KR20030030712A - 게터링 수단을 가진 단결정 실리콘 웨이퍼 및 그제조방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 웨이퍼의 표면 부위에 COP free 영역을 만들고, 배면에 micro-damage를 남겨서 게터링 수단으로 이용하는 고품질 웨이퍼 및 그 생산 방법을 제공하려는 것이다.
이러한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 구성는 실리콘 단결정 잉곳을 얇게 절단하는 단계; 상기 절단된 웨이퍼의 양면을 그라인딩 하고 세정하는 단계; 웨이퍼 표면 근처에 COP가 없는 영역을 형성하기 위하여 고온 열처리를 실시하는 단계; 양면을 폴리싱하되 일면은 그라인딩 단계에서 발생된 미소한 결정 결함들이 전부 깎여 나가게 하고 다른 면은 미소한 결정 결함들이 일부 남아 있게 하는 폴리싱 단계, 그리고 세정 단계를 포함한다. 고온 열처리 공정에서는 1100도 내지 1300 정도의 온도에서 H2가스 분위기 하에서 실시하거나, Ar가스 분위기 하에서 실시한다. 양면 폴리싱 단계에서는 웨이퍼의 일면은 10 ㎛ 정도 연마하고, 다른 면은 5 ㎛ 정도만 연마하여, 웨이퍼의 배면에 1-3 ㎛ 정도의 결정 결함이 존재하도록 한다.
본 발명에 따른 단결정 실리콘 웨이퍼는 웨이퍼 표면 근처에 COP가 없는 영역을 가지고 있고, 웨이퍼 전면과 반대면 사이에 반도체 소자 형성 공정에서 미소 결함으로 발전할 수 있는 미소 결함 핵이 형성되어 있고, 웨이퍼 절단 공정과 연마 공정에서 발생되는 미소한 결정 결함들이 웨이퍼 배면에 일부분 남아 있는 것이다. 배면에 남아 있는 결정 결함 영역의 깊이는 1-3 ㎛ 정도이다,
Description
본 발명은 웨이퍼의 표면 부위에 COP free 영역을 만들고, 배면에 micro-damage를 남겨서 게터링 수단으로 이용하는 고품질 웨이퍼 및 그 생산 방법에 관한 것이다.
반도체 집적회로 소자의 집적도가 보다 고밀도화 되어 감에 따라 디자인 룰(design rule)이 보다 작아짐으로 인해서 반도체 소자 형성 공정이 어려워 지고 있다. 반도체 소자 형성 공정에서 수율을 높이고 반도체 디바이스의 신뢰성을 높이기 위하여 웨이퍼 자체의 품질 향상이 요구되고 있다.
이러한 요구 중 하나는 반도체 소자가 형성될 웨이퍼의 활성영역(active region)에 결함이 없는 완벽한 단결정 실리콘 층을 가진 웨이퍼가 필요하다는 것이다. 그래서 반도체 소자 형성 영역에 결정결함(예: COP: Crystal Originated Particle)이 없는 웨이퍼의 생산이 필요하게 되고, COP 결함이 없는 웨이퍼의 개발에 많은 노력이 집중되고 있다.
또한 웨이퍼에 반도체 소자를 형성하는 공정 중에 디바이스에 치명적인 결함을 유발하는 전이금속(Transition metal)들을 흡수하기 위하여 게터링 수단을 가진 웨이퍼가 필요하게 된다. 일반적으로 게터링은 불필요한 물질을 흡수하여 이들의 부작용을 방지하는 것을 의미하는데, 반도체 공정 시에 야기될 수 있는 전이금속(transition metal)의 유입을 효과적으로 제어하기 위하여 웨이퍼 내에서 이러한 전이금속을 흡착(trap)하기 위하여 게터링 수단들을 만들어 주는 방식을 의미한다.
이 게터링 방식에는 대체로 IG(intrinsic gettering) 과 EG(extrinsic gettering) 두 가지로 나눈다.
IG 방식으로는 주로 실리콘 웨이퍼를 만드는 과정에서 Oi(Oxygen interstitial)의 양을 조절하여 반도체 소자 공정 시에 게터링 사이트(gettering site) 역할을 할 수 있는 BMD(bulk micro defect)를 만들어 주는 방식을 사용하여 왔다. 그러나 반도체 소자 공정에서 열처리 온도가 점점 낮아지고 있는 추세이고, 이러한 저온 공정에서는 게터링 사이트 역할을 하는 BMD의 생성이 힘들어지고 있다.
EG의 방법으로써 PBS(Poly-silicon Back Seal) 또는 BSD(Back Side Damage) 그리고 High energy Implantation등이 있다.
한국 공개 특허공보 특2001-0003616호에 게터링 개념을 적용한 실리콘 웨이퍼 제조 방법이 공개된 바 있다.
또한 웨이퍼를 고품질화 하기 위하여는 웨이퍼의 평활도(flatness)가 중요하게 다루어지고 있으며, 웨이퍼의 평활도 제어의 목적을 적절히 달성하기 위하여 웨이퍼제조 공정 중에 양면 연마(DSP : Double Side Polishing)공정이 필수적으로 부가된다. 이 폴리싱 공정은 웨이퍼의 표면을 거울처름 평탄하게 만드는 연마 공정을 말한다.
본 발명의 목적은 웨이퍼의 표면 부위에 COP 결함이 없는 영역을 만들고, 배면에 micro-damage를 남겨서 게터링 수단으로 이용하는 고품질 웨이퍼 및 그 생산 방법을 제공하려는 것이다.
이러한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 구성는 실리콘 단결정 잉곳을 얇게 절단하는 단계; 상기 절단된 웨이퍼의 양면을 그라인딩 하고 세정하는 단계; 웨이퍼 표면 근처에 COP가 없는 영역을 형성하기 위하여 고온 열처리를 실시하는 단계; 양면을 폴리싱하되 일면은 그라인딩 단계에서 발생된 미소한 결정 결함들이 전부 깎여 나가게 하고 다른 면은 미소한 결정 결함들이 일부 남아 있게 하는 폴리싱 단계, 그리고 세정 단계를 포함한다. 고온 열처리 공정에서는 1100도 내지 1300 정도의 온도에서 H2가스 분위기 하에서 실시하거나, Ar가스 분위기 하에서 실시한다. 양면 폴리싱 단계에서는 웨이퍼의 일면은 10 mm 정도 연마하고, 다른 면은 5 mm 정도만 연마하여, 웨이퍼의 배면에 1-3 mm 정도의 결정 결함이 존재하도록 한다.
본 발명에 따른 단결정 실리콘 웨이퍼는 웨이퍼 표면 근처에 COP가 없는 영역을 가지고 있고, 웨이퍼 전면과 반대면 사이에 반도체 소자 형성 공정에서 미소 결함으로 발전할 수 있는 미소 결함 핵이 형성되어 있고, 웨이퍼 절단 공정과 연마 공정에서 발생되는 미소한 결정 결함들이 웨이퍼 배면에 일부분 남아 있는 것이다.배면에 남아 있는 결정 결함 영역의 깊이는 1-3 ㎜정도이다.
도1 내지 도6는 본 발명을 설명하기 위하여 개략적으로 보인 웨이퍼 단면도이다.
이하에서 도면을 참조하면서 본 발명의 구체적인 실시예를 설명한다.
먼저 실리콘 잉곳을 절단하여 도1과 같은 웨이퍼로 만든다. 이 웨이퍼에는 잉곳을 슬라이싱 할 때 발생된 많은 요철이 발생되기 때문에 거친 표면을 가지고 있다.
이러한 거친 표면을 평탄한 표면으로 만들기 위하여 랩핑 또는 그라인딩 하여 도2에서 보인 바와 같이, 표면을 비교적 평탄하게 만든다.
그라인딩 공정에서 표면에 부착된 파티클 들과 오염 물질들을 제거하기 위하여 크리닝 공정을 실시한다.
이 공정에서는 SC1 세정용액 (NH4OH:H2O2:H2O=1:1:5)을 사용하여 세정하면 된다.(도3참조)
다음에는 웨이퍼를 열처리한다.
이 열처리는 웨이퍼의 표면 근처에 있는 결정 결함들을 제거하기 위하여 실시한다. 잉곳 성장시에 발생된 베이컨시 (공공)들이 뭉쳐서 형성된 보이드들을 제거함과 동시에 그라인딩 공정에서 발생된 결정 결함들을 어느 정도 치유하기 위하여 열처리를 한다. 아울러 웨이퍼 벌크 내에 BMD 핵을 형성하여 소자 형성시의 열처리 공정에서 서서히 BMD로 발전할 수 있게 하기 위하여 실시한다.(도4참조)
이 열처리 공정은 확산로를 사용하거나 급속열처리(RTP)장비를 추가 사용한다. 확산로를 사용하는 경우에는 1100도 내지 1300도 정도의 온도로 30분 내지 3시간 정도 열처리 한다. 로 내의 분위기는 N2, O2, Ar, H2또는 N2+O2분위기 가스 내에서 실시하면 된다. 이러한 고온 열처리 공정을 실시하면 웨이퍼 표면 근처에 인터스티셜 원소들이 웨이퍼 표면으로 확산되어 나오면서 베이컨시 점결함들을 치유할 수가 있고, 부피가 큰 보이드도 제거되며, 웨이퍼 내부에 있는 보이드들이 적당히 해체되고 Oi 들이 정당히 뭉쳐서 소자 형성 공정에서 BMD로 성장하여 갈 수 있는 BMD 핵이 형성된다.
또 급속열처리(RTP)장비를 사용하여 온도 1000도 내지 1200도 정도에서 1초 내지 5분 정도의 시간 동안 급속 열처리 공정을 추가 할 수 있다. RTP를 하면 웨이퍼의 표면 부위에 있는 공공(Vacancy)들이 제거되고 무결함 영역(Denuded Zone)이 표면으로부터 일정 깊이 이상까지 생성이 된다. 급속 열처리를 하면 웨이퍼의 표면 부위에 있는 산소들이 증발되어 나가고, 표면 부위의 공공들의 농도가 줄어 든다.
이렇게 열처리 공정을 거친 웨이퍼에는 표면으로부터 약 7-8 ㎛ 정도의 깊이까지 결정 손상들이 남아 있게 되는데, 양면 폴리싱 공정을 실시하여, 도5에서 보인 바와 같이, 소자가 형성될 전면은 깊이 10 ㎛ 정도 연마하여 결정 결함들을 모두 없애고, 배면에는 5 내지 6 ㎛ 정도의 깊이까지만 연마하여 결정 결함들이 1 내지 3 ㎛ 정도 남아 있게 한다.
이렇게 깊이 1-3 ㎛ 정도까지 결함이 잔류하도록 하여 소자 형성 공정에서 웨이퍼로 침투하는 불필요한 불순물들을 흡수하는 게터링 사이트 역할을 하게 한다.
이와는 반대로 열처리 공정을 거친 웨이퍼에 남아 있는 7-8 ㎛ 정도의 결정 손상들을 양면 폴리싱 공정으로 전부 연마하여 제거하여도 된다.
이렇게 하면 웨이퍼의 양면에는 결정 결함이 없는 COP 프리한 영역을 가지고 벌크내부에는 BMD핵을 가진 웨이퍼가 된다.
마지막으로 최종적인 세정 공정을 실시하여 도6에서 보인 바와 같은 웨이퍼를 생산한다.
이상 설명한 바와 같은 방법으로 제조된 웨이퍼는 반도체 소자 형성 영역이 있는 전면에는 일정한 깊이까지 무결함 영역이 되고, 이 영역 이하에는 BMD 핵이 많이 존재하게 되고, 웨이퍼 배면에는 결정 결함들이 다수 존재하게 되어 게터링 능력이 증대된 웨이퍼가 되거나 또는 양면 모두 일정한 깊이까지 무결함 영역이 되고, 이 영역 이하에는 BMD 핵이 많이 존재하게 되는 웨이퍼가 된다.
그래서 무결함 영역에 고집적 소자가 형성되어 신뢰성 있는 디바이스를 생산할 수가 있게 된다.
Claims (8)
- 게터링 수단을 가진 단결정 실리콘 웨이퍼를 제조하기 위한 방법에 있어서,실리콘 단결정 잉곳을 얇게 절단하는 단계;상기 절단된 웨이퍼의 양면을 그라인딩 하고 세정하는 단계;웨이퍼 표면 근처에 COP가 없는 영역을 형성하기 위하여 고온 열처리를 실시하는 단계;양면을 폴리싱하되 일면은 그라인딩 단계에서 발생된 미소한 결정 결함들이 전부 깎여 나가게 하고 다른 면은 미소한 결정 결함들이 일부 남아 있게 하는 폴리싱 단계, 그리고세정 단계를 포함하는 게터링 수단을 가진 단결정 실리콘 웨이퍼 제조 방법.
- 제 1항에 있어서,상기 폴리싱 단계는 웨이퍼의 표면 근처에 cop결함이 없는 영역을 형성하도록 양면을 모두 폴리싱 작업하는 것이 특징인 단결정 실리콘 웨이퍼 제조방법
- 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,상기 고온 열처리는 1100도 내지 1300 정도의 온도에서 H2가스 또는 Ar가스 분위기 하에서 실시하는 것이 특징인 게터링 수단을 가진 단결정 실리콘 웨이퍼 제조 방법.
- 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,상기 세정단계에서는 SC1 세정 용액 (NH4OH:H2O2:H2O=1:1:5) 을 사용하여 세정하는 것이 특징인 게터링 수단을 가진 단결정 실리콘 웨이퍼 제조 방법.
- 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,상기 양면 폴리싱 단계에서 웨이퍼의 일면은 표면으로부터의 깊이 10 ㎛ 정도까지 연마하고, 다른 면은 5 ㎛ 정도만 연마하여, 웨이퍼의 배면으로부터 깊이 1-3 ㎛ 정도까지 결정 결함이 존재하도록 하는 것이 특징인 실리콘 웨이퍼 제조 방법
- 반도체 소자들이 형성되는 전면과 그 반대면인 배면을 가지는 단결정 실리콘 웨이퍼에 있어서,웨이퍼 표면 근처에 COP가 없는 영역을 가지고 있고,웨이퍼 전면과 반대면 사이에 반도체 소자 형성 공정에서 미소 결함으로 발전할 수 있는 미소 결함 핵이 형성되어 있는 것이 특징인 단결정 실리콘 웨이퍼
- 청구항 6에 있어서,상기 웨이퍼 배면 일부에는 웨이퍼 절단 공정과 연마 공정에서 발생되는 미소한 결정 결함들이 남아 있는 것이 특징인 단결정 실리콘 웨이퍼.
- 청구항 7에 있어서,상기 결정 결함들은 상기 웨이퍼 배면으로부터 깊이 1-3 ㎛ 정도까지 존재하는 것이 특징인 단결정 실리콘 웨이퍼.
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