KR20030016252A - 치환된 이미노아진 - Google Patents

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뮐러클라우스-헬무트
드레베스마르크빌헬름
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호이흐트디터
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Abstract

본 발명은 일반식 (I)의 신규 치환된 이미노아진, 그의 제조방법 및 제초제로서의 그의 용도에 관한 것이다.
상기 식에서,
R1, R2, R3, R4, Z1, Z2및 Z3는 각각 명세서에 언급된 의미를 갖는다.

Description

치환된 이미노아진{Substituted iminoazines}
본 발명은 신규 치환된 이미노아진, 그의 제조 방법 및 식물 처리제, 특히 제초제로서의 그의 용도에 관한 것이다.
특정의 치환된 이미노피리딘이 제초성을 가지고 있는 것이 공지되었다(참조: EP-A-432 600). 그러나, 이들 화합물의 활성이 항상 만족스러운 것은 아니다.
이에 따라, 본 발명은 일반식 (I)의 신규 치환된 이미노아진을 제공한다:
상기 식에서,
R1은 니트로, 시아노, 또는 그룹 -R5, -CQ1-Q2-R5, -NH-CQ1-Q2-R5및 -SO2-R6중의 하나를 나타내고,
R2는 니트로, 시아노, SF5, 할로겐, 또는 각 경우에 임의로 치환된 알킬, 알콕시, 알킬티오, 알킬설피닐, 알킬설포닐 또는 알킬설포닐옥시를 나타내며,
R3는 수소 또는 할로겐을 나타내거나, R2와 함께, 임의로 치환된 알킬렌디옥시를 나타내고,
R4는 수소, 시아노, 카복실, 카바모일, 할로겐 또는 임의로 치환된 알킬을 나타내며,
Q1은 O(산소), S(황) 또는 N-R5를 나타내고,
Q2는 단일결합을 나타내거나, O(산소), S(황) 또는 N-R5를 나타내며,
R5는 수소, 아미노, 또는 각 경우에 임의로 치환된 알킬, 알콕시, 알킬아미노, 디알킬아미노, 알킬리덴아미노, 알케닐, 알케닐옥시, 알키닐, 사이클로알킬, 사이클로알킬아미노, 사이클로알킬알킬, 아릴, 아릴아미노, 아릴알킬, 헤테로사이클릴 또는 헤테로사이클릴알킬을 나타내고,
R6는 각 경우에 임의로 치환된 알킬, 알케닐, 사이클로알킬, 사이클로알킬알킬, 아릴, 아릴알킬, 헤테로사이클릴 또는 헤테로사이클릴알킬을 나타내며,
Z1은 N(질소) 또는 C-R4를 나타내고,
Z2는 N(질소) 또는 C-R4를 나타내며,
Z3은 N(질소) 또는 C-R4를 나타낸다.
정의에서, 알킬아미노에서와 같이 헤테로원자와 결합된 것을 포함하여 알킬,알케닐 또는 알키닐과 같은 탄화수소쇄는 각 경우에 직쇄 또는 측쇄이다. R3은 바람직하게는 페닐 환상에서 메타 또는 파라 위치이다.
상기 및 이후 주어진 일반식들에 존재하는 래디칼의 바람직한 치환체 또는 바람직한 범위는 다음과 같다.
R1은 바람직하게는 시아노, 또는 그룹 -R5, -CQ1-Q2-R5, -NH-CQ1-Q2-R5및 -SO2-R6중의 하나를 나타내고,
R2는 바람직하게는 니트로, 시아노, SF5, 할로겐, 또는 각 경우에 1 내지 5 개의 탄소원자를 가지며 각 경우에 임의로 시아노-, 할로겐- 또는 C1-C4-알콕시-치환된 알킬, 알콕시, 알킬티오, 알킬설피닐, 알킬설포닐 또는 알킬설포닐옥시를 나타내며,
R3는 바람직하게는 수소 또는 할로겐을 나타내거나, R2와 함께, 임의로 할로겐-치환된 탄소원자수 1 내지 3의 알킬렌디옥시를 나타내고,
R4는 바람직하게는 수소, 시아노, 카복실, 카바모일, 할로겐 또는 임의로 시아노-, 할로겐- 또는 C1-C4-알콕시-치환된 탄소원자수 1 내지 5의 알킬을 나타내며,
Q1은 바람직하게는 O(산소) 또는 S(황)을 나타내고,
R5는 바람직하게는 수소 또는 아미노를 나타내거나, 각 경우에 1 내지 6 개의 탄소원자를 가지며 각 경우에 임의로 시아노-, 할로겐- 또는 C1-C4-알콕시-치환된 알킬 또는 알콕시를 나타내거나, 1 내지 6 개의 탄소원자를 갖는 알킬아미노를 나타내거나, 알킬 그룹에 1 내지 6 개의 탄소원자를 갖는 디알킬아미노를 나타내거나, 6 개 이하의 탄소원자를 갖는 알킬리덴아미노를 나타내거나, 각 경우에 2 내지 6 개의 탄소원자를 가지며 각 경우에 임의로 시아노- 또는 할로겐-치환된 알케닐, 알케닐옥시 또는 알키닐을 나타내거나, 각 경우에 사이클로알킬 그룹에 3 내지 6 개의 탄소원자 및 임의로 알킬 부분에 1 내지 4 개의 탄소원자를 가지며 각 경우에 임의로 시아노-, 할로겐- 또는 C1-C4-알킬-치환된 사이클로알킬, 사이클로알킬아미노 또는 사이클로알킬알킬을 나타내거나, 각 경우에 아릴 그룹에 6 또는 10 개의 탄소원자 및 임의로 알킬 부분에 1 내지 4 개의 탄소원자를 가지며 각 경우에 임의로 니트로-, 시아노-, 페닐-, 페녹시-, 페닐티오-, 할로겐-, C1-C4-알킬-, C1-C4-할로게노알킬-, C1-C4-알콕시-, C1-C4-할로게노알콕시-, C1-C4-알킬티오-, C1-C4-할로게노알킬티오-, C1-C4-알킬설피닐-, C1-C4-할로게노알킬설피닐-, C1-C4-알킬설포닐-, C1-C4-할로게노알킬설포닐- 또는 디-(C1-C4-알킬)-아미노설포닐-치환된 아릴, 아릴아미노 또는 아릴알킬을 나타내거나, 각 경우에 헤테로사이클릴 그룹에 10 개 이하의 탄소원자 및 4 개 이하의 질소원자 및/또는 1 또는 2 개의 산소 또는 황원자를 갖고 임의로 알킬 부분에 1 내지 4 개의 탄소원자를 가지며 각 경우에 임의로 니트로-, 시아노-, 페닐-, 페녹시-, 페닐티오-, 할로겐-, C1-C4-알킬-, C1-C4-할로게노알킬-, C1-C4-알콕시-, C1-C4-할로게노알콕시-, C1-C4-알킬티오-, C1-C4-할로게노알킬티오-, C1-C4-알킬설피닐-, C1-C4-할로게노알킬설피닐-, C1-C4-알킬설포닐-, C1-C4-할로게노알킬설포닐- 또는 디-(C1-C4-알킬)-아미노설포닐-치환된 모노사이클릭 또는 비사이클릭 헤테로사이클릴 또는 헤테로사이클릴알킬을 나타내고,
R6는 바람직하게는 임의로 할로겐-치환된 탄소원자수 1 내지 6의 알킬을 나타내거나, 임의로 할로겐-치환된 탄소원자수 2 내지 6의 알케닐을 나타내거나, 각 경우에 사이클로알킬 그룹에 3 내지 6 개의 탄소원자 및 임의로 알킬 부분에 1 내지 4 개의 탄소원자를 가지며 각 경우에 임의로 할로겐- 또는 C1-C4-알킬-치환된 사이클로알킬 또는 사이클로알킬알킬을 나타내거나, 각 경우에 아릴 그룹에 6 또는 10 개의 탄소원자 및 임의로 알킬 부분에 1 내지 4 개의 탄소원자를 가지며 각 경우에 임의로 니트로-, 시아노-, 할로겐-, C1-C4-알킬-, C1-C4-할로게노알킬-, C1-C4-알콕시-, C1-C4-할로게노알콕시-, C1-C4-알킬티오-, C1-C4-할로게노알킬티오-, C1-C4-알킬설피닐-, C1-C4-할로게노알킬설피닐-, C1-C4-알킬설포닐-, C1-C4-할로게노알킬설포닐- 또는 디-(C1-C4-알킬)-아미노설포닐-치환된 아릴 또는 아릴알킬을 나타내거나, 각 경우에 헤테로사이클릴 그룹에 10 개 이하의 탄소원자 및 4 개 이하의 질소원자 및/또는 1 또는 2 개의 산소 또는 황원자를 갖고 임의로 알킬 부분에 1 내지 4 개의 탄소원자를 가지며 각 경우에 임의로 니트로-, 시아노-, 할로겐-, C1-C4-알킬-, C1-C4-할로게노알킬-, C1-C4-알콕시-, C1-C4-할로게노알콕시-, C1-C4-알킬티오-, C1-C4-할로게노알킬티오-, C1-C4-알킬설피닐-, C1-C4-할로게노알킬설피닐-, C1-C4-알킬설포닐-, C1-C4-할로게노알킬설포닐- 또는 디-(C1-C4-알킬)-아미노설포닐-치환된 모노사이클릭 또는 비사이클릭 헤테로사이클릴 또는 헤테로사이클릴알킬을 나타내며,
Z1은 바람직하게는 C-R4를 나타내고,
Z2는 바람직하게는 C-R4를 나타내며,
Z3은 바람직하게는 C-R4를 나타낸다.
R2는 특히 바람직하게는 니트로, 시아노, SF5, 불소, 염소 또는 브롬을 나타내거나, 각 경우에 임의로 시아노-, 불소-, 염소-, 메톡시- 또는 에톡시-치환된 메틸, 에틸, n- 또는 i-프로필, 메톡시, 에톡시, n- 또는 i-프로폭시, 메틸티오, 에틸티오, n- 또는 i-프로필티오, 메틸설피닐, 에틸설피닐, n- 또는 i-프로필설피닐, 메틸설포닐, 에틸설포닐, n- 또는 i-프로필설포닐, 메틸설포닐옥시, 에틸설포닐옥시, 또는 n- 또는 i-프로필설포닐옥시를 나타내고,
R3는 특히 바람직하게는 수소, 불소, 염소 또는 브롬을 나타내거나, R2와 함께, 각 경우에 임의로 불소- 및/또는 염소-치환된 메틸렌디옥시 또는 에틸렌디옥시를 나타내며,
R4는 특히 바람직하게는 수소, 시아노, 카복실, 카바모일, 불소, 염소 또는 브롬을 나타내거나, 임의로 시아노-, 불소-, 염소-, 메톡시- 또는 에톡시-치환된 메틸, 에틸, 또는 n- 또는 i-프로필을 나타내고,
Q1은 특히 바람직하게는 O(산소)를 나타내며,
R5는 특히 바람직하게는 수소 또는 아미노를 나타내거나, 각 경우에 임의로 시아노-, 불소-, 염소-, 메톡시- 또는 에톡시-치환된 메틸, 에틸, n- 또는 i-프로필, n-, i-, s- 또는 t-부틸, 메틸아미노, 에틸아미노, n- 또는 i-프로필아미노, 또는 n-, i-, s- 또는 t-부틸아미노를 나타내거나, 디메틸아미노 또는 디에틸아미노를 나타내거나, 프로필리덴아미노 또는 부틸리덴아미노를 나타내거나, 각 경우에 임의로 시아노-, 불소-, 염소- 및/또는 브롬-치환된 프로페닐, 부테닐, 프로피닐 또는 부티닐을 나타내거나, 각 경우에 임의로 시아노-, 불소-, 염소-, 브롬-, 메틸-, 에틸-, 또는 n- 또는 i-프로필-치환된 사이클로프로필, 사이클로부틸, 사이클로펜틸, 사이클로헥실, 사이클로프로필아미노, 사이클로부틸아미노, 사이클로펜틸아미노, 사이클로헥실아미노, 사이클로프로필메틸, 사이클로부틸메틸, 사이클로펜틸메틸 또는 사이클로헥실메틸을 나타내거나, 각 경우에 임의로 니트로-, 시아노-, 페닐-, 페녹시-, 페닐티오-, 불소-, 염소-, 브롬-, 메틸-, 에틸-, n- 또는 i-프로필-, n-, i-, s- 또는 t-부틸-, 디클로로메틸-, 디플루오로메틸-, 트리클로로메틸-, 트리플루오로메틸-, 클로로디플루오로메틸-, 플루오로디클로로메틸-, 메톡시-, 에톡시-, n- 또는 i-프로폭시-, 디플루오로메톡시-, 트리플루오로메톡시-, 메틸티오-, 에틸티오-, n- 또는 i-프로필티오-, 디플루오로메틸티오-, 트리플루오로메틸티오-, 메틸설피닐-, 에틸설피닐-, 트리플루오로메틸설피닐-, 메틸설포닐-, 에틸설포닐-, 트리플루오로메틸설포닐- 또는 디메틸아미노설포닐-치환된 페닐, 나프틸, 페닐아미노, 벤질 또는 페닐에틸을 나타내거나, 각 경우에 임의로 시아노-, 페닐-, 페녹시-, 페닐티오-, 불소-, 염소-, 브롬-, 메틸-, 에틸-, n- 또는 i-프로필-, n-, i-, s- 또는 t-부틸-, 디클로로메틸-, 디플루오로메틸-, 트리클로로메틸-, 트리플루오로메틸-, 클로로디플루오로메틸-, 플루오로디클로로메틸-, 메톡시-, 에톡시-, n- 또는 i-프로폭시-, 디플루오로메톡시-, 트리플루오로메톡시-, 메틸티오-, 에틸티오-, n- 또는 i-프로필티오-, 디플루오로메틸티오-, 트리플루오로메틸티오-, 메틸설피닐-, 에틸설피닐-, 트리플루오로메틸설피닐-, 메틸설포닐-, 에틸설포닐-, 트리플루오로메틸설포닐- 또는 디메틸아미노설포닐-치환된 푸릴, 테트라하이드로푸릴, 벤조푸릴, 티에닐, 벤조티에닐, 피롤릴, 벤조피롤릴, 피라졸릴, 벤조피라졸릴, 옥사졸릴, 벤족사졸릴, 이속사졸릴, 티아졸릴, 벤조티아졸릴, 옥사디아졸릴, 티아디아졸릴, 피리디닐, 퀴놀리닐, 피리미디닐, 푸릴메틸, 티에닐메틸, 피롤릴메틸, 피라졸릴메틸, 옥사졸릴메틸, 티아졸릴메틸, 피리디닐메틸 및 피리미디닐메틸로 구성된 그룹중에서 선택된 헤테로사이클릴 또는 헤테로사이클릴알킬을 나타내고,
R6은 특히 바람직하게는 각 경우에 임의로 불소- 및/또는 염소-치환된 메틸, 에틸, n- 또는 i-프로필, 또는 n-, i-, s- 또는 t-부틸을 나타내거나, 각 경우에임의로 불소-, 염소- 및/또는 브롬-치환된 프로페닐 또는 부테닐을 나타내거나, 각 경우에 임의로 불소-, 염소-, 브롬-, 메틸-, 에틸-, 또는 n- 또는 i-프로필-치환된 사이클로프로필, 사이클로부틸, 사이클로펜틸, 사이클로헥실, 사이클로프로필메틸, 사이클로부틸메틸, 사이클로펜틸메틸 또는 사이클로헥실메틸을 나타내거나, 각 경우에 임의로 니트로-, 시아노-, 불소-, 염소-, 브롬-, 메틸-, 에틸-, n- 또는 i-프로필-, n-, i-, s- 또는 t-부틸-, 디클로로메틸-, 디플루오로메틸-, 트리클로로메틸-, 트리플루오로메틸-, 클로로디플루오로메틸-, 플루오로디클로로메틸-, 메톡시-, 에톡시-, n- 또는 i-프로폭시-, 디플루오로메톡시-, 트리플루오로메톡시-, 메틸티오-, 에틸티오-, n- 또는 i-프로필티오-, 디플루오로메틸티오-, 트리플루오로메틸티오-, 메틸설피닐-, 에틸설피닐-, 트리플루오로메틸설피닐-, 메틸설포닐-, 에틸설포닐-, 트리플루오로메틸설포닐- 또는 디메틸아미노설포닐-치환된 페닐 또는 나프틸을 나타내거나, 각 경우에 임의로 시아노-, 불소-, 염소-, 브롬-, 메틸-, 에틸-, n- 또는 i-프로필-, n-, i-, s- 또는 t-부틸-, 디클로로메틸-, 디플루오로메틸-, 트리클로로메틸-, 트리플루오로메틸-, 클로로디플루오로메틸-, 플루오로디클로로메틸-, 메톡시-, 에톡시-, n- 또는 i-프로폭시-, 디플루오로메톡시-, 트리플루오로메톡시-, 메틸티오-, 에틸티오-, n- 또는 i-프로필티오-, 디플루오로메틸티오-, 트리플루오로메틸티오-, 메틸설피닐-, 에틸설피닐-, 트리플루오로메틸설피닐-, 메틸설포닐-, 에틸설포닐-, 트리플루오로메틸설포닐- 또는 디메틸아미노설포닐-치환된 푸릴, 벤조푸릴, 티에닐, 벤조티에닐, 피롤릴, 벤조피롤릴, 피라졸릴, 벤조피라졸릴, 옥사졸릴, 벤족사졸릴, 이속사졸릴, 티아졸릴, 벤조티아졸릴, 피리디닐,퀴놀리닐, 피리미디닐, 푸릴메틸, 티에닐메틸, 피롤릴메틸, 피라졸릴메틸, 옥사졸릴메틸, 티아졸릴메틸, 피리디닐메틸 및 피리미디닐메틸로 구성된 그룹중에서 선택된 헤테로사이클릴 또는 헤테로사이클릴알킬을 나타내며,
Z1은 특히 바람직하게는 CH를 나타내고,
Z2는 특히 바람직하게는 CH를 나타내며,
Z3은 특히 바람직하게는 CH를 나타낸다.
R2는 매우 특히 바람직하게는 시아노, 불소, 염소 또는 브롬을 나타내거나, 각 경우에 임의로 불소-, 염소-, 메톡시- 또는 에톡시-치환된 메틸, 에틸, 메톡시, 에톡시, 메틸티오, 에틸티오, 메틸설피닐, 에틸설피닐, 메틸설포닐, 에틸설포닐, 메틸설포닐옥시 또는 에틸설포닐옥시를 나타내고,
R4는 매우 특히 바람직하게는 수소, 시아노, 불소, 염소 또는 브롬을 나타내거나, 임의로 불소-, 염소-, 메톡시- 또는 에톡시-치환된 메틸 또는 에틸을 나타내며,
R5는 매우 특히 바람직하게는 수소 또는 아미노를 나타내거나, 각 경우에 임의로 시아노-, 불소-, 염소-, 메톡시- 또는 에톡시-치환된 메틸, 에틸, n- 또는 i-프로필, 메틸아미노, 에틸아미노, 또는 n- 또는 i-프로필아미노를 나타내거나, 디메틸아미노를 나타내거나, 각 경우에 임의로 불소-, 염소- 및/또는 브롬-치환된 프로페닐, 부테닐, 프로피닐 또는 부티닐을 나타내거나, 각 경우에 임의로 불소-, 염소-, 브롬-, 메틸- 또는 에틸-치환된 사이클로프로필, 사이클로펜틸, 사이클로헥실, 사이클로프로필아미노, 사이클로펜틸아미노, 사이클로헥실아미노, 사이클로프로필메틸, 사이클로펜틸메틸 또는 사이클로헥실메틸을 나타내거나, 각 경우에 임의로 니트로-, 시아노-, 불소-, 염소-, 브롬-, 메틸-, 에틸-, n- 또는 i-프로필-, n-, i-, s- 또는 t-부틸-, 트리플루오로메틸-, 메톡시-, 에톡시-, n- 또는 i-프로폭시-, 디플루오로메톡시-, 트리플루오로메톡시-, 메틸티오-, 에틸티오-, n- 또는 i-프로필티오-, 디플루오로메틸티오-, 트리플루오로메틸티오-, 메틸설피닐-, 에틸설피닐-, 트리플루오로메틸설피닐-, 메틸설포닐-, 에틸설포닐-, 트리플루오로메틸설포닐- 또는 디메틸아미노설포닐-치환된 페닐, 페닐아미노, 벤질 또는 페닐에틸을 나타내고,
R6은 매우 특히 바람직하게는 각 경우에 임의로 불소- 및/또는 염소-치환된 메틸, 에틸, n- 또는 i-프로필, 또는 n-, i-, s- 또는 t-부틸을 나타내거나, 각 경우에 임의로 불소-, 염소-, 브롬-, 메틸- 또는 에틸-치환된 사이클로프로필, 사이클로펜틸 또는 사이클로헥실을 나타내거나, 임의로 니트로-, 시아노-, 불소-, 염소-, 브롬-, 메틸-, 에틸-, n- 또는 i-프로필-, n-, i-, s- 또는 t-부틸-, 트리플루오로메틸-, 메톡시-, 에톡시-, n- 또는 i-프로폭시-, 디플루오로메톡시-, 트리플루오로메톡시-, 메틸티오-, 에틸티오-, n- 또는 i-프로필티오-, 디플루오로메틸티오-, 트리플루오로메틸티오-, 메틸설피닐-, 에틸설피닐-, 트리플루오로메틸설피닐-, 메틸설포닐-, 에틸설포닐-, 트리플루오로메틸설포닐- 또는 디메틸아미노설포닐-치환된 페닐을 나타낸다.
R2는 가장 바람직하게는 트리플루오로메틸을 나타내고,
R4는 가장 바람직하게는 메틸을 나타낸다.
매우 특히 바람직한 그룹은
R1이 시아노, 또는 그룹 -CQ1-Q2-R5및 -SO2-R6중의 하나를 나타내고,
R2는 트리플루오로메틸, 디플루오로메톡시 또는 트리플루오로메톡시를 나타내며,
R3는 수소, 불소 또는 염소를 나타내거나, R2와 함께, 오르토 위치에서 디플루오로메틸렌디옥시 또는 테트라플루오로에틸렌디옥시를 나타내고,
R4는 수소, 불소, 염소, 브롬 또는 메틸을 나타내며,
Q1은 O(산소) 또는 S(황)을 나타내고,
Q2는 단일결합을 나타내거나, O(산소), S(황) 또는 N-R5를 나타내며,
R5는 수소를 나타내거나, 각 경우에 임의로 시아노-, 불소-, 염소-, 메톡시- 또는 에톡시-치환된 메틸, 에틸, 또는 n- 또는 i-프로필을 나타내거나, 각 경우에 임의로 불소-, 염소- 및/또는 브롬-치환된 프로페닐, 부테닐, 프로피닐 또는 부티닐을 나타내거나, 각 경우에 임의로 불소-, 염소- 또는 메틸-치환된 사이클로프로필, 사이클로펜틸, 사이클로헥실, 사이클로프로필메틸, 사이클로펜틸메틸 또는 사이클로헥실메틸을 나타내거나, 각 경우에 임의로 니트로-, 시아노-, 불소-, 염소-, 브롬-, 메틸-, 에틸-, n- 또는 i-프로필-, n-, i-, s- 또는 t-부틸-, 트리플루오로메틸-, 메톡시-, 에톡시-, n- 또는 i-프로폭시-, 디플루오로메톡시-, 트리플루오로메톡시-, 메틸티오-, 에틸티오-, n- 또는 i-프로필티오-, 디플루오로메틸티오-, 트리플루오로메틸티오-, 메틸설피닐-, 에틸설피닐-, 트리플루오로메틸설피닐-, 메틸설포닐-, 에틸설포닐-, 트리플루오로메틸설포닐- 또는 디메틸아미노설포닐-치환된 페닐 또는 벤질을 나타내고,
R6은 각 경우에 임의로 불소- 및/또는 염소-치환된 메틸, 에틸, n- 또는 i-프로필, 또는 n-, i-, s- 또는 t-부틸을 나타내거나, 각 경우에 임의로 불소-, 염소- 또는 메틸-치환된 사이클로프로필, 사이클로펜틸 또는 사이클로헥실을 나타내거나, 임의로 니트로-, 시아노-, 불소-, 염소-, 브롬-, 메틸-, 에틸-, n- 또는 i-프로필-, n-, i-, s- 또는 t-부틸-, 트리플루오로메틸-, 메톡시-, 에톡시-, n- 또는 i-프로폭시-, 디플루오로메톡시-, 트리플루오로메톡시-, 메틸티오-, 에틸티오-, n- 또는 i-프로필티오-, 디플루오로메틸티오-, 트리플루오로메틸티오-, 메틸설피닐-, 에틸설피닐-, 트리플루오로메틸설피닐-, 메틸설포닐-, 에틸설포닐-, 트리플루오로메틸설포닐- 또는 디메틸아미노설포닐-치환된 페닐을 나타내며,
Z1은 CH를 나타내고,
Z2는 CH를 나타내며,
Z3은 CH를 나타내는 일반식 (I)의 화합물이다.
본 발명에 있어서, 상기 바람직한 것으로 언급된 의미들의 조합을 포함하는 일반식 (I)의 바람직하다.
본 발명에 있어서, 상기 특히 바람직한 것으로 언급된 의미들의 조합을 포함하는 일반식 (I)의 화합물이 특히 바람직하다.
본 발명에 있어서, 상기 매우 특히 바람직한 것으로 언급된 의미들의 조합을 포함하는 일반식 (I)의 화합물이 매우 특히 바람직하다.
상기 언급된 일반적이거나 바람직한 래디칼 정의는 일반식 (I)의 최종 생성물 및, 상응하게 제조를 위해 각 경우에 필요한 출발 물질 또는 중간체에 적용된다.
이들 래디칼 정의는 원하는 대로, 즉 주어진 바람직한 범위사이의 조합을 포함하여 서로 조합될 수 있다.
일반식 (I)의 신규 치환된 이미노아진은 유용한 생물학적 특성을 갖는다. 이들은 특히 강력한 제초 활성을 나타낸다.
일반식 (I)의 신규 치환된 이미노아진은
(a) 하기 일반식 (II)의 이미노아진 또는 그의 산 부가물, 예를 들어 하이드로클로라이드를, 경우에 따라 반응 보조제의 존재하 및 경우에 따라 희석제의 존재하에서 하기 일반식 (III)의 화합물 또는 하기 일반식 (IV)의 이소(티오)시아네이트와 반응시키거나,
(b) 하기 일반식 (V)의 아진티온을, 경우에 따라 하나 이상의 희석제의 존재하에서 하기 일반식 (VI)의 화합물과 반응시키거나,
(c) 하기 일반식 (VII)의 클로로아지늄 화합물을, 경우에 따라 반응 보조제의 존재하 및 경우에 따라 희석제의 존재하에서 하기 일반식 (VIII)의 아미노 화합물과 반응시키거나,
(d) 하기 일반식 (II)의 이미노아진 또는 그의 산 부가물, 예를 들어 하이드로클로라이드를, 경우에 따라 반응 보조제 및/또는 희석제의 존재하에서 질산과 반응시킴으로써 수득된다:
상기 식에서,
R1, R2, R3, R4, R5, R6, Q1, Z1, Z2및 Z3는 각각 상기 정의된 바와 같고,
X1은 할로겐, -SO2CH3, -O-CO-R5또는 -O-SO2-R6를 나타내며,
M은 금속 등가물을 나타내며,
Y는 Cl, PCl4, POCl4또는 PCl6을 나타낸다.
예를 들어, 5-클로로-1-(3-시아노페닐)-2(1H)-피리딘이민 및 아세틸 클로라이드를 출발 물질로 사용하는 경우, 본 발명에 따른 방법 (a)의 반응과정은 하기 반응식으로 나타내어질 수 있다:
예를 들어, 1-(3-클로로페닐)-5-에틸-2(1H)-피리딘티온 및 N-클로로벤젠설폰아미드 소듐염을 출발 물질로 사용하는 경우, 본 발명에 따른 방법 (b)의 반응과정은 하기 반응식으로 나타내어질 수 있다:
예를 들어, 1-(3-브로모페닐)-2-클로로-5-트리플루오로메틸-피리디늄 클로라이드 및 디메틸히드라진을 출발 물질로 사용하는 경우, 본 발명에 따른 방법 (c)의 반응과정은 하기 반응식으로 나타내어질 수 있다:
예를 들어, 5-브로모-1-(3-클로로디플루오로메틸페닐)-2(1H)-피리딘이민 및 질산을 출발 물질로 사용하는 경우, 본 발명에 따른 방법 (d)의 반응과정은 하기 반응식으로 나타내어질 수 있다:
일반식 (II)는 일반식 (I)의 화합물을 제조하기 위한 본 발명에 따른 방법(a) 및 (b)에서 출발 물질로 사용되는 이미노아진의 일반 정의를 제공한다. 일반식 (II)에서, R2, R3, R4, Z1, Z2및 Z3는 각각 바람직하게는 본 발명에 따른 일반식 (I)의 화합물의 설명과 관련하여 R2, R3, R4, Z1, Z2및 Z3에 대해 바람직하거나, 특히 바람직하거나, 매우 특히 바람직한 것으로 상기 언급된 의미를 갖는다.
일반식 (II)의 출발물질은 아직 문헌에 개시되지 않은 신규 물질로서 또한 본 출원의 특허대상이다.
일반식 (II)의 신규 이미노아진은
(α) 제 1 단계에서, 하기 일반식 (IX)의 아지논을, 경우에 따라 반응 보조제, 예를 들어 N,N-디메틸포름아미드의 존재하 및 경우에 따라 희석제, 예를 들어 1,2-디클로로에탄의 존재하에 0 내지 150 ℃의 온도에서 염소화제, 예를 들어 포스겐, 디포스겐, 옥살릴 클로라이드, 티오닐 클로라이드, 염화인(III), 포스포릴 클로라이드 또는 염화인(V)과 반응시키고(참조: 제조 실시예), 제 2 단계에서, 생성된 하기 일반식 (VII)의 클로로아지늄 화합물을, 경우에 따라 희석제, 예를 들어 메탄올의 존재하 및 경우에 따라 산 수용체, 예를 들어 소듐 메톡사이드의 존재하에 0 내지 80 ℃의 온도에서 암모니아와 반응시키거나(참조: 제조 실시예),
(β) 하기 일반식 (Ia)의 치환된 이미노아진을 0 내지 100 ℃의 온도에서 강산, 예를 들어 임의로 물로 희석된 황산과 반응(참조: 제조 실시예)시킴으로써 수득된다:
상기 식에서,
R2, R3, R4, R6, Z1, Z2및 Z3는 각각 상기 정의된 바와 같고,
Y는 Cl, PCl4, POCl4또는 PCl6을 나타낸다.
일반식 (IX)의 출발물질은 일부 공지되었고/되었거나 공지된 방법으로 제조될 수 있다(참조: Chem. Pharm. Bull. 45 (1997), 719-721, DE-A-1900947, DE-A-2362958, DE-A-2555411, 및 제조 실시예).
일반식 (IXa)의 출발물질은 일반식 (I)의 화합물을 제조하기 위한 본 발명에따른 신규 화합물이다:
상기 식에서,
R2, R3및 R4는 각각 상기 정의된 바와 같다.
상기 일반식 (IXa)에서, R2, R3및 R4는 각각 바람직하게는 본 발명에 따른 일반식 (I)의 화합물의 설명과 관련하여 R2, R3및 R4에 대해 바람직하거나, 특히 바람직하거나, 매우 특히 바람직한 것으로 상기 언급된 의미를 갖는다.
일반식 (IXa)의 출발물질은 아직 문헌에 개시되지 않은 신규 물질로서 또한 본 출원의 특허대상이다.
일반식 (IXa)의 신규 화합물은 공지된 방법으로 제조될 수 있다(참조: Chem. Pharm. Bull. 45 (1997), 719-721, DE-A-1900947, DE-A-2362958, DE-A-2555411, 및 제조 실시예).
일반식 (IX)의 화합물 뿐만 아니라 일반식 (IXa)의 화합물은 또한 유용한 생물학적 성질을 가진다. 특히, 이들은 강력한 제초 활성을 나타낸다.
일반식 (Ia)의 치환된 이미노아진은 본 발명에 따른 신규 화합물이며; 이들은 바람직하게는 본 발명에 따른 방법 (b)에 의해 제조된다.
일반식 (III) 및 (IV)는 일반식 (I)의 화합물을 제조하기 위한 본 발명에 따른 방법 (a)에서 출발 물질로 또한 사용되는 화합물의 일반 정의를 제공한다. 일반식 (III) 및 (IV)에서, R1은 바람직하게는 본 발명에 따른 일반식 (I)의 화합물의 설명과 관련하여 R1에 대해 바람직하거나, 특히 바람직하거나, 매우 특히 바람직한 것으로 상기 언급된 의미를 가지며; X1은 바람직하게는 불소, 염소 또는 브롬, 또는 그룹 -O-CO-R1, 특히 염소 또는 브롬을 나타내고; Q1은 바람직하게는 O 또는 S를 나타낸다.
일반식 (III) 및 (IV)의 출발 물질은 합성에 공지된 유기 화학물질이다.
일반식 (V)는 일반식 (I)의 화합물을 제조하기 위한 본 발명에 따른 방법 (b)에서 출발 물질로 사용되는 아진티온의 일반 정의를 제공한다. 일반식 (V)에서, R2, R3, R4, Z1, Z2및 Z3는 각각 바람직하게는 본 발명에 따른 일반식 (I)의 화합물의 설명과 관련하여 R2, R3, R4, Z1, Z2및 Z3에 대해 바람직하거나, 특히 바람직하거나, 매우 특히 바람직한 것으로 상기 언급된 의미를 갖는다.
일반식 (V)의 출발물질은 아직 문헌에 개시되지 않은 신규 물질로서 또한 본 출원의 특허대상이다.
일반식 (V)의 신규 아진티온은 하기 일반식 (IX)의 아지논을, 경우에 따라 반응 보조제, 예를 들어 피리딘의 존재하에 10 내지 150 ℃의 온도에서 황화제, 예를 들어 황화인(V)(P2S5또는 P4S10)과 반응시킴으로써 수득된다(참조: 제조 실시예):
상기 식에서,
R2, R3, R4, Z1, Z2및 Z3는 각각 상기 정의된 바와 같다.
일반식 (IX)의 출발물질은 공지되었고/되었거나 그 자체가 공지된 방법으로 제조될 수 있다(참조: Chem. Pharm. Bull. 45 (1997), 719-721, DE-A-1 900 947, DE-A-2 362 958, DE-A-2 555 411, 및 제조 실시예).
일반식 (IX)의 아지논은 하기 일반식 (X)의 아지논을, 경우에 따라 촉매, 예를 들어 요오드화구리(I)의 존재하, 경우에 따라 산 수용체, 예를 들어 탄산칼륨의 존재하 및 경우에 따라 희석제, 예를 들어 N,N-디메틸포름아미드의 존재하에 20 내지 200 ℃의 온도에서 하기 일반식 (XI)의 할로게노아렌과 반응시킴으로써 수득된다(참조: 제조 실시예):
상기 식에서,
R2, R3, R4, Z1, Z2및 Z3는 각각 상기 정의된 바와 같고,
X2는 불소, 염소, 브롬 또는 요오드를 나타낸다.
일반식 (VII)은 일반식 (I)의 화합물을 제조하기 위한 본 발명에 따른 방법 (c)에서 출발 물질로 사용되는 클로로아지늄의 일반 정의를 제공한다. 일반식 (VII)에서, R2, R3, R4, Z1, Z2및 Z3는 각각 바람직하게는 본 발명에 따른 일반식 (I)의 화합물의 설명과 관련하여 R2, R3, R4, Z1, Z2및 Z3에 대해 바람직하거나, 특히 바람직하거나, 매우 특히 바람직한 것으로 상기 언급된 의미를 갖는다.
일반식 (VII)의 출발물질은 아직 문헌에 개시되지 않은 신규 물질로서 또한 본 출원의 특허대상이다.
일반식 (VII)의 신규 클로로아지늄 화합물은 하기 일반식 (IX)의 아지논을, 경우에 따라 반응 보조제, 예를 들어 N,N-디메틸포름아미드의 존재하 및 경우에 따라 희석제, 예를 들어 1,2-디클로로에탄의 존재하에 0 내지 150 ℃의 온도에서 염소화제, 예를 들어 포스겐, 디포스겐, 옥살릴 클로라이드, 티오닐 클로라이드, 염화인(III), 포스포릴 클로라이드 또는 염화인(V)과 반응시킴으로써 수득된다(참조: 제조 실시예):
상기 식에서,
R2, R3, R4, Z1, Z2및 Z3는 각각 상기 정의된 바와 같다.
일반식 (VIII)은 일반식 (I)의 화합물을 제조하기 위한 본 발명에 따른 방법 (c)에서 출발 물질로 또한 사용되는 아미노 화합물의 일반 정의를 제공한다. 일반식 (VIII)에서, R1은 바람직하게는 본 발명에 따른 일반식 (I)의 화합물의 설명과 관련하여 R1에 대해 바람직하거나, 특히 바람직하거나, 매우 특히 바람직한 것으로 상기 언급된 의미를 갖는다.
일반식 (VIII)의 출발 물질은 공지된 합성 화학물질이다.
본 발명에 따른 방법 (a) 및 (c)에 대한 적합한 반응 보조제는, 일반적으로 통상의 무기 또는 유기 염기 또는 산 수용체이다. 이들로는 바람직하게는 알칼리 금속 또는 알칼리 토금속의 아세테이트, 아미드, 탄산염, 중탄산염, 수소화물, 수산화물 또는 알콕사이드, 예를 들어 소듐 아세테이트, 포타슘 아세테이트, 칼슘 아세테이트, 리튬 아미드, 소듐 아미드, 포타슘 아미드, 칼슘 아미드, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산칼슘, 중탄산나트륨, 중탄산칼륨, 중탄산칼슘, 수소화리튬, 수소화나트륨, 수소화칼륨, 수소화칼슘, 수산화리튬, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화칼슘, 소듐 메톡사이드, 에톡사이드, n- 또는 i-프로폭사이드, n-, i-, s- 또는 t-부톡사이드, 포타슘 메톡사이드, 에톡사이드, n- 또는 i-프로폭사이드, n-, i-, s- 또는 t-부톡사이드; 또한 염기성 유기 질소 화합물, 예를 들어 트리메틸아민, 트리에틸아민, 트리프로필아민, 트리부틸아민, 에틸디이소프로필아민, N,N-디메틸사이클로헥실아민, 디사이클로헥실아민, 에틸디사이클로헥실아민, N,N-디메틸아닐린, N,N-디메틸벤질아민, 피리딘, 2-메틸-, 3-메틸-, 4-메틸-, 2,4-디메틸-, 2,6-디메틸-, 3,4-디메틸- 및 3,5-디메틸-피리딘, 5-에틸-2-메틸피리딘, 4-디메틸아미노피리딘, N-메틸피페리딘, 1,4-디아자바이사이클로[2.2.2]옥탄(DABCO), 1,5-디아자바이사이클로[4.3.0]논-5-엔(DBN) 또는 1,8-디아자바이사이클로[5.4.0]운데크-7-엔 (DBU)이 포함된다.
본 발명에 따른 방법 (a) 및 (c)에 적합한 그밖의 다른 반응 보조제는 상-전이촉매(phase-transfer catalyst)이다.
이러한 촉매의 예로는 테트라부틸암모늄 브로마이드, 테트라부틸암모늄 클로라이드, 테트라옥틸암모늄 클로라이드, 테트라부틸암모늄 하이드로겐 설페이트, 메틸트리옥틸암모늄 클로라이드, 헥사데실트리메틸암모늄 클로라이드, 헥사데실트리메틸암모늄 브로마이드, 벤질트리메틸암모늄 클로라이드, 벤질트리에틸암모늄 클로라이드, 벤질트리메틸암모늄 하이드록사이드, 벤질트리에틸암모늄 하이드록사이드, 벤질트리부틸암모늄 클로라이드, 벤질트리부틸암모늄 브로마이드, 테트라부틸포스포늄 브로마이드, 테트라부틸포스포늄 클로라이드, 트리부틸헥사데실포스포늄 브로마이드, 부틸트리페닐포스포늄 클로라이드, 에틸트리옥틸포스포늄 브로마이드, 테트라페닐포스포늄 브로마이드가 언급될 수 있다.
본 발명에 따른 방법 (d)에 대한 적합한 반응 보조제 및/또는 희석제는 니트로화 반응에 일반적으로 사용되는 물질이다. 이들로는 바람직하게는 황산, 아세트산 및 아세트산 무수물이 포함된다.
일반식 (I)의 화합물을 제조하기 위한 방법 (a), (b) 및 (c)는 바람직하게는 하나 이상의 희석제를 사용하여 수행된다. 본 발명에 따른 방법 (a), (b) 및 (c)를 수행하는데 적합한 희석제는 물 이외에, 특히 불활성 유기용매이다. 이들에는 특히, 임의로 할로겐화된 지방족, 지환식 또는 방향족 탄화수소, 예를 들어 벤진, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 클로로벤젠, 디클로로벤젠, 석유 에테르, 헥산, 사이클로헥산, 디클로로메탄, 클로로포름, 사염화탄소; 에테르, 예를 들어 디에틸 에테르, 디이소프로필 에테르, 디옥산, 테트라하이드로푸란, 에틸렌 글리콜 디메틸 에테르 또는 에틸렌 글리콜 디에틸 에테르; 케톤, 예를 들어 아세톤, 부타논 또는 메틸 이소부틸 케톤; 니트릴, 예를 들어 아세토니트릴, 프로피오니트릴 또는 부티로니트릴; 아미드, 예를 들어 N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸포름아닐리드, N-메틸피롤리돈 또는 헥사메틸포스포릭 트리아미드; 에스테르, 예를 들어 메틸 아세테이트 또는 에틸 아세테이트; 설폭사이드, 예를 들어 디메틸설폭사이드; 알콜, 예를 들어 메탄올, 에탄올, n- 또는 i-프로판올, 에틸렌 글리콜 모노메틸 에테르, 에틸렌 글리콜 모노에틸 에테르, 디에틸렌 글리콜 모노메틸 에테르, 디에틸렌 글리콜 모노에틸 에테르, 이들과 물과의 혼합물 또는 순수한 물이 포함된다.
본 발명에 따른 방법 (a), (b), (c) 및 (d)를 수행하는데 있어서, 반응온도는 비교적 넓은 범위내에서 변할 수 있다. 일반적으로, 상기 방법들은 -30 내지 150 ℃, 바람직하게는 -10 내지 120 ℃의 온도에서 수행된다.
본 발명에 따른 방법은 일반적으로 대기압하에서 수행된다. 그러나, 본 발명에 따른 방법을 승압 또는 감압, 일반적으로 0.1 내지 10 바(bar) 사이에서 수행하는 것도 또한 가능하다.
본 발명에 따른 방법을 수행하는 경우, 출발물질은 일반적으로 대략 동몰량으로 사용된다. 그러나, 한 성분을 상대적 과량으로 사용할 수도 있다. 반응은 일반적으로 적합한 반응 보조제의 존재하에 적합한 희석제중에서 수행되고, 반응 혼합물은 일반적으로 필요한 온도에서 수시간동안 교반된다. 후처리는 통상적인 방법으로 수행된다(참조: 제조 실시예).
본 발명에 따른 활성 화합물은 고엽제, 건조제, 줄기 킬러(haulm killer) 및 특히 잡초 킬러로서 사용될 수 있다. 잡초란, 가장 넓은 의미로 원치않는 장소에서 자라는 모든 식물을 의미한다. 본 발명에 따른 물질이 총체적 또는 선택적인 제초제로 작용하는지의 여부는 본질적으로 사용되는 양에 따라 달라진다.
본 발명에 따른 활성 화합물은 예를 들어 하기 식물과 관련하여 사용될 수 있다:
하기 속의 쌍떡잎 잡초: 아부틸론(Abutilon), 아마란투스(Amaranthus), 암브로시아(Ambrosia), 아노다(Anoda), 안테미스(Anthemis), 아파네스(Apanes), 아트리플렉스(Atriplex), 벨리스(Belis), 비덴스(Bidens), 캅셀라(Capsella), 카르두스 (Carduus), 카시아(Cassia), 센타우레아(Centaurea), 케노포듐(Chenopodium), 시르슘(Cirsium), 콘볼불루스(Convolvulus), 다투라(Datura), 데스모듐(Desmodium), 에멕스(Emex), 에리시뭄(Erysimum), 유포르비아(Euphorbia), 갈레옵시스(Galeopsis), 갈린소가(Galinsoga), 갈륨(Galium), 히비스쿠스(Hibiscus), 이포모에아(Ipomoea), 코치아(Kochia), 라미움(Lamium), 레피듐(Lepidium), 린데르니아(Lindernia), 마트리카리아(Matricaria), 멘타(Mentha), 메르쿠리알리스(Mercurialis), 물루고 (Mullugo), 미오소티스(Myosotis), 파파베르(Papaver), 파르비티스(Pharbitis), 플란타고(Plantago), 폴리고눔(Polygonum), 포르툴라카(Portulaca), 라눈쿨루스 (Ranunculus), 라파누스(Raphanus), 로리파(Rorippa), 로탈라(Rotala), 루멕스 (Rumex), 살롤라(Salsola), 세네시오(Senecio), 세스바니아(Sesbania), 시다 (Sida), 시나피스(Sinapis), 솔라눔(Solanum), 손쿠스(Sonchus), 스페노클레아 (Sphenoclea), 스텔라리아(Stellaria), 타락사쿰(Taraxacum), 틀라스피(Thlaspi), 트리폴리움(Trifolium), 우르티카(Urtica), 베로니카(Veronica), 비올라(Viola) 및 크산튬(Xanthium).
하기 속의 쌍떡잎 작물: 아라키스(Arachis), 베타(Beta), 브라시카 (Brassica), 쿠쿠미스(Cucumis), 쿠쿠르비타(Cucurbita), 헬리안투스(Helianthus), 다우쿠스(Daucus), 글리시네(Glycine), 고시피움(Gossypium), 이포모에아 (Ipomoea), 락투카(Lactuca), 리눔(Linum), 리코퍼시콘(Lycopersicon), 니코티아나 (Nicotiana), 파세올루스(Phaseolus), 피숨(Pisum), 솔라눔(Solanum) 및 비시아 (Vicia),
하기 속의 외떡잎 잡초: 아에길롭스(Aegilops), 아그로피론(Agropyron), 아그로스티스(Agrostis), 알로페쿠루스(Alopecurus), 아페라(Apera), 아베나(Avena), 브라키아리아(Brachiaria), 브로무스(Bromus), 센크루스(Cenchrus), 코멜리나 (Commelina), 시노돈(Cynodon), 사이페루스(Cyperus), 닥틸로크테니움 (Dactyloctenium), 디기타리아(Digitaria), 에키노클로아(Echinochloa), 엘레오카리스(Eleocharis), 엘레우신(Eleusin), 에라그로티스(Eragrotis), 에리오클로아 (Eriochloa), 페스투카(Festuca), 핌브리스틸리스(Fimbristylis), 헤테란테라 (Heteranthera), 임페라타(Imperata), 이스카에뭄(Ischaemum), 렙토클로아 (Leptochloa), 롤리움(Lolium), 모노코리아(Monochoria), 파니쿰(Panicum), 파스팔룸(Paspalum), 팔라리스(Phalaris), 플레움(Phleum), 포아(Poa), 로트보엘리아 (Rottboellia), 사기타리아(Sagittaria), 쉬르푸스(Scirpus), 세타리아(Setaria) 및 소르굼(Sorghum).
하기 속의 외떡잎 작물: 알리움(Allium), 아나나스(Ananas), 아스파라구스 (Asparagus), 아베나(Avena), 호르데움(Hordeum), 오리자(Oryza), 파니쿰 (Panicum), 사카룸(Saccharum), 세칼레(Secale), 소르굼(Sorghum), 트리티칼레 (Triticale), 트리티쿰(Triticum) 및 제아(Zea).
그러나, 본 발명에 따른 활성 화합물의 용도는 상기 속에 전혀 제한되지 않으며, 또한 동일한 방식으로 다른 식물들에까지 확대된다.
본 발명에 따른 활성 화합물은, 농도에 따라, 예를 들어 산업 지역 및 철로위에, 그리고 나무가 자라거나 자라지 않는 보도 및 광장위에 있는 잡초들의 총체적인 방제에 적당하다. 유사하게, 본 발명에 따른 활성 화합물은 다년생 작물,예를 들면 조림지, 관상수 재배장, 과수원, 포도원, 감귤밭, 견과류 과수원, 바나나 농장, 커피 농장, 차 농장, 고무 농장, 야자 농장, 코코아 농장, 연한 과일 식림지 및 홉밭, 잔디, 뗏장 및 목초지중의 잡초를 방제하고, 일년생 작물 중의 잡초를 선택적으로 방제하기 위해 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 일반식 (I)의 화합물 및 일반식 (IX) 및 (IXa)의 화합물은 토양 또는 식물의 지상부에 사용된 경우 강력한 제초 활성 및 광범위 활성 스펙트럼을 나타낸다. 이들은 또한 어느 정도까지는 발아전 및 발아후 방법 둘 모두에 의해 외떡잎 및 쌍떡잎 작물에서 외떡잎 및 쌍떡잎 잡초를 선택적으로 방제하는데 적합하다.
특정 농도 또는 적용 비율에서, 본 발명에 따른 활성 화합물은 또한 동물 해충 및 진균 또는 박테리아성 식물 질병을 구제하기 위해 사용될 수 있다. 경우에 따라, 본 발명에 따른 활성 화합물은 또한 다른 활성 화합물을 합성하기 위한 중간체 또는 전구체로도 사용될 수 있다.
본 발명에 따라, 모든 식물 및 식물의 일부가 처리될 수 있다. 여기에서 식물이란 원하거나 원치않는 야생 식물 또는 작물(자연 발생 작물 포함)과 같은 모든 식물 및 식물 개체군을 의미한다. 작물은 식물 육종가의 보증으로 보호될 수 있거나 보호될 수 없는 식물 품종 및 유전자이식(transgenic) 식물을 포함하여, 통상적인 육종 및 최적화 방법에 의해, 생명공학 및 유전자공학 방법에 의해 또는 이들 방법을 조합하여 얻을 수 있는 식물일 수 있다. 식물의 일부는 식물의 모든 지상 및 지하 부분 및 기관, 예를 들어 싹, 잎, 꽃 및 뿌리를 의미하는 것으로 이해되어야 하며, 이들의 예로 잎, 침엽(needles), 줄기(stem), 자루(trunk), 꽃, 과실체, 과일, 종자, 뿌리, 괴경 및 뿌리 줄기가 언급될 수 있다. 식물의 일부는 또한 수확 식물, 및 영양 및 생식 번식 물질, 예를 들어 묘목, 괴경, 뿌리 줄기, 삽목 및 종자를 포함한다.
본 발명에 따라 활성 화합물로 식물 및 식물의 일부를 처리하는 것은 통상의 처리 방법에 따라, 예를 들어 침지, 분무, 증발, 분사, 살포, 솔질에 의해, 전파 물질, 특히 종자의 경우에는 또한 일 또는 다층 코팅에 의해 직접, 또는 그의 환경, 서식지 또는 저장 공간에 작용시킴으로써 수행된다.
활성 화합물은 용액제, 유제, 수화성 산제, 현탁제, 산제, 분제, 페이스트, 가용성 산제, 과립제, 현탁액-유제 농축액, 활성 화합물이 주입된 천연 및 합성물질, 및 중합물질 중의 마이크로캅셀과 같은 통상의 제제로 전환시킬 수 있다.
이들 제제는 공지된 방법으로, 예를 들어, 임의로 계면활성제, 즉 유화제 및/또는 분산제 및/또는 포움 형성제를 사용하여 활성 화합물을 증량제, 즉 액체 용매 및/또는 고형 담체와 혼합하여 제조된다.
사용된 증량제가 물인 경우, 예를 들어 유기용매가 또한 보조 용매로 사용될 수 있다. 적합한 액체 용매는, 주로 크실렌, 톨루엔 또는 알킬나프탈렌과 같은 방향족 화합물, 클로로벤젠, 클로로에틸렌 또는 메틸렌 클로라이드와 같은 염소화 방향족 및 염소화 지방족 탄화수소, 사이클로헥산 또는 파라핀, 예를 들어, 석유 분획물, 광유 및 식물유와 같은 지방족 탄화수소, 부탄올 또는 글리콜과 같은 알콜 및 이들의 에테르 및 에스테르, 아세톤, 메틸 에틸 케톤, 메틸 이소부틸 케톤 또는사이클로헥사논과 같은 케톤, 디메틸포름아미드 및 디메틸설폭사이드와 같은 강한 극성 용매 및 물이다.
적합한 고형 담체는 예를 들어 암모늄염 및 카올린, 점토, 활석, 쵸크, 석영, 아타펄가이트, 몬모릴로나이트 또는 규조토와 같은 분쇄된 천연 광물, 및 미분 실리카, 알루미나 및 실리케이트와 같은 분쇄된 합성 광물이다. 적합한 과립제용 고형 담체는 예를 들어 방해석, 대리석, 경석, 해포석 및 백운석과 같은 분쇄 및 분류된 천연 암석, 및 무기 및 유기 가루의 합성 과립, 및 톱밥, 코코넛 껍질, 옥수수 속대 및 담배줄기와 같은 유기물질의 과립이다. 적합한 유화제 및/또는 포움 형성제는 예를 들어 비이온성 및 음이온성 유화제, 예를 들어 폴리옥시에틸렌 지방산 에스테르, 폴리옥시에틸렌 지방 알콜 에테르, 예를 들어 알킬아릴 폴리글리콜 에테르, 알킬설포네이트, 알킬설페이트, 아릴설포네이트 및 단백질 가수분해물이다. 적합한 분산제는 예를 들어 리그노설파이트 폐액 및 메틸셀룰로오즈이다.
접착제, 예를 들어 카복시메틸셀룰로오즈, 및 아라비아고무, 폴리비닐 알콜 및 폴리비닐 아세테이트와 같은 분말, 과립 또는 라텍스 형태의 천연 및 합성 중합체, 및 세팔린 및 레시틴과 같은 천연 인지질, 및 합성 인지질이 제제에 사용될 수 있다. 다른 가능한 첨가제로 광유 및 식물유가 있다.
착색제, 예를 들어 산화철, 산화티탄 및 프루시안 블루와 같은 무기안료, 및 알리자린 염료, 아조 염료 및 금속 프탈로시아닌 염료와 같은 유기염료 및 철, 망간, 붕소, 구리, 코발트, 몰리브덴 및 아연의 염과 같은 미량 영양소가 사용될 수 있다.
제제는 일반적으로 0.1 내지 95 중량%, 바람직하게는 0.5 내지 90 중량%의 활성 화합물을 함유한다.
잡초를 방제하는 경우, 본 발명에 따른 활성 화합물은 그 자체로 또는 그의 제제 중에서 공지된 제초제 및/또는 작물과의 상용성(compatibility)을 향상시키는 물질("독성완화제"(safener))과의 혼합물로서 사용될 수 있으며, 완제품 제제 또는 탱크 믹스(tank mix)가 가능하다. 하나 이상의 공지된 제초제 및 독성완화제를 포함하는 잡초-킬러와의 혼합물이 또한 가능하다.
혼합물에 가능한 성분은 공지된 제초제, 예를 들어 아세토클로르, 아시플루오르펜(-소듐), 아클로니펜, 알라클로르, 알록시딤(-소듐), 아메트린, 아미카바존, 아미도클로르, 아미도설푸론, 아닐로포스, 아설람, 아트라진, 아자페니딘, 아짐설푸론, 베플루타미드, 베나졸린(-에틸), 벤푸레세이트, 벤설푸론(-메틸), 벤타존, 벤즈펜디존, 벤조비사이클론, 벤조페납, 벤조일프로프(-에틸), 비알라포스, 비페녹스, 비스피리박(-소듐), 브로모부타이드, 브로모페녹심, 브로목시닐, 부타클로르, 부타페나실(-알릴), 부트록시딤, 부틸레이트, 카펜스트롤, 칼록시딤, 카베타미드, 카펜트라존(-에틸), 클로메톡시펜, 클로람벤, 클로리다존, 클로리무론(-에틸), 클로르니트로펜, 클로르설푸론, 클로르톨루론, 시니돈(-에틸), 신메틸린, 시노설푸론, 클레폭시딤, 클레토딤, 클로디나포프(-프로파길), 클로마존, 클로메프로프, 클로피랄리드, 클로피라설푸론(-메틸), 클로란설람(-메틸), 쿠밀우론, 시아나진, 사이부트린, 사이클로에이트, 사이클로설파무론, 시아클록시딤, 사이할로포프(-부틸) , 2,4-D, 2,4-DB, 데스메디팜, 디알레이트, 디캄바, 디클로르프로프(-P), 디클로포프(-메틸), 디클로설람, 디에타틸(-에틸), 디펜조쿠아트, 디플루페니칸, 디플루펜조피르, 디메푸론, 디메피페레이트, 디메타클로르, 디메타메트린, 디메텐아미드, 디멕시플람, 디니트라민, 디펜아미드, 디쿠아트, 디티오피르, 디우론, 딤론, 에프로포단, EPTC, 에스프로카브, 에탈플루랄린, 에타메트설푸론(-메틸), 에토푸메세이트, 에톡시펜, 에톡시설푸론, 에토벤자니드, 페녹사프로프(-P-에틸), 펜트라자미드, 플람프로프(-이소프로필, -이소프로필-L, -메틸), 플라자설푸론, 플로라설람, 플루아지포프(-P-부틸), 플루아졸레이트, 플루카바존(-소듐), 플루페나세트, 플루메트설람, 플루미클로락(-펜틸), 플루미옥사진, 플루미프로핀, 플루메트설람, 플루오메투론, 플루오로클로리돈, 플루오로글리코펜(-에틸), 플루폭삼, 플루프로파실, 플루르피르설푸론(-메틸, -소듐), 플루레놀(-부틸), 플루리돈, 플루록시피르(-부톡시프로필, -멥틸), 플루르프리미돌, 플루르타몬, 플루티아세트(-메틸), 플루티아미드, 포메사펜, 포람설푸론, 글루포시네이트(-암모늄), 글리포세이트(-이소프로필암모늄), 할로사펜, 할록시포프(-에톡시에틸, -P-메틸), 헥사지논, 이마자메타벤즈(-메틸), 이마자메타피르, 이마자목스, 이마자픽, 이마자피르, 이마자퀸, 이마제타피르, 이마조설푸론, 요오도설푸론(-메틸, -소듐), 이옥시닐, 이소프로팔린, 이소프로투론, 이소우론, 이속사벤, 이속사클로르톨, 이속사플루톨, 이속사피리포프, 락토펜, 레나실, 리누론, MCPA, 메코프로프, 메페나세트, 메소트리온, 메타미트론, 메타자클로르, 메타벤즈티아주론, 메토벤주론, 메토브로무론, (알파-)메톨라클로르, 메토설람, 메톡수론, 메트리부진, 메트설푸론(-메틸), 몰리네이트, 모놀리누론, 나프로아닐리드, 나프로파미드, 네부론, 니코설푸론, 노르플루라존, 오르벤카브, 오리잘린, 옥사디아르길, 옥사디아존, 옥사설푸론, 옥사지클로메폰, 옥시플루오르펜, 파라쿠아트, 펠라르곤산, 펜디메탈린, 펜드랄린, 펜톡사존, 펜메디팜, 피콜리나펜, 피페로포스, 프레틸라클로르, 프리미설푸론(-메틸), 프로플루아졸, 프로메트린, 프로파클로르, 프로파닐, 프로파퀴자포프, 프로피소클로르, 프로카바존(-소듐), 프로피자미드, 프로설포카브, 프로설푸론, 피라플루펜(-에틸), 피라조길, 피라졸레이트, 피라조설푸론(-에틸), 피라족시펜, 피리벤족심, 피리부티카브, 피리데이트, 피리다톨, 피리프탈리드, 피리미노박(-메틸), 피리티오박(-소듐), 퀸클로락, 퀸메락, 퀴노클라민, 퀴잘로포프(-P-에틸, -P-테푸릴), 림설푸론, 세톡시딤, 시마진, 시메트린, 설코트리온, 설펜트라존, 설포메투론(-메틸), 설포세이트, 설포설푸론, 테부탐, 테부티우론, 테프랄록시딤, 터부틸라진, 터부트린, 테닐클로르, 티아플루아미드, 티아조피르, 티아디아지민, 티펜설푸론(-메틸), 티오벤카브, 티오카바질, 트랄콕시딤, 트리알레이트, 트리아설푸론, 트리베누론(-메틸), 트리클로피르, 트리디판, 트리플루랄린, 트리플록시설푸론, 트리플루설푸론(-메틸) 및 트리토설푸론이다.
살진균제, 살충제, 살비제, 살선충제, 새 퇴치제, 식물 영양제 및 토양 구조개선제와 같은 그 밖의 다른 공지된 활성 화합물과의 혼합물이 또한 가능하다.
활성 화합물은 그 자체로, 그의 제제 형태로 또는 이들을 추가로 희석하여 제조된 사용형태, 예를 들어 즉시 사용형 용액제, 현탁제, 유제, 산제, 페이스트 및 과립제로 사용될 수 있다. 이들은 통상적인 방법으로, 예를 들어 살수, 분무, 분사 또는 살포에 의해 사용된다.
본 발명에 따른 활성 화합물은 식물의 발아 전후 모두에 적용될 수 있다. 이들은 또한 파종전에 토양에 혼입될 수도 있다.
사용되는 활성 화합물의 양은 비교적 넓은 범위내에서 변화될 수 있다. 이는 본질적으로 목적하는 효과의 특성에 따라 달라진다. 일반적으로 사용량은 토양 표면 1 헥타르당 활성 화합물 1 g 내지 10 kg, 바람직하게는 5 g 내지 5 kg이다.
본 발명에 따른 활성 화합물의 제조예 및 사용예가 하기 실시예로 설명된다.
제조 실시예:
실시예 1
(방법 (a))
5-메틸-1-(3-트리플루오로메틸페닐)-2(1H)-피리딘이민 2.3 g(10 밀리몰), 무수 트리플루오로아세트산 2.1 g(10 밀리몰), 트리에틸아민 1.0 g(10 밀리몰) 및 에틸 아세테이트 50 ㎖의 혼합물을 실온(약 20 ℃)에서 60 분동안 교반하였다. 그후, 반응 혼합물을 물로 세척하고, 황산나트륨으로 건조시킨 후, 여과하였다. 여액을 수류 펌프 진공하에서 농축한 후, 잔류물을 디이소프로필 에테르로 분해시키고, 형성된 결정성 생성물을 흡인여과하여 분리하였다.
융점 115 ℃인 2,2,2-트리플루오로-N-[5-메틸-1-(3-트리플루오로메틸페닐)-2(1H)-피리디닐리덴]-아세트이미드 0.5 g(이론치의 14%)을 수득하였다.
실시예 2
(방법 (a))
5-메틸-1-(3-트리플루오로메틸페닐)-2(1H)-피리딘이민 1.1 g(4 밀리몰), 이소프로필 클로로포르메이트 5 ㎖(5 밀리몰), 트리에틸아민 0.5 g(5 밀리몰) 및 에틸 아세테이트 50 ㎖의 혼합물을 실온(약 20 ℃)에서 60 분동안 교반하였다. 그후, 반응 혼합물을 물로 세척하고, 수성상을 메틸렌 클로라이드로 재추출한 후, 유기상을 합하여 황산나트륨으로 건조시키고, 여과하였다. 여액으로부터 용매를 감압하에 주의하여 증류시켰다.
O-메틸 N-[5-메틸-1-(3-트리플루오로메틸페닐)-2(1H)-피리디닐리덴]-카바메이트 0.6 g(이론치의 46%)을 수득하였다.
logP = 1.59(logP 값 측정에 대해서는 이후 이에 대한 내용 참조).
실시예 3
(방법 (a))
5-메틸-1-(3-트리플루오로메틸페닐)-2(1H)-피리딘이민 1.1 g(4 밀리몰), 시아노겐 브로마이드 0.6 g(5 밀리몰), 트리에틸아민 0.5 g(5 밀리몰) 및 에틸 아세테이트 50 ㎖의 혼합물을 실온(약 20 ℃)에서 30 분동안 교반하였다. 그후, 반응 혼합물을 물로 세척하고, 수성상을 메틸렌 클로라이드로 재추출한 후, 유기상을 합하여 황산나트륨으로 건조시키고, 여과하였다. 여액으로부터 용매를 감압하에 주의하여 증류시켰다.
융점 165 ℃인 5-메틸-1-(3-트리플루오로메틸페닐)-2(1H)-피리디닐리덴시아나미드 0.35 g(이론치의 32%)을 수득하였다.
실시예 4
(방법 (a))
5-메틸-1-(3-트리플루오로메틸페닐)-2(1H)-피리딘이민 2.6 g(10 밀리몰), 메틸 이소시아네이트 0.6 g(10 밀리몰) 및 아세토니트릴 100 ㎖의 혼합물을 실온(약 20 ℃)에서 2 시간동안 정치시켰다. 혼합물을 수류 펌프 진공하에서 농축한 후, 잔류물을 디이소프로필 에테르로 분해시키고, 형성된 결정성 생성물을 흡인여과하여 분리하였다.
융점 114 ℃인 N-메틸-N'-[5-메틸-1-(3-트리플루오로메틸페닐)-2(1H)-피리디닐리덴]-우레아 2.1 g(이론치의 68%)을 수득하였다.
실시예 5
(방법 (a))
5-메틸-1-(3-트리플루오로메틸페닐)-2(1H)-피리딘이민 하이드로클로라이드 2.9 g(10 밀리몰), 트리에틸아민 3.1 g(30 밀리몰) 및 아세토니트릴 100 ㎖를 실온(약 20 ℃)에서 교반하면서 무수 트리플루오로메탄설폰산 2.9 g(10 밀리몰)에 적가하여 혼합하였다. 반응 혼합물을 실온에서 60 분동안 교반하고, 수류 펌프 진공하에서 농축하였다. 잔사로 수득한 조 생성물을 칼럼 크로마토그래피(실리카겔, 에틸 아세테이트/헥산, 9:1)에 의해 정제하였다.
융점 206 ℃인 N-[5-메틸-1-(3-트리플루오로메틸페닐)-2(1H)-피리디닐리덴]-트리플루오로메탄설폰아미드 0.40 g(이론치의 10%)을 수득하였다.
실시예 6
(방법 (a))
5-메틸-1-(3-트리플루오로메틸페닐)-2(1H)-피리딘이민 하이드로클로라이드 2.9 g(10 밀리몰), 2-메틸설포닐-5-트리플루오로메틸-1,3,4-티아디아졸 2.3 g(10 밀리몰), 탄산칼슘 4.2 g(30 밀리몰) 및 디메틸 설폭사이드 30 ㎖의 혼합물을 100 ℃에서 60 분동안 교반하고, 냉각후 대략 동일 부피의 메틸렌 클로라이드에 부었다. 유기상을 물 및 염화나트륨 포화 수용액으로 세척하여 황산나트륨으로 건조시킨 후, 여과하였다. 여액을 수류 펌프 진공하에서 농축하고, 잔류물을 디에틸 에테르로 분해한 다음, 형성된 결정성 생성물을 흡인여과하여 분리하였다.
융점 179 ℃인 N-(5-트리플루오로메틸-1,3,4-티아디아졸-2-일)-5-메틸-1-(3-트리플루오로메틸페닐)-2(1H)-피리딘이민 2.3 g(이론치의 57%)을 수득하였다.
실시예 7
(방법 (b))
5-메틸-1-(3-트리플루오로메틸페닐)-2(1H)-피리딘티온 2.7 g(10 밀리몰)을 우선 클로로포름 50 ㎖에 도입하고, 실온(약 20 ℃)에서 교반하면서 에탄올 50 ㎖중의 N-클로로-p-톨루엔설폰아미드 소듐염 하이드레이트(클로라민 T 하이드레이트) 2.9 g(10 밀리몰)의 용액에 적가하여 혼합하였다. 반응 혼합물을 실온에서 15 시간동안 교반한 후, 수류 펌프 진공하에서 농축하고, 잔류물을 클로로포름에 용해시킨 다음, 물 및 이어서 중탄산나트륨 포화 수용액으로 세척하고, 황산나트륨으로 건조시킨 후, 여과하였다. 여액을 수류 펌프 진공하에서 농축시키고, 잔류물을 180 ℃, 고진공하에서 15 분동안 유지시켰다. 냉각 및 디이소프로필 에테르로 분해후, 형성된 결정성 생성물을 흡인여과하여 분리하였다.
융점 174 ℃인 4-메틸-N-[5-메틸-1-(3-트리플루오로메틸페닐)-2(1H)-피리디닐리덴]-벤젠설폰아미드 1.8 g(이론치의 49%)을 수득하였다.
실시예 8
(방법 (c))
2-클로로-5-메틸-1-(3-트리플루오로메틸페닐)-피리디늄 클로라이드 1.6 g(5 밀리몰), 사이클로프로필아민 0.9 g(15 밀리몰) 및 메탄올 50 ㎖의 혼합물을 실온(약 20 ℃)에서 15 시간동안 정치시킨 후, 수류 펌프 진공하에서 농축하였다. 잔류물을 메틸렌 클로라이드에 용해시키고, 물로 세척한 후, 황산나트륨으로 건조시킨 다음, 여과하였다. 여액을 수류 펌프 진공하에서 농축하고, 잔류물을 메탄올 및 염산에 용해시킨 후, 감압하에서 휘발 성분을 주의하여 증류시켰다. 잔사로 수득한 조 생성물을 칼럼 크로마토그래피(실리카겔, 에틸 아세테이트/헥산, 5:1)에 의해 정제하였다.
N-사이클로프로필-5-메틸-1-(3-트리플루오로메틸페닐)-2(1H)-피리딘이민 1.5 g(이론치의 91%)을 오일성 생성물로 수득하였다.
logP = 1.51(logP 값 측정에 대해서는 이후 이에 대한 내용 참조).
실시예 1 내지 8과 유사하게, 본 발명에 따른 제조방법의 일반적인 설명에 따라, 예를 들어 하기 표 1에 기술된 일반식 (I)의 화합물이 또한 제조될 수 있다.
표 1 : 일반식 (I)의 화합물의 예
표 1에 주어진 logP 값은 역상 칼럼(C 18) 상에서 HPLC(고성능 액체 크로마토그래피)에 의해 EEC Directive 79/831 Annex V.A8에 준해 측정되었다. 온도: 43 ℃.
(a) 산성 범위에서의 측정을 위한 이동상: 0.1% 수성 인산, 아세토니트릴; 10% 아세토니트릴 → 90% 아세토니트릴에 의한 선형 구배 - 상응하는 데이타가 표 1에a)로 표시되었다.
(b) 중성 범위에서의 측정을 위한 이동상: 0.01 몰 수성 포스페이트 완충용액, 아세토니트릴; 10% 아세토니트릴 → 90% 아세토니트릴에 의한 선형 구배 - 상응하는 데이타가 표 1에b)로 표시되었다.
logP 값이 공지된(두개의 연속한 알카논 사이의 선형보간을 이용하여 체류 시간으로 logP 값 측정) 비측쇄 알칸-2-온(탄소원자수 3 내지 16)을 사용하여 보정을 수행하였다.
200 내지 400 nm의 UV 스펙트럼을 사용하여 크로마토그래피 시그널의 최대치로서 람다 max 값을 결정하였다.
일반식 (II)의 출발물질:
실시예 (II-1)
(방법 (α))
단계 1
5-메틸-1-(3-트리플루오로메틸페닐)-2(1H)-피리돈 2.5 g(10 밀리몰), 옥살릴 클로라이드 3.9 g(30 밀리몰), 1,2-디클로로에탄 40 ㎖ 및 N,N-디메틸포름아미드 2 적의 혼합물을 환류하에 가스 발생이 멎을 때까지 가열비등시켰다. 실온으로 냉각후, 형성된 결정성 생성물을 흡인여과하여 분리하였다.
융점 194 ℃인 2-클로로-5-메틸-1-(3-트리플루오로메틸페닐)-피리디늄 클로라이드 2.1 g(이론치의 65%)을 수득하였다.
단계 2
2-클로로-5-메틸-1-(3-트리플루오로메틸페닐)-피리디늄 클로라이드 3.1 g(10 밀리몰)을 메탄올 40 ㎖에 용해시키고, 20 내지 30 ℃의 온도에서 용액이 포화될 때까지 암모니아를 혼합물에 도입하였다. 그후, 소듐 메톡사이드 3.6 g(20 밀리몰)을 메탄올중 30% 용액의 형태로 첨가하고, 혼합물을 수류 펌프하에서 농축하였다.
형성된 생성물 (5-메틸-1-(3-트리플루오로메틸페닐)-2(1H)-피리딘이민)은 추가의 정제없이 본 발명에 따른 방법 (a)에 따라 반응될 수 있다.
실시예 (II-1):
(방법 (β))
4-메틸-N-[5-메틸-1-(3-트리플루오로메틸페닐)-2(1H)-피리디닐리덴]-벤젠설폰아미드 10 g(24 밀리몰) 및 80% 황산 50 g의 혼합물을 50 ℃에서 15 시간동안 교반한 후, 탄산나트륨 1 몰 수용액을 적가하였다. 이어서, 혼합물을 에틸 아세테이트로 추출하고, 유기상을 황산나트륨으로 건조시킨 후, 여과하였다. 여액으로부터, 용매를 감압하에서 주의하여 증류시켰다.
추가의 정제없이 본 발명에 따른 방법 (a)에 따라 반응될 수 있는 5-메틸-1-(3-트리플루오로메틸페닐)-2(1H)-피리딘이민 2.3 g(이론치의 38%)을 수득하였다.
실시예 (II-1)과 유사하게, 예를 들어 하기 표 2에 기술된 일반식 (II)의 화합물이 또한 제조될 수 있다:
표 2: 일반식 (II)의 화합물의 예(각 경우 하이드로클로라이드)
실시예 (II-26):
5-메틸-1-(2,3-디플루오로메틸렌디옥시페닐)-2(1H)-피리딘이민.
실시예 (II-27):
5-메틸-1-(3,4-디플루오로메틸렌디옥시페닐)-2(1H)-피리딘이민.
실시예 (II-28):
5-메틸-1-(2,3-테트라플루오로에틸렌디옥시페닐)-2(1H)-피리딘이민.
실시예 (II-29):
5-메틸-1-(3,4-테트라플루오로에틸렌디옥시페닐)-2(1H)-피리딘이민.
실시예 (II-30):
5-메틸-1-(2,3-클로로트리플루오로에틸렌디옥시페닐)-2(1H)-피리딘이민.
실시예 (II-31):
5-메틸-1-(3,4-클로로트리플루오로에틸렌디옥시페닐)-2(1H)-피리딘이민.
일반식 (V)의 출발물질:
실시예 (V-1):
5-메틸-1-(3-트리플루오로메틸페닐)-2(1H)-피리돈 18.7 g(74 밀리몰), 황화인(V) 16.4 g(74 밀리몰) 및 피리딘 75 ㎖의 혼합물을 2 시간동안 가열환류시키고, 냉각후, 물 300 ㎖에 부었다. 혼합물을 밤새 교반하고, 형성된 결정성 생성물을흡인여과하여 분리하였다.
융점 96 ℃인 5-메틸-1-(3-트리플루오로메틸페닐)-2(1H)-피리딘티온 12.8 g(이론치의 64%)을 수득하였다.
실시예 (V-1)과 유사하게, 예를 들어 하기 표 3에 기술된 일반식 (V)의 화합물이 또한 제조될 수 있다:
표 3: 일반식 (V)의 화합물의 예
실시예 (V-26):
5-메틸-1-(2,3-디플루오로메틸렌디옥시페닐)-2(1H)-피리딘티온.
실시예 (V-27):
5-메틸-1-(3,4-디플루오로메틸렌디옥시페닐)-2(1H)-피리딘티온.
실시예 (V-28):
5-메틸-1-(2,3-테트라플루오로에틸렌디옥시페닐)-2(1H)-피리딘티온.
실시예 (V-29):
5-메틸-1-(3,4-테트라플루오로에틸렌디옥시페닐)-2(1H)-피리딘티온.
실시예 (V-30):
5-메틸-1-(2,3-클로로트리플루오로에틸렌디옥시페닐)-2(1H)-피리딘티온.
실시예 (V-31):
5-메틸-1-(3,4-클로로트리플루오로에틸렌디옥시페닐)-2(1H)-피리딘티온.
일반식 (VII)의 중간체:
실시예 (VII-1)
5-메틸-1-(3-트리플루오로메틸페닐)-2(1H)-피리돈 2.5 g(10 밀리몰), 옥살릴 클로라이드 3.9 g(30 밀리몰), 1,2-디클로로에탄 40 ㎖ 및 N,N-디메틸포름아미드 2 적의 혼합물을 환류하에 가스 발생이 멎을 때까지 교반 비등시켰다. 실온으로 냉각후, 형성된 결정성 생성물을 흡인여과하여 분리하였다.
융점 194 ℃인 2-클로로-5-메틸-1-(3-트리플루오로메틸페닐)-피리디늄 클로라이드 2.1 g(이론치의 65%)을 수득하였다.
실시예 (VII-1)과 유사하게, 예를 들어 하기 표 4에 기술된 일반식 (VII)의 화합물이 또한 제조될 수 있다:
표 4: 일반식 (VII)의 화합물의 예(Y는 각 경우 Cl을 나타낸다)
실시예 (VII-26):
2-클로로-5-메틸-1-(2,3-디플루오로메틸렌디옥시페닐)-피리디늄 클로라이드.
실시예 (VII-27):
2-클로로-5-메틸-1-(3,4-디플루오로메틸렌디옥시페닐)-피리디늄 클로라이드.
실시예 (VII-28):
2-클로로-5-메틸-1-(2,3-테트라플루오로에틸렌디옥시페닐)-피리디늄 클로라이드.
실시예 (VII-29):
2-클로로-5-메틸-1-(3,4-테트라플루오로에틸렌디옥시페닐)-피리디늄 클로라이드.
실시예 (VII-30):
2-클로로-5-메틸-1-(2,3-클로로트리플루오로에틸렌디옥시페닐)-피리디늄 클로라이드.
실시예 (VII-31):
2-클로로-5-메틸-1-(3,4-클로로트리플루오로에틸렌디옥시페닐)-피리디늄 클로라이드.
일반식 (IX)의 출발물질:
실시예 (IX-1)
5-메틸-2-피리돈 21.8 g(0.20 몰), 3-브로모-벤조트리플루오라이드 54 g(0.24 몰), 탄산칼륨 27.7 g(0.20 몰), 요오드화구리(I) 2 g(10 밀리몰) 및 N,N-디메틸포름아미드 300 ㎖의 혼합물을 100 ℃에서 15 시간동안 교반한 후, 140 ℃에서 6 시간동안 더 교반하였다. 실온으로 냉각후, 혼합물을 에틸 아세테이트 300 ㎖와 혼합하고, 원래 그의 부피의 약 2 배가 되도록 물로 희석하였다. 유기상을 분리하여 수성상을 에틸 아세테이트로 재추출하였다. 유기상을 합하여 물로 세척하고, 황산나트륨으로 건조시킨 후, 여과하였다. 여액으로부터, 용매를 감압하에 서 완전히 증류시켰다.
융점 95 ℃인 5-메틸-1-(3-트리플루오로메틸페닐)-2(1H)-피리디논 20.7 g(이론치의 41%)을 수득하였다.
실시예 (IX-1)과 유사하게, 예를 들어 하기 표 5에 기술된 일반식 (IX)의 화합물이 또한 제조될 수 있다:
표 5: 일반식 (IX)의 화합물의 예
실시예 (IX-28):
5-메틸-1-(2,3-디플루오로메틸렌디옥시페닐)-2(1H)-피리디논(logP=3.95a)).
실시예 (IX-29):
5-메틸-1-(3,4-디플루오로메틸렌디옥시페닐)-2(1H)-피리디논.
실시예 (IX-30):
5-메틸-1-(2,3-테트라플루오로에틸렌디옥시페닐)-2(1H)-피리디논.
실시예 (IX-31):
5-메틸-1-(3,4-테트라플루오로에틸렌디옥시페닐)-2(1H)-피리디논.
실시예 (IX-32):
5-메틸-1-(2,3-클로로트리플루오로에틸렌디옥시페닐)-2(1H)-피리디논.
실시예 (IX-33):
5-메틸-1-(3,4-클로로트리플루오로에틸렌디옥시페닐)-2(1H)-피리디논.
실시예 (IX-34):
3-메틸-1-(3-트리플루오로메틸페닐)-2(1H)-피리디논(융점: 122 ℃).
실시예 (IX-35):
5-트리플루오로메틸-1-(3-트리플루오로메틸페닐)-2(1H)-피리디논(logP=2.78a)).
(logP 값 측정에 대해서는 상기 이에 대한 내용 참조).
사용 실시예:
실시예 A
발아전 시험
용 매: 아세톤 5 중량부
유화제: 알킬아릴 폴리글리콜 에테르 1 중량부
활성 화합물 1 중량부를 상기 언급된 양의 용매와 혼합하고, 상기 언급된 양의 유화제를 첨가한 후, 농축물을 목적하는 농도가 되도록 물로 희석하여 활성 화합물의 적합한 제제를 제조하였다.
시험 식물의 종자를 상토에 파종하였다. 24 시간후, 토양에 활성 화합물 제제를 단위 면적당 목적하는 활성 화합물의 특정량이 적용되도록 분무하였다. 목적하는 활성 화합물의 특정량이 헥타르당 물 1000 ℓ에 적용되도록 분무액중 활성 화합물의 농도를 선택하였다.
3 주후, 식물의 손상도를 비처리 대조군의 전개와 비교하여 손상율% 로 기록하였다.
수치는 다음을 나타낸다:
0 % = 효과없음(비처리 대조군과 같다)
100 % = 완전 방제
이 시험에서는, 예를 들어 제조 실시예 1, 2, 3, IX-1, IX-3, IX-11 및 IX-16의 화합물이 잡초에 대해 강력한 활성을 나타내었으며, 이중 일부에 대해 작물, 예를 들어 벼가 내약성을 나타내었다.
실시예 B
발아후 시험
용 매: 아세톤 5 중량부
유화제: 알킬아릴 폴리글리콜 에테르 1 중량부
활성 화합물 1 중량부를 상기 언급된 양의 용매와 혼합하고, 상기 언급된 양의 유화제를 첨가한 후, 농축물을 목적하는 농도가 되도록 물로 희석하여 활성 화합물의 적합한 제제를 제조하였다.
키 5 내지 15 cm의 시험 식물에 활성 화합물 제제를 단위 면적당 목적하는 활성 화합물의 특정량이 적용되도록 분무하였다. 목적하는 활성 화합물의 특정량이 물 1000 ℓ/ha에 적용되도록 분무액의 농도를 선택하였다.
3 주후, 식물의 손상도를 비처리 대조군의 전개와 비교하여 손상율% 로 기록하였다.
수치는 다음을 나타낸다:
0 % = 효과없음(비처리 대조군과 같다)
100 % = 완전 방제
이 시험에서는, 예를 들어 제조 실시예 1, 3 IX-1 및 IX-16의 화합물이 잡초에 대해 매우 강력한 활성을 나타내었다.

Claims (17)

  1. 일반식 (I)의 치환된 이미노아진:
    상기 식에서,
    R1은 니트로, 시아노, 또는 그룹 -R5, -CQ1-Q2-R5, -NH-CQ1-Q2-R5및 -SO2-R6중의 하나를 나타내고,
    R2는 니트로, 시아노, SF5, 할로겐, 또는 각 경우에 임의로 치환된 알킬, 알콕시, 알킬티오, 알킬설피닐, 알킬설포닐 또는 알킬설포닐옥시를 나타내며,
    R3는 수소 또는 할로겐을 나타내거나, R2와 함께, 임의로 치환된 알킬렌디옥시를 나타내고,
    R4는 수소, 시아노, 카복실, 카바모일, 할로겐 또는 임의로 치환된 알킬을 나타내며,
    Q1은 O(산소), S(황) 또는 N-R5를 나타내고,
    Q2는 단일결합을 나타내거나, O(산소), S(황) 또는 N-R5를 나타내며,
    R5는 수소, 아미노, 또는 각 경우에 임의로 치환된 알킬, 알콕시, 알킬아미노, 디알킬아미노, 알킬리덴아미노, 알케닐, 알케닐옥시, 알키닐, 사이클로알킬, 사이클로알킬아미노, 사이클로알킬알킬, 아릴, 아릴아미노, 아릴알킬, 헤테로사이클릴 또는 헤테로사이클릴알킬을 나타내고,
    R6는 각 경우에 임의로 치환된 알킬, 알케닐, 사이클로알킬, 사이클로알킬알킬, 아릴, 아릴알킬, 헤테로사이클릴 또는 헤테로사이클릴알킬을 나타내며,
    Z1은 N(질소) 또는 C-R4를 나타내고,
    Z2는 N(질소) 또는 C-R4를 나타내며,
    Z3은 N(질소) 또는 C-R4를 나타낸다.
  2. 제 1 항에 있어서,
    R1은 시아노, 또는 그룹 -R5, -CQ1-Q2-R5, -NH-CQ1-Q2-R5및 -SO2-R6중의 하나를 나타내고,
    R2는 니트로, 시아노, SF5, 할로겐, 또는 각 경우에 1 내지 5 개의 탄소원자를 가지며 각 경우에 임의로 시아노-, 할로겐- 또는 C1-C4-알콕시-치환된 알킬, 알콕시, 알킬티오, 알킬설피닐, 알킬설포닐 또는 알킬설포닐옥시를 나타내며,
    R3는 수소 또는 할로겐을 나타내거나, R2와 함께, 임의로 할로겐-치환된 탄소원자수 1 내지 3의 알킬렌디옥시를 나타내고,
    R4는 수소, 시아노, 카복실, 카바모일, 할로겐 또는 임의로 시아노-, 할로겐- 또는 C1-C4-알콕시-치환된 탄소원자수 1 내지 5의 알킬을 나타내며,
    Q1은 O(산소) 또는 S(황)을 나타내고,
    R5는 수소 또는 아미노를 나타내거나, 각 경우에 1 내지 6 개의 탄소원자를 가지며 각 경우에 임의로 시아노-, 할로겐- 또는 C1-C4-알콕시-치환된 알킬 또는 알콕시를 나타내거나, 1 내지 6 개의 탄소원자를 갖는 알킬아미노를 나타내거나, 알킬 그룹에 1 내지 6 개의 탄소원자를 갖는 디알킬아미노를 나타내거나, 6 개 이하의 탄소원자를 갖는 알킬리덴아미노를 나타내거나, 각 경우에 2 내지 6 개의 탄소원자를 가지며 각 경우에 임의로 시아노- 또는 할로겐-치환된 알케닐, 알케닐옥시 또는 알키닐을 나타내거나, 각 경우에 사이클로알킬 그룹에 3 내지 6 개의 탄소원자 및 임의로 알킬 부분에 1 내지 4 개의 탄소원자를 가지며 각 경우에 임의로 시아노-, 할로겐- 또는 C1-C4-알킬-치환된 사이클로알킬, 사이클로알킬아미노 또는 사이클로알킬알킬을 나타내거나, 각 경우에 아릴 그룹에 6 또는 10 개의 탄소원자 및 임의로 알킬 부분에 1 내지 4 개의 탄소원자를 가지며 각 경우에 임의로 니트로-,시아노-, 페닐-, 페녹시-, 페닐티오-, 할로겐-, C1-C4-알킬-, C1-C4-할로게노알킬-, C1-C4-알콕시-, C1-C4-할로게노알콕시-, C1-C4-알킬티오-, C1-C4-할로게노알킬티오-, C1-C4-알킬설피닐-, C1-C4-할로게노알킬설피닐-, C1-C4-알킬설포닐-, C1-C4-할로게노알킬설포닐- 또는 디-(C1-C4-알킬)-아미노설포닐-치환된 아릴, 아릴아미노 또는 아릴알킬을 나타내거나, 각 경우에 헤테로사이클릴 그룹에 10 개 이하의 탄소원자 및 4 개 이하의 질소원자 및/또는 1 또는 2 개의 산소 또는 황원자를 갖고 임의로 알킬 부분에 1 내지 4 개의 탄소원자를 가지며 각 경우에 임의로 니트로-, 시아노-, 페닐-, 페녹시-, 페닐티오-, 할로겐-, C1-C4-알킬-, C1-C4-할로게노알킬-, C1-C4-알콕시-, C1-C4-할로게노알콕시-, C1-C4-알킬티오-, C1-C4-할로게노알킬티오-, C1-C4-알킬설피닐-, C1-C4-할로게노알킬설피닐-, C1-C4-알킬설포닐-, C1-C4-할로게노알킬설포닐- 또는 디-(C1-C4-알킬)-아미노설포닐-치환된 모노사이클릭 또는 비사이클릭 헤테로사이클릴 또는 헤테로사이클릴알킬을 나타내고,
    R6는 임의로 할로겐-치환된 탄소원자수 1 내지 6의 알킬을 나타내거나, 임의로 할로겐-치환된 탄소원자수 2 내지 6의 알케닐을 나타내거나, 각 경우에 사이클로알킬 그룹에 3 내지 6 개의 탄소원자 및 임의로 알킬 부분에 1 내지 4 개의 탄소원자를 가지며 각 경우에 임의로 할로겐- 또는 C1-C4-알킬-치환된 사이클로알킬 또는 사이클로알킬알킬을 나타내거나, 각 경우에 아릴 그룹에 6 또는 10 개의 탄소원자 및 임의로 알킬 부분에 1 내지 4 개의 탄소원자를 가지며 각 경우에 임의로 니트로-, 시아노-, 할로겐-, C1-C4-알킬-, C1-C4-할로게노알킬-, C1-C4-알콕시-, C1-C4-할로게노알콕시-, C1-C4-알킬티오-, C1-C4-할로게노알킬티오-, C1-C4-알킬설피닐-, C1-C4-할로게노알킬설피닐-, C1-C4-알킬설포닐-, C1-C4-할로게노알킬설포닐- 또는 디-(C1-C4-알킬)-아미노설포닐-치환된 아릴 또는 아릴알킬을 나타내거나, 각 경우에 헤테로사이클릴 그룹에 10 개 이하의 탄소원자 및 4 개 이하의 질소원자 및/또는 1 또는 2 개의 산소 또는 황원자를 갖고 임의로 알킬 부분에 1 내지 4 개의 탄소원자를 가지며 각 경우에 임의로 니트로-, 시아노-, 할로겐-, C1-C4-알킬-, C1-C4-할로게노알킬-, C1-C4-알콕시-, C1-C4-할로게노알콕시-, C1-C4-알킬티오-, C1-C4-할로게노알킬티오-, C1-C4-알킬설피닐-, C1-C4-할로게노알킬설피닐-, C1-C4-알킬설포닐-, C1-C4-할로게노알킬설포닐- 또는 디-(C1-C4-알킬)-아미노설포닐-치환된 모노사이클릭 또는 비사이클릭 헤테로사이클릴 또는 헤테로사이클릴알킬을 나타내며,
    Z1은 C-R4를 나타내고,
    Z2는 C-R4를 나타내며,
    Z3은 C-R4를 나타냄을 특징으로 하는 화합물.
  3. 제 1 항 또는 2 항에 있어서,
    R2는 니트로, 시아노, SF5, 불소, 염소 또는 브롬을 나타내거나, 각 경우에 임의로 시아노-, 불소-, 염소-, 메톡시- 또는 에톡시-치환된 메틸, 에틸, n- 또는 i-프로필, 메톡시, 에톡시, n- 또는 i-프로폭시, 메틸티오, 에틸티오, n- 또는 i-프로필티오, 메틸설피닐, 에틸설피닐, n- 또는 i-프로필설피닐, 메틸설포닐, 에틸설포닐, n- 또는 i-프로필설포닐, 메틸설포닐옥시, 에틸설포닐옥시, 또는 n- 또는 i-프로필설포닐옥시를 나타내고,
    R3는 수소, 불소, 염소 또는 브롬을 나타내거나, R2와 함께, 각 경우에 임의로 불소- 및/또는 염소-치환된 메틸렌디옥시 또는 에틸렌디옥시를 나타내며,
    R4는 수소, 시아노, 카복실, 카바모일, 불소, 염소 또는 브롬을 나타내거나, 임의로 시아노-, 불소-, 염소-, 메톡시- 또는 에톡시-치환된 메틸, 에틸, 또는 n- 또는 i-프로필을 나타내고,
    Q1은 O(산소)를 나타내며,
    R5는 수소 또는 아미노를 나타내거나, 각 경우에 임의로 시아노-, 불소-, 염소-, 메톡시- 또는 에톡시-치환된 메틸, 에틸, n- 또는 i-프로필, n-, i-, s- 또는 t-부틸, 메틸아미노, 에틸아미노, n- 또는 i-프로필아미노, 또는 n-, i-, s- 또는 t-부틸아미노를 나타내거나, 디메틸아미노 또는 디에틸아미노를 나타내거나, 프로필리덴아미노 또는 부틸리덴아미노를 나타내거나, 각 경우에 임의로 시아노-,불소-, 염소- 및/또는 브롬-치환된 프로페닐, 부테닐, 프로피닐 또는 부티닐을 나타내거나, 각 경우에 임의로 시아노-, 불소-, 염소-, 브롬-, 메틸-, 에틸-, 또는 n- 또는 i-프로필-치환된 사이클로프로필, 사이클로부틸, 사이클로펜틸, 사이클로헥실, 사이클로프로필아미노, 사이클로부틸아미노, 사이클로펜틸아미노, 사이클로헥실아미노, 사이클로프로필메틸, 사이클로부틸메틸, 사이클로펜틸메틸 또는 사이클로헥실메틸을 나타내거나, 각 경우에 임의로 니트로-, 시아노-, 페닐-, 페녹시-, 페닐티오-, 불소-, 염소-, 브롬-, 메틸-, 에틸-, n- 또는 i-프로필-, n-, i-, s- 또는 t-부틸-, 디클로로메틸-, 디플루오로메틸-, 트리클로로메틸-, 트리플루오로메틸-, 클로로디플루오로메틸-, 플루오로디클로로메틸-, 메톡시-, 에톡시-, n- 또는 i-프로폭시-, 디플루오로메톡시-, 트리플루오로메톡시-, 메틸티오-, 에틸티오-, n- 또는 i-프로필티오-, 디플루오로메틸티오-, 트리플루오로메틸티오-, 메틸설피닐-, 에틸설피닐-, 트리플루오로메틸설피닐-, 메틸설포닐-, 에틸설포닐-, 트리플루오로메틸설포닐- 또는 디메틸아미노설포닐-치환된 페닐, 나프틸, 페닐아미노, 벤질 또는 페닐에틸을 나타내거나, 각 경우에 임의로 시아노-, 페닐-, 페녹시-, 페닐티오-, 불소-, 염소-, 브롬-, 메틸-, 에틸-, n- 또는 i-프로필-, n-, i-, s- 또는 t-부틸-, 디클로로메틸-, 디플루오로메틸-, 트리클로로메틸-, 트리플루오로메틸-, 클로로디플루오로메틸-, 플루오로디클로로메틸-, 메톡시-, 에톡시-, n- 또는 i-프로폭시-, 디플루오로메톡시-, 트리플루오로메톡시-, 메틸티오-, 에틸티오-, n- 또는 i-프로필티오-, 디플루오로메틸티오-, 트리플루오로메틸티오-, 메틸설피닐-, 에틸설피닐-, 트리플루오로메틸설피닐-, 메틸설포닐-, 에틸설포닐-, 트리플루오로메틸설포닐- 또는 디메틸아미노설포닐-치환된 푸릴, 테트라하이드로푸릴, 벤조푸릴, 티에닐, 벤조티에닐, 피롤릴, 벤조피롤릴, 피라졸릴, 벤조피라졸릴, 옥사졸릴, 벤족사졸릴, 이속사졸릴, 티아졸릴, 벤조티아졸릴, 옥사디아졸릴, 티아디아졸릴, 피리디닐, 퀴놀리닐, 피리미디닐, 푸릴메틸, 티에닐메틸, 피롤릴메틸, 피라졸릴메틸, 옥사졸릴메틸, 티아졸릴메틸, 피리디닐메틸 및 피리미디닐메틸로 구성된 그룹중에서 선택된 헤테로사이클릴 또는 헤테로사이클릴알킬을 나타내고,
    R6은 각 경우에 임의로 불소- 및/또는 염소-치환된 메틸, 에틸, n- 또는 i-프로필, 또는 n-, i-, s- 또는 t-부틸을 나타내거나, 각 경우에 임의로 불소-, 염소- 및/또는 브롬-치환된 프로페닐 또는 부테닐을 나타내거나, 각 경우에 임의로 불소-, 염소-, 브롬-, 메틸-, 에틸-, 또는 n- 또는 i-프로필-치환된 사이클로프로필, 사이클로부틸, 사이클로펜틸, 사이클로헥실, 사이클로프로필메틸, 사이클로부틸메틸, 사이클로펜틸메틸 또는 사이클로헥실메틸을 나타내거나, 각 경우에 임의로 니트로-, 시아노-, 불소-, 염소-, 브롬-, 메틸-, 에틸-, n- 또는 i-프로필-, n-, i-, s- 또는 t-부틸-, 디클로로메틸-, 디플루오로메틸-, 트리클로로메틸-, 트리플루오로메틸-, 클로로디플루오로메틸-, 플루오로디클로로메틸-, 메톡시-, 에톡시-, n- 또는 i-프로폭시-, 디플루오로메톡시-, 트리플루오로메톡시-, 메틸티오-, 에틸티오-, n- 또는 i-프로필티오-, 디플루오로메틸티오-, 트리플루오로메틸티오-, 메틸설피닐-, 에틸설피닐-, 트리플루오로메틸설피닐-, 메틸설포닐-, 에틸설포닐-, 트리플루오로메틸설포닐- 또는 디메틸아미노설포닐-치환된 페닐 또는 나프틸을 나타내거나, 각 경우에 임의로 시아노-, 불소-, 염소-, 브롬-, 메틸-, 에틸-, n- 또는 i-프로필-, n-, i-, s- 또는 t-부틸-, 디클로로메틸-, 디플루오로메틸-, 트리클로로메틸-, 트리플루오로메틸-, 클로로디플루오로메틸-, 플루오로디클로로메틸-, 메톡시-, 에톡시-, n- 또는 i-프로폭시-, 디플루오로메톡시-, 트리플루오로메톡시-, 메틸티오-, 에틸티오-, n- 또는 i-프로필티오-, 디플루오로메틸티오-, 트리플루오로메틸티오-, 메틸설피닐-, 에틸설피닐-, 트리플루오로메틸설피닐-, 메틸설포닐-, 에틸설포닐-, 트리플루오로메틸설포닐- 또는 디메틸아미노설포닐-치환된 푸릴, 벤조푸릴, 티에닐, 벤조티에닐, 피롤릴, 벤조피롤릴, 피라졸릴, 벤조피라졸릴, 옥사졸릴, 벤족사졸릴, 이속사졸릴, 티아졸릴, 벤조티아졸릴, 피리디닐, 퀴놀리닐, 피리미디닐, 푸릴메틸, 티에닐메틸, 피롤릴메틸, 피라졸릴메틸, 옥사졸릴메틸, 티아졸릴메틸, 피리디닐메틸 및 피리미디닐메틸로 구성된 그룹중에서 선택된 헤테로사이클릴 또는 헤테로사이클릴알킬을 나타내며,
    Z1은 CH를 나타내고,
    Z2는 CH를 나타내며,
    Z3은 CH를 나타냄을 특징으로 하는 화합물.
  4. 제 1 항 내지 3 항중 어느 한항에 있어서,
    R2는 시아노, 불소, 염소 또는 브롬을 나타내거나, 각 경우에 임의로 불소-,염소-, 메톡시- 또는 에톡시-치환된 메틸, 에틸, 메톡시, 에톡시, 메틸티오, 에틸티오, 메틸설피닐, 에틸설피닐, 메틸설포닐, 에틸설포닐, 메틸설포닐옥시 또는 에틸설포닐옥시를 나타내고,
    R4는 수소, 시아노, 불소, 염소 또는 브롬을 나타내거나, 임의로 불소-, 염소-, 메톡시- 또는 에톡시-치환된 메틸 또는 에틸을 나타내며,
    R5는 수소 또는 아미노를 나타내거나, 각 경우에 임의로 시아노-, 불소-, 염소-, 메톡시- 또는 에톡시-치환된 메틸, 에틸, n- 또는 i-프로필, 메틸아미노, 에틸아미노, 또는 n- 또는 i-프로필아미노를 나타내거나, 디메틸아미노를 나타내거나, 각 경우에 임의로 불소-, 염소- 및/또는 브롬-치환된 프로페닐, 부테닐, 프로피닐 또는 부티닐을 나타내거나, 각 경우에 임의로 불소-, 염소-, 브롬-, 메틸- 또는 에틸-치환된 사이클로프로필, 사이클로펜틸, 사이클로헥실, 사이클로프로필아미노, 사이클로펜틸아미노, 사이클로헥실아미노, 사이클로프로필메틸, 사이클로펜틸메틸 또는 사이클로헥실메틸을 나타내거나, 각 경우에 임의로 니트로-, 시아노-, 불소-, 염소-, 브롬-, 메틸-, 에틸-, n- 또는 i-프로필-, n-, i-, s- 또는 t-부틸-, 트리플루오로메틸-, 메톡시-, 에톡시-, n- 또는 i-프로폭시-, 디플루오로메톡시-, 트리플루오로메톡시-, 메틸티오-, 에틸티오-, n- 또는 i-프로필티오-, 디플루오로메틸티오-, 트리플루오로메틸티오-, 메틸설피닐-, 에틸설피닐-, 트리플루오로메틸설피닐-, 메틸설포닐-, 에틸설포닐-, 트리플루오로메틸설포닐- 또는 디메틸아미노설포닐-치환된 페닐, 페닐아미노, 벤질 또는 페닐에틸을 나타내고,
    R6은 각 경우에 임의로 불소- 및/또는 염소-치환된 메틸, 에틸, n- 또는 i-프로필, 또는 n-, i-, s- 또는 t-부틸을 나타내거나, 각 경우에 임의로 불소-, 염소-, 브롬-, 메틸- 또는 에틸-치환된 사이클로프로필, 사이클로펜틸 또는 사이클로헥실을 나타내거나, 임의로 니트로-, 시아노-, 불소-, 염소-, 브롬-, 메틸-, 에틸-, n- 또는 i-프로필-, n-, i-, s- 또는 t-부틸-, 트리플루오로메틸-, 메톡시-, 에톡시-, n- 또는 i-프로폭시-, 디플루오로메톡시-, 트리플루오로메톡시-, 메틸티오-, 에틸티오-, n- 또는 i-프로필티오-, 디플루오로메틸티오-, 트리플루오로메틸티오-, 메틸설피닐-, 에틸설피닐-, 트리플루오로메틸설피닐-, 메틸설포닐-, 에틸설포닐-, 트리플루오로메틸설포닐- 또는 디메틸아미노설포닐-치환된 페닐을 나타냄을 특징으로 하는 화합물.
  5. 제 1 항 내지 4 항중 어느 한항에 있어서,
    R2는 트리플루오로메틸을 나타내고/나타내거나,
    R4는 메틸을 나타냄을 특징으로 하는 화합물.
  6. 제 1 항 내지 5 항중 어느 한항에 있어서,
    R1은 시아노, 또는 그룹 -CQ1-Q2-R5및 -SO2-R6중의 하나를 나타내고,
    R2는 트리플루오로메틸, 디플루오로메톡시 또는 트리플루오로메톡시를 나타내며,
    R3는 수소, 불소 또는 염소를 나타내거나, R2와 함께, 오르토 위치에서 디플루오로메틸렌디옥시 또는 테트라플루오로에틸렌디옥시를 나타내고,
    R4는 수소, 불소, 염소, 브롬 또는 메틸을 나타내며,
    Q1은 O(산소) 또는 S(황)을 나타내고,
    Q2는 단일결합을 나타내거나, O(산소), S(황) 또는 N-R5를 나타내며,
    R5는 수소를 나타내거나, 각 경우에 임의로 시아노-, 불소-, 염소-, 메톡시- 또는 에톡시-치환된 메틸, 에틸, 또는 n- 또는 i-프로필을 나타내거나, 각 경우에 임의로 불소-, 염소- 및/또는 브롬-치환된 프로페닐, 부테닐, 프로피닐 또는 부티닐을 나타내거나, 각 경우에 임의로 불소-, 염소- 또는 메틸-치환된 사이클로프로필, 사이클로펜틸, 사이클로헥실, 사이클로프로필메틸, 사이클로펜틸메틸 또는 사이클로헥실메틸을 나타내거나, 각 경우에 임의로 니트로-, 시아노-, 불소-, 염소-, 브롬-, 메틸-, 에틸-, n- 또는 i-프로필-, n-, i-, s- 또는 t-부틸-, 트리플루오로메틸-, 메톡시-, 에톡시-, n- 또는 i-프로폭시-, 디플루오로메톡시-, 트리플루오로메톡시-, 메틸티오-, 에틸티오-, n- 또는 i-프로필티오-, 디플루오로메틸티오-, 트리플루오로메틸티오-, 메틸설피닐-, 에틸설피닐-, 트리플루오로메틸설피닐-, 메틸설포닐-, 에틸설포닐-, 트리플루오로메틸설포닐- 또는 디메틸아미노설포닐-치환된 페닐 또는 벤질을 나타내고,
    R6은 각 경우에 임의로 불소- 및/또는 염소-치환된 메틸, 에틸, n- 또는 i-프로필, 또는 n-, i-, s- 또는 t-부틸을 나타내거나, 각 경우에 임의로 불소-, 염소- 또는 메틸-치환된 사이클로프로필, 사이클로펜틸 또는 사이클로헥실을 나타내거나, 임의로 니트로-, 시아노-, 불소-, 염소-, 브롬-, 메틸-, 에틸-, n- 또는 i-프로필-, n-, i-, s- 또는 t-부틸-, 트리플루오로메틸-, 메톡시-, 에톡시-, n- 또는 i-프로폭시-, 디플루오로메톡시-, 트리플루오로메톡시-, 메틸티오-, 에틸티오-, n- 또는 i-프로필티오-, 디플루오로메틸티오-, 트리플루오로메틸티오-, 메틸설피닐-, 에틸설피닐-, 트리플루오로메틸설피닐-, 메틸설포닐-, 에틸설포닐-, 트리플루오로메틸설포닐- 또는 디메틸아미노설포닐-치환된 페닐을 나타내며,
    Z1은 CH를 나타내고,
    Z2는 CH를 나타내며,
    Z3은 CH를 나타냄을 특징으로 하는 화합물.
  7. (a) 일반식 (II)의 이미노아진 또는 그의 산 부가물을, 경우에 따라 반응 보조제의 존재하 및 경우에 따라 희석제의 존재하에서 일반식 (III)의 화합물 또는 일반식 (IV)의 이소(티오)시아네이트와 반응시키거나,
    (b) 일반식 (V)의 아진티온을, 경우에 따라 하나 이상의 희석제의 존재하에서 일반식 (VI)의 화합물과 반응시키거나,
    (c) 일반식 (VII)의 클로로아지늄 화합물을, 경우에 따라 반응 보조제의 존재하 및 경우에 따라 희석제의 존재하에서 일반식 (VIII)의 아미노 화합물과 반응시키거나,
    (d) 일반식 (II)의 이미노아진 또는 그의 산 부가물을, 경우에 따라 반응 보조제 및/또는 희석제의 존재하에서 질산과 반응시킴을 특징으로 하여 제 1 항 내지 6 항중 어느 한항에 따른 일반식 (I)의 치환된 이미노아진을 제조하는 방법:
    상기 식에서,
    R1, R2, R3, R4, R5, R6, Q1, Z1, Z2및 Z3는 각각 제 1 항 내지 6 항중 어느 한항에 정의된 바와 같고,
    X1은 할로겐, -SO2CH3, -O-CO-R5또는 -O-SO2-R6를 나타내며,
    M은 금속 등가물을 나타내며,
    Y는 Cl, PCl4, POCl4또는 PCl6을 나타낸다.
  8. 일반식 (II)의 이미노아진 또는 그의 산 부가물:
    상기 식에서,
    R2, R3, R4, Z1, Z2및 Z3는 각각 제 1 항 내지 6 항중 어느 한항에 정의된 바와 같다.
  9. 일반식 (V)의 아진티온:
    상기 식에서,
    R2, R3, R4, Z1, Z2및 Z3는 각각 제 1 항 내지 6 항중 어느 한항에 정의된 바와 같다.
  10. 일반식 (VII)의 클로로아지늄 화합물:
    상기 식에서,
    R2, R3, R4, Z1, Z2및 Z3는 각각 제 1 항 내지 6 항중 어느 한항에 정의된 바와 같고,
    Y는 Cl, PCl4, POCl4또는 PCl6을 나타낸다.
  11. 일반식 (IXa)의 화합물:
    상기 식에서,
    R2, R3및 R4는 각각 제 1 항 내지 6 항중 어느 한항에 정의된 바와 같다.
  12. 제 1 항 내지 6 항 및 11 항중 어느 한항에 따른 화합물 적어도 하나를 원치않는 식물 및/또는 이들의 서식지에 작용시킴을 특징으로 하여 원치않는 식물을 방제하는 방법.
  13. 원치않는 식물을 방제하기 위한 제 1 항 내지 6 항 및 11 항중 어느 한항에 따른 화합물의 용도.
  14. 원치않는 식물을 방제하기 위한 일반식 (IX) 화합물의 용도:
    상기 식에서,
    R2, R3, R4, Z1, Z2및 Z3는 각각 제 1 항 내지 6 항중 어느 한항에 정의된 바와 같다.
  15. 제 1 항 내지 6 항 및 11 항중 어느 한항에 따른 화합물과 통상적인 증량제 및/또는 계면활성제를 함유함을 특징으로 하는 제초제 조성물.
  16. 제 14 항에 따른 일반식 (IX)의 화합물과 통상적인 증량제 및/또는 계면활성제를 함유함을 특징으로 하는 제초제 조성물.
  17. 제 1 항 내지 6 항 및 11 항중 어느 한항에 따른 화합물 적어도 하나를 증량제 및/또는 계면활성제와 혼합함을 특징으로 하여 제초제 조성물을 제조하는 방법.
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