KR20030016420A - 접촉자 클리닝 시트 및 방법 - Google Patents

접촉자 클리닝 시트 및 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20030016420A
KR20030016420A KR10-2003-7000834A KR20037000834A KR20030016420A KR 20030016420 A KR20030016420 A KR 20030016420A KR 20037000834 A KR20037000834 A KR 20037000834A KR 20030016420 A KR20030016420 A KR 20030016420A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
cleaning
layer
sheet
contactor
tip
Prior art date
Application number
KR10-2003-7000834A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100831828B1 (ko
Inventor
사또사또루
사까모또아끼히로
Original Assignee
니혼 미크로 코팅 가부시끼 가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 니혼 미크로 코팅 가부시끼 가이샤 filed Critical 니혼 미크로 코팅 가부시끼 가이샤
Publication of KR20030016420A publication Critical patent/KR20030016420A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100831828B1 publication Critical patent/KR100831828B1/ko

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R1/00Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
    • G01R1/02General constructional details
    • G01R1/06Measuring leads; Measuring probes
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B5/00Layered products characterised by the non- homogeneity or physical structure, i.e. comprising a fibrous, filamentary, particulate or foam layer; Layered products characterised by having a layer differing constitutionally or physically in different parts
    • B32B5/18Layered products characterised by the non- homogeneity or physical structure, i.e. comprising a fibrous, filamentary, particulate or foam layer; Layered products characterised by having a layer differing constitutionally or physically in different parts characterised by features of a layer of foamed material
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B1/00Cleaning by methods involving the use of tools
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B19/00Single-purpose machines or devices for particular grinding operations not covered by any other main group
    • B24B19/16Single-purpose machines or devices for particular grinding operations not covered by any other main group for grinding sharp-pointed workpieces, e.g. needles, pens, fish hooks, tweezers or record player styli
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24DTOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
    • B24D11/00Constructional features of flexible abrasive materials; Special features in the manufacture of such materials
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24DTOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
    • B24D15/00Hand tools or other devices for non-rotary grinding, polishing, or stropping
    • B24D15/04Hand tools or other devices for non-rotary grinding, polishing, or stropping resilient; with resiliently-mounted operative surface
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/14Layered products comprising a layer of synthetic resin next to a particulate layer
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/36Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyesters
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/40Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyurethanes
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B3/00Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form
    • B32B3/26Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form characterised by a particular shape of the outline of the cross-section of a continuous layer; characterised by a layer with cavities or internal voids ; characterised by an apertured layer
    • B32B3/30Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form characterised by a particular shape of the outline of the cross-section of a continuous layer; characterised by a layer with cavities or internal voids ; characterised by an apertured layer characterised by a layer formed with recesses or projections, e.g. hollows, grooves, protuberances, ribs
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B5/00Layered products characterised by the non- homogeneity or physical structure, i.e. comprising a fibrous, filamentary, particulate or foam layer; Layered products characterised by having a layer differing constitutionally or physically in different parts
    • B32B5/22Layered products characterised by the non- homogeneity or physical structure, i.e. comprising a fibrous, filamentary, particulate or foam layer; Layered products characterised by having a layer differing constitutionally or physically in different parts characterised by the presence of two or more layers which are next to each other and are fibrous, filamentary, formed of particles or foamed
    • B32B5/30Layered products characterised by the non- homogeneity or physical structure, i.e. comprising a fibrous, filamentary, particulate or foam layer; Layered products characterised by having a layer differing constitutionally or physically in different parts characterised by the presence of two or more layers which are next to each other and are fibrous, filamentary, formed of particles or foamed one layer being formed of particles, e.g. chips, granules, powder
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R3/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture or maintenance of measuring instruments, e.g. of probe tips
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2432/00Cleaning articles, e.g. mops, wipes
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00Electrical equipment
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R1/00Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
    • G01R1/02General constructional details
    • G01R1/06Measuring leads; Measuring probes
    • G01R1/067Measuring probes
    • G01R1/06711Probe needles; Cantilever beams; "Bump" contacts; Replaceable probe pins
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24479Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including variation in thickness
    • Y10T428/24521Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including variation in thickness with component conforming to contour of nonplanar surface
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/249921Web or sheet containing structurally defined element or component
    • Y10T428/249953Composite having voids in a component [e.g., porous, cellular, etc.]
    • Y10T428/249955Void-containing component partially impregnated with adjacent component
    • Y10T428/249958Void-containing component is synthetic resin or natural rubbers
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/249921Web or sheet containing structurally defined element or component
    • Y10T428/249953Composite having voids in a component [e.g., porous, cellular, etc.]
    • Y10T428/249987With nonvoid component of specified composition
    • Y10T428/24999Inorganic
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/249921Web or sheet containing structurally defined element or component
    • Y10T428/249953Composite having voids in a component [e.g., porous, cellular, etc.]
    • Y10T428/249987With nonvoid component of specified composition
    • Y10T428/249991Synthetic resin or natural rubbers

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Measuring Leads Or Probes (AREA)
  • Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
  • Cleaning In General (AREA)
  • Cleaning Implements For Floors, Carpets, Furniture, Walls, And The Like (AREA)

Abstract

1매의 클리닝 시트로, 접촉자의 선단부 및 측면을 동시에 클리닝할 수 있는 클리닝 시트를 제공한다. 클리닝 시트(10)는, 베이스 시트(11), 이 베이스 시트(11)의 표면에 형성된 제1 연마층(12), 이 연마층(12)의 표면에 형성되고, 내부에 기포(15)를 갖는 다공질 발포층(13), 및 이 발포층(13) 표면에 형성된 제2 연마층(14)으로 구성된다.

Description

접촉자 클리닝 시트 및 방법 {CONTACTOR CLEANING SHEET, AND CONTACTOR CLEANING METHOD}
반도체 웨이퍼 상에, 각각의 웨이퍼 제조 프로세스를 거쳐, 반도체 소자 및 집적 회로가 제작되어, 복수의 칩이 제작된다. 이 반도체 웨이퍼 상에 제작된 칩은, 통전 시험을 거쳐, 반도체 웨이퍼로부터 잘려져, 패키징된다. 이 패키징의 전후에도 동일한 통전 시험이 수행되어, 양호한 제품과 불량품으로 엄밀하게 선별된다.
이와 같은 통전 시험은, 웨이퍼 프로버 등의 공지된 시험 기기를 사용하여 수행되고, 테스터의 전극으로서 탐침(접촉자)과 칩의 전극(밴드나 리드)과의 이동에 의해 위치 맞춤과, 접촉자와 칩의 전극과의 접촉을 반복하여, 테스터에 의해 칩의 각종 전기적 측정이 수행된다.
이와 같은 접촉자와 칩의 전극과의 이동에 의한 위치 맞춤과 접촉을 반복할 때, 접촉자의 선단부가 칩의 전극상을 활주하여, 이 때 칩의 전극의 일부가 접촉자의 선단부에 의해 긁혀져, 이것이 이물질로서 접촉자의 선단부나 전면에 부착된다.
이러한 접촉자에 부착된 이물질은, 알루미늄 등의 금속이며, 이 금속이 산화되면, 접촉자와 칩의 전극과의 사이의 전기적인 접촉 저항이 커지게 되어, 정확한 각종 전기적 측정을 수행할 수 없다는 문제점이 생긴다.
이로 인해, 접촉자의 선단 부분(선단부 및 측면)의 클리닝을 소정의 접촉 회수마다 행하여, 접촉자의 선단 부분으로부터 이물질을 제거할 필요가 있다.
이와 같은 접촉자의 선단 부분으로부터의 이물질 제거는, 통전시험에 사용되는 상기 웨이퍼 프로버 등의 시험기기를 사용하여 행해지고, 시험 기기에 부착되는 피검사체(반도체 웨이퍼) 대신에, 이것과 동일한 형상의 클리닝 용구를 시험기기에 부착하여 행해진다.
종래에, 이와 같은 클리닝 용구로서, 연마숫돌, 글라스, 세라믹스 등의 경질연마판(예를 들어, 일본 공개 특허 평7-199141호, 평5-209896호, 평5-166893호, 평4-96342호, 평3-105940호 공보 참조) 또는 표면에 요철을 갖는 탄성체 표면에 연마층을 형성한 시트로 이루어지는 것(예를 들어, 일본 공개 특허 제2000 -332069호 공보 참조)이 사용되며, 상기 통전 시험과 동일하게, 클리닝 용구의 표면에 접촉자를 압박하여 행해진다.
그러나, 경질 연마판으로 이루어지는 클리닝 용구에서는, 이 경질 연마판표면에 접촉자를 과도하게 압박한다면, 접촉자의 선단 부분이 변형되므로, 이 압박 압력을 낮출 필요가 있고, 접촉자 선단부의 클리닝 밖에 행할 수 없고, 또한 탄성체 표면에 연마층을 형성한 시트로 이루어지는 클리닝 용구에서는, 접촉자 선단부의 클리닝을 충분히 행할 수 없고, 접촉자 측면의 클리닝밖에 행할 수 없어 이로 인해 종래에는, 접촉자 선단부의 클리닝을 행하기 위한 클리닝 용구와, 측면의 클리닝을 행하기 위한 것을 통전 시험 기기에 교환하여 부착해야만 해, 클리닝에 시간과 수고가 들었다.
따라서, 본 발명의 목적은, 1매의 클리닝 시트로, 접촉자의 선단부와 측면을 동시에 클리닝을 할 수 있는 클리닝시트를 제공하는 것이다.
본 발명은 집적회로를 부착한 반도체 디바이스와 같은 평판형 피검사체의 검사에 이용되는 접촉자 선단부 및 측면에 부착된 이물질을 제거하는 데 적합한 클리닝 시트에 관한 것이다.
도1a 및 도1b는 본 발명의 클리닝시트의 단면도이다.
도2는 본 발명의 클리닝시트로 접촉자의 선단 부분이 클리닝되는 것을 도시한 단면도이다.
도3은 웨이퍼 프로버의 측면을 대략 도시한 도면이다.
상기 목적을 달성하는 본 발명의 클리닝 시트는, 베이스 시트, 이 베이스 시트의 표면에 형성된 제1 연마층, 이 제1 연마층의 표면에 형성된, 내부에 기포를 갖는 다공질의 발포층, 및 이 발포층의 표면에 형성된 제2 연마층으로 구성된다.
다공질 발포층의 표면은, 평탄해도 좋고 다공질이어도 좋다.
바람직하게는, 다공질 발포층의 표면은 다공질이며, 제2 연마층은, 발포층 표면의 구멍에 대응하는 구멍을 갖는 다공질 표면을 갖는다.
접촉자의 선단 부분(선단부 및 측면)의 클리닝은, 상기 본 발명의 클리닝시트의 제2 연마층 표면을 접촉자의 선단부에 압박하여, 접촉자 선단부를 제2 연마층을 관통시키고, 발포층을 통과시켜, 제1 연마층의 표면에 압박함으로써 행해진다.
접촉자 측면의 클리닝은 접촉자가 제2 연마층을 관통하여, 발포층을 통과할 때에 행해지고, 접촉자의 선단부 클리닝은 접촉자의 선단부가 제1 연마층의 표면에 압박되었을 때에 행해진다.
본 발명이 이상과 같이 구성되므로, 1매의 클리닝 시트에 접촉자의 선단부와측면을 동일하게 클리닝할 수 있다. 또한, 내열성을 갖는 점착제를 사용하여 클리닝시트를 더미 웨이퍼 상에 붙임으로써, 장치를 정지시키지 않고서도, 통전 시험 중에 접촉자 선단부분의 클리닝이 수행된다.
본 발명의 실시형태는, 도3에 도시된 웨이퍼 프로버(20)와 같은 공지된 통전검사 기기에 반도체 디바이스와 같은 피연마체 대신에 장착하여, 접촉자의 선단 부분을 클리닝하기 위해 이용하는 클리닝 시트이다.
<클리닝시트>
도1a 및 도1b에 도시한 바와 같이, 본 발명의 클리닝 시트(10)는, 베이스 시트(11), 이 베이스 시트(11)의 표면에 형성된 제1 연마층(12), 이 연마층(12)의 표면에 형성된, 내부에 기포(15)를 갖는 다공질 발포층(13), 및 이 발포층(13) 표면에 형성된 제2 연마층(14)으로 구성된다.
베이스 시트(11)로서, 폴리에스테르, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 등의 플라스틱 재료로 이루어지는, 표면이 평탄한 두께 50㎛ 내지 200㎛의 시트가 사용된다.
제1 연마층(12)은, 실리카, 산화알루미늄, 다이아몬드 등으로부터 선택된 평균 입자의 직경 0.001 내지 10㎛의 입자를 지립으로서 사용하고, 이 지립을 폴리에스테르계, 우레탄계 등의 수지 결합제로 고정한 것이다. 이와 같은 연마층(12)은, 수지 결합제를 메틸에틸케톤 등의 용제로 용해한 수지 용액중에 지립을 분산한 연마도료를 역도공법 등의 공지된 도공수단에 의해 베이스 시트(11)의 표면에 도포하고, 이를 건조시킴으로써 베이스 시트(11)의 표면에 형성된다. 제1 연마층(12)의 두께는, 10 내지 50㎛의 범위를 갖는다.
발포층(13)은, 발포 우레탄 수지 등의 발포성 재료로 이루어지는 두께 50 내지 300㎛의 범위를 갖는 발포 시트이며, 이러한 발포 시트는 베이스 시트(11)의 표면에 형성된 제1 연마층(12)의 표면에 접착된다. 이 발포 시트의 표면은 도1a에 도시한 바와 같이 평탄한 것이 좋고, 도1b에 도시한 바와 같이, 그 표면 부분을 버프 연마에 의해 제거시키고, 이 발포층(13) 표면에 노출된 기포로 이루어지는 구멍(16)을 형성시켜도 좋다(즉, 발포층(13)의 표면은, 다공질이다).
여기서, 도1a에 도시된 바와 같은 표면이 평탄한 발포층(13)으로서 사용되는 발포 시트로서, 디메틸포름알데히드 등의 유기용제나 물, 프론 등의 발포조제, 실리콘 오일 등의 정포제(整泡劑) 등을 함유하는 용매 중에 발포 폴리 우레탄 수지 등의 발포성 수지를 용해한 발포성 수지 용액을 플라스틱 시트 상에 도포하고, 이를 수중에서, 발포성 도료중의 물과 치환하고, 건조시켜 수분을 증발시킨 후, 플라스틱 시트상에 형성된 발포층을 플라스틱 시트로부터 박리한 것을 사용할 수 있으며, 이러한 발포층의 박리면은 평탄하다(이와 같은 발포층의 제조에 대해서는, 본원의 특허 출원인과 동일한 출원인에 의해 출원된 특허 출원 제2001-138972호를 참조). 또한, 도1b에 도시된 바와 같은 표면에 구멍(16)을 갖는 발포층(13)으로서 사용되는 발포 시트로서는, 도1a에 도시된 발포층(13)의 표면 부분을 버프 연마한 것을 사용할 수 있다.
이 발포 시트(발포층,13)는, 폴리에스테르계, 우레탄계 등의 수지 접착제를 사용하여, 베이스 시트(11)의 표면에 형성된 제1 연마층(12) 표면에 점착된다.
제2 연마층(14)은, 이 발포층(13) 표면에, 상기 연마 도료를 역도공법 등의 공지의 도공수단에 의해 도포하고, 이를 건조시켜 발포층(13)의 표면에 형성된다. 이 제2 연마층(14)은, 바람직하게는 도2에 도시된 바와 같이, 접촉자(22)가 이 제2 연마층(14)을 관통할 수 있을 정도로 얇다. 이 제2 연마층(14)의 두께는 10 내지 50㎛의 범위를 갖는다.
<클리닝 방법>
집적회로를 부착한 반도체 디바이스와 같은 평판형 피검사체의 검사에 이용되는 접촉자의 선단부 및 측면에 부착된 이물질 클리닝은, 도3에 도시된 바와 같이 공지의 통전검사장치(20)를 사용하여 행할 수 있다.
도시된 통전 검사 장치(20)는, 반도체 디바이스와 같은 평판형 피검사체를 부착대(23)상에 설치하고, 이 부착대(23)를 수평, 수직 방향으로 이동시켜 위치 맞춤을 행하고, 피검사체를 프로브 카드(21)의 접촉자(22)에 압박하여, 피검사체의 각종 전기적 측정을 행하는 것이며, 접촉자(22)의 클리닝은, 이 피검사체 대신에 클리닝 시트(10)를 부착대(23) 상에 설치하여, 전기적 측정과 동일하게 부착대(23)를 이동시켜, 부착대(23) 상의 클리닝시트(10)의 표면에 접촉자(22)를 압박함으로써 행해진다.
여기서, 클리닝 시트(10)는 원형상, 사각형상 또는 그밖의 형상으로 재단되어, 양면 접착 시트 등에 의해 부착대(23) 상에 설치되어도 좋고, 클리닝시트(10)를 적당한 형상의 평판(도시되지 않음) 상에 부착하여, 이 평판을 부착대(23) 상에 설치하여도 좋다. 이와 같은 클리닝 시트(10)의 부착대(23)로의 설치는 적당히 행할 수 있는 것이다. 여기서, 이와 같은 클리닝시트(10)의 부착대(23) 및 평판상으로의 부착은, 예를 들어, 베이스 시트(11)의 이면에, 미리 도포한 점착제(도시되지 않음)을 개재시켜 행할 수 있다. 이러한 점착제의 도포 두께는 20 내지 30㎛의 범위를 갖는다.
또한, 반도체 웨이퍼 상의 칩의 통전시험은, 일반적으로 -40℃ 내지 150℃ 사이의 범위에서 온도를 변화시켜 수행하고, 이 통전 시험은 라인 작업적으로 순차적으로 행해진다. 접촉자(22)의 선단부분의 클리닝은, 이 라인 작업(작업라인) 중에, 반도체 웨이퍼와 동일한 형상의 평판(더미 웨이퍼) 상에 클리닝 시트를 붙인 것을 소정 매수마다 삽입하여 행해진다. 이에 따르면, 장치를 정지시키지 않고서도 효율 좋게 통전 시험을 행할 수 있다는 이점이 있으나, 100℃를 넘는 고온 환경에서는, 더미 웨이퍼에 대한 클리닝 시트의 접착력이 저하되어, 클리닝 시트가 어긋나거나, 벗겨지거나 하는 경우가 있다. 이로 인해, 고온 환경하에 있어서도 더미 웨이퍼에 대한 클리닝 시트(10)의 접착력을 안정시키기 위해, 접착제로서 내열성이 있는 것, 예를 들어 아크릴계 수지로 이루어지는 것을 사용한다.
접촉자(22)의 선단 부분(선단부 및 측면)은, 도2에 도시되어진 바와 같이, 부착대(23) 상의 클리닝 시트(10)의 표면에 접촉자(22)가 압박되면, 제2 연마층(14)을 관통하고, 발포층(13)을 통과하여, 접촉자(22)의 선단부가 제1 연마층(12)의 표면에 압박되고, 접촉자(22)의 측면은, 접촉자(22)의 선단부가 제2 연마층(14)을 관통하고, 발포층(13)을 통과하여 제1 연마층(12)의 표면에 압박되는 사이에 클리닝되고, 접촉자(22)의 선단부는, 접촉자(22)의 선단부가 제1 연마층(12)의 표면에 압박되었을 때에 행해진다.
여기서, 도2에 관련되어 설명한 접촉자(22)의 선단 부분의 클리닝 시트는, 장치를 정지하고 나서 장치의 소정의 위치에 클리닝 시트(10)를 부착하여 행해지는 것이지만, 상술한 바와 같이, 가열성이 있는 점착제를 개재하여 더미 웨이퍼 상에 클리닝 시트를 붙인 것을 사용하고, 통전 시험 중에 접촉자(22)의 선단 부분의 클리닝을 행해도 좋다.
<실시예>
본 발명의 클리닝시트를 이하에서와 같이 제조했다.
평균 입자 직경 0.3㎛의 실리카 입자를 폴리에스테르계 수지 결합제를 메틸에틸케톤 등의 용제에 용해된 수지 용액 중에 분산시킨 연마 도료를, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET)로 이루어지는 두께 75㎛의 플라스틱 시트의 표면에, 역도공법에 의해 도포하고, 이를 건조시켜 플라스틱 시트의 표면에 두께 20㎛의 제1 연마층을 형성하여, 이를 40℃로 3일간 에이징했다.
다음으로, 이 제1 연마층 표면에, 발포 우레탄 수지로부터 이루어지는 두께100㎛의 발포시트를 접착하여, 제1 연마층의 표면에 두께 50㎛의 발포층을 형성하고, 이를 40℃로 3일간 에이징했다.
다음으로, 이 발포층 표면에, 상기 연마 도료를 역도공법에 의해 도포하고, 이를 건조시켜 발포층 표면에, 두께 10㎛의 제2 연마층을 형성하고, 이를 40℃로 3일간 에이징했다. 제2 연마층은, 발포층의 표면 구멍에 대응하는 구멍을 갖는 다공질의 표면을 갖는다.

Claims (5)

  1. 베이스 시트, 이 베이스 시트의 표면에 형성된 제1 연마층, 이 제1 연마층의 표면에 형성되고, 내부에 기포를 갖는 다공질 발포층, 및 이 발포층 표면에 형성된 제2 연마층으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 클리닝 시트.
  2. 제1항에 있어서, 상기 다공질 발포층의 표면이 평탄한 것을 특징으로 하는 클리닝 시트.
  3. 제1항에 있어서, 상기 다공질 발포층의 표면이 다공질인 것을 특징으로 하는 클리닝 시트.
  4. 제1항에 있어서, 상기 다공질 발포층의 표면이 다공질이며, 상기 제2 연마층이 상기 발포층 표면의 구멍에 대응하는 구멍을 갖는 다공질 표면을 갖는 것을 특징으로 하는 클리닝 시트.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 기재된 클리닝 시트의 상기 제2 연마층의 표면을 접촉자의 선단부에 압박하고, 상기 접촉자의 선단부를 상기 제2 연마층을 관통시키고, 상기 발포층을 통과시켜, 상기 제1 연마층의 표면에 압박하는, 접촉자의 선단부 및 측면을 클리닝하는 것을 특징으로 하는 클리닝 방법.
KR1020037000834A 2001-05-21 2002-04-08 접촉자 클리닝 시트 및 방법 KR100831828B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001150280A JP4832664B2 (ja) 2001-05-21 2001-05-21 接触子クリーニングシート及び方法
JPJP-P-2001-00150280 2001-05-21
PCT/JP2002/003494 WO2002094508A1 (fr) 2001-05-21 2002-04-08 Serviette de nettoyage de contacteur et procede de nettoyage de contacteur

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20030016420A true KR20030016420A (ko) 2003-02-26
KR100831828B1 KR100831828B1 (ko) 2008-05-28

Family

ID=18995318

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020037000834A KR100831828B1 (ko) 2001-05-21 2002-04-08 접촉자 클리닝 시트 및 방법

Country Status (7)

Country Link
US (2) US6884300B2 (ko)
EP (1) EP1391265B1 (ko)
JP (1) JP4832664B2 (ko)
KR (1) KR100831828B1 (ko)
DE (1) DE60211890D1 (ko)
TW (1) TW528654B (ko)
WO (1) WO2002094508A1 (ko)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100770501B1 (ko) * 2002-06-19 2007-10-25 닛토덴코 가부시키가이샤 클리닝 시이트, 클리닝 기능을 갖는 반송 부재, 및 이들을이용한 기판 처리 장치의 클리닝 방법
KR100939965B1 (ko) * 2007-09-11 2010-02-04 참앤씨(주) 프로브 카드 클리닝 시트 및 이를 이용한 클리닝 방법
US8460783B2 (en) 2002-06-19 2013-06-11 Nitto Denko Corporation Cleaning sheets, transfer member having cleaning function, and method of cleaning substrate-processing apparatus with these

Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002326169A (ja) * 2001-05-02 2002-11-12 Nihon Micro Coating Co Ltd 接触子クリーニングシート及び方法
WO2005028157A1 (en) * 2003-09-15 2005-03-31 Psiloquest Inc. A polishing pad for chemical mechanical polishing
US9833818B2 (en) 2004-09-28 2017-12-05 International Test Solutions, Inc. Working surface cleaning system and method
US7784146B2 (en) * 2006-01-09 2010-08-31 International Business Machines Corporation Probe tip cleaning apparatus and method of use
US20070284339A1 (en) * 2006-06-09 2007-12-13 Moore David O Plasma etching chamber parts made with EDM
US7983789B2 (en) 2007-09-14 2011-07-19 Seagate Technology Llc Collecting debris from a tool
US8371316B2 (en) * 2009-12-03 2013-02-12 International Test Solutions, Inc. Apparatuses, device, and methods for cleaning tester interface contact elements and support hardware
US8484795B2 (en) 2010-08-11 2013-07-16 Seagate Technology Llc Collecting debris from a tool
DE102014103262B3 (de) * 2014-03-11 2015-06-11 Multitest Elektronische Systeme Gmbh Vorrichtung zum Prüfen von elektronischen Bauteilen
MY187430A (en) * 2015-12-25 2021-09-22 Kaijo Kk Wire bonding apparatus
US9825000B1 (en) 2017-04-24 2017-11-21 International Test Solutions, Inc. Semiconductor wire bonding machine cleaning device and method
JP2021514827A (ja) 2018-02-23 2021-06-17 インターナショナル テスト ソリューションズ, インコーポレイテッド フレキシブル電子回路ウェブロールを自動的に清浄化するための新規材料及びハードウエア
US11756811B2 (en) 2019-07-02 2023-09-12 International Test Solutions, Llc Pick and place machine cleaning system and method
US10792713B1 (en) 2019-07-02 2020-10-06 International Test Solutions, Inc. Pick and place machine cleaning system and method
US11865588B2 (en) * 2019-11-12 2024-01-09 Alliance Material Co., Ltd. Probe pin cleaning pad and cleaning method for probe pin
US11211242B2 (en) 2019-11-14 2021-12-28 International Test Solutions, Llc System and method for cleaning contact elements and support hardware using functionalized surface microfeatures
US11318550B2 (en) 2019-11-14 2022-05-03 International Test Solutions, Llc System and method for cleaning wire bonding machines using functionalized surface microfeatures
US11035898B1 (en) 2020-05-11 2021-06-15 International Test Solutions, Inc. Device and method for thermal stabilization of probe elements using a heat conducting wafer
CN113267659A (zh) * 2021-05-18 2021-08-17 上海泽丰半导体科技有限公司 Ate测试板及ate测试板的制造方法

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2003A (en) * 1841-03-12 Improvement in horizontal windivhlls
US2004A (en) * 1841-03-12 Improvement in the manner of constructing and propelling steam-vessels
US3386877A (en) * 1964-11-02 1968-06-04 Dow Chemical Co Cellular thermoplastic article having selected open cells and its manufacture
US3607159A (en) * 1967-05-12 1971-09-21 Norton Co Saturated, resilient, flexible and porous abrasive laminate
DE2632545C2 (de) * 1976-07-20 1984-04-26 Collo Gmbh, 5303 Bornheim Reinigungskörper für die Körperpflege, für Haushaltszwecke und dgl.
JPS56119377A (en) * 1980-02-20 1981-09-18 Hitachi Ltd Probe needle polisher for pellet inspection
JP3289751B2 (ja) * 1994-04-06 2002-06-10 日本電信電話株式会社 光コネクタ用接着剤の除去方法
US6118289A (en) * 1997-03-10 2000-09-12 Canon Kabushiki Kaisha Cleaning method and cleaning device and cleaning tool for board electrical-test probes, and board electrical-test device and method
JP3430213B2 (ja) * 1997-04-08 2003-07-28 東京エレクトロン株式会社 ソフトクリーナ及びクリーニング方法
JP3923589B2 (ja) * 1997-04-22 2007-06-06 住友スリーエム株式会社 プローブカード針先研掃方法
JPH1187438A (ja) * 1997-09-03 1999-03-30 Mitsubishi Electric Corp プローブ先端のクリーニング部材ならびにクリーニング方法、および半導体ウェーハのテスト方法
JPH11133116A (ja) * 1997-11-04 1999-05-21 Mitsubishi Electric Corp プローブカード用プローブ針の研磨部材およびクリーニング装置
JP4195942B2 (ja) * 1998-02-20 2008-12-17 宏一 西村 研摩材
JPH11337621A (ja) * 1998-05-25 1999-12-10 Micronics Japan Co Ltd プローブ先端のクリーニング部材及びクリーニング方法
JP4152040B2 (ja) * 1999-05-21 2008-09-17 株式会社日本マイクロニクス 接触子先端のクリーニング部材
JP2001313317A (ja) * 2000-04-28 2001-11-09 Ando Electric Co Ltd プローブの清掃方法及び清掃装置
KR100857642B1 (ko) * 2001-04-09 2008-09-08 니혼 미크로 코팅 가부시끼 가이샤 접촉자 선단 및 측면 클리닝 용구
JP2002326169A (ja) * 2001-05-02 2002-11-12 Nihon Micro Coating Co Ltd 接触子クリーニングシート及び方法
JP3888197B2 (ja) * 2001-06-13 2007-02-28 三菱電機株式会社 プローブ先端付着異物の除去部材、プローブ先端付着異物のクリーニング方法およびプロービング装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100770501B1 (ko) * 2002-06-19 2007-10-25 닛토덴코 가부시키가이샤 클리닝 시이트, 클리닝 기능을 갖는 반송 부재, 및 이들을이용한 기판 처리 장치의 클리닝 방법
US8460783B2 (en) 2002-06-19 2013-06-11 Nitto Denko Corporation Cleaning sheets, transfer member having cleaning function, and method of cleaning substrate-processing apparatus with these
KR100939965B1 (ko) * 2007-09-11 2010-02-04 참앤씨(주) 프로브 카드 클리닝 시트 및 이를 이용한 클리닝 방법

Also Published As

Publication number Publication date
TW528654B (en) 2003-04-21
US20040096643A1 (en) 2004-05-20
EP1391265B1 (en) 2006-05-31
EP1391265A1 (en) 2004-02-25
US20050126590A1 (en) 2005-06-16
JP2002346939A (ja) 2002-12-04
WO2002094508A1 (fr) 2002-11-28
DE60211890D1 (de) 2006-07-06
EP1391265A4 (en) 2005-08-31
JP4832664B2 (ja) 2011-12-07
KR100831828B1 (ko) 2008-05-28
US6884300B2 (en) 2005-04-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100831828B1 (ko) 접촉자 클리닝 시트 및 방법
KR100853589B1 (ko) 클리닝 시트, 클리닝 시트 제조 방법 및 접촉자 클리닝 방법
KR100857642B1 (ko) 접촉자 선단 및 측면 클리닝 용구
US6056627A (en) Probe cleaning tool, probe cleaning method and semiconductor wafer testing method
KR20060046037A (ko) 프로브용 클리닝 시트 및 클리닝방법
US20080242576A1 (en) Probe cleaning sheet
KR100691075B1 (ko) 세척용 시이트, 이를 사용한 반송부재, 및 이를 사용한기판가공장치 세척법
WO2006014894A3 (en) Method and apparatus for producing co-planar bonding pads on a substrate
JP4152040B2 (ja) 接触子先端のクリーニング部材
WO2011013383A1 (ja) テストプローブ用のクリーニングパッドおよびテストプローブのクリーニング方法
US20050282470A1 (en) Continuous contour polishing of a multi-material surface
WO2002083364A1 (fr) Outil pour nettoyer la pointe et la surface laterale d&#39;un contacteur
JP2005026265A (ja) クリーニング機構付きプローバ及びそのクリーニング方法
JP4206079B2 (ja) 電子部品の実装方法
JPH11233220A (ja) 半導体評価試験装置用オープンタイプ・ソケットのコンタクト不良を修復する方法およびコンタクト不良修復用研磨シート
US20210213587A1 (en) Multi-Port Polishing Fixture Assembly and Method of Surface Conditioning a Pick and Place Bond Head
KR100893877B1 (ko) 프로브 카드용 니들 단부의 연마 방법
JPS6114854A (ja) 研磨治具
JP2005197545A (ja) プローブ先端クリーニング部材及びプローブ先端クリーニング部材の取付方法
KR20040038387A (ko) 프로브 침 클리닝장치
JP2022190222A (ja) 研磨工具
JP2000150569A (ja) Icチップの接続方法
JPH08157779A (ja) プラスチック制電プレートの接着法
KR19990074749A (ko) 반도체소자의 제조방법
JPH05226306A (ja) 研磨装置および該装置への基板の貼着方法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130508

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140515

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150511

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20151214

Year of fee payment: 9

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170118

Year of fee payment: 10

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20171228

Year of fee payment: 11

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190516

Year of fee payment: 12