TW513729B - X-ray anti-scatter grid - Google Patents
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Description
513729 A7 B7 五、發明説明(1 ) 發明背景 本發明通常係關於診斷的X光線照相術,而更特定言之 ,是改善X-射線影像對比的X-射線反散射柵。 在醫學診斷的X光線照相過程期間,X-射線係從χ·射線源 指向物體。當使用X-射線來產生物體的影像時,一部份库昌 射,亦即直接輻射,從X·射線源直接穿過無阻礙的物體, 並落fx-射線偵測器上,以於感光底片或其他適當的偵測 器上,產生一 X-射線影像。有些直接輻射由物體不同地吸 收’而在底片或偵測器上的產生物體的陰影。一部份的輻 射被散射,並且以一明顯偏離其原來X·射線源路徑的角度 ,抵達X-射線偵測器。此一散射的輻射導致一 r遮蔽物 (veil)」疊加於吸收的影像上,因此減少了 χ光線照相影像 的對比。為了抵銷由於散射之輻射所減少的對比,通常增 加對物體輻射曝光的數量。如果散射的輻射減少或消除, 則影像的對比便可加強,對物體(或病人)的劑量便可減少 ,或是兩者皆可達到。 輻射散射可以藉由使用χ·射線來減少。反散射柵通常以 X-射線吸收材料的薄片製造,並配置成一幾何圖案以吸收 散射的輻射,以及一介於吸收薄片之間,不吸收、似纖維 的襯墊材料,其允許直接輻射穿過反散射柵。在一類稱為 焦柵的反散射柵中,吸收薄片被配置成大致與從X-射線 源务出<直接Χ_射、線束平行。在稱為聚焦t叉概之反散射 ,^進纟類型中,吸收薄片被配置成網線,並沿著兩條 實質上垂直的軸聚焦。此一交叉光柵是在二維中聚焦,並 五、發明説明(2 ) 且要求反散射柵對X-射線源的精確定位。聚焦栅的焦距通 常是固定的,而X-射線源與反散射柵的相對位置必須保持 固定以達到可接受的X光線照相結果。理想是提供一可變 焦距光柵,使建立X-射線程序的方面更加靈活。 聚焦的反散射柵通常以接合、堆疊、吸收材料的交互層 ,以及襯墊材料製造,並將其熱壓焊在一起。在組合期間 ,排列*此一光柵元件,以獲得所需的聚焦。或者是,在聚 焦圖案中X-射線透明的材料裡,形成很細的狹縫,而且此 一狹縫充滿X-射線透明材料,以形成一聚焦柵。舉例來說 ,參見美國專利第5,557,65〇與5,581,592。在另一製造技 術中,使用光阻與化學蝕刻技術來製造稍微不一樣、似格 線圖案的吸收材料層。堆疊這些層,並適當地熱壓焊以形 成聚焦交叉柵。舉例來說,參見美國專利第5,6〇6,589與 5,814,235。可是,以上各個製造方法是複雜與冗長的,而 且通常在光拇品質中引起大的變化。 因此,理想是提供一聚焦的反散射柵,相較於已知之 射線柵,其可以更快速與容易地製造。此外,也希望提供 一具有可調,或可變之焦距的反散射柵。 發明概要 在本發明之可仿效具體實施射,一種χ射線反散射柵 包含一一體成形、定義複數個空隙的幾何光柵結構。空隙 材料係位於間隔中,並配置光柵結構與空隙材料以沿著至 V 個轴彎曲’因而改變光栅的有效焦距。 更特足言之,此一光柵結構是射入成形的,並以熱塑性 513729 A7 B7
五、發明説明(3 物貝製造以形成堅硬但具撓性的光栅,其可沿著至少一個 軸彎曲,以改變光柵的有效焦距。射入成形的交叉光柵可 以沿著第二個軸彎曲以進一步改善χ·射線影像對比。藉由 將光拇從熱塑性物質射入成形,可以避免已知反散射柵的 勞力被集製造技術,而且數以百計的反散射栅可以快速與 廉價地製造。 裝 而且射入成形允許使用空氣作為空隙材料,而非傳統反 散射栅中使用之似纖維、低密度的材料。因為似纖維的材 料吸收可觀部分的X-射線,藉由消除似纖維材料,到達 射線偵測器的輕射能便增加。因而,使用給定的輕射劑量 便貫現較高品質的影像,或是相反地,可以減少輻射劑量 ,同時仍可達到一相當於已知反散射柵的高對比影像。 因此,提供更多用途的反散射柵,其相對於已知反散射 栅’可更快速且容易地製造,因而減少反散射柵的製造成 本0 圖式簡單說明 線 圖1是一張第一種組態之Χ_射線照相影像的配置概圖; 圖2是一張一維反散射柵實例的透視圖; 圖3是一張二維聚焦柵實例的部分透視圖;及 圖4是一張圖1所顯示、第二種組態之χ_射線照相成像系 統的概圖。 發明詳細說明 圖1是一張X-射線照相成像配置10的概圖,其中包括一 X-射線源12,如X-射線管,其產生並發射X-輻射,或χ_射線 —- __ _ 6 _ 本紙張尺度適财g 8家標準(CNS) Α4細21〇χ 297么巧 513729 A7 B7 五、發明説明(4 ) 吸收,而一部 而成為原始, 體14 ,並自路 線行進到感光 ’或X-射線影 一數位系統, 為了增加X-射 一反散射柵20 ’到物體14。一部份X-射線由物體14不同地 份X·射線則芽透物體14並沿著路徑進行, 或直接輪射。還有另一部份的χ_射線穿過物 徑16偏斜而成散射輻射。直接與散射的χ-射 底片18 ’而底片18的曝光產生一 χ_射線照相 像。在另一具體實施例中,成像配置1〇包括 而在感光底片18的處所,使用數位偵測器。 線影像的對比’ X-射線照相成像配置含有 在一具體實施例中,反散射栅20是一聚焦柵,含有複數 個X-射線吸收部分22,並排列成聚焦的幾何圖案,亦即配 置成約略平行於從X-射線源12發出的直接χ_射線束。因此 散射的輻射,或以不同於由χ_射線源12所產生之原來路徑 的角度,.達到X-射線反散射栅2〇的輻射,撞擊射線吸收 邵分22,而且散射的輻射實質上被吸收而避免抵達感光底 片18。直接輻射穿過介於χ·射線吸收部分22的反散射柵2〇 ,並使感光底片18曝光,以產生清楚的射線照相影像。 圖2是可仿效之聚焦反散射柵2〇的透視圖,此一聚焦反散 射柵20細以工程用熱塑性物質射入成形,製造成1射線吸 收部分22的一體成形結構3〇。通常將複數個χ_射線吸收材 料的平坦薄片32配置成與反散射柵2〇的縱軸34平行,但通 苇疋彼此傾斜的,以沿著光栅2〇的縱軸維度,形成聚焦的 幾何光柵20。每個Χ·射線吸收薄片32,由第一個交叉部分 40與貫質上平行於第一個交叉部分4〇的第二個交叉部分42 297公釐) 中國國家標硕 513729 A7 B7 五、發明説明(5 ) ,連接於每個薄片32之各自的頂端邊緣36與底端邊緣38。 結構交叉部分40、42保持吸收薄片32於彼此相對的適當位 置,並且為X-射線程序期間的處理,加強或僵化反散射柵 20。結構交叉部分40、42本質上是X-射線可穿透的。複數 個空隙44於X-射線吸收薄片32之間形成,而且每個空隙44 接收X-射線可穿透的襯墊材料,亦即實質上X-射線不吸收 的,如此使直接輻射行進穿過空隙44是實質上無阻礙的。 一體成形之X-射線反散射結構30反映出傳統似纖維的空隙 材料結構上是不需要的,如此使一具體實施例中的空隙材 料是空氣。在另一具體實施例中,習知之似纖維的空隙材 料,被配置於X-射線吸收薄片32之間,而當組合完成時, 則可能移除結構交叉部分40、42。 在一具體實施例中,X-射線反散射栅20從一工程用熱塑 性材料射入成形,此一熱塑性材料填充X-射線吸收的高密 度粒子,還具有足夠高、適合X-射線運用的生產強度,以 及適合使用傳統設備做射入或擠壓成形。習知之適合使用 來填充熱塑性材料的高密度粒子,舉例來說,包括鉛,但 無無毒的其他選擇,如銅、鎢等等也可以適當地選擇以避 免毒性流出。 一種此一適當的熱塑性材料_是,舉例來說,可從喬治亞 州,諾克斯的M.A.漢娜(Hannah)工程用材料購得 ECOMASStmK合物。EC〇MASStm是鎢-熱塑性物質混合物, 可以程式以獲得與傳統上用來製造X-射線吸收薄片的鉛相 同的密度,但具有比鉛更高的出產強度。因此,以 _____- 8 -__ 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) 513729 A7 B7 五、發明説明(6 ) £(:0以八33^製造之反散射栅20的較高生產強度,如下文進 一步敘述,其不只是在結構上比傳統反散射柵材料更可靠 ,而且沿著一個或更多光柵軸,如縱軸34,是柔軟或撓性 的。 此外,藉由射入成形反散射柵20,可以避免傳統技術中 冗長的製造過程,而且可以比傳統聚焦柵,更快速與更可 靠地製造反散射柵20。 圖3是反散射栅50之另一具體實施例的部分透視圖,包括 兩個沿著實質上垂直的軸52、54,而X-射線吸收薄片56對 軸52、54配置成平行的形式.,但兩軸彼此傾斜以形成一二 維的聚焦栅50。換句話說,反散射柵50係聚焦於兩個方向 。因此,在X-射線吸收薄片56之間,產生定義空隙58的聚 焦網線。一 X-射線可穿透的襯墊材料,亦即實質上是X-射 線輻射非吸收的,被納入空隙58中,如此使輻射行經空隙 58是實質上無阻礙的。一體成形的X-射線吸收薄片56反映 傳統似纖維的空隙材料是結構上不需要的,因此在一具體 實施例中,空隙材料是空氣。在另一具體實施例中,習知 之似纖維的空隙材料配置於X-射線吸收薄片56之間。 反散射柵50係將工程用熱塑性物質,如ECOMASS™射入 成形到X-射線吸收部分或薄片_56的結構裡,來整體地製造 的。使用傳統設備與傳統技術,便可將一高密度、高生產 強度網線結構形成於聚焦交叉栅,同時消除傳統交叉柵的 生產風險。 因為工程用熱塑性材料所提供之增加的生產強度,反散 -9 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 裝 玎 線 丄J /々 A7 -------- B7 五、發明説明(7 ) 射柵50是柔軟的,而且可以沿著一個或兩個軸”、%彎曲 ,以於一個或更多方向上,調整或改變光栅5〇的焦距。舉 例來巩’藉由沿著兩軸52、54以一實質上等量彎曲光柵5〇 、便开y成Μ貝上球狀的聚焦栅,並可用於某些χ_射線程 序。為了適應不同的程序,光柵讥可以相反的方式彎曲並 回士原來的形式。因此,-寬廣的暫時性反散射柵組態便 万;單一光柵50中實現,可適應大量的χ射線程序。希望光 拇可以沿著預定的軸,形成不同的硬度,以允許在一方向 上比另一方向容易彎曲,或者是在給定方向上禁止彎曲, 但允許在其他方向上彎曲,以幫助所需焦距的獲取。 圖4說明X-射線照相成像配置1〇,其中含有一彎曲之反散 射柵60,以調整成像配置1〇的焦距,而此一反散射栅⑼可 以疋一維的聚焦反散射柵,如光栅2〇(圖2所示),或是二維 的聚焦反散射柵,如光栅50(圖3所示)。當反散射柵6〇是彎 曲的時候,吸收薄片與空隙材料的方向便被改變,而且從 此改變光柵60的有效焦距,以適應不同χ·射線程序的不同 需求。 因此,不像傳統的聚焦反散射柵,本發明使用不具毒性 的材料,提供一開銷能收效、容易製造與更強勁的反散射 栅。似纖維之空隙材料的消除增加χ_射線照相影像的對比 ’而南生產強度的工程用熱塑性物質則允許一多用途的光 拇’能夠在兩個或更多中間位置彎曲,以適應各種χ射線 程序。由於吸收適當X-射線之傳統似纖維空隙材料的消除 ,一含給定輻射劑量之高品質的影像便實現,或視相反地 中國@家標準(CNS) Α4規格(210 X 297公爱) -- 裝 玎 線 513729 A7 B7 五、發明説明(8 ) ,輻射劑量可以減少,同時仍可達到與已知反散射柵相當 的高對比影像。 雖然已經用各種特定具體實施例敘述本發明,熟諳此藝 之士將了解,本發明可以專利申請範圍精神與範圍内的修 改來實踐。 __-11- 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐)
Claims (1)
- Λ 8申請專利範圍 ,ν汶: 種可,交焦距的χ·射線反散射栅(滅%包括: 衩數個柔軟的輻射吸收部分(22) 袁彼此幾何地配置以 吸收散射的輻射;以及 介於孩輻射吸收部分之間的空隙材料。 2.根據申請專利範圍第1項之可變焦距的X-射線反散射柵 (20) ’其中該複數個輻射吸收部分(22)是一體成形的。 根據申清專利範圍第2項之可變焦距的χ_射線反散射栅 (20) ’其中該複數個輻射吸收部分(22)是射入成形的。 •根據申凊專利範圍第1項之可變焦距的X-射線反散射柵 (20) ’其中該光柵是配置成沿著至少一個軸(34)彎曲的 ’因而允許該光柵之有效焦距暫時的調整,以適應不同 的X-射線程序。 5. 根據申請專利範圍第4項之可變焦距的χ_射線反散射柵 (5〇),其中配置該光柵以沿著第二軸(52)彎曲。 6. 根據申請專利範圍第1項之可變焦距的X射線反散射栅 (20) ’其中該輻射吸收部分(22)是用加感(1〇aded)之熱塑 性物質的混合物製造的。 7·根據申請專利範圍第1項之可變焦距的χ射線反散射柵 (20),其中空隙材料是空氣。 8·根據申請專利範圍第1項之可變焦距的射線反散射柵 (20) ’其中該輻射吸收部分(22)是以一 X射線源(12)來聚 焦的。 9· 一種X-射線反散射柵(2〇),其包括: 一體成形的幾何光柵結構(3〇),其定義複數個間隔(44) -12- 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(21〇 χ 297公釐) 裝 玎 線、申請專利範圍 Λ 8 Β8 (\S I)H.:以及 一位於該間隔中的空隙材料,配置該光柵與該空隙材料 ’以沿著至少一個軸(34)彎曲,從而允許該光柵之有效 焦距的暫時的調整,以適應不同的X-射線程序。 1〇·根據申請專利範圍第9項之X·射線反散射栅(20),其中該 光柵結構(3〇)是射入成形的。 Π·根據申請專利範圍第9項之X·射線反散射栅(20),其中該 光栅結構(30)是用加感之熱塑性物質的混合物製造 的。 12·根據申請專利範圍第11項之X-射線反散射柵(2〇),其中 孩熱塑性材料是鎢-熱塑性物質的混合物。 1 3 ·根據申請專利範圍第9項之X-射線反散射柵(2〇),其中气 空隙材料是空氣。 14·根據申請專利範圍第9項之χ_射線反散射柵(5〇),其中該 光拇結構含有一交叉拇。 1 5 ·根據申請專利範圍第14項之X-射線反散射柵(50),其取 配置該光柵與該空隙材料以沿著至少一第二軸(52 )彎 曲。 16· —種用可變焦距之射線反散射柵(2〇)來改善χ·射線影 像對比的方法,其與發射直接Χ-射線的X-射線源(12) 一 起使用,而該X射線反散射柵包括--體成形、定義複 數個間隔(44)的幾何光柵結構(30) ”以及位於間隔之間 的空隙材料,此一 X射線反散射柵,沿著至少一個χ_射 線程序中第一個焦距上的軸(34)彎曲,該方法包括步驟 -13- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Λ4規格(210X297公釐) 513729 A 8 B8 C8 D8 、申請專利範圍 第二X-射線程序中,選擇第二焦距來使用; 沿著至少一個軸彎曲此一反散射柵,直到獲得第二焦距 :以及 將反散射柵放在第二焦距上的X-射線源與X-射線偵測 器之間,如此使反散射柵吸收與X-射線的直接射線不一 致的輻射。 17.根據申請專利範圍第16項之方法,其中配置光柵(50)與 空隙材料以沿著第二個軸(52)彎曲,該方法進一步包括 沿著第二軸彎曲反射柵的步驟,以形成一實質上球狀的 光柵。 -14- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐)
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110960239A (zh) * | 2018-09-28 | 2020-04-07 | 西门子医疗有限公司 | 用于医学x射线成像设备的防散射格栅 |
Families Citing this family (36)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL1016674C2 (nl) * | 2000-11-22 | 2002-05-23 | Hoorn Holland B V | Roosterinrichting voor r÷ntgenapparaat. |
CA2437454A1 (en) * | 2001-02-01 | 2002-08-22 | Creatv Microtech, Inc. | Anti-scatter grids and collimator designs, and their motion, fabrication and assembly |
DE10202987A1 (de) * | 2002-01-26 | 2003-07-31 | Philips Intellectual Property | Gitter zur Absorption von Röntgenstrahlung |
SE524458C2 (sv) * | 2002-03-01 | 2004-08-10 | Mamea Imaging Ab | Skyddsanordning vid en röntgenapparat |
US6993110B2 (en) * | 2002-04-25 | 2006-01-31 | Ge Medical Systems Global Technology Company, Llc | Collimator for imaging systems and methods for making same |
WO2004012207A2 (en) * | 2002-07-26 | 2004-02-05 | Bede Plc | Optical device for high energy radiation |
DE10241424B4 (de) * | 2002-09-06 | 2004-07-29 | Siemens Ag | Streustrahlenraster oder Kollimator sowie Verfahren zur Herstellung |
DE102004014445B4 (de) * | 2004-03-24 | 2006-05-18 | Yxlon International Security Gmbh | Sekundärkollimator für eine Röntgenstreuvorrichtung sowie Röntgenstreuvorrichtung |
CN1973213B (zh) * | 2004-06-25 | 2010-09-29 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 具有散射辐射校正的x射线探测器 |
US7508919B2 (en) * | 2005-05-06 | 2009-03-24 | Young Matthew D | Diagnostic kit, device, and method of using same |
US7796792B2 (en) * | 2005-06-29 | 2010-09-14 | Agfa Healthcare, N.V. | Method of identifying disturbing frequencies originating from the presence of an anti-scatter grid during acquisition of a radiation image |
KR100687654B1 (ko) * | 2005-11-23 | 2007-03-09 | 정원정밀공업 주식회사 | 그리드 일체형 디지털 x선 검출기 모듈 및 그 제조방법 |
US7362849B2 (en) * | 2006-01-04 | 2008-04-22 | General Electric Company | 2D collimator and detector system employing a 2D collimator |
DE102006033497B4 (de) * | 2006-07-19 | 2014-05-22 | Siemens Aktiengesellschaft | Strahlungsdetektor für Röntgen- oder Gammastrahlen und Verfahren zu seiner Herstellung |
US20080037703A1 (en) * | 2006-08-09 | 2008-02-14 | Digimd Corporation | Three dimensional breast imaging |
ATE495529T1 (de) * | 2006-12-04 | 2011-01-15 | Koninkl Philips Electronics Nv | Strahlungsfilter, der die spektrale zusammensetzung der strahlung nicht verändert |
JP2008237631A (ja) * | 2007-03-28 | 2008-10-09 | Fujifilm Corp | 放射線画像撮像装置 |
DE102008055921B4 (de) * | 2008-11-05 | 2010-11-11 | Siemens Aktiengesellschaft | Modulierbarer Strahlenkollimator |
JP5434426B2 (ja) * | 2009-09-18 | 2014-03-05 | 株式会社島津製作所 | 核医学診断装置およびそれに設けられるコリメータの製造方法 |
CN101885111B (zh) * | 2010-06-03 | 2012-07-25 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 球形凹面上投影平行线图形的激光直写方法及其装置 |
KR101042049B1 (ko) * | 2010-06-21 | 2011-06-16 | 주식회사 디알텍 | 전자기식 그리드, 전자기식 그리드 제어 장치 및 이를 이용한 엑스선 장치 |
US9048002B2 (en) * | 2010-10-08 | 2015-06-02 | Turtle Bay Partners, Llc | Three-dimensional focused anti-scatter grid and method for manufacturing thereof |
WO2012048296A1 (en) * | 2010-10-08 | 2012-04-12 | Turtle Bay Partners, Llc | Three-dimensional focused anti-scatter grid and method for manufacturing thereof |
JP2014003988A (ja) * | 2010-10-19 | 2014-01-16 | Fujifilm Corp | 放射線画像撮影用グリッド及びその製造方法、並びに放射線画像撮影システム |
US20120163553A1 (en) * | 2010-12-27 | 2012-06-28 | Analogic Corporation | Three-dimensional metal printing |
WO2014145966A2 (en) * | 2013-03-15 | 2014-09-18 | Turtle Bay Partners, Llc | Practical method for fabricating foam interspaced anti-scatter grid and improved grids |
WO2016014806A1 (en) * | 2014-07-23 | 2016-01-28 | Turtle Bay Partners, Llc | Practical method for fabricating foam interspaced anti-scatter grid and improved grids |
US10062466B2 (en) | 2016-03-31 | 2018-08-28 | General Electric Company | Apparatus, system and method for reducing radiation scatter in an imaging system |
WO2017207734A1 (en) * | 2016-06-02 | 2017-12-07 | Koninklijke Philips N.V. | X-ray imaging apparatus for compact (quasi-)isotropic multi source x-ray imaging |
EP3463091B1 (en) | 2016-08-25 | 2019-10-09 | Koninklijke Philips N.V. | Variable focus x-ray anti scatter device |
DE102017202312B4 (de) * | 2017-02-14 | 2018-10-04 | Siemens Healthcare Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines Röntgen-Streustrahlenrasters |
US11211180B2 (en) | 2017-04-28 | 2021-12-28 | Shanghai United Imaging Healthcare Co., Ltd. | Anti-scatter grid device and method for making the same |
DE102018107969B3 (de) | 2018-04-04 | 2019-06-19 | Leonhardt e. K. | Verfahren zum Herstellen eines Strahlleitrasters |
EP3584803A1 (en) * | 2018-06-20 | 2019-12-25 | Siemens Healthcare GmbH | Method for producing a grid-like beam collimator, grid-like beam collimator, radiation detector and medical imaging device |
EP3632323A1 (en) * | 2018-10-04 | 2020-04-08 | Koninklijke Philips N.V. | Adaptive anti-scatter device |
US11139088B2 (en) | 2019-06-12 | 2021-10-05 | alephFS—Systems for Imaging | Grid for X-ray imaging |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US1164987A (en) * | 1914-02-03 | 1915-12-21 | Siemens Ag | Method of and apparatus for projecting röntgen images. |
US1530937A (en) | 1921-09-03 | 1925-03-24 | Gen Electric | Radioscopic and radiographic apparatus suppressing the effect of secondary rays |
FR1141914A (fr) | 1954-09-30 | 1957-09-11 | Siemens Reiniger Werke Ag | Diaphragmes de rayons x dispersés et procédé pour leur fabrication |
US3919559A (en) * | 1972-08-28 | 1975-11-11 | Minnesota Mining & Mfg | Louvered film for unidirectional light from a point source |
FR2270756B1 (zh) | 1974-05-08 | 1981-07-24 | Philips Massiot Mat Medic | |
NL8800679A (nl) * | 1988-03-18 | 1989-10-16 | Philips Nv | Roentgenonderzoekapparaat met een strooistralenrooster met antivignetterende werking. |
US5291539A (en) * | 1992-10-19 | 1994-03-01 | General Electric Company | Variable focussed X-ray grid |
DE4305475C1 (de) | 1993-02-23 | 1994-09-01 | Siemens Ag | Streustrahlenraster eines Röntgendiagnostikgerätes |
US5418833A (en) | 1993-04-23 | 1995-05-23 | The Regents Of The University Of California | High performance x-ray anti-scatter grid |
US5357553A (en) * | 1994-02-28 | 1994-10-18 | Ferlic Daniel J | Radiographic grid |
US5455849A (en) * | 1994-09-01 | 1995-10-03 | Regents Of The University Of California | Air-core grid for scattered x-ray rejection |
US5581592A (en) | 1995-03-10 | 1996-12-03 | General Electric Company | Anti-scatter X-ray grid device for medical diagnostic radiography |
US5557650A (en) | 1995-03-10 | 1996-09-17 | General Electric Company | Method for fabricating an anti-scatter X-ray grid device for medical diagnostic radiography |
US5606589A (en) | 1995-05-09 | 1997-02-25 | Thermo Trex Corporation | Air cross grids for mammography and methods for their manufacture and use |
US5949850A (en) * | 1997-06-19 | 1999-09-07 | Creatv Microtech, Inc. | Method and apparatus for making large area two-dimensional grids |
US6091795A (en) * | 1997-10-10 | 2000-07-18 | Analogic Corporation | Area detector array for computer tomography scanning system |
US6177237B1 (en) | 1998-06-26 | 2001-01-23 | General Electric Company | High resolution anti-scatter x-ray grid and laser fabrication method |
US6269176B1 (en) | 1998-12-21 | 2001-07-31 | Eastman Kodak Company | Method for x-ray antiscatter grid detection and suppression in digital radiography |
JP2000217813A (ja) | 1999-01-27 | 2000-08-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | 散乱線除去グリッド、グリッド装置、および散乱線除去グリッドの製造方法 |
US6222904B1 (en) | 1999-07-22 | 2001-04-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Stereo x-ray anti-scatter grid |
-
2000
- 2000-08-24 US US09/645,756 patent/US6470072B1/en not_active Expired - Fee Related
-
2001
- 2001-08-07 EP EP01306752A patent/EP1182671B1/en not_active Expired - Lifetime
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110960239A (zh) * | 2018-09-28 | 2020-04-07 | 西门子医疗有限公司 | 用于医学x射线成像设备的防散射格栅 |
CN110960239B (zh) * | 2018-09-28 | 2024-03-29 | 西门子医疗有限公司 | 用于医学x射线成像设备的防散射格栅 |
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