KR20030027736A

KR20030027736A - 특정 단일양이온성 모노아조 염료를 함유하는 인간의케라틴 섬유 염색용 조성물

Info

Publication number: KR20030027736A
Application number: KR1020020058365A
Authority: KR
Inventors: 비달로렁; 파드리아지즈
Original assignee: 로레알
Priority date: 2001-09-26
Filing date: 2002-09-26
Publication date: 2003-04-07
Also published as: JP4094624B2; FR2829926B1; MXPA02009381A; RU2223744C1; US20030106169A1; US6824570B2; HUP0203172A2; EP1297819A2; JP2003128525A; CN1245150C; KR100533486B1; FR2829926A1; EP1297819A3; HU0203172D0; PL356288A1; JP2005247867A; CN1410047A; BR0204142A; RU2002125634A; CA2405024A1

Abstract

본 발명은 하기 화학식 1 의 단일양이온성 모노아조 염료를 함유하는 인간 케라틴 섬유, 특히 모발 염색용 신규 염료 조성물 및 이를 사용한 염색 방법 및 신규한 화학식 1 의 화합물에 관한 것이다:

[화학식 1]

W₁-W₂-N=N-W₃

Description

특정 단일양이온성 모노아조 염료를 함유하는 인간의 케라틴 섬유 염색용 조성물{COMPOSITION FOR DYEING HUMAN KERATIN FIBRES, COMPRISING A PARTICULAR MONOCATIONIC MONOAZO DYE}

본 발명은 특정 단일양이온성 모노아조 염료를 함유하는 인간 케라틴 섬유, 보다 구체적으로는 모발 염색용 염료 조성물, 및 이러한 조성물을 사용하여 인간 케라틴 섬유를 염색하는 방법에 관한 것이다. 본 발명은 또한 신규한 단일양이온성 모노아조 화합물에 관한 것이다.

인간 케라틴 섬유, 특히 모발을, 일반적으로 오르토- 또는 파라-페닐렌디아민, 오르토- 또는 파라-아미노페놀 및 헤테로시클릭 화합물과 같은 산화 베이스들로서 지칭되는 산화 염료 전구체를 함유하는 염료 조성물로 염색하는 것은 알려진 방법이다. 이러한 산화 베이스들은 무색 또는 약하게 착색된 화합물로, 산화 생성물과 조합된 경우 산화 축합에 의해 화합물을 착색시킨다.

이러한 산화 베이스들을 사용하여 수득된 색조(shade)는 이들을 커플러 또는 색상 개질제와 조합함으로써 변화시킬 수 있다는 것도 알려져 있으며, 색상 개질제는 특히 방향족 메타-디아민, 메타-아미노페놀, 메타-디페놀 및 인돌 화합물과 같은 특정 헤테로시클릭 화합물로부터 선택된다.

산화 베이스 및 커플러로서 사용되는 다양한 분자들은 수득되는 색상을 광범위하게 한다.

이러한 산화 염색 방법은 케라틴 섬유에 산화 베이스 또는 산화 베이스 및 커플러와 산화제, 예로서 수성 과산화 수소의 혼합물을 적용하고, 상기 혼합물을 섬유에 배어들도록 방치시킨 후, 섬유를 헹구어내는 것으로 이루어진다. 이로부터 생성된 착색은 영구적이며, 강하고 외부 요인, 특히 빛, 좋지않은 기후, 세척, 발한 및 마찰에 저항성이다. 이러한 방법은 일반적으로 염기 pH 에서 적용되며, 섬유를 염색하는 동시에, 실질적으로 원래 색상보다 더 밝은 최종 색상의 수득 가능성에 의해, 반사되는 경우 섬유의 라이트닝(lightening)을 가능하게 한다. 추가로, 섬유의 라이트닝은 회색 모발의 경우 및 자연적으로 착색된 모발의 경우에 균일한 색상을 부여하고, 색상을 발현시키는, 즉 색상을 보다 시각적으로 만드는 유리한 효과를 갖는다.

직접 염색에 의해 인간의 케라틴 섬유를 염색하는 것도 알려진 방법이다. 직접 염색에 통상적으로 사용되는 방법은 착색시키는 케라틴 섬유 직접 염료 즉 섬유에 친화도를 갖는 착색되고 또한 착색시키는 분자들을 적용하고, 상기 염료가 섬유에 배어들도록 방치시킨 후, 섬유를 헹구는 것으로 이루어진다.

예로서, 니트로벤젠, 안트라퀴논 또는 니트로피리딘 직접 염료, 아조, 크산틴, 아크리딘 또는 아진 염료 또는 트리아릴메탄 염료를 사용하는 것이 알려져 있다.

이로부터 생성된 착색은 특히 유채색 착색이지만, 이들의 약한 염색능 및 이들의 세척 또는 발한에 대한 약한 저항성으로 인해, 직접 염료가 케라틴 섬유에 결합하는 상호작용 성질 및 이들의 표면 및/또는 섬유의 코어로부터의 탈착이 일어나, 일시적 또는 반영구적이다. 또한, 이러한 직접 염료는 색소원의 광화학적 공격에 대한 약한 저항성으로 인해 일반적으로 빛에 민감하며, 시간이 지남에 따라 모발의 착색이 흐려진다. 또한, 이들의 빛에 대한 민감성은 이들이 케라틴 섬유에 균일하게 분포되었는지 또는 응집되었는지에 따라 달라진다.

직접 염료를 산화제와 조합하여 사용하는 것은 알려진 방법이다. 그러나, 직접 염료는 일반적으로 수성 과산화수소와 같은 산화제, 및 나트륨 비술파이트와 같은 환원제의 작용에 민감하며, 이는 일반적으로 이들을 수성 과산화수소 및 염기화제를 기재로 한 밝은 직접 염료 조성물, 또는 산화 베이스 또는 커플러와 같은 전구체와 조합된 산화 염료 조성물에 사용하는 것을 어렵게 한다.

예로서, 특허출원 FR-1 584 965 호 및 JP-062 711 435 호에서는, 모발을 직접 니트로 염료 및/또는 분산된 아조 염료, 및 암모니아를 함유하는 수성 과산화수소 기재의 염료 조성물로 염색하는 것이 제안되어 왔으며, 이는 사용 직전에 제조된 상기 염료 및 상기 산화제 혼합물을 모발에 적용함으로써 수행된다. 그러나, 수득되는 착색은 충분히 빠르지 않으며, 샴푸에 의해 사라져, 모발 섬유의 라이트닝을 나타나게 하는 것으로 입증되었다. 시간에 따른 변화에 의해, 이러한 착색은 미적으로 좋지않게 된다.

특허출원 JP-53 95693 호 및 JP-55 022638 호에서는, 모발을 옥사진계 및 암모니아를 포함하는 수성 과산화수소의 양이온성 직접 염료 기재 조성물로 모발을 염색하는 것이 제안되었으며, 이는 제 1 단계에서 모발에 암모니아를 포함하는 수성 과산화수소를 적용하고, 제 2 단계에서, 옥사진 직접 염료 기재의 조성물을 모발에 적용함으로써 수행된다. 이러한 착색은, 두 개의 연속 단계에서 제품을 모발 상에 남겨두는 시간이 너무 길게 되는 방법을 요구한다는 사실로 인해, 만족스럽지 못하다. 또한, 옥사진 직접 염료와 암모니아를 포함하는 수성 과산화수소의 즉석 혼합물을 모발에 적용하는 경우, 착색이 수득되지 않거나 또는 적어도 모발 섬유에 실질적으로 존재하지 않는 착색이 수득된다.

보다 최근에는, 특허출원 FR 2 741 798 호는 아조계 또는 아조메틴계의 하나 이상의 4차화된 질소 원자를 함유하는 직접 염료 함유 염료 조성물을 기재하고 있으며, 상기 조성물은 염기성 pH 에서 산화 조성물과 즉석 혼합시키는 것이 요구된다. 이러한 조성물들은 균일하고 빠르며, 뛰어난 반짝임을 갖는 착색을 수득하는 것을 가능하게 한다. 그러나, 이들은 산화 염료 조성물과 같은 강도로 케라틴 섬유를 염색하는 것을 가능하게 하지는 못한다.

따라서, 인간 케라틴 섬유를 산화 염료와 같이 강하게 염색시키는 것을 가능하게 하고, 산화 염료만큼 빛에 안정하며, 또한 좋지 않은 기후, 세척 및 발한에도 견딜 수 있으며, 추가로 산화 및 환원제의 존재 하에서, 이들을 함유하는 직접 라이트닝 조성물을 사용하거나 또는 이들을 함유하는 산화 염료 전구체 기재의 산화 염료 조성물을 사용함으로써 동시에 섬유의 라이트닝을 수득할 수 있도록 하는 유채색 직접 염료에 대한 연구가 요구되고 있다. 또한, 인간 케라틴 섬유를 염색하여, 흑색 및 갈색과 같은 "기본적인" 색조를 없애지 않으면서, 매우 광범위한 색상, 특히 유채색 색상을 수득할 수 있도록 하는 직접 염료에 대한 연구가 요구되고 있다.

이러한 목적은 본 발명에 의해 성취되며, 본 발명의 주제는, 화장용으로 적합한 매질에 하기 화학식 1 의 단일양이온성 모노아조 염료를 하나 이상 함유하는 인간 케라틴 섬유, 특히 모발 염색용 조성물에 관한 것이다:

W₁-W₂-N=N-W₃

식 중, W₁은 하기 화학식 2 의 5-, 6-, 7- 또는 8- 원 헤테로사이클을 나타내고,

W₂는 하기 화학식 3의 2가, 방향족, 탄소 기재 피리딘 또는 피리다진기를 나타내고,

W₃은 하기 화학식 4 로 표시되는 양이온성 헤테로방향족 라디칼을 나타내며:

화학식 2, 화학식 3, 화학식 4 에서:

- n 은 0, 1, 2 또는 3 이며, n 이 2 이상이면, 라디칼 R₄는 동일하거나 상이할 수 있는 것으로 이해되고,

- X₁은 질소 원자 또는 라디칼 CR₇을 나타내고,

- X₂는 질소 원자 또는 라디칼 CR₈을 나타내고,

- Z₁은 라디칼 CHR₂, 산소 또는 황 원자 또는 라디칼 NR₁₄를 나타내고,

- Z₂는 산소 또는 황 원자, 또는 라디칼 NR₁₅를 나타내고,

- R₀, R₁, R₂, R₃, R₄, R₅, R₆, R₇, R₈, R₉, R₁₀, R₁₁및 R₁₂는 동일하거나 상이할 수 있으며, 수소 원자, 또는 선형 또는 분지된 C₁~C₁₀탄화수소 기재의 쇄, 가능하게는 3 내지 6 원을 함유하는 하나 이상의 탄소 기재 고리, 및 가능하게는 포화 또는 불포화를 나타내며, 여기에서 탄소 기재 쇄의 하나 이상의 탄소 원자들은 산소, 질소 또는 황 원자로 치환될 수 있거나, 또는 SO₂기로 치환될 수 있고, 여기에서 탄소 원자들은 서로 독립적으로, 하나 이상의 할로겐 원자로 치환될 수 있다; R₀, R₁, R₂, R₃, R₄, R₅, R₆, R₇, R₈, R₉, R₁₁및 R₁₂는 과산화물 결합이나 임의의 디아조 또는 니트로소 라디칼을 함유하지 않으며,

- R₁₄는 수소 원자, 선형 또는 분지된 C₁~C₁₀탄화수소 기재의 쇄, 가능하게는 3 내지 6 원을 함유하는 하나 이상의 탄소 기재 고리를 형성하고, 가능하게는 포화 또는 불포화되었으며, 여기에서 탄소 기재 쇄의 하나 이상의 탄소 원자들은 산소, 질소 또는 황 원자로 치환되거나 또는 SO₂기로 치환될 수 있으며, 여기에서 탄소 원자는 서로 독립적으로 하나 이상의 할로겐 원자로 치환될 수 있으며, R₁₄는 과산화물 결합이나 임의의 디아조 또는 니트로소 라디칼을 함유하지 않고; 상기 산소, 질소 또는 황 원자들은 라디칼 R₁₄를 지닌 질소 원자에 직접적으로 연결되지 않는 것으로 이해되며,

- R₅와 R₆은 페닐과 같은 탄소 기재 방향족 고리를 형성할 수 있고,

- R₁₃및 R₁₅는 동일하거나 상이할 수 있으며, 히드록실, C₁~C₂알콕시, C₂~C₄(폴리)히드록시알콕시 라디칼, 아미노, C₁~C₂(디)알킬아미노, 카르복실, 술폰산 또는 임의 치환된 페닐로 이루어지는 군으로부터 선택된 하나 이상의 라디칼로 임의 치환된 C₁~C₈알킬 라디칼을 나타내고;

- 화학식 4 의 양이온성 고리의 결합 a 는 화학식 1 의 아조기에 연결되며;

- X 는 유기 또는 무기 음이온이다.

본 발명에 따라, R₀, R₁, R₂, R₃, R₄, R₅, R₆, R₇, R₈, R₉, R₁₀, R₁₁, R₁₂및 R₁₄에 대해 정의된 탄화수소 기재 쇄의 하나 이상의 탄소 원자는 산소, 질소 또는 황 원자로 치환되거나 또는 SO₂기로 치환될 수 있고/거나, 탄화수소 기재의 쇄가 불포화를 나타내는 경우, 이는 예로서 하기의 변형이 만들어질 수 있다는 것을 의미한다:

이 각각로 될 수 있음.

특히, "분지된 탄화수소 기재의 쇄" 라는 표현은 3 내지 6 원을 함유하는 하나 이상의 탄소 기재 고리를 형성할 수 있는 쇄를 의미한다. "불포화된 탄화수소 기재의 쇄" 라는 표현은 하나 이상의 이중결합 및/또는 하나 이상의 삼중 결합을 함유할 수 있는 쇄를 의미하며, 이러한 탄화수소 기재의 쇄는 가능하게는 방향족기를 생성한다.

X 는 예로서, 클로라이드, 브로마이드, 플루오라이드 또는 요오다이드와 같은 할라이드; 수산화물; 술페이트, 수소 술페이트; (C₁~C₆) 알킬 술페이트, 예로서 메틸 술페이트 또는 에틸 술페이트; 아세테이트; 타르트레이트; 옥살레이트; 메틸술포네이트와 같은 (C₁~C₆)알킬술포네이트; 및 C₁~C₄알킬 라디칼로 치환될 수 있거나 치환되지 않은 아릴술포네이트, 예로서 4-톨릴술포네이트로 구성되는 군으로부터 선택되는 유기 또는 무기 음이온이다.

바람직하게는, R₁, R₂및 R₃은 동일하거나 상이할 수 있으며, 수소 원자; 알콕시, 히드록실, 아미노 또는 아세톡시 라디칼; 할로겐 원자, 히드록실 라디칼, C₁~C₂알콕시 라디칼, (폴리)히드록시알콕시 라디칼, 아미노 라디칼, C₁~C₂(디)알킬아미노 라디칼, 카르복실 라디칼 또는 술폰산 라디칼로부터 선택된 하나 이상의 라디칼로 치환된 선형 또는 분지된 C₁~C₄알킬 라디칼; -NR₁₆R₁₇, [R₁₆및 R₁₇은 동일하거나 상이할 수 있으며, 수소 원자, 메틸 술포닐 라디칼, 카르복실 라디칼, 카르복스아미도 라디칼, 또는 할로겐 원자, 히드록실 라디칼, C₁~C₂알콕시 라디칼, 아미노 라디칼, C₁~C₂(디)알킬아미노 라디칼 또는 카르복시 라디칼로부터 선택된 하나 이상의 라디칼로 치환된 C₁~C₄알킬 라디칼을 나타낸다]을 나타낸다.

화학식 2 의 상기 5-, 6-, 7- 또는 8- 원 헤테로사이클의 비대칭 탄소들은 서로 독립적으로, (R) 또는 (S) 의 배치를 갖는다.

보다 바람직하게는, R₁, R₂및 R₃은 동일하거나 상이할 수 있으며, 수소 원자; 임의로 단일- 또는 2치환된 히드록실 라디칼 또는 아미노 라디칼; 또는 히드록실, C₁~C₂알콕시, 아미노, C₁~C₂(디)알킬아미노, 카르복실 또는 술폰산 라디칼로부터 선택된 하나 이상의 라디칼로 임의치환된 선형 또는 분지된 C₁~C₃알킬 라디칼을 나타낸다.

보다 바람직하게는, R₁, R₂및 R₃은 동일하거나 상이할 수 있으며, 수소 원자; 메틸 라디칼; 히드록실 라디칼; 아미노 라디칼; (디)메틸아미노 라디칼; 메틸술포닐아미노 라디칼; C₂~C₄(폴리)히드록시알킬아미노 라디칼; 히드록시메틸 라디칼을 나타낸다.

본 발명에 따르면, 바람직하게는 화학식 2 에서 R₁은 수소 원자, 메틸 라디칼, 히드록실, 아미노, 메틸아미노, 디메틸아미노 및 2-히드록시에틸아미노로 이루어진 군, 보다 특히는 수소 원자, 히드록실, 아미노 및 디메틸아미노로 이루어진 군, 보다 더 특히는 수소 원자 또는 히드록실 라디칼로 이루어진 군으로부터 선택된다.

본 발명에 따르면, 바람직하게는 화학식 2 에서 R₀은 수소 원자, 및 히드록실, 메톡시, 아미노, (디)알킬아미노, 카르복실, 술포닐, 아미도 및 디메틸아미도 라디칼로부터 선택된 하나 이상의 라디칼로 치환된 선형 또는 분지된 C₁~C₄알킬 라디칼로 이루어진 군으로부터 선택되며, 보다 특히 R₀은 수소 원자, 및 카르복실 또는 아미도 또는 디메틸아미도 또는 히드록시메틸 라디칼로 이루어진 군으로부터 선택되고, 보다 더 특히는 수소 원자를 나타낸다.

바람직하게는, Z₁은 라디칼 NR₁₄또는 CHR₂를 나타내며, 보다 특히는 라디칼 CHR₂를 나타낸다.

보다 바람직한 구현예에서, 화학식 2 의 Z₁은 CH₂, CHOH, CHNH₂또는CHN(CH₃)₂, 및 보다 특히는 CH₂를 나타낸다.

바람직한 구현예에 따르면, 화학식 2 의 n 은 0 또는 1 의 값을 나타내며, 바람직하게는 0 을 나타낸다.

라디칼 R₅, R₆, R₇, R₈, R₉, R₁₀, R₁₁및 R₁₂는 동일하거나 상이할 수 있으며, 바람직하게는 수소 원자, 및 메틸, 에틸, 이소프로필, 메톡시메틸, 히드록시메틸, 1-카르복시메틸, 1-아미노메틸, 2-카르복시에틸, 2-히드록시에틸, 3-히드록시프로필, 1,2-디히드록시에틸, 1-히드록시-2-아미노에틸, 2-히드록시-1-아미노에틸, 메톡시, 에톡시, 2-히드록시에틸옥시, 3-아미노에틸옥시, 아미노, 메틸아미노, 디메틸아미노 또는 2-히드록시에틸 아미노 라디칼로 이루어지는 군으로부터 선택된다.

바람직한 구현예에 따르면, R₅, R₆, R₇, R₈, R₉, R₁₀, R₁₁및 R₁₂는 동일하거나 상이할 수 있으며, 수소 원자, 및 메틸, 히드록시메틸, 2-히드록시에틸, 1,2-디히드록시에틸, 메톡시, 2-히드록시에틸옥시, 아미노 또는 2-히드록시에틸아미노 라디칼로 이루어지는 군으로부터 선택되며, 보다 바람직하게는 수소 원자, 또는 메틸, 메톡시 또는 아미노 라디칼을 나타낸다.

본 발명에 따라, 화학식 3 의 X₁은 바람직하게는 라디칼 CR₇[R₇은 상기 정의된 것과 같음]을 나타내고, 화학식 3 의 X₂는 라디칼 CR₈[R₈은 상기 정의된 것과 같음]을 나타낸다.

본 발명에 따라, R₁₃및 R₁₅는 동일하거나 상이할 수 있으며, 바람직하게는히드록실, C₁~C₂알콕시, 아미노, C₁~C₂(디)알킬아미노, 카르복실, 술폰산 및 페닐 라디칼로 이루어지는 군으로부터 선택된 하나 이상의 라디칼로 임의 치환된 C₁~C₄알킬 라디칼을 나타내며, 바람직하게는 메틸, 에틸, 2-히드록시에틸, 1-카르복시메틸, 2-카르복시에틸 또는 2-술포닐에틸 라디칼을 나타낸다.

보다 바람직하게는, R₁₃및 R₁₅는 동일하거나 상이할 수 있으며, 히드록실, 메톡시, 아미노, 디메틸아미노, 카르복실 또는 술폰산 라디칼로 임의 치환된 C₁~C₃알킬을 나타낸다. 보다 특히는, R₁₃및 R₁₅는 동일하거나 상이할 수 있으며, 메틸, 에틸, 2-히드록시에틸 또는 카르복시메틸 라디칼을 나타내고, 보다 더 특히는 메틸 라디칼을 나타낸다.

본 발명에 따라, R₁₄는 바람직하게는 수소 원자 또는 히드록시, 메톡시, 아미노, 메틸아미노, 디메틸아미노, 카르복실 또는 술포닐 라디칼로부터 선택된 하나 이상의 라디칼로 임의 치환된 선형 또는 분지된 C₁~C₃알킬 라디칼을 나타낸다.

바람직한 구현예에 따라, R₁₄는 수소 원자, 메틸 라디칼 또는 2-히드록시에틸 라디칼을 나타낸다.

바람직한 구현예에 따라, Z₂는 NR₁₅를 나타내며, R₁₅는 R₁₅에 대해 상기 언급된 모든 지정된 것들과 같다.

특정 구현예에 따라, R₀, R₁, Z₁, R₃, R₄및 n 은 하기의 조합으로부터 선택된다:

보다 더 특히는, R₀, R₁, Z₁, R₃, R₄및 n 은 하기의 조합으로부터 선택된다:

화학식 1 의 단일양이온성 모노아조 염료 중, 바람직하게는 특히 하기를 언급할 수 있다:

1,3-디메틸-2-[4-(피롤리딘-1-일)페닐아조]벤즈이미다졸-1-윰,

1,3-디메틸-2-[4-(3-히드록시피롤리딘-1-일)페닐아조]벤즈이미다졸-1-윰,

1,3-디메틸-2-[4-(2-카르복시피롤리딘-1-일)페닐아조]벤즈이미다졸-1-윰

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1,3-디메틸-2-[4-(2-카르복시-4-히드록시피롤리딘-1-일)페닐아조]벤즈이미다졸-1-윰,

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5-디메틸아미노-1,3-디메틸-2-[4-(3-히드록시피롤리딘-1-일)페닐아조]벤즈이미다졸-1-윰,

5-디메틸아미노-1,3-디메틸-2-[4-(2-카르복시피롤리딘-1-일)페닐아조]벤즈이미다졸-1-윰,

5-디메틸아미노-1,3-디메틸-2-[4-(3-아미노피롤리딘-1-일)페닐아조]벤즈이미다졸-1-윰,

5-디메틸아미노-1,3-디메틸-2-[4-(2-카르복시-3-히드록시피롤리딘-1-일)페닐아조]벤즈이미다졸-1-윰,

5-디메틸아미노-1,3-디메틸-2-[4-(2-카르복스아미도피롤리딘-1-일)페닐아조]벤즈이미다졸-1-윰,

5-디메틸아미노-1,3-디메틸-2-[4-(2-히드록시메틸피롤리딘-1-일)페닐아조]벤즈이미다졸-1-윰,

5-디메틸아미노-1,3-디메틸-2-[4-(2-카르복시-4-히드록시피롤리딘-1-일)페닐아조]벤즈이미다졸-1-윰,

5-디메틸아미노-1,3-디메틸-2-[4-(피페리딘-1-일)페닐아조]벤즈이미다졸-1-윰,

5-디메틸아미노-1,3-디메틸-2-[4-(3-히드록시피페리딘-1-일)페닐아조]벤즈이미다졸-1-윰,

5-디메틸아미노-1,3-디메틸-2-[4-(3-히드록시메틸-피페리딘-1-일)페닐아조]벤즈이미다졸-1-윰,

5-디메틸아미노-1,3-디메틸-2-[4-(3-카르복시피페리딘-1-일)페닐아조]벤즈이미다졸-1-윰,

5-디메틸아미노-1,3-디메틸-2-[4-(2-카르복시피페리딘-1-일)페닐아조]벤즈이미다졸-1-윰,

5-디메틸아미노-1,3-디메틸-2-[4-(피페라진-1-일)페닐아조]벤즈이미다졸-1-윰,

5-디메틸아미노-1,3-디메틸-2-[4-(호모피페라진-1-일)페닐아조]벤즈이미다졸-1-윰.

화학식 1 의 단일양이온성 모노아조 염료의 농도는 염료 조성물의 총 중량에 대하여 약 0.001 중량% 내지 5 중량% 의 범위, 바람직하게는 약 0.05 중량% 내지 2 중량% 일 수 있다.

본 발명에 따른 염료 조성물은 또한 화학식 1의 것들과 상이한 직접 염료들도 함유할 수 있으며, 이들 염료는 가능하게는 특히 중성, 산성 또는 양이온성 니트로벤젠 직접 염료, 중성, 산성 또는 양이온성 아조 직접 염료, 중성, 산성 또는 양이온성 퀴논 직접 염료, 특히 안트라퀴논, 아진 직접 염료, 메틴 직접 염료, 트리아릴메탄 직접 염료, 인도아민 직접 염료 및 천연 직접 염료로부터 선택된다.

벤젠 직접 염료들 중, 특히 하기 화합물들을 언급할 수 있다:

- 1,4-디아미노-2-니트로벤젠

- 1-아미노-2-니트로-4-β-히드록시에틸아미노벤젠

- 1-아미노-2-니트로-4-비스(β-히드록시에틸)아미노벤젠

- 1,4-비스(β-히드록시에틸아미노)-2-니트로벤젠

- 1-β-히드록시에틸아미노-2-니트로-4-비스(β-히드록시에틸아미노)벤젠

- 1-β-히드록시에틸아미노-2-니트로-4-아미노벤젠

- 1-β-히드록시에틸아미노-2-니트로-4-(에틸)(β-히드록시-에틸)아미노벤젠

- 1-아미노-3-메틸-4-β-히드록시에틸아미노-6-니트로벤젠

- 1-아미노-2-니트로-4-β-히드록시에틸아미노-5-클로로벤젠

- 1,2-디아미노-4-니트로벤젠

- 1-아미노-2-β-히드록시에틸아미노-5-니트로벤젠

- 1,2-비스(β-히드록시에틸아미노)-4-니트로벤젠

- 1-아미노-2-트리스(히드록시메틸)메틸아미노-5-니트로벤젠

- 1-히드록시-2-아미노-5-니트로벤젠

- 1-히드록시-2-아미노-4-니트로벤젠

- 1-히드록시-3-니트로-4-아미노벤젠

- 1-히드록시-2-아미노-4,6-디니트로벤젠

- 1-β-히드록시에틸옥시-2-β-히드록시에틸아미노-5-니트로벤젠

- 1-메톡시-2-β-히드록시에틸아미노-5-니트로벤젠

- 1-β-히드록시에틸옥시-3-메틸아미노-4-니트로벤젠

- 1-β,γ-디히드록시프로필옥시-3-메틸아미노-4-니트로벤젠

- 1-β-히드록시에틸아미노-4-β,γ-디히드록시프로필옥시-2-니트로벤젠

- 1-β,γ-디히드록시프로필아미노-4-트리플루오로메틸-2-니트로벤젠

- 1-β-히드록시에틸아미노-4-트리플루오로메틸-2-니트로벤젠

- 1-β-히드록시에틸아미노-3-메틸-2-니트로벤젠

- 1-β-아미노에틸아미노-5-메톡시-2-니트로벤젠

- 1-히드록시-2-클로로-6-에틸아미노-4-니트로벤젠

- 1-히드록시-2-클로로-6-아미노-4-니트로벤젠

- 1-히드록시-6-비스(β-히드록시에틸)아미노-3-니트로벤젠

- 1-β-히드록시에틸아미노-2-니트로벤젠

- 1-히드록시-4-β-히드록시에틸아미노-3-니트로벤젠.

아조 직접 염료들 중, 특허출원 WO 95/15144 호, WO 95/01772 호 및 EP-714954 호에 기재된 양이온성 아조 염료를 언급할 수 있으며, 이들의 내용은 본 발명의 구성 부분이다.

이들 화합물들 중, 가장 특히는 하기 염료들을 언급할 수 있다:

- 1,3-디메틸-2-[[4-(디메틸아미노)페닐] 아조]-1H-이미다졸륨 클로라이드,

- 1,3-디메틸-2-[(4-아미노페닐)아조]-1H-이미다졸륨 클로라이드,

- 1-메틸-4-[(메틸페닐히드라조노)메틸]피리디늄 메틸 술페이트.

아조 직접 염료들 중, COLOR INDEX INTERNATIONAL, 제 3 판에 기재된 하기 염료들을 언급할 수 있다;

- Disperse Red 17

- Acid Yellow 9

- Acid Black 1

- Basic Red 22

- Basic Red 76

- Basic Yellow 57

- Basic Brown 16

- Acid Yellow 36

- Acid Orange 7

- Acid Red 33

- Acid Red 35

- Basic Brown 17

- Acid Yellow 23

- Acid Orange 24

- Disperse Black 9.

1-(4'-아미노디페닐아조)-2-메틸-4-비스(β-히드록시에틸)아미노벤젠 및 4-히드록시-3-(2-메톡시페닐아조)-1-나프탈렌-술폰산도 언급할 수 있다.

퀴논 직접 염료들 중, 하기 염료들을 언급할 수 있다:

- Disperse Red 15

- Solvent Violet 13

- Acid Violet 43

- Disperse Violet 1

- Disperse Violet 4

- Disperse Blue 1

- Disperse Violet 8

- Disperse Blue 3

- Disperse Red 11

- Acid Blue 62

- Disperse Blue 7

- Basic Blue 22

- Disperse Violet 15

- Basic Blue 99

및 하기의 화합물들:

- 1-N-메틸모르폴리늄프로필아미노-4-히드록시안트라퀴논

- 1-아미노프로필아미노-4-메틸아미노안트라퀴논

- 1-아미노프로필아미노안트라퀴논

- 5-β-히드록시에틸-1,4-디아미노안트라퀴논

- 2-아미노에틸아미노안트라퀴논

- 1,4-비스(β,γ-디히드록시프로필아미노)안트라퀴논.

아진 염료들 중, 하기 화합물들을 언급할 수 있다:

- Basic Blue 17

- Basic Red 2.

트리아릴메탄 염료들 중, 하기 화합물들을 언급할 수 있다:

- Basic Green 1

- Acid Blue 9

- Basic Violet 3

- Basic Violet 14

- Basic Blue 7

- Acid Violet 49

- Basic Blue 26

- Acid Blue 7.

인도아민 염료들 중, 하기 화합물들을 언급할 수 있다:

- 2-β-히드록시에틸아미노-5-[비스(β-4'-히드록시에틸)-아미노]아닐리노-1,4-벤조퀴논

- 2-β-히드록시에틸아미노-5-(2'-메톡시-4'-아미노)아닐리노-1,4-벤조퀴논

- 3-N-(2'-클로로-4'-히드록시)페닐아세틸아미노-6-메톡시-1,4-벤조퀴논이민

- 3-N-(3'-클로로-4'-메틸아미노)페닐우레이도-6-메틸-1,4-벤조퀴논이민

- 3-[4'-N-(에틸카바밀메틸)아미노]페닐우레이도-6-메틸-1,4-벤조퀴논이민.

본 발명에 따라 사용될 수 있는 천연 직접 염료들 중, 로손 (lawsone), 저그론 (juglone), 알리자린 (alizarin), 푸르푸린 (purpurin), 카르미닌산 (carminic acid), 케르메신산 (kermesic acid), 푸르푸로갈린 (purpurogallin), 프로토카테크알데히드 (protocatechaldehyde), 인디고, 이사틴 (isatin), 쿠르쿠민 (curcumin), 스피눌로신 (spinulosin) 및 아피제니딘 (apigenidin)을 언급할 수 있다. 또한, 이들 천연 염료들을 함유하는 추출물 또는 달여낸 즙 (decoction)을 사용하는 것도 가능하며, 특히 헨나 (henna) 기재의 포울티스 (poultice) 또는 추출물을 사용할 수 있다. 과산화수소가 특히 바람직하다.

추가의 직접 염료(들)은 바람직하게는 조성물 총 중량의 약 0.001 중량% 내지 20 중량% 를 나타내며, 보다 바람직하게는 약 0.005 중량% 내지 10 중량% 를 나타낸다.

본 발명의 조성물은 또한 산화제를 함유할 수 있다. 이러한 산화제는 통상적으로 인간 케라틴 섬유를 탈색하는데 사용되는 임의의 산화제일 수 있다. 산화제는 바람직하게는 과산화수소, 과산화요소, 알칼리 금속 브롬화물, 퍼보레이트 및 퍼술페이트와 같은 과염 (persalt), 과산 (peracid) 및 효소, 이들 중 퍼옥시다아제, 유리카제 (uricase)와 같은 2-전자 산화환원효소, 및 락카제 (laccase)와 같은 4-전자 산화환원효소로부터 선택된다.

본 발명에 따른 조성물이 통상적인 산화 염색용인 경우, 이는 또한 산화 베이스도 함유한다. 이러한 산화 베이스는 산화 염색에 통상적으로 사용되는 산화 베이스들로부터 선택될 수 있으며, 예로서 파라-페닐렌디아민, 비스페닐알킬렌디아민, 파라-아미노페놀, 오르토-아미노페놀 및 헤테로시클릭 베이스들이 있다.

파라-페닐렌디아민들 중, 특히 예로서 파라-페닐렌디아민, 파라-톨릴렌디아민, 2-클로로-파라-페닐렌디아민, 2,3-디메틸-파라-페닐렌디아민, 2,6-디메틸-파라-페닐렌디아민, 2,6-디에틸-파라-페닐렌디아민, 2,5-디메틸-파라-페닐렌디아민, N,N-디메틸-파라-페닐렌디아민, N,N-디에틸-파라-페닐렌디아민, N,N-디프로필-파라-페닐렌디아민, 4-아미노-N,N-디에틸-3-메틸아닐린, N,N-비스(β-히드록시-에틸)-파라-페닐렌디아민, 4-아미노-N,N-비스(β-히드록시에틸)-2-메틸아닐린, 4-아미노-2-클로로-N,N-비스(β-히드록시에틸)아닐린, 2-β-히드록시에틸-파라-페닐렌디아민, 2-플루오로-파라-페닐렌디아민, 2-이소프로필-파라-페닐렌디아민, N-(β-히드록시프로필)-파라-페닐렌디아민, 2-히드록시메틸-파라-페닐렌디아민, N,N-디메틸-3-메틸-파라-페닐렌디아민, N,N-(에틸-β-히드록시에틸)-파라-페닐렌디아민, N-(β,γ-디히드록시프로필)-파라-페닐렌디아민, N-(4'-아미노페닐)-파라-페닐렌디아민, N-페닐-파라-페닐렌디아민, 2-β-히드록시에틸옥시-파라-페닐렌디아민, 2-β-아세틸아미노에틸옥시-파라-페닐렌디아민, N-(β-메톡시에틸)-파라-페닐렌디아민, 4-아미노페닐피롤리돈, 2-티에닐-파라-페닐렌디아민 및 5-아미노-2-β-히드록시에틸아미노톨루엔, 및 이들의 산 부가염이 언급될 수 있다.

상기 언급된 파라-페닐렌디아민들 중, 파라-페닐렌디아민, 파라-톨릴렌디아민, 2-이소프로필-파라-페닐렌디아민, 2-β-히드록시에틸-파라-페닐렌디아민, 2-β-히드록시에틸옥시-파라-페닐렌디아민, 2,6-디메틸-파라-페닐렌디아민, 2,6-디에틸-파라-페닐렌디아민, 2,3-디메틸-파라-페닐렌디아민, N,N-비스(β-히드록시에틸)-파라-페닐렌디아민, 2-클로로-파라-페닐렌디아민 및 2-β-아세틸아미노에틸옥시-파라-페닐렌디아민, 및 이들의 산 부가염이 특히 바람직하다.

비스페닐알킬렌디아민들 중, 예로서 N,N'-비스(β-히드록시에틸)-N,N'-비스(4'-아미노페닐)-1,3-디아미노프로판올, N,N'-비스(β-히드록시에틸)-N,N'-비스(4'-아미노페닐)-에틸렌디아민, N,N'-비스(4-아미노페닐)테트라메틸렌디아민, N,N'-비스(β-히드록시에틸)-N,N'-비스(4-아미노페닐)테트라메틸렌디아민, N,N'-비스(4-메틸아미노페닐)테트라메틸렌디아민, N,N'-비스(에틸)-N,N'-비스(4'-아미노-3'-메틸페닐)에틸렌디아민 및 1,8-비스(2,5-디아미노페녹시)-3,6-디옥사옥탄, 및 이들의 산 부가염을 언급할 수 있다.

파라-아미노페놀들 중, 예로서 파라-아미노페놀, 4-아미노-3-메틸페놀, 4-아미노-3-플루오로페놀, 4-아미노-3-히드록시메틸페놀, 4-아미노-2-메틸페놀, 4-아미노-2-히드록시메틸페놀, 4-아미노-2-메톡시메틸페놀, 4-아미노-2-아미노메틸페놀, 4-아미노-2-(β-히드록시-에틸아미노메틸)페놀 및 4-아미노-2-플루오로페놀, 및 이들의 산 부가염을 언급할 수 있다.

오르토- 아미노페놀들 중, 예로서 2-아미노페놀, 2-아미노-5-메틸페놀, 2-아미노-6-메틸페놀 및 5-아세트아미도-2-아미노페놀, 및 이들의 산 부가염을 언급할 수 있다.

헤테로시클릭 베이스들 중, 예로서 피리딘 유도체, 피리미딘 유도체 및 피라졸 유도체들을 언급할 수 있다.

피리딘 유도체들 중, 예로서 특허 GB 1 026 978 호 및 GB 1 153 196 호에 기재된 화합물들을 언급할 수 있으며, 예로서 2,5-디아미노피리딘, 2-(4-메톡시페닐)아미노-3-아미노-피리딘, 2,3-디아미노-6-메톡시피리딘, 2-(β-메톡시에틸)아미노-3- 아미노-6-메톡시피리딘 및 3,4-디아미노-피리딘, 및 이들의 산 부가염들이 있다.

피리미딘 유도체들 중, 예로서 특허 DE 2 359 399 호; JP 88-169 571 호; JP 05 163 124 호; 및 EP 0 770 375 호 또는 특허출원 WO 96/15765 호에 기재된 화합물들을 언급할 수 있으며, 예로서 2,4,5,6-테트라아미노피리미딘, 4-히드록시-2,5,6-트리아미노피리미딘, 2-히드록시-4,5,6-트리아미노피리미딘, 2,4-디히드록시-5,6-디아미노피리미딘 및 2,5,6-트리아미노-피리미딘, 및 특허출원 FR-A-2 750 048 호에서 언급된 것과 같은 피라졸로피리미딘 유도체들이 있으며, 이들 중, 피라졸로[1,5-a]피리미딘-3,7-디아민; 2,5-디메틸-피라졸로[1,5-a]피리미딘-3,7-디아민; 피라졸로[1,5-a]-피리미딘-3,5-디아민; 2,7-디메틸피라졸로[1,5-a]-피리미딘-3,5-디아민; 3-아미노피라졸로[1,5-a]-피리미딘-7-올; 3-아미노피라졸로[1,5-a]피리미딘-5-올; 2-(3-아미노피라졸로[1,5-a]피리미딘-7-일아미노)에탄올, 2-(7-아미노피라졸로[1,5-a]피리미딘-3-일아미노)에탄올, 2-[(3-아미노피라졸로[1,5-a]피리미딘-7-일)(2-히드록시-에틸)아미노]에탄올, 2-[(7-아미노피라졸로[1,5-a]-피리미딘-3-일)(2-히드록시에틸)아미노]에탄올, 5,6-디메틸피라졸로[1,5-a]피리미딘-3,7-디아민, 2,6-디메틸피라졸로[1,5-a]피리미딘-3,7-디아민, 2,5,N7,N7-테트라메틸피라졸로[1,5-a]피리미딘-3,7-디아민 및 3-아미노-5-메틸-7-이미다졸릴프로필아미노-피라졸로[1,5-a]피리미딘, 및 이들의 산 부가염, 및 호변체 평형이 존재하는 경우, 이들의 호변체 형태를 언급할 수 있다.

피라졸 유도체들 중, DE 3 843 892 호 및 DE 4 133 957 호, 및 특허출원 WO 94/08969 호, WO 94/08970 호, FR-A-2 733 749 호 및 DE 195 43 988 호에 기재된 화합물들을 언급할 수 있으며, 예로서 4,5-디아미노-1-메틸피라졸, 4,5-디아미노-1-(β-히드록시에틸)피라졸, 3,4-디아미노피라졸, 4,5-디아미노-1-(4'-클로로벤질)피라졸, 4,5-디아미노-1,3-디메틸피라졸, 4,5-디아미노-3-메틸-1-페닐피라졸, 4,5-디아미노-1-메틸-3-페닐피라졸, 4-아미노-1,3-디메틸-5-히드라지노피라졸, 1-벤질-4,5-디아미노-3-메틸피라졸, 4,5-디아미노-3-tert-부틸-1-메틸피라졸, 4,5-디아미노-1-tert-부틸-3-메틸피라졸, 4,5-디아미노-1-(β-히드록시에틸)-3-메틸피라졸, 4,5-디아미노-1-에틸-3-메틸피라졸, 4,5-디아미노-1-에틸-3-(4'-메톡시페닐)피라졸, 4,5-디아미노-1-에틸-3-히드록시메틸피라졸, 4,5-디아미노-3-히드록시메틸-1-메틸피라졸, 4,5-디아미노-3-히드록시메틸-1-이소프로필피라졸, 4,5-디아미노-3-메틸-1-이소프로필피라졸, 4-아미노-5-(2'-아미노에틸)아미노-1,3-디메틸피라졸, 3,4,5-트리아미노피라졸, 1-메틸-3,4,5-트리아미노피라졸, 3,5-디아미노-1-메틸-4-메틸아미노피라졸 및 3,5-디아미노-4-(β-히드록시에틸)아미노-1-메틸피라졸, 및 이들의 산 부가염이 있다.

본 발명에 따른 조성물은 또한 인간 케라틴 섬유의 통상적인 산화 염색에 통상적으로 사용되는 하나 이상의 커플러들을 함유할 수 있다. 이들 커플러들 중, 특히 메타-페닐렌디아민, 메타-아미노페놀, 메타-디페놀, 나프탈렌 커플러 및 헤테로시클릭 커플러들을 언급할 수 있다.

예로서, 2-메틸-5-아미노페놀, 5-N-(β-히드록시에틸)아미노-2-메틸페놀, 6-클로로-2-메틸-5-아미노페놀, 3-아미노페놀, 1,3-디히드록시벤젠, 1,3-디히드록시- 2-메틸벤젠, 4-클로로-1,3-디히드록시벤젠, 2,4-디아미노-1-(β-히드록시에틸옥시)벤젠, 2-아미노-4-(β-히드록시에틸아미노)-1-메톡시벤젠, 1,3-디아미노벤젠, 1,3-비스(2,4-디아미노페녹시)프로판, 3-우레이도아닐린, 3-우레이도-1-디메틸아미노벤젠, 세사몰, 1-β-히드록시에틸아미노-3,4-메틸렌디옥시벤젠, α-나프톨, 2-메틸-1-나프톨, 6-히드록시인돌, 4-히드록시인돌, 4-히드록시-N-메틸인돌, 2- 아미노-3-히드록시피리딘, 6-히드록시벤조모르폴린, 3,5-디아미노-2,6-디메톡시피리딘, 1-N-(β-히드록시에틸)아미노-3,4-메틸렌디옥시벤젠, 및 2,6-비스(β-히드록시에틸아미노)-톨루엔, 및 이들의 산 부가염을 언급할 수 있다.

본 발명의 조성물에서 커플러(들)은 일반적으로 염료 조성물 총 중량의 약 0.001 중량% 내지 10 중량%로 존재하며, 보다 바람직하게는 0.005 중량% 내지 6 중량% 이다. 산화 베이스(들)은 바람직하게는 염료 조성물 총 중량의 약 0.001 중량% 내지 10 중량%로 존재하며, 보다 바람직하게는 0.005 중량% 내지 6 중량% 이다.

일반적으로, 본 발명의 염료 조성물의 의미 내에서 산화 베이스 및 커플러로 사용가능한 산 부가염은, 염산, 히드로브로마이드, 술페이트, 시트레이트, 숙시네이트, 타르트레이트, 락테이트, 토실레이트, 벤젠술포네이트, 포스페이트 및 아세테이트로부터 특히 선택된다.

염료 지지물로 또한 언급되는 화장용으로 허용되는 매질은, 일반적으로 물 또는 물과 하나 이상의 유기 염의 혼합물로 구성됨으로써 수용성이 충분치 않은 화합물을 용해시키도록 한다. 유기 용매로서는, 예로서 에탄올 및 이소프로판올과 같은 C₁-C₄저급 알카놀; 2-부톡시에탄올, 프로필렌 글리콜, 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르, 디에틸렌 글리콜 모노에틸 에테르 및 모노메틸 에테르와 같은 폴리올 및 폴리올 에테르, 그리고 벤질알콜 또는 페녹시에탄올과 같은 방향족 알콜, 및 이들의 혼합물을 언급할 수 있다.

용매는, 염료 조성물의 총 중량에 대하여 약 1 중량% 내지 40 중량%의 비율로 바람직하게 존재하며, 더욱 바람직하게는 약 5 중량% 내지 30 중량% 이다.

본 발명에 따른 염료 조성물은 또한 모발 염색을 위한 조성물에서 통상 사용되는 각종 보조제를 포함할 수 있는데, 이는 음이온성, 양이온성, 비이온성, 양쪽성 또는 쯔비터이온성 계면활성제, 또는 이들의 혼합물, 음이온성, 양이온성, 비이온성, 양쪽성 또는 쯔비터이온성 폴리머, 또는 이들의 혼합물, 무기 또는 유기 증점제, 및 특히 음이온성, 양이온성, 비이온성, 양쪽성 폴리머를 조합한 증점제, 항산화제, 침투제, 봉쇄제, 향료, 완충제, 분산제, 예로서 휘발성 또는 비휘발성이며 개질 또는 비개질된 실리콘과 같은 컨디셔너제, 필름 형성제, 세라마이드, 방부제 및 불투명화제를 포함한다.

이들 첨가물은 또한 각각에 대해, 일반적으로 조성물의 총 중량에 대해 약 0.01 중량% 내지 20 중량%로 존재한다.

물론, 당업자는, 본 발명의 염료 조성물이 본질적으로 가지는 유리한 특성이 상기 첨가물(들)에 의해 실질적으로 악영향을 받지 않거나, 실질적으로 악영향을 받지 않도록 하는 적절한 임의의 첨가 화합물(들)을 선택할 수 있다.

본 발명의 염료 조성물의 pH는 일반적으로 약 3 내지 12 이며, 바람직하게는 약 5 내지 11이다. 이는, 케라틴 섬유 염색에 통상 사용되는 산성화제 또는 염기성화제 또는 통상의 완충 시스템을 사용하여 목적하는 값으로 조절할 수 있다.

산성화제 중에서는, 예로서, 염산, 오르쏘인산, 황산과, 아세트산, 타르타르산, 시트르산, 또는 락트산과 같은 카르복시산, 술폰산과 같은 무기 또는 유기산을 들 수 있다.

염기성화제 중에서는, 예로서, 수성 암모니아, 알칼리 카르보네이트, 모노-, 디- 및 트리에탄올아민과 같은 알카놀아민, 및 이들의 유도체, 수산화나트륨 또는 수산화칼륨 및 하기 화학식 5의 화합물을 들 수 있다:

(식 중, W는 히드록시기 또는 C₁-C₄알킬 라디칼로 임의 치환된 프로필렌기이며; 동일하거나 상이한 R₁₆, R_17,R₁₈및 R₁₉은 수소 원자, C₁-C₄알킬 라디칼 또는 C₁-C₄히드록시알킬 라디칼이다).

본 발명의 염료 조성물은, 액체, 크림 또는 젤의 형태, 또는, 인간 케라틴 섬유, 특히 모발의 염색에 적절한 기타 형태의 각종 형태일 수 있다.

본 발명의 주제는 또한, 상기에 정의한 화학식 1의 염료를 함유한 염료 조성물을 인간 케라틴 섬유에 적용하는 것을 포함하는 직접 염색 방법에 관한 것이다. 섬유에 배어들도록 방치하여 일정 시간 경과 후, 섬유를 헹구어내어 착색된 섬유를 발현시킨다.

화학식 1의 염료를 함유한 염료 조성물은, 섬유의 탈색을 일으키는 산화제의 존재 하에서 섬유에 적용 가능하다 (직접적인 라이트닝 염색). 이들 산화제는, 단일양이온성 모노아조 염료를 함유하는 조성물 내로 사용 시에 첨가하거나, 또는 섬유에 직접 가할 수 있다.

본 발명의 주제는 또한, 화학식 1의 염료, 하나 이상의 산화 베이스 및 임의로 하나 이상의 커플러를 함유한 염료 조성물을, 산화제 존재 하에서 인간 케라틴 섬유에 적용함을 포함하는 산화 염색 방법과 관련된다.

산화 베이스, 커플러 및 산화제는 상기에 정의한 바와 같다.

색은, 산성, 중성 또는 알칼리 pH 에서 발현되며, 산화제는, 사용 시에 조성물에 첨가할 수 있거나, 이를 함유하며, 염료 조성물과 동시에 또는 이에 이어서 섬유에 적용되는 산화 조성물에 기초하여 사용할 수 있다.

산화 염색 또는 직접 염색에 있어서, 염료 조성물을, 염색에 적절한 매질 내에서 착색 발현에 충분한 양으로 존재하는 하나 이상의 산화제를 함유하는 조성물과 사용 시에 함께 혼합한다. 이렇게 하여 수득한 혼합물을 섬유에 적용한다. 혼합물을 섬유에 적용한 후 약 3 내지 50 분 이후, 바람직하게는 약 5 내지 30 분 이후, 섬유를 헹구고 샴푸로 세정하고 재차 헹군 후 건조한다.

산화 조성물은, 모발 염색용 조성물에 통상 사용되는 각종 첨가제를 또한 함유할 수 있고, 상기에서 정의된 바와 같다.

산화제를 함유한 산화 조성물의 pH는, 염료 조성물과 혼합된 후 수득된 조성물이 케라틴 섬유에 적용될 때의 pH가 바람직하게는 약 3 내지 12, 더 바람직하게는 5 내지 11이 되도록 하는 것이다. 이는, 인간 케라틴 섬유 염색에 통상 사용되는 산성화제 또는 염기성화제를 사용하여 목적하는 값으로 조절할 수 있으며, 상기에서 정의된 바와 같다.

섬유에 적용되는 최종 조성물은, 액체, 크림 또는 젤의 형태, 또는, 인간 케라틴 섬유, 특히 모발의 염색에 적절한 기타 형태의 각종 형태일 수 있다.

본 발명의 또 다른 주제는, 본 발명의 염료 조성물을 함유하는 제 1 구획과, 산화 조성물을 포함하는 제 2 구획을 가지는 다중 구획 장치 또는 염색 "키트"이다. 이 장치에는, 본 출원인 명의의 FR-2 586 913 호 특허에 기재된 장치와 같은, 원하는 혼합물을 모발에 적용하는 수단이 장착될 수 있다.

마지막으로, 본 발명의 주제는 또한, 상기에서 정의한 화학식 1의 신규한 단일양이온성 모노아조 화합물과, n이 0, 2 또는 3 값을 나타내는 화학식 2의 화합물이다.

본 발명의 주제는 또한, 화학식 1의 단일양이온성 모노아조 염료를, 인간 케라틴 섬유, 특히 모발 염색용 조성물 내에서 직접 염료로서 사용하는 용도이다.

본 발명의 화합물은, 2-아미노벤즈이미다졸의 디아조늄 염으로부터 통상 수득 가능하다. 디아조늄 제조는 공지이며 문헌에 기재된 것으로, 희석된 염산 매질에서 실시한다.

디아조늄 염을, 이후, 유기 염기 존재 하에서 아닐린의 시클릭 N,N-디알킬 족 화합물과 축합시킨다.

축합 종결 시에, 반응 매질을 염기성 pH로 올려서 형성된 아조 화합물을 분리한다.

수득한 아조 화합물을, 알킬화제를 사용하여 40 ℃ 내지 140℃ 의 온도에서 용매 중에서 4차화시킨다.

따라서 예로서, 산성 매질 내에서 소듐 니트라이트와 2-아미노벤즈이미다졸 유도체를 반응시켜 디아조늄 반응성 중간체를 제조하고, 이를 시클릭 아닐린 유도체와 반응시킨다. 제조 방법은 공지이며 US 5 208 325 호 및 US 5 436 323 호에 완벽하게 기재된 바 있다. 제조 방법은 또한, 2-아미노벤족사졸 및 2-아미노벤조티아졸 유도체에도 적용된다.

해당 아조 화합물을, 이후, 하기 반응 도식에 따라 할라이드 R₁₃-X와 함께 4차화시킨다.

화학식 1의 해당 단일양이온성 모노아조 염료를, 5 내지 8개의 고리원소를 가지는 시클릭 아민으로 치환된 피리딘 유도체 및 피리다진 유도체에 동일한 방법을 적용함으로써 수득한다.

하기의 실시예는 본 발명의 예시를 위한 것으로, 이에 제한되는 것은 아니다.

합성의 실시예

하기 식을 가지는 본 발명의 화합물을 제조한다:

제 1 단계

하기 식의 (1H-벤조이미다졸-2-일)-(4-피롤리딘-1-일페닐)디아젠:

5.42 g의 2-아미노벤즈이미다졸 (0.04몰)을 완전 구비된 둥근 바닥 플라스크 내의 오르토인산 400 ㎖에 녹인다.

0℃로 냉각 후, 소듐 니트라이드 용액 (20 ㎖ 물 중의 3.92 g)을 30 분 간에 걸쳐 가하고, 혼합물을 15 분간 교반한다.

다음, 1.5 kg의 얼음을 교반하며 30분에 걸쳐 가한다.

1-페닐피롤리딘의 에탄올 용액 (20 ㎖ 에탄올 중의 5.4 g)을 이후 30 분간 적가한다.

0℃에서, 매질의 pH를, 수성 암모니아 용액을 사용하여 7로 올리고, 벽돌색의 형성물을 No.4 의 소결된 유리 깔때기를 통해 여과시킨 후, 100 ㎖의 물로 10회 세척한다. 건조하여, 2 g의 벽돌색 생성물을 회수한다.

제 2 단계

상기에서 수득한 (1H-벤조이미다졸-2-일)-(4-피롤리딘-1-일페닐)디아젠 1.51 g (0.0052 몰), 10 ㎖의 무수 디클로로에탄, 1.4 g (0.001몰)의 소듐 아세테이트, 및 1.08 ㎖의 디메틸술페이트를 완전 구비된 둥근 바닥 플라스크 내에 가한다.

혼합물을 50℃ 에서 1시간 30분간 교반한다. 고체를 여과하고, 디클로로에탄으로 세척하여 건조한다. 2.08 g의 어두운 보라색 분말을 수득하며, 이는 하기의 UV 흡수 특성을 가진다.

UV(에탄올) λ_max= 576nm

ε_max= 30000

¹H NMR: (400MHz-DMSO) ppm; 표준

적용의 예

상기 실시예에서 제조한 염료 1.25 g, 암모니아를 40 중량% 함유한 수성 암모니아액 13 g 및 100 g이 되도록하는 탈이온수 적정량을 함유한 염료 조성물을, 20 부피의 수성 과산화수소 조성물과 사용 시에 혼합하되, 염료 조성물 대 산화 조성물의 비율이 1: 1.5가 되게 한다. 수득한 혼합물을, 90%가 백발인 자연 또는퍼머넌트 웨이브한 머리에 적용한다 (혼합물 10 g 당 1 g의 모발).

조성물이 모발에 배어들도록, 35 분간 실온에서 방치한다.

모발을 물로 헹구고 샴푸하여 건조한다.

발광성의 깊은 보라색 내지, 빛에 매우 저항성인 깊은 보라색의 색조로 모발이 염색된다.

본 발명은 인간 케라틴 섬유를 산화 염료와 같이 강하게 염색시키는 것을 가능하게 하고, 산화 염료만큼 빛에 안정하며, 또한 좋지않은 기후, 세척 및 발한에도 견딜 수 있으며, 동시에 섬유의 라이트닝을 수득할 수 있도록 하는 유채색 직접 염료를 제공한다.

Claims

화장용으로 적합한 매질에 하기 화학식 1 의 단일양이온성 모노아조 염료를 하나 이상 함유하는, 모발과 같은 인간 케라틴 섬유 염색용 조성물:

[화학식 1]

W₁-W₂-N=N-W₃

[식 중, W₁은 하기 화학식 2 의 5-, 6-, 7- 또는 8- 원 헤테로사이클을 나타내고,

[화학식 2]

W₂는 하기 화학식 3의 2가, 방향족, 탄소 기재 피리딘 또는 피리다진기를 나타내고,

[화학식 3]

W₃은 하기 화학식 4 로 표시되는 양이온성 헤테로방향족 라디칼을 나타내며:

[화학식 4]

화학식 2, 화학식 3, 화학식 4 에서:

- n 은 0, 1, 2 또는 3 이며, n 이 2 이상이면, 라디칼 R₄는 동일하거나 상이할 수 있는 것으로 이해되고,

- X₁은 질소 원자 또는 라디칼 CR₇을 나타내고,

- X₂는 질소 원자 또는 라디칼 CR₈을 나타내고,

- Z₁은 라디칼 CHR₂, 산소 또는 황 원자 또는 라디칼 NR₁₄를 나타내고,

- Z₂는 산소 또는 황 원자, 또는 라디칼 NR₁₅를 나타내고,

- R₀, R₁, R₂, R₃, R₄, R₅, R₆, R₇, R₈, R₉, R₁₀, R₁₁및 R₁₂는 동일하거나 상이할 수 있으며, 수소 원자, 또는 선형 또는 분지된 C₁~C₁₀탄화수소 기재의 쇄, 가능하게는 3 내지 6 원을 함유하는 하나 이상의 탄소 기재 고리, 및 가능하게는 포화 또는 불포화를 나타내며, 여기에서 탄소 기재 쇄의 하나 이상의 탄소 원자들은 산소, 질소 또는 황 원자로 치환될 수 있거나, 또는 SO₂기로 치환될 수 있고, 여기에서 탄소 원자들은 서로 독립적으로, 하나 이상의 할로겐 원자로 치환될 수 있다; R₀, R₁, R₂, R₃, R₄, R₅, R₆, R₇, R₈, R₉, R₁₁및 R₁₂는 과산화물 결합이나 임의의 디아조 또는 니트로소 라디칼을 함유하지 않으며,

- R₁₄는 수소 원자, 선형 또는 분지된 C₁~C₁₀탄화수소 기재의 쇄, 가능하게는 3 내지 6 원을 함유하는 하나 이상의 탄소 기재 고리를 형성하고, 가능하게는 포화 또는 불포화되었으며, 여기에서 탄소 기재 쇄의 하나 이상의 탄소 원자들은 산소, 질소 또는 황 원자로 치환되거나 또는 SO₂기로 치환될 수 있으며, 여기에서 탄소 원자는 서로 독립적으로 하나 이상의 할로겐 원자로 치환될 수 있으며, R₁₄는 과산화물 결합이나 임의의 디아조 또는 니트로소 라디칼을 함유하지 않고; 상기 산소, 질소 또는 황 원자들은 라디칼 R₁₄를 지닌 질소 원자에 직접적으로 연결되지 않는 것으로 이해되며,

- R₅와 R₆은 페닐과 같은 탄소 기재 방향족 고리를 형성할 수 있고,

- R₁₃및 R₁₅는 동일하거나 상이할 수 있으며, 히드록실, C₁~C₂알콕시, C₂~C₄(폴리)히드록시알콕시 라디칼, 아미노, C₁~C₂(디)알킬아미노, 카르복실, 술폰산 또는 임의 치환된 페닐로 이루어지는 군으로부터 선택된 하나 이상의 라디칼로 임의 치환된 C₁~C₈알킬 라디칼을 나타내고;

- 화학식 4 의 양이온성 고리의 결합 a 는 화학식 1 의 아조기에 연결되며;

- X 는 유기 또는 무기 음이온이다].
제 1 항에 있어서, 화학식 1에서 R₁, R₂및 R₃이 동일하거나 상이할 수 있으며, 수소 원자; 알콕시, 히드록실, 아미노 또는 아세톡시 라디칼; 할로겐 원자, 히드록실 라디칼, C₁~C₂알콕시 라디칼, (폴리)히드록시알콕시 라디칼, 아미노 라디칼, C₁~C₂(디)알킬아미노 라디칼, 카르복실 라디칼 또는 술폰산 라디칼로부터 선택된 하나 이상의 라디칼로 치환된 선형 또는 분지된 C₁~C₄알킬 라디칼; -NR₁₆R₁₇, [R₁₆및 R₁₇은 동일하거나 상이할 수 있으며, 수소 원자, 메틸 술포닐 라디칼, 카르복실 라디칼, 카르복스아미도 라디칼, 또는 할로겐 원자, 히드록실 라디칼, C₁~C₂알콕시 라디칼, 아미노 라디칼, C₁~C₂(디)알킬아미노 라디칼 또는 카르복시라디칼로부터 선택된 하나 이상의 라디칼로 치환된 C₁~C₄알킬 라디칼을 나타낸다]을 나타내는 것을 특징으로 하는 조성물.
제 2 항에 있어서, R₁, R₂및 R₃이 동일하거나 상이할 수 있으며, 수소 원자; 임의로 단일 또는 2치환된 히드록실 라디칼 또는 아미노 라디칼; 또는 히드록실, C₁~C₂알콕시, 아미노, C₁~C₂(디)알킬아미노, 카르복실 또는 술폰산 라디칼로부터 선택된 하나 이상의 라디칼로 임의 치환된 선형 또는 분지된 C₁~C₃알킬 라디칼을 나타내는 조성물.
제 3 항에 있어서, R₁, R₂및 R₃이 동일하거나 상이할 수 있으며, 수소 원자; 메틸 라디칼; 히드록실 라디칼; 아미노 라디칼; (디)메틸아미노라디칼; 메틸술포닐아미노 라디칼; C₂~C₄(폴리)히드록시알킬아미노 라디칼; 히드록시메틸 라디칼을 나타내는 조성물.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 화학식 2 의 R₁이 수소 원자, 메틸 라디칼, 히드록실, 아미노, 메틸아미노, 디메틸아미노 및 2-히드록시에틸아미노로 이루어진 군으로부터 선택되는 조성물.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 화학식 2 의 R₀이 수소 원자, 및 히드록실, 메톡시, 아미노, (디)알킬아미노, 카르복실, 술포닐, 아미도 및 디메틸아미도 라디칼로부터 선택된 하나 이상의 라디칼로 치환된 선형 또는 분지된 C₁~C₄알킬 라디칼로 이루어진 군으로부터 선택되는 조성물.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 화학식 2 의 Z₁이 NR₁₄또는CHR₂를 나타내는 조성물.
제 7 항에 있어서, Z₁이 CH₂, CHOH, CHNH₂또는 CHN(CH₃)₂를 나타내는 조성물.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 화학식 2 의 n 이 0 또는 1 의 값을 나타내는 조성물.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, R₅, R₆, R₇, R₈, R₉, R₁₀, R₁₁및 R₁₂가 동일하거나 상이할 수 있으며, 수소 원자, 및 메틸, 에틸, 이소프로필, 메톡시메틸, 히드록시메틸, 1-카르복시메틸, 1-아미노메틸, 2-카르복시에틸, 2-히드록시에틸, 3-히드록시프로필, 1,2-디히드록시에틸, 1-히드록시-2-아미노에틸, 2-히드록시-1-아미노에틸, 메톡시, 에톡시, 2-히드록시에틸옥시, 3-아미노에틸옥시, 아미노, 메틸아미노, 디메틸아미노 또는 2-히드록시에틸 아미노 라디칼로 이루어지는 군으로부터 선택되는 조성물.
제 10 항에 있어서, R₅, R₆, R₇, R₈, R₉, R₁₀, R₁₁및 R₁₂는 동일하거나 상이할 수 있으며, 수소 원자, 및 메틸, 히드록시메틸, 2-히드록시에틸, 1,2-디히드록시에틸, 메톡시, 2-히드록시에틸옥시, 아미노 또는 2-히드록시에틸아미노 라디칼로 이루어지는 군으로부터 선택되는 조성물.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 화학식 3 의 X₁이 라디칼 CR₇[R₇은 제 10 항 또는 제 11 항에 정의된 것과 같음]을 나타내는 조성물.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 화학식 3 의 X₂가 라디칼 CR₈[R₈은 제 10 항 또는 제 11 항에 정의된 것과 같음]을 나타내는 조성물.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, R₁₃및 R₁₅가 동일하거나 상이할 수 있으며, 히드록실, C₁~C₂알콕시, 아미노, C₁~C₂(디)알킬아미노, 카르복실, 술폰산 및 페닐 라디칼로 이루어지는 군으로부터 선택된 하나 이상의 라디칼로 임의 치환된 C₁~C₄알킬 라디칼을 나타내는 조성물.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, R₁₃및 R₁₅가 동일하거나 상이할 수 있으며, 히드록실, 메톡시, 아미노, 디메틸아미노, 카르복실 또는 술폰산 라디칼로 임의 치환된 C₁~C₃알킬을 나타내는 조성물.
제 15 항에 있어서, R₁₃및 R₁₅가 동일하거나 상이할 수 있으며, 메틸, 에틸, 2-히드록시에틸 또는 카르복시메틸 라디칼을 나타내는 조성물.
제 7 항에 있어서, Z₁이 NR₁₄를 나타내고, 식에서 R₁₄가 수소 원자, 또는 히드록실, 메톡시, 아미노, 메틸아미노, 디메틸아미노, 카르복실 또는 술포닐 라디칼로부터 선택된 하나 이상의 라디칼로 치환된 선형 또는 분지된 C₁~C₃알킬 라디칼을 나타내는 조성물.
제 17 항에 있어서, R₁₄가 수소 원자, 메틸 라디칼 또는 2-히드록시에틸 라디칼을 나타내는 조성물.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 화학식 4 의 Z₂가 NR₁₅를 나타내는 조성물.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 화학식 1 의 단일양이온성 모노아조 염료가 하기로 이루어진 군으로부터 선택되는 조성물:

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제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 화학식 1 의 양이온성 모노아조 염료가 하기로 이루어진 군으로부터 선택되는 조성물:

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5-아미노-1,3-디메틸-2-[4-(3-히드록시메틸피페리딘-1-일)페닐아조]벤즈이미다졸-1-윰,

5-아미노-1,3-디메틸-2-[4-(3-카르복시피페리딘-1-일)페닐아조]벤즈이미다졸-1-윰,

5-아미노-1,3-디메틸-2-[4-(2-카르복시피페리딘-1-일)페닐아조]벤즈이미다졸-1-윰,

5-아미노-1,3-디메틸-2-[4-(피페라진-1-일)페닐아조]벤즈이미다졸-1-윰,

5-아미노-1,3-디메틸-2-[4-(호모피페라진-1-일)페닐-아조]벤즈이미다졸-1-윰.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 화학식 1 의 단일양이온성 모노아조 염료가 하기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 조성물:

5-디메틸아미노-1,3-디메틸-2-[4-(피롤리딘-1-일)페닐아조]벤즈이미다졸-1-윰,

5-디메틸아미노-1,3-디메틸-2-[4-(3-히드록시피롤리딘-1-일)페닐아조]벤즈이미다졸-1-윰,

5-디메틸아미노-1,3-디메틸-2-[4-(2-카르복시피롤리딘-1-일)페닐아조]벤즈이미다졸-1-윰,

5-디메틸아미노-1,3-디메틸-2-[4-(3-아미노피롤리딘-1-일)페닐아조]벤즈이미다졸-1-윰,

5-디메틸아미노-1,3-디메틸-2-[4-(2-카르복시-3-히드록시피롤리딘-1-일)페닐아조]벤즈이미다졸-1-윰,

5-디메틸아미노-1,3-디메틸-2-[4-(2-카르복스아미도피롤리딘-1-일)페닐아조]벤즈이미다졸-1-윰,

5-디메틸아미노-1,3-디메틸-2-[4-(2-히드록시메틸피롤리딘-1-일)페닐아조]벤즈이미다졸-1-윰,

5-디메틸아미노-1,3-디메틸-2-[4-(2-카르복시-4-히드록시피롤리딘-1-일)페닐아조]벤즈이미다졸-1-윰,

5-디메틸아미노-1,3-디메틸-2-[4-(피페리딘-1-일)페닐아조]벤즈이미다졸-1-윰,

5-디메틸아미노-1,3-디메틸-2-[4-(3-히드록시피페리딘-1-일)페닐아조]벤즈이미다졸-1-윰,

5-디메틸아미노-1,3-디메틸-2-[4-(3-히드록시메틸-피페리딘-1-일)페닐아조]벤즈이미다졸-1-윰,

5-디메틸아미노-1,3-디메틸-2-[4-(3-카르복시피페리딘-1-일)페닐아조]벤즈이미다졸-1-윰,

5-디메틸아미노-1,3-디메틸-2-[4-(2-카르복시피페리딘-1-일)페닐아조]벤즈이미다졸-1-윰,

5-디메틸아미노-1,3-디메틸-2-[4-(피페라진-1-일)페닐아조]벤즈이미다졸-1-윰,

5-디메틸아미노-1,3-디메틸-2-[4-(호모피페라진-1-일)페닐아조]벤즈이미다졸-1-윰.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, X 가 할라이드, 수산화물, 술페이트, 수소 술페이트, (C₁~C₆) 알킬 술페이트, 아세테이트, 타르트레이트, 옥살레이트, (C₁~C₆)알킬술포네이트 또는 C₁~C₄알킬 라디칼로 치환될 수 있거나 치환되지 않은 아릴술포네이트를 나타내는 조성물.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 화학식 1 의 단일양이온성 모노아조 염료가 염료 조성물 총 중량에 대하여 0.001 중량% 내지 5 중량% 범위의 농도로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 중성, 산성 또는 양이온성 니트로벤젠 직접 염료, 중성, 산성 또는 양이온성 아조 직접 염료, 안트라퀴논과 같은 중성, 산성 또는 양이온성 퀴논 직접 염료, 아진 직접 염료, 메틴 직접 염료, 트리아릴메탄 직접 염료, 인도아민 직접 염료 및 천연 직접 염료로부터 선택되는, 화학식 1 의 것들과 상이한 하나 이상의 직접 염료를 함유하는 조성물.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 산화제도 함유하는 조성물.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 산화 베이스도 함유하는 조성물.
제 27 항에 있어서, 산화 베이스가 파라-페닐렌디아민, 비스페닐알킬렌디아민, 파라-아미노페놀, 오르토-아미노페놀 및 헤테로시클릭 베이스, 및 이들의 산 부가염으로부터 선택되는 조성물.
제 26 항에 있어서, 하나 이상의 커플러도 함유하는 조성물.
제 29 항에 있어서, 커플러가 메타-페닐렌디아민, 메타-아미노페놀, 메타-디페놀, 나프탈렌 커플러 및 헤테로시클릭 커플러, 및 이들의 산 부가염으로부터 선택되는 조성물.
제 26 항에 있어서, 산화제가 염료 조성물과 사용시에 혼합되는 조성물.
제 26 항에 있어서, 산화제가 산화 조성물의 형태로, 염료 조성물과 동시에 또는 연속하여 섬유에 적용되는 조성물.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 하나 이상의 산화 베이스를함유하고, 하나 이상의 커플러를 함유할 수 있으며, 산화제 존재 하에서 섬유에 적용되는 것을 특징으로 하는 조성물.
제 33 항에 있어서, 산화제가 염료 조성물과 사용시에 혼합되는 조성물.
제 33 항에 있어서, 산화제가 산화 조성물의 형태로, 염료 조성물과 함께 또는 연속하여 섬유에 적용되는 조성물.
제 1 구획에 제 1 항 내지 제 4 항에 정의된 조성물을 함유하고, 제 2 구획에 산화 조성물을 함유하는, 인간 케라틴 섬유 염색용 다중구획 장치 또는 다중구획 염색 키트.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 정의된 화학식 1 의 단일양이온성 모노아조 화합물로, 화학식 2 의 n 이 0, 2 또는 3 의 값을 나타내는 화합물.
모발과 같은 인간 케라틴 섬유 염색용 조성물에, 또는 이의 제조에 직접염료로서 사용되는, 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 정의된 화학식 1 의 단일양이온성 모노아조 화합물.
제 5 항에 있어서, 화학식 2 의 R₁이 수소 원자, 히드록실, 아미노 및 디메틸아미노로 이루어진 군으로부터 선택되는 조성물.
제 6 항에 있어서, 화학식 2 의 R₀이 수소 원자, 및 카르복실 또는 아미도 또는 디메틸아미도 또는 히드록시메틸 라디칼로 이루어진 군으로부터 선택되는 조성물.
제 11 항에 있어서, R₅, R₆, R₇, R₈, R₉, R₁₀, R₁₁및 R₁₂가 동일하거나 상이할 수 있으며, 수소 원자, 또는 메틸, 메톡시 또는 아미노 라디칼로 이루어지는 군으로부터 선택되는 조성물.
제 14 항에 있어서, R₁₃및 R₁₅가 동일하거나 상이할 수 있으며, 메틸, 에틸, 2-히드록시에틸, 1-카르복시메틸, 2-카르복시에틸 또는 2-술포닐에틸 라디칼을 나타내는 조성물.
제 16 항에 있어서, R₁₃및 R₁₅가 동일하거나 상이할 수 있으며, 메틸 라디칼을 나타내는 조성물.
제 24 항에 있어서, 화학식 1 의 단일양이온성 모노아조 염료가 염료 조성물 총 중량에 대하여 0.05 중량% 내지 2 중량% 범위의 농도로 존재하는 것을 특징으로 하는 조성물.
제 26 항에 있어서, 산화제가 과산화수소인 조성물.