KR20070073937A - 케라틴 섬유의 염색을 위한, 대칭 양이온성 테트라아조화합물 - Google Patents

케라틴 섬유의 염색을 위한, 대칭 양이온성 테트라아조화합물 Download PDF

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Abstract

본 발명은 화학식 I의 대칭 테트라아조 양이온성 화합물에 관한 것이다:
염료1-L-염료1 [상기 식 중, 염료1 은 (II)를 나타내고; 여기서 동일한 것인 W1 은 (IIa, IIb, IIc)을 나타내고; 동일한 것인 W2 는 (III)을 나타내고; 동일한 것인 W3 은 (IV)를 나타내고, L 은 하나 이상의 양전하를 임의로 가지며, 하나 이상의 헤테로 원자 또는 하나 이상의 헤테로 원자를 포함하는 기로 임의 개재되고/되거나 한 쪽 말단 및 다른 쪽 말단이 이로 끝나는 임의 치환된 C1-C60 탄화수소계 사슬을 나타내고; 상기 화합물의 전기적 중성은 하나 이상의 화장적으로 허용가능한, 동일하거나 상이한 음이온 An에 의해 보장됨]. 본 발명의 주제는 유사하게 상기 염료를 직접 염료로서 포함하는 조성물, 및 또한 케라틴 섬유의 염색을 위한 상기 조성물의 사용 방법이다.
Figure 112007038472296-PCT00035
Figure 112007038472296-PCT00036

Description

케라틴 섬유의 염색을 위한, 대칭 양이온성 테트라아조 화합물{SYMMETRICAL CATIONIC TETRAAZO COMPOUNDS, FOR DYEING KERATIN FIBRES}
본 발명은 특정 대칭 양이온성 테트라아조 화합물, 케라틴 섬유의 염색에 적절한 매질 중 직접 염료로서 상기 화합물을 포함하는 염료 조성물, 및 또한 상기 조성물 및 복수 구획 장치를 이용하여 케라틴 섬유를 염색하는 방법에 관한 것이다.
직접 염료를 함유하는 염료 조성물로 케라틴 섬유, 특히 인간 케라틴 섬유, 예컨대 모발을 염색하는 것은 공지된 일이다. 이러한 화합물은 섬유에 대하여 친화성을 가지는, 착색된 분자 및 착색시키는 분자이다. 예를 들어, 니트로벤젠 유형의 직접 염료, 안트라퀴논 염료, 니트로피리딘 및 아조, 잔텐, 아크리딘, 아진 또는 트리아릴메탄 유형의 염료를 사용하는 것은 공지된 일이다.
상기 염료는 보통 동시적인 섬유 라이트닝 효과가 요망되는 경우 임의로 산화제의 존재 하에 섬유에 도포한다. 방치 시간 (leave-in time) 이 경과한 후, 섬유를 헹구고, 임의로는 세척하고, 건조시킨다.
직접 염료를 사용하여 생긴 착색은 일시적 또는 반-영구적 착색인데, 왜냐하면 직접 염료를 케라틴 섬유에 결합시키는 상호작용의 성질, 및 섬유의 표면 및/또 는 코어로부터의 이들의 분리는 이들의 불량한 착색력 및 비교적 불량한 세탁 저항성 또는 발한 저항성의 원인이 되기 때문이다.
더욱이 특정 직접 염료는 불충분한 광안정성을 가질 수 있다.
본 발명의 목적은 현존하는 직접 염료의 결점을 갖지 않는 직접 염료를 제공하는 것이다.
특히, 본 발명의 하나의 목적은 시간에 걸쳐 외부 공격 인자 (나쁜 기후 및 샴푸 세정)에 저항성인 강렬하고 다채로운 색조를 수득할 수 있게 하는 직접 염료를 제공하는 것이다.
상기 목적 등은 본 발명에 의해 달성되며, 따라서 본 발명의 하나의 목적은 하기 화학식 I의 대칭 양이온성 테트라아조 화합물이다:
염료1-L-염료1
[상기 식 중,
염료1 은
Figure 112007038472296-PCT00001
을 나타내고, 여기서
동일한 것인 W 1 은 하기 화학식 중에서 선택되는 헤테로방향족 라디칼을 나타내고:
Figure 112007038472296-PCT00002
,
동일한 것인 W 2 는 하기 화학식을 갖는 탄소계 방향족기를 나타내고:
Figure 112007038472296-PCT00003
,
동일한 것인 W 3 은 하기 화학식을 갖는 탄소계 방향족기를 나타내고:
Figure 112007038472296-PCT00004
,
L 은 하나 이상의 양전하를 임의로 가지고, 하나 이상의 헤테로 원자 또는 하나 이상의 헤테로 원자 (바람직하게는 산소, 질소 또는 황)를 포함하는 기로 임의 개재된 C1-C60, 바람직하게는 C2-C40 및 더욱 더 특히는 C2-C20의 포화 또는 불포화, 선형 또는 분지형, 환형 또는 비-환형, (헤테로)방향족 또는 비-(헤테로)방향족의 임의 치환된 탄화수소계 사슬을 나타내고, L 은 임의의 디아조, 니트로, 니트로소 또는 퍼옥시드기를 포함하지 않으며; L 은 이의 한 쪽 말단 및 다른 쪽 말단이 하나 이상의 헤테로 원자 또는 하나 이상의 헤테로 원자 (바람직하게는 산소, 질소 또는 황)를 포함하는 기로 끝날 수 있고;
R 1 은 서로 독립적으로 하기를 나타내고:
ㆍ산소, 질소 및 황 중에서 선택되는 하나 이상의 헤테로 원자로 임의 개재된, 하나 이상의 3 ∼ 7원 탄소계 고리를 형성할 수 있는 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화, 방향족 또는 비-방향족의 임의 치환된 C1-C16 탄화수소계 사슬; R1 은 임의의 니트로, 니트로소, 퍼옥시드 또는 디아조 결합을 포함하지 않음. R1 은 탄소 원자를 통해 헤테로방향족 고리의 질소 원자 (4차화되거나 4차화되지 않음)에 직접 결합되고;
R 2 , R 3 및 R 4 는 서로 독립적으로 하기를 나타내고:
ㆍ하나 이상의 헤테로 원자, 또는 바람직하게는 산소 및 질소 중에서 선택되는 하나 이상의 헤테로 원자를 갖는 하나 이상의 기로 임의 개재된, 하나 이상의 3 ∼ 6원 탄소계 고리를 형성할 수 있는 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화, 방향족 또는 비-방향족의 임의 치환된 C1-C16 탄화수소계 사슬;
ㆍ히드록실기,
ㆍC1-C4 알콕시기,
ㆍC2-C4 (폴리)히드록시알콕시기; 알콕시카르보닐기 (RO-CO-) (식 중, R 은 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄), 알킬카르보닐옥시 라디칼 (RCO-O-) (식 중, R 은 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄);
ㆍ아미노기, 하나 이상의 히드록실기를 임의로 갖는, 동일하거나 상이할 수 있는 하나 이상의 C1-C4 알킬 라디칼로 치환된 아미노기 (2개의 알킬 라디칼은 가능하게는 이들이 결합된 질소 원자와 함께, 질소와 동일하거나 상이한 또다른 헤테로 원자, 예를 들어 산소 또는 황을 임의로 갖는 5 또는 6원 헤테로사이클을 형성함); 알킬카르보닐아미노기 (RCO-NR-) (식 중, 라디칼 R 은 서로 독립적으로 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄); 카르바모일기 ((R)2N-CO) (식 중, 동일하거나 상이할 수 있는 라디칼 R 은 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄); 우레이도기 ((R)2N-CO-NR'-) (식 중, 라디칼 R 및 R' 는 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄); 설폰아미드기 ((R)2-N-SO2-) (식 중, 라디칼 R 은 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄); 알킬설포닐아미노기 (RSO2-NR'-) (식 중, 라디칼 R 및 R' 는 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄); 구아니디늄기 ((R')2N-C(＝NH2 +)-NR-) (식 중, 라디칼 R 및 R' 는 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄);
ㆍ니트로기; 시아노기; 할로겐 원자, 바람직하게는 염소 또는 불소;
ㆍ인접한 탄소 원자가 갖는 2개의 라디칼 R2 또는 2개의 라디칼 R3 또는 2개의 라디칼 R4 는 각각이 결합된 탄소 원자와 함께 융합 고리를 형성할 수 있음;
m 은 0 ∼ 4의 정수를 나타내고;
m' 는 0 ∼ 4의 정수를 나타내고;
m" 는 0 ∼ 4의 정수를 나타내고;
e 는 0 ∼ 2의 정수를 나타내고;
화학식 IIa, IIb, IIc, III 또는 IV 로부터 나오는 결합 a 는 W1, W2 및 W3 기를 아조기에 결합시키고; 화학식 IIa 및 IIc의 경우, 및 인접한 2개의 탄소 원자가 갖는 2개의 라디칼 R2 가 방향족 고리를 형성하는 경우, 결합 a 는 상기 방향족 고리를 통해 W1 기를 아조기에 결합시킬 수 있고;
화학식 IV로부터 나오는 결합 a' 는 W3 기를 연결기 L에 결합시키고;
상기 화합물의 전기적 중성은 하나 이상의 화장적으로(cosmetically) 허용가능한, 동일하거나 상이한 음이온 An에 의해 보장됨].
본 발명의 주제는 또한 케라틴 섬유를 염색시키기에 적합한 매질 중 직접 염료로서 상기 화합물을 포함하는 염료 조성물이다.
본 발명은 또한 소정의 효과를 얻기에 충분한 시간 동안 본 발명에 따른 조성물을 상기 습윤 또는 건조 섬유와 접촉시키는 것으로 이루어지는 케라틴 섬유의 염색 방법에 관한 것이다.
마지막으로, 본 발명은 제 1 구획에 본 발명에 따른 조성물을 포함하고, 제 2 구획에 산화 조성물을 포함하는 복수 구획 장치에 관한 것이다.
상기 정의된 바와 같은 화학식 I의 화합물은 외부 제제, 특히 샴푸에 대하여 양호한 저항성을 보여주는 것으로 관측되었다.
더욱이, 상기 화합물은 양호한 광안정성을 보여준다.
그러나, 본 발명의 기타 특징 및 이점이 제시될 상세한 설명 및 실시예를 읽음으로서 더 명백하게 나타날 것이다.
하기 문맥에서, 달리 명시하지 않는 한, 값의 범위를 한정하는 경계는 값의 범위에 포함된다.
더욱이, 본 발명에 따른 처리의 주제를 형성하는 케라틴 섬유는 바람직하게는 인간 케라틴 섬유, 특히 모발이다.
본 발명의 목적상 및 달리 명시하지 않는 한:
- 화학식 I의 화합물은 염료1 기들이 동일한 경우 대칭적인 것이라 한다. 즉, W1 기끼리, W2 기끼리 및 W3 기끼리 동일한 구조를 갖고, 동일한 치환기는 기들 간에 동일한 위치에 존재한다;
- 알킬 라디칼은 1가 또는 2가일 수 있고, 선형 또는 분지형이고,
- 알킬 라디칼 또는 라디칼의 알킬부는 이것이 하기 기 중에서 선택되는 하나 이상의 치환기를 포함하는 경우 치환되었다고 한다:
ㆍ히드록실,
ㆍC1-C4 알콕시, C2-C4 (폴리)히드록시알콕시,
ㆍ아미노, 하나 이상의 히드록시기를 임의로 갖는, 동일하거나 상이할 수 있는 하나 이상의 C1-C4 알킬기로 치환된 아미노 (상기 알킬 라디칼은 가능하게는 이들이 결합된 질소와 함께, 하나 이상의 다른 질소 또는 비-질소 헤테로 원자를 임의로 포함하는 5 또는 6원 헤테로사이클을 형성함),
- 아릴 또는 헤테로아릴 라디칼 또는 라디칼의 아릴 또는 헤테로아릴부는 이것이 하기 중에서 선택되는, 탄소 원자가 갖는 하나 이상의 치환기를 포함하는 경우 치환되었다고 한다:
ㆍ 히드록실, C1-C2 알콕시, C2-C4 (폴리)히드록시알콕시, 아실아미노, 하나 이상의 히드록시기를 임의로 갖는, 2개의 동일하거나 상이한 C1-C4 알킬 라디칼로 치환된 아미노 (또는 2개의 라디칼은 가능하게는 이들이 결합된 질소와 함께, 하나 이상의 또다른 질소 또는 비-질소 헤테로 원자를 임의로 포함하는 5 ∼ 7원 및 바람직하게는 5 또는 6원 헤테로사이클을 형성함) 중에서 선택되는 하나 이상의 라디칼로 임의 치환된 C1-C16 및 바람직하게는 C1-C8 알킬 라디칼;
ㆍ염소, 불소 또는 브롬과 같은 할로겐 원자;
ㆍ히드록실기;
ㆍC1-C2 알콕시 라디칼; C2-C4 (폴리)히드록시-알콕시 라디칼;
ㆍ아미노 라디칼; 하나 이상의 히드록실기를 임의로 갖는 1 또는 2개의 동일하거나 상이한 C1-C4 알킬 라디칼로 치환된 아미노 라디칼, 또는 2개의 임의 치환된 C1-C2 알킬 라디칼을 갖는 아미노;
ㆍ아실아미노 라디칼 (-NR-COR') (식 중, 라디칼 R 은 수소 원자, 하나 이상의 히드록실기를 임의로 갖는 C1-C4 알킬 라디칼이고, 라디칼 R' 는 C1-C2 알킬 라디칼임); 카르바모일 라디칼 ((R)2N-CO-) (식 중, 동일하거나 상이할 수 있는 라디칼 R 은 수소 원자 또는 하나 이상의 히드록실기를 임의로 갖는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄); 알킬설포닐아미노 라디칼 (R'SO2-NR-) (식 중, 라디칼 R 은 수소 원자 또는 하나 이상의 히드록실기를 임의로 갖는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타내고, 라디칼 R' 는 C1-C4 알킬 라디칼 또는 페닐 라디칼을 나타냄); 아미노설포닐 라디칼 ((R)2N-SO2-) (식 중, 동일하거나 상이할 수 있는 라디칼 R 은 수소 원자 또는 하나 이상의 히드록실기를 임의로 갖는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄),
- 비-방향족 라디칼의 환형 또는 복소환부는 하기 기 중에서 선택되는, 탄소 원자가 갖는 하나 이상의 치환기를 포함하는 경우 치환되었다고 한다:
ㆍ히드록실,
ㆍC1-C4 알콕시, C2-C4 (폴리)히드록시알콕시,
ㆍ알킬카르보닐아미노 (RCO-NR'-) (식 중, 라디칼 R' 은 수소 원자 또는 하나 이상의 히드록실기를 임의로 갖는 C1-C4 알킬 라디칼이고, 라디칼 R 은 C1-C2 알킬 라디칼임), 하나 이상의 히드록실기를 임의로 갖는 2개의 동일하거나 상이한 C1-C4 알킬기로 치환된 아미노 라디칼 (상기 알킬 라디칼은 가능하게는 이들이 결합된 질소와 함께, 하나 이상의 다른 질소 또는 비-질소 헤테로 원자를 임의로 포함하는 5 또는 6원 헤테로사이클을 형성함);
- 고리가 최대 개수의 치환기를 갖지 않는 경우, 비치환된 위치(들)는 수소 원자를 가진다.
앞서 기재한 바와 같이, 본 발명의 첫번째 주제는 상기 화학식 I에 해당하는 화합물로 이루어진다.
라디칼 R1 에 있어서, 이들은 서로 독립적으로 C1-C15 알킬 라디칼; C2-C6 모노히드록시알킬 라디칼; C2-C6 폴리히드록시알킬 라디칼; (C1-C6)알콕시(C2-C6)알킬 라디칼; 페닐과 같은 임의 치환된 아릴 라디칼; 벤질과 같은 임의 치환된 아릴알킬 라디칼; C2-C6 아미도알킬 라디칼; C2-C6 아미노알킬 라디칼 (여기서, 아민은 동일하거나 상이할 수 있는 2개의 임의 치환된 C1-C4 알킬 라디칼로 치환됨)을 나타낸다. 또한, 라디칼 R1 에서 질소 원자에 직접 결합된 원자는 탄소 원자가 된다.
바람직하게는, R1 은 C1-C6 알킬 라디칼, C2-C6 모노히드록시알킬 라디칼; C2-C6 폴리히드록시알킬 라디칼; (C1-C6)알콕시(C2-C6)알킬 라디칼; 하나 이상의 염소 원자, 히드록실기, RCO-NH- 기 (식 중, R 은 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄), 동일하거나 상이할 수 있는 2개의 C1-C4 알킬 라디칼로 치환된 아미노 라디칼로 임의 치환된 페닐 라디칼; 벤질 라디칼; C1-C6 아미노알킬 라디칼; C1-C6 아미노알킬 라디칼 (여기서, 아민은 동일하거나 상이할 수 있는 2개의 C1-C4 알킬 라디칼로 치환됨)을 나타낸다.
라디칼 R2, R3 및 R4 는 서로 독립적으로 더욱 특히는 하기를 나타낸다:
- 수소 원자;
- 임의 치환된 C1-C16 및 바람직하게는 C1-C8 알킬 라디칼;
- 염소, 불소 또는 브롬과 같은 할로겐 원자;
- 히드록실기;
- C1-C2 알콕시 라디칼; C2-C4 (폴리)히드록시알콕시 라디칼;
- 아미노 라디칼, 하나 이상의 히드록실 또는 C1-C4 디알킬아미노기를 임의로 갖는, 동일하거나 상이할 수 있는 1 또는 2개의 C1-C4 알킬 라디칼로 치환된 아미노 라디칼 (2개의 알킬 라디칼은 가능하게는 이들이 결합된 질소 원자와 함께, 질소와 동일하거나 상이한 또다른 헤테로 원자를 임의로 갖는, 포화 또는 불포화의 임의 치환된 5 또는 6원 헤테로사이클을 형성함);
- 알킬카르보닐아미노 라디칼 (RCO-NR'-) (식 중, 라디칼 R 은 C1-C4 알킬 라디칼을 나타내고, 라디칼 R' 는 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄); 카르바모일 라디칼 ((R)2N-CO-) (식 중, 동일하거나 상이할 수 있는 라디칼 R 은 수소 원자 또는 하나 이상의 히드록실기를 임의로 갖는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄); 알킬설포닐아미노 라디칼 (R'SO2-NR-) (식 중, 라디칼 R 은 수소 원자 또는 하나 이상의 히드록실기를 임의로 갖는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타내고, 라디칼 R' 는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄); 아미노설포닐 라디칼 ((R)2N-SO2-) (식 중, 동일하거나 상이할 수 있는 라디칼 R 은 수소 원자 또는 하나 이상의 히드록실기를 임의로 갖는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄); 우레이도 라디칼 (N(R)2-CO-NR'-) (식 중, 동일하거나 상이할 수 있는 라디칼 R 및 R' 는 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄).
더 바람직하게는, 라디칼 R2, R3 및 R4 는 서로 독립적으로 하기를 나타낸다:
- 수소 원자;
- 히드록실, 아실아미노 및 아미노 라디칼 (하나 이상의 히드록실기를 임의로 갖는 2개의 동일하거나 상이한 C1-C2 알킬 라디칼, 또는 C1-C2 알콕시 라디칼로 치환됨) 중에서 선택되는 하나 이상의 라디칼로 임의 치환된 C1-C4 알킬 라디칼;
- 아미노 라디칼; 하나 이상의 히드록실기를 임의로 갖는, 동일하거나 상이할 수 있는 1 또는 2개의 C1-C3 알킬 라디칼로 치환된 아미노 라디칼 (2개의 알킬 라디칼은 가능하게는 이들이 결합된 질소 원자와 함께, 질소와 동일하거나 상이한 또다른 헤테로 원자를 임의로 갖는, 포화 또는 불포화의 임의 치환된 5 또는 6원 헤테로사이클을 형성함); 아실아미노 라디칼; 카르바모일 라디칼; 설포닐아미노 라디칼;
- 히드록실 라디칼; C1-C2 알콕시 라디칼;
- 염소 원자.
본 발명의 하나의 바람직한 별형에 따르면, 라디칼 R2, R3 및 R4 는 서로 독립적으로 하기를 나타낸다:
- 수소 원자;
- 메틸, 에틸, 프로필, 2-히드록시에틸, 메톡시, 에톡시, 2-히드록시에틸옥시, 3-히드록시프로필옥시 또는 2-메톡시에틸 라디칼;
- 설포닐아미노 라디칼; 아미노, 메틸아미노, 디메틸아미노, 2-히드록시에틸아미노 또는 3-히드록시프로필아미노 라디칼 또는 아실아미노 라디칼; 히드록실 라디칼; 피롤리딘, 피페라진, 피페리딘 또는 호모피페라진 라디칼;
- 염소 원자.
본 발명의 두번째 바람직한 별형에 따르면, 인접한 탄소 원자가 갖는 2 개의 라디칼 R2 는 각각이 결합된 탄소 원자와 함께, 바람직하게는 수소; 메틸 라디칼; 히드록실 라디칼; 메톡시 라디칼; 아미노 라디칼; 메틸아미노 라디칼; 디메틸아미노 라디칼; 피롤리딘 라디칼; 설포닐아미노 라디칼로 임의 치환된 융합 고리를 형성할 수 있다.
본 발명의 세번째 바람직한 별형에 따르면, 인접한 탄소 원자가 갖는 2 개의 라디칼 R3 은 각각이 결합된 탄소 원자와 함께, 바람직하게는 수소; 메틸 라디칼; 히드록실 라디칼; 메톡시 라디칼; 아미노 라디칼; 메틸아미노 라디칼; 디메틸아미노 라디칼; 피롤리딘 라디칼; 설포닐아미노 라디칼로 임의 치환된 융합 고리를 형성할 수 있다.
본 발명의 하나의 특별한 문헌에 따르면, 연결기 L 은 염색단 각각의 전자 비편재화를 중지시키기 위해 염색단의 각각을 분리시키는 사슬이다.
본 발명의 첫번째 별형에 따르면, 화학식 I에서, L 은 하기 화학식 V로 나타낼 수 있다:
Figure 112007038472296-PCT00005
[상기 식 중:
ㆍ동일한 것인 D 및 D' 는 하나 이상의 헤테로 원자, 또는 바람직하게는 산소 및 질소 중에서 선택되는 하나 이상의 헤테로 원자를 갖는 하나 이상의 기로 임의 개재된, 하나 이상의 5 ∼ 8원 탄소계 고리를 형성할 수 있고, 포화 또는 불포화일 수 있는, 선형 또는 분지형의 C1-C4 탄화수소계 결합을 나타내고; D 및/또는 D' 는 탄소 원자를 통해 암모늄 원자에 결합되고;
ㆍ결합 a' 는 바람직하게는 산소 원자 또는 질소 원자를 통해 암 (arm) D 및 D' 를 W3 기에 결합시키고;
ㆍy 는 1 이상이고, 바람직하게는 1 또는 2 이고;
ㆍR" 기는 하기를 나타내고
Figure 112007038472296-PCT00006
ㆍR5, R6, R'5 및 R'6 은 서로 독립적으로 C1-C15 알킬 라디칼; C1-C6 모노히드록시알킬 라디칼; C2-C6 폴리히드록시알킬 라디칼; (C1-C6)알콕시(C1-C6)알킬 라디칼; 페닐과 같은 아릴 라디칼; 벤질과 같은 아릴알킬 라디칼; C1-C6 아미도알킬 라디칼; C1-C6 아미노알킬 라디칼; C1-C6 아미노알킬 라디칼 (여기서, 아민은 하나 이상의 동일하거나 상이한 C1-C4 알킬, (C1-C6)알킬카르보닐, 아실아미노 또는 (C1-C6)알킬설포닐 라디칼로 치환됨) 을 나타내고;
ㆍR5 및 R6 은 이들이 결합된 질소 원자와 함께, 하나 이상의 헤테로 원자를 함유할 수 있는 5, 6 또는 7원 포화 양이온성 고리를 형성할 수 있고, 상기 양이온성 고리는 가능하게는 할로겐 원자, 히드록실 라디칼, C1-C6 알킬 라디칼, C1-C6 모노히드록시알킬 라디칼, C2-C6 폴리히드록시알킬 라디칼, C1-C6 알콕시 라디칼, 아미도 라디칼, (C1-C6)알킬카르보닐 라디칼, 티오 라디칼, C1-C6 티오알킬 라디칼, (C1-C6)알킬티오 라디칼, 아미노 라디칼, 또는 동일하거나 상이한 C1-C6 알킬, (C1-C6)알킬카르보닐, 아실아미노 또는 (C1-C6)알킬설포닐 라디칼로 치환된 아미노 라디칼로 치환되며; 바람직하게는 비치환되고;
ㆍR5 또는 R6 은 D 또는 D' 와 함께, 하나 이상의 헤테로 원자를 함유할 수 있는 5, 6 또는 7원 포화 양이온성 고리를 형성할 수 있고, 상기 양이온성 고리는 가능하게는 할로겐 원자, 히드록실 라디칼, C1-C6 알킬 라디칼, C1-C6 모노히드록시알킬 라디칼, C2-C6 폴리히드록시알킬 라디칼, C1-C6 알콕시 라디칼, 아미도 라디칼, (C1-C6)알킬카르보닐 라디칼, 티오 라디칼, C1-C6 티오알킬 라디칼, (C1-C6)알킬티오 라디칼, 아미노 라디칼 또는 하나 이상의 동일하거나 상이한 C1-C6 알킬, (C1-C6)알킬카르보닐, 아실아미노 또는 (C1-C6)알킬설포닐 라디칼로 치환된 아미노 라디칼로 치환되며; 바람직하게는 비치환되고;
ㆍ동일하거나 상이할 수 있는 고리 원 E, G, J 및 M 은 피라졸륨, 이미다졸륨, 트리아졸륨, 옥사졸륨, 이속사졸륨, 티아졸륨 또는 이소티아졸륨 고리를 형성하는 탄소, 산소, 황 또는 질소 원자를 나타내고;
ㆍR7 은 C1-C6 알킬 라디칼; C1-C6 모노히드록시알킬 라디칼, C2-C6 폴리히드록시알킬 라디칼, (C1-C6)알콕시(C1-C6)알킬 라디칼, C2-C6 카르바밀알킬 라디칼, (C1-C6)알킬카르복시(C1-C6)알킬 라디칼 또는 벤질 라디칼을 나타내고; 라디칼 R7 은 질소 원자가 갖는 것으로 이해되고;
ㆍ동일하거나 상이할 수 있는 R8 은 수소 또는 할로겐 원자, C1-C6 알킬 라디칼, C1-C6 모노히드록시알킬 라디칼, C2-C6 폴리히드록시알킬 라디칼, 히드록실 라디칼, C1-C6 알콕시 라디칼, 아미도 라디칼, 카르복실 라디칼, C1-C6 알킬카르보닐 라디칼, C1-C6 티오알킬 라디칼, (C1-C6)알킬티오 라디칼, 아미노 라디칼 ((C1-C6)알킬, (C1-C6)알킬카르보닐 또는 (C1-C6)알킬설포닐 라디칼로 비치환됨), 벤질 라디칼, 페닐 라디칼 (메틸, 히드록실, 아미노 및 메톡시 라디칼 중에서 선택되는 하나 이상의 라디칼로 임의 치환됨) 을 나타내고, 라디칼 R8 은 탄소 원자가 갖는 것으로 이해되고;
ㆍA 는 하나 이상의 유기 또는 무기 음이온을 나타내고;
ㆍz 은 1 ∼ 3 의 정수이고;
ㆍt 는 0 또는 1 이고; t = 0 일 때, D' 는 탄소 원자를 통해 질소 원자에 결합되고,
ㆍv 는 1 또는 2 의 정수이고,
ㆍy 는 0 또는 1 임].
바람직하게는, 화학식 V로 표시되는 연결기는 질소 또는 산소 원자를 통해 염색단에 결합된다.
화학식 VIa의 하나의 특별한 구현예에 따라, R5 및 R6 은 서로 독립적으로, 바람직하게는 C1-C6 알킬 라디칼, C1-C4 모노히드록시알킬 라디칼, C2-C4 폴리히드록시알킬 라디칼, (C1-C6)알콕시(C2-C4)알킬 라디칼, C2-C6 아미도알킬 라디칼 또는 C2-C6 디메틸아미노알킬 라디칼 중에서 선택된다.
더욱 더 바람직하게는, R5 및 R6 은 서로 독립적으로 메틸, 에틸 또는 2-히드록시에틸 라디칼을 나타낸다.
상기 별형에 따라, D 및 D' 는 별개로, 치환될 수 있고, 바람직하게는 비치환된, 바람직하게는 C1-C6 알킬 사슬이다.
화학식 VIb의 하나의 특별한 구현예에 따르면, 고리 원 E, G, J 및 M 은 이미다졸륨, 피라졸륨, 옥사졸륨 또는 티아졸륨 고리를 형성한다. 본 발명의 하나의 더욱 더 바람직한 구현예에 따르면, 화학식 VIb는 이미다졸륨 고리를 나타낸다.
상기 특별한 구현예에 따르면, y 및 t 는 0 이다.
상기 구현예에 따르면, D 및 D' 는 치환될 수 있고, 바람직하게는 비치환된, 선형 또는 분지형, 바람직하게는 선형의 C1-C6 알킬 사슬을 나타낸다.
화학식 VIc의 하나의 바람직한 구현예에 따르면, R'5 및 R'6 은 독립적으로 상기 2 개의 라디칼의 R5 및 R6 과 동일한 의미를 갖는다.
상기 별형에 따르면, D 및 D' 는 별개로, 치환될 수 있고, 바람직하게는 비치환된, 바람직하게는 C1-C6 알킬 사슬이다.
바람직하게는, 계수 v 는 1 이다.
본 발명의 두번째 별형에 따르면, 화학식 I에서, L 은 하나 이상의 임의 치환된, 임의로 방향족인 3 ∼ 7원 탄소계 고리를 형성하는, C1-C60, 바람직하게는 C2-C40 및 바람직하게는 C2-C2O의 선형 또는 분지형의 2 가 탄화수소계 사슬을 나타내고, 상기 사슬은 임의 치환되고, 하나 이상의 헤테로 원자 또는 바람직하게는 산소, 질소 및 황 중에서 선택되는 하나 이상의 헤테로 원자를 갖는 하나 이상의 기로 임의 개재되고; L 은 임의의 퍼옥시드, 니트로, 디아조 또는 니트로소기를 포함하지 않는다. 마지막으로, L 은 양이온성 전하를 갖지 않는다.
하나의 더욱 특별한 구현예에 따르면, L 은 전자의 비편재화를 중지시키기 위해 화학식 I의 2 개의 원 각각을 분리시키는 탄화수소계 사슬이다.
언급될 수 있는 연결기 L 의 예에는, 임의 치환되고/되거나 산소, 질소 및 황 중에서 선택되는 하나 이상의 헤테로 원자, 및/또는 SO2 또는 CO 기로 임의 개재된, 탄소수 1 ∼ 60, 바람직하게는 탄소수 2 ∼ 40 및 더욱 바람직하게는 탄소수 2 ∼ 20의 알킬렌 라디칼 (CnH2n) 이 포함된다. 상기 알킬렌 라디칼은 예를 들어, 프로필렌, 부틸렌, 펜틸렌, 헥실렌 등이다.
더욱 더 바람직하게는, L 은 임의 치환되고/되거나 산소, 질소 및 황 중에서 선택되는 하나 이상의 헤테로 원자로 임의 개재된, 선형 또는 분지형의 C2-C4O 및 바람직하게는 C2-C20의 탄화수소계 사슬이다.
또한 언급될 수 있는 연결기 L 의 예에는, 2 가 (헤테로)아릴 라디칼로 개재된, 상기 정의된 알킬렌 라디칼이 포함된다.
상기 별형에 따르면, L 은
C1-C2O 알킬-(헤테로)아릴-C1-C2O 알킬
및 더욱 유리하게는
C1-C1O 알킬-(헤테로)아릴-C1-C1O 알킬
로 나타내어질 수 있다.
(헤테로)아릴렌 라디칼은 예를 들어, 페닐렌 또는 나프틸렌, 페난트릴렌, 트리아지닐, 피리미디닐, 피리딜, 피리다지닐 또는 퀴녹살리닐이다.
L 은 유리하게는 임의 치환되고/되거나 산소 및 질소 중에서 선택되는 하나 이상의 헤테로 원자, 및/또는 하나 이상의 SO2 또는 CO 기로 임의 개재된, (헤테로)아릴렌기로 개재된 알킬렌 라디칼을 나타낸다는 점에 주목해야 한다.
(헤테로)아릴렌기로 개재된 알킬렌 라디칼의 예로는 하기 라디칼을 언급할 수 있다:
Figure 112007038472296-PCT00007
[상기 식 중:
- R10 은 R4 와 동일한 정의를 가지고,
- R11 및 R12 는 서로 독립적으로, 수소 원자, 또는 하나 이상의 히드록실, C1-C2 알콕시, C2-C4 (폴리)히드록시알콕시, 아미노, C1-C2 (디)알킬아미노 또는 임의 치환된 아릴 라디칼로 임의 치환된, 선형 또는 분지형의 C1-C8 알킬 라디칼을 나타내고,
- 동일한 것인 R13 은 서로 독립적으로 수소 원자, 또는 임의 치환된 C1-C4 알킬 라디칼을 나타내고,
- m 은 1 ∼ 6 의 정수를 나타내고,
- n" 는 0 ∼ 4 의 정수를 나타내고,
- n"' 는 0 ∼ 3 의 정수를 나타냄].
바람직하게는, 상기 별형의 내용에서, L 은
Figure 112007038472296-PCT00008
을 나타내고, R10, R13, m 및 n" 는 상기 정의된 바와 같다.
또한 언급될 수 있는 연결기 L 에는 WO 03/029359 에 기술된 트리아진, US 5 708 151 에 언급된 알킬렌 및 US 5 708 151 에 언급된 알킬-아릴-알킬이 포함된다.
바람직하게는, L 은 산소, 질소 및 황 중에서 선택되는 하나 이상의 헤테로 원자로 임의 개재되고, 히드록실, C1-C2 알콕시, C1-C2 디알킬아미노, 알킬카르보닐 (R-CO-) (식 중, 라디칼 R 은 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄), 카르바모일기 ((R)2N-CO-) (식 중, 라디칼 R 은 서로 독립적으로, 수소 원자를 나타냄) 또는 알킬설포닐 라디칼 (R-SO2-) (식 중, 라디칼 R 은 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄) 중에서 선택되는 하나 이상의 라디칼로 임의 치환된, 선형 또는 분지형의 C1-C10 알킬렌 라디칼을 나타낸다.
더욱 바람직하게는, 연결기 L 은 산소, 질소 및 황 중에서 선택되는 하나 이상의 헤테로 원자로 임의 개재되고, 히드록실 및 C1-C2 알콕시 라디칼, 및 알킬설포닐 라디칼 (R-SO2-) (식 중, 라디칼 R 은 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄) 중에서 선택되는 하나 이상의 라디칼로 임의 치환된, 바람직하게는 선형의, C1-C10 알킬렌 라디칼을 나타낸다.
화학식 I에서, An 은 클로라이드, 브로마이드, 플루오라이드 및 요오다이드와 같은 할라이드; 히드록사이드; 설페이트; 히드로겐 설페이트; (C1-C6)알킬 설페이트, 예를 들어 메틸 설페이트 또는 에틸 설페이트; 포스페이트; 카르보네이트; 히드로겐 카르보네이트; 퍼클로레이트; 아세테이트; 타르트레이트; 시트레이트; 옥살레이트; 메틸설포네이트와 같은 (C1-C6)알킬설포네이트; 비치환 또는 C1-C4 알킬 라디칼로 치환된 아릴설포네이트, 예를 들어 4-톨릴설포네이트 중에서 선택되는 유기 또는 무기 음이온 또는 음이온의 혼합물이다.
본 발명의 하나의 바람직한 구현예에 따르면, 화합물은 더욱 특히는 하기 화학식에 해당한다:
Figure 112007038472296-PCT00009
Figure 112007038472296-PCT00010
[상기 식 중:
- R1, R2, R3, R4, L, m, m' 및 m" 는 상기 정의되었고;
- 분자의 전기적 중성은 상기 정의된 하나 이상의 화장적으로 허용가능한 음이온 An 의 존재에 의해 지켜짐].
상기 화합물은 특히 예를 들어, 문서 BE 662 856, GB 932 022, US 3 173 907 및 US 5 708 151 에 기술된 유사한 제조 방법으로부터 수득될 수 있다.
첫번째 구현예에 따르면, 본 발명에 사용되는 화합물의 합성 방법은 하기 단계를 수행하는 것으로 이루어질 수 있다:
Figure 112007038472296-PCT00011
상기 방법에 따라, 5 또는 6원 양이온성 헤테로방향족 아민의 디아조화의 제1 단계는 당업자에게 공지된 방법으로 수행한다.
따라서, 상기 아민은 아질산나트륨 또는 니트로실황산과 접촉시킨다. 상기 반응은 보통 -15 ∼ 30℃ 및 바람직하게는 -10 ∼ 20℃의 온도 및 0 ∼ 12의 pH에서 일어난다.
반응은 통상적으로 적절한 용매의 존재 하에 일어나며, 상기 용매로서 물, 알콜 및 특히 탄소수 4 이하의 지방족 알콜, 유기산, 예를 들어 탄소수 10 이하의 카르복실산 또는 설폰산, 및/또는 무기산, 예컨대 염산 또는 황산을 들 수 있다.
일단 반응이 수행되면, 수득된 생성물은 W3-L-W3 형의 화합물과 커플링되며, 상기 W3 은 유리하게는 임의 치환된 방향족 핵을 나타낸다. 상기 화합물의 합성 방법은 당업자에게 공지되어 있다 (예를 들어, [Org. Lett. 2002, 4(4), 581-584; Org. Lett. 2003, 5(6), 793-796] 참고).
상기 반응은 보통 선행 단계로부터의 용매일 수 있는 용매의 존재 하에 수행한다.
온도는 바람직하게는 0 ∼ 8의 pH에서 통상적으로 -15 ∼ 30℃ 이고, 바람직하게는 -10 ∼ 20℃이다.
생성물은 당업자에게 공지된 기술 (침전, 증발 등)을 통해 단리할 수 있다.
두번째 구현예에 따르면, 본 발명에 사용되는 화합물의 합성 방법은 하기 단계를 수행하는 것으로 이루어질 수 있다:
Figure 112007038472296-PCT00012
상기 방법에 따라, 양이온성 헤테로방향족 아민의 디아조화의 제 1 단계는 당업자에게 공지된 방식으로 수행된다. 상기 단계의 수행 조건은 앞서 요약하였다.
일단 반응이 수행되면, 수득된 생성물은 W3-L-W3 형의 화합물과 커플링되며, 상기 W3 은 유리하게는 임의 치환된 방향족 핵을 나타낸다. 상기 단계의 수행 조건은 앞서 요약하였다.
그 후 생성되는 생성물을 통상의 방식으로 4차화한다. 예를 들어, 수득된 생성물을 극성 또는 무극성, 양성자성 또는 비양성자성 용매, 예컨대 디클로로메탄, 톨루엔, 에틸 아세테이트 또는 물의 존재 하에, 자발적으로 또는 알칼리성 pH에서 알킬 설페이트, 예컨대 디메틸 설페이트, 디에틸 설페이트 또는 디프로필 설페이트 또는 알킬 할라이드 또는 알킬아릴 할라이드, 예컨대 요오도메탄, 요오도에탄, 2-브로모에탄올 또는 벤질 브로마이드와 접촉시킬 수 있다. 온도는 보통 10 ∼ 180℃이고, 바람직하게는 20 ∼ 100℃이다.
생성물은 당업자에게 공지된 기술 (침전, 증발 등)을 통해 단리할 수 있다.
세번째 구현예에 따라, 본 발명에 사용되는 화합물의 합성 방법은 하기 단계를 수행하는 것으로 이루어질 수 있다:
Figure 112007038472296-PCT00013
상기 합성의 수행 조건은 앞서 요약하였다.
본 발명의 또다른 주제는 케라틴 섬유를 염색시키기에 적절한 매질 중 하기 화학식 I의 대칭 양이온성 테트라아조 화합물 하나 이상을 직접 염료로서 포함하는 조성물로 이루어진다:
염료1-L-염료1
[상기 식 중,
염료1 은
Figure 112007038472296-PCT00014
을 나타내고, 여기서
동일한 것인 W 1 은 하기 화학식 중에서 선택되는 헤테로방향족 라디칼을 나타내고:
Figure 112007038472296-PCT00015
,
동일하거나 상이할 수 있는 W 2 는 하기 화학식을 갖는 탄소계 방향족기를 나타내고:
Figure 112007038472296-PCT00016
,
동일하거나 상이할 수 있는 W 3 은 하기 화학식을 갖는 탄소계 방향족기를 나타내고:
Figure 112007038472296-PCT00017
,
L 은 하나 이상의 양전하를 임의로 가지고, 하나 이상의 헤테로 원자 또는 하나 이상의 헤테로 원자 (바람직하게는 산소, 질소 또는 황)를 포함하는 기로 임의 개재된 C1-C60, 바람직하게는 C2-C40 및 더욱 더 특히는 C2-C20의 포화 또는 불포화, 선형 또는 분지형, 환형 또는 비-환형, (헤테로)방향족 또는 비-(헤테로)방향족의 임의 치환된 탄화수소계 사슬을 나타내고, L 은 임의의 디아조, 니트로, 니트로소 또는 퍼옥시드기를 포함하지 않으며; L 은 이의 한 쪽 말단 및 다른 쪽 말단이 하나 이상의 헤테로 원자 또는 하나 이상의 헤테로 원자 (바람직하게는 산소, 질소 또는 황)를 포함하는 기로 끝날 수 있고;
R 1 은 서로 독립적으로 하기를 나타내고:
ㆍ산소, 질소 및 황 중에서 선택되는 하나 이상의 헤테로 원자로 임의 개재된, 하나 이상의 3 ∼ 7원 탄소계 고리를 형성할 수 있는 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화, 방향족 또는 비-방향족의 임의 치환된 C1-C16 탄화수소계 사슬; R1 은 임의의 니트로, 니트로소, 퍼옥시드 또는 디아조 결합을 포함하지 않음. R1 은 탄소 원자를 통해 헤테로방향족 고리의 질소 원자 (4차화되거나 4차화되지 않음)에 직접 결합되고;
R 2 , R 3 및 R 4 는 서로 독립적으로 하기를 나타내고:
ㆍ하나 이상의 헤테로 원자, 또는 바람직하게는 산소 및 질소 중에서 선택되는 하나 이상의 헤테로 원자를 갖는 하나 이상의 기로 임의 개재된, 하나 이상의 3 ∼ 6원 탄소계 고리를 형성할 수 있는 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화, 방향족 또는 비-방향족의 임의 치환된 C1-C16 탄화수소계 사슬;
ㆍ히드록실기,
ㆍC1-C4 알콕시기,
ㆍC2-C4 (폴리)히드록시알콕시기; 알콕시카르보닐기 (RO-CO-) (식 중, R 은 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄), 알킬카르보닐옥시 라디칼 (RCO-O-) (식 중, R 은 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄);
ㆍ아미노기, 하나 이상의 히드록실기를 임의로 갖는, 동일하거나 상이할 수 있는 하나 이상의 C1-C4 알킬 라디칼로 치환된 아미노기 (2개의 알킬 라디칼은 가능하게는 이들이 결합된 질소 원자와 함께, 질소와 동일하거나 상이한 또다른 헤테로 원자, 예를 들어 산소 또는 황을 임의로 갖는 5 또는 6원 헤테로사이클을 형성함); 알킬카르보닐아미노기 (RCO-NR-) (식 중, 라디칼 R 은 서로 독립적으로 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄); 카르바모일기 ((R)2N-CO) (식 중, 동일하거나 상이할 수 있는 라디칼 R 은 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄); 우레이도기 ((R)2N-CO-NR'-) (식 중, 라디칼 R 및 R' 는 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄); 설폰아미드기 ((R)2-N-SO2-) (식 중, 라디칼 R 은 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄); 알킬설포닐아미노기 (RSO2-NR'-) (식 중, 라디칼 R 및 R' 는 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄); 구아니디늄기 ((R')2N-C(＝NH2 +)-NR-) (식 중, 라디칼 R 및 R' 는 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄);
ㆍ니트로기; 시아노기; 할로겐 원자, 바람직하게는 염소 또는 불소;
ㆍ인접한 탄소 원자가 갖는 2개의 라디칼 R2 또는 2개의 라디칼 R3 또는 2개의 라디칼 R4 는 각각이 결합된 탄소 원자와 함께 융합 고리를 형성할 수 있음;
m 은 0 ∼ 4의 정수를 나타내고;
m' 는 0 ∼ 4의 정수를 나타내고;
m" 는 0 ∼ 4의 정수를 나타내고;
e 는 0 ∼ 2의 정수를 나타내고;
화학식 IIa, IIb, IIc, III 또는 IV 로부터 나오는 결합 a 는 W1, W2 및 W3 기를 아조기에 결합시키고; 화학식 IIa 및 IIc의 경우, 및 인접한 2개의 탄소 원자가 갖는 2개의 라디칼 R2 가 방향족 고리를 형성하는 경우, 결합 a 는 상기 방향족 고리를 통해 W1 기를 아조기에 결합시킬 수 있고;
화학식 IV로부터 나오는 결합 a' 는 W3 기를 연결기 L에 결합시키고;
상기 화합물의 전기적 중성은 하나 이상의 화장적으로 허용가능한, 동일하거나 상이한 음이온 An에 의해 보장됨].
화학식 I에 대하여 앞서 설명한 모든 것은 명백히 유효하여 본 단락에서 반복하지 않을 것이다.
화학식 I의 화합물의 농도는 염료 조성물의 총 중량에 대하여 0.001 ∼ 5 중량% 및 바람직하게는 약 0.05 ∼ 2 중량%의 범위일 것이다.
본 발명에 따른 조성물은 또한 산화 염기도 포함할 수 있다. 상기 산화 염기는 산화 염색에 통상적으로 사용되는 산화 염기, 예를 들어 파라-페닐렌디아민, 비스(페닐)알킬렌디아민, 파라-아미노페놀, 오르소-아미노페놀 및 복소환 염기 중에서 선택할 수 있다.
더 구체적으로 언급할 수 있는 파라-페닐렌디아민으로서 예를 들어 파라-페닐렌디아민, 파라-톨릴렌디아민, 2-클로로-파라-페닐렌디아민, 2,3-디메틸-파라-페닐렌디아민, 2,6-디메틸-파라-페닐렌디아민, 2,6-디에틸-파라-페닐렌디아민, 2,5-디메틸-파라-페닐렌디아민, N,N-디메틸-파라-페닐렌디아민, N,N-디에틸-파라-페닐렌디아민, N,N-디프로필-파라-페닐렌디아민, 4-아미노-N,N-디에틸-3-메틸아닐린, N,N-비스(β-히드록시에틸)-파라-페닐렌디아민, 4-N,N-비스(β-히드록시에틸)아미노-2-메틸아닐린, 4-N,N-비스(β-히드록시에틸)아미노-2-클로로아닐린, 2-β-히드록시에틸-파라-페닐렌디아민, 2-플루오로-파라-페닐렌디아민, 2-이소프로필-파라-페닐렌디아민, N-(β-히드록시프로필)-파라-페닐렌디아민, 2-히드록시메틸-파라-페닐렌디아민, N,N-디메틸-3-메틸-파라-페닐렌디아민, N-에틸-N-(β-히드록시에틸)-파라-페닐렌디아민, N-(β,γ-디히드록시프로필)-파라-페닐렌디아민, N-(4'-아미노페닐)-파라-페닐렌디아민, N-페닐-파라-페닐렌디아민, 2-β-히드록시에틸옥시-파라-페닐렌디아민, 2-β-아세틸아미노에틸옥시-파라-페닐렌디아민, N-(β-메톡시에틸)-파라-페닐렌디아민, 4-아미노-페닐피롤리딘, 2-티에닐-파라-페닐렌디아민, 2-β-히드록시에틸아미노-5-아미노톨루엔, 및 이의 산 부가염을 들 수 있다.
상기 언급한 파라-페닐렌디아민으로서, 파라-페닐렌디아민, 파라-톨릴렌디아민, 2-이소프로필-파라-페닐렌디아민, 2-β-히드록시에틸-파라-페닐렌디아민, 2-β-히드록시에틸옥시-파라-페닐렌디아민, 2,6-디메틸-파라-페닐렌디아민, 2,6-디에틸-파라-페닐렌디아민, 2,3-디메틸-파라-페닐렌디아민, N,N-비스(β-히드록시에틸)-파라-페닐렌디아민, 2-클로로-파라-페닐렌디아민 및 2-β-아세틸아미노에틸옥시-파라-페닐렌디아민, 및 이의 산 부가염이 특히 바람직하다.
언급할 수 있는 비스(페닐)알킬렌디아민으로서, 예를 들어 N,N'-비스(β-히드록시에틸)-N,N'-비스(4'-아미노페닐)-1,3-디아미노프로판올, N,N'-비스(β-히드록시에틸)-N,N'-비스(4'-아미노페닐)에틸렌디아민, N,N'-비스(4-아미노페닐)테트라메틸렌디아민, N,N'-비스(β-히드록시에틸)-N,N'-비스(4-아미노페닐)테트라메틸렌디아민, N,N'-비스(4-메틸아미노페닐)테트라메틸렌디아민, N,N'-비스(에틸)-N,N'-비스(4'-아미노-3'-메틸페닐)에틸렌디아민 및 1,8-비스(2,5-디아미노페녹시)-3,6-디옥사옥탄, 및 이의 산 부가염을 들 수 있다.
언급할 수 있는 파라-아미노페놀로서 파라-아미노페놀, 4-아미노-3-메틸페놀, 4-아미노-3-플루오로페놀, 4-아미노-3-히드록시메틸페놀, 4-아미노-2-메틸페놀, 4-아미노-2-히드록시메틸페놀, 4-아미노-2-메톡시메틸페놀, 4-아미노-2-아미노메틸페놀, 4-아미노-2-(β-히드록시에틸아미노메틸)페놀 및 4-아미노-2-플루오로페놀, 및 이의 산 부가염을 들 수 있다.
언급할 수 있는 오르소-아미노페놀로서, 예를 들어 2-아미노페놀, 2-아미노-5-메틸페놀, 2-아미노-6-메틸페놀 및 5-아세트아미도-2-아미노페놀, 및 이의 산 부가염을 들 수 있다.
언급할 수 있는 복소환 염기로서, 예를 들어 피리딘 유도체, 피리미딘 유도체 및 피라졸 유도체, 및 피라졸로[1,2-a]피라졸-1-온 유형의 유도체를 들 수 있다.
언급할 수 있는 피리딘 유도체로서, 예를 들어 특허 GB　1　026　978 및 GB　1　153　196에 기재된 화합물, 예컨대 2,5-디아미노피리딘, 2-(4-메톡시페닐)아미노-3-아미노피리딘, 2,3-디아미노-6-메톡시피리딘, 2-(β-메톡시-에틸)아미노-3-아미노-6-메톡시피리딘 및 3,4-디아미노피리딘, 및 이의 산 부가염을 들 수 있다.
언급할 수 있는 피리미딘 유도체 중, 예를 들어 특허 DE　2　359　399; JP 88-169　571; JP 05-163 124; EP　0　770　375 또는 특허 출원 WO　96/15765에 기재된 화합물, 예컨대 2,4,5,6-테트라아미노피리미딘, 4-히드록시-2,5,6-트리아미노피리미딘, 2-히드록시-4,5,6-트리아미노피리미딘, 2,4-디히드록시-5,6-디아미노피리미딘 및 2,5,6-트리아미노피리미딘, 및 피라졸로피리미딘 유도체, 예컨대 특허 출원 FR-A-2　750　048에 언급된 것을 들 수 있고, 이들 중 피라졸로[1,5-a]피리미딘-3,7-디아민; 2,5-디메틸피라졸로[1,5-a]피리미딘-3,7-디아민; 피라졸로[1,5-a]피리미딘-3,5-디아민; 2,7-디메틸피라졸로[1,5-a]피리미딘-3,5-디아민; 3-아미노피라졸로[1,5-a]피리미딘-7-올; 3-아미노피라졸로[1,5-a]피리미딘-5-올; 2-(3-아미노피라졸로[1,5-a]피리미딘-7-일아미노)에탄올, 2-(7-아미노피라졸로[1,5-a]피리미딘-3-일아미노)에탄올, 2-[(3-아미노피라졸로[1,5-a]피리미딘-7-일)(2-히드록시에틸)아미노]에탄올, 2-[(7-아미노피라졸로[1,5-a]피리미딘-3-일)(2-히드록시에틸)아미노]에탄올, 5,6-디메틸피라졸로[1,5-a]피리미딘-3,7-디아민, 2,6-디메틸피라졸로[1,5-a]피리미딘-3,7-디아민, 2,5,N7,N7-테트라메틸피라졸로[1,5-a]피리미딘-3,7-디아민 및 3-아미노-5-메틸-7-이미다졸릴프로필아미노피라졸로[1,5-a]피리미딘, 및 이의 산 부가염, 및 토토머 평형이 존재하는 경우 이의 토토머 형태를 들 수 있다.
언급할 수 있는 피라졸 유도체로서, 특허 DE　3　843　892 및 DE　4　133　957 및 특허 출원 WO　94/08969, WO　94/08970, FR-A-2　733　749 및 DE　195　43　988에 기재된 화합물, 예컨대 4,5-디아미노-1-메틸피라졸, 4,5-디아미노-1-(β-히드록시에틸)피라졸, 3,4-디아미노피라졸, 4,5-디아미노-1-(4'-클로로벤질)피라졸, 4,5-디아미노-1,3-디메틸피라졸, 4,5-디아미노-3-메틸-1-페닐피라졸, 4,5-디아미노-1-메틸-3-페닐피라졸, 4-아미노-1,3-디메틸-5-히드라지노피라졸, 1-벤질-4,5-디아미노-3-메틸피라졸, 4,5-디아미노-3-tert-부틸-1-메틸피라졸, 4,5-디아미노-1-tert-부틸-3-메틸피라졸, 4,5-디아미노-1-(β-히드록시에틸)-3-메틸피라졸, 4,5-디아미노-1-에틸-3-메틸피라졸, 4,5-디아미노-1-에틸-3-(4'-메톡시페닐)피라졸, 4,5-디아미노-1-에틸-3-히드록시메틸피라졸, 4,5-디아미노-3-히드록시메틸-1-메틸피라졸, 4,5-디아미노-3-히드록시메틸-1-이소프로필피라졸, 4,5-디아미노-3-메틸-1-이소프로필피라졸, 4-아미노-5-(2'-아미노에틸)아미노-1,3-디메틸피라졸, 3,4,5-트리아미노피라졸, 1-메틸-3,4,5-트리아미노피라졸, 3,5-디아미노-1-메틸-4-메틸아미노피라졸 및 3,5-디아미노-4-(β-히드록시에틸)아미노-1-메틸피라졸, 및 이의 산 부가염을 들 수 있다.
피라졸로[1,2-a]피라졸-1-온 유형의 유도체로서, 2,3-디아미노-6,7-디히드로-1H,5H-피라졸로[1,2-a]피라졸-1-온과 같은 화합물을 들 수 있다.
본 발명에 따른 조성물은 케라틴 섬유를 염색하는 데 통상적으로 사용되는 하나 이상의 커플러도 함유할 수 있다. 상기 커플러 중, 특히 메타-페닐렌디아민, 메타-아미노페놀, 메타-디페놀, 나프탈렌계 커플러 및 복소환 커플러를 들 수 있다.
그 예로서 2-메틸-5-아미노페놀, 5-N-(β-히드록시에틸)아미노-2-메틸페놀, 6-클로로-2-메틸-5-아미노페놀, 3-아미노페놀, 1,3-디히드록시벤젠, 1,3-디히드록시-2-메틸벤젠, 4-클로로-1,3-디히드록시벤젠, 2,4-디아미노-1-(β-히드록시에틸옥시)벤젠, 2-아미노-4-(β-히드록시에틸아미노)-1-메톡시벤젠, 1,3-디아미노벤젠, 1,3-비스(2,4-디아미노페녹시)프로판, 3-우레이도아닐린, 3-우레이도-1-디메틸아미노벤젠, 세사몰, 1-β-히드록시에틸아미노-3,4-메틸렌디옥시벤젠, α-나프톨, 2-메틸-1-나프톨, 6-히드록시인돌, 4-히드록시인돌, 4-히드록시-N-메틸인돌, 2-아미노-3-히드록시피리딘, 6-히드록시벤조모르폴린, 3,5-디아미노-2,6-디메톡시피리딘, 1-N-(β-히드록시에틸)아미노-3,4-메틸렌디옥시벤젠 및 2,6-비스(β-히드록시에틸아미노)톨루엔, 및 이의 산 부가염을 들 수 있다.
본 발명의 조성물 중, 커플러(들)는 일반적으로 염료 조성물의 총 중량에 대하여 0.001 ∼ 10 중량%, 및 더 바람직하게는 0.005 ∼ 6 중량% 범위의 양으로 존재한다. 산화 염기(들)은 염료 조성물의 총 중량에 대하여 바람직하게는 0.001 ∼ 10 중량%, 및 더 바람직하게는 0.005 ∼ 6 중량% 범위의 양으로 존재한다.
일반적으로, 산 부가염은 본 발명의 염료 조성물의 산화 염기에 대한 문맥으로 사용할 수 있고, 커플러는 특히 히드로클로라이드, 히드로브로마이드, 설페이트, 시트레이트, 석시네이트, 타르트레이트, 락테이트, 토실레이트, 벤젠설포네이트, 포스페이트 및 아세테이트 중에서 선택한다.
본 발명에 따른 조성물은 화학식 I의 화합물 이외의 하나 이상의 부가적 직접 염료를 임의로 포함할 수 있다. 상기 염료는 양이온성 및 비이온성 종으로부터 선택할 수 있다.
언급할 수 있는 비제한적인 예로서, 단독 또는 혼합물로서의 니트로벤젠 염료, 아조, 아조메틴, 메틴, 테트라아자펜타메틴, 안트라퀴논, 나프토퀴논, 벤조퀴논, 페노티아진, 인디고이드, 잔텐, 페난트리딘, 프탈로시아닌 및 트리아릴메탄계 염료 및 천연 염료를 들 수 있다.
예를 들어 하기 적색 또는 오렌지색 니트로벤젠 염료 중에서 선택할 수 있다:
- 1-히드록시-3-니트로-4-N-(γ-히드록시프로필)아미노벤젠,
- N-(β-히드록시에틸)아미노-3-니트로-4-아미노벤젠,
- 1-아미노-3-메틸-4-N-(β-히드록시에틸)아미노-6-니트로벤젠,
- 1-히드록시-3-니트로-4-N-(β-히드록시에틸)아미노벤젠,
- 1,4-디아미노-2-니트로벤젠,
- 1-아미노-2-니트로-4-메틸아미노벤젠,
- N-(β-히드록시에틸)-2-니트로-파라-페닐렌디아민,
- 1-아미노-2-니트로-4-(β-히드록시에틸)아미노-5-클로로벤젠,
- 2-니트로-4-아미노디페닐아민,
- 1-아미노-3-니트로-6-히드록시벤젠,
- 1-(β-아미노에틸)아미노-2-니트로-4-(β-히드록시에틸옥시)벤젠,
- 1-(β,γ-디히드록시프로필)옥시-3-니트로-4-(β-히드록시에틸)아미노벤젠,
- 1-히드록시-3-니트로-4-아미노벤젠,
- 1-히드록시-2-아미노-4,6-디니트로벤젠,
- 1-메톡시-3-니트로-4-(β-히드록시에틸)아미노벤젠,
- 2-니트로-4'-히드록시디페닐아민, 및
- 1-아미노-2-니트로-4-히드록시-5-메틸벤젠.
추가의 직접 염료는 또한 황색 및 녹황색 니트로벤젠 직접 염료 중에서 선택할 수 있으며; 예를 들어, 하기 중에서 선택되는 화합물을 들 수 있다:
- 1-β-히드록시에틸옥시-3-메틸아미노-4-니트로벤젠,
- 1-메틸아미노-2-니트로-5-(β,γ-디히드록시프로필)옥시벤젠,
- 1-(β-히드록시에틸)아미노-2-메톡시-4-니트로벤젠,
- 1-(β-아미노에틸)아미노-2-니트로-5-메톡시벤젠,
- 1,3-디(β-히드록시에틸)아미노-4-니트로-6-클로로벤젠,
- 1-아미노-2-니트로-6-메틸벤젠,
- 1-(β-히드록시에틸)아미노-2-히드록시-4-니트로벤젠,
- N-(β-히드록시에틸)-2-니트로-4-트리플루오로메틸아닐린,
- 4-(β-히드록시에틸)아미노-3-니트로벤젠설폰산,
- 4-에틸아미노-3-니트로벤조산,
- 4-(β-히드록시에틸)아미노-3-니트로클로로벤젠,
- 4-(β-히드록시에틸)아미노-3-니트로메틸벤젠,
- 4-(β,γ-디히드록시프로필)아미노-3-니트로트리플루오로메틸벤젠,
- 1-(β-우레이도에틸)아미노-4-니트로벤젠,
- 1,3-디아미노-4-니트로벤젠,
- 1-히드록시-2-아미노-5-니트로벤젠,
- 1-아미노-2-[트리스(히드록시메틸)메틸]아미노-5-니트로벤젠,
- 1-(β-히드록시에틸)아미노-2-니트로벤젠, 및
- 4-(β-히드록시에틸)아미노-3-니트로벤즈아미드.
또한, 청색 또는 보라색 니트로벤젠 직접 염료로서, 예를 들어 하기를 들 수 있다:
- 1-(β-히드록시에틸)아미노-4-N,N-비스(β-히드록시에틸)아미노-2-니트로벤젠,
- 1-(γ-히드록시프로필)아미노-4,N,N-비스(β-히드록시에틸)아미노-2-니트로벤젠,
- 1-(β-히드록시에틸)아미노-4-(N-메틸-N-β-히드록시에틸)아미노-2-니트로벤젠,
- 1-(β-히드록시에틸)아미노-4-(N-에틸-N-β-히드록시에틸)아미노-2-니트로벤젠,
- 1-(β,γ-디히드록시프로필)아미노-4-(N-에틸-N-β-히드록시에틸)아미노-2-니트로벤젠,
- 하기 화학식을 갖는 2-니트로-파라-페닐렌디아민:
Figure 112007038472296-PCT00018
[상기 식 중:
- Rb 는 C1-C4　알킬 라디칼 또는 β-히드록시에틸, β-히드록시프로필 또는γ-히드록시프로필 라디칼을 나타내고;
- 동일하거나 상이할 수 있는 Ra 및 Rc 는 β-히드록시에틸, β-히드록시프로필, γ-히드록시프로필 또는 β,γ-디히드록시프로필 라디칼을 나타내고, 라디칼 Rb, Rc 또는 Ra 중 하나 이상은 γ-히드록시프로필 라디칼을 나타내고, Rb 가 프랑스 특허 FR　2　692　572에 기재된 바와 같은 γ-히드록시프로필 라디칼인 경우 Rb 및 Rc 는 동시에 β-히드록시에틸 라디칼을 나타낼 수 없음].
본 발명에 따라 사용할 수 있는 아조 직접 염료로서, 특허 출원 WO　95/15144, WO　95/01772, EP　714　954, FR　2　822　696, FR　2 825　702, FR　2　825　625, FR　2　822　698, FR　2　822　693, FR　2　822　694, FR　2　829　926, FR　2　807　650, WO　02/078　660, WO　02/100　834, WO　02/100　369 및 FR　2　844　269에 기재된 양이온성 아조 염료를 들 수 있다.
상기 화합물 중, 가장 특별히는 하기 염료를 들 수 있다:
- 1,3-디메틸-2-[[4-(디메틸아미노)페닐]아조]-1H-이미다졸륨 클로라이드,
- 1,3-디메틸-2-[(4-아미노페닐)아조]-1H-이미다졸륨 클로라이드,
- 1-메틸-4-[(메틸페닐히드라조노)메틸]-피리디늄 메틸 설페이트.
또한, 언급할 수 있는 아조 직접 염료로서 [Colour Index International 3rd edition]에 기재된 하기 염료를 들 수 있다:
- 디스퍼스 레드 17
- 액시드 옐로우 9
- 액시드 블랙 1
- 베이직 레드 22
- 베이직 레드 76
- 베이직 옐로우 57
- 베이직 브라운 16
- 액시드 옐로우 36
- 액시드 오렌지 7
- 액시드 레드 33
- 액시드 레드 35
- 베이직 브라운 17
- 액시드 옐로우 23
- 액시드 오렌지 24
- 디스퍼스 블랙 9.
또한, 1-(4'-아미노디페닐아조)-2-메틸-4-[비스(β-히드록시에틸)아미노]벤젠 및 4-히드록시-3-(2-메톡시페닐아조)-1-나프탈렌설폰산을 언급할 수 있다:
언급될 수 있는 퀴논 직접 염료 중에서, 하기 염료가 있다:
- 디스퍼스 레드 15
- 솔벤트 바이올렛 13
- 액시드 바이올렛 43
- 디스퍼스 바이올렛 1
- 디스퍼스 바이올렛 4
- 디스퍼스 블루 1
- 디스퍼스 바이올렛 8
- 디스퍼스 블루 3
- 디스퍼스 레드 11
- 액시드 블루 62
- 디스퍼스 블루 7
- 베이직 블루 22
- 디스퍼스 바이올렛 15
- 베이직 블루 99 및
또한 하기 화합물:
- 1-N-메틸모르폴리늄프로필아미노-4-히드록시-안트라퀴논
- 1-아미노프로필아미노-4-메틸아미노안트라퀴논
- 1-아미노프로필아미노안트라퀴논
- 5-β-히드록시에틸-1,4-디아미노안트라퀴논
- 2-아미노에틸아미노안트라퀴논
- 1,4-비스(β,γ-디히드록시프로필아미노)안트라퀴논.
언급될 수 있는 아진 염료 중에는 하기 화합물이 있다:
- 베이직 블루 17
- 베이직 레드 2.
본 발명에 따라 사용될 수 있는 트리아릴메탄 염료 중에는 하기 화합물을 언급할 수 있다:
- 베이직 그린 1
- 액시드 블루 9
- 베이직 바이올렛 3
- 베이직 바이올렛 14
- 베이직 블루 7
- 액시드 바이올렛 49
- 베이직 블루 26
- 액시드 블루 7.
본 발명에 따라 사용될 수 있는 인도아민 염료 중에는 하기 화합물을 언급할 수 있다:
- 2-β-히드록시에틸아미노-5-[비스(β-4'-히드록시에틸)아미노]아닐리노-1,4-벤조퀴논;
- 2-β-히드록시에틸아미노-5-(2'-메톡시-4'-아미노)아닐리노-1,4-벤조퀴논;
- 3-N(2'-클로로-4'-히드록시)페닐아세틸아미노-6-메톡시-1,4-벤조퀴논이민;
- 3-N(3'-클로로-4'-메틸아미노)페닐우레이도-6-메틸-1,4-벤조퀴논이민;
- 3-[4'-N-(에틸카르바밀메틸)아미노]페닐우레이도-6-메틸-1,4-벤조퀴논이민.
본 발명에 따라 사용될 수 있는 테트라아자펜타메틴 유형의 염료 중에는, 하기 표에 주어진 하기 화합물을 언급할 수 있으며, An 은 상기 정의된 바와 같다:
Figure 112007038472296-PCT00019
.
본 발명에 따라 사용될 수 있는 천연 직접 염료 중에는, 로손 (lawsone), 주글론 (juglone), 알리자린 (alizarin), 퍼퓨린 (purpurin), 카민산 (carminic acid), 케르메스산 (kermesic acid), 퍼퓨로갈린 (purpurogallin), 프로토카테크알데하이드 (protocatechaldehyde), 인디고 (indigo), 이사틴 (isatin), 커큐민 (curcumin), 스피눌로신 (spinulosin) 및 아피게니딘 (apigenidin) 을 언급할 수 있다. 상기 천연 염료를 함유하는 추출물 또는 달임물을 사용할 수도 있고, 특히 헤나-기재 습포제 또는 추출물을 사용할 수 있다.
존재시, 조성물 내 추가의 직접 염료(들)의 함량은 일반적으로 조성물의 중량에 대해 0.001 ∼ 20 중량% 이고, 바람직하게는 조성물의 중량에 대해 0.01 ∼ 10 중량% 이다.
염료 지지체로도 알려져 있는, 염색에 적합한 매질은 일반적으로 물, 또는 충분히 수용성이지 않은 화합물을 용해시키기 위한 하나 이상의 유기 용매 및 물의 혼합물로 이루어진다.
더욱 특히, 유기 용매는 단독 또는 혼합물로서의, 에틸 알콜, 이소프로필 알콜, 헥실렌 글리콜 (2-메틸-2,4-펜탄디올), 네오펜틸 글리콜 및 3-메틸-1,5-펜탄디올과 같은 탄소수 2 ∼ 10의 선형 또는 분지형, 바람직하게는 포화 모노알콜 또는 디올; 벤질 알콜 및 페닐에틸 알콜과 같은 방향족 알콜; 글리콜 또는 글리콜 에테르, 예를 들어 에틸렌 글리콜 모노메틸, 모노에틸 및 모노부틸 에테르, 프로필렌 글리콜 및 그의 에테르, 예를 들어 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르, 부틸렌 글리콜 및 디프로필렌 글리콜; 및 또한 특히 C1-C4의 디에틸렌 글리콜 알킬 에테르, 예를 들어 디에틸렌 글리콜 모노에틸 에테르 또는 모노부틸 에테르 중에서 선택된다.
상기 기술된 통상의 용매는, 존재시, 보통 조성물의 총 중량에 대해 1 ∼ 40 중량% 및 더욱 바람직하게는 5 ∼ 30 중량% 를 나타낸다.
본 발명에 따른 염료 조성물은 또한 음이온성, 양이온성, 비이온성, 양쪽성 또는 쌍성이온성 계면활성제 또는 그의 혼합물, 음이온성, 양이온성, 비이온성, 양쪽성 또는 쌍성이온성 중합체 또는 그의 혼합물, 무기 또는 유기 증점제, 및 특히 음이온성, 양이온성, 비이온성 및 양쪽성 결합 중합체성 증점제, 항산화제, 침투제, 격리제, 향, 완충제, 분산제, 휘발성 또는 개질될 수 있거나 또는 그럴 수 없는 실리콘과 같은 컨디셔닝제, 필름-형성제, 세라미드, 방부제 및 불투명화제와 같은 모발 염색용 조성물에 통상 사용되는 다양한 보조제를 함유할 수 있다.
상기 보조제는 일반적으로 조성물의 중량에 대해 각각 0.01 ∼ 20 중량% 의 양으로 존재한다.
말할 것도 없이, 당업자는 본 발명에 따른 산화 염료 조성물과 본질적으로 관련된 유리한 특성이, 파악되는 첨가(들) 에 의해 악영향을 받지 않거나 실질적으로 받지 않도록 이러한 임의의 추가 화합물을 선택하는 것을 고심할 것이다.
본 발명에 따른 염료 조성물의 pH 는 일반적으로 약 3 ∼ 12 이고, 바람직하게는 약 5 ∼ 11 이다. 케라틴 섬유를 염색하는데 보통 사용되는 산성화제 또는 염기성화제를 사용하여, 또는 대안적으로 표준 완충계를 사용하여, pH 를 원하는 값으로 조정할 수 있다.
언급될 수 있는 산성화제 중에는, 예를 들어 무기 또는 유기산 예컨대 염산, 오르소인산, 황산, 아세트산, 타르타르산, 시트르산 및 락트산과 같은 카르복실산, 및 설폰산이 있다.
언급될 수 있는 염기성화제 중에는, 예를 들어, 수성 암모니아, 알칼리 카르보네이트, 모노에탄올아민, 디에탄올아민 및 트리에탄올아민과 같은 알카놀아민 및 그 유도체, 수산화나트륨, 수산화칼륨 및 하기 화학식을 갖는 화합물이 있다:
Figure 112007038472296-PCT00020
[식 중, W 는 히드록실기 또는 C1-C4 알킬 라디칼로 임의 치환된 프로필렌 잔기이고; 동일하거나 상이할 수 있는 Ra, Rb, Rc 및 Rd 는 수소 원자, C1-C4 알킬 라디칼 또는 C1-C4 히드록시알킬 라디칼을 나타냄].
본 발명에 따른 염료 조성물은 액체, 크림 또는 겔 형태, 또는 케라틴 섬유, 및 특히 인간의 모발을 염색시키기에 적합한 임의의 기타 형태와 같은 다양한 형태로 있을 수 있다.
본 발명에 따른 조성물은 또한 하나 이상의 산화제를 포함할 수 있다. 이 경우, 조성물은 즉석 사용 조성물이라고 한다.
본 발명의 목적상, 용어 "즉석 사용 조성물" 은 케라틴 섬유에 즉시 도포하기 위한 조성물을 의미하는데, 즉, 상기 조성물은 사용 전에는 비개질 형태로 저장될 수 있거나 또는 2 가지 이상의 조성물의 즉석 혼합으로부터 생성될 수 있다.
보통, 상기 조성물은 본 발명에 따른 조성물을 산화 조성물과 함께 혼합함으로써 수득된다.
산화제는 당분야에서 통상적으로 사용되는 임의의 산화제일 수 있다. 따라서, 산화제는 과산화수소, 과산화우레아, 알칼리 금속 브로메이트, 퍼보레이트 및 퍼설페이트와 같은 과산염, 및 또한 효소 중에서 선택될 수 있으며, 그 중에서 퍼옥시다제, 유리카제와 같은 2-전자 옥시도리덕타제, 및 락카제와 같은 4-전자 옥시게나제를 언급할 수 있다. 과산화수소의 사용이 특히 바람직하다.
산화제의 함량은 일반적으로 즉석 사용 조성물의 중량에 대해 1 ∼ 40 중량% 이고, 바람직하게는 즉석 사용 조성물의 중량에 대해 1 ∼ 20 중량% 이다.
일반적으로, 사용되는 산화 조성물은 수성 조성물이고, 용액 또는 에멀젼의 형태로 있을 수 있다.
보통, 산화제가 없는 조성물은 산화 조성물의 약 0.5 ∼ 10 중량의 당량과 혼합된다.
즉석 사용 조성물의 pH 는 더욱 특히는 4 ∼ 12 이고, 바람직하게는 7 ∼ 11.5 임을 주시해야 할 것이다.
조성물의 pH 는 본 발명에 따른 상세한 설명의 내용에서 이미 언급된 것들로부터 특별히 선택되는 산성화제 또는 염기성화제를 사용하여 조정될 수 있다.
본 발명의 주제는 또한 본 발명에 따른 염료 조성물을 습윤 또는 건조 케라틴 섬유에 도포하는 것을 포함하는 염색 방법이다.
화학식 I의 화합물(들) 또는 그의 산 부가염, 임의로 하나 이상의 커플러와 임의 결합된 하나 이상의 산화 염기, 및 임의로 하나 이상의 추가의 직접 염료를 포함하는 염료 조성물의 섬유에의 도포는, 산화제의 존재 하에 수행될 수 있다.
상기 산화제는 화학식 I의 화합물(들) 및 임의의 산화 염기, 커플러 및/또는 추가 직접 염료를 포함하는 조성물에, 사용시에 또는 케라틴 섬유에 직접 첨가될 수 있다.
산화 조성물은 또한 모발 염색용 조성물에 통상적으로 사용되고 상기 정의된 바와 같은 다양한 보조제를 함유할 수 있다.
산화제를 함유하는 산화 조성물의 pH 는, 염료 조성물과 혼합한 후에 케라틴 섬유에 도포되는 생성 조성물의 pH 가 바람직하게는 대략 4 ∼ 12 의 범위이고, 더욱 더 바람직하게는 7 ∼ 11.5 인 정도이다. 케라틴 섬유의 염색에 보통 사용되고 상기 정의된 바와 같은 산성화제 또는 염기성화제를 사용해 pH 를 원하는 값으로 조정할 수 있다.
마지막으로 케라틴 섬유에 도포되는 조성물은 액체, 크림 또는 겔 형태, 또는 케라틴 섬유, 더욱 특히 인간, 케라틴 섬유 및 특히 모발을 염색시키기에 적합한 임의의 기타 형태와 같은 다양한 형태로 있을 수 있다.
하나의 특별한 구현예에 따르면, 본 발명에 따른 조성물에는 산화 염기 및 커플러가 없다.
도포되는 조성물은 임의로 하나 이상의 산화제를 포함할 수 있다.
따라서, 조성물을 습윤 또는 건조 케라틴 섬유에 도포하고, 그 후 목적하는 착색을 얻기에 충분한 방치 시간 동안 방치한다.
어떠한 별형을 채택하더라도 (산화제의 유무 하에), 방치 시간은 일반적으로 수 초 ∼ 30 분이고, 바람직하게는 3 ∼ 15 분이다.
조성물이 작용하도록 방치하는 온도는 일반적으로는 15 ∼ 220℃ 이고, 더욱 특히는 15 ∼ 80℃ 이고, 바람직하게는 15 ∼ 40℃ 이다.
방치 시간 이후, 조성물을 물로 헹구고, 이어서 임의로 샴푸로 세척하고, 그런 다음 임의로 건조시킴으로써 제거한다.
본 발명의 또다른 주제는 제 1 구획이 본 발명의 염료 조성물을 함유하고, 제 2 구획이 산화 조성물을 함유하는 복수 구획 장치 또는 염색 "키트" 이다. 상기 장치는 특허 FR-2 586 913 에 기술된 장치와 같이, 목적하는 혼합물을 모발에 도포하는 수단이 갖추어져 있을 수 있다.
후속하는 실시예는 본 발명을 예시하고자 하는 것이며, 이를 절대 제한하고자 하는 것이 아니다.
실시예 1
합성예 :
Figure 112007038472296-PCT00021
아조이미다졸륨 염료, 화합물 1 (2.5 ｇ) 및 물 (25 ㎖) 을 3목 플라스크에 넣었다. 온도는 0 ∼ 5℃ 였다.
물 (2 ㎖) 중 아질산나트륨 (0.8 ｇ) 용액을 도입하였다. 혼합물을 15분 동안 교반하였다. 그 후, 우레아 (0.2 ｇ)를 첨가하고 혼합물을 5분 동안 교반하였다.
그 후, 상기 혼합물을 pH 3 (포화 수성 NaHCO3 에 의해 조절함)에서 0 ∼ 5℃의 온도에서 메탄올 (100 ㎖) 중 화합물 2 (1.1 ｇ)의 용액에 45분에 걸쳐 도입하였다. 첨가 말기에, NaHCO3 용액을 첨가하여 pH를 7로 조절하였다.
10분 후, 반응 혼합물을 아세톤 (500 ㎖)에 부었다. 혼합물을 여과하여 고체 생성물을 얻었다.
NMR 및 질량 스펙트럼은 예상되는 생성물의 구조와 일치하였다.
염색예:
염료 1 2.5 x 10-4 몰
염료 지지체 (1) (*)
탈염수 당량 (g) 100
(*) 염료 지지체
96° 에틸 알콜 20.8 g
60% 수용액으로서 C8-C10 알킬 폴리글루코시드 12 g
벤질 알콜 4.0 g
8 개의 에틸렌 옥시드 단위를 함유하는 폴리에틸렌 글리콜 6.0 g
Na2HPO4 0.28 g
KH2PO4 0.46 g
수득된 혼합물을, 흰 모발을 90% 함유하고 있는 회색 머리채에 도포하였다. 20 분 동안 방치한 후, 머리채를 헹구고, 표준 샴푸로 세척하고, 다시 헹군 다음 건조시켰다.
청색 색조를 수득하였고, 색상은 샴푸 저항성 및 광 저항성이었다.

Claims (28)

  1. 하기 화학식 I의 대칭 양이온성 테트라아조 화합물:
    염료1-L-염료1
    [상기 식 중,
    염료1 은
    Figure 112007038472296-PCT00022
    을 나타내고, 여기서
    동일한 것인 W 1 은 하기 화학식 중에서 선택되는 헤테로방향족 라디칼을 나 타내고:
    Figure 112007038472296-PCT00023
    ,
    동일한 것인 W 2 는 하기 화학식을 갖는 탄소계 방향족기를 나타내고:
    Figure 112007038472296-PCT00024
    ,
    동일한 것인 W 3 은 하기 화학식을 갖는 탄소계 방향족기를 나타내고:
    Figure 112007038472296-PCT00025
    ,
    L 은 하나 이상의 양전하를 임의로 가지고, 하나 이상의 헤테로 원자 또는 하나 이상의 헤테로 원자 (바람직하게는 산소, 질소 또는 황)를 포함하는 기로 임의 개재된 C1-C60, 바람직하게는 C2-C40 및 더욱 더 특히는 C2-C20의 포화 또는 불포화, 선형 또는 분지형, 환형 또는 비-환형, (헤테로)방향족 또는 비-(헤테로)방향족의 임의 치환된 탄화수소계 사슬을 나타내고, L 은 임의의 디아조, 니트로, 니트로소 또는 퍼옥시드기를 포함하지 않으며; L 은 이의 한 쪽 말단 및 다른 쪽 말단이 하나 이상의 헤테로 원자 또는 하나 이상의 헤테로 원자 (바람직하게는 산소, 질소 또는 황)를 포함하는 기로 끝날 수 있고;
    R 1 은 서로 독립적으로 하기를 나타내고:
    ㆍ산소, 질소 및 황 중에서 선택되는 하나 이상의 헤테로 원자로 임의 개재된, 하나 이상의 3 ∼ 7원 탄소계 고리를 형성할 수 있는 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화, 방향족 또는 비-방향족의 임의 치환된 C1-C16 탄화수소계 사슬; R1 은 임의의 니트로, 니트로소, 퍼옥시드 또는 디아조 결합을 포함하지 않음. R1 은 탄소 원자를 통해 헤테로방향족 고리의 질소 원자 (4차화되거나 4차화되지 않음)에 직접 결합되고;
    R 2 , R 3 및 R 4 는 서로 독립적으로 하기를 나타내고:
    ㆍ하나 이상의 헤테로 원자, 또는 바람직하게는 산소 및 질소 중에서 선택되는 하나 이상의 헤테로 원자를 갖는 하나 이상의 기로 임의 개재된, 하나 이상의 3 ∼ 6원 탄소계 고리를 형성할 수 있는 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화, 방향족 또는 비-방향족의 임의 치환된 C1-C16 탄화수소계 사슬;
    ㆍ히드록실기,
    ㆍC1-C4 알콕시기,
    ㆍC2-C4 (폴리)히드록시알콕시기; 알콕시카르보닐기 (RO-CO-) (식 중, R 은 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄), 알킬카르보닐옥시 라디칼 (RCO-O-) (식 중, R 은 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄);
    ㆍ아미노기, 하나 이상의 히드록실기를 임의로 갖는, 동일하거나 상이할 수 있는 하나 이상의 C1-C4 알킬 라디칼로 치환된 아미노기 (2개의 알킬 라디칼은 가능하게는 이들이 결합된 질소 원자와 함께, 질소와 동일하거나 상이한 또다른 헤테로 원자, 예를 들어 산소 또는 황을 임의로 갖는 5 또는 6원 헤테로사이클을 형성함); 알킬카르보닐아미노기 (RCO-NR-) (식 중, 라디칼 R 은 서로 독립적으로 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄); 카르바모일기 ((R)2N-CO) (식 중, 동일하거나 상이할 수 있는 라디칼 R 은 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄 ); 우레이도기 ((R)2N-CO-NR'-) (식 중, 라디칼 R 및 R' 는 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄); 설폰아미드기 ((R)2-N-SO2-) (식 중, 라디칼 R 은 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄); 알킬설포닐아미노기 (RSO2-NR'-) (식 중, 라디칼 R 및 R' 는 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄); 구아니디늄기 ((R')2N-C(＝NH2 +)-NR-) (식 중, 라디칼 R 및 R' 는 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄);
    ㆍ니트로기; 시아노기; 할로겐 원자, 바람직하게는 염소 또는 불소;
    ㆍ인접한 탄소 원자가 갖는 2개의 라디칼 R2 또는 2개의 라디칼 R3 또는 2개의 라디칼 R4 는 각각이 결합된 탄소 원자와 함께 융합 고리를 형성할 수 있음;
    m 은 0 ∼ 4의 정수를 나타내고;
    m' 는 0 ∼ 4의 정수를 나타내고;
    m" 는 0 ∼ 4의 정수를 나타내고;
    e 는 0 ∼ 2의 정수를 나타내고;
    화학식 IIa, IIb, IIc, III 또는 IV 로부터 나오는 결합 a 는 W1, W2 및 W3 기를 아조기에 결합시키고; 화학식 IIa 및 IIc의 경우, 및 인접한 2개의 탄소 원자가 갖는 2개의 라디칼 R2 가 방향족 고리를 형성하는 경우, 결합 a 는 상기 방향족 고리를 통해 W1 기를 아조기에 결합시킬 수 있고;
    화학식 IV로부터 나오는 결합 a' 는 W3 기를 연결기 L에 결합시키고;
    상기 화합물의 전기적 중성은 하나 이상의 화장적으로(cosmetically) 허용가능한, 동일하거나 상이한 음이온 An에 의해 보장됨].
  2. 제 1 항에 있어서, 라디칼 R1 은 서로 독립적으로 C1-C15 알킬 라디칼; C2-C6 모노히드록시알킬 라디칼; C2-C6 폴리히드록시알킬 라디칼; (C1-C6)알콕시(C2-C6)알킬 라디칼; 페닐과 같은 임의 치환된 아릴 라디칼; 벤질과 같은 임의 치환된 아릴알킬 라디칼; C2-C6 아미도알킬 라디칼; C2-C6 아미노알킬 라디칼 (여기서, 아민은 동일하거나 상이할 수 있는 2개의 임의 치환된 C1-C4 알킬 라디칼로 치환됨)을 나타내고; 라디칼 R1 은 탄소 원자를 통해 질소 원자에 결합되는 것을 특징으로 하는 화합물.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 라디칼 R1 은 서로 독립적으로 C1-C6 알킬 라디칼, C2-C6 모노히드록시알킬 라디칼; C2-C6 폴리히드록시알킬 라디칼; (C1-C6)알콕시(C2-C6)알킬 라디칼; 하나 이상의 염소 원자, 히드록실기, RCO-NH- 기 (식 중, R 은 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄), 동일하거나 상이할 수 있는 2개의 C1-C4 알킬 라 디칼로 치환된 아미노 라디칼로 임의 치환된 페닐 라디칼; 벤질 라디칼; C1-C6 아미노알킬 라디칼; C1-C6 아미노알킬 라디칼 (여기서, 아민은 동일하거나 상이할 수 있는 2개의 C1-C4 알킬 라디칼로 치환됨)을 나타내고; 라디칼 R1 은 탄소 원자를 통해 질소 원자에 결합되는 것을 특징으로 하는 화합물.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 라디칼 R2, R3 및 R4 는 서로 독립적으로, 더욱 특히는
    - 수소 원자;
    - 임의 치환된 C1-C16 및 바람직하게는 C1-C8 알킬 라디칼;
    - 염소, 불소 또는 브롬과 같은 할로겐 원자;
    - 히드록실기;
    - C1-C2 알콕시 라디칼; C2-C4 (폴리)히드록시알콕시 라디칼;
    - 아미노 라디칼, 하나 이상의 히드록실 또는 C1-C4 디알킬아미노기를 임의로 갖는, 동일하거나 상이할 수 있는 1 또는 2개의 C1-C4 알킬 라디칼로 치환된 아미노 라디칼 (2개의 알킬 라디칼은 가능하게는 이들이 결합된 질소 원자와 함께, 질소와 동일하거나 상이한 또다른 헤테로 원자를 임의로 갖는, 포화 또는 불포화의 임의 치환된 5 또는 6원 헤테로사이클을 형성함);
    - 알킬카르보닐아미노 라디칼 (RCO-NR'-) (식 중, 라디칼 R 은 C1-C4 알킬 라디칼을 나타내고, 라디칼 R' 는 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄); 카르바모일 라디칼 ((R)2N-CO-) (식 중, 동일하거나 상이할 수 있는 라디칼 R 은 수소 원자 또는 하나 이상의 히드록실기를 임의로 갖는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄); 알킬설포닐아미노 라디칼 (R'SO2-NR-) (식 중, 라디칼 R 은 수소 원자 또는 하나 이상의 히드록실기를 임의로 갖는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타내고, 라디칼 R' 는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄); 아미노설포닐 라디칼 ((R)2N-SO2-) (식 중, 동일하거나 상이할 수 있는 라디칼 R 은 수소 원자 또는 하나 이상의 히드록실기를 임의로 갖는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄); 우레이도 라디칼 (N(R)2-CO-NR'-) (식 중, 동일하거나 상이할 수 있는 라디칼 R 및 R' 는 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄)
    을 나타내는 것을 특징으로 하는 화합물.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 라디칼 R2, R3 및 R4 는 서로 독립적으로
    - 수소 원자;
    - 히드록실, 아실아미노 및 아미노 라디칼 (하나 이상의 히드록실기를 임의 로 갖는 2개의 동일하거나 상이한 C1-C2 알킬 라디칼, 또는 C1-C2 알콕시 라디칼로 치환됨) 중에서 선택되는 하나 이상의 라디칼로 임의 치환된 C1-C4 알킬 라디칼;
    - 아미노 라디칼; 하나 이상의 히드록실기를 임의로 갖는, 동일하거나 상이할 수 있는 1 또는 2개의 C1-C3 알킬 라디칼로 치환된 아미노 라디칼 (2개의 알킬 라디칼은 가능하게는 이들이 결합된 질소 원자와 함께, 질소와 동일하거나 상이한 또다른 헤테로 원자를 임의로 갖는, 포화 또는 불포화의 임의 치환된 5 또는 6원 헤테로사이클을 형성함); 아실아미노 라디칼; 카르바모일 라디칼; 설포닐아미노 라디칼;
    - 히드록실 라디칼; C1-C2 알콕시 라디칼;
    - 염소 원자
    를 나타내는 것을 특징으로 하는 화합물.
  6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, L 은 염색단 각각의 전자 비편재화를 중지시키기 위해 염색단 각각을 분리시키는 사슬을 나타내는 것을 특징으로 하는 화합물.
  7. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서, L 은 하기 화학식을 나타내는 것을 특징으로 하는 화합물:
    Figure 112007038472296-PCT00026
    [상기 식 중:
    ㆍ동일한 것인 D 및 D' 는 하나 이상의 헤테로 원자, 또는 바람직하게는 산소 및 질소 중에서 선택되는 하나 이상의 헤테로 원자를 갖는 하나 이상의 기로 임의 개재된, 하나 이상의 5 ∼ 8원 탄소계 고리를 형성할 수 있고, 포화 또는 불포화일 수 있는, 선형 또는 분지형의 C1-C4 탄화수소계 결합을 나타내고 ; D 및/또는 D' 는 탄소 원자를 통해 암모늄 원자에 결합되고;
    ㆍ결합 a' 는 바람직하게는 산소 원자 또는 질소 원자를 통해 암 (arm) D 및 D' 를 W3 기에 결합시키고;
    ㆍy 는 1 이상이고, 바람직하게는 1 또는 2 이고;
    ㆍR" 기는 하기를 나타내고
    Figure 112007038472296-PCT00027
    ㆍR5, R6, R'5 및 R'6 은 서로 독립적으로 C1-C15 알킬 라디칼; C1-C6 모노히드록시알킬 라디칼; C2-C6 폴리히드록시알킬 라디칼; (C1-C6)알콕시(C1-C6)알킬 라디칼; 페닐과 같은 아릴 라디칼; 벤질과 같은 아릴알킬 라디칼; C1-C6 아미도알킬 라디칼; C1-C6 아미노알킬 라디칼; C1-C6 아미노알킬 라디칼 (여기서, 아민은 하나 이상의 동일하거나 상이한 C1-C4 알킬, (C1-C6)알킬카르보닐, 아실아미노 또는 (C1-C6)알킬설포닐 라디칼로 치환됨) 을 나타내고;
    ㆍR5 및 R6 은 이들이 결합된 질소 원자와 함께, 하나 이상의 헤테로 원자를 함유할 수 있는 5, 6 또는 7원 포화 양이온성 고리를 형성할 수 있고, 상기 양이온성 고리는 가능하게는 할로겐 원자, 히드록실 라디칼, C1-C6 알킬 라디칼, C1-C6 모 노히드록시알킬 라디칼, C2-C6 폴리히드록시알킬 라디칼, C1-C6 알콕시 라디칼, 아미도 라디칼, (C1-C6)알킬카르보닐 라디칼, 티오 라디칼, C1-C6 티오알킬 라디칼, (C1-C6)알킬티오 라디칼, 아미노 라디칼, 또는 동일하거나 상이한 C1-C6 알킬, (C1-C6)알킬카르보닐, 아실아미노 또는 (C1-C6)알킬설포닐 라디칼로 치환된 아미노 라디칼로 치환되며; 바람직하게는 비치환되고;
    ㆍR5 또는 R6 은 D 또는 D' 와 함께, 하나 이상의 헤테로 원자를 함유할 수 있는 5, 6 또는 7원 포화 양이온성 고리를 형성할 수 있고, 상기 양이온성 고리는 가능하게는 할로겐 원자, 히드록실 라디칼, C1-C6 알킬 라디칼, C1-C6 모노히드록시알킬 라디칼, C2-C6 폴리히드록시알킬 라디칼, C1-C6 알콕시 라디칼, 아미도 라디칼, (C1-C6)알킬카르보닐 라디칼, 티오 라디칼, C1-C6 티오알킬 라디칼, (C1-C6)알킬티오 라디칼, 아미노 라디칼 또는 하나 이상의 동일하거나 상이한 C1-C6 알킬, (C1-C6)알킬카르보닐, 아실아미노 또는 (C1-C6)알킬설포닐 라디칼로 치환된 아미노 라디칼로 치환되며; 바람직하게는 비치환되고;
    ㆍ동일하거나 상이할 수 있는 고리 원 E, G, J 및 M 은 피라졸륨, 이미다졸륨, 트리아졸륨, 옥사졸륨, 이속사졸륨, 티아졸륨 또는 이소티아졸륨 고리를 형성하는 탄소, 산소, 황 또는 질소 원자를 나타내고;
    ㆍR7 은 C1-C6 알킬 라디칼; C1-C6 모노히드록시알킬 라디칼, C2-C6 폴리히드 록시알킬 라디칼, (C1-C6)알콕시(C1-C6)알킬 라디칼, C2-C6 카르바밀알킬 라디칼, (C1-C6)알킬카르복시(C1-C6)알킬 라디칼 또는 벤질 라디칼을 나타내고; 라디칼 R7 은 질소 원자가 갖는 것으로 이해되고;
    ㆍ동일하거나 상이할 수 있는 R8 은 수소 또는 할로겐 원자, C1-C6 알킬 라디칼, C1-C6 모노히드록시알킬 라디칼, C2-C6 폴리히드록시알킬 라디칼, 히드록실 라디칼, C1-C6 알콕시 라디칼, 아미도 라디칼, 카르복실 라디칼, C1-C6 알킬카르보닐 라디칼, C1-C6 티오알킬 라디칼, (C1-C6)알킬티오 라디칼, 아미노 라디칼 ((C1-C6)알킬, (C1-C6)알킬카르보닐 또는 (C1-C6)알킬설포닐 라디칼로 비치환됨), 벤질 라디칼, 페닐 라디칼 (메틸, 히드록실, 아미노 및 메톡시 라디칼 중에서 선택되는 하나 이상의 라디칼로 임의 치환됨) 을 나타내고, 라디칼 R8 은 탄소 원자가 갖는 것으로 이해되고;
    ㆍA 는 하나 이상의 유기 또는 무기 음이온을 나타내고;
    ㆍz 은 1 ∼ 3 의 정수이고;
    ㆍt 는 0 또는 1 이고; t = 0 일 때, D' 는 탄소 원자를 통해 질소 원자에 결합되고,
    ㆍv 는 1 또는 2 의 정수이고,
    ㆍy 는 0 또는 1 임].
  8. 제 7 항에 있어서, 화학식 VIa 및 VIc에서, R5, R6, R'5 및 R'6 은 서로 독립적으로 C1-C6 알킬 라디칼, C1-C4 모노히드록시알킬 라디칼, C2-C4 폴리히드록시알킬 라디칼, (C1-C6)알콕시(C2-C4)알킬 라디칼, C2-C6 아미도알킬 라디칼 또는 C2-C6 디메틸아미노알킬 라디칼을 나타내는 것을 특징으로 하는 화합물.
  9. 제 8 항에 있어서, R5, R6, R'5 및 R'6 은 서로 독립적으로 메틸, 에틸 또는 2-히드록시에틸 라디칼을 나타내는 것을 특징으로 하는 화합물.
  10. 제 7 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서, D 및 D' 는 별개로, 치환될 수 있고, 바람직하게는 비치환된, 바람직하게는 C1-C6 알킬 사슬인 것을 특징으로 하는 화합물.
  11. 제 7 항에 있어서, 화학식 VIb에서, 고리 원 E, G, J 및 M 은 이미다졸륨, 피라졸륨, 옥사졸륨 또는 티아졸륨 고리를 형성하는 것을 특징으로 하는 화합물.
  12. 제 11 항에 있어서, y 및 t 는 0 인 것을 특징으로 하는 화합물.
  13. 제 11 항 또는 제 12 항에 있어서, D 및 D' 는, 치환될 수 있고, 바람직하게 는 비치환된 C1-C6 알킬 사슬을 나타내는 것을 특징으로 하는 화합물.
  14. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서, L 은 (C1-C2O)알킬-(헤테로)아릴-(C1-C2O)알킬기로 나타내어지는 것을 특징으로 하는 화합물.
  15. 제 14 항에 있어서, L 은 (C1-C10)알킬-(헤테로)아릴-(C1-C10)알킬기로 나타내어지는 것을 특징으로 하는 화합물.
  16. 제 14 항 또는 제 15 항에 있어서, (헤테로)아릴렌 라디칼이 페닐렌 또는 나프틸렌, 페난트릴렌, 트리아지닐, 피리미디닐, 피리딜, 피리다지닐 및 퀴녹살리닐 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 화합물.
  17. 제 14 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 있어서, (헤테로)아릴렌기로 개재된 알킬렌 라디칼 중에서, 하기 라디칼을 언급할 수 있는 것을 특징으로 하는 화합물:
    Figure 112007038472296-PCT00028
    [상기 식 중:
    - R10 은 R4 와 동일한 정의를 갖고,
    - R11 및 R12 는 서로 독립적으로 수소 원자, 또는 하나 이상의 히드록실, C1-C2 알콕시, C2-C4 (폴리)히드록시알콕시, 아미노, C1-C2 (디)알킬아미노 또는 임의 치환된 아릴 라디칼로 임의 치환된 C1-C8 알킬 라디칼을 나타내고,
    - 동일한 것인 R13 은 C1-C4 알킬 라디칼을 나타내고,
    - m 은 1 ∼ 6 의 정수를 나타내고,
    - n" 는 0 ∼ 4 의 정수를 나타내고,
    - n"' 는 0 ∼ 3 의 정수를 나타냄].
  18. 제 1 항 내지 제 17 항 중 어느 한 항에 있어서, 화장적으로 허용가능한 음이온이 클로라이드, 브로마이드, 플루오라이드 또는 요오다이드와 같은 할라이드; 히드록사이드; 설페이트; 히드로겐 설페이트; (C1-C6)알킬 설페이트; 포스페이트; 카르보네이트; 히드로겐 카르보네이트, 퍼클로레이트; 아세테이트; 타르트레이트; 시트레이트, 옥살레이트; 메틸설포네이트와 같은 (C1-C6)알킬설포네이트; 비치환되거나 또는 C1-C4 알킬 라디칼로 치환된 아릴설포네이트, 예를 들어 4-톨릴설포네이트 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 화합물.
  19. 제 1 항 내지 제 18 항 중 어느 한 항에 있어서, 하기 화학식에 해당하는 화합물:
    Figure 112007038472296-PCT00029
    Figure 112007038472296-PCT00030
    [상기 식 중;
    - R1, R2, R3, R4 및 m 은 상기 정의된 바와 같고;
    - 분자의 전기적 중성은 상기 정의된 바와 같은 하나 이상의 화장적으로 허용가능한 음이온 An 의 존재에 의해 지켜짐].
  20. 케라틴 섬유의 염색에 적절한 매질 중 직접 염료로서 하기 화학식 I의 대칭 양이온성 테트라아조 화합물 하나 이상을 포함하는 염료 조성물:
    염료1-L-염료1
    [상기 식 중,
    염료1 은
    Figure 112007038472296-PCT00031
    을 나타내고, 여기서
    동일한 것인 W 1 은 하기 화학식 중에서 선택되는 헤테로방향족 라디칼을 나 타내고:
    Figure 112007038472296-PCT00032
    ,
    동일한 것인 W 2 는 하기 화학식을 갖는 탄소계 방향족기를 나타내고:
    Figure 112007038472296-PCT00033
    ,
    동일한 것인 W 3 은 하기 화학식을 갖는 탄소계 방향족기를 나타내고:
    Figure 112007038472296-PCT00034
    ,
    L 은 하나 이상의 양전하를 임의로 가지고, 하나 이상의 헤테로 원자 또는 하나 이상의 헤테로 원자 (바람직하게는 산소, 질소 또는 황)를 포함하는 기로 임의 개재된 C1-C60, 바람직하게는 C2-C40 및 더욱 더 특히는 C2-C20의 포화 또는 불포화, 선형 또는 분지형, 환형 또는 비-환형, (헤테로)방향족 또는 비-(헤테로)방향족의 임의 치환된 탄화수소계 사슬을 나타내고, L 은 임의의 디아조, 니트로, 니트로소 또는 퍼옥시드기를 포함하지 않으며; L 은 이의 한 쪽 말단 및 다른 쪽 말단이 하나 이상의 헤테로 원자 또는 하나 이상의 헤테로 원자 (바람직하게는 산소, 질소 또는 황)를 포함하는 기로 끝날 수 있고;
    R 1 은 서로 독립적으로 하기를 나타내고:
    ㆍ산소, 질소 및 황 중에서 선택되는 하나 이상의 헤테로 원자로 임의 개재된, 하나 이상의 3 ∼ 7원 탄소계 고리를 형성할 수 있는 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화, 방향족 또는 비-방향족의 임의 치환된 C1-C16 탄화수소계 사슬; R1 은 임의의 니트로, 니트로소, 퍼옥시드 또는 디아조 결합을 포함하지 않음. R1 은 탄소 원자를 통해 헤테로방향족 고리의 질소 원자 (4차화되거나 4차화되지 않음)에 직접 결합되고;
    R 2 , R 3 및 R 4 는 서로 독립적으로 하기를 나타내고:
    ㆍ하나 이상의 헤테로 원자, 또는 바람직하게는 산소 및 질소 중에서 선택되는 하나 이상의 헤테로 원자를 갖는 하나 이상의 기로 임의 개재된, 하나 이상의 3 ∼ 6원 탄소계 고리를 형성할 수 있는 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화, 방향족 또는 비-방향족의 임의 치환된 C1-C16 탄화수소계 사슬;
    ㆍ히드록실기,
    ㆍC1-C4 알콕시기,
    ㆍC2-C4 (폴리)히드록시알콕시기; 알콕시카르보닐기 (RO-CO-) (식 중, R 은 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄), 알킬카르보닐옥시 라디칼 (RCO-O-) (식 중, R 은 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄);
    ㆍ아미노기, 하나 이상의 히드록실기를 임의로 갖는, 동일하거나 상이할 수 있는 하나 이상의 C1-C4 알킬 라디칼로 치환된 아미노기 (2개의 알킬 라디칼은 가능하게는 이들이 결합된 질소 원자와 함께, 질소와 동일하거나 상이한 또다른 헤테로 원자, 예를 들어 산소 또는 황을 임의로 갖는 5 또는 6원 헤테로사이클을 형성함); 알킬카르보닐아미노기 (RCO-NR-) (식 중, 라디칼 R 은 서로 독립적으로 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄); 카르바모일기 ((R)2N-CO) (식 중, 동일하거나 상이할 수 있는 라디칼 R 은 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄); 우레이도기 ((R)2N-CO-NR'-) (식 중, 라디칼 R 및 R' 는 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄); 설폰아미드기 ((R)2-N-SO2-) (식 중, 라디칼 R 은 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄); 알킬설포닐아미노기 (RSO2-NR'-) (식 중, 라디칼 R 및 R' 는 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄); 구아니디늄기 ((R')2N-C(＝NH2 +)-NR-) (식 중, 라디칼 R 및 R' 는 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C1-C4 알킬 라디칼을 나타냄);
    ㆍ니트로기; 시아노기; 할로겐 원자, 바람직하게는 염소 또는 불소;
    ㆍ인접한 탄소 원자가 갖는 2개의 라디칼 R2 또는 2개의 라디칼 R3 또 는 2개의 라디칼 R4 는 각각이 결합된 탄소 원자와 함께 융합 고리를 형성할 수 있음;
    m 은 0 ∼ 4의 정수를 나타내고;
    m' 는 0 ∼ 4의 정수를 나타내고;
    m" 는 0 ∼ 4의 정수를 나타내고;
    e 는 0 ∼ 2의 정수를 나타내고;
    화학식 IIa, IIb, IIc, III 또는 IV 로부터 나오는 결합 a 는 W1, W2 및 W3 기를 아조기에 결합시키고; 화학식 IIa 및 IIc의 경우, 및 인접한 2개의 탄소 원자가 갖는 2개의 라디칼 R2 가 방향족 고리를 형성하는 경우, 결합 a 는 상기 방향족 고리를 통해 W1 기를 아조기에 결합시킬 수 있고;
    화학식 IV로부터 나오는 결합 a' 는 W3 기를 연결기 L에 결합시키고;
    상기 화합물의 전기적 중성은 하나 이상의 화장적으로 허용가능한, 동일하거나 상이한 음이온 An에 의해 보장됨].
  21. 제 20 항에 있어서, 화학식 I의 화합물의 함량이 조성물의 중량에 대하여 0.001 ∼ 5 중량% 및 바람직하게는 0.05 ∼ 2 중량%를 나타내는 것을 특징으로 하는 조성물.
  22. 제 20 항 또는 제 21 항에 있어서, 하나 이상의 추가의 직접 염료, 하나 이상의 산화 염기 또는 하나 이상의 커플러를 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  23. 제 22 항에 있어서, 상기 추가의 직접 염료가 단독 또는 혼합물로서의 니트로벤젠 염료, 아조, 아조메틴, 메틴, 테트라아자펜타메틴, 안트라퀴논, 나프토퀴논, 벤조퀴논, 페노티아진, 인디고이드, 잔텐, 페난트리딘, 프탈로시아닌 및 트리아릴메탄계 염료 및 천연 염료 중에서 선택되는 양이온성 또는 비이온성 염료인 것을 특징으로 하는 조성물.
  24. 제 22 항에 있어서, 상기 산화 염기가 p-페닐렌디아민, 비스(페닐)알킬렌디아민, o-아미노페놀, p-아미노페놀, 및 복소환 염기, 이의 산 부가염, 및 또한 이의 혼합물 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  25. 제 22 항에 있어서, 상기 커플러가 m-아미노페놀, m-페닐렌디아민, m-디페놀, 나프톨 및 복소환 커플러, 및 이의 산 부가염 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
  26. 제 21 항 내지 제 25 항 중 어느 한 항에 있어서, 하나 이상의 산화제를 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
  27. 제 21 항 내지 제 26 항 중 어느 한 항에 따른 조성물을 소정의 효과를 얻기에 충분한 시간 동안 상기 습윤 또는 건조 섬유와 접촉시키는 것으로 이루어지는 케라틴 섬유의 염색 방법.
  28. 제 1 구획은 제 21 항 내지 제 26 항 중 어느 한 항에 따른 조성물을 함유하고, 제 2 구획은 산화 조성물을 함유하는 복수 구획 장치.
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