KR20030027042A - 차별적으로 경화된 물질 및 이를 형성하기 위한 공정 - Google Patents

차별적으로 경화된 물질 및 이를 형성하기 위한 공정 Download PDF

Info

Publication number
KR20030027042A
KR20030027042A KR10-2003-7002376A KR20037002376A KR20030027042A KR 20030027042 A KR20030027042 A KR 20030027042A KR 20037002376 A KR20037002376 A KR 20037002376A KR 20030027042 A KR20030027042 A KR 20030027042A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
pattern
radiation
cured
cured portion
radiation curable
Prior art date
Application number
KR10-2003-7002376A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100798172B1 (ko
Inventor
패트릭 더블유. 뮬렌
Original Assignee
리플렉사이트 코포레이션
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 리플렉사이트 코포레이션 filed Critical 리플렉사이트 코포레이션
Publication of KR20030027042A publication Critical patent/KR20030027042A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100798172B1 publication Critical patent/KR100798172B1/ko

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C35/00—Heating, cooling or curing, e.g. crosslinking or vulcanising; Apparatus therefor
    • B29C35/02—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould
    • B29C35/08—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/001—Phase modulating patterns, e.g. refractive index patterns
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C35/00—Heating, cooling or curing, e.g. crosslinking or vulcanising; Apparatus therefor
    • B29C35/02—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould
    • B29C35/08—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation
    • B29C35/0888—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using transparant moulds
    • B29C35/0894—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using transparant moulds provided with masks or diaphragms
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C35/00—Heating, cooling or curing, e.g. crosslinking or vulcanising; Apparatus therefor
    • B29C35/02—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould
    • B29C35/08—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation
    • B29C35/10—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation for articles of indefinite length
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
    • B29D11/00605—Production of reflex reflectors
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/04—Prisms
    • G02B5/045—Prism arrays
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/12—Reflex reflectors
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C35/00—Heating, cooling or curing, e.g. crosslinking or vulcanising; Apparatus therefor
    • B29C35/02—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould
    • B29C35/08—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation
    • B29C35/0805—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using electromagnetic radiation
    • B29C2035/0827—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using electromagnetic radiation using UV radiation
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
    • B29K2105/00—Condition, form or state of moulded material or of the material to be shaped
    • B29K2105/24—Condition, form or state of moulded material or of the material to be shaped crosslinked or vulcanised
    • B29K2105/243—Partially cured
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
    • B29K2995/00—Properties of moulding materials, reinforcements, fillers, preformed parts or moulds
    • B29K2995/0018—Properties of moulding materials, reinforcements, fillers, preformed parts or moulds having particular optical properties, e.g. fluorescent or phosphorescent
    • B29K2995/003—Reflective
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29L—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS B29C, RELATING TO PARTICULAR ARTICLES
    • B29L2011/00—Optical elements, e.g. lenses, prisms
    • B29L2011/0083—Reflectors
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24479—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including variation in thickness

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Oral & Maxillofacial Surgery (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Ophthalmology & Optometry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Credit Cards Or The Like (AREA)
  • Heating, Cooling, Or Curing Plastics Or The Like In General (AREA)

Abstract

구조물은 동일한 광경화성 물질로부터 형성된 제 1 경화된 부분 및 제 2 경화된 부분을 포함하는 층을 포함한다. 제 1 경화된 부분은 제 1 양으로 경화되고, 제 2 경화된 부분은 제 2 양으로 경화된다. 제 1 양은 제 2 양과 충분히 상이하여 구조물의 표면상에 가시적인 불연속성을 생성한다. 방사선 경화성 물질에 패턴을 형성하는 방법은 방사선 공급원 및 방사선 경화성 물질 사이에, 방사선 공급원으로부터 방사선의 일부를 차단할 수 있는 패턴을 제공하는 것을 포함한다. 물질은 방사선 공급원의 방사선으로 경화되어 방사선 경화성 물질에 패턴을 형성한다.

Description

차별적으로 경화된 물질 및 이를 형성하기 위한 공정 {DIFFERENTIALLY CURED MATERIALS AND PROCESS FOR FORMING SAME}
기술배경
많은 역반사 시팅(sheeting), 평행화(collimating) 필름 등은 제조하기에 어렵고 고가인 금속 몰드에서 엄격한 크기로 제조된다. 이 금속 몰드는 시팅 및 필름의 고급 시장으로의 도입에 있어 중요한 장벽일 수 있다. 그러나 역반사 시팅 및 평행화 필름의 모조품 제조자들은 고급 시팅 및 필름으로부터 저가의 저급 몰드를 형성할 수 있다. 이러한 복제를 방지하는 수단으로서, 금속 몰드에는 종종 회사 로고 또는 상표가 새겨져 로고 또는 상표가 최종 모조품상에 나타나게 할 수 있다. 이러한 로고 첨가의 단점은 필요한 공차로 세겨지는 것이 더 어려울 수 있다는 것이다.
따라서, 보다 우수한 표식을 가진 제품 및 제품을 보다 우수하게 제조하는 방법에 대한 필요성이 존재한다.
발명의 요약
구조물은 동일한 광경화성 물질로부터 형성되는 제 1 경화된 부분 및 제 2 경화된 부분을 포함하는 층을 포함한다. 제 1 경화된 부분은 제 1 양으로 경화되고, 제 2 경화된 부분은 제 2 양으로 경화된다. 제 1 양은 제 2 양과 충분히 상이하여 구조물의 표면에 가시적인 불연속성을 생성한다. 층은 기부와 연결될 수 있다. 층 및 기부는 동일한 물질로 형성될 수 있다. 경화의 제 1 양은 경화의 제 2 양과 충분히 상이하여, 제 1 부분의 두께와 제 2 부분의 두께의 차가 약 0.05 내지 2.0 마이크로미터의 범위내를 보인다. 가시적인 불연속성은 입사광이 융기부 또는 함몰부를 가지지 않는 표면의 일부와 충돌할 경우에 입사광이 빛의 상이한 음영을 보이도록 하는 구조물 표면의 융기부 또는 함몰부로 생각된다. 가시적인 불연속성은 육안으로 식별될 수 있다. 층은 선형 프리즘 또는 큐브-코너 프리즘과 같은 프리즘 어레이, 렌즈 구조물, 또는 부파장 구조물일 수 있다.
방사선 경화성 물질에 패턴을 형성하는 방법은 방사선 공급원과 방사선 경화성 물질사이에 방사선 공급원으로부터 방사선의 일부를 차단할 수 있는 차단 패턴을 제공하는 것을 포함한다. 물질은 차단 패턴을 통하여 방사선 공급원의 방사선으로 경화되어, 방사선 경화성 물질에 패턴을 형성한다.
패턴 전사 구조물은 방사선을 방출하기 위한 방사선 공급원, 방사선에 의해 경화될 수 있는 방사선 경화성 물질 및 방사선의 일부를 차단하기 위한 패턴을 포함한다. 패턴은 물질 경화시에 방사선 공급원 및 방사선 경화성 물질 사이에 놓여 패턴이 물질에 형성된다.
프리즘 구조물을 형성하는 방법은, 프리즘 몰드를 제공하고, 몰드에 방사선 경화성 물질을 위치시키는 것을 포함한다. 방사선 경화성 물질의 일부를 차단할 수 있는 패턴이 방사선 공급원과 방사선 경화성 물질 사이에 제공된다. 방사선 경화성 물질은 방사선 공급원의 방사선으로 경화되어 방사선 경화성 물질에 패턴을형성한다.
프리즘 구조물은 기부 및 기부에 연결된 프리즘 어레이를 포함한다. 프리즘 어레이는 동일한 방사선 경화성 물질로부터 형성된 제 1 경화된 부분 및 제 2 경화된 부분을 포함한다. 제 1 경화된 부분은 제 1 굴절율 값을 가지고, 제 2 경화된 부분은 제 1 굴절율 값과 충분히 다른 제 2 굴절율 값을 가져서 구조물의 표면에 가시적인 불연속성을 생성한다.
본 발명은 투명한 물질에 영구한 패턴을 형성하는 것을 포함하여 많은 이점을 가지고 다른 기능을 그다지 손상시키지 않는다. 상기 물질은 패턴이 종이의 투명 마크와 유사하게 작용하도록 하여 위조하기 어려운 제품 공급원의 표시 수단을 제공할 수 있다. 또한, 패턴은 패턴을 가지는 구조물을 통하여 투과되는 광로를 변경함에 의해 빛을 취급하는 기능을 수행할 수 있다.
도면의 간단한 설명
도 1은 방사선 경화성 물질 및 경화성 물질에 패턴을 형성하기 위해 방사선 경화성 물질 위쪽에 위치한 패턴 층의 등각 투상도이다.
도 2는 패턴이 형성된 방사선 경화성 물질의 등각 투상도이다.
도 3은 나방눈 구조물이 형성된 역반사성 구조물의 등각 투상도이며, 여기서 나방눈 구조물은 본 발명의 다른 구체예에 따라 형성된 패턴을 가진다.
도 4는 표준 평행화 필름의 투시도이다.
도 5는 차별적으로 경화된 평행화 필름의 투시도이다.
도 6은 차별적으로 경화된 평행화 필름을 형성하는 방법의 개략도이다.
도 7은 다른 구체예의 횡단면도이다.
도 8은 도 7의 구체예의 투시도이다.
도 9는 로고 패턴의 구체예를 도시한다.
도 10은 패턴 전사 공정으로 제조된 필름의 표면에 걸쳐 만들어진 간섭현미경 추적에 따른 표면 프로파일의 좌표를 도시한다.
본 발명의 앞서 말한 목적 및 다른 목적, 특징 및 이점은, 참조 번호가 상이한 측면에서도 동일한 부분을 의미하는 첨부된 도면에 도시된 바와 같이 본 발명의 바람직한 구체예의 하기 보다 상세한 기술로부터 명백할 것이다. 도면은 반드시 일정한 비율인 것은 아니며 대신에 본 발명의 원리를 설명하는데 중점을 두었다. 모든 부분 및 비율은 다르게 특정되지 않는 한 중량을 의미한다.
발명의 상세한 설명
본 발명의 바람직한 구체예를 하기에 설명한다. 전체적으로, 본 발명은 방사선 경화성 물질에 패턴을 형성하는 것에 관한 것이다. 일 구체예에서, 패턴은 물질에 실질적으로 수직한 방향으로 볼 경우에 투명하다. 그러나, 패턴은 수직에서 약 15도의 각으로 보면 보다 더 투명하게 보일 수 있다.
도 1은, 방사선 공급원(14) 및 방사선 경화성 물질(12)사이에 놓여진 예를 들어, 마스크 또는 패턴 층(10)에 의해 제공된 "ABC" 패턴 예와 같은 패턴을 형성하기 위한 본 발명의 구체예를 도시한다. 일 구체예에서, 마스크 층(10)은 폴리카르보네이트, 폴리에틸렌, 폴리부티렌 등을 포함할 수 있고, 저점착성 접착제(low-tack adhesive)를 포함할 수 있다. 경화성 물질(12)은 물질 예를 들어, 폴리에스테르, 우레탄 또는 에폭시 아크릴레이트 및 메트아크릴레이트로부터 제형화된 코팅 및 미세구조화되거나 패턴형성된 물질을 포함할 수 있다. 충전제, 자유 라디칼 개시제 및 양이온 개시제를 포함하는 다양한 첨가물이 물질(12)에 포함되어 공정 또는 성능을 개선할 수 있다. 예를 들어, 사르토머 컴퍼니 불레틴 제 4018호 또는 제 4303호(Sartomer Company Bulletin Nos. 4018 or 4303)를 참조할 수 있다. 방사선 공급원(14)은 바람직하게는 화학선 방사를 제공하고, 이는 경화성 물질(12)에 광화학 활성을 유발한다. 예를 들어, 통상적인 자외선 광이 사용될 수 있다.
패턴 층(10)에는 최소한 방사선 공급원의 방사선 일부를 차단하여 유사한 패턴을 경화된 물질(12)에 남기는 임의의 종류의 물질이 포함될 수 있다. 예를 들어, 패턴은 투명 중합체 필름에 인쇄된 통상적인 인쇄 잉크를 사용하는 것과 같이 채색된 패턴에 의해 형성될 수 있다. 패턴은 또한 필름의 투명도를 달성하는 엠보싱 패턴에 의해 형성될 수 있다. 일 구체예에서, 패턴은 경화성 물질(12)을 가지는 기판의 어느 한쪽에 직접 적용될 수 있고, 경화후에 경화된 층(12)에 경화된 패턴을 남기는 이 패턴은 제거되거나 제거되지 않을 수 있다. 대안적인 구체예에서, 패턴 층(10)에는 자외선 차단 화학물질을 함유하는 채색되거나 반투명한 필름 물질 또는 투명 수지와 같은 스텐실 등이 포함될 수 있다.
도 2에 도시된 바와 같이, 패턴 층(10)은 제거되었지만, 패턴 "ABC"는 경화된 물질(12)에 전사되었다. 패턴이 물질(12)의 경화율을 변화시켜 경화된 물질에 패턴을 형성하는 것으로 생각된다. 한 이론은 형성된 패턴의 분자가 위쪽에 마스크를 가지지 않는 분자보다 더 긴 가교 시간을 가짐에 따라 더 조밀하게 된다는 것을 제시한다. 이러한 보다 조밀한 구역은 상이한 굴절율을 가지는 것으로 보인다. 패턴은 약 15도의 각도에서 가장 잘 보인다.
도 3은 물질에 패턴을 형성하기 위한 다른 구체예를 도시한다. 이 구체예에서, 패턴 층(10)은 예를 들어 선형 또는 큐브-코너 프리즘을 함유할 수 있는 경화된 역반사 구조물(16) 위쪽에 위치한다. 적합한 큐브-코너 프리즘의 예가 1972년 8월 15일에 로우란드(Rowland)에게 발행된 미국 특허 제 3,684,348호에 공개되어 있다.
나방눈 구조물(18)은 도 3에 도시된 바와 같이 역반사성 구조물(16)의 반대편에 형성될 수 있다. 나방눈 구조물은 2001, 5월 17일에 공개된 국제 공개번호 제 WO 01/35128호에 해당하는, 1999년 11월 12일에 출원된 미국 출원 번호 제 09/438,912호에 보다 상세하게 설명되어 있다. 나방눈 구조물(18)은 패턴 층(10)을 통하여 방사선 공급원(14)에 의해 경화되어, 패턴이 나방눈 구조물(18) 또는 방산 구조물 또는 다른 적합한 구조물에 형성된다.
바람직하게 적용된 부파장 구조물은 약 0.4마이크론의 진폭을 가지고 약 0.3마이크론 미만의 주기를 가진다. 구조물은 외관상 사인 곡선을 보이고, 입사각에서 볼 경우에 짙은 녹색 내지 짙은 청색을 제공할 수 있다. 바람직하게는, 진폭은 주기보다 2배 커서 가로 세로 비가 2 이상이다.
부파장 구조물을 형성하기 위하여, 구조물은 처음에 자외선 레이저를 사용한 홀로그래피 노출에 의해 광저항성 유리 기판 상에 생성된다. 적합한 장치는 홀로프래픽 리쏘그래피 시스템즈(Holographic Lithography Systems of Bedford,Massachussetts)로부터 입수될 수 있다. 방법의 한 예가 1977년 3월 22일에 클라팜 등(Clapham et al.)에게 발행된 미국 특허 제 4,013,465호에 공개되어 있다. 이러한 방법은 환경의 임의의 변화 예를 들어, 온도 및 먼지에 민감하여 주의해야 한다. 다음에, 구조물은 전기주조 공정에 의해 니켈 심(shim)으로 전환된다.
다른 구체예에서, 미세 패턴은 마스크 층(10)상에 형성될 수 있다. 예를 들어, 패턴은 너비가 10분의 몇 밀리리터 이하일 수 있다. 경화된 경우에 바람직하게는 실질적으로 투명한 경화성 물질이 패턴의 마스크 층(10)의 반대편에 형성되고 방사선 공급원(14)에 의해 경화된다. 따라서 미세 패턴은 경화된 물질에 전사된다. 마스크 층(10)은 제거되고, 경화된 시트는 액정 디스플레이와 같이 디스플레이 앞쪽에 위치된다. 미세 패턴은 방산제 시트의 경우와 같이 많은 광 손실없이 디스플레이에서 화소 패턴을 흩뜨린다.
배각을 가지는 형상을 생성하기에 바람직한 방사선 경화된 주조 공정에서, 이 형상의 재생산을 위하여 사용될 몰드에 배각 형상이 통상적으로 컷팅된다. 이는 각의 작은 변화가 제품 성능에 강한 영향을 줄 수 있는 광 유도 또는 광반사 제품의 제조에 일반적인 사실이다. 몰드의 컷팅 및 복제는 비용 및 시간 소비적인 공정이다.
본 발명으로 단일 몰드 설계로부터 제품에 다양한 각 및 패턴 변형을 생성할 수 있다. 몰드 형성된 구조물의 형성 및 방사선 경화에 앞서 캐리어 시트 또는 필름의 표면상에 "광마스크"가 프린트된다. "광마스크"는 투명하거나 채색될 수 있고 캐리어의 어느 한 쪽에 적용될 수 있다. 경화 방사선이 매우 평행한 경우에, "마스크"를 반투명하게 해서 그 구역에서 느리게 경화시킬 수 있는 것이 바람직하다. 방사선이 덜 평행한 경우에, 마스킹된 구역으로의 산란 및 반사에 의하여 완전히 불투명한 마스크를 통하여 경화를 수행할 수 있다.
다음에, 생성된 제품은 "마스크"에 의해 방해된 경화 속도와 관련된 수축 및 굴절율의 변화로 인하여 마스킹되었던 구역에서 상이한 광학적 양상을 보인다.
도 4는 선형 피크(34) 및 골(36)을 가지는 선형 프리즘(32)을 가지는 통상적인 평행화 필름(30)의 투시도이다. 피크(34)의 제 1 면(36) 및 제 2 면의 이면각은 통상적으로 90도이다. 그러나, 이는 비직각일 수 있다. 선형 프리즘(32)는 기부 필름(40)상에 형성될 수 있다.
도 5는 차별적으로 경화된 평행화 필름(50)의 프리즘 어레이(52)의 투시도이다. 프리즘(54)와 같은 마스크에 의해 차단되지 않은 프리즘의 다수가 선형 피크(56)을 가진다. 프리즘(58)과 같은 차단된 프리즘의 다수는 만곡된 피크(60)를 가진다. 만곡된 피크는 주변 영역에 비하여 경화율을 감소시키거나 증가시키는 마스크를 통하여 경화한 결과이다. 통상적으로, 만곡된 피크(60)는 프리즘(58)의 선형 피크(56)의 정상적인 정점과 비교하여 뾰족하다. 구역(62)는 보다 넓은 광 분포를 생성할 수 있는 다른 구역에 대하여 만곡될 수 있다. 상기 프리즘에서 피크의 만곡된 중심 선(66)은 사용된 경화 마스크에 따라 정상 중심 선(64)에 대하여 중심을 벗어날 수 있다. 상기 구역(62)은 또한 다른 영역에 대하여 다소 상이한 굴절율을 가질 수 있다. 이 프리즘은 기부 필름(68) 예를 들어, 폴리에스테르, 플리카르보네이트, 폴리우레탄, 아크릴 및 폴리비닐 클로라이드상에 형성될 수 있다.바람직하게는, 마스크는 평행화 필름과 같이, 형성될 생성물 영역의 약 50%까지 덮을 수 있다. 차별적인 경화 영역의 모양은 본질적으로 임의의 형태이거나 크기일 수 있다. 이는 코너 또는 가장자리와 같은 시트의 특정 영역에서 광/분포를 조절할 수 있게 한다. 또한, 구조물의 영역의 보다 큰 비율이 적외선에 노출된 것과 비길 만큼 차단된다면, 노출된 부분이 상승된 부분 또는 돌출부를 생성할 수 있다. 구조물의 영역의 보다 적은 비율이 자외선에 노출된 것과 비길 만큼 차단된 구조에서 구조물은 함몰부와 같은 외관을 가질 수 있다.
차단된 영역에서, 프리즘은 차별적인 경화 수축 패턴으로 인한 나노미터 크기의 줄무늬를 가질 수 있다. 이러한 줄무늬는 수직한 선형 나방눈 구조물처럼 작용할 수 있다. 일부 줄무늬는 피크로부터 골까지 연장될 수 있다. 줄무늬는 마스크 패턴에 따라 약 250 내지 770 나노미터의 너비를 가질 수 있다. 줄무늬는 상부에 광터널을 생성할 수 있다.
큐브-코너 프리즘을 포함하여 많은 다른 타입의 프리즘이 사용될 수 있다. 큐브-코너 또는 프리즘 역반사는 1973년 1월 23일에 스탐(Stamm)에게 발행된 미국 특허 제 3,712,706호에 기술되어 있다. 일반적으로, 프리즘은 금속 플레이트 또는 다른 적합한 물질의 평평한 표면상에 마스터 음성 염료를 형성함에 의해 제조된다. 큐브-코너를 형성하기 위하여, 60도 간격의 평행한 등거리 교차 V형 그루브의 세개 시리즈가 평평한 플레이트에 내접한다. 다음에 염료를 사용하여 요망되는 큐브-코너 어레이를 견고하고 평평한 플라스틱 표면으로 가공한다. 구조물 및 큐브-코너 마이크로프리즘의 작동에 관한 더 자세한 사항은 1972년 8월 15일에로우란드(Rowland)에게 발행된 미국 특허 제 3,684,348호에서 찾을 수 있다. 또한, 패턴 전사 개념은 매끄러운 표면상에 구조화된 코팅을 형성하고 또한 서브마이크론 내지 마이크론 크기 표면의 마이크로 광학 어레이상에 패턴 구조를 형성하는 것을 포함할 수 있다. 또한, 패턴은 플라노 표면, 프리즘 표면, 렌즈 구조물 등에 위치될 수 있다. 이 패턴은 임의적이거나, 배열되거나, 메세지를 전달하도록 설계될 수 있다.
도 6과 관련하여, 차별적으로 경화된 평행화 필름을 형성하는 방법이 보다 상세하게 설명될 것이다. 몰드(102)는 몰드가 회전하는 축에 본질적으로 평행한 선형 그루브(104)에 좌우된다. 선형 그루브는 약 0.05 내지 0.02mm(0.002 내지 0.008 인치)로 핀치될 수 있다. 기부 필름(104)은 롤(106)로부터 회전하지 않는다. 기부 필름(104)은 폴리에스테르와 같은 적합한 물질일 수 있다. 마스크 필름(108)은 제 2 롤(110)으로부터 롤링되지 않는다. 마스크 필름은 폴리에스테르와 같은 적합한 물질로 형성될 수 있고, 형성시에 불투명 도안이 투명 마스크 필름에 인쇄될 수 있다. 불투명 도안은 도안이 오버헤드 트랜스패런시상에 인쇄되는 것과 동일한 방식으로 마스크 필름상에 인쇄될 수 있다. 기부 필름(104) 및 마스크 필름(108)은 롤러(102)에 접하여 제 1 핀치 롤러(112)에 의해 함께 핀치된다. 기부 필름(104) 및 마스크 필름은 제 2 핀치 롤러(114)까지 몰드(102)와 가까이 접하여 있는다. 다른 구체예에서, 기부 필름 및 마스크 필름은 단일 박판으로서 함께 적층되어 단일 롤로부터 회전하지 않을 수 있다.
다른 구체예에서, 제거가능한 패턴은 수용성 잉크 등과 같은 적합한 광 차단물질로 기부 필름의 제 1 면상에 직접 프린팅될 수 있다. 광경화성 물질의 경화성 층이 기부 필름의 제 2 면상에 놓여질 수 있고, 경화성 층은 패턴 및 기부 필름을 통하여 경화성 층에 도달되는 빛의 존재하에 차별적으로 경화된다. 층을 차별적으로 경화한 후에, 제거가능한 패턴은 기부 필름으로부터 제거된다. 예를 들어, 수용성 잉크에 대해서는 물과 같은 용매로 제거될 수 있다. 그러나, 기부 필름상에서 광 차단 패턴을 형성하는 데 사용된 잉크 또는 다른 물질에 따라, 다른 용매 예를 들어, 알코올, 탄화수소 등이 사용될 수 있다. 상기 구체예의 이점은 분리된 마스크 필름이 필요하지 않다는 것이다.
프리즘 단량체 물질(116)은 핀치 롤러(112)에 인접한 점(118)에 위치한다. 아크릴릭과 같은 단량체 물질은 몰드(102)의 그루브(120)로 흐른다. 프리즘 단량체 물질(116)은 자외선 램프(122, 124)를 통과할 때 부분적으로 차단된 자외선 광에 의해 차별적으로 경화되어 차별적으로 경화된 평행화 필름(126)을 형성한다. 차별적으로 경화된 평행화 필름(126)은 와인드업 롤러(128)에 의해 감긴다. 마스크 필름(108)은 제 2 와인드업 롤러(130)상에서 감긴다.
차별적으로 경화된 부분을 가지는 평행화 필름에서, 빛은 빛의 상이한 음영을 생성하는 평행화 필름을 통과한다. 더 밝은 부분은 90도 선형 프리즘을 가진 구역을 포함한다. 더 어두운 부분을 가진 영역은 마스크에 의해 차별적으로 경화된 프리즘을 포함한다. 이러한 더 어두운 부분에서, 프리즘은 상이한 경화율로 인하여 다소 일그러지고 빛이 더 넓은 범위에 퍼지기 때문에 더 어둡게 보인다.
광선 제어(light directing) 필름 시팅은 역광 시스템에서 빛을 평행화하기위하여 사용될 수 있다. 광선 제어 필름 시팅(200)은, 도 7의 횡단면도 및 도 8의 투시도에 도시된 바와 같이, 약 50 내지 250 마이크로미터(0.002 내지 0.01 인치)의 두께를 가지는, 투명 폴리에스테르 필름 예를 들어 ICI 듀퐁 4000 PET 또는 폴리카르보네이트 예를 들어 로랜드 테크놀로지스 "로텍" 필름 (Rowland Technologies "Rowtec" film)으로 형성된 기부 필름(202)를 포함한다. 바람직한 구체예에서, 시팅은 약 0.1 내지 0.15 mm (0.004 내지 0.006 인치)의 두께와 약 1.49 내지 1.59의 굴절율을 가질 수 있다.
면(206)을 가지는 투명 선형 프리즘(204)의 시리즈는 기부 필름(202) 위쪽에 형성된다. 면(206)은 이소셀(isoscele)일 수 있다. 선형 프리즘(204)은 시팅을 가로질러 연장된다. 프리즘은 사르토머 케미칼 코.(Sartomer Chemical Co.)로부터 입수가능한 중합된 CN104 폴리아크릴레이트와 UCB 케미칼의 RDX51027의 혼합물과 같은 투명 수지로 형성된다. 선형 프리즘은 프리즘 당 약 25 내지 100 마이크로미터(0.001 내지 0.004 인치)의 거리, 바람직하게는 약 48 마이크로미터 (0.0019 인치)의 거리(P)로 피칭된다. 선형 프리즘은 약 20 내지 100 마이크로미터 (0.0008 내지 0.004 인치)의 높이, 바람직하게는 약 25 마이크로미터 (0.001 인치)의 높이(h)를 가진다. 선형 프리즘은 시팅에서 88도 또는 90도의 바람직한 값을 가지는 요망되는 피크 각(α)으로 피크(206)을 향한다. 기부 각 β1및 β2는 동일하거나 상이할 수 있다. 선형 프리즘(204)는 보스틱 케미칼(Bostik Chemical)에서 입수가능한 7650TC 아크릴계 접착제와 같은 광학 프리즘 접착 층(208)에 의해 기부필름(202)에 부착될 수 있다. 프리즘 부착 필름(208)은 약 2.5 내지 12 마이크로미터 (0.001 내지 0.0005 인치)의 두께(a1)을 가진다.
기부 필름(202)의 비프리즘 면(210)상에 패턴 구조물(212)가 예를 들어 프리즘 면 접착 층과 동일하거나 이에 유사한 수지 조성물로 형성된다. 패턴 구조물(212)는 패턴 접착 층(214)에 의해 기부 필름(202)에 부착될 수 있고, 이는 프리즘 부착 층(208)과 물질 및 두께(a2)면에서 유사하다. 패턴 구조물(212)은 약 2.5 내지 12 마이크미터 (0.0001 내지 0.0005 인치)의 두께를 가진다.
도 9에 도시된 바와 같이, 패턴 구조물(230)은 로고(232)를 포함하고, 이 로고는 네 개의 둔각 부등변 삼각형의 배열이다. 로고는 회사명, 상표, 숫자 또는 다른 요망되는 도안일 수 있다. 패턴 구조물은 레이저 프린터에 의하여 폴리에스테르 오버헤드 프로젝터 시팅과 같은 시팅상에 인쇄될 수 있다. 도시된 구체예에서, 로고는 약 매 13mm마다 제 1 축상에 선으로 반복된다. 각 선의 로고는 로고의 반쯤이 다음 로고에서 급격히 만곡되고, 선은 제 1축에 수직인 런/웹 방향의 제 2 축을 따라 약 매 7.5mm로 반복한다. 로고의 선은 너비가 약 0.5mm이다. 다른 유형의 도안에는 평행선 음영, 기하학적 형태, 숫자, 문자 등이 포함된다.
도 8을 다시 보면, 선은 비프리즘 면의 표면의 함몰부(216) 또는 융기부이다. 함몰부(216)는 평균 1 마이크로미터의 깊이로, 약 0.3 내지 2.0의 깊이(d)럴 가질 수 있다. 함몰부는 가장자리(218)에서 저점(220)으로의 경사가 일정하지 않다. 함몰부는 경사가 1도 높이이고 기부 필름(102) 표면에 0.5도 평균 기울기를가질 수 있다.
패턴 구조물은 기부 필름의 한 면상에서 일시적으로 마스크 필름을 위치시킴에 의해 형성될 수 있다. 마스크 필름은 마스크 필름 상에 형성되어 자외선 공급원으로부터 마스크 필름을 통하여 기부 필름으로 통과하는 자외선 광의 일부를 차단할 수 있는 로고, 기하학적 형태(선, 원, 커브 등), 영숫자 또는 임의의 다른 도안을 가진다. 로고가 인쇄되지 않은 마스크 필름의 일부는 자외선에 보다 더 투과적이다. 기부 필름의 다른 면상에서, 접착 층은 증착되고 경화되지 않은 방사선 경화성 수지는 접착 층상에 위치된다. 자외선은 자외선 공급원으로부터 마스크층, 기부 층, 접착층을 통하여 수지 층에 도달한다. 수지 층은 자외선 광 강도가 수지층에 인쇄된 패턴에 의해 고르지 않게 차단되어 패턴 구조물을 생성하기 때문에 차별적으로 경화된다. 패턴 구조물은 고르지 않고 단편화되어 있다. 자외선 광이 가장 크게 차단되는 수지 층의 일부는 표면에 가장 깊은 함몰부를 가진다. 자외선에 노출된 일부는 상대적으로 평평한 표면을 가진 단편을 생성한다. 다음에, 마스크 필름은 기부 필름으로부터 제거된다. 선형 프리즘은 마스크 필름이 위치한 기부 필름의 동일한 면상에 주조될 수 있다. 선형 프리즘은 기부 필름을 통하여 향하는 자외선에 의해 경화될 수 있다. 선형 프리즘은 고르지 않고 단편화된 패턴 구조물을 통과하는 자외선 광에 노출된 부분에서 다소 차별적으로 경화될 수 있다.
필름은 광 유도부와 액정 디스플레이와 같은 디스플레이 사이에 위치할 수 있다. 미세 패턴은 확산제 시트와 같은 광 손실없이 디스플레이상에 화소 패턴을 흩뜨린다. 필름 상의 패턴 구조물은 필름을 가로질러 용이하게 보일 수 있다.
필름은 단일 시트 또는 두개의 시트 또는 더 많은 시스템으로서 사용될 수 있다. 2개의 시스템은 동일한 방향을 향하는 선형 프리즘 피크를 가지고 각 시트상의 피크의 길이는 종종 90도로 교차된다.
실시예 1
선형 프리즘을 폴리카르보네이트상에서 주조하고, 청색의 "PEEL" 패턴이 인쇄된 번호 30LC 마스크 필름(Ivex Packaging Corporation에 의해 제조됨)으로 덮었다. 나방눈 구조물을 프리즘의 반대편에 주조하고, 아이 울트라바이올레트 코오퍼레이션(Eye Ultraviolet Corporation)에 의해 제조된 두개의 157-236 와트/선형 센티미터(400-600 와트/선형 인치) 자외선 램프를 지나서 분당 약 12미터(분당 40피트)의 웹 속도로 자외선을 방사하여 경화하였다. 마스크 필름이 제거된 후에, 경화된 나방눈 구조물은 0도 시각에서 용이하게 볼 수 없으나 약 15도 시각에서 명백하게 되는 "PEEL" 패턴을 보유한다.
실시예 2
영숫자 이미지를 로우란드 테크놀로지 인코포레이티드에 의해 제조된 폴리카르보네이트 필름의 밀착 마스크 샘플상의 마스크 필름의 표면상에 수기하였다. 일반적으로 입수가능한 펠트 팁 마커 펜을 이미지를 형성하는데 사용하였다. 에폭시 아크릴레이트의 자외선 경화성 코팅을 폴리카르보네이트 필름의 다른 면에 적용하여 선형 센티미터 당 236 와트 (선형 인치 당 600 와트) 램프하에서 분당 약 4.6미터로 경화하였다. 마스크 필름을 제거하고 경화된 코팅을 다양한 각도에서 시각적으로 검사하였다. 마스크 필름상에 있는 이미지는 경화된 코팅에서 낮은 시각에서가시적이었다.
실시예 3
도 10은 패턴 전사 공정으로 제조된 필름의 표면을 가로질러 만들어진 간섭현미경 추적에 따른 표면 프로파일의 플롯를 도시한다.
형상의 높이는 적색광의 1 파장보다 다소 적다. 적색광 파장은 632.8nm(2.49×10-5)였다. 특징의 높이는 약 500 내지 900nm(1.9685×10-5내지 3.5433×10-5인치)였다. 평균 높이는 약 640nm(2.5197×10-5인치)였다.
형상의 높인 및 경사는 빛이 필름을 통과할 때 일부 광 편향을 유발한다. 그러나, 밝기에 대한 효과는 약 1 퍼센트 추가에 의해 양성인 것으로 보인다. 추가적으로 이들 형상은 필름이 서로 쌓여 있는 경우에 평행화 필름의 프리즘 피크에 대해 정지 점으로서 작용할 수 있어서, 대부분의 프리즘 피크가 마모에 의해 손상받는 것을 방지한다.

Claims (30)

  1. 동일한 광경화성 물질으로부터 형성되는 제 1 경화된 부분 및 제 2 경화된 부분을 포함하는 층을 포함하는 구조물에 있어서, 제 1 경화된 부분이 제 1 양으로 경화되고 제 2 경화된 부분이 제 2양으로 경화되며, 제 1 양이 제 2 양과 충분히 상이하여 구조물의 표면상에 가시적인 불연속성을 생성하는 구조물.
  2. 제 1항에 있어서, 층이 기부에 연결됨을 특징으로 하는 구조물.
  3. 제 2항에 있어서, 층과 기부가 동일한 물질로 형성됨을 특징으로 하는 구조물.
  4. 제 1항에 있어서, 제 1 양이 제 2 양과 충분히 상이하여 제 1 부분의 두께와 제 2 부분의 두께의 차가 약 0.05 내지 2.0 마이크로미터의 범위내가 되도록 함을특징으로 하는 구조물.
  5. 제 1항에 있어서, 광경화성 물질이 폴리에스테르, 우레탄, 에폭시 아크릴레이트 및 메트아크릴레이트로 구성된 군으로부터 선택됨을 특징으로 하는 구조물.
  6. 제 1항에 있어서, 기부가 폴리에스테르, 폴리카르보네이트, 폴리우레탄, 아크릴 및 폴리비닐 클로라이드로 구성된 군으로부터 선택된 물질로 형성됨을 특징으로 하는 구조물.
  7. 제 1항에 있어서, 층이 선형 프리즘을 포함함을 특징으로 하는 구조물.
  8. 제 1항에 있어서, 층이 렌즈 구조물을 포함함을 특징으로 하는 구조물.
  9. 제 1항에 있어서, 층이 큐브-코너 프리즘을 포함함을 특징으로 하는 구조물.
  10. 제 1항에 있어서, 층이 부파장(sub-wavelength) 구조물을 포함함을 특징으로 하는 구조물.
  11. 제 1항에 있어서, 제 1 경화된 부분이 로고, 기하학적 형태 또는 영숫자를 나타내도록 형성됨을 특징으로 하는 구조물.
  12. 제 1항에 있어서, 제 1 경화된 부분이 제 2 경화된 부분의 굴절율과 상이한 굴절율을 가짐을 특징으로 하는 구조물.
  13. 제 1항에 있어서, 제 1 경화된 부분이 제 2 경화된 부분의 밀도와 상이한 밀도를 가짐을 특징으로 하는 구조물.
  14. 제 1항에 있어서, 기부 및 층이 동일한 광경화성 물질을 포함함을 특징으로 하는 구조물.
  15. 방사선 경화성 물질에 패턴을 형성하는 방법에 있어서,
    a) 방사선 공급원과 방사선 경화성 물질 사이에 방사선 공급원으로부터 방사선의 일부를 차단할 수 있는 차단 패턴을 제공하고;
    b) 차단 패턴을 통하여 방사선 공급원으로부터의 방사선으로 물질을 경화하여 방사선 경화성 물질에 패턴을 형성하는 것을 포함하는 방법.
  16. 제 15항에 있어서, 방사선 공급원이 자외선 광을 방사함을 특징으로 하는 방법.
  17. 제 12항에 있어서, 방사선 경화성 물질이 폴리에스테르, 우레탄, 에폭시 아크릴레이트 및 메트아크릴레이트로부터 선택됨을 특징으로 하는 방법.
  18. 제 15항에 있어서, 패턴이 로고, 기하학적 형태 또는 영숫자의 형태로 형성됨을 특징으로 하는 방법.
  19. 제 15항에 있어서, 차단 패턴이 별개의 필름상에 형성됨을 특징으로 하는 방법.
  20. 제 15항에 있어서, 방사선 경화성 물질이 기부 필름에 연결됨을 특징으로 하는 방법.
  21. 제 20항에 있어서, 차단 패턴이 기부 필름상에 제거가능하게 위치하여 있음을 특징으로 하는 방법.
  22. 제 15항의 방법에 의해 형성된 구조물.
  23. a) 방사선을 방사하기 위한 방사선 공급원;
    b) 방사선에 의해 경화될 수 있는 방사선 경화성 물질; 및
    c) 방사선의 일부를 차단하기 위한 패턴을 포함하는 패턴 전사 구조물에 있어서, 패턴이 물질 경화시에 방사선 공급원 및 방사선 경화성 물질 사이에 위치되어 패턴이 물질에 형성되는 패턴 전사 구조물.
  24. 제 23항에 있어서, 방사선 공급원이 자외선 광을 방사할 수 있음을 특징으로 하는 패턴 전사 구조물.
  25. 제 23항에 있어서, 방사선 경화성 물질이 폴리에스테르, 에폭시 아크릴레이트, 우레탄 및 메트아크릴레이트로 구성된 물질로부터 선택됨을 특징으로 하는 패턴 전사 구조물.
  26. 제 23항에 있어서, 패턴이 로고, 기하학적 형태 및 영숫자의 형태로 형성됨을 특징으로 하는 패턴 전사 구조물.
  27. a) 프리즘 몰드를 제공하고;
    b) 방사선 경화성 물질을 몰드에 위치시키고;
    c) 방사선 공급원 및 방사선 경화성 물질 사이에, 방사선 경화성 물질의 일부를 차단할 수 있는 패턴을 제공하고;
    d) 방사선 공급원으로부터의 방사선으로 방사선 경화성 물질을 경화하여 방사선 경화성 물질에 패턴을 형성하는 것을 포함하는 프리즘 구조물 형성 방법.
  28. 제 27항에 있어서, 제 1 경화된 부분이 제 2 경화된 부분의 굴절율과 상이한 굴절율을 가짐을 특징으로 하는 구조물.
  29. 제 27항에 있어서, 제 1 경화된 부분이 제 2 경화된 부분의 밀도와 상이한 밀도를 가짐을 특징으로 하는 구조물.
  30. a) 기부;
    b) 기부에 연결된 프리즘 어레이를 포함하는 프리즘 구조물에 있어서,
    프리즘 어레이가 동일한 방사선 경화성 물질로부터 형성되는 제 1 경화된 부분 및 제 2 경화된 부분을 포함하고, 제 1 경화된 부분이 제 1 굴절률 값을 가지고 제 2 경화된 물질이 제 1 굴절율 값과 충분히 상이한 제 2 굴절율 값을 가져서 구조물의 표면에 가시적인 불연속성을 생성하는 프리즘 구조물.
KR1020037002376A 2000-08-18 2001-08-10 차별적으로 경화된 물질 및 이를 형성하기 위한 공정 KR100798172B1 (ko)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US22669700P 2000-08-18 2000-08-18
US60/226,697 2000-08-18
US25617600P 2000-12-15 2000-12-15
US60/256,176 2000-12-15
PCT/US2001/025241 WO2002016106A2 (en) 2000-08-18 2001-08-10 Differentially cured materials and process for forming same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20030027042A true KR20030027042A (ko) 2003-04-03
KR100798172B1 KR100798172B1 (ko) 2008-01-24

Family

ID=26920792

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020037002376A KR100798172B1 (ko) 2000-08-18 2001-08-10 차별적으로 경화된 물질 및 이를 형성하기 위한 공정

Country Status (9)

Country Link
US (2) US7250122B2 (ko)
EP (1) EP1309437B1 (ko)
JP (1) JP2004506547A (ko)
KR (1) KR100798172B1 (ko)
CN (1) CN100389017C (ko)
AU (1) AU2001284844A1 (ko)
DE (1) DE60117573T2 (ko)
TW (1) TWI294821B (ko)
WO (1) WO2002016106A2 (ko)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20100080005A (ko) * 2008-12-31 2010-07-08 미래나노텍(주) 몰드와, 광학 부재의 제조방법 및 장치
KR200454030Y1 (ko) * 2009-04-20 2011-06-10 대명조명주식회사 용이한 분리와 결합 및 장식성이 가미된 천정용 매립등

Families Citing this family (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7313253B2 (en) * 1998-09-11 2007-12-25 Digimarc Corporation Methods and tangible objects employing machine readable data in photo-reactive materials
KR100798172B1 (ko) 2000-08-18 2008-01-24 리플렉사이트 코포레이션 차별적으로 경화된 물질 및 이를 형성하기 위한 공정
US20040190102A1 (en) * 2000-08-18 2004-09-30 Mullen Patrick W. Differentially-cured materials and process for forming same
US7230764B2 (en) * 2000-08-18 2007-06-12 Reflexite Corporation Differentially-cured materials and process for forming same
JP2006525553A (ja) * 2003-05-02 2006-11-09 リフレキサイト コーポレイション 光再配向光学構造
US8181884B2 (en) * 2003-11-17 2012-05-22 Digimarc Corporation Machine-readable features for objects
WO2005056275A1 (en) * 2003-12-15 2005-06-23 Multi Sign A/S System and method for the manufacture of a film comprising a retro reflective pattern
US7830627B2 (en) * 2004-04-30 2010-11-09 De La Rue International Limited Optically variable devices
GB0427607D0 (en) * 2004-12-16 2005-01-19 Microsharp Corp Ltd Structured optical film
WO2006098958A1 (en) * 2005-03-09 2006-09-21 3M Innovative Properties Company Microreplicated article with defect-reducing surface
DE102005060731A1 (de) * 2005-12-16 2007-06-21 Röhm Gmbh Prismenfilme für optische Anwendungen
DE102006011949A1 (de) * 2006-03-15 2007-09-20 Epg (Engineered Nanoproducts Germany) Ag Verfahren zur Herstellung von defektfreien mikrooptischen Lichtlenkelementen grosser Breite
JP4006650B1 (ja) * 2006-05-08 2007-11-14 ソニー株式会社 光学フィルムおよびその製造方法ならびに表示装置
DE102006029852A1 (de) † 2006-06-27 2008-01-03 Giesecke & Devrient Gmbh Verfahren zum Aufbringen einer Mikrostruktur, Werkzeugform und Gegenstand mit Mikrostruktur
JP5288753B2 (ja) * 2007-09-07 2013-09-11 新光電気工業株式会社 紫外線硬化型導波路材料の積層方法及び装置
TWI483013B (zh) * 2008-04-02 2015-05-01 3M Innovative Properties Co 光導膜及其製造方法
EP2109014A1 (en) * 2008-04-08 2009-10-14 JDS Uniphase Corporation Improved OVD containing device
EP2120070B1 (en) * 2008-05-16 2014-03-12 LG Electronics Inc. Optical sheet, backlight unit, and liquid crystal display
TW201017280A (en) * 2008-10-28 2010-05-01 Shiang-Lin Liao Substrate-free optical film
JP5742220B2 (ja) * 2009-03-03 2015-07-01 三菱レイヨン株式会社 フィルムの製造方法
US20100237539A1 (en) * 2009-03-20 2010-09-23 Chang-Chih Sung Manufacturing method and apparatus for optical sheet
WO2011126044A1 (ja) * 2010-04-09 2011-10-13 三菱レイヨン株式会社 微細凹凸構造を表面に有する物品の製造方法および製造装置
KR20120030317A (ko) * 2010-09-17 2012-03-28 소니 주식회사 적층체의 제조 방법, 원반, 전사 장치, 적층체, 성형 소자 및 광학 소자
US9463601B2 (en) 2011-05-31 2016-10-11 3M Innovative Properties Company Cube corner sheeting having optically variable marking
SG195166A1 (en) * 2011-05-31 2013-12-30 3M Innovative Properties Co Method for making microstructured tools having discontinuous topographies, articles produced therefrom
US9523919B2 (en) 2011-05-31 2016-12-20 3M Innovative Properties Company Methods for making differentially pattern cured microstructured articles
JP6252047B2 (ja) * 2013-09-03 2017-12-27 大日本印刷株式会社 透過率異方性部材、透過率異方性部材の製造方法及び表示装置
CN109270610B (zh) * 2014-08-26 2021-07-09 友辉光电股份有限公司 在基板上形成凹凸结构的方法与模具制作的方法
WO2016113379A1 (en) * 2015-01-16 2016-07-21 Beaulieu International Group Nv Covering and method for producing coverings
CN106646716A (zh) * 2017-02-14 2017-05-10 山西大学 空间堆叠型光束分布式相位延迟器及其散斑消除方法
US11499321B2 (en) 2017-07-13 2022-11-15 Beaulieu International Group Nv Covering and method for producing coverings
NL2023024B1 (nl) * 2019-04-29 2020-11-05 Veko Lightsystems Int B V Aan beide zijden van prismatische structuren voorziene dunwandig optisch element lens voor een lichtbron.
US11981097B1 (en) 2020-01-10 2024-05-14 Apple Inc. Pattern printing on prisms
US11124932B1 (en) * 2021-04-30 2021-09-21 Mark Joseph O'Neill Retroreflective traffic stripe for both dry and wet weather conditions

Family Cites Families (114)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2474317A (en) 1949-06-28 Light refracting and transmitting
US2310790A (en) 1943-02-09 Optical reflecting material
US135128A (en) * 1873-01-21 Improvement in traction or portable engines
US2380447A (en) 1945-07-31 Optical reflecting material
US214728A (en) * 1879-04-22 Improvement in fruit-driers
US5816677A (en) 1905-03-01 1998-10-06 Canon Kabushiki Kaisha Backlight device for display apparatus
US1241886A (en) 1916-07-12 1917-10-02 Levi Leroy Rowe Lens.
US2248638A (en) 1937-02-22 1941-07-08 Merton Thomas Ralph Sheet material with prismatic surfaces
US2904674A (en) * 1956-11-29 1959-09-15 Bell Telephone Labor Inc Radiant energy highway communication system with controlled directive antenna
US2904673A (en) 1957-02-13 1959-09-15 Sr Edwin F Guth Light diffusors for illuminating devices
US3046617A (en) * 1959-01-23 1962-07-31 Grayboff Marilyn Light-transmitting structural panel
US3670260A (en) 1970-05-15 1972-06-13 American Optical Corp Controlled optical beam forming device
US3684348A (en) 1970-09-29 1972-08-15 Rowland Dev Corp Retroreflective material
US3718078A (en) 1970-12-31 1973-02-27 Polaroid Corp Smoothly granulated optical surface and method for making same
US3712706A (en) 1971-01-04 1973-01-23 American Cyanamid Co Retroreflective surface
US3853578A (en) * 1972-09-08 1974-12-10 Senri Kikaku Sogo Kk Method of manufacturing decorative boards with depression patterns
GB1462618A (en) 1973-05-10 1977-01-26 Secretary Industry Brit Reducing the reflectance of surfaces to radiation
US4064433A (en) 1976-06-30 1977-12-20 K-S-H, Inc. Prismatic lighting panel
US4154219A (en) 1977-03-11 1979-05-15 E-Systems, Inc. Prismatic solar reflector apparatus and method of solar tracking
US4576850A (en) 1978-07-20 1986-03-18 Minnesota Mining And Manufacturing Company Shaped plastic articles having replicated microstructure surfaces
US4242723A (en) 1979-05-14 1980-12-30 Keene Corporation Low level work area lighting system
US4260220A (en) 1979-06-15 1981-04-07 Canadian Patents And Development Limited Prism light guide having surfaces which are in octature
US4374077A (en) 1980-02-01 1983-02-15 Minnesota Mining And Manufacturing Company Process for making information carrying discs
US4402571A (en) 1981-02-17 1983-09-06 Polaroid Corporation Method for producing a surface relief pattern
US4469407A (en) 1982-02-08 1984-09-04 Polaroid Corporation Laser apodizing filter
US4485123A (en) 1982-02-12 1984-11-27 Union Carbide Corporation Process for producing textured coatings
US4496216A (en) 1982-12-30 1985-01-29 Polaroid Corporation Method and apparatus for exposing photosensitive material
US4514345A (en) * 1983-08-23 1985-04-30 The Procter & Gamble Company Method of making a foraminous member
US4542449A (en) 1983-08-29 1985-09-17 Canadian Patents & Development Limited Lighting panel with opposed 45° corrugations
US4477529A (en) 1983-12-29 1984-10-16 General Electric Company Photocurable polyfunctional acrylic coating and decorative articles coated therewith
US4732715A (en) * 1985-09-20 1988-03-22 Bausch & Lomb Incorporated Manufacture of polymeric contact lenses
CA1279783C (en) 1985-11-21 1991-02-05 Minnesota Mining And Manufacturing Company Totally internally reflecting thin, flexible film
US5056892A (en) 1985-11-21 1991-10-15 Minnesota Mining And Manufacturing Company Totally internally reflecting thin, flexible film
US4874228A (en) 1987-03-24 1989-10-17 Minnesota Mining And Manufacturing Company Back-lit display
CA1278203C (en) 1987-04-24 1990-12-27 Lorne A. Whitehead Non-reflective image display device
US4984144A (en) 1987-05-08 1991-01-08 Minnesota Mining And Manufacturing Company High aspect ratio light fixture and film for use therein
US4791540A (en) 1987-05-26 1988-12-13 Minnesota Mining And Manufacturing Company Light fixture providing normalized output
US4888260A (en) 1987-08-10 1989-12-19 Polaroid Corporation Volume phase reflection holograms and methods for fabricating them
US4839250A (en) 1987-08-10 1989-06-13 Polaroid Corporation, Patent Department Method of replicating volume phase reflection holograms
US4999234A (en) 1987-08-10 1991-03-12 Polaroid Corporation Holographic optical data storage medium
US4874213A (en) 1987-08-10 1989-10-17 Polaroid Corporation Method of forming volume phase reflection holograms
CA1312320C (en) 1987-11-12 1993-01-05 Makoto Oe Plane light source unit
US4942112A (en) 1988-01-15 1990-07-17 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photopolymerizable compositions and elements for refractive index imaging
US4937716A (en) 1988-05-05 1990-06-26 Tir Systems Ltd Illuminating device having non-absorptive variable transmissivity cover
KR0173110B1 (ko) 1988-12-27 1999-05-01 나가이 야타로 렌즈 시이트
US5005108A (en) 1989-02-10 1991-04-02 Lumitex, Inc. Thin panel illuminator
US5175030A (en) 1989-02-10 1992-12-29 Minnesota Mining And Manufacturing Company Microstructure-bearing composite plastic articles and method of making
US5183597A (en) 1989-02-10 1993-02-02 Minnesota Mining And Manufacturing Company Method of molding microstructure bearing composite plastic articles
EP0408283B1 (en) * 1989-07-12 1995-09-27 Canon Kabushiki Kaisha Apparatus for producing substrate sheet for optical recording mediums and process for producing substrate sheet for optical recording mediums making use of it, apparatus for producing optical recording medium and process for producing optical recording medium making use of it.
US5093765A (en) 1990-02-16 1992-03-03 Tosoh Corporation Back lighting device for a panel
US5161041A (en) 1990-04-26 1992-11-03 Ois Optical Imaging Systems, Inc. Lighting assembly for a backlit electronic display including an integral image splitting and collimating means
CA2068422A1 (en) 1990-09-12 1992-03-13 Makoto Ohe Surface light source element
US5254390B1 (en) * 1990-11-15 1999-05-18 Minnesota Mining & Mfg Plano-convex base sheet for retroreflective articles
US5281371A (en) * 1990-11-16 1994-01-25 Canon Kabushiki Kaisha Method and apparatus for forming substrate sheet for optical recording medium
JPH04356015A (ja) 1991-03-22 1992-12-09 Tosoh Corp バックライト
US5190370A (en) 1991-08-21 1993-03-02 Minnesota Mining And Manufacturing Company High aspect ratio lighting element
DE69220870T2 (de) 1991-08-22 1998-02-05 Tosoh Corp Vorrichtung zur rückseitigen Beleuchtung
US5267062A (en) 1991-08-26 1993-11-30 Rockwell International Corporation System for backlighting LCD matrices including luminescent dots each followed by and at the focal point of a lens
US5769522A (en) 1991-09-09 1998-06-23 Enplas Corporation Surface light source device
US5186530A (en) 1991-11-22 1993-02-16 Tir Systems, Ltd. Lighting structure having variable transmissivity internal light guide illumination
US5394255A (en) 1992-01-27 1995-02-28 Sekisui Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha Liquid crystal display using a plurality of light adjusting sheets angled at 5 degrees or more
JP3006306B2 (ja) 1992-09-16 2000-02-07 インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション 光学的フイルム及び上記光学的フイルムを用いた液晶表示装置
KR0168879B1 (ko) 1992-12-25 1999-04-15 기따지마 요시또시 렌티큘러 렌즈, 면광원 및 액정 표시 장치
EP0606939B1 (en) 1993-01-11 1998-05-06 Koninklijke Philips Electronics N.V. Illumination system and display device including such a system
US5435816A (en) * 1993-01-14 1995-07-25 Minnesota Mining And Manufacturing Company Method of making an abrasive article
DE69418502T2 (de) 1993-02-01 2000-02-24 Tosoh Corp Vorrichtung zur Hintergrund-Beleuchtung
US6052164A (en) 1993-03-01 2000-04-18 3M Innovative Properties Company Electroluminescent display with brightness enhancement
US5598280A (en) 1993-03-23 1997-01-28 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Film lens and a surface light source using the same
US5863113A (en) 1993-06-22 1999-01-26 Mitsubishi Rayon Co., Ltd. Plane light source unit
CA2099067C (en) 1993-06-23 2001-02-13 Makoto Oe Plane light source unit
US5396350A (en) 1993-11-05 1995-03-07 Alliedsignal Inc. Backlighting apparatus employing an array of microprisms
GB2286057A (en) 1994-01-21 1995-08-02 Sharp Kk Electrically controllable grating
JPH07248494A (ja) 1994-03-14 1995-09-26 Hitachi Ltd 液晶表示装置
US5629784A (en) 1994-04-12 1997-05-13 Ois Optical Imaging Systems, Inc. Liquid crystal display with holographic diffuser and prism sheet on viewer side
US5565151A (en) 1994-09-28 1996-10-15 Reflexite Corporation Retroreflective prism structure with windows formed thereon
US5780140A (en) * 1996-09-23 1998-07-14 Reflexite Corporation Retroreflective microprismatic material with top face curvature and method of making same
JPH10506725A (ja) 1994-10-04 1998-06-30 ミネソタ マイニング アンド マニュファクチャリング カンパニー 自蔵式の照明形標示装置
JPH08137375A (ja) * 1994-11-02 1996-05-31 Toppan Printing Co Ltd レリーフ画像形成材及びレリーフ画像形成法
US5579134A (en) 1994-11-30 1996-11-26 Honeywell Inc. Prismatic refracting optical array for liquid flat panel crystal display backlight
US5635278A (en) 1995-02-03 1997-06-03 Minnesota Mining And Manufacturing Company Scratch resistant optical films and method for producing same
US5855983A (en) 1995-02-03 1999-01-05 Minnesota Mining And Manufacturing Company Flame retardant ultraviolet cured multi-layered film
JP4168179B2 (ja) 1995-03-03 2008-10-22 スリーエム カンパニー 種々の高さの構造化面を有する光指向性フィルム及び該フィルムから作製された光指向性製品
JP3548812B2 (ja) 1995-08-11 2004-07-28 オムロン株式会社 面光源装置、当該装置に用いる面状光学素子及び当該装置を用いた画像表示装置
JP3607759B2 (ja) 1995-09-08 2005-01-05 五洋紙工株式会社 プリズムシート
GB9518802D0 (en) 1995-09-14 1995-11-15 Scapa Group Plc Tobacco conveyor belt
KR100407101B1 (ko) 1995-10-12 2004-02-18 인터내셔널 비지네스 머신즈 코포레이션 도광체,면상광원장치및액정표시장치
US5616069A (en) * 1995-12-19 1997-04-01 Micron Technology, Inc. Directional spray pad scrubber
US5917664A (en) 1996-02-05 1999-06-29 3M Innovative Properties Company Brightness enhancement film with soft cutoff
US5838403A (en) 1996-02-14 1998-11-17 Physical Optics Corporation Liquid crystal display system with internally reflecting waveguide for backlighting and non-Lambertian diffusing
US5909083A (en) * 1996-02-16 1999-06-01 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Process for producing plasma display panel
GB9603575D0 (en) * 1996-02-20 1996-04-17 Scapa Group Plc Tobacco conveyor belt
US5919551A (en) 1996-04-12 1999-07-06 3M Innovative Properties Company Variable pitch structured optical film
US5995690A (en) 1996-11-21 1999-11-30 Minnesota Mining And Manufacturing Company Front light extraction film for light guiding systems and method of manufacture
DE19708776C1 (de) 1997-03-04 1998-06-18 Fraunhofer Ges Forschung Entspiegelungsschicht sowie Verfahren zur Herstellung derselben
US5995288A (en) 1997-04-22 1999-11-30 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Optical sheet optical sheet lamination light source device, and light-transmissive type display apparatus
US5932626A (en) 1997-05-09 1999-08-03 Minnesota Mining And Manufacturing Company Optical product prepared from high index of refraction brominated monomers
US6280063B1 (en) 1997-05-09 2001-08-28 3M Innovative Properties Company Brightness enhancement article
US5946991A (en) 1997-09-03 1999-09-07 3M Innovative Properties Company Method for knurling a workpiece
AU752774B2 (en) 1998-02-18 2002-09-26 Minnesota Mining And Manufacturing Company Optical film
JPH11305011A (ja) 1998-04-22 1999-11-05 Dainippon Printing Co Ltd レンズフィルム及び面光源装置
JP2000164016A (ja) 1998-09-24 2000-06-16 Sharp Corp 面光源装置
JP2000210963A (ja) * 1999-01-26 2000-08-02 Mitsubishi Heavy Ind Ltd エネルギ―線照射型連続成形装置および繊維強化プラスチック板状成形体
US6322236B1 (en) 1999-02-09 2001-11-27 3M Innovative Properties Company Optical film with defect-reducing surface and method for making same
US6827456B2 (en) * 1999-02-23 2004-12-07 Solid State Opto Limited Transreflectors, transreflector systems and displays and methods of making transreflectors
US6277471B1 (en) 1999-06-18 2001-08-21 Shih Chieh Tang Brightness enhancement film
US6845212B2 (en) 1999-10-08 2005-01-18 3M Innovative Properties Company Optical element having programmed optical structures
US6356391B1 (en) 1999-10-08 2002-03-12 3M Innovative Properties Company Optical film with variable angle prisms
US6356389B1 (en) 1999-11-12 2002-03-12 Reflexite Corporation Subwavelength optical microstructure light collimating films
US6570710B1 (en) 1999-11-12 2003-05-27 Reflexite Corporation Subwavelength optical microstructure light collimating films
EP1178075B1 (en) 2000-02-10 2006-09-20 Teijin Limited Polyester film composite, light diffuser plate, and utilization thereof
KR100798172B1 (ko) 2000-08-18 2008-01-24 리플렉사이트 코포레이션 차별적으로 경화된 물질 및 이를 형성하기 위한 공정
US6673425B1 (en) 2000-10-27 2004-01-06 3M Innovative Properties Company Method and materials for preventing warping in optical films
JP4954376B2 (ja) 2001-01-15 2012-06-13 パナソニック株式会社 液体噴射装置
US6576887B2 (en) 2001-08-15 2003-06-10 3M Innovative Properties Company Light guide for use with backlit display

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20100080005A (ko) * 2008-12-31 2010-07-08 미래나노텍(주) 몰드와, 광학 부재의 제조방법 및 장치
KR200454030Y1 (ko) * 2009-04-20 2011-06-10 대명조명주식회사 용이한 분리와 결합 및 장식성이 가미된 천정용 매립등

Also Published As

Publication number Publication date
TWI294821B (en) 2008-03-21
KR100798172B1 (ko) 2008-01-24
WO2002016106A2 (en) 2002-02-28
CN1447740A (zh) 2003-10-08
WO2002016106A3 (en) 2002-05-02
US20020051866A1 (en) 2002-05-02
DE60117573D1 (de) 2006-04-27
US7250122B2 (en) 2007-07-31
EP1309437B1 (en) 2006-03-01
US20070292549A1 (en) 2007-12-20
CN100389017C (zh) 2008-05-21
AU2001284844A1 (en) 2002-03-04
US7517205B2 (en) 2009-04-14
EP1309437A2 (en) 2003-05-14
DE60117573T2 (de) 2006-12-14
JP2004506547A (ja) 2004-03-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100798172B1 (ko) 차별적으로 경화된 물질 및 이를 형성하기 위한 공정
US7230764B2 (en) Differentially-cured materials and process for forming same
US20040190102A1 (en) Differentially-cured materials and process for forming same
US11105964B2 (en) Cube corner sheeting having optically variable marking
CA2092816C (en) Plano-convex base sheet for retroreflective articles and method for making same
JP5570210B2 (ja) 光学的に有効な表面レリーフ微細構造及びその製造方法
US10082609B2 (en) Irradiation marking of retroreflective sheeting
US5940212A (en) Cube corner article with altered inactive areas and method of making same
CA2138416C (en) Nonreflective articles
CA2173497A1 (en) Retroreflective sheeting material, a method of its production and its use
KR20140020274A (ko) 인쇄물 및 인화물

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130111

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140109

Year of fee payment: 7

LAPS Lapse due to unpaid annual fee