 처리 장치.
  21. 제 15 항에 있어서, 상기 반응 온도는 약 100 내지 150℃로 되는 배기 가스의 처리 장치.
  22. 제 15 항에 있어서, 상기 반응기로부터 유입되는 기체를 수용하여, 반응기로부터 생성되는 기체 내의 무기산을 세정액으로 이송하는 세정탑;
    을 부가적으로 포함하여 구성되는 배기 가스의 처리 장치.
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