KR20020016561A - Ｘ선 산란 방지용 그리드 및 ｘ선 이미지 콘트라스트 개선방법 - Google Patents

Ｘ선 산란 방지용 그리드 및 ｘ선 이미지 콘트라스트 개선방법 Download PDF

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KR20020016561A
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space
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존슨마크에이.
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제이 엘. 차스킨, 버나드 스나이더, 아더엠. 킹
제너럴 일렉트릭 캄파니
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    • G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K1/00—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
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Abstract

사출 성형된 산란 방지용 그리드(20)는 복수의 사이 공간부[44: inter-space]를 정의하는 포커스된 X선 흡수성 프레임워크[30: framework]를 형성하도록 강화 열가소성 물질로부터 제조된다. 강화 열가소성 물질은 종래의 산란 방지용 그리드를 제조하는 물질보다 높은 수율의 강도를 갖고, 종래의 섬유와 같은 공간 사이를 차지하는 물질을 불필요하게 하여 구조적으로 강한 그리드를 생성하고, 그리드의 유효 초점 길이를 변경하여, 하나 이상의 방향으로 구부러질 수 있도록 그리드를 추가적으로 허용한다. 강화 열가소성 물질은 X선 흡수제로 되기 위해서 고밀도 입자로 적재되어, 소망하는 구조적 특성을 계속 유지한다.

Description

Ｘ선 산란 방지용 그리드 및 Ｘ선 이미지 콘트라스트 개선 방법{X-RAY ANTI-SCATTER GRID}
본 발명은, 일반적으로 진단 방사선 촬영법(diagnostic radiography)에 관한 것으로, 특히 X선 이미지 콘트라스트(contrast)를 개선하기 위한 X선 산란 방지용 그리드(anti-scatter grid)에 관한 것이다.
의학적인 진단 방사선 촬영을 처리하는 동안, X선은 X선 소스로부터 대상물(object)측으로 향한다. X선이 대상물의 이미지를 생성하는데 사용되는 경우, 방사선의 일부 즉, 직달 방사선(direct radiation)은 X선 소스로부터 방해받지 않고 대상물을 직접 통과하여 X선 검출기에 도달하여, X선 이미지를 감광 필름 또는 다른 적절한 검출기상에 생성한다. 일부 직달 방사선은 이 필름 또는 검출기상에 대상물의 음영(shadow)을 생성하는 대상물에 의해 차동적으로 흡수된다. 방사선의 일부는 산란되어, X선 소스로부터 방사선의 일부의 본래 경로로부터 현저하게 이탈하는 각도로 X선 검출기에 도달한다. 산란된 방사선이 흡수 이미지(absorption image)상에 겹쳐져 "베일(veil)"을 형성함으로써, 방사선 사진 이미지의 콘트라스트를 감소시킨다. 산란된 방사선으로 인해 감소된 콘트라스트를 상쇄시키기 위해서, 대상물에 대한 방사선 노출량이 흔히 증가된다. 산란된 방사선이 감소되거나 제거되면, 이미지의 콘트라스트가 강화되거나 대상물(또는 환자)에 대한 1회의 방사선량(radiation dose)이 감소될 수 있고, 또는 이미지의 콘트라스트가 강화됨과함께 대상물(또는 환자)에 대한 1회의 방사선량이 감소될 수 있다.
방사선 산란은 X선 산란 방지용 그리드를 사용함으로써 감소될 수 있다. 통상적으로, 산란 방지용 그리드는 기하학적 모형으로 배열되어 산란된 방사선을 흡수하는 X선 흡수 물질의 얇은 시트 및 직달 방사선이 산란 방지용 그리드를 통과하도록 허용하는 흡수성(absorbent) 시트 사이의 비흡수성의 섬유(fiber)와 같은 스페이서(spacer) 물질로 제조된다. 포커스된 그리드(focused grid)로서 알려져 있는 산란 방지용 그리드의 하나의 유형에 있어서, 흡수성 시트는 X선 소스로부터 발산되는 직달 X선 빔(direct X-ray beam)과 대략적으로 평행하게 배열된다. 포커스된 크로스 그리드(focused cross grid)로서 알려져 있는 산란 방지용 그리드의 다른 유형에 있어서, 흡수성 시트는 메시(mesh)형으로 배열되고, 두 개의 실질적으로 수직인 축을 따라 포커스된다. 크로스 그리드는 2차원으로 포커스되고, X선 소스에 관련된 산란 방지용 그리드의 정확한 위치를 필요로 한다. 통상적으로, 포커스된 그리드의 초점 길이는 고정되고, X선 소스 및 산란 방지용 그리드의 관련 위치는 수용 가능한 방사선 사진의 결과가 달성되도록 계속 고정되어야 한다. X선 절차에 있어서, 보다 나은 유연성을 허용하도록 가변 초점 길이의 그리드를 제공하는 것이 바람직하다.
통상적으로, 포커스된 산란 방지용 그리드는 흡수성 물질, 공간부 물질 및 흡수성 물질과 공간부 물질을 함께 결합시킨 다른 층을 축적(laying-up) 또는 적층시킴으로써 제조된다. 그리드 구성 요소는 어셈블리하는 동안 정렬되어 소망하는 초점을 얻는다. 이와 달리, 매우 미세한 슬릿(slit)이 포커스된 패턴으로 X선을 통과시키는 물질(x-ray transparent meterial)에 형성되고, 이 슬릿은 X선을 흡수하는 물질로 충전되어 포커스된 그리드를 형성한다. 예를 들어, 미국 특허 제5,557,650호 및 미국 특허 제5,581,592호를 참고하자. 또한, 다른 제조 기술에 있어서, 포토레지스트(photo resist) 및 화학 에칭 처리는 메시형으로 흡수 물질의 다소 상이한 층을 제조하는데 사용된다. 층들이 적층되고 적절하게 결합되어 포커스된 크로스 그리드를 형성한다. 예를 들어, 미국 특허 제5,606,589호 및 미국 특허 제5,814,235호를 참고하자. 그러나, 상기 각 제조 방법은 복잡하고 장황하여, 흔히 그리드 품질의 큰 변화를 발생시킨다.
따라서, 알려져 있는 X선 그리드에 비해 보다 신속하고 쉽게 제조될 수 있는 포커스된 산란 방지용 그리드를 제공하는 것이 바람직하다. 또한, 조절 가능하거나 변경 가능한 초점 길이를 갖는 산란 방지용 그리드를 제공하는 것이 바람직하다.
본 발명의 예시적인 실시예에 있어서, X선 산란 방지용 그리드는 복수의 공간부(space)를 정의하는 일체형의 기하학적 그리드 구조를 갖는다. 공간 사이를 차지하는 물질(inter-space material)은 공간부에 위치되고, 그리드 구조 및 공간 사이를 차지하는 물질은 적어도 한 축을 따라 구부러지도록 형성됨으로써, 그리드의 유효 초점 길이가 변경된다.
특히, 그리드 구조는 그리드의 유효 초점 길이를 변경하기 위하여 적어도 하나의 축을 따라서 구부러짐 가능한 강성의 가요성 그리드를 형성하도록 열가소성 물질로 사출 성형 및 제조된다. 사출 성형된 크로스 그리드(injection moldedcross grid)는 X선 이미지 콘트라스트를 더 개선하기 위해 제2 축을 따라서 구부러질 수 있다. 열가소성 물질로 그리드를 사출 성형함으로써, 알려져 있는 산란 방지용 그리드의 노동 집약적인 제조 기술이 방지될 수 있고, 수많은 산란 방지용 그리드가 신속하고 저렴하게 제조될 수 있을 것이다.
또한, 사출 성형에 있어서 공간 사이를 차지하는 물질은 종래의 산란 방지용 그리드에서 사용되는 섬유와 같으며 저밀도의 물질보다는 오히려 공기가 사용될 수 있도록 허용된다. 섬유와 같은 물질이 X선의 측정 가능한 부분을 흡수하기 때문에, 섬유와 같은 물질을 제거함으로써, X선 검출기에 도달하는 방사선 에너지는 증가된다. 그 결과로써, 고화질의 이미지가 주어진 방사선량에 따라서 실현될 수 있거나, 역으로, 방사선량은 감소될 수 있는 반면 알려져 있는 산란 방지용 그리드에 필적할 만한 높은 콘트라스트의 이미지를 계속 달성할 수 있다.
그러므로, 알려져 있는 산란 방지용 그리드에 관하여 더 신속하고 쉽게 제조될 수 있는 보다 다각적인 산란 방지용 그리드가 제공됨으로써, 산란 방지용 그리드의 제조 비용은 절감된다.
도 1은 제1 구성에 있어서 방사선 사진 이미지 형성 장치를 도시하는 개략도.
도 2는 예시적인 1차원의 산란 방지용 그리드의 사시도.
도 3은 예시적인 2차원의 포커스된 그리드의 일부를 도시하는 사시도.
도 4는 제2 구성에 있어서 도 1에 도시된 방사선 사진 이미지 시스템을 도시하는 개략도.
<도면의 주요 부분에 대한 부호 설명>
12 : X선 소스
22 : X선 흡수성 부재
14: 대상물
30 : 프레임워크
18 : 감광성 필름
32, 56 : X선 흡수성 시트
20, 50, 60 : 산란 방지용 그리드
40, 42 : 크로스 부재
44 : 사이 공간부
도 1은 X 방사선 또는 X선을 발생하여 대상물(14)쪽으로 방출하는 X선관과 같은 X선 소스(12)를 구비하는 방사선 사진 이미지 형성 장치(10)의 개략도이다. X선의 일부분은 대상물(14)에 의해 차동적으로 흡수되고, X선의 일부가 대상물(14)을 통과하여, 주된 방사선 또는 직달 방사선으로서 경로(16)를 따라 이동한다. X선의 다른 부분도 대상물(14)을 계속 통과하여 산란된 방사선으로서 경로(16)를 벗어난다. 직달로 산란된 X선은 감광성 필름(18)쪽으로 이동하고, 필름(18) 중 노출 부분은 방사선 또는 X선 이미지를 생성한다. 다른 실시예에 있어서, 이미지 형성 장치(10)는 감광성 필름(18) 대신에 디지털 검출기를 사용하는 디지털 시스템을 갖는다. X선 이미지 콘트라스트를 증가시키기 위해서, 방사선 사진 이미지 형성 장치(10)는 산란 방지용 그리드(20)를 갖는다.
첫번째 실시예에 있어서, 산란 방지용 그리드(20)는 기하학적 모형으로 배열되어 즉, X선 소스(12)로부터 발산하는 직접 방식의 X선 빔에 대략적으로 평행하도록 배열되어 포커스되는 복수의 X선 흡수성 부재(22)를 구비하는 포커스된 그리드이다. 그러므로, 산란된 방사선 즉 X선 소스(12)에 의해 생성되는 X선 본래의 경로와는 상이한 각도로 X선 산란 방지용 그리드(20)에 도달하는 방사선은 X선 흡수성 부재(22)에 충돌하고, 산란된 방사선은 실질적으로 흡수되어 감광성 필름(18)에 도달하는 것이 방지된다. 직달 방사선은 선명한 방사선 이미지를 생성하도록 감광성 필름(18)을 노출시키기 위하여 X선 흡수성 부재(22) 사이의 산란 방지용 그리드(20)를 통과한다.
도 2는 강화 열가소성 물질로 제조되어, X선 흡수성 부재(22)의 전체 프레임워크(30)내에서 사출 성형되는 예시적인 포커스된 산란 방지용 그리드(20)의 사시도이다. 일반적으로, 복수의 X선 흡수성 물질의 플랫 시트[32: flat sheet]는 산란 방지용 그리드(20)의 세로축(34)에 평행하게 배열되지만, 일반적으로 그리드(20)의 세로 크기에 따라서 포커스된 기학학적인 그리드(20)가 형성되도록 다른 시트에 대하여 기울어진다. 각 X선 흡수성 시트(32)는 제1 크로스 부재(40) 및 이 제1 크로스 부재(40)와 실질적으로 평행한 제2 크로스 부재(42)에 의해 각 시트(32)의 각 상부 테두리(36)와 하부 테두리(38)에서 접속된다. 프레임워크의 크로스 부재(40, 42)는 흡수성 시트(32)를 다른 시트에 관하여 적절한 위치로 유지시켜, X선 절차의 처리를 위해 산란 방지용 그리드(20)를 강화시키거나 굳게 한다. 프레임워크의 크로스 부재(40, 42)는 본질적으로 X선을 투과할 수 있다. 복수의 사이 공간부(44)는 X선 흡수성 시트(32)의 사이에서 형성되고, 각 사이 공간부(44)는 X선을 투과할 수 있는 공간부 물질(즉, X선 방사선을 실질적으로 흡수하지 않음)을 수신함으로써, 직달 방사선은 실질적으로 방해되지 않는 사이 공간부(44)를 통하여 이동한다. X선 산란 방지용 프레임워크(30)의 전체 성형은 종래의 섬유와 공간 사이를 차지하는 물질을 구조적으로 불필요하게 하여, 첫번째 실시예에 있어서 공간 사이를 차지하는 물질은 공기가 된다. 별도의 실시예에 있어서, 종래의 기술에서 알려진 섬유와 같은 공간 사이를 채우는 물질은 X선 흡수성 시트(32) 사이에 배열되어, 어셈블리가 완결되는 경우, 프레임워크의 크로스 부재(40, 42)가 제거될 수 있을 것이다.
첫번째 실시예에 있어서, X선 산란 방지용 그리드(20)는 X선 흡수를 위한 고밀도 입자로 채워지고, 또한 X선 응용에 적절하고 종래의 기술을 사용하는 사출 또는 압축 성형(compression molding)에 적합한 충분히 높은 수율의 강도를 갖는 강화 열가소성 물질로 성형된 사출이다. 열가소성 물질의 적재에 사용하기 적절한 고밀도 입자는 종래의 기술에서 알려진 바와 같이 예를 들어 납을 포함하지만, 구리, 텅스텐등의 무독성 물질 및 그 유사물들이 독성 유출을 방지하도록 적절하게 선택될 수 있다.
예를 들어, 이러한 적절한 열가소성 물질 중 하나는 조지아주 노크로스의 M.A. 한나 엔진니어드 매트리얼(Hannah Engineered Material)에서 상업적으로 이용 가능한 ECOMASSTM화합물이다. ECOMASSTM은, 종래에 납보다 더 큰 수율의 강도를 갖는 X선 흡수성 시트를 제조하는데 사용되었지만, 납과 동일한 밀도를 갖도록 고안될 수 있는 텅스텐과 열가소성 물질의 혼합물이다. 따라서, ECOMASSTM으로 제조되는 산란 방지용 그리드(20)의 높은 수율의 강도는 종래의 산란 방지용 그리드 물질보다 더 조직적으로 여기질 뿐 아니라 아래에 기술되는 바와 같이, 세로축(34)과 같은 하나 이상의 그리드축을 따라서 휘어지거나 구부러질 수 있다.
게다가, 산란 방지용 그리드(20)를 사출 성형함으로써, 종래의 기술의 장황한 제조 처리 과정이 방지될 수 있고, 산란 방지용 그리드(20)는 종래의 포커스된 그리드보다 더 신속하고 더 확실하게 제조될 수 있을 것이다.
도 3은 축(52, 54)에 대하여 평행한 형태로 배열되지만, 2차원 포커스된 그리드(50)를 형성하기 위해서 다른 시트에 관하여 기울어지는 X선 흡수성 시트(56)를 따르는 두 개의 실질적인 수직축(52, 54)을 구비하는 산란 방지용 그리드(50)의 다른 실시예의 부분적 사시도이다. 다시 말해서, 산란 방지용 그리드(50)는 두 방향으로 포커스된다. 따라서, 포커스된 메시형은 X선 흡수성 시트(56) 사이의 공간 사이부(58)를 정의하도록 생성된다. X선을 투과하는, 즉 X선 방사선을 실질적으로 흡수하지 않는 공간부 물질은 사이 공간부(58)에서 수신되어, 실질적으로 방해되지 않는 사이 공간부(58)를 통하여 이동한다. X선 흡수성 시트(56)의 전체 성형은 종래의 섬유와 같은 공간 사이를 차지하는 물질을 구조적으로 불필요하게 하여, 첫번째 실시예에 있어서, 공간 사이를 차지하는 물질은 공기가 된다. 별도의 실시예에 있어서, 종래의 기술에서 알려져 있는 섬유와 같은 공간 사이를 차지하는 물질은 X선 흡수성 시트(56) 사이에서 배열된다.
산란 방지용 그리드(50)는 X선 흡수성 부재 또는 시트(56)의 프레임워크내에서 ECOMASSTM과 같은 사출 성형된 강화 열가소성 물질로 통합적 제조된다. 종래의 장치 및 종래의 기술을 사용함으로써, 고밀도, 고수율의 강도를 갖는 메시형 프레임워크는 포커스된 크로스 그리드내에서 형성되어 종래의 크로스 그리드의 제조 문제를 제거한다.
수율의 강도가 강화 열가소성 물질에 의해서 증가될 수 있기 때문에, 하나 이상의 방향으로 그리드(50)의 초점 길이를 조정하고 변경하기 위해, 산란 방지용 그리드(50)는 하나 또는 둘다의 축(52, 54)에 대하여 휘게 하고 구부릴 수 있을 것이다. 예를 들면, 양쪽 축(52, 54)에 대하여 그리드(50)를 실질적으로 동일한 크기로 구부림으로써, 실질적인 구형(spherical) 초점 그리드가 형성될 수 있고 확실한 X선 절차를 위해 사용될 수 있다. 상이한 절차를 수용하기 위해서, 그리드(50)는 반대 형태로 구부러질 수 있고, 그리드의 이전의 형태로 되돌려질 수 있을 것이다. 따라서, 산란 방지용 그리드 구성의 일시적인 광범위한 변화가 다수의 X선 절차를 수용하는 단일 그리드(50)로 실현될 수 있을 것이다. 그리드가 다른 여러 방향보다 한 방향으로 쉽게 구부려지도록 허용하거나, 소망하는 초점 길이의 취득을 용이하게 하여 다른 방향 이외의 주어진 방향으로 구부러지는 것을 방지하도록 미리 결정된 축을 따라 상이한 강성률(stiffness)을 갖고 형성될 수 있음이 주목된다.
도 4는 이미지 형성 장치(10)의 초점 길이를 조정하기 위해서, 그리드(20)(도 2에 도시됨)와 같은 1차원 포커스된 산란 방지용 그리드이거나 그리드(50)(도 3에 도시됨)와 같은 2차원 포커스된 산란 방지용 그리드일 수 있는 구부러진 산란 방지용 그리드(60)를 갖는 방사선 이미지 형성 장치(10)를 도시한다. 산란 방지용 그리드(60)가 구부러지는 경우, 흡수성 시트 및 공간 사이를 차지하는 물질의 방향이 변경되고, 이에 따라 그리드(60)의 유효 초점 길이가 상이한 X선 절차의 상이한 필요 조건을 수용하도록 변경된다.
따라서, 종래의 포커스된 산란 방지용 그리드와 달리, 비용 효과가 쉽게 만들어지고 강해진 산란 방지용 그리드가 무독성 물질을 사용하여 제공된다. 섬유와 같은 공간 사이를 차지하는 물질을 제거하여 방사선 이미지의 콘트라스트를 증가시키고, 강화 열가소성 물질의 수율의 강도를 높여 두 개 이상의 일시적인 위치 사이에서 구부러짐 가능한 보다 다각적인 그리드가 X선 절차의 다양성을 수용하도록 허용한다. X선의 측정 가능한 부분을 흡수하는 종래의 섬유와 같은 공간 사이를 차지하는 물질을 제거함으로 인하여, 높아진 화질의 이미지가 주어진 방사선량에 따라 실현되거나, 반대로 방사선량은 감소될 수 있는 반면, 알려져 있는 산란 방지용 그리드에 필적할 만한 높은 콘트라스트 이미지를 계속 달성할 수 있다.
본 발명은 다양한 특정 실시예에 의해서 서술되었지만, 당업자들은 본 발명이 청구 범위의 취지 및 범위내에서 변형되어 실행될 수 있음을 인정할 것이다.
본 발명은 종래의 산란 방지용 그리드에 비해 신속하고 쉽게 제조될 수 있는 산란 방지용 그리드를 제공할 뿐만 아니라, 초점 길이의 변경이 가능한 가변 초점 길이를 가짐으로써 이미지 콘트라스트를 개선한다.

Claims (17)

  1. 가변 초점 길이의 X선 산란 방지용 그리드에 있어서,
    서로에 대해서 기하학적으로 배열되어 산란된 방사선을 흡수하는 복수의 가요성 방사선 흡수성 부재(22)와;
    상기 방사선 흡수성 부재 사이의 공간 사이를 차지하는 물질을 포함하는 X선 산란 방지용 그리드(20).
  2. 제1항에 있어서, 상기 복수의 방사선 흡수성 부재(22)가 일체형으로 형성되는 것인 X선 산란 방지용 그리드(20).
  3. 제2항에 있어서, 상기 복수의 방사선 흡수성 부재(22)가 사출 성형된 것인 X선 산란 방지용 그리드(20).
  4. 제1항에 있어서, 상기 X선 산란 방지용 그리드는 적어도 하나의 축(34)을 따라서 구부러지도록 구성되어, 상이한 X선 절차를 수용하도록 상기 X선 산란 방지용 그리드의 유효 초점 길이의 일시적 조정을 가능하게 하는 것인 X선 산란 방지용 그리드(20).
  5. 제4항에 있어서, 상기 X선 산란 방지용 그리드는 제2 축(52)을 따라서 구부러지도록 구성되는 것인 X선 산란 방지용 그리드(50).
  6. 제1항에 있어서, 상기 방사선 흡수성 부재(22)는 적재된 열가소성 물질의 혼합물로부터 제조되는 것인 X선 산란 방지용 그리드(20).
  7. 제1항에 있어서, 상기 공간 사이를 차지하는 물질이 공기인 것인 X선 산란 방지용 그리드(20).
  8. 제1항에 있어서, 상기 방사선 흡수성 부재(22)는 X선 소스(12)를 수렴시키기 위해 포커스되는 것인 X선 산란 방지용 그리드(20).
  9. 복수의 공간부(44)를 정의하는 일체형으로 형성된 기하학적 그리드 구조체(30)와;
    상기 공간부에 위치되어 그 공간 사이를 차지하는 물질을 포함하며,
    X선 산란 방지용 그리드(20) 및 상기 공간 사이를 차지하는 물질은 적어도 하나의 축(34)을 따라서 구부러지도록 구성됨으로써, X선 산란 방지용 그리드(20)의 유효 초점 길이의 일시적 조정이 상이한 X선 절차를 수용하도록 허용하게 하는 것인 X선 산란 방지용 그리드(20).
  10. 제9항에 있어서, 상기 그리드 구조체(30)가 사출 성형된 것인 X선 산란 방지용 그리드(20).
  11. 제9항에 있어서, 상기 그리드 구조체(30)는 적재된 열가소성 물질로 제조되는 것인 X선 산란 방지용 그리드(20).
  12. 제11항에 있어서, 상기 열가소성 물질은 텅스텐과 열가소성 물질의 혼합물인 것인 X선 산란 방지용 그리드(20).
  13. 제9항에 있어서, 상기 공간을 차지하는 물질은 공기인 것인 X선 산란 방지용 그리드(20).
  14. 제9항에 있어서, 상기 그리드 구조체는 크로스 그리드(cross grid)를 포함하는 것인 X선 산란 방지용 그리드(50).
  15. 제14항에 있어서, 상기 X선 산란 방지용 그리드 및 상기 공간 사이를 차지하는 물질은 적어도 제2 축(52)을 따라서 구부러지도록 구성되는 것인 X선 산란 방지용 그리드(50).
  16. 복수의 공간부(44)를 정의하는 일체형으로 형성된 기하학적 그리드 구조체(30)와 상기 공간부에 위치되는 공간 사이를 차지하는 물질을 포함하고, 제1X선 절차를 위한 제1 초점 길이에서 적어도 하나의 축(34)을 따라서 포커스되며, 직달 X선을 방출하는 X선 소스(12)와 함께 사용되는 가변 길이의 X선 산란 방지용 그리드(20)를 사용하여 X선 이미지의 콘트라스트를 개선하는 방법에 있어서,
    제2 X선 절차에 사용하기 위한 제2 초점 길이를 선택하는 단계와;
    상기 제2 초점 길이를 얻을 때까지 상기 적어도 하나의 축을 따라서 상기 X선 산란 방지용 그리드를 구부리는 단계와;
    상기 X선 산란 방지용 그리드가 상기 X선 소스의 상기 직달 광선에 부합하지 않는 방사선을 흡수하도록, 상기 제2 초점 길이에서 상기 X선 소스와 X선 검출기 사이에 상기 산란 방지용 그리드를 위치시키는 단계를 포함하는 X선 이미지 콘트라스트 개선 방법.
  17. 제16항에 있어서, 상기 X선 산란 방지용 그리드(50) 및 상기 공간 사이를 차지하는 물질은 제2 축(52)을 따라서 구부러지도록 구성되고, 상기 X선 이미지 콘트라스트 개선 방법은 상기 제2 축을 따라서 상기 산란 방지용 그리드를 구부려 구형 그리드를 실질적으로 형성하는 단계를 더 포함하는 것인 X선 이미지 콘트라스트 개선 방법.
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