KR100681748B1

KR100681748B1 - 양이온성 디아조 화합물, 이를 직접 염료로 함유하는조성물, 케라틴 섬유의 염색 방법 및 이를 위한 장치

Info

Publication number: KR100681748B1
Application number: KR20050054702A
Authority: KR
Inventors: 앙드르 그레아베; 에르베 다비드
Original assignee: 로레알
Priority date: 2004-06-23
Filing date: 2005-06-23
Publication date: 2007-02-15
Also published as: KR20060066607A; JP2006037092A; EP1637566A1; MXPA05006907A; FR2872160A1; FR2872160B1; CN1760192A

Abstract

본 발명은 하기식 (1) 염료1-LK-염료2의 양이온성 디아조 화합물에 관한 것이다

상기 식 중 염료1 및 염료2는 식 1의 화합물이 대칭이 되지 않도록 하는 것으로서, 다음과 같다:

염료1:

염료2:

상기 식 중,

W₁, W₆: -NR₁, -O-;

W'₁, W'₆: -NR'₁R'₂, -OR'₃;

W₂, W₅, W'₂, W'₅: 하기식 (a) 내지 (c)의 기;

W₃, W₄: 양이온성 헤테로사이클 라디칼; 비치환된 이미다졸리엄 고리 이외에 하나 이상

LK: 하나 이상의 헤테로 원자 또는 하나 이상의 헤테로 원자를 포함하는 기가 임의 개입된, 포화 또는 불포화, 선형 또는 분지형, 고리 또는 비고리, 방향족 또는 비방향족, 임의 치환된 C₂-C₄₀탄화수소-기재 사슬.

본 발명은 또한 상기 화합물을 직접 염료로 포함하는 염료 조성물과, 또한 본 조성물 및 다중 구획 장치를 사용한 케라틴 섬유 염색 방법에 관한 것이다.

Description

양이온성 디아조 화합물, 이를 직접 염료로 함유하는 조성물, 케라틴 섬유의 염색 방법 및 이를 위한 장치{CATIONIC DIAZO COMPOUNDS, COMPOSITIONS COMPRISING THEM AS DIRECT DYE, PROCESS FOR DYEING KERATIN FIBRES AND DEVICE THEREFOR}

본 발명은, 양이온성 디아조 화합물 또는 특정 식, 이들 화합물을 케라틴 섬유 염색에 적절한 매질 내에 직접 염료로 함유하는 염색 조성물, 및 이러한 조성물을 사용하는 케라틴 섬유의 염색 방법 및 다중 구획 장치에 관련된다.

특히 모발과 같은 인간 케라틴 섬유를 직접 염료 함유 조성물로 케라틴 섬유를 염색하는 것은 공지이다. 이들 화합물은 착색된 것으로 착색 분자는 섬유에 대한 친화성을 가지는 것이다. 일례로, 니트로벤젠 타입, 안트라퀴논 염료, 니트로피리딘 및 아조, 잔텐, 아크리딘, 아진 또는 트리아릴메탄 타입 염료의 직접 염료를 사용하는 것은 공지이다.

이들 염료는, 섬유에 보통 적용되며, 섬유의 동시 탈색을 도모하고자 하는 경우에는, 산화제의 존재하에서 임의로 적용된다. 유지 시간 (LEAVE-IN TIME)이 경과한 후, 섬유를 린스하고 임의로는 세정 및 건조한다.

직접 염료의 사용에 의한 착색은 일시 또는 반영구적 착색인데, 이는 직접 염료가 케라틴 섬유에 결합하는 상호 작용의 성질, 및 섬유의 표면 및/또는 핵으로부터의 이들의 분리가, 세정 또는 발한에 대한 이들의 상대적으로 열악한 내성 및 이들의 열악한 염색능의 원인이기 때문이다.

특정 색을 얻기 위한 사실과 맞물려 추가의 문제가 또 발생하는데, 이는 전부는 아니더라도 대부분의 경우에서 수개의 염료를 함께 혼합하는 것이 필수라는 것이다. 그러나, 각 염료는 섬유에 대해 동일한 친화성을 가지지 않으며, 이는, 비균질 착색 또는 일례로 수회의 섬유 세척, 일광에 노출 등 시간에 걸쳐 색이 변함에 의해 나타난다.

본 발명의 목적은, 존재하는 직접 염료의 문제를 가지지 않는 직접 염료를 제공하는 것이다.

특히, 본 발명의 한 목적은, 시간에 걸친 색 변화의 문제 없이 다양한 색조를 수득할 수 있는 직접 염료를 제공하는 것이다.

이들 목적 및 기타의 것들은 본 발명에 의해 달성되며, 이중 하나의 주제는, 하기식 1의 양이온성 디아조 화합물 또는 이의 산부가염이다:

[식 1]

염료1-LK-염료2:

염료1:

염료2:

상기 식 중,

W₁ 및 W₆은, 상호 독립적으로, -NR₁-또는 -O- 기를 나타내며, 여기에서, R₁은, 수소 원자 또는 포화 또는 불포화, 방향족 또는 비방향족의, 임의 치환된 C₁-C₂₀, 바람직하게는 C₁-C₁₆ 탄화수소 기재 쇄로, 이는, 임의로는 바람직하게는 산소 및 질소에서 선택되는 하나 이상의 헤테로 원자 또는 헤테로 원자 하나 이상을 가지는 기 하나 이상이 중간에 삽입된, 하나 이상 임의 치환된 3- 내지 7-원 탄소기재 고리를 형성할 수 있고;

W'₁및 W'₆는 상호 독립적으로, -NR'₁R'₂ 또는 -OR'₃기를 나타내고, 여기에서 R'₁, R'₂, 및 R'₃은, 상호 독립적으로, 수소 원자 또는 포화 또는 불포화, 방향족 또는 비방향족의, 임의 치환된 C₁-C₂₀, 바람직하게는 C₁-C₁₆ 탄화수소 기재 쇄로, 이는, 임의로는 바람직하게는 산소 및 질소에서 선택되는 하나 이상의 헤테로 원자 또는 헤테로 원자 하나 이상을 가지는 기 하나 이상이 중간에 삽입된, 하나 이상으로 임의 치환된 3- 내지 7-원 탄소기재 고리를 형성할 수 있고; R'₁및 R'₂는, 이들이 연결된 질소 원자와 함께, 다른 질소 및 비질소 헤테로 원자를 임의로 함유한, 5- 내지 7-원의 임의 치환된 헤테로고리를 형성할 수 있고;

W₁및 W₆에서 유도된 R₁라디칼은 함께 또는 각각, 각각이 연결된 질소 원자 또는 LK 기의 전부 또는 일부와 함께, 포화 또는 불포화, 방향족 또는 비방향족의 5- 내지 7-원의 임의 치환된 헤테로고리를 임의로 형성할 수 있고;

W₁'및 W₆'에서 유도된 R'₁, R'₂, 및 R'₃ 라디칼은, 함께 또는 별도로, 각각이 연결된 질소 또는 산소 원자 또는 LK 기의 전부 또는 일부와 함께, 포화 또는 불포화, 방향족 또는 비방향족의 5- 내지 7-원의 임의 치환된 헤테로고리를 형성할 수 있고;

W₂, W₅, W'₂, 및 W'₅는 상호 독립적으로 하기식 (a) 내지 (c)의 기를 나타내며;

상기 식들 중;

- X₁는 질소 원자 또는 CR₇기를 나타내며;

- X₂는 질소 원자 또는 CR₈기를 나타내며;

- Z₁는 질소 원자 또는 CR₁₀기를 나타내며;

- Z₂는 질소 원자 또는 CR₁₁기를 나타내며;

- R₄,R₅, R₆, R'₆,R₇, R₈, R₁₀, 및R₁₁ 은 상호 독립적으로 다음과 같고:

선형 또는 분지쇄, 포화 또는 불포화, 방향족 또는 비방향족의, 임의 치환된 C₁-C₁₆ 탄화수소 기재 쇄로, 이는, 임의로는 바람직하게는 산소 및 질소에서 선택되는 하나 이상의 헤테로 원자 또는 헤테로 원자 하나 이상을 가지는 기 하나 이상이 중간에 삽입된, 하나 이상 임의 치환된 3- 내지 6-원 탄소기재 고리를 형성할 수 있고;

히드록시기,

C₁-C₄알콕시기, C₂-C₄(폴리)히드록시알콕시기; 알콕시카보닐기 (RO-CO-; R 은 C₁-C₄알킬기임) 또는 알킬카보닐옥시 라디칼 (RCO-O-; R은 C₁-C₄알킬기임)이고;

ㆍ 아미노기, 동일 또는 상이할 수 있는 하나 이상의 C₁-C₄ 알킬 라디칼로 치환되고, 하나 이상의 히드록실기를 임의로 갖는 아미노기 (상기 2 개의 알킬 라디칼은 가능하게는, 이들이 결합되는 질소 원자와 함께, 다른 질소 또는 비-질소 헤테로 원자를 임의로 갖는 5- 또는 6-원 헤테로사이클을 형성함); 알킬카르보닐아미노기 (RCO-NR-) (식중, 라디칼 R 은 서로 독립적으로 C₁-C₄ 알킬 라디칼을 나타냄); 카르바모일기 ((R)₂N-CO) (식중, 라디칼 R 은 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C₁-C₄ 알킬 라디칼을 나타냄); 우레이도기 (N(R)₂-CO-NR'-) (식중, 라디칼 R 및 R' 는 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C₁-C₄ 알킬 라디칼을 나타냄); 술폰아미드기 ((R)₂N-SO₂-) (식중, 라디칼 R 은 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C₁-C₄ 알킬 라디칼을 나타냄); 알킬술포닐아미노기 (RSO₂-NR'-) (식중, 라디칼 R 및 R' 는 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C₁-C₄ 알킬 라디칼을 나타냄); 구아니디늄기 ((R')₂N-C(=NH₂ ⁺)-NR-) (식중, 라디칼 R 및 R' 는 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C₁-C₄ 알킬 라디칼을 나타냄);

ㆍ 니트로기; 시아노기; 할로겐 원자, 바람직하게는 염소 또는 불소;

ㆍ R₄, R₅, R₇, R₈, R₁₀ 및 R₁₁ 은 수소 원자를 나타낼 수 있고;

ㆍ R₄, R₅, R₆, R'₆, R₇, R₈, R₁₀ 및 R₁₁ 은 서로 독립적으로, 한편으로는 기 W'₁ 또는 W'₆ 의 전부 또는 일부와 함께, 다른 한편으로는 기 W₁ 또는 W₆ 의 전부 또는 일부와 함께, 포화 또는 불포화, 방향족 또는 비-방향족의, 임의 치환된 5- 내지 7-원 헤테로사이클을 형성할 수 있고;

ㆍ W'₂ 와 W'₁ 또는 기 LK 사이의 결합, 또는 W'₅ 와 W'₆ 또는 기 LK 사이의 결합;

ㆍ a 는 W₂, W₅, W'₂ 또는 W'₅ 와 아조기 -N=N- 사이의 결합을 나타내고;

ㆍ b 는 W₂ 와 W₁, W₅ 와 W₆, W'₂ 와 W'₁ 또는 기 LK, 또는 W'₅ 와 W'₆ 또는 기 LK 사이의 결합을 나타내고;

- R₉ 는 하기를 나타내고;

ㆍ 수소 원자,

ㆍ 하나 이상의 임의 치환된 3- 내지 7-원 탄소-기재 고리를 형성할 수 있는 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화, 방향족 또는 비-방향족의, 임의 치환된 C₁-C₁₆ 탄화수소-기재 사슬,

- n 및 n' 는 정수를 나타내고, 이들의 합은 6 이하이고; n 과 n' 의 합이 6 미만이면, 각각의 분리 치환기는 수소 원자임에 유의해야 하고;

W ₃ 및 W ₄ 는 서로 독립적으로, 하기 화학식 (1) 내지 (11) 중 하나로 표시되는 양이온성 헤테로방향족 라디칼을 나타내고:

(식중,

- 동일 또는 상이할 수 있으며, 주 고리를 치환시키는 R'₄ 는 하기를 나타내고:

ㆍ 하나 이상의 헤테로 원자 또는 바람직하게는 산소 및 질소에서 선택되는 하나 이상의 헤테로 원자를 갖는 하나 이상의 기에 의해 임의로 간섭된 하나 이상의 3- 내지 6-원 탄소-기재 고리를 형성할 수 있는 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화, 방향족 또는 비-방향족의, 임의 치환된 C₁-C₁₆ 탄화수소-기재 사슬;

ㆍ 히드록실기,

ㆍ C₁-C₄ 알콕시기, C₂-C₄ (폴리)히드록시알콕시기; 알콕시카르보닐기 (RO-CO-) (식중, R 은 C₁-C₄ 알킬 라디칼을 나타냄), 또는 알킬카르보닐옥시 라디칼 (RCO-O-) (식중, R 은 C₁-C₄ 알킬 라디칼을 나타냄);

ㆍ 아미노기, 하나 이상의 C₁-C₄ 알킬 라디칼로 치환되고, 서로 독립적으로 하나 이상의 히드록실기를 임의로 갖는 아미노기 (상기 2 개의 알킬 라디칼은 가능하게는, 이들이 결합되는 질소 원자와 함께, 다른 질소 또는 비-질소 헤테로 원자를 임의로 갖는 5- 또는 6-원 헤테로사이클을 형성함); 알킬카르보닐아미노기 (RCO-NR'-) (식중, 라디칼 R 은 C₁-C₄ 알킬 라디칼을 나타내고, 라디칼 R' 는 수소 또는 C₁-C₄ 알킬 라디칼을 나타냄); 카르바모일기 ((R)₂N-CO-) (식중, 라디칼 R 은 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C₁-C₄ 알킬 라디칼을 나타냄); 우레이도기 (N(R)₂-CO-NR'-) (식중, 라디칼 R 및 R' 는 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C₁-C₄ 알킬 라디칼을 나타냄); 술폰아미드기 ((R)₂N-SO₂-) (식중, 라디칼 R 은 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C₁-C₄ 알킬 라디칼을 나타냄); 알킬술포닐아미노기 (RSO₂-NR'-) (식 중, 라디칼 R 및 R' 는 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C₁-C₄ 알킬 라디칼을 나타냄); 구아니디늄기 ((R')₂N-C(=NH₂ ⁺)-NR-) (식중, 라디칼 R 및 R' 는 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C₁-C₄ 알킬 라디칼을 나타냄);

ㆍ 주 고리의 2 개의 인접한 탄소 원자가 갖는 2 개의 라디칼 R'₄ 는 하나 이상의 수소; 하나 이상의 히드록실기; 하나 이상의 C₁-C₄ 알킬 라디칼; 하나 이상의 C₁-C₄ 알콕시 라디칼; 하나 이상의 C₂-C₄(폴리)히드록시알콕시 라디칼; 하나 이상의 아미노 라디칼; 동일 또는 상이할 수 있는 하나 이상의 C₁-C₄ 알킬 라디칼로 치환되고 하나 이상의 히드록실기를 임의로 갖는 하나 이상의 아미노 라디칼로 임의 치환된 방향족 또는 비-방향족의, 5- 또는 6-원 2 차 고리를 임의로 형성할 수 있고; 바람직하게는, 상기 2 차 고리는 상기 나타낸 바와 같이 임의 치환된 6-원 방향족 고리이고;

- 4 차화 질소 원자가 갖는 R'₅ 는 하나 이상의 헤테로 원자 또는 바람직하게는 산소, 질소 및 황에서 선택되는 하나 이상의 헤테로 원자를 갖는 하나 이상의 기에 의해 임의로 간섭된, 임의 치환된 3- 내지 7-원 탄소-기재 고리를 형성할 수 있는 선형 또는 분지형, 포화 또는 불포화, 방향족 또는 비-방향족의, 임의 치환된 C₁-C₁₆ 탄화수소-기재 사슬을 나타내고; 상기 라디칼 R'₅ 는 4 차화 질소 원자에 직 접 결합된 원자가 탄소 원자이도록 하고;

- R'₇ 은 임의 치환된 C₁-C₄ 알킬 라디칼; 임의 치환된 페닐 라디칼; 임의 치환된 벤질 라디칼을 나타내고;

- 결합 c 는 화학식 (1) 내지 (11) 에 의해 정의되는 양이온성 라디칼을 아조기에 연결시키고; 상기 결합은 주 고리 또는 2 차 고리상에 있을 수 있고; 바람직하게는, 아조기를 갖는 결합 c 는 주 고리상에 있고;

- p 는 0 내지 4 범위의 정수이고, p' 는 0 내지 2 범위의 정수이고, p" 는 0 내지 3 의 정수이고; 주요 고리가 치환기의 최고수를 가지지 않는 경우, 비치환 부분(들)이 질소 원자를 갖는다는 점에 유의하여야 하고; W₃ 및 W₄의 두 기중 하나 이상은 불포화 이미다졸륨기를 나타내지 않으며;

LK 는 하나 이상의 헤테로 원자 또는 하나 이상의 헤테로 원자, 바람직하게는 산소 또는 질소를 포함하는 기가 임의 개입된, 포화 또는 불포화, 선형 또는 분지형, 환상 또는 비환상, 방향족 또는 비방향족, 임의 치환된 C₂-C₄₀, 바람직하게는 C₂-C₂₀탄화수소-기재 사슬을 나타내고, 상기 LK 기는 니트로, 니트로소 또는 퍼옥소 기 또는 결합을 포함하지 않으며; LK 가 W'₂또는 W'₅ 에 연결되면, LK 는 헤테로 원자 또는 하나 이상의 헤테로 원자, 바람직하게는 산소 또는 질소를 갖는 기를 갖는 말단일 수 있으며; LK 가 W₆ 또는 W₁ 에 연결되면, LK 는 -CO- 및 -SO₂- 에서 선택된 하나 이상의 헤테로 원자를 갖는 기를 갖는 말단일 수 있으며;

상기 화합물의 전기적 중립은 하나 이상의 상업적으로 입수가능한 음이온 An 에 의해 보장된다.

본 발명의 주제는 또한 케라틴 섬유의 염색용으로 적절한 매질 중에 직접 염료로서 상기 화합물 또는 산에 의한 그의 산부가염을 함유하는 염료 조성물이다.

본 발명은 또한 원하는 효과를 수득하기에 충분한 시간동안, 상기 조성물이 상기 젖거나 건조한 섬유와 접촉하도록 두는 것으로 이루어지는, 케라틴 섬유의 염색 방법에 관한 것이다.

마지막으로, 본 발명은 제 1 구획 중에 본 발명에 따른 조성물, 및 제 2 구획 중에 산화용 조성물을 포함하는 다중 구획 장치에 관한 것이다.

상기 정의된 바와 같은 화학식 염료1-LK-염료2 의 화합물이 특히 샴푸와 같은 외용제에 대하여, 케라틴 섬유가 민감한 경우에서조차 양호한 고착력을 나타낸다는 것을 발견하였다.

또한, 비대칭 (dissymmetrical) 화합물인 상기 화합물이 대칭성 화합물에서 수득되는 것보다 못한 색상을 갖는 색채에 가깝다.

그러나, 본원의 상세한 설명 및 실시예를 읽는 동안 본 발명의 다른 특징 및 장점은 더욱 명백하게 드러날 것이다.

이하의 본문에서, 달리 지적되지 않는 한, 수치의 범위를 정하는 한계는 그 범위에 속하는 것이다.

더욱이, 염료1 및 염료2 는 화학식 (I) 의 화합물이 대칭성이 아닌 그러한 화합물이고; 다르게 말하면, 화학식 (I) 에서 LK 를 통한 대칭의 축 또는 면이 없 고, 상기 대칭의 축 또는 면은 LK 의 주쇄와 일치하거나, 그와 수직이다.

본 발명의 목적을 위하여는, 달리 지적되지 않는 한, 하기와 같다:

- 알킬 라디칼은 선형 또는 비선형이고;

- 알킬 라디칼 또는 라디칼의 알킬 부분은 하기 기로부터 선택된 하나 이상의 치환기를 포함하는 경우에 치환되며:

ㆍ 히드록실,

ㆍ C₁-C₄ 알콕시, C₂-C₄ (폴리)히드록시알콕시,

ㆍ 동일 또는 상이할 수 있으며, 하나 이상의 히드록실기를 임의로 갖는, 아미노, 하나 이상의 C₁-C₄ 알킬로 치환된 아미노, 상기 알킬기는 이들에 부착된 질소와 함께, 하나 이상의 다른 질소 또는 비질소 헤테로 원자를 임의 함유하는 5원 또는 6원 헤테로고리를 형성할 수 있음;

- 아릴 또는 헤테로아릴 라디칼 또는 아릴 또는 헤테로아릴 부분은 하기로부터 선택된 탄소 원자를 갖는 하나 이상의 치환기를 포함하는 경우에 치환되며:

ㆍ 하나 이상의 히드록실기를 임의로 갖는, 히드록실, C1-C2 알콕시, C2-C4 (폴리)히드록시알콕시, 아실아미노, 2 개의 동일 또는 상이한 C₁-C₄ 알킬 라디칼로 치환된 아미노로부터 선택된 하나 이상의 라디칼로 임의 치환된, C₁-C₁₆, 바람직하게는 C₁-C₈ 알킬 라디칼, 또는 상기 2 개의 라디칼은 이들에 부착된 질소와 함께, 하나 이상의 다른 질소 또는 비질소 헤테로 원자를 임의 함유하는, 5원 내지 7원, 바람직하게는 5원 또는 6원 헤테로고리를 형성할 수 있음;

ㆍ 염소, 불소 또는 브롬과 같은 할로겐 원자;

ㆍ 히드록실기;

ㆍ C₁-C₂ 알콕시 라디칼; C₂-C₄ (폴리)히드록시알콕시 라디칼;

ㆍ 아미노 라디칼; 하나 이상의 히드록실기를 임의로 갖는, 2 개의 동일 또는 상이한 C₁-C₄ 알킬 라디칼로 치환된 아미노, 또는 2 개의 임의 치환된 C₁-C₂ 알킬 라디칼로 치환된 아미노;

ㆍ 아실아미노 라디칼 (-NR-COR') [식 중, 라디칼 R 은 수소 원자, 하나 이상의 히드록실기를 임의로 갖는 C₁-C₄ 알킬 라디칼이고, 라디칼 R' 는 C₁-C₂ 알킬 라디칼임]; 카르바모일 라디칼 ((R)₂N-CO-) [식 중, 동일 또는 상이할 수 있는 라디칼 R 은 수소 원자, 또는 하나 이상의 히드록실기를 임의로 갖는 C₁-C₄ 알킬 라디칼임]; 알킬술포닐아미노 라디칼 (R'SO₂-NR-) [식 중, 라디칼 R 은 수소 원자, 또는 하나 이상의 히드록실기를 임의로 갖는 C₁-C₄ 알킬 라디칼이고, 라디칼 R' 는 C₁-C₄ 알킬 라디칼 또는 페닐 라디칼을 나타냄]; 아미노술포닐 라디칼 ((R)₂N-SO₂-) [식 중, 동일 또는 상이할 수 있는 라디칼 R 은 수소 원자, 또는 하나 이상의 히드록실기를 임의로 갖는 C₁-C₄ 알킬 라디칼을 나타냄];

- 비방향족 라디칼의 고리 또는 헤테로고리 부분은 하기 기로부터 선택되는, 탄소 원자를 갖는 하나 이상의 치환기를 포함하는 경우에 치환되며:

ㆍ 히드록실,

ㆍ C₁-C₄ 알콕시, C₂-C₄ (폴리)히드록시알콕시,

ㆍ 알킬카르보닐아미노((RCO-NR'-) [식 중, 라디칼 R' 는 수소 원자, 또는 하나 이상의 히드록실기를 임의로 갖는 C₁-C₄ 알킬 라디칼이고, 라디칼 R 은 하나 이상의 히드록실기를 임의로 갖는, 동일 또는 상이한 C₁-C₄ 알킬로 치환된 C₁-C₂ 알킬 라디칼, 아미노 라디칼, 상기 알킬 라디칼은 이들에 부착된 질소와 함께, 하나 이상의 다른 질소 또는 비질소 헤테로 원자를 임의 함유하는 5원 또는 6원 헤테로고리를 형성할 수 있음.

앞서 지적한 바와 같이, 본 발명의 제 1 주제는 상기 화학식 (I) 에 대응하는 화합물로 이루어진다.

보다 상세하게는, 화학식 (I) 염료1-LK-염료2 의 화합물은 라디칼 R₁, R'₁, R'₂및 R'₃ 이 서로 독립적으로 하기를 나타내는 그러한 화합물이다:

- 수소 원자;

- 임의 치환된 C₁-C₆ 알킬 라디칼;

- 페닐 또는 벤질과 같은 아릴 또는 아릴알킬 라디칼, 상기 아릴 부분은 임의 치환됨;

- W₁ 및 W₆ 로부터 유도된 라디칼 R₁ 은 함께 또는 별도로 LK 기의 전체 또는 부분 및 이들에 부착된 질소와 함께, 포화 또는 불포화, 방향족 또는 비방향족의 임의 치환된 5원 내지 7원 헤테로고리를 형성할 수 있음;

- W'₁ 및 W'₆ 로부터 유도된 라디칼 R'₁, R'₂또는 R'₃ 은 함께 또는 별도로 LK 기의 전체 또는 부분 및 이들에 부착된 질소와 함께, 포화 또는 불포화, 방향족 또는 비방향족의 임의 치환된 5원 내지 7원 헤테로고리를 형성할 수 있음.

본 발명의 바람직한 구현예에 따르면, 라디칼 R₁, R'₁, R'₂ 및 R'₃ 은, 동일하또는 상이할 수 있으며, 하기를 나타낸다:

- 수소 원자;

- 메틸, 에틸, 2-히드록시에틸 또는 2-메톡시에틸과 같은, 치환될 수 있는 C₁-C₃ 알킬 라디칼;

- 히드록시, C₁-C₂ 알콕시 및 아미노 라디칼로부터 선택되는 하나 이상의 라디칼로 치환될 수 있는 페닐 라디칼, 또는 하나 이상의 히드록시 기를 가지는, 하나 이상의 C₁-C₄ 기로 치환된 아미노 라디칼;

- R₁ 라디칼은 W₁ 내지 W₆ 으로부터 유래하고, 반면, R'₁, R'₂ 및 R'₃ 라디칼은 W'₁ 내지 W'₆ 으로부터 유래하며, 각각 LK 기에 부착되어 있고, 그 전부 또는 부분을 이루는 R₃ 에 있어서의 질소 및 산소 원자와 함께, 하나 이상의 메틸, 히드록시, 아미노 또는 (디)메틸아미노 라디칼로 치환될 수 있는, 피롤리딘, 피페리딘, 피페라진 또는 호모피페라진 형태의 5원 내지 7원 헤테로고리를 형성할 수 있다.

본 발명의 더욱 바람직한 변형에 따르면, 라디칼 R₁, R'₁, R'₂ 및 R'₃ 은, 동일 또는 상이할 수 있으며, 하기를 나타낸다:

- 수소 원자;

- 메틸, 에틸 또는 2-히드록시에틸 라디칼;

- 히드록시, 메톡시, 아미노, (디)메틸아미노 또는 (디)(2-히드록시에틸)아미노 라디칼로 치환될 수 있는 페닐 라디칼;

- R'₁ 라디칼은 W₁ 내지 W₆ 으로부터 유래하고, 반면, R'₁, R'₂ 및 R'₃ 라디칼은 W'₁ 내지 W'₆ 으로부터 유래하며, 각각 LK 기에 부착되어 있고, 그 전부 또는 부분을 이루는 R₃ 에 있어서의 질소 및 산소 원자와 함께, 피롤리딘, 3-히드록시피롤리딘, 3-디메틸아미노피롤리딘, 피페리딘, 2-(2-히드록시에틸피페리딘), 4-(아미노메틸)피페리딘, 4-(2-히드록시에틸)피페리딘, 4-(디메틸아미노)피페리딘, 피페라진, 1-메틸피페라진, 1-(2-히드록시에틸)피페라진, 1-(2-아미노에틸)피페라진, 1-히드록시에틸에톡시피페라진, 호모피페라진 또는 1-메틸-1,4-퍼하이드로디아제핀과같은 5원 내지 7원 헤테로고리를 형성할 수 있다.

라디칼 R₄, R₅, R₆, R'₆, R₇, R₈, R₁₀ 및 R₁₁ 에 관하여는, 상기 라디칼들은 동일 또는 상이할 수 있으며, 더욱 특히 하기를 나타낸다:

- R₄, R₅, R₇, R₈, R₁₀ 및 R₁₁ 에 있어서 수소 원자;

- 치환될 수 있는 C₁-C₁₆, 바람직하게는 C₁-C₈ 알킬 라디칼;

- 염소, 불소 또는 브롬과 같은 할로겐 원자;

- 히드록시 기;

- C₁-C₂ 알콕시 라디칼; C₂-C₄ (폴리)히드록시알콕시 라디칼;

- 아미노 라디칼; 하나 또는 둘의 C₁-C₄ 알킬 라디칼로 치환된 아미노 라디칼, 이는 동일 또는 상이할 수 있으며, 하나 이상의 히드록시 또는 C₁-C₄ 디알킬아미노기를 가질수 있음;

- 알킬카르보닐아미노 라디칼 (RCO-NR'-) [식 중, 라디칼 R 은 C₁-C₄ 알킬 라디칼을 나타내고, 라디칼 R' 는 수소 또는 C₁-C₄ 알킬 라디칼을 나타냄]; 카르바모일 라디칼 ((R)₂N-CO-) [식 중, 라디칼 R 은, 동일 또는 상이할 수 있으며, 수소 원자 또는 하나 이상의 히드록시 기를 가질 수 있는 C₁-C₄ 알킬을 나타냄]; 알킬술포닐아미노 라디칼 (R'SO₂-NR-) [식 중, 라디칼 R 은 수소 원자 또는 하나 이상이 히드록시 기를 가질 수 있는 C₁-C₄ 알킬 라디칼을 나타내며, 라디칼 R' 는 C₁-C₄ 알킬 라디칼을 나타냄]; 아미노술포닐 라디칼 ((R)₂N-SO₂-) [식 중, 라디칼 R 은, 동일 또는 상이할 수 있으며, 수소 원자 또는 하나 이상의 히드록시 기를 가질 수 있는 C₁-C₄ 알킬 라디칼을 나타냄];

- W'₂ 내지 W'₁ 또는 LK 기, 또는 W'₅ 내지 W'₆ 또는 LK 기의 결합.

더욱 특히, 상기 라디칼들은, 동일 또는 상이할 수 있으며 하기를 나타낸다:

- R₄, R₅, R₇, R₈, R₁₀ 및 R₁₁ 에 대하여 수소 원자;

- 히드록시 및 아실아미노 라디칼로부터 선택되는 하나 이상의 라디칼로 치환될 수 있는 C₁-C₄ 알킬 라디칼, 또는 하나 이상의 히드록시 기를 가질 수 있는 동일 또는 상이한 두개의 C₁-C₂ 알킬 라디칼로 치환된 아미노 라디칼, 또는 C₁-C₂ 알콕시 라디칼;

- 아미노 라디칼; 하나 이상의 히드록시 기를 가질 수 있는, 하나 이상의 동일 또는 상이한 C₁-C₂ 알킬 라디칼로 치환된 아미노 라디칼; 아실아미노 라디칼; 카르바모일 라디칼; 술포닐아미노 라디칼;

- 히드록시 라디칼; C₁-C₂ 알콕시 라디칼;

본 발명의 바람직한 변형에 따르면, 라디칼 R₄, R₅, R₆, R'₆, R₇, R₈, R₁₀ 및 R₁₁ 은, 각각 독립적으로, 하기를 나타낸다:

- R₄, R₅, R₇, R₈, R₁₀ 및 R₁₁ 에 대하여 수소 원자

- 메틸, 에틸, 프로필, 2-히드록시에틸, 메톡시, 에톡시, 2-히드록시에틸옥시, 3-히드록시프로필옥시 또는 2-메톡시에틸 라디칼;

- 술포닐아미노 라디칼; 아미노, 메틸아미노, 디메틸아미노, 2-히드록시에 틸아미노, 3-히드록시프로필아미노 또는 아실아미노 라디칼; 히드록시 라디칼;

- 염소 원자;

라디칼 R₉ 에 관하여는, 이는 수소 원자 또는 C₁-C₁₅ 알킬 라디칼; C₂-C₆ 모노히드록시알킬 라디칼; C₂-C₆-폴리히드록시알킬 라디칼; (C₁-C₆)알콕시(C₂-C₆)알킬 라디칼; 페닐과 같은, 치환될 수 있는 아릴 라디칼; 벤질과 같은, 치환될 수 있는 아릴알킬 라디칼; C₂-C₆ 아미도알킬 라디칼; C₂-C₆ 아미노알킬 라디칼, 두개의 동일 또는 상이한, 치환될 수 있는 C₁-C₄ 알킬 라디칼로 치환된 아민을 나타낸다. 게다가, R₉ 는 질소 원자에 직접적으로 결합되어 있는 원자가 탄소 원자이다.

바람직하게는, R₉ 는 수소 원자, C₁-C₆ 알킬 라디칼 또는 C₂-C₆ 모노히드록시알킬 라디칼; C₂-C₆ 폴리히드록시알킬 라디칼; (C₁-C₆)알콕시(C₂-C₆)알킬 라디칼; 하나 이상의 염소 원자, 히드록시 기, RCO-NH- [식 중, R 은 C₁-C₄ 알킬 라디칼을 나타냄] 또는 두개의 동일 또는 상이한 C₁-C₄ 알킬 라디칼로 치환된 아미노 라디칼로 치환되어 있는 페닐 라디칼; 벤질 라디칼; C₁-C₆ 아미노알킬 라디칼; C₁-C₆ 아미노알킬 라디칼 [식 중, 아민은 두개의 동일 또는 상이한 C₁-C₄ 알킬 라디칼로 치환되어 있음] 을 나타낸다.

본 발명의 하나의 특정 변형에 의하면, W₂, W₅ 및 W'₅ 는, 각각 독립적으로, 화학식 (a) 또는 (c) 의 기를 나타낸다.

상기 변형에 따르면, X₁ 은 바람직하게는 CR₇ 기를 나타낸다.

바람직하게는, 상기 변형에 따르면, X₂ 는 라디칼 CR₈ 을 나타낸다.

R₄, R₅, R₆, R'₆, R₇ 및 R₈ 은, 각각 독립적으로, 상기와 동일한 의미를 가진다.

W₃ 및 W₄ 기에 관해서는, 상기 기들은, 각각 독립적으로, 더욱 특히 하기 화학식 (1) 내지 (3) 의 헤테로고리를 나타낸다:

[화학식 (1)]

[화학식 (2)]

[화학식 (3)]

[식 중, R'₄, R'₅, R'₇, p, p' 및 a 는 상기 정의되었음].

바람직하게는, R'₅ 및 R'₇ 는 수소를 제외하고, R₉ 와 동일한 의미를 가진다.

또한, 두 개의 기 W₃ 또는 W₄ 중 하나 이상은 비치환 이미다졸륨기를 나타내지 않는다.

본 발명의 하나의 바람직한 구현예에 따르면, 상기 방향족 헤테로고리기는 2-이미다졸륨, 2-벤즈이미다졸륨, 2-피리디늄, 3-피리디늄, 4-피리디늄, 2-퀴놀리늄, 4-퀴놀리늄, 3-피라졸륨, 4-피라졸륨, 3-인다졸륨, 4-인다졸륨, 5-인다졸륨, 6-인다졸륨 및 7-인다졸륨으로부터 선택되고; 두 개의 기 W₃ 또는 W₄ 중 하나 이상 은 비치환 이미다졸륨기를 나타내지 않는다.

본 발명의 더욱 더 특별한 구현예에 따르면, 각각 독립적으로 수득되는 W₃ 및 W₄기는 2-이미다졸륨, 2-피리디늄, 3-피리디늄, 4-피리디늄, 2-퀴놀리늄, 4-퀴놀리늄, 3-피라졸륨, 4-피라졸륨, 3-인다졸륨, 4-인다졸륨 및 7-인다졸륨으로부터 선택되는 방향족 헤테로고리를 나타내고; 두 개의 기 W₃ 또는 W₄ 중 하나 이상은 비치환 이미다졸륨기를 나타내지 않는다.

화학식 (I) 에서, LK 는 양이온 전하를 갖지 않는다.

보다 상세하게는, LK 는 직쇄, 분지쇄 또는 고리형, 방향족 또는 비방향족 C₂-C₂₀ 알킬사슬을 갖고:

- 하나 이상의 헤테로 원자 및/또는 하나 이상의 헤테로 원자를 포함하는 기, 예를 들어 -O-, -NR’-, -CO- 또는 -SO₂-, 또는 하나 이상의 질소 원자를 포함하는 5- 또는 6-원 헤테로고리로 임의적으로 단절되고; 단, LK 기에는 니트로, 니트로소 또는 페록소기 또는 결합이 없고;

- 만약, LK 가 W'₂ 또는 W'₅에 연결된다면, 헤테로 원자, 또는 하나 이상의 헤테로 원자, 바람직하게는 산소 또는 질소를 갖는 기로 임의적으로 종결되고;

- 만약, LK 가 W₆ 또는 W₁에 연결된다면, -CO- 및 -SO₂- 으로부터 선택되는 하나 이상의 헤테로 원자를 갖는 기로 임의적으로 종결되고;

- 히드록실, C₁-C₂ 알콕시, C₂-C₄ (폴리)히드록시알콕시, 하나 이상의 히드록 실기를 임의적으로 갖는 하나 이상의 직쇄 또는 분지쇄 C₁-C₂ 알킬기로 치환된 아미노로부터 선택되는 하나 이상의 라디칼로 임의적으로 치환된다.

바람직하게는, LK 는 히드록실, 하나 이상의 히드록실기를 임의적으로 갖는 하나 이상의 직쇄 또는 분지쇄 C₁-C₄ 알킬기로 치환된 아미노로 임의적으로 치환된 직쇄 또는 분지쇄 C₂-C₂₀알킬 사슬을 나타낸다. 또한, LK 가 W'₂ 또는 W'₆에 연결되었을 때, LK 는 하나 이상의 헤테로 원자 또는 하나 이상의 헤테로 원자를 포함하는 기, 예를 들어 -O-, -NR’-, -CO- 또는 -SO₂-로 임의적으로 종결될 수 있다.

본 발명의 또 다른 특별한 구현예에 따르면, LK 는 히드록실, C₁-C₂ 알콕시 및 C₁-C₂ (디)알킬아미노 라디칼로부터 선택되는 하나 이상의 라디칼, 또는 헤테로고리로 임의적으로 치환된, C₂-C₈ 직쇄 또는 분지쇄 알킬 사슬을 나타낸다. 또한, LK 가 W'₂ 또는 W'₅에 연결되었을 때, LK 는 하나 이상의 헤테로 원자 또는 하나 이상의 헤테로 원자를 포함하는 기, 예를 들어 -O-, -NR’-, -CO- 또는 -SO₂- 로 임의적으로 종결될 수 있다.

본 발명의 하나의 바람직한 구현예에 따르면, 화합물, 또는 산을 갖는 이의 추가염은 하기 화학식에 해당한다:

상기에서 화학식 R₁, R₄, R₅, R'₄, R'₅, R'₇, W'₆, p 및 p'는, 동일하거나 상이할 수 있으며, 상기와 동일한 정의를 가진다;

- r 은 1 내지 10, 바람직하게 1 내지 5 의 정수이며;

- v' 은 1 또는 2 와 동일한 정수이며;

- T 는 탄소 원자 또는 질소 원자이며;

- v" 는 1, 2 또는 3 과 동일한 정수이며;

- 하나 이상의 화장용으로 허용가능한 음이온 An 의 존재와 관련된 분자의 전기적 중성.

화합물이 예를 들어, 클로라이드 또는 브로마이드 같은 할라이드; 히드록시 드; 설페이트; 히드로겐 설페이트; 카르보네이트, 히드로겐 카르보네이트; 퍼클로레이트; 카르복실산 염, 예를 들어, 아세테이트 ; 시트레이트; 타르트레이트; 예를들어 메토설페이트 또는 에토설페이트 이온 같이, 선형 또는 분지형 알킬 부분이 C₁-C₆인 알킬 설페이트; 아릴 부분, 바람직하게는 페닐이, 하나 이상의 C₁-C₄ 알킬 라디칼로 선택적으로 치환되는 아릴술폰에이트에서 선택된 하나 이상의 화장용으로 허용가능한 음이온 An 을 포함한다는 것을 주목해야 한다.

화학식 (I) 의 화합물의 산부가염은, 예를 들어 클로라이드 또는 브로마이드 같은 할라이드, 설페이트, 예를 들어 메토설페이트 또는 에토설페이트 이온 같은 선형 또는 분지형 알킬 부분이 C₁-C₆인 알킬 설페이트, 히드로겐 카르보네이트, 퍼클로레이트, 카르복실산 염, 예를 들어 아세테이트; 시트레이트; 타르트레이트, 단독으로 또는 조합일 수 있다.

상기 화합물은, 예를 들어 US 5 708 151, J. Chem. Res., Synop. (1998), (10), 648-649, US 3 151 106, US 5 852 179, Heterocycles, 1987, 26 (2) 313-317, Synth. Commun. 1999, 29 (13), 2271-2276, Tetrahedron, 1983, 39 (7), 1091-1101 의 문서에서 기술된 제조 공정으로부터 특별히 수득될 수 있다.

본 발명의 또 다른 주제는, 케라틴 섬유를 염색하기에 적당한 기질, 하나 이상의 화학식 (I) 의 화합물, 또는 이의 산부가염을 직접 염료로서 포함하는 조성물로 이루어진다.

화학식 (I) 의 화합물 또는 화학식 (I) 의 화합물들 각각의 농도는 염료 조 성물의 총양과 비교하여 0.001 중량% 내지 20 중량% , 더욱 특별히 0.01 중량% 내지 10 중량%, 및 바람직하게 0.05 중량% 내지 5 중량% 의 범위일 수 있다.

본 발명에 따른 조성물은 또한 산화 염기를 포함할 수 있다. 상기 산화 염기는 예를 들어, 오르소-페닐렌디아민, 파라-페닐렌디아민, 비스(페닐)알킬렌디아민 같은 이중염기, 파라-아미노페놀, 오르소-아미노페놀 및 헤테로사이클 염기, 이의 산부가염류 또는 상기의 혼합물인 산화 염료에 통상적으로 사용되는 산화 염기로부터 선택될 수 있다.

더욱 특별히 언급될 수 있는 파라-페닐렌디아민 중에서, 예를 들어 파라-페닐렌디아민, 파라-토일렌디아민, 2-클로로-파라-페닐렌디아민, 2,3-디메틸-파라-페닐렌디아민, 2,6-디메틸-파라-페닐렌디아민, 2,6-디에틸-파라-페닐렌디아민, 2,5-디메틸-파라-페닐렌디아민, N,N-디메틸-파라-페닐렌디아민, N,N-디에틸-파라-페닐렌디아민, N,N-디프로필-파라-페닐렌디아민, 4-아미노-N,N-디에틸-3-메틸아닐린, N,N-비스(β-히드록시에틸)-파라-페닐렌디아민, 4-N,N-비스(β-히드록시에틸)아미노-2-메틸아닐린, 4-N,N-비스(β-히드록시에틸)아미노-2-클로라아닐린, 2-β-히드록시에틸-파라-페닐렌디아민, 2-플루오로-파라-페닐렌디아민, 2-이소프로필-파라-페닐렌디아민, N-(β-히드록시프로필)-파라-페닐렌디아민, 2-히드록시메틸-파라-페닐렌디아민, N,N-디메틸-3-메틸-파라-페닐렌디아민, N-에틸-N-(β-히드록시에틸)-파라-페닐렌디아민, N-(β,γ-디히드록시프로필)-파라-페닐렌디아민, N-(4'-아미노페닐)-파라-페닐렌디아민, N-페닐-파라-페닐렌디아민, 2-β-히드록시에틸옥시-파라-페닐렌디아민, 2-β-아세틸아미노에틸옥시-파라-페닐렌디아민, N-(β-메톡시에틸 )-파라-페닐렌디아민, 4-아미노페닐피놀리딘, 2-티에닐-파라-페닐렌디아민, 2-β-히드록시에틸아미노-5-아미노톨루엔 및 이의 산부가염류가 있다.

상기에서 언급된 파라-페닐렌디아민 중에서, 파라-페닐렌디아민, 파라-토일렌디아민, 2-이소프로필-파라-페닐렌-디아민, 2-β-히드록시에틸-파라-페닐렌디아민, 2-β-히드록시에틸옥시-파라-페닐렌디아민, 2,6-디메틸-파라-페닐렌디아민,

2,6-디에틸-파라-페닐렌디아민, 2,3-디메틸-파라-페닐렌디아민, N,N-비스(β-히드록시에틸)-파라-페닐렌-디아민, 2-클로로-파라-페닐렌디아민 및 2-β-아세틸아미노에틸옥시-파라-페닐렌디아민, 및 이의 산부가염이 특히 바람직하다.

비스(페닐)알킬렌디아민은, 예를 들어, N,N'-비스(β-히드록시에틸)-N,N'-비스(4'-아미노페닐)-1,3-디아미노프로판올, N,N'-비스(β-히드록시에틸)-N,N'-비스(4'-아미노페닐)에틸렌디아민, N,N'-비스(4-아미노페닐)테트라메틸렌디아민, N,N'-비스(β-히드록시에틸)-N,N'-비스(4-아미노페닐)-테트라메틸렌디아민, N,N'-비스(4-메틸아미노페닐)테트라메틸렌디아민, N,N'-비스(에틸)-N,N'-비스(4'-아미노-3'-메틸페닐)에틸렌디아민 및 1,8-비스(2,5-디아미노페녹시)-3,6-디옥사옥탄, 및 이의 산 부가염을 언급할 수 있다.

파라-아미노페놀은 예를 들어, 파라-아미노페놀, 4-아미노-3-메틸페놀, 4-아미노-3-플루오로페놀, 4-아미노-3-히드록시메틸페놀, 4-아미노-2-메틸페놀, 4-아미노-2-히드록시메틸페놀, 4-아미노-2-메톡시메틸페놀, 4-아미노-2-아미노메틸페놀, 4-아미노-2-(β-히드록시에틸아미노메틸)페놀 및 4-아미노-2-플루오로페놀, 및 이의 산 부가염을 언급할 수 있다.

오르소-아미노페놀은 예를 들어, 2-아미노페놀, 2-아미노-5-메틸페놀, 2-아미노-6-메틸페놀 및 5-아세트아미도-2-아미노페놀, 및 이의 산 부가염을 언급할 수 있다.

헤테로시클릭 염기는 예를 들어, 피리딘 유도체, 피리미딘 유도체 및 피라졸 유도체를 언급할 수 있다.

피리딘 유도체는 예를 들어, 특허 GB 1 026 978 및 GB 1 153 196 에 기술된, 2,5-디아미노피리딘, 2-(4-메톡시페닐)아미노-3-아미노피리딘, 2,3-디아미노-6-메톡시피리딘, 2-(β-메톡시에틸)아미노-3-아미노-6-메톡시피리딘 및 3,4-디아미노-피리딘, 및 이의 산 부가염과 같은 화합물을 언급할 수 있다.

피리미딘 유도체는, 예를 들어, 특허 DE 2 359 399; JP 88-169 571; JP 05-163 124; EP 0 770 375 또는 특허출원 WO 96/15765 에 기술된, 2,4,5,6-테트라아미노피리미딘, 4-히드록시-2,5,6-트리아미노피리미딘, 2-히드록시-4,5,6-트리아미노피리미딘, 2,4-디히드록시-5,6-디아미노피리미딘 및 2,5,6-트리아미노피리미딘, 및 특허출원 FR-A-2 750 048 에 언급된 바와 같은 피라졸로피리미딘 유도체, 예컨대 피라졸로[1,5-a]피리미딘-3,7-디아민; 2,5-디메틸피라졸로[1,5-a]피리미딘-3,7-디아민; 피라졸로[1,5-a]피리미딘-3,5-디아민; 2,7-디메틸피라졸로[1,5-a]피리미딘-3,5-디아민; 3-아미노피라졸로[1,5-a]피리미딘-7-올; 3-아미노피라졸로[1,5-a]피리미딘-5-올; 2-(3-아미노피라졸로[1,5-a]피리미딘-7-일아미노)에탄올, 2-(7-아미노피라졸로[1,5-a]피리미딘-3-일아미노)에탄올, 2-[(3-아미노피라졸로[1,5-a]피리미딘-7-일)(2-히드록시에틸)아미노]에탄올, 2-[(7-아미노피라졸로[1,5-a]피리미딘-3- 일)(2-히드록시에틸)아미노]에탄올, 5,6-디메틸피라졸로[1,5-a]-피리미딘-3,7-디아민, 2,6-디메틸피라졸로[1,5-a]피리미딘-3,7-디아민, 2,5,N7,N7-테트라메틸피라졸로[1,5-a]피리미딘-3,7-디아민 및 3-아미노-5-메틸-7-이미다졸릴프로필아미노피라졸로[1,5-a]-피리미딘, 및 이의 산 부가염 및 호변성 평형이 존재하는 경우, 이의 호변체 형태와 같은 화합물을 언급할 수 있다.

피라졸 유도체는 특허 DE 3 843 892 및 DE 4 133 957 및 특허출원 WO 94/08969, WO 94/08970, FR-A-2 733 749 15 및 DE 195 43 988 에 기술된, 4,5-디아미노-1-메틸피라졸, 4,5-디아미노-1-(β-히드록시에틸)피라졸, 3,4-디아미노피라졸, 4,5-디아미노-1-(4'-클로로벤질)피라졸, 4,5-디아미노-1,3-디메틸피라졸, 4,5-디아미노-3-메틸-1-페닐피라졸, 4,5-디아미노-1-메틸-3-페닐피라졸, 4-아미노-1,3-디메틸-5-히드라지노피라졸, 1-벤질-4,5-디아미노-3-메틸피라졸, 4,5-디아미노-3-tert-부틸-1-메틸피라졸, 4,5-디아미노-1-tert-부틸-3-메틸피라졸, 4,5-디아미노-1-(β-히드록시에틸)-3-메틸피라졸, 4,5-디아미노-1-에틸-3-메틸피라졸, 4,5-디아미노-1-에틸-3-(4'-메톡시페닐)피라졸, 4,5-디아미노-1-에틸-3-히드록시메틸피라졸, 4,5-디아미노-3-히드록시메틸-1-메틸피라졸, 4,5-디아미노-3-히드록시메틸-1-이소프로필피라졸, 4,5-디아미노-3-메틸-1-이소프로필피라졸, 4-아미노-5-(2'-아미노에틸)아미노-1,3-디메틸피라졸, 3,4,5-트리아미노피라졸, 1-메틸-3,4,5-트리아미노피라졸, 3,5-디아미노-1-메틸-4-메틸아미노-피라졸 및 3,5-디아미노-4-(β-히드록시에틸)아미노-1-메틸피라졸, 및 이의 산 부가염과 같은 화합물을 언급할 수 있다.

본 발명에 따른 조성물은 또한 케라틴 섬유를 염색할 때 통상적으로 사용되는 하나 이상의 커플러를 포함할 수 있다. 이러한 커플러들 중에서, 특히 메타-페닐렌디아민, 메타-아미노페놀, 메타-디페놀, 나프탈렌-계 커플러 및 헤테로시클릭 커플러를 언급할 수 있다.

언급할 수 있는 예로서 2-메틸-5-아미노페놀, 5-N-(β-히드록시에틸)아미노-2-메틸페놀, 6-클로로-2-메틸-5-아미노페놀, 3-아미노페놀, 1,3-디히드록시벤젠, 1,3-디히드록시-2-메틸벤젠, 4-클로로-1,3-디히드록시벤젠, 2,4-디아미노-1-(β-히드록시에틸옥시)벤젠, 2-아미노-4-(β-히드록시에틸아미노)-1-메톡시벤젠, 1,3-디아미노벤젠, 1,3-비스(2,4-디아미노페녹시)프로판, 3-우레이도아닐린, 3-우레이도-1-디메틸아미노벤젠, 세사몰, 1-β-히드록시에틸아미노-3,4-메틸렌디옥시벤젠, α-나프톨, 2-메틸-1-나프톨, 6-히드록시인돌, 4-히드록시인돌, 4-히드록시-N-메틸인돌, 2-아미노-3-히드록시피리딘, 6-히드록시벤조모르폴린, 3,5-디아미노-2,6-디메톡시피리딘, 1-N-(β-히드록시에틸)아미노-3,4-메틸렌디옥시벤젠 및 2,6-비스(β-히드록시에틸아미노)톨루엔 및 이의 산 부가염을 포함한다.

본 발명의 조성물에서, 커플러는 일반적으로 염료 조성물 총 중량에 대하여, 0.001 내지 10 중량%, 및 보다 바람직하게는 0.005 내지 6 중량% 범위의 양으로 존재한다. 산화 염기는 바람직하게는 염료 조성물 총 중량에 대하여, 0.001 내지 10 중량%, 및 보다 바람직하게는 0.005 내지 6 중량% 범위의 양으로 존재한다.

일반적으로, 산화 염기 및 커플러에 대한 본 발명의 염료 조성물과 관련하여 사용될 수 있는 산 부가염은 특히 히드로클로라이드, 히드로브로마이드, 설페이트, 시트레이트, 숙시네이트, 타르트레이트, 락테이트, 토실레이트, 벤젠설포네이트, 포스페이트 및 아세테이트로부터 선택된다.

본 발명의 조성물은 임의로 화학식(I)의 화합물 이외의 하나 이상의 부가 직접 염료를 포함할 수 있다. 상기 염료는 양이온 및 음이온 종으로부터 선택될 수 있다.

언급될 수 있는 비제한적인 예로서 니트로벤젠 염료, 아조, 아조메틴, 메틴, 테트라아자펜타메틴, 안트라퀴논, 나프토퀴논, 벤조퀴논, 페노티아진, 인디고이드, 크산텐, 페난트리딘, 프탈로시아닌 및 트리아릴메탄-계 염료 및 천연 염료, 단독 또는 혼합물로 포함한다.

예를 들어, 하기의 적색 또는 오렌지색 니트로벤젠 염료로부터 선택될 수 있다:

- 1-히드록시-3-니트로-4-N-(γ-히드록시프로필)아미노벤젠,

- N-(β-히드록시에틸)아미노-3-니트로-4-아미노벤젠,

- 1-아미노-3-메틸-4-N-(β-히드록시에틸)아미노-6-니트로벤젠,

- 1-히드록시-3-니트로-4-N-(β-히드록시에틸)아미노벤젠,

- 1,4-디아미노-2-니트로벤젠,

- 1-아미노-2-니트로-4-메틸아미노벤젠,

- N-(β-히드록시에틸)-2-니트로-파라-페닐렌디아민,

- 1-아미노-2-니트로-4-(β-히드록시에틸)아미노-5-클로로벤젠,

- 2-니트로-4-아미노디페닐아민,

- 1-아미노-3-니트로-6-히드록시벤젠,

- 1-(β-아미노에틸)아미노-2-니트로-4-(β-히드록시에틸옥시)벤젠,

- 1-(β,γ-디히드록시프로필)옥시-3-니트로-4-(β-히드록시에틸)-아미노벤젠,

- 1-히드록시-3-니트로-4-아미노벤젠,

- 1-히드록시-2-아미노-4,6-디니트로벤젠,

- 1-메톡시-3-니트로-4-(β-히드록시에틸)아미노벤젠,

- 2-니트로-4'-히드록시디페닐아민, 및

- 1-아미노-2-니트로-4-히드록시-5-메틸벤젠.

추가적인 직접 염료는 또한 황색 및 녹색-황색 니트로벤젠 직접 염료로부터 선택될 수 있으며; 예를 들어 하기로부터 선택되는 화합물을 언급할 수 있다:

- 1-β-히드록시에틸옥시-3-메틸아미노-4-니트로벤젠,

- 1-메틸아미노-2-니트로-5-(β,γ-디히드록시프로필)옥시벤젠,

- 1-(β-히드록시에틸)아미노-2-메톡시-4-니트로벤젠,

- 1-(β-아미노에틸)아미노-2-니트로-5-메톡시벤젠,

- 1,3-디(β-히드록시에틸)아미노-4-니트로-6-클로로벤젠,

- 1-아미노-2-니트로-6-메틸벤젠,

- 1-(β-히드록시에틸)아미노-2-히드록시-4-니트로벤젠,

- N-(β-히드록시에틸)-2-니트로-4-트리플루오로메틸아닐린,

- 4-(β-히드록시에틸)아미노-3-니트로벤젠술폰산,

- 4-에틸아미노-3-니트로벤조산,

- 4-(β-히드록시에틸)아미노-3-니트로클로로벤젠,

- 4-(β-히드록시에틸)아미노-3-니트로메틸벤젠,

- 4-(β,γ-디히드록시프로필)아미노-3-니트로트리플루오로메틸벤젠,

- 1-(β-우레이도에틸)아미노-4-니트로벤젠,

- 1,3-디아미노-4-니트로벤젠,

- 1-히드록시-2-아미노-5-니트로벤젠,

- 1-아미노-2-[트리스(히드록시메틸)메틸]아미노-5-니트로벤젠,

- 1-(β-히드록시에틸)아미노-2-니트로벤젠, 및

- 4-(β-히드록시에틸)아미노-3-니트로벤즈아미드.

청색 또는 바이올렛 니트로벤젠 직접 염료는 예를 들어 하기를 언급할 수 있다:

- 1-(β-히드록시에틸)아미노-4-N,N-비스(β-히드록시에틸)아미노-2-니트로벤젠,

- 1-(γ-히드록시프로필)아미노-4,N,N-비스(β-히드록시에틸)아미노-2-니트로벤젠,

- 1-(β-히드록시에틸)아미노-4-(N-메틸-N-β-히드록시에틸)아미노-2-니트로벤젠,

- 1-(β-히드록시에틸)아미노-4-(N-에틸-N-β-히드록시에틸)아미노-2-니트로벤젠,

- 1-(β,γ-디히드록시프로필)아미노-4-(N-에틸-N-β-히드록시에틸)아미노-2-니트로벤젠,

- 하기 화학식을 가진 2-니트로-파라-페닐렌디아민:

[식 중:

- R_b 는 C₁-C₄ 알킬 라디칼 또는 β-히드록시에틸, β-히드록시프로필 또는 γ-히드록시프로필 라디칼을 나타내며;

- R_a 및 R_c 은, 상동이거나 또는 상이할 수 있고, β-히드록시에틸, β-히드록시프로필, γ-히드록시프로필 또는 β,γ-디히드록시프로필 라디칼을 나타내며, 하나 이상의 라디칼 R_b, R_c 또는 R_a 는 γ-히드록시프로필 라디칼을 나타내며, 프랑스 특허 FR 2 692 572 에 기재된 바와 같이 R_b 가 γ-히드록시프로필 라디칼인 경우 R_b 및 R_c 는 동시에 β-히드록시에틸 라디칼을 나타낼 수 없다].

본 발명에 따라 사용될 수 있는 아조 직접 염료 중에서, 특허 출원 WO 95/15144, WO 95/01772 및 EP 714 954 에 기재되어 있는 양이온성 아조 염료를 언급할 수 있다.

상기 화합물들 중에서, 하기 염료들이 가장 특히 바람직하다:

1,3-디메틸-2-[[4-(디메틸아미노)페닐]아조]-1H-이미다졸륨 클로라이드,

1,3-디메틸-2-[(4-아미노페닐)아조]-1H-이미다졸륨 클로라이드,

1-메틸-4-[(메틸페닐히드라조노)메틸]피리디늄 메틸 설페이트.

언급될 수 있는 아조 직접 염료로는, Colour Index International 제 3 판 에 기재되어 있는 하기 염료가 있다:

Disperse Red 17

Acid Yellow 9

Acid Black 1

Basic Red 22

Basic Red 76

Basic Yellow 57

Basic Brown 16

Acid Yellow 36

Acid Orange 7

Acid Red 33

Acid Red 35

Basic Brown 17

Acid Yellow 23

Acid Orange 24

Disperse Black 9.

또한, 1-(4'-아미노디페닐아조)-2-메틸-4-[비스(β-히드록시에틸)아미노]벤젠 및 4-히드록시-3-(2-메톡시페닐아조)-1-나프탈렌술폰산을 언급할 수 있다.

언급될 수 있는 퀴논 직접 염료 중에는 하기가 있다:

Disperse Red 15

Solvent Violet 13

Acid Violet 43

Disperse Violet 1

Disperse Violet 4

Disperse Blue 1

Disperse Violet 8

Disperse Blue 3

Disperse Red 11

Acid Blue 62

Disperse Blue 7

Basic Blue 22

Disperse Violet 15

Basic Blue 99

및 또한 하기 화합물:

1-N-메틸모르폴리늄프로필아미노-4-히드록시안트라퀴논

1-아미노프로필아미노-4-메틸아미노안트라퀴논

1-아미노프로필아미노안트라퀴논

5-β-히드록시에틸-1,4-디아미노안트라퀴논

2-아미노에틸아미노안트라퀴논

1,4-비스(β,γ-디히드록시프로필아미노)안트라퀴논.

언급될 수 있는 아진 염료 중에는, 하기 화합물이 있다:

Basic Blue 17

Basic Red 2.

본 발명에 따라 사용될 수 있는 트리아릴메탄 염료 중에는, 하기 화합물을 언급할 수 있다:

Basic Green 1

Acid Blue 9

Basic Violet 3

Basic Violet 14

Basic Blue 7

Acid Violet 49

Basic Blue 26

Acid Blue 7.

본 발명에 따라 사용될 수 있는 인도아민 염료 중에는, 하기 화합물을 언급할 수 있다:

2-β-히드록시에틸아미노-5-[비스(β-4'-히드록시에틸)아미노]-아닐리노- 1,4-벤조퀴논;

2-β-히드록시에틸아미노-5-(2'-메톡시-4'-아미노)아닐리노-1,4-벤조퀴논;

3-N(2'-클로로-4'-히드록시)페닐아세틸아미노-6-메톡시-1,4-벤조퀴논이민;

3-N(3'-클로로-4'-메틸아미노)페닐우레이도-6-메틸-1,4-벤조퀴논이민;

3-[4'-N-(에틸카르바밀메틸)아미노]페닐우레이도-6-메틸-1,4-벤조퀴논이민.

본 발명에 따라 사용될 수 있는 테트라아자펜타메틴 유형의 염료 중에서, 하기 표에 주어진 화합물들을 언급할 수 있으며, 이때 An 은 상기와 같이 정의된다:

본 발명에 따라 사용될 수 있는 천연 직접 염료 중에서, 로손 (lawsone), 주글론 (juglone), 알리자린 (alizarin), 퓨퍼린 (Purpurin), 카르민산(carminic acid), 케르메스산 (kermesic acid), 퓨퍼로갈린 (purpurogallin), 프로토카테칼데히드 (protocatechaldehyde), 인디고 (indigo), 이사틴 (isatin), 쿠르쿠민(curcumin), 스피눌로신 (spinulosin) 및 아피제니딘 (apigenidin) 을 들 수 있다. 이들 천연 염료를 함유한 추출물 또는 탕제 (decoction) 또한 사용할 수 있는데, 특히 헤나(henna)-기반 습포제 (poultice) 또는 추출물을 사용할 수 있다.

이들이 존재할 경우, 상기 조성물 중의 부가 직접 염료(들) 함량은 상기 조성물 중량을 기준으로 통상 0.001 중량% 내지 20 중량%, 바람직하게는 상기 조성물 중량을 기준으로 0.01 중량% 내지 10 중량% 범위이다.

염색에 적당한 매질은 염료 지지체로도 공지되어 있으며, 통상 물 또는, 물및 수-용해성이 충분하지 않은 화합물들을 용해시키기 위한 하나 이상의 유기 용매의 혼합물로 이루어진다.

좀 더 구체적으로, 상기 유기 용매는 탄소수 2 내지 10 의 선형 또는 분지형 의, 바람직하게는 포화된 모노알콜 또는 디올, 예컨대 에틸 알콜, 이소프로필 알콜, 헥실렌 글리콜 (2-메틸-2,4-펜탄디올), 네오펜틸 글리콜 및 3-메틸-1,5-펜탄디올; 방향족 알콜 예컨대 벤질 알콜 및 페닐에틸 알콜; 글리콜 또는 글리콜 에테르, 예를 들어 에틸렌 글리콜 모노메틸, 모노에틸 및 모노부틸 에테르, 프로필렌 글리콜 및 이의 에테르류, 예를 들어 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르, 부틸렌 글리콜 및 디프로필렌 글리콜; 및 또한 특히 C₁-C₄ 의, 디에틸렌 글리콜 알킬 에테르류, 예를 들어 디에틸렌 글리콜 모노에틸 에테르 또는 모노부틸 에테르로부터 단독으로 또는 혼합물로서 선택된다.

상기 기술한 보통의 용매들은, 이들이 존재할 경우, 통상 상기 조성물 전체 중량을 기준으로 1 중량% 내지 40 중량%, 좀 더 바람직하게는 5 중량% 내지 30 중량% 를 나타낸다.

본 발명에 따른 염료 조성물은 또한 모발 염색용 조성물에서 통상적으로 사용되는 다양한 아주번트 (adjuvant), 예컨대 음이온성, 양이온성, 비(非)이온성, 양쪽성 (amphoteric) 또는 즈비터이온성 (zwitterionic) 계면활성제 또는 이들의 혼합물, 음이온성, 양이온성, 비(非)이온성, 양쪽성 또는 즈비터이온성 중합체 또는 이들의 혼합물, 무기 (mineral) 또는 유기 증점제 (thickener), 및 특히 음이온성, 양이온성, 비(非)이온성 및 양쪽성의 회합형 중합성 증점제, 항산화제, 침투제 (penetrating agent), 격리제 (sequestering agent), 향신제 (fragrance), 완충제, 분산제, 조정제 (conditioning agent), 예를 들어 휘발성 또는 비휘발성 또는 개질 된 또는 개질되지 않은 것일 수 있는 실리콘, 필름형성제, 세라마이드 (ceramide), 보존제 및 유탁제 (opacifier) 를 함유할 수 있다.

상기 아주번트는 통상 상기 조성물의 중량을 기준으로 각각 0.01 중량% 내지 20 중량% 의 양으로 존재한다.

물론, 당업계의 숙련된 자는 본 발명에 따른 산화 염료 조성물에 본질적으로 관련된 유리한 특성들이 상기 파악된 부가물(들)에 의해 악영향을 받지 않거나 또는 실질적으로 받지 않도록 이 또는 이들 선택적인 부가 화합물들을 신중히 선택할 것이다.

본 발명에 따른 염료 조성물의 pH 는 통상 약 3 내지 12, 바람직하게는 약 5 내지 11 이다. 이는, 케라틴 섬유의 염색에 통상 사용되는 산성화제 또는 염기성화제를 사용하거나 또는 대안적으로 표준 완충계를 사용하여 원하는 값으로 조정할 수 있다.

산성화제 중에는, 예를 들어, 무기 또는 유기산 예컨대 염산, 오르토인산 (orthophosphoric acid), 황산, 카르복실산 예컨대 아세트산, 타르타르산, 시트르산 및 락트산, 및 술폰산을 들 수 있다.

염기성화제 중에는, 예를 들어, 암모니아수, 알칼라인 카르보네이트, 알카놀아민 예컨대 모노에탄올아민, 디에탄올아민 및 트리에탄올아민 및 이들의 유도체, 수산화나트륨, 수산화칼륨 및 하기 화학식의 화합물을 들 수 있다:

[식 중, W 는 히드록실기 또는 C₁-C₄ 알킬 라디칼로 임의 치환된 프로필렌 잔기이고; R_a, R_b, R_c 및 R_d 는 동일 또는 상이할 수 있고, 수소 원자, C₁-C₄ 알킬 라디칼 또는 C₁-C₄ 히드록시알킬 라디칼을 나타낸다].

본 발명에 따른 염료 조성물은, 액, 크림 또는 겔 형태이거나, 또는 케라틴 섬유, 특히 인간 모발을 염색시키기에 적당한 임의의 다른 형태 등 다양한 형태일 수 있다.

본 발명에 따른 조성물은 또한 하나 이상의 산화제를 포함할 수 있다. 이 경우, 상기 조성물은 즉시 사용가능한 (ready-to-use) 조성물로 지칭된다.

본 발명의 목적상, 상기 "즉시 사용가능한 조성물" 이라는 용어는, 케라틴 섬유에 즉시 적용하도록 의도된 조성물을 의미하는데, 즉, 이는 사용전에 개질되지 않은 형태로 저장되거나 또는 둘 이상의 조성물의 즉석 혼합에 의해 생성될 수 있다.

상기 조성물은 또한 본 발명에 따른 조성물을 산화 조성물과 혼합함으로써 수득할 수 있다.

상기 산화제는 당분야에서 통상적으로 사용되는 임의의 산화제일 수 있다. 따라서, 이는, 과산화수소, 과산화요소, 알칼리금속 브롬산염(bromate), 과염 (persalt) 예컨대 과붕산염 및 과황산염, 및 또한 효소에서 선택될 수 있고, 상기 효소 중에서는 퍼옥시다아제 (peroxidase), 2-전자 산화환원효소 (2-electron oxidoreductases) 예컨대 유리카제 (uricase), 및 4-전자 옥시게나제 (4-electron oxygenase), 예를 들어 라카아제 (laccase) 를 들 수 있다. 과산화수소를 사용하는 것이 특히 바람직하다.

산화제의 함량은 일반적으로, 즉시 사용가능한 (ready-to-use) 조성물의 중량에 대해 1 중량% 내지 40 중량%, 바람직하게는 즉시 사용가능한 조성물의 중량에 대해 1 중량% 내지 20 중량% 이다.

일반적으로, 사용되는 산화 조성물은 수성 조성물이고 용액 또는 에멀젼의 형태일 수 있다.

통상, 산화제가 없는 조성물을 약 0.5 내지 10 중량 당량의 산화 조성물과 혼합한다.

즉시 사용가능한 조성물의 pH 는 보다 특별하게는 4 내지 12, 바람직하게는 7 내지 11.5 임을 유념해야 한다.

조성물의 pH 는 특히 본 발명에 따른 기술 내용에서 이미 언급된 것에서 선택된 산성화제 또는 염기성화제를 사용하여 조정될 수 있다.

본 발명의 주제는 또한 본 발명에 따른 염료 조성물을 젖거나 마른 케라틴 섬유에 적용하는 것을 포함하는 염색 방법이다.

화학식 I 의 화합물(들) 또는 이의 산부가염, 임의로 하나 이상의 커플러 (coupler) 와 임의 조합된 하나 이상의 산화 염기, 및 임의로 하나 이상의 추가적 인 직접 염료 (direct dye) 를 포함하는 염료 조성물은 산화제의 존재 하에서 섬유에 적용될 수 있다.

이러한 산화제는, 사용시에 또는 케라틴 섬유에 직접, 화학식 I 의 화합물(들) 및 임의의 산화 염기, 커플러 및/또는 추가적인 직접 염료를 포함하는 조성물에 첨가될 수 있다.

산화 조성물은 또한, 모발 염색용 조성물에 통상 사용되고 상기 정의한 바와 같은 다양한 아쥬반트 (adjuvant) 를 함유할 수도 있다.

산화제를 함유하는 산화 조성물의 pH 는, 염료 조성물과 혼합 후 케라틴 섬유에 적용되는 생성된 조성물의 pH 가 바람직하게는 약 4 내지 12, 훨씬 더 바람직하게는 7 내지 11.5 의 범위가 되도록 한다. 이는 통상 케라틴 섬유의 염색에 사용되고 상기 정의한 바와 같은 산성화제 또는 염기성화제에 의해 목적한 값으로 조정될 수 있다.

케라틴 섬유에 최종적으로 적용되는 조성물은 다양한 형태, 예컨대, 액체, 크림 또는 겔의 형태, 또는 케라틴 섬유, 특히 인간의 모발을 염색시키기에 적합한 임의의 다른 형태일 수 있다.

한 특정 구현예에 따르면, 본 발명에 따른 조성물은 산화 염기 및 커플러가 없다.

적용되는 조성물은 임의로 하나 이상의 산화제를 포함할 수 있다.

따라서, 상기 조성물을 젖거나 마른 케라틴 섬유에 적용한 후, 원하는 착색을 얻기에 충분한 유지 (leave-in) 시간 동안 방치한다.

어떠한 변형법이 채택되던지 (산화제를 사용하든 사용하지 않든), 유지-인 시간은 일반적으로 수초 내지 1 시간, 바람직하게는 3 내지 30 분이다.

상기 조성물이 작용하도록 방치되는 온도는 일반적으로 15 내지 220°C, 보다 특별하게는 15 내지 80°C, 바람직하게는 15 내지 40°C 이다

유지 시간 후, 상기 조성물을 물로 제거한 후, 임의로 샴푸로 세척한 후 임의로 건조시킨다.

본 발명의 다른 주제는, 제 1 구획이 본 발명의 염료 조성물을 함유하고 제 2 구획이 산화 조성물을 함유하는 다구획 (multi-compartment) 장치 또는 염색 "키트" 이다. 이 장치는 원하는 혼합물을 모발에 적용하기 위한 수단, 예컨대 특허 FR-2 586 913 에 기재된 장치를 구비할 수 있다.

[실시예]

하기의 실시예는 본 발명을 예시하기 위해 제공되지만, 절대 한정하는 것은 아니다.

실시예 1

하기 화합물 6 의 합성:

반대이온: MeSO4^-/Cl^- 혼합물

합성도

상대이온: MeSO4^-/Cl^-

화합물 1 및 2 는 각각 문헌 [Tetrahedron, 1983, 39(7). 1091-1101] 및 US 5708151 에 기재된 절차에 따라 수득된다.

절차

화합물 2 (15.4 g), 화합물 1 (16.5 g) 및 물 (150 ml) 을 삼목 플라스크 (three-necked flask) 에 넣었다. 혼합물을 교반하면서 95℃ (외부 온도) 로 가열하였다.

3.5 시간 후, 가열을 중지하고 혼합물을 실온으로 냉각시켰다.

상기 용액을 크로마토그래피하여 예상된 생성물을 수득하였다.

증발 후, 흑색 고체 (7.5 g) 를 수득하였다.

NMR 및 질량 스펙트럼은 예상된 생성물의 구조와 일치하였다.

염색 예:

하기 조성물을 제조하였다:

성분	양
60% 완충 수용액으로서의 (50/50 C8/C10) 알킬 폴리글루코시드 (2)	12 g
순수한 절대 에탄올	20 g
순수한 벤질 알콜	4 g
폴리에틸렌 글리콜 400 (8 EO)	6 g
탈염수	적량 100 g

상기 수득된 5 × 10^-3 mol/l 의 화합물 5 를 상기 조성물에 용해시켰다.

이렇게 수득된 조성물을, 흰머리가 90% 인 모발 뭉치에 주변 온도에서 30 분간 적용하였다.

이어서, 상기 모발 뭉치를 헹구어내고, 표준 삼푸로 세척하고, 다시 행구어내고 건조시켰다.

상기 수득된 화합물로써, 여러번 샴푸해도 견딜 수 있는 어두운 자주빛 흑색 색조가 얻어진다.

실시예 2

화합물 [8]의 합성:

합성 도식

단계 1

화합물 [5]는 상용화되어 있다.

기계 교반장치가 설치된 삼구 플라스크 내에 질소 대기하에서 [4] (5.52 g; 20.67 mmoles)를 이소프로판올 (90 ml)에 부분적으로 녹이고, 60℃에서 가열하였다. [5] (7.7 g; 41.34 mmoles; 2 eq.)의 이소프로판올 (20 ml) 용액을 적하하였다. 반응혼합물의 색이 매우 어두운 적색으로 변하였다. 반응 혼합물을 밤새 60℃에서 가열하고 실온으로 냉각하였다.

이소프로판올 (70 ml)을 진공하에서 부분적으로 증발시키고, 침전물이 서서히 생성되었다. 상기 침전물을 여과하여 이소프로판올로 세척하고 진공하에서 건조시켜 녹색 분말의 [6] (8.15 g; 93%)을 얻었다.

표준 특성 분석에 의해서 구조를 확인하였다.

단계 2

3-아미노피리딘 (0.232 g; 2.46 mmoles)을 1.3ml의 5N 염산 및 1.8 ml 의 물에 녹였다. 생성된 용액을 0℃로 냉각시키고 아질산나트륨 (0.170 g; 2.46 mmoles)을 1.8ml 물에 녹인 용액을 0-5℃에서 적하하였다. 30 분 경과 후 디아조화가 완료되었다.

소량의 설팜산을 가하였다. 이렇게 수득된 디아조 용액을 0-5℃ 에서 [6] (1 g; 2.38 mmoles; 0.97 eq.)을 물(28 ml) 및 메탄올 (14 ml)에 녹인 용액에 적하하였다. 상기 용액의 pH는 4-5이었다. 냉각조를 제거하고 상기 반응 혼합물을 실온에서 2 시간동안 교반하였다. 40%의 수산화나트륨 수용액을 적하하여 이의 pH를 8-9로 조절하였다. 형성된 침전을 여과하고 물로 세척하여 진공하, P₂O₅ 상에서 밤새 건조하여 적색의 어두운 분말의 [7] (1g; 80%)을 얻었다.

표준 특성 분석에 의해서 구조를 확인하였다.

단계 3

화합물 [7] (0.250g; 0.47mmoles) 을 4ml의 DMPU 에 녹이고 45-50℃로 가열하였다. 45-50℃에서, 디메틸설페이트 (90mg; 0.71mmoles; 1.5 eq.)를 적하하였다. 갈색의 반응 혼합물이 더 어두워졌다. 2시간 경과 후 4차화(quaternization)가 완료되었다.

반응 혼합물을 실온으로 냉각시키고 디에틸에테르 (8ml)를 가하여 어두운 침전물을 얻었다. 상기 반응 혼합물을 15 분간 실온에서 교반하고 상기 침전물을 여과하고, 디에틸에테르로 세척하였다. 젖은 고체를 4 ml의 물과 함께 교반하여 DMPU를 제거하였다. 여과 및 진공하 P₂O₅ 상에서의 건조 후 어두운 자색 분말 [8] (0.14 g)을 얻었다.

표준 특성 분석으로 구조를 확인하였다.

염색예

하기의 조성물이 제조되었다:

성분	함량
알킬 (C8/C10 50/50) 폴리글루코시드 (2) (60% 완충 수용액)	12g
에탄올	20g
벤질 알콜	4g
폴리에틸렌글리콜 400 (8 EO)	6g
물	qsp 100g

앞서 제조된 5×10^-3 mol/l 의 화합물을 상기 조성물에 용해시켰다.

생성 혼합물을 백모를 90% 함유하는 머리채에 상온에서 30분간 적용하였다.

그리고 나서 머리채를 행구고 표준 샴푸로 세척하고 다시 행군 후 건조시켰다.

모발이 샴푸에 대한 저항성을 갖는 흐린 자색조로 염색되었다

실시예 3

하기 화합물 10 의 합성

합성 도식

단계 1

2-아미노이미다졸 설페이트 염은 상용화되어 있다.

2-아미노이미다졸 설페이트 염 (0.325 g; 2.46 mmoles)을 염산 37% (0.65 ml), 아세트산 (0.65 ml) 및 물 (3.25 ml)에 녹였다. 생성된 용액을 0℃로 냉각시키고 아질산나트륨 (0.170 g; 2.46 mmoles)을 물(0.65 ml)에 녹인 용액을 0-5℃에서 적하하였다. 30분 경과 후 디아조화가 완료되었다.

소량의 설팜산을 가하였다. 이렇게 수득된 디아조 용액을 0-5℃ 에서 [6] (1 g; 2.38 mmoles; 0.97 eq.)을 물 (20 ml)에 녹인 용액에 적하하였다. 상기 용액의 pH는 1-2 이었다. 냉각조를 제거하고 상기 반응 혼합물을 실온에서 2 시간동안 교반하였다. 40%의 수산화나트륨 수용액을 가하여 pH를 8-9로 조절하였다.

형성된 침전을 여과하고 물, 디에틸에테르로 세척하여 진공하, P₂O₅ 상에서 밤새 건조하여 적색의 어두운 분말의 [9] (1.03 g; 84%)를 얻었다.

표준 특성 분석에 의해서 구조를 확인하였다.

단계 2

[9] (0.250 g; 0.48 mmoles)를 n-부탄올 (5 ml)에 녹였다. 디메틸설페이트 (92mg; 0.73 mmoles; 1.5 eq.)를 적하하고 이어서 아세트산칼륨 (48 mg; 048 mmoles)을 가하였다. 반응 혼합물을 80℃ 로 4 시간동안 가열하였다. 어두운 분홍의 반응 혼합물이 보라색이 되었다. 4시간 경과 후 4차화가 완료되었다.

반응 혼합물을 실온으로 냉각하여 침전물이 서서히 형성되었다. 이를 여과하고 n-부탄올, 아세톤으로 세척하고 진공하에서 건조하였다. 보라색 분말의 [10]

(0.27g)을 얻었다.

표준 특성 분석에 의해 구조를 확인하였다.

염색 실시예:

하기 조성물을 제조하였다:

성분	양
알킬(C8/C10 50/50) 폴리글루코시드 (2) (60% 완충 수용액)	12 g
에탄올	20 g
벤질 알콜	4 g
폴리에틸렌글리콜 400 (8 EO)	6 g
물	적량 100 g

미리 제조된 화합물 5.10^-3 mol/l을 상기 조성물내에 용해화시켰다.

얻어진 혼합물을 백색 모발 90 %인 모발의 타래 상에 주위 온도에서 30분 동안 적용시켰다.

이어서, 모발의 타래를 헹구고, 표준 샴푸로 세척하며, 다시 헹구고, 건조시켰다.

모발은 내샴푸성이 있는 흑자색 색조로 염색되었다.

실시예 4

화합물 [12]의 합성:

합성 경로

1-메틸피리딘-4(1H)-온 히드라존 [11]은 참고문헌 [Hunig, Liebigs Ahn. Chem., 617, 1958, 180-202] 의 방법을 이용하여 얻을 수 있다.

[11] (0.196 g; 1 mmole) 및 [6] (0.420 g; 1 mmole)을 메탄올 (5 ml), 에탄올 (15 ml) 및 물 (5ml)에 용해시켰다. 3 % 수산화나트륨 수용액을 가하여 pH를 7로 조절하였다.

반응 혼합물에 이산화망간 (0.870 g; 10 mmoles)을 서서히 가하고, 1N 염산 수용액을 가하여 pH를 7.5로 조절하였다. 반응 혼합물을 실온에서 12 시간 동안 교반하였다.

반응 혼합물을 미리 여과하여 망간 염을 제거하였다. 반응 혼합물에 50 ml 아세톤을 가하였다.

형성된 침전물을 여과한 후, 이소프로판올, 및 에틸 아세테이트로 헹구고, 진공 하에 P₂O₅ 상에서 밤새 건조시켜 [12]의 흑색 분말을 얻었다.

표준 분석 특징은 구조와 일치하였다.

염색 실시예:

하기 조성물을 제조하였다:

미리 제조된 화합물 5.10^-3 mol/l을 상기 조성물내에 용해시켰다.

얻어진 혼합물을 백색 모발 90 %인 모발의 타래 상에 주위 온도에서 30분 동안 도포하였다.

모발은 내샴푸성이 있는 황갈색 색조로 염색되었다.

실시예 5

화합물 [14]의 합성:

합성 경로

1-메틸피리딘-2(1H)-온 히드라존 [13]은 참고문헌 [Hunig, Liebigs Ahn. Chem., 617, 1958, 180-202] 의 방법을 이용하여 얻을 수 있다.

[13] (0.196 g; 1 mmole) 및 [6] (0.420 g; 1 mmole)을 메탄올 (5 ml), 에탄올 (15 ml) 및 물 (5ml)에 용해시켰다. 3 % 수산화나트륨 수용액을 가하여 pH를 7로 조절하였다.

반응 혼합물에 이산화망간 (0.870 g; 10 mmoles)을 서서히 가하고, 1N 염산 수용액을 적하하여 pH를 7.5로 조절하였다. 반응 혼합물을 실온에서 12 시간 동안 교반하였다.

형성된 침전물을 여과한 후, 이소프로판올, 및 에틸 아세테이트로 헹구고, 진공 하에 P₂O₅ 상에서 밤새 건조시켜 [14]의 흑색 분말을 얻었다.

표준 분석 특징은 구조와 일치하였다.

염색 실시예:

하기 조성물을 제조하였다:

얻어진 혼합물을 백색 모발이 90 % 인 모발의 타래 상에 주위 온도에서 30분 동안 적용시켰다.

모발은 내샴푸성이 있는 흐린 회색 색조로 염색되었다.

실시예 6

화합물 [18]의 합성:

합성 경로

1 단계:

3-피페라진-1-일 페놀 [15]은 시판 입수가능하다.

650 ml 2-프로판올 중의 [4] (67.95 g; 255 mmol) 및 [15] (50 g; 281 mmol)의 혼합물을 30시간 가열하여 환류시켰다. 혼합물을 실온으로 냉각시키고, 여과하였다.

고체를 2-프로판올 (1L)로 세척하였다. 진공 중에 건조시킨 후, 74.2 g (71 %)의 짙은 적색 고체를 얻었다. 고체를 1M HCl 수용액 50 ml를 함유하는 1 l 물에 현탁시키고, 여과하고, 잔류물을 500 ml 환류 2-프로판올 중에서 현탁시켰다.

현탁액을 여과하고, 따뜻한 2-프로판올로 세척하였다. 여과물을 진공 중에 건조시켜 [16]의 짙은 적색 고체 59.1 g(56%)를 얻었다.

단계 2:

수성 5 M HCl (182 ml) 내 3-아미노피리딘 (12,28 g; 130.70 mmol) 용액을 0℃ 까지 냉각시켰다. 5 M NaNO₂ 수용액 (약 1.4 eq) 36.5 ml 을 첨가하고, 상기 혼합물을 0 내지 5℃ 에서 약 30 분간 교반하였다. [16] (118.8 mmol) 49 g 을 물/아세트산 혼합물 (29:1) 990 ml 내 용해시켰다. 에탄올 500 ml 을 첨가하여 용해도를 향상시켰다. 상기 혼합물을 0℃ 까지 냉각시켰다. 상기 제조된 디아조-혼합물을 15 분 내에 온도를 10℃ 미만으로 유지하며 상기 혼합물에 첨가하였다. 첨가의 최종에서, pH 는 0.7 이었다.

상기 적갈색 현탁액을 10 M NaOH 수용액을 첨가하여 pH 4.5 까지 조정하였다. 상기 혼합물을 추가적인 양의 NaOH 용액을 첨가하여 pH 4.5 를 유지하며 실온까지 서서히 따뜻해지도록 하였다.

상기 적색 현탁액을 여과하고, 상기 여과 케이크 (cake) 를 산성 물/에탄올-혼합물 (2:1; 1 M HCl 4 ml 첨가에 의한 pH = 4) 1.5 l 로 세척하였다.

이어서, 상기 고체를 환류하는 물 (500 ml) 내에 용해시켰다. 상기 오일 중탕을 60℃ 에서 제거하고, 아세톤 50 ml 을 첨가하고, 상기 혼합물을 실온까지 냉각되도록 하였다. 침전된 매우 미세한 고체가 여과하였다.

상기 고체를 뜨거운 아세톤 (500 ml) 내 현탁하고, 가열 여과하고, 아세톤으로 세척하였다. 상기 잔류물을 20℃ 에서 진공 건조시켜 암적색 고체 [17] 35.6 g (58%) 을 수득하였다.

단계 3:

N,N-디메틸포름아미드 2.5 ml 내 [17] (283 mg; 0.547 mmol) 및 0.602 mmol (1.1 eq) 디메틸 술페이트의 용액을 24 시간 동안 50℃ 까지 가열하였다. 완전한 전환을 수득하기 위하여, 추가의 디메틸 술페아트 0.602 mmol 을 첨가하고, 상기 혼합물을 50℃ 에서 또다른 7 시간 동안 가열하였다. 상기 혼합물을 실온까지 냉각시키고, 증발시켰다.

상기 조 잔류물을 2-프로판올 (5 ml) 내에서 취하고, 15 분 동안 가열하며 환류시켰다.

상기 현탁액을 가열 여과하고, 따뜻한 2-프로판올로 세척하였다. 상기 잔류 고체를 진공 건조하여 암적색 고체 [18] 191 mg (54%) 를 수득하였다.

염색 실시예:

하기 조성물을 제조하였다:

성분	중량
알킬 (C8/C10 50/50) 폴리글루코시드 (2) (60% 버퍼 수용액)	12 g
에탄올	20 g
벤질 알콜	4 g
폴리에틸렌글리콜 400 (8 EO)	6 g
물	100 g 잔량

앞서 제조한 5.10^-3 몰/l 의 화합물을 상기 조성물 내에 용해시켰다.

상기 생성 혼합물을 흰머리가 90% 인 머리카락에 실온에서 30 분 동안 적용하였다.

이어서, 상기 머리카락을 헹구고, 표준 샴푸로 세척하고 다시 행군 후, 건조시켰다.

상기 모발은 샴푸에 저항성있는 적색 색조로 염색되었다.

실시예 7

화합물 [19] 의 합성:

합성 경로

[11] (0.196 g; 1 mmole) 및 [16] (0.412 g; 1 mmole) 을 에탄올 (5ml) 및 물 (10 ml) 내에 용해시켰다. 상기 pH 는 3% 수성 수산화나트륨을 첨가하여 7 까지 조정하였다.

이산화망간 (0.870 g; 10 mmoles) 을 1 N 수성 염산을 첨가하여 pH 7 내지 7.5 까지 조정하며 상기 반응 혼합물에 서서히 첨가하였다. 상기 반응 혼합물을 실온에서 12 시간 동안 교반하였다.

상기 반응 혼합물을 먼저 여과하여 망간 염을 제거하였다. 아세톤 50 ml 을 상기 반응 혼합물에 첨가하였다.

생성된 침전물을 여과하여 제거하고, 이소프로판올 및 에틸 아세테이트로 헹구고, 진공 상태에서 밤새 P₂O₅ 로 건조시켜 [19] 의 암적색 분말을 수득하였다.

표준 분석 특성화는 상기 구조와 일치하였다.

염색 실시예:

하기 조성물을 제조하였다:

이어서, 상기 머리카락을 헹구고, 표준 샴푸로 세척하고 다시 행군 후, 건조 시켰다.

상기 모발은 샴푸에 저항성있는 후쿠시아 (fuchsia) 색조로 염색되었다.

실시예 8

화합물 [20] 의 합성:

합성 경로

[13] (0.196 g; 1 mmole) 및 [16] (0.412 g; 1 mmole) 을 에탄올 (5ml) 및 물 (10 ml) 내에 용해시켰다. 상기 pH 는 3% 수성 수산화나트륨을 첨가하여 7 까지 조정하였다.

이산화망간 (0.870 g; 10 mmoles) 을 1 N 수성 염산을 첨가하여 pH 7.5 까지 조정하며 상기 반응 혼합물에 서서히 첨가하였다. 상기 반응 혼합물을 실온에서 12 시간 동안 교반하였다.

생성된 침전물을 여과하여 제거하고, 이소프로판올 및 에틸 아세테이트로 헹구고, 진공 상태에서 밤새 P₂O₅ 로 건조시켜 [20] 의 암적색 분말을 수득하였다.

표준 분석 특성화는 상기 구조와 일치하였다.

염색 실시예:

하기 조성물을 제조하였다:

이상에서 본 바와 같이, 본 발명을 이용하면 시간에 걸친 색 변화의 문제 없이 다양한 색조를 수득할 수 있는 직접 염료를 제공할 수 있다.

Claims

하기 화학식 I 의 양이온성 화합물, 또는 이의 산부가염:

[화학식 I]

염료1-LK-염료2:

[식 중, 염료1 및 염료2는 화학식 I 의 화합물이 대칭적이지 않도록 존재하며, 다음과 같다:

염료1 :

염료2 :

상기 식 중,

W₁ 및 W₆ 은, 서로 독립적으로, -NR₁- 또는 -O-기를 나타내며, 여기에서, R₁,은 수소 원자, 포화 또는 불포화된, 방향족 또는 비방향족의, 치환될 수 있는 C₁-C₂₀ 탄화수소계 사슬을 나타내며, 이는, 하나 이상의 헤테로 원자 또는 헤테로 원자 하나 이상을 가지는 기 하나 이상이 중간에 삽입될 수 있는, 하나 이상의 치환될 수 있는 3- 내지 7-원 탄소계 고리를 형성할 수 있고;

W'₁및 W'₆ 는 서로 독립적으로 -NR'₁R'₂- 또는 -OR'₃-기를 나타내고, 여기에서, R'₁,R'₂, 또는 R'₃ 은 서로 독립적으로, 수소 원자, 또는 포화 또는 불포화된, 방향족 또는 비방향족의, 치환될 수 있는 C₁-C₂₀ 탄화수소계 사슬을 나타내며, 이는, 하나 이상의 헤테로 원자 또는 헤테로 원자 하나 이상을 가지는 기 하나 이상이 중간에 삽입될 수 있는, 하나 이상 치환될 수 있는 3- 내지 7-원 탄소계 고리를 형성할 수 있고; R'₁ 및 R'₂는 이들이 결합된 질소 원자와 함께, 또다른 질소 또는 비-질소 원자를 함유할 수 있는, 치환될 수 있는 5- 또는 7-원 헤테로 고리를 형성할 수 있고;

W₁ 및 W₆에서 유도된 R₁라디칼은, LK 기의 전체 또는 일부 및 서로 결합된 질소원자와 함께, 포화 또는 불포화된, 방향족 또는 비방향족의, 치환될 수 있는 5- 내지 7-원의 헤테로고리를 같이 또는 따로 형성할 수 있고;

W'₁ 및 W'₆에서 유도된 라디칼 R'₁R'₂ 또는 R'₃은, LK 기의 전체 또는 일부 및 서로 연결된 질소 또는 산소 원자와 함께, 포화 또는 불포화된, 방향족 또는 비방향족의, 치환될 수 있는 5- 내지 7-원의 헤테로고리를 같이 또는 따로 형성할 수 있고;

W₂, W₅, W'₂및 W'₅ 는 서로 독립적으로 하기 화학식 (a) 내지 (c)의 기를 나타내며;

(식 중;

- X₁는 질소 원자 또는 기 CR₇를 나타내며;

- X₂는 질소 원자 또는 기 CR₈를 나타내며;

- Z₁는 질소 원자 또는 기 CR₁₀를 나타내며;

- Z₂는 질소 원자 또는 기 CR₁₁를 나타내며;

- R₄,R₅, R₆, R'₆,R₇, R₈, R₁₀, 및R₁₁ 은 서로 독립적으로 하기를 나타내며:

ㆍ 선형 또는 분지형의, 포화 또는 불포화된, 방향족 또는 비방향족의, 치환될 수 있는 C₁-C₁₆ 탄화수소계 사슬로서, 하나 이상의 헤테로 원자 또는 헤테로 원자 하나 이상을 가지는 기 하나 이상이 중간에 삽입될 수 있는, 하나 이상 치환될 수 있는 3- 내지 7-원 탄소계 고리를 형성할 수 있는 것;

ㆍ 히드록실기,

ㆍ C₁-C₄알콕시기, C₂-C₄(폴리)히드록시알콕시기; R 이 C₁-C₄알킬라디칼을 나타내는 알콕시카르보닐기 (RO-CO-); 또는 R 이 C₁-C₄알킬라디칼을 나타내는 알킬카르보닐옥시라디칼 (RCO-O-)이고;

ㆍ 아미노기, 상동 또는 상이할 수 있는 하나 이상의 C₁-C₄ 알킬 라디칼로 치환되고, 하나 이상의 히드록실기를 가질 수 있는 아미노기 (상기 2 개의 알킬 라디칼은 가능하게는, 이들이 결합된 질소 원자와 함께, 또다른 질소 또는 비질소 헤테로 원자를 가질 수 있는 5- 또는 6-원 헤테로사이클을 형성함); 라디칼 R 이 서로 독립적으로 C₁-C₄ 알킬 라디칼을 나타내는 알킬카르보닐아미노기 (RCO-NR-); 라디칼 R 이 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C₁-C₄ 알킬 라디칼을 나타내는 카르바모일기 ((R)₂N-CO); 라디칼 R 및 R' 는 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C₁-C₄ 알킬 라디칼을 나타내는 우레이도기 (N(R)₂-CO-NR'-); 라디칼 R 이 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C₁-C₄ 알킬 라디칼을 나타내는 술폰아미드기 ((R)₂N-SO₂-); 라디칼 R 및 R' 이 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C₁-C₄ 알킬 라디칼을 나타내는 알킬술포닐아미노기 (RSO₂-NR'-); 라디칼 R 및 R' 이 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C₁-C₄ 알킬 라디칼을 나타내는 구아니디늄기 ((R')₂N-C(=NH₂ ⁺)-NR-);

ㆍ 니트로기; 시아노기; 할로겐 원자;

ㆍ R₄, R₅, R₇, R₈, R₁₀ 및 R₁₁ 은 수소 원자를 나타낼 수 있고;

ㆍ R₄, R₅, R₆, R'₆, R₇, R₈, R₁₀ 및 R₁₁ 은 서로 독립적으로, W'₁ 또는 W'₆ 기의 전부 또는 일부와 함께, 한편으로는 W₁ 또는 W₆ 기의 전부 또는 일부와 함께, 포화 또는 불포화된, 방향족 또는 비-방향족의, 치환될 수 있는 5- 내지 7-원 헤테로사이클을 형성할 수 있고;

ㆍ W'₂ 부터 W'₁까지 또는 기 LK 까지의 결합, 또는 W'₅ 부터 W'₆ 까지 또는 기 LK 까지의 결합;

ㆍ a 는 W₂, W₅ ,W'₂또는 W'₅ 부터 아조기 -N=N- 까지의 결합을 나타내고;

ㆍ b 는 W₂ 부터 W₁, W₅ 부터 W₆, W'₂ 부터 W'₁또는 LK 기까지, 또는 W'₅ 부터 W'₆ 또는 LK 기까지의 결합을 나타내고;

- R₉ 는 하기를 나타내고;

- 수소 원자,

- 선형 또는 분지형의, 포화 또는 불포화된, 방향족 또는 비-방향족의, 치환될 수 있는 C₁-C₁₆ 탄화수소계 사슬로서, 하나 이상의 치환될 수 있는 3- 내지 7-원 탄소계 고리를 형성할 수 있는 것,

- n 및 n' 는 정수를 나타내고, 이들의 합은 6 이하이다);

W₃ 및 W₄ 는 서로 독립적으로, 하기 화학식 (1) 내지 (11) 중 하나로 나타내는 양이온성 헤테로방향족 라디칼을 나타내고:

여기서:

- R'₄는 상동이거나 또는 상이할 수 있으며, 주 고리를 치환하며, 하기를 나타내고 :

^■ 선형 또는 분지형의, 포화 또는 불포화된, 방향족 또는 비-방향족의, 치환될 수 있는 C₁-C₁₆ 탄화수소계 사슬로서, 하나 이상의 헤테로 원자 또는 헤테로 원자를 하나 이상 가지고 있는 하나 이상의 기가 중간에 삽입될 수 있는 하나 이상의 3 내지 6-원 탄소계 고리를 형성할 수 있는 것;

^■히드록실기,

^■C₁-C₄ 알콕시기, C₂-C₄ (폴리)히드록시알콕시기 ; R 이 C₁-C₄ 알킬 라디칼을 나타내는 알콕시카르보닐기 (RO-CO-), 또는 R 이 C₁-C₄ 알킬 라디칼을 나타내는 알킬카르보닐옥시 라디칼 (RCO-O-) ;

^■아미노기, 하나 이상의 히드록실기를 가질 수 있는, 서로 독립적으로, 하나 이상의 C₁-C₄ 알킬 라디칼 (여기서, 2 개의 알킬 라디칼은 이들이 결합된 질소 원자와 함께 또다른 질소 또는 비질소 헤테로 원자를 가질 수 있는 5- 또는 6-원 헤테로사이클을 형성할 수 있다) 로 치환된 아미노기; 라디칼 R 이 C₁-C₄알킬 라디칼을 나타내고, 라디칼 R'가 수소 또는 C₁-C₄알킬 라디칼을 나타내는 알킬카르보닐아미노기 (RCO-NR'-) ; 라디칼 R 이 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C₁-C₄ 알킬 라디칼을 나타내는 카르바모일기 ((R)₂N-CO-) ; 라디칼 R 및 R'가 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C₁-C₄ 알킬 라디칼을 나타내는 우레이도기 (N(R)₂-CO-NR'-) ; 라디칼 R 이 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C₁-C₄ 알킬 라디칼을 나타내는 술폰아미드기 ((R)₂N-SO₂-); 라디칼 R 및 R'가 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C₁-C₄ 알킬 라디칼을 나타내는 알킬술포닐아미노기 (RSO₂-NR'-) ; 라디칼 R 및 R'가 서로 독립적으로 수소 원자 또는 C₁-C₄ 알킬 라디칼을 나타내는 구아니디늄기 ((R')₂N-C(=NH₂ ⁺)-NR-) ;

^■니트로기; 시아노기; 할로겐 원자;

^■ 주 고리의 2 개의 인접한 탄소 원자에 의해 생긴 2 개의 라디칼 R'₄는,하나 이상의 수소 ; 하나 이상의 히드록실기 ; 하나 이상의 C₁-C₄ 알킬 라디칼 ; 하나 이상의 C₁-C₄ 알콕시 라디칼 ; 하나 이상의 C₂-C₄(폴리)히드록시알콕시 라디칼 ; 하나 이상의 아미노 라디칼 ; 상동이거나 또는 상이할 수 있는, 하나 이상의 C₁-C₄ 알킬 라디칼로 치환되는 하나 이상의 아미노 라디칼로 치환될 수 있으며, 하나 이상의 히드록실기를 가질 수 있는, 방향족 또는 비-방향족의, 5- 또는 6-원 2 차 고리를 형성할 수 있으며;

- 4 차화된 (quaternized) 질소 원자에 의해 생긴 R'₅는선형 또는 분지형의, 포화 또는 불포화된, 방향족 또는 비-방향족의, 치환될 수 있는 C₁-C₁₆ 탄화수소계 사슬을 나타내며, 이는 하나 이상의 헤테로 원자 하나 또는 하나 이상의 헤테로 원자를 갖는 하나 이상의 기가 중간에 삽입될 수 있는, 치환될 수 있는 3- 내지 7-원 탄소계 고리를 형성할 수 있으며; 라디칼 R'₅는 4 차화된 질소 원자에 직접 연결된 원자가 탄소 원자가 되도록 존재하며;

- R'₇ 은 치환될 수 있는 C₁-C₄ 알킬 라디칼 ; 치환될 수 있는 페닐 라디칼; 치환될 수 있는 벤질 라디칼을 나타내며;

- 결합 c 는 화학식 (1) 내지 (11) 에 정의된 양이온성 라디칼을 아조기에 연결하며; 상기 결합은 주된 고리 또는 2 차 고리상에 있을 수 있으며;

- p 는 0 내지 4 의 범위의 정수이며, p' 는 0 내지 2 의 범위의 정수이고, p" 는 0 내지 3 의 범위의 정수이며; 주된 고리가 최대 갯수의 치환기를 가지지 않을 때 비치환된 위치(들)는 질소 원자를 갖는다는 점을 유의해야 하며; 두 개의 기 W₃ 및 W₄ 중 하나 이상은 비치환 이미다졸륨 기를 나타내지 않으며;

LK 는 포화 또는 불포화된, 선형 또는 분지형의, 환형 또는 비-환형의, 방향족 또는 비-방향족의, 하나 이상의 헤테로 원자 또는 하나 이상의 헤테로 원자를 포함하는 기가 중간에 삽입될 수 있고, 치환될 수 있는 C₂-C₄₀ 탄화수소-기재 사슬을 나타내며; LK 기는 니트로, 니트로소 또는 페록소기 또는 결합을 포함하지 않으며; LK 가 W'₂또는 W'₅ 에 연결된다면, LK 는 헤테로 원자 또는 하나 이상의 헤테로 원자를 포함하는 기로 종결될 수 있으며; LK 가 W₆ 또는 W₁ 에 연결된다면, LK 는 -CO- 및 -SO₂- 로부터 선택되는 하나 이상의 헤테로 원자를 포함하는 기로 종결될 수 있으며;

화합물의 전기적 중성은 하나 이상의 화장용으로 허용가능한 음이온인 An 에 의해 보장된다].
제 1 항에 있어서, R₁, R₁', R₂' 및 R₃' 이 서로 독립적으로 하기를 나타내는 것을 특징으로 하는 화합물 :

- 수소 원자 ;

- 치환될 수 있는 C₁-C₆ 알킬 라디칼 ;

- 페닐 또는 벤질 (여기서, 아릴 부분은 치환될 수 있음) 을 포함하는, 아릴 또는 아릴알킬 라디칼 ;

- W₁및 W₆ 유래의 라디칼 R₁ 은함께 또는 따로,LK 기의 모두 또는 부분 및 각각이 결합된 질소 원자와 함께 포화 또는 불포화된, 방향족 또는 비방향족의, 치환될 수 있는 5- 내지 7-원 헤테로환형을 형성할 수 있으며 ;

- W'₁및W'₆ 유래의 라디칼 R'₁, R'₂또는 R'₃는 함께 또는 따로, LK 기의 모두 또는 부분 및 각각이 결합된 질소 또는 산소 원자와 함께, 포화 또는 불포화된, 방향족 또는 비방향족의, 치환될 수 있는 5- 내지 7-원 헤테로환형을 형성할 수 있음.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 라디칼 R₁, R'₁, R'₂, 및 R'₃ 는 상동이거나 또는 상이할 수 있으며, 하기를 나타내는 것을 특징으로 하는 화합물 :

- 수소 원자;

- 메틸, 에틸, 2-히드록시에틸 또는 2-메톡시에틸을 포함하는, 치환될 수 있는 C₁-C₃ 알킬 라디칼;

- 히드록실, C₁-C₂ 알콕시 및 아미노 라디칼로부터 선택되는 하나 이상의 라디칼로 치환될 수 있는 페닐 라디칼, 또는 하나 이상의 히드록실기를 가질 수 있는 하나 이상의 C₁-C₄ 기로 치환된 아미노 라디칼 ;

- 한편으로는 W₁ 및 W₆ 유래의 라디칼 R₁,또는 다른 한편으로는 W'₁및 W'₆유래의 라디칼 R'₁, R'₂및 R'₃는 각각이 결합된 질소 또는 산소 원자 및LK 기의 모두 또는 부분과 함께, 하나 이상의 메틸, 히드록실, 아미노 또는 (디)메틸아미노 라디칼로 치환될 수 있는 피롤리딘, 피페리딘, 피페라진 또는 호모피페라진 유형의 5- 내지 7-원 헤테로환형을 형성할 수 있음.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상동 또는 상이할 수 있는 라디칼 R₁, R'₁, R'₂, 및 R'₃ 이 하기를 나타내는 것을 특징으로 하는 화합물:

- 수소 원자;

- 메틸, 에틸 또는 2-히드록시에틸 라디칼;

- 히드록실, 메톡시, 아미노, (디)메틸아미노 또는 (디)(2-히드록시에틸)아미노 라디칼로 치환될 수 있는 페닐 라디칼;

- 한편으로는 W₁및 W₆ 에서 유도된 라디칼 R₁, 또는 다른 한편으로는 W'₁및 W'₆ 에서 유도된 라디칼 R'₁, R'₂ 및 R'₃은, 각각 R'₃에 결합된 질소 또는 산소 원자 및 LK 기의 전부 또는 일부와 함께, 피롤리딘, 3-히드록시피롤리딘, 3-디메틸아미노피롤리딘, 피페리딘, 2-(2-히드록시에틸피페리딘), 4-(아미노메틸)피페리딘, 4-(2-히드록시에틸)피페리딘, 4-(디메틸아미노)피페리딘, 피페라진, 1-메틸피페라진, 1-(2-히드록시에틸)피페라진, 1-(2-아미노에틸)피페라진, 1-히드록시에틸에톡시피페라진, 호모피페라진 또는 1-메틸-1,4-퍼히드로디아제핀을 포함하는 5- 내지 7-원 헤테로사이클을 형성할 수 있음.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상동 또는 상이할 수 있는 라디칼 R₄, R₅, R₆, R'₆, R₇, R₈, R₁₀ 및 R₁₁이 하기를 나타내는 것을 특징으로 하는 화합물:

- R₄, R₅, R₇, R₈, R₁₀ 및 R₁₁ 에 있어서 수소 원자;

- 치환될 수 있는 C₁-C₁₆;

- 염소, 불소 또는 브롬을 포함하는 할로겐 원자;

- 히드록실기;

- C₁-C₂ 알콕시 라디칼; C₂-C₄ (폴리)히드록시알콕시 라디칼;

- 아미노 라디칼; 하나 이상의 히드록실 또는 C₁-C₄ 디알킬아미노기를 가질 수 있으며, 상동 또는 상이할 수 있는 1 또는 2 개의 C₁-C₄ 알킬 라디칼로 치환된 아미노 라디칼;

- 알킬카르보닐아미노 라디칼 (RCO-NR'-) (식에서, 라디칼 R 은 C₁-C₄ 알킬 라디칼을 나타내고 라디칼 R' 은 수소 또는 C₁-C₄ 알킬 라디칼을 나타냄); 카르바모일 라디칼 ((R)₂N-CO-) (식에서, 상동 또는 상이할 수 있는 라디칼 R 은 수소 원자 또는 하나 이상의 히드록실기를 가질 수 있는 C₁-C₄ 알킬 라디칼을 나타냄); 알킬술포닐아미노 라디칼 (R'SO₂-NR-) (식에서, 라디칼 R 은 수소 원자 또는 하나 이상의 히드록실기를 가질 수 있는 C₁-C₄ 알킬 라디칼을 나타내고, 라디칼 R' 은 C₁-C₄ 알킬 라디칼을 나타냄); 아미노술포닐 라디칼 ((R)₂N-SO₂-) (식에서, 상동 또는 상이할 수 있는 라디칼 R 은 수소 원자 또는 하나 이상의 히드록실기를 가질 수 있는 C₁-C₄ 알킬 라디칼을 나타냄);

- W'₂ 부터 W'₁ 까지 또는 기 LK 까지의 결합, 또는 W'₅ 부터 W'₆ 까지 또는 기 LK 까지의 결합.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상동 또는 상이할 수 있는 라디칼 R₄, R₅, R₆, R'₆, R₇, R₈, R₁₀ 및 R₁₁이 하기를 나타내는 것을 특징으로 하는 화합물:

- R₄, R₅, R₆, R'₆, R₇, R₈, R₁₀ 및 R₁₁ 에 있어서 수소 원자;

- 히드록실 및 아실아미노 라디칼에서 선택된 하나 이상의 라디칼로 치환될 수 있는 C₁-C₄ 알킬 라디칼 또는 하나 이상의 히드록실기를 가질 수 있는 두 개의 동일 또는 상이한 C₁-C₂ 알킬 라디칼로 치환된 아미노 라디칼 또는 C₁-C₂ 알콕시 라디칼;

- 아미노 라디칼; 하나 이상의 히드록실기를 가질 수 있는 두 개의 동일 또는 상이한 C₁-C₂ 알킬 라디칼로 치환된 아미노 라디칼; 아실아미노 라디칼; 카르바모일 라디칼; 술포닐아미노 라디칼;

- 히드록실 라디칼; C₁-C₂ 알콕시 라디칼;

- W'₂ 부터 W'₁ 까지 또는 기 LK 까지의 결합, 또는 W'₅ 부터 W'₆ 까지 또는 기 LK 까지의 결합.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 라디칼 R₉ 가 수소 원자 또는 C₁-C₁₅ 알킬 라디칼; C₂-C₆ 모노 히드록시알킬 라디칼; C₂-C₆폴리히드록시알킬 라디칼; (C₁-C₆)알콕시(C₂-C₆)알킬 라디칼; 치환될 수 있는 페닐을 포함하는 아릴 라디칼; 치환될 수 있는 벤질을 포함하는 아릴알킬 라디칼; C₂-C₆ 아미도알킬 라디칼; C₂-C₆ 아미노알킬 라디칼을 나타내고, 여기서 아민은 두 개의 동일 또는 상이한, 치환될 수 있는 C₁-C₄ 알킬 라디칼로 치환되는 것을 특징으로 하는 화합물.
제 7 항에 있어서, 라디칼 R₉ 가 수소 원자, C₁-C₆ 알킬 라디칼 또는 C₂-C₆ 모노히드록시알킬 라디칼; C₂-C₆ 폴리히드록시알킬 라디칼; (C₁-C₆)알콕시(C₂-C₆)알킬 라디칼; 하나 이상의 염소 원자, 히드록실기, RCO-NH- 기(식에서, R 은 C₁-C₄ 알킬 라디칼 또는 두 개의 동일 또는 상이한 C₁-C₄ 알킬 라디칼로 치환된 아미노 라디칼을 나타냄) 로 치환될 수 있는 페닐 라디칼; 벤질 라디칼; C₁-C₆ 아미노알킬 라디칼; 아민이 두 개의 동일 또는 상이한 C₁-C₄ 알킬 라디칼로 치환된 C₁-C₆ 아미노알킬 라디칼을 나타내는 것을 특징으로 하는 화합물.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상동 또는 상이할 수 있는 W₂, W₅, W'₂ 및 W'₅가 식 (a) 또는 (c) 의 화합물을 나타내는 것을 특징으로 하는 화합물.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, X₁ 이 CR₇ 기를 나타내는 것을 특징으로 하 는 화합물.
제 10 항에 있어서, X₂ 가 CR₈ 기를 나타내는 것을 특징으로 하는 화합물.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, W₃ 및 W₄가 서로 독립적으로 하기 식 (1) 내지 (3) 의 방향족 헤테로사이클을 나타내는 것을 특징으로 하는 화합물:

[식에서, R'₄, R'₅, R'₇, p, p' 및 c 는 상기 정의한 바와 같다].
제 12 항에 있어서, 방향족 헤테로사이클이 2-이미다졸륨, 2-벤즈이미다졸륨, 2-피리디늄, 3-피리디늄, 4-피리디늄, 2-퀴놀리늄, 4-퀴놀리늄, 3-피라졸륨, 4-피라졸륨, 3-인다졸륨, 4-인다졸륨, 5-인다졸륨, 6-인다졸륨 및 7-인다졸륨에서 선택되고, 두 개의 W₃ 또는 W₄ 기 중 하나 이상은 비치환 이미다졸륨기를 나타내는 것을 특징으로 하는 화합물.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, LK 가 양이온 전하를 지니지 않는 것을 특징으로 하는 화합물.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, LK 가 선형, 분지형 또는 환형의, 방향족 또는 비방향족 C₂-C₂₀ 알킬 사슬을 나타내는 것을 특징으로 하는 화합물로서:

- -O-, -NR'-, -CO- 또는 -SO₂- 를 포함하는, 하나 이상의 헤테로원자, 하나 이상의 헤테로원자를 포함하는 기, 또는 하나 이상의 헤테로원자 및 하나 이상의 헤테로원자를 포함하는 기, 또는 하나 이상의 질소 원자를 포함하는 5- 또는 6-원 헤테로원자고리로 삽입될 수 있으며; 이는 니트로, 니트로소 또는 퍼록소기 또는 LK 기에 결합이 없는 조건에서이며;

- LK 가 W'₂ 또는 W'₅ 에 결합되어 있는 경우, 헤테로 원자 또는 하나 이상의 헤테로 원자를 지니는 기로 끝날수 있으며;

- LK 가 W₆ 또는 W₁ 에 결합되어 있는 경우, -CO- 및 -SO₂-로부터 선택되는 하나 이상의 헤테로원자를 지니는 기로 끝날 수 있으며;

- 히드록시, C₁-C₂ 알콕시, C₂-C₄ (폴리)히드로알콕시, 하나 이상의 히드록실기를 지닐 수 있는 하나 이상의 선형 또는 분지형 C₁-C₂알킬기로 치환된 아미노로부터 선택된 하나 이상의 라디칼로 치환될 수 있는, 화합물.
제 15 항에 있어서, LK 가 히드록실로 치환될 수 있는 선형 또는 분지형 C₂-C₂₀, 하나 이상의 히드록실기를 지닐 수 있는 하나 이상의 선형 또는 분지형 C₁-C₄ 알킬기로 치환된 아미노를 나타내며; 추가적으로, LK 가 W'₂ 또는 W'₅ 에 결합되는 경우, LK 는 -O-, -NR'-, -CO- 또는 SO₂- 를 포함하는, 하나 이상의 헤테로원자 또는 하나 이상의 헤테로 원자를 포함하는 기로 끝날 수 있는 화합물.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 하기의 화학식 또는 그의 산부가염에 해당하는 것을 특징으로 하는 화합물:

[식 중, 동일하거나 상이할 수 있는, R₁, R₄, R₅, R'₄, R'₅, R'₇, W'₆, p 및 p'는 상기와 같은 정의를 가지며;

- r 은 1 내지 10 사이의 정수이며;

- v' 는 1 또는 2 와 같은 정수이며;

- T 는 탄소원자 또는 질소 원자이며;

- v" 는 1, 2 또는 3 과 같은 정수이며;

- 상기에 정의된 바와 같이 하나 이상의 화장용으로 허용되는 음이온 An 의 존재와 관련되는 분자의 전기적 중성이다].
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 화장용으로 적합한 음이온이 클로라이드 또는 브로마이드 같은 할라이드; 히드록시드; 설페이트; 히드로겐 설페이트; 카르보네이트, 히드로겐 카르보네이트; 퍼클로레이트; 아세테이트를 포함하는 카르복실산; 시트레이트; 타르트레이트; 메토설페이트 또는 에토설페이트 이온을 포함하는, 선형 또는 분지형 알킬 부분이 C₁-C₆인 알킬 설페이트; 아릴 부분이, 하나 이상의 C₁-C₄ 알킬 라디칼로 치환될 수 있는 아릴술폰에이트에서 선택되는 것을 특징으로 하는 화합물.
케라틴 섬유를 염색하기에 적당한 매질에, 제 1 항 또는 제 2 항에 따른, 하나 이상의 화학식 I 의 화합물, 또는 그의 산 부가염을 직접 염료로서 포함하는 염료 조성물.
제 19 항에 있어서, 화학식 I 의 화합물의 함량 또는 화학식 I 의 화합물들 각각의 함량이 염료 조성물의 총량에 대하여 0.001 중량% 내지 20 중량% 의 범위인 것을 특징으로 하는 조성물.
제 19 항에 있어서, 하나 이상의 부가적인 직접 염료, 및 커플러, 또는 이들의 혼합물과 조합될 수 있는 하나 이상의 산화 염기를 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물.
제 21 항에 있어서, 부가적인 직접 염료가 니트로벤젠 염료, 아조, 아조메틴, 메틴, 테트라아자펜타메틴, 안트라퀴논, 나프토퀴논, 벤조퀴논, 페노티아진, 인디고이드, 크산텐, 페난트리딘, 프탈로시아닌 및 트리아릴메탄계 염료 및 천연염료로부터, 단독으로 또는 혼합물로서 선택된 양이온성 또는 비이온성 염료인 것을 특징으로 하는 조성물.
제 21 항에 있어서, 산화 염기가 o-페닐렌디아민, p-페닐렌디아민, 이중 염기, o-아미노페놀, p-아미노페놀 및 헤테로사이클 염기, 이들의 산 부가염, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
제 21 항에 있어서, 커플러가 m-아미노페놀, m-페닐렌디아민, m-디페놀, 나프톨 및 헤테로사이클 커플러, 이들의 산 부가염, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
제 19 항에 있어서, 하나 이상의 산화제를 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물.
제 19 항에 따른 조성물을 목적하는 효과를 수득하기 위해 충분한 시간동안 상기 습윤 또는 건조 섬유와 접촉시켜 두는 것으로 이루어진 케라틴 섬유 염색 방법.
첫번째 구획이 제 19 항에 따른 조성물을 함유하고, 두번째 구획이 산화 조성물을 함유하는 다중 구획 장치.
제 1 항에 있어서, W₁ 및 W₆ 은, 서로 독립적으로, -NR₁- 또는 -O-기를 나타내며, 여기에서, R₁,은 수소 원자, 포화 또는 불포화된, 방향족 또는 비방향족의, 치환될 수 있는 C₁-C₁₆, 탄화수소계 사슬을 나타내며, 이는, 하나 이상의 헤테로 원자 또는 헤테로 원자 하나 이상을 가지는 기 하나 이상이 중간에 삽입될 수 있는, 하나 이상의 치환될 수 있는 3- 내지 7-원 탄소계 고리를 형성할 수 있는 화합물.
제 1 항에 있어서, W₁ 및 W₆ 은, 서로 독립적으로, -NR₁- 또는 -O-기를 나타내며, 여기에서, R₁,은 수소 원자, 포화 또는 불포화된, 방향족 또는 비방향족의, 치환될 수 있는 C₁-C₂₀, 탄화수소계 사슬을 나타내며, 이는, 산소 및 질소로부터 선택되는 하나 이상의 헤테로 원자 또는 헤테로 원자 하나 이상을 가지는 기가 중간에 삽입될 수 있는, 하나 이상의 치환될 수 있는 3- 내지 7-원 탄소계 고리를 형성할 수 있는 화합물.
제 1 항에 있어서, W'₁및 W'₆ 는 서로 독립적으로 -NR'₁R'₂- 또는 -OR'₃-기를 나타내고, 여기에서, R'₁,R'₂, 또는 R'₃ 은 서로 독립적으로, 수소 원자, 또는 포화 또는 불포화된, 방향족 또는 비-방향족의, 치환될 수 있는 C₁-C₁₆ 탄화수소계 사슬을 나타내며, 이는, 하나 이상의 헤테로 원자 또는 헤테로 원자 하나 이상을 가지는 기 하나 이상이 중간에 삽입될 수 있는, 하나 이상 치환될 수 있는 3- 내지 7-원 탄소계 고리를 형성할 수 있는 화합물.
제 1 항에 있어서, W'₁및 W'₆ 는 서로 독립적으로 -NR'₁R'₂- 또는 -OR'₃-기를 나타내고, 여기에서, R'₁,R'₂, 또는 R'₃ 은 서로 독립적으로, 수소 원자, 또는 포화 또는 불포화된, 방향족 또는 비-방향족의, 치환될 수 있는 C₁-C₂₀ 탄화수소계 사슬을 나타내며, 이는, 산소 및 질소로부터 선택되는 하나 이상의 헤테로 원자 또는 헤테로 원자 하나 이상을 가지는 기 하나 이상이 중간에 삽입될 수 있는, 하나 이상 치환될 수 있는 3- 내지 7-원 탄소계 고리를 형성할 수 있는 화합물.
제 1 항에 있어서, R₄,R₅, R₆, R'₆,R₇, R₈, R₁₀, 및R₁₁ 가 서로 독립적으로 선형 또는 분지형의, 포화 또는 불포화된, 방향족 또는 비방향족의, 치환될 수 있는 C₁-C₁₆ 탄화수소계 사슬로서, 산소 및 질소로부터 선택되는 하나 이상의 헤테로 원자 또는 헤테로 원자 하나 이상을 가지는 기 하나 이상이 중간에 삽입될 수 있는, 하나 이상 치환될 수 있는 3- 내지 7-원 탄소계 고리를 형성할 수 있는 것을 나타내는 화합물.
제 1 항에 있어서, R₄,R₅, R₆, R'₆,R₇, R₈, R₁₀, 및R₁₁ 은 서로 독립적으로 니트로기; 시아노기; 염소 또는 불소를 나타내는 화합물.
제 1 항에 있어서, R'₄는 상동이거나 또는 상이할 수 있으며, 주 고리를 치환하며, 선형 또는 분지형의, 포화 또는 불포화된, 방향족 또는 비-방향족의, 치환될 수 있는 C₁-C₁₆ 탄화수소계 사슬로서, 산소 및 질소로부터 선택되는 하나 이상의 헤테로 원자 또는 헤테로 원자를 하나 이상 가지고 있는 하나 이상의 기가 중간에 삽입될 수 있는 하나 이상의 3 내지 6-원 탄소계 고리를 형성할 수 있는 사슬을 나타내는 화합물.
제 1 항에 있어서, R'₄는 상동이거나 또는 상이할 수 있으며, 주 고리를 치환하며, 니트로기; 시아노기; 염소 또는 불소를 나타내는 화합물.
제 1 항에 있어서, R'₄는 상동이거나 또는 상이할 수 있으며, 주 고리를 치환하며, 주 고리의 2 개의 인접한 탄소 원자에 의해 생긴 2 개의 라디칼 R'₄는,하나 이상의 수소 ; 하나 이상의 히드록실기 ; 하나 이상의 C₁-C₄ 알킬 라디칼 ; 하나 이상의 C₁-C₄ 알콕시 라디칼 ; 하나 이상의 C₂-C₄(폴리)히드록시알콕시 라디칼 ; 하나 이상의 아미노 라디칼 ; 상동이거나 또는 상이할 수 있는, 하나 이상의 C₁-C₄ 알킬 라디칼로 치환되는 하나 이상의 아미노 라디칼로 치환될 수 있으며, 하나 이상의 히드록실기를 가질 수 있는, 방향족의 6-원 2 차 고리를 형성할 수 있는 화합물.
제 1 항에 있어서, 4 차화된 (quaternized) 질소 원자에 의해 생긴 R'₅는선형 또는 분지형의, 포화 또는 불포화된, 방향족 또는 비-방향족의, 치환될 수 있는 C₁-C₁₆ 탄화수소계 사슬을 나타내며, 이는 산소, 질소 및 황으로부터 선택되는 하나 이상의 헤테로 원자 하나 또는 하나 이상의 헤테로 원자를 갖는 하나 이상의 기가 중간에 삽입될 수 있는, 치환될 수 있는 3- 내지 7-원 탄소계 고리를 형성할 수 있으며; 라디칼 R'₅는 4 차화된 질소 원자에 직접 연결된 원자가 탄소 원자가 되도록 존재하는 화합물.
제 1 항에 있어서, 결합 c 는 화학식 (1) 내지 (11) 에 정의된 양이온성 라디칼을 아조기에 연결하며; 상기 결합은 주된 고리 상의 아조기와의 결합인 화합물.
제 1 항에 있어서, LK 는 포화 또는 불포화된, 선형 또는 분지형의, 환형 또는 비-환형의, 방향족 또는 비-방향족의, 하나 이상의 헤테로 원자 또는 하나 이상의 헤테로 원자를 포함하는 기가 중간에 삽입될 수 있고, 치환될 수 있는 C₂-C₂₀ 탄화수소-기재 사슬을 나타내며; LK 가 W'₂또는 W'₅ 에 연결된다면, LK 는 헤테로 원자 또는 하나 이상의 헤테로 원자를 포함하는 기로 종결될 수 있으며; LK 가 W₆ 또는 W₁ 에 연결된다면, LK 는 -CO- 및 -SO₂- 로부터 선택되는 하나 이상의 헤테로 원자를 포함하는 기로 종결될 수 있는 화합물.
제 1 항에 있어서, LK 는 포화 또는 불포화된, 선형 또는 분지형의, 환형 또는 비-환형의, 방향족 또는 비-방향족의, 산소 또는 질소인 하나 이상의 헤테로 원자 또는 하나 이상의 헤테로 원자를 포함하는 기가 중간에 삽입될 수 있고, 치환될 수 있는 C₂-C₄₀ 탄화수소-기재 사슬을 나타내며; LK 가 W'₂또는 W'₅ 에 연결된다면, LK 는 헤테로 원자 또는 하나 이상의 헤테로 원자를 포함하는 기로 종결될 수 있으며; LK 가 W₆ 또는 W₁ 에 연결된다면, LK 는 -CO- 및 -SO₂- 로부터 선택되는 하나 이상의 헤테로 원자를 포함하는 기로 종결될 수 있는 화합물.
제 1 항에 있어서, LK 는 포화 또는 불포화된, 선형 또는 분지형의, 환형 또는 비-환형의, 방향족 또는 비-방향족의, 하나 이상의 헤테로 원자 또는 하나 이상의 헤테로 원자를 포함하는 기가 중간에 삽입될 수 있고, 치환될 수 있는 C₂-C₄₀ 탄화수소-기재 사슬을 나타내며; LK 가 W'₂또는 W'₅ 에 연결된다면, LK 는 산소 또는 질소인 헤테로 원자 또는 하나 이상의 헤테로 원자를 포함하는 기로 종결될 수 있으며; LK 가 W₆ 또는 W₁ 에 연결된다면, LK 는 -CO- 및 -SO₂- 로부터 선택되는 하나 이상의 헤테로 원자를 포함하는 기로 종결될 수 있는 화합물.
제 5 항에 있어서, 상동 또는 상이할 수 있는 라디칼 R₄, R₅, R₆, R'₆, R₇, R₈, R₉, R₁₀ 및 R₁₁이 치환될 수 있는 C₁-C₈ 알킬 라디칼을 나타내는 화합물.
제 15 항에 있어서, LK 가 선형, 분지형 또는 환형의, 방향족 또는 비방향족 C₂-C₂₀ 알킬 사슬을 나타내는 것을 특징으로 하는 화합물로서, 헤테로 원자 또는 하나 이상의 헤테로 원자를 지니는 기, LK 가 W'₂ 또는 W'₅ 에 결합되어 있는 경우, 산소 또는 질소로 끝나는 것을 특징으로 하는 화합물.
제 17 항에 있어서, r 은 1 내지 5 사이의 정수인 화합물.
제 18 항에 있어서, 화장용으로 적합한 음이온이 클로라이드 또는 브로마이드 같은 할라이드; 히드록시드; 설페이트; 히드로겐 설페이트; 카르보네이트, 히드로겐 카르보네이트; 퍼클로레이트; 아세테이트를 포함하는 카르복실산; 시트레이트; 타르트레이트; 메토설페이트 또는 에토설페이트 이온을 포함하는, 선형 또는 분지형 알킬 부분이 C₁-C₆인 알킬 설페이트; 페닐이, 하나 이상의 C₁-C₄ 알킬 라디칼로 치환될 수 있는 아릴술폰에이트에서 선택되는 것을 특징으로 하는 화합물.
제 20 항에 있어서, 화학식 I 의 화합물의 함량 또는 화학식 I 의 화합물들 각각의 함량이 염료 조성물의 총량에 대하여 0.01 중량% 내지 10 중량% 의 범위인 것을 특징으로 하는 조성물.