KR200271082Y1 - 채널형 브러시롤 - Google Patents

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KR200271082Y1
KR200271082Y1 KR2020010040494U KR20010040494U KR200271082Y1 KR 200271082 Y1 KR200271082 Y1 KR 200271082Y1 KR 2020010040494 U KR2020010040494 U KR 2020010040494U KR 20010040494 U KR20010040494 U KR 20010040494U KR 200271082 Y1 KR200271082 Y1 KR 200271082Y1
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박승주
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박승주
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본 고안은 채널형 브러시롤에 관한 것으로서, 채널형 브러시롤은 부식을 고려해 SUS304의 롤본체(44)의 외주면에 브러시소재(46)가 심어진 1개의 길이가 긴 채널브러시(48)를 인접밀착시켜 나선모양으로 권취한 브러시롤(42)이며, 채널브러시(48)는 SUS304의 띠형상 판을 U자 모양 단면을 갖게 한 채널부(50)에, 소정길이의 브러시소재(46)의 중간부를 대향시키고, 브러시소재(46)의 중간부를 스테인리스선의 심편(52)과 함께 채널부(50)의 슬릿형상 개구쪽으로 눌러서, 심편(52)과 브러시소재(46)의 중간부를 덮은후 채널부(50)의 개구의 양단부로 브러시소재(46)를 끼우도록 채널부(50)를 압축하여 만든 것이며, 브러시 소재(46)는 듀폰사의 제품명으로서 DuPont Filament Tynex?nylon filament 중에서 일반제품군인 나일론 612이고 단면직경이 40 내지 60㎛인 홑실이며, 채널부(50)는 깊이 4mm, 폭 5mm의 U자형 단면을 갖고 있으며, 브러시소재(46)의 기모된 모족길이가 10 내지 25mm이고, 그 기모밀도가 20 내지 100개/mm2이며, 롤본체(44)의 양단면이 채널브러시(48)의 양단부와 직접용접되어 롤본체(44)의 양단면에 용접부(51)가 형성되어 있다.

Description

채널형 브러시롤{channel type brush roll}
본 발명은, 산화인듐주석의 박막 전기회로판의 제조 과정에 있어, 산 에칭 후에 비 회로 부분에 남는 산화인듐주석 찌꺼기를 확실하게, 그리고 신속하게 제거및 세척하기 위한 개량된 채널형 브러시롤에 관한 것이다.
산화인듐주석(Indium Tin Oxide)은, 스퍼터링 증착법등에 의해, 투명성이 우수한 도전막을 용이하게 얻을 수 있다는 이유로해서, 전자 분야에 활발하게 이용되고 있다. 예를 들면, 액정디스플레이들 중에서 대표적인 박막트랜지스터 액정디스플레이에 있어, 박막 틀랜지스터 어레이 기판 상의 표시 전극으로서, 또는 컬러 필터 기판 상의 대향 전극으로서 이용되고 있다.
그 어느 쪽의 경우라도, 산화인듐주석 전극(전기회로)으로서 이용하기 위해서는, 먼저, 기판(필름, 유리판, 세라믹판 등)위에 스퍼터링 등에 의해 산화인듐주석으로 된 도전막을 형성하게 한 후, 사진 제판, 스크린 인쇄 등과 그리고 산 에칭과의 조합에 의해 필요한 전기 회로를 제작하고 있다.
그런데, 상기 산화인듐주석 막으로 전기 회로를 형성하는 데사용되는 사진 제판이나 스크린 인쇄 등의 인쇄에서, 비 전기회로부분의 산화인듐주석 막은, 염산이라든가 염화 제2 철 등의 수용액에 의해 에칭하여 완전하게 제거할 필요가 있지만, 이것이 용이하게 제거할 수 없는 사정이 있다.
그것은, 다음과 같은 이유에 의한다.
즉, 산화인듐주석은 스퍼터링 등에 의해 증발되어 기판 상에서 응고되어서 도전막을 형성하지만, 그 산화인듐주석 막은, 실질적으로는 비정질이다. 그러나, 결정 부분도 포함된 경우가 많다. 이 결정 부분이 존재 한다면 소요 시간 내에 에칭 제거하는 것은 극히 어렵다. 따라서, 이것은 산화인듐주석 찌꺼기로서 기판에서 제거되지 않고 남아 있다. 이 찌꺼기의 존재는, 특히, 정밀 회로 패턴에 있어, 그 단락 상태를 나쁘게 하고, 고밀도의 정밀 패턴을 언제나 안정되게 제작하는 것을 불가능하게 하는 것은 물론, 데이터 선의 단선이나 박막 트랜지스터 화소 내, 화소간의 리크 전류에 의한 화상의 얼룩을 일으키는 치명적인 결과를 초래하므로, 절대적으로 회피되어야 한다.
또, 팽창 상태에서 한 번 제거된 산화인듐주석 막이, 우발적으로 기판에 재 부착하는 경우도 있다. 이 경우도, 상기와 같이, 전류 리크에 의한 치명적인 결점으로 되기 때문에, 이것에 의한 우려도 완전하게 불식시켜야 한다.
상기와 같은 에칭 후의 산화인듐주석 찌꺼기에 의한 문제에 대한 해결책으로서 취해지고 있는 수단은, 종래에는 면 형상 또는 롤 형상의 스펀지를 사용하여 수중에서 수동 또는 자동적으로 비비어 제거하든지, 또는 면 형상의 직물 브러시 또는 선상으로 기모된 틀 부착 브러시를 고정하고, 이것에 에칭 처리후의 산화인듐주석 회로판을 수중에서 맞닿음시켜, 상하로 수동 또는 자동적으로 비비면서 제거하는 등의 방법이 취해지고 있다.
그러나, 이들 어느 쪽의 방법도 산화인듐주석 찌꺼기를 안정되게 확실하게 또한 신속하게 제거하는 것에는 문제가 있고, 더욱 더 개량 기술에 대한 검토가 필요해지고 있다.
즉, 상기 스펀지에 의한 경우는 어느 경우라도 신속하게 제거할 수 없고, 경우에 따라서는 완전히 제거할 수 없는 것도 사실이다. 그 원인은, 스펀지인 것으로는 아무래도 소정의 가압을 얻을 수 없고, 또한 평면으로 비빈다고 하는 동작이기 때문에, 특히 정밀한 비 전기 회로부에 남는 산화인듐주석 찌꺼기는 제거될 수 없다. 또, 특히, 롤 형상 스펀지로는, 기판의 사이즈가 커지면 정 중심부분의 산화인듐주석 찌꺼기의 제거율이 나쁘게 되고, 양 사이드와의 사이에 제거 얼룩이 생기기가 쉽다. 이것은, 아마 중심부와 주위부와의 사이에 가압력 차이가 있기 때문이라고 생각된다.
한편, 브러시에 의한 제거에서, 면 형상의 직물 브러시는 전기 회로 부분에 상처를 내기 쉽고, 또, 선 형상의 틀 부착 브러시는, 극히 장시간의 브러싱을 필요하고, 때로는 전기 회로 부분에 흠집을 내는 일조차 있다. 그 이유는, 산화인듐주석 찌꺼기에 대해서는 점 접촉이어서, 정밀한 비 전기회로부분의 산화인듐주석 찌꺼기의 제거는 행해질 수 있지만, 접촉이 비 연속적이어서 간단히 분리 제거할 수 없어, 극히 장시간의 작업을 필요로 하기 때문이다.
본 고안은, 상기된 문제점을 해결하고자 안출된 것으로서, 산화인듐주석 막의 전기 회로판의 제조에 있어서, 특히, 산화인듐주석 막의 비 회로부분을 산 에칭에 의해 제거해도 잔존을 피할 수 없는 산화인듐주석 찌꺼기 부분을, 확실하면서도 신속하게 그리고 전기 회로 부분에 흠집을 내는 일 없이 제거 및 세척할 수 있는 채널형 블러시롤을 제공하는 것을 목적으로 하고 있다.
도 1은 본 고안에 따른 채널형 브러시롤에 대한 사시도이다.
상기 목적은, 다음과 같은 채널형 브러시롤에 의해 용이하게 달성된다. 즉,본 고안은 시트형상의 베이스체에 형성된 산화인듐주석 도전막의 비 회로 부분을 산에칭에 의해 용해 제거한 후, 상기 비 회로부분에 남은 산화인듐주석 찌꺼기를 제거 및 세척하는 채널형 브러시 롤에 있어서, 상기 채널형 브러시 롤은 부식을 고려해 SUS304 스테인리스제의 롤 본체(44)의 외주면에 브러시 소재(46)가 심어진 1개의 길이가 긴 채널 브러시(48)를 인접 밀착시켜 나선 모양으로 권취한 브러시 롤(42)이며, 그리고 채널 브러시(48)는 스테인리스제(SUS304)의 띠형상의 판을 U자 모양의 단면을 갖도록 구성한 채널부(50)에, 소정 길이의 브러시 소재(46)의 중간부를 대향시키고, 이 브러시 소재(46)의 중간부를 스테인리스 선의 심편(52)과 함께 채널부(50)의 슬릿형상 개구쪽으로 눌러서, 심편(52)과 브러시 소재(46)의 중간부를 덮은 후 채널부(50)의 개구의 양단부로 브러시 소재(46)를 끼우도록 채널부(50)를 압축하여 만들어 진 것이며, 여기에서, 상기 브러시 소재(46)는 듀폰사의 제품명으로서 DuPont Filament Tynex?nylon filament 중에서 일반 제품군인나일론 612이고 단면 직경이 40 내지 60㎛인 홑실이며, 상기 채널부(50)는 깊이 4mm, 폭 5mm의 U자형 단면을 갖고 있으며, 상기 브러시 소재(46)의 기모된 모족 길이가 13 내지 14mm이고, 그 기모 밀도가 20 내지 100개/mm2이며, 그리고 상기 롤 본체(44)의 양 단면이 상기 채널 브러시(48)의 양단부와 직접 용접되어 상기 롤 본체(44)의 양 단면에 용접부(51)가 형성되어 있는 것으로 되어 있다.
이하에 본 구성을 실시예와 함께 상술한다.
본 실시예로는, 부식을 고려해 SUS304 등의 스테인리스제의 롤 본체(44)의 외주면에 브러시 소재(46)가 심어진 1개의 길이가 긴 채널 브러시(48)를 인접 밀착시켜 나선 모양으로 권취한 것을 브러시 롤(42)로서 사용하고 있다. 도 1에 도시된 바와 같이, 채널 브러시(48)는, 스테인리스제(예를 들면 SUS304)의 띠형상의 판을 U자 모양의 단면을 갖도록 구성한 채널부(50)에, 소정 길이의 브러시 소재(46)의 중간부를 대향시키고, 이 브러시 소재(46)의 중간부를 스테인리스 선의 심편(52)과 함께 채널부(50)의 슬릿형상 개구쪽으로 눌러서, 심편(52)과 브러시 소재(46)의 중간부를 덮은 후 채널부(50)의 개구의 양단부로 브러시 소재(46)를 끼우도록 채널부(50)를 압축한다. 이에 따라, 브러시 소재(46)가 빠지는 것이 없는 채널 브러시(48)가 완성된다.
브러시 롤(42)는, 1개의 채널 브러시(48)의 채널부(50)를 롤 본체(44)의 둘레면에 나선 모양으로 밀착시켜 권취한다. 즉, 도 1에 도시된 바와 같이, 1개의 채널 브러시(48)를, 롤 본체(44)의 둘레면에 나선 모양으로 밀착권취하여 용접하여최종적으로 채널 브러시(48)를 밀착 권취한 상태의 브러시 롤(42)를 얻는다. 이 상태에서 브러시 소재(46)의 선단을 롤 본체(44)의 회전축에 대하고 소정의 치수를 갖도록 절단한 브러시 롤(42)을 완성하고 있다.
본 실시예에서는, 일예로서 듀폰사의 제품명으로서 DuPont Filament Tynex?nylon filament 중에서 일반 제품군인 나일론 612이고 단면 직경이 40 내지 60㎛인 홑실인 브러시 소재(46)를 깊이 4mm, 폭 5mm의 U자형 단면을 갖는 스테인리스제의 채널부(50)에 상기와 같이 고정하고 기모된 모족 길이가 10 내지 25mm, 기모 밀도가 20 내지 100개/mm2인 채널 브러시(48)를 제작하였다. 여기에서, 상기 브러시 소재(46)는 상기 듀폰사의 제품인 일반 제품군 나일론 612 대신에, 주식회사 대광산업 PBT?이라는 소재로도 대체 가능하다.
여기에서, 상기 채널부(50)의 폭을 5mm로 설정한 이유는 채널 브러시(48)의 권취각(롤 본체의 둘레 방향에 대한 각도)을 소정의 각도(예를 들면, 85도 내지 80)를 갖기 위함이다. 상기 채널부(50)의 폭을 5mm 미만으로 하면, 상기 소정의 각도보다 작게 되어, 산화인듐주석 찌꺼기의 제거 및 세척시 전기 회로 부분에 얼룩자국을 내고, 그리고 상기 채널부(50)의 폭을 5mm 보다 크게 하면, 기모 밀도가 작아져 이 역시 산화인듐주석 찌꺼기의 제거 및 세척시에 전기 회로 부분에 얼룩자국을 낸다.
또한, 상기 브러시 소재(46)를 듀폰사의 제품명으로서 DuPont Filament Tynex?nylon filament 중에서 일반 제품군인 나일론 612이고 단면 직경이 40 내지60㎛인 홑실로 설정한 이유는 상기 듀폰사의 소재가 내수성이 있고 적당의 강성과 유연성(탄성 회복, 내굴곡성)을 갖고 있어, 소정의 가압이 얻어 질 수 있고, 브러시의 기모 상태가 유지될 수 있어서, 전기회로부분을 손상시킴없이 확실하게 산화인듐주석 찌꺼기를 제거하고 세척할 수 있기 때문이다.
이처럼 완성한 채널 브러시(48)를 1개를, 스테인리스제의 롤 본체(44)에 나선 모양으로 밀접 하게 권취하여 직경 130mm가 되도록 만들고, 그 채널 브러시(48)의 양단부를, 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 롤 본체(44)의 양 단면에 직접 용접시켜 상기 롤 본체(44)의 양 단면에 용접부(51)를 형성시킴으로써, 브러시 롤(42)을 완성했다.
본 고안은 상기한 대로 구성되기 때문에, 다음과 같은 효과를 얻을 수 있다.
적절한 산화인듐주석의 산 에칭에 의해서도, 에칭 되지 않는 산화인듐주석 찌꺼기를, 극히 단시 간에, 확실하게, 또한 손상시키는 일 없이 제거 및 세척하는 것이 가능하다.

Claims (1)

  1. 시트형상의 베이스체에 형성된 산화인듐주석 도전막의 비 회로 부분을 산에칭에 의해 용해 제거한 후, 상기 비 회로부분에 남은 산화인듐주석 찌꺼기를 제거 및 세척하는 채널형 브러시 롤에 있어서,
    상기 채널형 브러시 롤은 부식을 고려해 SUS304 스테인리스제의 롤 본체(44)의 외주면에 브러시 소재(46)가 심어진 1개의 길이가 긴 채널 브러시(48)를 인접 밀착시켜 나선 모양으로 권취한 브러시 롤(42)이며, 그리고
    채널 브러시(48)는 스테인리스제(SUS304)의 띠형상의 판을 U자 모양의 단면을 갖도록 구성한 채널부(50)에, 소정 길이의 브러시 소재(46)의 중간부를 대향시키고, 이 브러시 소재(46)의 중간부를 스테인리스 선의 심편(52)과 함께 채널부(50)의 슬릿형상 개구쪽으로 눌러서, 심편(52)과 브러시 소재(46)의 중간부를 덮은 후 채널부(50)의 개구의 양단부로 브러시 소재(46)를 끼우도록 채널부(50)를 압축하여 만들어 진 것이며,
    여기에서, 상기 브러시 소재(46)는 듀폰사의 제품명으로서 DuPont Filament Tynex?nylon filament 중에서 일반 제품군인 나일론 612이고 단면 직경이 40 내지 60㎛인 홑실이며,
    상기 채널부(50)는 깊이 4mm, 폭 5mm의 U자형 단면을 갖고 있으며,
    상기 브러시 소재(46)의 기모된 모족 길이가 10 내지 25mm이고, 그 기모 밀도가 20 내지 100개/mm2이며, 그리고
    상기 롤 본체(44)의 양 단면이 상기 채널 브러시(48)의 양단부와 직접 용접되어 상기 롤 본체(44)의 양 단면에 용접부(51)가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 채널형 브러시 롤.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101370281B1 (ko) * 2013-05-22 2014-03-06 신예현 소독성과 세척성이 우수한 실리콘 세척기구 제조장치 및 그 제조방법

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