KR200271081Y1 - 채널형 브러시롤 - Google Patents

Abstract

본 고안은 채널형 브러시롤에 관한 것으로서, 시트형상의 베이스체에 형성된 산화인듐주석 도전막의 비 회로 부분을 산에칭에 의해 용해 제거한 후, 상기 비 회로부분에 남은 산화인듐주석 찌꺼기를 제거 및 세척하기 위해 소정 길이의 브러시가 회전축의 전둘레에 소정의 기모 밀도를 갖고서 입설되어 있는 채널형 브러시롤로서, 소정폭으로 컷트된 브러시의 기모면을 U자형으로 굽혀진 금속제 채널형 지그에 끼워 고정하고, 상기 지그를 상기 회전축에 스파이럴형상으로 권취하여 만들어진 채널형 브러시롤에 있어서, 상기 채널형 롤브러시의 브러시를 형성하는 합성 섬유는, 듀폰사의 제품명으로서 DuPont Filament Tynex?nylon filament 중에서 일반 제품군인 나일론 612이고; 상기 나일론 소재는, 그 한가닥의 단면 직경이 40 내지 60㎛이고, 기모된 모족 길이가 10 내지 25mm, 기모 밀도가 20 내지 100개/mm²인 것으로 되어 있다.

Description

채널형 브러시롤{channel type brush roll}

본 발명은, 산화인듐주석의 박막 전기회로판의 제조 과정에 있어, 산 에칭 후에 비 회로 부분에 남는 산화인듐주석 찌꺼기를 확실하게, 그리고 신속하게 제거및 세척하기 위한 개량된 채널형 브러시롤에 관한 것이다.

산화인듐주석(Indium Tin Oxide)은, 스퍼터링 증착법등에 의해, 투명성이 우수한 도전막을 용이하게 얻을 수 있다는 이유로해서, 전자 분야에 활발하게 이용되고 있다. 예를 들면, 액정디스플레이들 중에서 대표적인　박막트랜지스터 액정디스플레이에 있어, 박막 틀랜지스터 어레이 기판 상의 표시 전극으로서, 또는 컬러 필터 기판 상의 대향 전극으로서 이용되고 있다.

그 어느 쪽의 경우라도, 산화인듐주석 전극(전기회로)으로서 이용하기 위해서는, 먼저, 기판(필름, 유리판, 세라믹판 등)위에 스퍼터링 등에 의해 산화인듐주석으로 된 도전막을 형성하게 한 후, 사진 제판, 스크린 인쇄 등과 그리고 산 에칭과의 조합에 의해 필요한 전기 회로를 제작하고 있다.

그런데, 상기 산화인듐주석 막으로 전기 회로를 형성하는 데사용되는 사진 제판이나 스크린 인쇄 등의 인쇄에서, 비 전기회로부분의 산화인듐주석 막은, 염산이라든가 염화 제2 철 등의 수용액에 의해 에칭하여 완전하게 제거할 필요가 있지만, 이것이 용이하게 제거할 수 없는 사정이 있다.

그것은, 다음과 같은 이유에 의한다.

즉, 산화인듐주석은 스퍼터링 등에 의해 증발되어 기판 상에서 응고되어서 도전막을 형성하지만, 그 산화인듐주석 막은, 실질적으로는 비정질이다. 그러나, 결정 부분도 포함된 경우가 많다. 이 결정 부분이 존재 한다면 소요 시간 내에 에칭 제거하는 것은 극히 어렵다. 따라서, 이것은 산화인듐주석 찌꺼기로서 기판에서 제거되지 않고 남아 있다. 이 찌꺼기의 존재는, 특히, 정밀 회로 패턴에 있어, 그 단락 상태를 나쁘게 하고, 고밀도의 정밀 패턴을 언제나 안정되게 제작하는 것을 불가능하게 하는 것은 물론, 데이터 선의 단선이나 박막 트랜지스터 화소 내, 화소간의 리크 전류에 의한 화상의 얼룩을 일으키는 치명적인 결과를 초래하므로, 절대적으로 회피되어야 한다.

또, 팽창 상태에서 한 번 제거된 산화인듐주석 막이, 우발적으로 기판에 재 부착하는 경우도 있다. 이 경우도, 상기와 같이, 전류 리크에 의한 치명적인 결점으로 되기 때문에, 이것에 의한 우려도 완전하게 불식시켜야 한다.

상기와 같은 에칭 후의 산화인듐주석 찌꺼기에 의한 문제에 대한 해결책으로서 취해지고 있는 수단은, 종래에는 면 형상 또는 롤 형상의 스펀지를 사용하여 수중에서 수동 또는 자동적으로 비비어 제거하든지, 또는 면 형상의 직물 브러시 또는 선상으로 기모된 틀 부착 브러시를 고정하고, 이것에 에칭 처리후의 산화인듐주석 회로판을 수중에서 맞닿음시켜, 상하로 수동 또는 자동적으로 비비면서 제거하는 등의 방법이 취해지고 있다.

그러나, 이들 어느 쪽의 방법도 산화인듐주석 찌꺼기를 안정되게 확실하게 또한 신속하게 제거하는 것에는 문제가 있고, 더욱 더 개량 기술에 대한 검토가 필요해지고 있다.

즉, 상기 스펀지에 의한 경우는 어느 경우라도 신속하게 제거할 수 없고, 경우에 따라서는 완전히 제거할 수 없는 것도 사실이다. 그 원인은, 스펀지인　것으로는 아무래도 소정의 가압을 얻을 수 없고, 또한 평면으로 비빈다고 하는 동작이기 때문에, 특히 정밀한 비 전기 회로부에 남는 산화인듐주석 찌꺼기는 제거될 수 없다. 또, 특히, 롤 형상 스펀지로는, 기판의 사이즈가 커지면 정 중심부분의 산화인듐주석 찌꺼기의 제거율이 나쁘게 되고, 양 사이드와의 사이에 제거 얼룩이 생기기가 쉽다. 이것은, 아마 중심부와 주위부와의 사이에 가압력 차이가 있기 때문이라고 생각된다.

한편, 브러시에 의한 제거에서, 면 형상의 직물 브러시는 전기 회로 부분에 상처를 내기 쉽고, 또, 선 형상의 틀 부착 브러시는, 극히 장시간의 브러싱을 필요하고, 때로는 전기 회로 부분에 흠집을 내는 일조차 있다. 그 이유는, 산화인듐주석 찌꺼기에 대해서는 점 접촉이어서, 정밀한 비 전기회로부분의 산화인듐주석 찌꺼기의 제거는 행해질 수 있지만, 접촉이 비 연속적이어서 간단히 분리 제거할 수 없어, 극히 장시간의 작업을 필요로 하기 때문이다.

본 고안은, 상기된 문제점을 해결하고자 안출된 것으로서, 산화인듐주석 막의 전기 회로판의 제조에 있어서, 특히, 산화인듐주석 막의 비 회로부분을 산 에칭에 의해 제거해도 잔존을 피할 수 없는 산화인듐주석 찌꺼기 부분을, 확실하면서도 신속하게 그리고 전기 회로 부분에 흠집을 내는 일 없이 제거 및 세척할 수 있는 채널형 블러시롤을 제공하는 것을 목적으로 하고 있다.

도 1은 본 고안에 따른 채널형 브러시롤에 대한 사시도이다.

상기 목적은, 다음과 같은 채널형 브러시롤에 의해 용이하게 달성된다. 즉，본 고안은 시트형상의 베이스체에 형성된 산화인듐주석 도전막의 비 회로 부분을 산에칭에 의해 용해 제거한 후, 상기 비 회로부분에 남은 산화인듐주석 찌꺼기를 제거 및 세척하기 위해 소정 길이의 브러시가 회전축의 전둘레에 소정의 기모 밀도를 갖고서 입설되어 있는 채널형 브러시롤로서, 소정폭으로 컷트된 브러시의 기모면을 U자형으로 굽혀진 금속제 채널형 지그에 끼워 고정하고, 상기 지그를 상기 회전축에 스파이럴형상으로 권취하여 만들어진 채널형 브러시롤에 있어서, 상기 채널형 롤브러시의 브러시를 형성하는 합성 섬유는, 듀폰사의 제품명으로서 DuPont Filament Tynex?nylon filament 중에서 일반 제품군인 나일론 612이고; 상기 나일론 소재는, 그 한가닥의 단면 직경이 40 내지 60㎛이고, 기모된 모족 길이가 10 내지 25mm, 기모 밀도가 20 내지 100개/mm²인 것을 특징으로 하는 채널형 브러시롤로 되어 있다.

이하에 본 구성을 실시예와 함께 상술한다．

채널형 롤브러시의 브러시를 형성하는 합성 섬유는, 먼저 소재로서 내수성이 있고 적당의 강성과 유연성(탄성 회복, 내굴곡성)을 갖는 것이면 바람직하다. 이와 같은 소재는, 예를 들면, 듀폰사의 제품명으로서 DuPont Filament Tynex?nylon filament 중에서 일반 제품군인 나일론 612가 바람직하다. 여기에서, 상기 합성섬유는 상기 듀폰사의 제품인 일반 제품군 나일론 612 대신에, 주식회사 대광산업 PBT?이라는 소재로도 대체 가능하다.

상기 나일론 소재는, 그 한가닥의 단면이 일반적으로는 원형이지만, 이형 단면라도 좋다. 두께(단면 직경)에 관해서는, 이것도 적당의 강성과 유연성의 발현에 기여하기 때문에, 적당한 두께의 섬유가 바람직하다. 즉 너무나도 작다면 유연성이 뛰어나기 때문에, 소정의 가압을 얻을 수 없고, 또 브러시의 기모 상태가 유지될 수 없게 되어, 산화인듐주석 찌꺼기가 신속하게 제거될 수 없다. 특히, 정밀 비 전기회로부분에 있는 산화인듐주석 찌꺼기의 제거는 극히 곤란하다. 한편, 너무나도 굵다면 강성이 뛰어나기 때문에 손상시키기 쉽고, 또 정밀 비 전기회로부분에 있는 산화인듐주석 찌꺼기도 제거가 곤란해진다. 이상과 같은 이유 때문에, 바람직한 두께는 40 내지 60㎛이다.

채널형 브러시롤의 브러시는, 소정 길이의 상기 나일론이, 회전축의 전 주위에 소정의 기모 밀도를 갖고서 입설되어 있는 것을 말하며, 먼저, 필라멘트를 기포(基布)에 직성(織成)하고, 직성에 즈음해서는, 가능한 한 입설하도록 하고, 다음에 소정 길이의 길이가 되도록 컷트한다. 컷트인 채도 좋지만, 단면 에지를 곡면적으로 가공해도 좋다. 마지막으로, 소정폭으로 컷트한 기모면을 U자형으로 굽혀진 금속제 채널형 지그에 끼워 고정하고, 기모한 선상 브러시가 고정된 상기 지그를 상기 회전축에 스파이럴형상으로 권취하여 채널형 브러시롤로 만든다. 여기에서, 기모된 모족의 길이와 밀도의 대소는 적잖이, 강성과 유연성에 영향을 준다. 따라서, 바람직한 범위가 있다. 그것은, 기모된 모족 길이에 관해서는, 약 10 내지 25mm, 기모 밀도는 약 20 내지 100개/mm²가 되도록 가공하는 것이 좋다.

이하에 실시예에 의해 더욱 상술한다.

상기와 같이 구성된 채널형 브러시롤의 브러시는 도 1에 브러시(2)로서 도시되어 있다. 상기 브러시(2)는, 두께 0.2mm의 스테인리스 판을 Ｕ자 모양으로 굽힌 채널형 지그(3)의 속에, 직경 50㎛의 일반 제품군의 나일론 612의 단일 가닥을, 기모된 모족 길이가 10 내지 25mm가 되도록 5mm 폭으로 끼워넣어져 고정한 띠 모양 브러시를, 직경 15mm，길이 670mm의 스테인리스제 회전축(1)에, 스파이럴 형상으로 권착 고정한 것이다.

본 고안은 상기한 대로 구성되기 때문에, 다음과 같은 효과를 얻을 수 있다.

적절한 산화인듐주석의 산 에칭에 의해서도, 에칭 되지 않는 산화인듐주석 찌꺼기를, 극히 단시 간에, 확실하게, 또한 손상시키는 일 없이 제거 및 세척하는 것이 가능하다.

Claims (1)

1. 시트형상의 베이스체에 형성된 산화인듐주석 도전막의 비 회로 부분을 산에칭에 의해 용해 제거한 후, 상기 비 회로부분에 남은 산화인듐주석 찌꺼기를 제거 및 세척하기 위해 소정 길이의 브러시가 회전축의 전둘레에 소정의 기모 밀도를 갖고서 입설되어 있는 채널형 브러시롤로서, 소정폭으로 컷트된 브러시의 기모면을 U자형으로 굽혀진 금속제 채널형 지그에 끼워 고정하고, 상기 지그를 상기 회전축에 스파이럴형상으로 권취하여 만들어진 채널형 브러시롤에 있어서,

   상기 채널형 롤브러시의 브러시를 형성하는 합성 섬유는, 듀폰사의 제품명으로서 DuPont Filament Tynex?nylon filament 중에서 일반 제품군인 나일론 612이고,

   상기 나일론 소재는, 그 한가닥의 단면 직경이 40 내지 60㎛이고, 기모된 모족 길이가 10 내지 25mm, 기모 밀도가 20 내지 100개/mm²인 것을 특징으로 하는 채널형 브러시롤.