KR20020000105A - 중합체 조성물 - Google Patents

중합체 조성물 Download PDF

Info

Publication number
KR20020000105A
KR20020000105A KR1020010028851A KR20010028851A KR20020000105A KR 20020000105 A KR20020000105 A KR 20020000105A KR 1020010028851 A KR1020010028851 A KR 1020010028851A KR 20010028851 A KR20010028851 A KR 20010028851A KR 20020000105 A KR20020000105 A KR 20020000105A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
tert
butyl
formula
compound
bis
Prior art date
Application number
KR1020010028851A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100772348B1 (ko
Inventor
후쿠다가나코
Original Assignee
고오사이 아끼오
스미또모 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 고오사이 아끼오, 스미또모 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 filed Critical 고오사이 아끼오
Publication of KR20020000105A publication Critical patent/KR20020000105A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100772348B1 publication Critical patent/KR100772348B1/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L53/00—Compositions of block copolymers containing at least one sequence of a polymer obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Compositions of derivatives of such polymers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/04—Oxygen-containing compounds
    • C08K5/10—Esters; Ether-esters
    • C08K5/101—Esters; Ether-esters of monocarboxylic acids
    • C08K5/105—Esters; Ether-esters of monocarboxylic acids with phenols
    • C08K5/107—Esters; Ether-esters of monocarboxylic acids with phenols with polyphenols
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F291/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to macromolecular compounds according to more than one of the groups C08F251/00 - C08F289/00

Abstract

본 발명은 중합체, 화학식 1의 비스페놀 모노에스테르 및 화학식 2의 비스페놀 디에스테르를 포함하며, 화학식 2의 화합물의 양이 화학식 1 및 2의 화합물 총량 100중량부를 기준으로 하여 0.001 내지 5중량부인, 만족스러운 가공 안정성을 갖는 중합체 조성물에 관한 것이다.
화학식 1
화학식 2
위의 화학식 1 및 2에서,
R1은 수소, 알킬 또는 페닐 그룹이고,
R2및 R3은 각각 독립적으로 알킬 그룹이고,
R4및 R5는 각각 독립적으로 수소 또는 메틸 그룹이고,
R6은 수소, 알킬 또는 페닐 그룹이고,
R7및 R8은 각각 독립적으로 알킬 그룹이고,
R9및 R10은 각각 독립적으로 수소 또는 메틸 그룹이다.

Description

중합체 조성물{A polymer composition}
본 발명은 가열하는 경우에도 용이하게 가교 결합되지 않는, 가공 안정성이 개선된 중합체 조성물에 관한 것이다.
디엔으로부터 유도된 단량체 단위를 갖는 중합체, 예를 들면, 스티렌-부타디엔 블럭 공중합체는 가공, 예를 들면, 사출 성형, 압출 및 혼련 동안 가열에 의해 용이하게 가교 결합되는 단점을 갖는다. 그 결과, 중합체는 중합체 쇄 내에 탄소-탄소 이중결합(C=C)을 함유하므로 가공 동안 유동성을 상실한다. 유동성의 저하는 종종 가공 동안 문제점을 야기한다. 예를 들면, 스티렌-부타디엔 블럭 공중합체에서, 탄성, 점도, 내충격성 등을 저하시킬 수 있다.
이러한 가공 안정성 저하를 막기 위해 화학식 1의 비스페놀 모노에스테르[이하, "화합물 (1)"이라 함]를 포함하는 중합체 조성물이 미국 특허 제4,525,514호 등에 공지되어 있다.
위의 화학식 1에서,
R1은 수소, 탄소수 1 내지 5의 알킬 그룹, 또는 페닐 그룹이고,
R2및 R3은 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 9의 알킬 그룹이고,
R4및 R5는 각각 독립적으로 수소 또는 메틸 그룹이다.
중합체의 가교 결합이 억제되는 이러한 중합체 조성물은 만족스러운 가공 안정성을 가지며 가공 동안 보다 적은 문제점을 야기한다.
그러나, 보다 개선된 가공 안정성을 갖는 중합체 조성물을 필요로 한다.
본 발명자들은 보다 개선된 가공 안정성을 갖는 중합체 조성물을 개발하기 위해 집중적으로 연구한 결과, 화합물 (1) 및 특정 비스페놀 디에스테르를 중합체에 혼입시킴으로써 가열 동안 중합체의 가교 결합이 효과적으로 방지되고 또한 가공 안정성이 개선될 수 있음을 발견하여 본 발명을 완성하였다.
본 발명은 중합체, 화합물(1) 및 화학식 2의 비스페놀 디에스테르[이하, "화합물(2)"라 함]를 포함하며, 화합물(2)의 양이, 화합물(1) 및 (2)의 총량 100중량부를 기준으로 하여, 0.001 내지 5중량부인 중합체 조성물을 제공한다.
위의 화학식 2에서,
R6은 수소, 탄소수 1 내지 5의 알킬 그룹, 또는 페닐 그룹이고,
R7및 R8은 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 9의 알킬 그룹이고,
R9및 R10은 각각 독립적으로 수소 또는 메틸 그룹이다.
본 발명의 중합체 조성물의 성분으로서의 중합체는, 예를 들면, 중합체 쇄 내에 탄소-탄소 이중결합(C=C)을 갖는 중합체를 포함한다. 이러한 중합체로서, 예를 들면, 중합 단위 중의 하나로서 디엔 단위, 예를 들면, 부타디엔 중합체로부터 유도된 단위를 갖는 중합체를 언급할 수 있다. 이러한 중합체의 예는 부타디엔 중합체, 예를 들면, 스티렌-부타디엔 블럭 공중합체(SBS), 부타디엔 고무(BR), 스티렌/부타디엔 고무(SBR) 및 고충격 폴리스티렌(HI-PS)를 포함한다. 이들 중합체는통상의 중합 방법, 예를 들면, 유화 중합, 용액 중합, 벌크 중합 및 현탁 중합 방법으로 제조할 수 있다.
화학식 1에서, R1은 수소, 탄소수 1 내지 5의 알킬 그룹, 또는 페닐 그룹이다. 이들 그룹 중에서, 수소 및 탄소수 1 내지 5의 알킬 그룹이 R1으로서 바람직하고, 수소 및 메틸 그룹이 보다 바람직하다.
R2는 탄소수 1 내지 9의 알킬 그룹이다. 바람직하게는, 탄소수 4 내지 8의 알킬 그룹, 보다 바람직하게는 화학식 3의 그룹, 예를 들면, 3급-부틸, 3급-아밀, 3급-옥틸 그룹 등이다.
위의 화학식 3에서,
i, i 및 k는 각각 독립적으로 1 내지 5의 정수이고,
i+j+k는 3 내지 7이다.
화학식 1에서, R3은 탄소수 1 내지 9의 알킬 그룹, 바람직하게는 탄소수 1 내지 6의 알킬 그룹, 보다 바람직하게는 메틸, 에틸, 3급-부틸 및 3급-아밀 그룹이다. 화학식 1에서, R2및 R3은 동일하거나 상이할 수 있다.
화학식 1에서, R4및 R5는 각각 독립적으로 수소 또는 메틸 그룹이고, 동일하거나 상이할 수 있다.
화합물(1)의 예는 다음을 포함한다:
2-3급-부틸-6-(3-3급-부틸-2-하이드록시-5-메틸벤질)-4-메틸페닐 아크릴레이트,
2-3급-부틸-6-(3-3급-부틸-2-하이드록시-5-에틸벤질)-4-에틸페닐 아크릴레이트,
2,4-디-3급-부틸-6-(3,5-디-3급-부틸-2-하이드록시-벤질)페닐 아크릴레이트,
2-3급-부틸-6-[1-(3-3급-부틸-2-하이드록시-5-메틸페닐)에틸]-4-메틸페닐 아크릴레이트,
2-3급-부틸-6-[1-(3-3급-부틸-2-하이드록시-5-에틸페닐)에틸]-4-에틸페닐 아크릴레이트,
2,4-디-3급-부틸-6-[1-(3,5-디-3급-부틸-2-하이드록시페닐)에틸]페닐 아크릴레이트,
2,4-디-3급-아밀-6-[1-(3,5-디-3급-아밀-2-하이드록시페닐)에틸]페닐 아크릴레이트,
2-3급-부틸-6-(3-3급-부틸-2-하이드록시-5-메틸벤질)-4-메틸페닐 메타크릴레이트,
2-3급-부틸-6-[1-(3-3급-부틸-2-하이드록시-5-메틸페닐)에틸]-4-메틸페닐 메타크릴레이트,
2,4-디-3급-부틸-6-(3,5-디-3급-부틸-2-하이드록시-벤질)페닐 메타크릴레이트,
2-3급-부틸-6-[1-(3-3급-부틸-2-하이드록시-5-에틸페닐)에틸]-4-에틸페닐 메타크릴레이트,
2-3급-부틸-6-(3-3급-부틸-2-하이드록시-5-에틸벤질)-4-에틸페닐 메타크릴레이트,
2,4-디-3급-부틸-6-[1-(3,5-디-3급-부틸-2-하이드록시페닐)에틸]페닐 메타크릴레이트,
2,4-디-3급-아밀-6-[1-(3,5-디-3급-아밀-2-하이드록시페닐)에틸]페닐 메타크릴레이트 등.
화합물(1)은 단독으로 사용되거나 2개 이상의 혼합물로서 사용될 수 있다. 화합물(1)은 통상의 방법으로 제조할 수 있다[참조: JP-A 제59-144,733호, JP-A 제63-5,053호 및 JP-A 제4-264,051호 및 USP 제3,984,372호].
화합물(2)는 화학식 2의 화합물이다. 화학식 2에서, R6은 수소, 탄소수 1 내지 5의 알킬 또는 페닐 그룹, 바람직하게는 수소 또는 탄소수 1 내지 5의 알킬 그룹, 보다 바람직하게는 수소 또는 메틸 그룹이다.
화학식 2에서, R7은 탄소수 1 내지 9의 알킬 그룹, 바람직하게는 탄소수 4내지 8의 알킬 그룹, 보다 바람직하게는 화학식 3의 그룹, 예를 들면, 3급-부틸, 3급-아밀 및 3급-옥틸 그룹이다. 화학식 2에서, R8은 탄소수 1 내지 9의 알킬 그룹, 바람직하게는 탄소수 1 내지 6의 알킬 그룹, 보다 바람직하겐는 메틸, 에틸, 3급-부틸 및 3급-아밀 그룹이다. R7및 R8은 동일하거나 상이할 수 있다.
화학식 2에서, R9및 R10은 각각 독립적으로 수소 또는 메틸 그룹이고, 동일하거나 상이할 수 있다.
화합물(2)의 예는 다음을 포함한다:
2,2'-메틸렌비스(6-3급-부틸-4-메틸페닐)디아크릴레이트,
2,2'-메틸렌비스(6-3급-부틸-4-에틸페닐)디아크릴레이트,
2,2'-메틸렌비스(4,6-디-3급-부틸페닐)디아크릴레이트,
2,2'-에틸리덴비스(6-3급-부틸-4-메틸페닐)디아크릴레이트,
2,2'-에틸리덴비스(6-3급-부틸-4-에틸페닐)디아크릴레이트,
2,2'-에틸리덴비스(4,6-디-3급-부틸페닐)디아크릴레이트,
2,2'-에틸리덴비스(4,6-디-3급-아밀페닐)디아크릴레이트,
2,2'-메틸렌비스(6-3급-부틸-4-메틸페닐)디메타크릴레이트,
2,2,2'-메틸렌비스(4,6-디-3급-부틸페닐)디메타크릴레이트,
2,2'-메틸렌비스(6-3급-부틸-4-에틸페닐)디메타크릴레이트,
2,2'-에틸리덴비스(6-3급-부틸-4-메틸페닐)디메타크릴레이트,
2,2'-에틸리덴비스(6-3급-부틸-4-에틸페닐)디메타크릴레이트,
2,2'-에틸리덴비스(4,6-디-3급-부틸페닐)디메타크릴레이트,
2,2'-에틸리덴비스(4,6-디-3급-아밀페닐)디메타크릴레이트 등.
화합물(2)는 단독으로 사용되거나 2개 이상의 혼합물로서 사용될 수 있다. 화합물(2)는 통상의 방법으로 제조할 수 있다[참조: JP-A 제61-27,943호].
화학식 1에서 R1및 화학식 2에서 R6은 동일하거나 상이할 수 있다. R2및 R7은 동일하거나 상이할 수 있다. R3및 R8은 동일하거나 상이할 수 있다. R4및 R9은 동일하거나 상이할 수 있다. R5및 R10은 동일하거나 상이할 수 있다.
본 발명의 중합체 조성물에서, 화합물(2)의 양은, 화합물(1) 및 (2)의 총량 100중량부를 기준으로 하여, 0.001중량부 이상이지만 약 5중량부 이하이다. 화합물(2)의 양이 5중량부를 초과하는 경우, 생성된 중합체 조성물은 가공 안정성이 저하되는 경향이 있다. 바람직하게는 화합물(2)의 양은 화합물(1) 및 (2)의 총량 100중량부를 기준으로 하여 약 2.5중량부 이하이다.
화합물(2)의 양이 0.001중량부 미만인 경우, 화합물(2)의 사용에 의해 달성되는 가공 안정성의 개선이 불충분하다. 바람직하게는, 화합물(2)의 양은 화합물(1) 및 (2)의 총량 100중량부를 기준으로 하여 약 0.008중량부 이상, 보다 바람직하게는 약 0.15중량부 이상이다.
본 발명의 중합체 조성물에서 화합물(1) 및 (2)의 총량은 통상 조성물에서 중합체(들) 100중량부를 기준으로 하여 약 0.01 내지 2중량부, 바람직하게는 약 0.05 내지 1중량부이다. 총량이 0.01중량부 미만인 경우, 목적하는 가공 안정성이몇몇 경우에 충분하게 달성되지 않을 수 있다. 총량이 2중량부를 초과하는 경우, 목적하는 가공 안정성이 보다 개선되지 않아 경제적인 관점에서 유익하지 않다.
본 발명의 중합체 조성물은 첨가제를 추가로 포함할 수 있다. 첨가제의 예는 안정화제, 예를 들면, 페놀 산화방지제, 황 산화방지제, 인 산화방지제, 자외선 흡수제, 광안정화제 및 하이드록실아민, 착색 개질제, 예를 들면, 9,10-디하이드로-옥사-10-포스포펜안트렌-10-옥사이드 등 및 퍼옥사이드 스캐빈저를 포함한다. 중합체 조성물은 수지용 첨가제, 예를 들면, 윤활제, 가소제, 난연제, 핵생성제, 금속 불활성화제, 대전방지제, 안료, 충전제, 안료, 항차단제, 계면활성제, 가공 조제, 발포제, 유화제, 증백제 및 중화제, 예를 들면, 칼슘 스테아레이트 및 하이드로탈사이트를 추가로 포함할 수 있다.
페놀 산화방지제의 예는 다음을 포함한다:
(1) 알킬화 모노페놀의 예는 다음과 같다: 2,6-디-3급-부틸-4-메틸페놀, 2,4,6-트리-3급-부틸페놀, 2,6-디-3급-부틸-4-부틸페놀, 2-3급-부틸-4,6-디메틸페놀, 2,6-디-3급-부틸-4-에틸페놀, 2,6-디-3급-부틸-4-n-부틸페놀, 2,6-디-3급-부틸-4-이소부틸페놀, 2,6-디사이클로펜틸-4-메틸페놀, 2-(α-메틸사이클로헥실)-4,6-디메틸페놀, 2,6-디옥타데실-4-메틸페놀, 2,4,6-트리사이클로헥실페놀, 2,6-디-3급-부틸-4-메톡시메틸페놀, 2,6-디-노닐-4-메틸페놀, 2,4-디메틸-6-(1'-메틸운데실-1'-일)페놀, 2,4-디메틸-6'-(1'-메틸헵타데실-1'-일)페놀, 2,4-디메틸-6-(1'-메틸트리데실-1'-일)페놀 및 이들의 혼합물.
(2) 알킬티오메틸페놀의 예는 다음과 같다: 2,4-디옥틸티오메틸-6-3급-부틸페놀, 2,4-디옥틸티오메틸-6-메틸페놀, 2,4-디옥틸티오메틸-6-에틸페놀, 2,6-디도데실티오메틸-4-노닐페놀 및 이들의 혼합물.
(3) 하이드로퀴논 및 알킬화 하이드로퀴논의 예는 다음과 같다: 2,6-디-3급-부틸-4-메톡시페놀, 2,5-디-3급-부틸하이드로퀴논, 2,5-디-3급-아밀하이드로퀴논, 2,6-디페닐-4-옥타데실옥시페놀, 2,6-디-3급-부틸하이드로퀴논, 2,5-디-3급-부틸-4-하이드록시아니솔, 3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐 스테아레이트, 비스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐)아디페이트 및 이들의 혼합물.
(4) 토코페롤의 예는 다음과 같다: α-토코페롤, β-토코페롤, γ-토코페롤, δ-토코페롤 및 이들의 혼합물.
(5) 하이드록실화 티오디페닐 에테르의 예는 다음과 같다: 2,2'-티오비스(6-3급-부틸페놀), 2,2'-티오비스(4-메틸-6-3급-부틸페놀), 2,2'-티오비스(4-옥틸페놀), 4,4'-티오비스(3-메틸-6-3급-부틸페놀), 4,4'-티오비스(2-메틸-6-3급-부틸페놀), 4,4'-티오비스(3,6-디-3급-아밀페놀) 및 4,4'-(2,6-디메틸-4-하이드록시페닐)디설파이드 등.
(6) 알킬리덴비스페놀 및 이의 유도체의 예는 다음과 같다: 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-3급-부틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(4-에틸-6-3급-부틸페놀), 2,2'-메틸렌비스[4-메틸-6-(α-메틸사이클로헥실)페놀)], 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-사이클로헥실페놀), 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-노닐페놀), 2,2'-메틸렌비스(4,6-디-3급-부틸페놀), 2,2'-에틸리덴비스(4,6-디-3급-부틸페놀), 2,2'-에틸리덴비스(4-이소부틸-6-3급-부틸페놀),2,2'-메틸렌비스[6-(α-메틸벤질)-4-노닐페놀], 2,2'-메틸렌비스[6-(α,α-디메틸벤질)-4-노닐페놀], 4,4'-메틸렌비스(6-3급-부틸-2-메틸페놀), 4,4'-메틸렌비스(2,6-디-3급-부틸페놀), 4,4'-부틸리덴비스(3-메틸-6-3급-부틸페놀), 1,1-비스(4-하이드록시페닐)사이클로헥산, 1,1-비스(5-3급-부틸-4-하이드록시-2-메틸페닐)부탄, 2,6-비스[3-3급-부틸-5-메틸-2-하이드록시벤질)-4-메틸페놀, 1,1,3-트리스(5-3급-부틸-4-하이드록시-2-메틸페닐)부탄, 1,1-비스(5-3급-부틸-4-하이드록시-2-메틸페닐)-3-n-도데실머캅토부탄, 비스[3,3-비스-3'-3급-부틸-4'-하이드록시페닐)부티레이트], 비스(3-3급-부틸-4-하이드록시-5-메틸페닐)디사이클로펜타디엔, 비스[2-(3'-3급-부틸-2'-하이드록시-5'-메틸벤질)-6-3급-부틸-4-메틸페닐]테레프탈레이트, 1,1-비스(3,5-디메틸-2-하이드록시페닐)부탄, 2,2-비스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐)프로판, 2,2-비스(5-3급-부틸-4-하이드록시-2-메틸페닐)-4-n-도데실머캅토부탄, 1,1,5,5-테트라(5-3급-부틸-4-하이드록시-2-메틸페닐)펜탄 및 이들의 혼합물.
(7) O-, N- 및 S-벤질 유도체의 예는 다음과 같다: 3,5,3',5'-테트라-3급-부틸-4,4'-디하이드록시디벤질 에테르, 옥타도데실-4-하이드록시-3,5-디메틸벤질머캅토 아세테이트, 트리스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질)아민, 비스(4-3급-부틸-3-하이드록시-2,6-디메틸벤질)디티오테레프탈레이트, 비스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질)설파이드, 이소옥틸-3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질머캅토 아세테이트 및 이들의 혼합물.
(8) 하이드록시벤질화 말로네이트 유도체의 예는 다음과 같다: 디옥타데실-2,2-비스(3,5-디-3-급-부틸-2-하이드록시벤질)말로네이트, 디옥타데실-2-(3-3급-부틸-4-하이드록시-5-메틸벤질)말로네이트, 디도데실머캅토에틸-2,2-비스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질)말로네이트, 비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐]-2,2-비스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질)말로네이트 및 이들의 혼합물.
(9) 방향족 하이드록시벤질 유도체의 예는 다음과 같다: 1,3,5-트리메틸-2,4,6-트리스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질)벤젠, 1,4-비스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질)-2,3,5,6-테트라메틸벤젠, 2,4,6-트리스(3,5-3급-부틸-4-하이드록시벤질)페놀 및 이들의 혼합물.
(10) 트리아진 유도체의 예는 다음과 같다: 2,4-비스(n-옥틸티오)-6-(4-하이드록시-3,5-디-3급-부틸아닐리노)-1,3,5-트리아진, 2-n-옥틸티오-4,6-비스(4-하이드록시-3,5-디-3급-부틸아닐리노)-1,3,5-트리아진, 2-n-옥틸티오-4,6-비스(4-하이드록시-3,5-디-3급-부틸페녹시)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시)-1,3,5-트리아진, 트리스(4-3급-부틸-3-하이드록시-2,6-디메틸벤질 이소시아누레이트, 트리스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질)이소시아누레이트, 2,4,6-트리스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐에틸)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐프로필)-1,3,5-트리아진, 트리스(3,5-디사이클로헥실-4-하이드록시벤질)이소시아누레이트, 트리스[2-(3',5'-디-3급-부틸-4'-하이드록시신나모일옥시)에틸]이소시아누레이트 및 이들의 혼합물.
(11) 벤질 포스포네이트 유도체의 예는 다음과 같다: 디메틸-3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질 포스포네이트, 디에틸-3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질 포스포네이트, 디옥타데실-3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질 포스포네이트, 디옥타데실-5-3급-부틸-4-하이드록시-3-메틸벤질 포스포네이트, 3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질 포스폰산 모노에스테르의 칼슘 염 및 이들의 혼합물.
(12) 아실아미노페놀 유도체의 예는 다음과 같다: 아닐리드 4-하이드록시라우레이트, 아닐리드 4-하이드록시스테아레이트, 옥틸-N-(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐)카보네이트 및 이들의 혼합물.
(13) β-(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐)프로피온산 및 1가 또는 다가 알콜, 예를 들면, 메탄올, 에탄올, 옥탄올, 옥타데칸올, 에틸렌 글리콜, 1,3-프로판디올, 1,4-부탄디올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 네오펜틸 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 티오에틸렌 글리콜, 스피로 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(하이드록시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스(하이드록시에틸)옥사미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸올프로판, 4-하이드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비사이클로[2,2,2]옥탄 및 이들의 혼합물의 에스테르.
(14) β-(5-3급-부틸-4-하이드록시-3-메틸페닐)프로피온산 및 1가 또는 다가 알콜, 예를 들면, 메탄올, 에탄올, 옥탄올, 옥타데칸올, 에틸렌 글리콜, 1,3-프로판디올, 1,4-부탄디올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 네오펜틸 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 티오에틸렌 글리콜, 스피로 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(하이드록시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스(하이드록시에틸)옥사미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸올프로판, 4-하이드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비사이클로[2,2,2]옥탄 및 이들의 혼합물의 에스테르.
(15) β-(3,5-디사이클로헥실-4-하이드록시페닐)프로피온산 및 1가 또는 다가 알콜, 예를 들면, 메탄올, 에탄올, 옥탄올, 옥타데칸올, 에틸렌 글리콜, 1,3-프로판디올, 1,4-부탄디올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 네오펜틸 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 티오에틸렌 글리콜, 스피로 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(하이드록시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스(하이드록시에틸)옥사미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸올프로판, 4-하이드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비사이클로[2,2,2]옥탄 및 이들의 혼합물의 에스테르.
(16) 3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐아세트산 및 1가 또는 다가 알콜, 예를 들면, 메탄올, 에탄올, 옥탄올, 옥타데칸올, 에틸렌 글리콜, 1,3-프로판디올, 1,4-부탄디올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 네오펜틸 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 티오에틸렌 글리콜, 스피로 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(하이드록시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스(하이드록시에틸)옥사미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸올프로판, 4-하이드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비사이클로[2,2,2]옥탄 및 이들의 혼합물의 에스테르.
(17) β-(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐)프로피온산의 아미드의 예는 다음과 같다: N,N'-비스[3-(3',5'-디-3급-부틸-4'-하이드록시페닐)피로피오닐]하이드라진, N,N'-비스[3-(3',5'-디-3급-부틸-4'-하이드록시페닐)프로피오닐]헥사메틸렌디아민, N,N'-비스[3-(3',5'-디-3급-부틸-4'-하이드록시페닐)프로피오닐]트리메틸렌디아민 및 이들의 혼합물.
황 산화방지제의 예는 다음을 포함한다: 디라우릴 3,3'-티오디프로피오네이트, 트리데실 3,3'-티오디프로피오네이트, 디미리스틸 3,3'-티오디프로피오네이트, 디스테아릴 3,3'-티오디프로피오네이트, 라우릴 스테아릴 3,3'-티오디프로피오네이트 및 네오펜탄테트라키스(3-라우릴 티오프로피오네이트) 등.
인 산화방지제의 예는 다음을 포함한다: 트리페닐 포스파이트, 트리스(노닐페닐)포스파이트, 트리스(2,4-디-3급-부틸페닐)포스파이트, 트리라우릴 포스파이트, 트리옥타데실 포스파이트, 디스테아릴 펜타에리트리톨 디포스파이트, 디이소데실 펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,4-디-3급-부틸페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,4-디-3급-부틸-6-메틸페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,4-디-3급-부틸-6-메틸페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,6-디-3급-부틸-4-메틸페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,4,6-트리-3급-부틸페닐)펜타에리트리톨 디포스페이트, 트리스테아릴 소르비톨 트리포스파이트, 테트라키스(2,4-디-3급-부틸페닐)-4,4'-디페닐렌 디포스파이트, 2,2'-메틸렌비스(4,6-디-3급-부틸페닐)-2-에틸헥실 포스파이트, 2,2'-에틸리덴비스(4,6-디-3급-부틸페닐)플루오로 포스파이트, 비스(2,4-디-3급-부틸-6-메틸페닐)에틸 포스파이트, 비스(2,4-디-3급-부틸-6-메틸페닐)메틸 포스파이트, (2,4,6-트리-3급-부틸페닐)-5-에틸-5-부틸-1,3,2-옥사포스포리난, 2,2',2''-니트릴로[트리에틸-트리스(3,3',5,5'-테트라-3급-부틸-1,1'-비페닐-2,2'-디일)포스파이트 및 이들의 혼합물.
자외선 흡수제의 예는 다음을 포함한다:
(1) 살리실레이트 유도체의 예는 다음과 같다: 페닐 살리실레이트, 4-3급-부틸페닐 살리실레이트, 2,4-디-3급-부틸페닐 3',5'-디-3급-부틸-4'-하이드록시벤조에이트, 4-3급-옥틸페닐 살리실레이트, 비스(4-3급-부틸벤조일)레조르시놀, 벤조일레조르시놀, 헥사데실 3',5'-디-3급-부틸-4'-하이드록시벤조에이트, 옥타데실 3',5'-디-3급-부틸-4'-하이드록시벤조에이트, 2-메틸-4,6-디-3급-부틸페닐 3',5'-디-3급-부틸-4'-하이드록시벤조에이트 및 이들의 혼합물.
(2) 2-하이드록시벤조페논 유도체의 예는 다음과 같다: 2,4-디하이드록시벤조페논, 2-하이드록시-4-메톡시벤조페논, 2-하이드록시-4-옥톡시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4-메톡시벤조페논, 비스(5-벤조일-4-하이드록시-2-메톡시페닐)메탄, 2,2'4,4'-테트라하이드록시벤조페논 및 이들의 혼합물.
(3) 2-(2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸의 예는 다음과 같다: 2-(2-하이드록시-5-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5'-디-3급-부틸-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(5'-3급-부틸-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-3급-옥틸페닐)벤조트리아졸, 2-(3-3급-부틸-2-하이드록시-5-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3'-2급-부틸-2'-하이드록시-5'-3급-부틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-4'-옥틸옥시페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5'-디-3급-아밀-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 2-[2'-하이드록시-3',5'-비스(α,α-디메틸벤질)페닐]-2H-벤조트리아졸, 2-[(3'-3급-부틸-2'-하이드록시페닐)-5'-(2-옥틸옥시카보닐에틸)페닐]-5-클로로벤조트리아졸, 2-[3'-3급-부틸-5'-[2-(2-에틸헥실옥시)카보닐에틸]-2'-하이드록시페닐]-5-클로로벤조트리아졸, 2-[3'-3급-부틸-2'-하이드록시-5'-(2-메톡시카보닐에틸)페닐]-5-클로로벤조트리아졸, 2-[3'-3급-부틸-2'-하이드록시-5'-(2-메톡시카보닐에틸)페닐]벤조트리아졸, 2-[3'-3급-부틸-2'-하이드록시-5-(2-옥틸옥시카보닐에틸)페닐]벤조트리아졸, 2-[3'-3급-부틸-2'-하이드록시-5'-[2-(2-에틸헥실옥시)카보닐에틸]페닐]벤조트리아졸, 2-[2-하이드록시-3-(3,4,5,6-테트라하이드로프탈이미드메틸)-5-메틸페닐]벤조트리아졸, 2-(3',5'-디-3급-부틸-2-하이드록시페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3'-도데실-2'-하이드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸 및 2-[3'-3급-부틸-2'-하이드록시-5'-(2-이소옥틸옥시카보닐에틸)페닐)벤조트리아졸, 2,2'-메틸렌비스[6-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페놀, 2,2'-메틸렌비스[4-3급-부틸-6-(2H-벤조트리아졸-2-일)페놀]의 혼합물, 폴리(3-11)(에틸렌 글리콜) 및 2-[3'-3급-부틸-2'-하이드록시-5'-(2-메톡시카보닐에틸)페닐]벤조트리아졸의 축합물, 폴리(3-11)(에틸렌 글리콜) 및 메틸 3-[3-(2H-벤조트리아졸-2-일)-5-3급-부틸-4-하이드록시페닐]프로이오네이트, 2-에틸헥실 3-[3-3급-부틸-5-(5-클로로-2H-벤조트리아졸-2-일)-4-하이드록시페닐]프로피오네이트, 옥틸 3-[3-3급-부틸-5-(5-클로로-2H-벤조트리아졸-2-일)-4-하이드록시페닐]프로피오네이트, 메틸 3-[3-3급-부틸-5-(5-클로로-2H-벤조트리아졸-2-일)-4-하이드록시페닐]프로피오네이트, 3-[3-3급-부틸-5-(5-클로로-2H-벤조트리아졸-2-일)-4-하이드록시페닐]프로피온산의 축합물 및 이들의 혼합물.
광안정화제의 예는 다음을 포함한다:
(1) 장애 아민 광안정화제의 예는 다음과 같다: 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)석시네이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(N-옥톡시-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(N-벤질옥시-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(N-사이클로헥실옥시-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜) 2-(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질)-2-부틸말로네이트, 비스(1-아크롤릴-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜) 2,2-비스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질)-2-부틸말로네이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜 데칸디오에이트, 2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜 메타크릴레이트, 4-[3-(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오닐옥시]-1-[2-(3-(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오닐옥시)에틸]-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 2-메틸-2-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노-N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)프로피온아미드, 테트라키스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-1,2,3,4-부탄테트라카복실레이트, 테트라키스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)-1,2,3,4-부탄테트라카복실레이트, 1,2,3,4-부탄테트라카복실산과 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딘올과 1-트리데칸올의 혼합 에스테르화 생성물, 1,2,3,4-부탄테트라카복실산과 2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딘올과 1-트리데칸올의 혼합 에스테르화 생성물, 1,2,3,4-부탄테트라카복실산과 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딘올과 3,9-비스(2-하이드록시-1,1-디메틸에틸)-2,4,8,10-테트라옥사스피로[5.5]운데칸의 혼합 에스테르화 생성물, 1,2,3,4-부탄테트라카복실산과 2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딘올과 3,9-비스(2-하이드록시-1,1-디메틸에틸)-2,4,8,10-테트라옥사스피로[5.5]운데칸의 혼합 에스테르화 생성물, 디메틸 석시네이트와 1-(2-하이드록시에틸)-4-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘의 다중축합물, 폴리[(6-모르폴리노-1,3,5-트리아진-2,4-디일)((2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)이미노)헥사메틸렌((2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)이미노)]의 다중축합물, 폴리[(6-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)이미노-1,3,5-트리아진-2,4-디일((2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)이미노)헥사메틸렌((2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)이미노)], N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)헥사메틸렌디아민과 1,2-브로모에탄의 다중축합물, N,N',4,7-테트라키스[4,6-비스(N-부틸-N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노)-1,3,5-트리아진-2-일]-4,7-디아자데칸-1,10 디아민, N,N',4-트리스[4,6-비스(N-부틸-N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노)-1,3,5-트리아진-2-일]-4,7-디아자데칸-1,10 디아민, N,N',4,7-테트라키스[4,6-비스(N-부틸-N-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)아미노)-1,3,5-트리아진-2-일]-4,7-디아자데칸-1,10 디아민, N,N',4-트리스[4,6-비스(N-부틸-N-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)아미노)-1,3,5-트리아진-2-일]-4,7-디아자데칸-1,10 디아민 및 이들의 혼합물.
(2) 아크릴레이트 광안정화제의 예는 다음과 같다: 에틸 α-시아노-β,β-디페닐아크릴레이트, 이소옥틸 α-시아노-β,β-디페닐아크릴레이트, 메틸 α-카보메톡시신나메이트, 메틸 α-시아노-β-메틸-메톡시신나메이트, 부틸 α-시아노-β-메틸-p-메톡시신나메이트, 메틸 α-카보메톡시-p-메톡시신나메이트 및 N-(β-카보메톡시-β-시아노-비닐)-2-메틸인돌린 및 이들의 혼합물.
(3) 니켈 광안정화제의 예는 다음과 같다: 2,2'-티오비스-[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페놀]의 니켈 착물, 니켈 디부틸디티오카바메이트, 모노알킬 에스테르의 니켈 염, 케톡심의 니켈 착물 및 이들의 혼합물.
(4) 옥사미드 광안정화제의 예는 다음과 같다: 4,4'-디옥틸옥시옥사닐리드, 2,2'-디에톡시옥사닐리드, 2,2'-디옥틸옥시-5,5'-디-3급-부틸아닐리드, 2,2'-디도데실옥시-5,5'-디-3급-부틸아닐리드, 2-에톡시-2'-에틸옥사닐리드, N,N'-비스(3-디메틸아미노프로필)옥사미드, 2-에톡시-5-3급-부틸-2'-에톡시아닐리드, 2-에톡시-5,4'-디-3급-부틸-2'-에틸옥사닐리드 및 이들의 혼합물.
(5) 2-(2-하이드록시페닐)-1,3,5-트리아진 광안정화제의 예는 다음과 같다: 2,4,6-트리스(2-하이드록시-4-옥틸옥시페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-하이드록시-4-옥틸옥시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2,4-디하이드록시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(2-하이드록시-4-프로필옥시페닐)-6-(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-하이드록시-4-옥틸옥시페닐)-4,6-비스(4-메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-하이드록시-4-도데실옥시페닐)-4,6-비스(4-메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-[2-하이드록시-4-(2-하이드록시-3-부틸옥시프로폭시)페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-[2-하이드록시-4-(2-하이드록시-3-옥틸옥시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진 및 이들의 혼합물.
하이드록시아민의 예는 N,N-디벤질하이드록시아민, N,N-디에틸하이드록시아민, N,N-디옥틸하이드록시아민, N,N-디라우릴하이드록시아민, N,N-디테트라데실하이드록시아민, N,N-디헥사데실하이드록시아민, N,N-디옥타데실하이드록시아민, N,N-디벤질하이드록시아민, N,N-디벤질하이드록시아민, N-헥사데실-N-옥타데실하이드록시아민, N-헵타데실-N-옥타데실하이드록시아민 및 이들의 혼합물을 포함한다.
윤활제의 예는 파라핀, 왁스 등과 같은 지방족 탄화수소, 탄소수 8 내지 22의 고급 지방족산, 탄소수 8 내지 22의 고급 지방족산의 금속(Al, Ca, Mg, Zn) 염, 탄소수 8 내지 22의 지방족 알콜, 폴리글리콜, 탄소수 4 내지 22의 고급 지방산의 에스테르 및 탄소수 4 내지 18의 지방족 1가 알콜, 탄소수 8 내지 22의 고급 지방족 아미드, 실리콘 오일 및 로진(rosin) 유도체 등을 포함한다.
이러한 첨가제 중에서 페놀 산화방지제, 인 산화방지제, 황 산화방지제, 자외선 흡수제, 장애 아민 광안정화제가 바람직하게 사용된다.
특히 바람직한 페놀 산화방지제의 예는 다음 화합물을 포함하며, 이들은 2개 이상의 혼합물로서 사용될 수 있다: 2,6-디-3급-부틸-4-메틸페놀, 2,4,6-트리-3급-부틸페놀, 2,4-디옥틸티오메틸-6-메틸페놀, 2,2'-티오비스(6-3급-부틸페놀), 4,4'-티오비스(3-메틸-6-3급-부틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-3급-부틸페놀), 2,2'-메틸렌비스[4-에틸-6-3급-부틸페놀], 2,2'-메틸렌비스(4-에틸-6-(α-메틸사이클로헥실)페놀), 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-사이클로헥실페놀), 2,2'-메틸렌비스(4,6-디-3급-부틸페놀), 2,2'-에틸리덴비스(4,6-디-3급-부틸페놀), 4,4'-메틸렌비스(6-3급-부틸-2-메틸페놀), 4,4'-메틸렌비스(2,6-디-3급-부틸페놀), 4,4'-부틸리덴비스(3-메틸-6-3급-부틸페놀), 1,1'-비스(4-하이드록시페닐)사이클로헥산, 1,1-비스(5-3급-부틸-4-하이드록시-2-메틸페닐)부탄, 1,1,3-트리스(5-3급-부틸-4-하이드록시-2-메틸페닐)부탄, 에틸렌 글리콜, 비스[3,3-비스-3'-3급-부틸-4'-하이드록시페닐]부티레이트, 2,4,6-트리스(3,5-디-3급-부틸-4-페녹시)-1,3,5-트리아진, 트리스(4-3급-부틸-3-하이드록시-2,6-디메틸벤질)이소시아누레이트, 트리스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질)이소시아누레이트, 트리스[2-(3',5'-디-3급-부틸-4'-하이드록시신나모일옥시)에틸)이소시아누레이트, 디에틸-3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질 포스포네이트, 디-n-옥타데실-3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질 포스포네이트, 3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질포스폰산 모노에스테르의 칼슘 염, n-옥타데실 3-(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트, 네오펜탄테트라키스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시디하이드로신나메이트), 티오디에틸렌비스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시신나메이트), 1,3,5-트리메틸-2,4,6-트리스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질)벤젠, 3,6-디옥사옥타메틸렌비스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시신나메이트), 헥사메틸렌비스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시신나메이트), 트리에틸렌 글리콜 비스(5-3급-부틸-4-하이드록시-3-메틸신나메이트), 3,9-비스[2-(3-(3-3급-부틸-4-하이드록시-5-메틸페닐)프로피오닐옥시)-1,1-디메틸에틸]-2,4,8,10-테트라옥사스피로[5.5]운데칸, N,N'-비스[3-(3',5'-디-3급-부틸-4'-하이드록시페닐)프로피오닐]하이드라진 및 N,N'-비스[3-(3',5'-디-3급-부틸-4'-하이드록시페닐)프로피오닐]헥사메틸렌디아민 등.
특히 바람직한 인 산화방지제의 예는 다음을 포함하며, 이들은 2개 이상의혼합물로서 사용될 수 있다: 트리스(노닐페닐)포스파이트, 트리스(2,4-디-3급-부틸페닐)포스파이트, 디스테아릴 펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,4-디-3급-부틸페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,4-디-3급-부틸-6-메틸페닐)펜타에리트리톨의 포스파이트, 비스(2,6-디-3급-부틸-4-메틸페닐)펜타아리트리톨 디포스파이트, 테트라키스(2,4-디-3급-부틸페닐)-4,4'-디페닐렌디포스파이트, 2,2'-메틸렌비스(4,6-디-3급-부틸페닐) 2-에틸헥실 포스파이트, 2,2'-에틸리덴비스(4,6-디-3급-부틸페닐)플루오로포스파이트, 비스(2,4-디-3급-부틸-6-메틸페닐)에틸포스파이트, 2-(2,4,6-트리-3급-부틸페닐)-5-에틸-5-부틸-1,3,2-옥사포스폴리난 및 2,2',2"-니트릴로[트리에틸-트리스(3,3',5,5'-테트라-3급-부틸-1,1'-비페닐-2,2'-디일)포스파이트 등.
특히 바람직한 자외선 흡수제의 예는 다음을 포함하며, 이들은 2개 이상의 혼합물로서 사용될 수 있다: 페닐 살리실레이트, 4-3급-부틸페닐 살리실레이트, 2,4-디-3급-부틸페닐 3',5'-디-3급-부틸-4'-하이드록시벤조에이트, 4-3급-옥틸페닐 살리실레이트, 2,4-디하이드록시벤조페논, 2-하이드록시-4-메톡시벤조페논, 2-하이드록시-4-옥톡시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4-메톡시벤조페논, 비스(5-벤조일-4-하이드록시-2-메톡시페닐)메탄, 2,2',4,4'-테트라하이드록시벤조페논, 2-(2-하이드록시-5-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5'-디-3급-부틸-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(5'-3급-부틸-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-3급-옥틸페닐)벤조트리아졸, 2-(3-3급-부틸-2-하이드록시-5-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3'-2급-부틸-2'-하이드록시-5'-3급-부틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-4'-옥틸옥시페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5'-디-3급-아밀-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸 및 2-[2'-하이드록시-3',5'-비스(α,α-디메틸벤질)페닐]-2H-벤조트리아졸 등.
특히 바람직한 광안정화제의 예는 다음 화합물을 포함하며, 이들은 2개 이상의 혼합물로서 사용될 수 있다: 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(N-옥톡시-2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(N-옥톡시-2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(N-벤질옥시-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(N-사이클로헥실옥시-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜) 2-(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질)-2-부틸말로네이트, 비스(1-아크릴로일-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜) 2,2-비스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질)-2-부틸말로네이트, 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)석시네이트, 2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜 메타크릴레이트, 4-[3-(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오닐옥시]-1-[2-(3-(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오닐옥시)에틸]-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 2-메틸-2-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노-N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)프로피온아미드, 테트라키스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜) 1,2,3,4-부탄테트라카복실레이트, 테트라키스(1,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜) 1,2,3,4-부탄테트라카복실레이트, 1,2,3,4-부탄테트라카복실산과 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딘올과 1-트리데칸올의 혼합 에스테르화 생성물, 1,2,3,4-부탄테트라카복실산과 2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딘올과 1-트리데칸올의 혼합 에스테르화 생성물, 1,2,3,4-테트라카복실산과 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딘올과 3,9-비스(2-하이드록시-1,1-디메틸에틸)-2,4,8,10-테트라옥사스피로[5.5]운데칸의 혼합 에스테르화 생성물, 1,2,3,4-부탄테트라카복실산과 2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딘올과 3,9-비스(2-하이드록시-1,1-디메틸에틸)-2,4,8,10-테트라옥사스피로[5.5]운데칸의 혼합 에스테르화 생성물, 디메틸 석시네이트와 1-(2-하이드록시에틸)-4-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘의 다중축합물, 폴리[(6-모르폴리노-1,3,5-트리아진-2,4-디일)((2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)이미노)헥사메틸렌((2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)이미노)] 및 폴리[(6-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)이미노-1,3,5-트리아진-2,4-디일((2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)이미노)헥사메틸렌((2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)이미노)) 등.
본 발명의 중합체 조성물은 예를 들면, 화합물(1) 및 (2)를 중합체에 혼입시킴으로써 제조할 수 있다.
이러한 혼입 방법은 화합물(1) 및 (2)를 중합체로 균일하게 혼입시킬 수 있는 한 특정하게 한정되어서는 안된다. 예를 들면, 화합물(1) 및 (2)를 중합 반응 동안 또는 중합 반응 완료 직후에 반응 혼합물에 가할 수 있다. 화합물(1) 및 (2)를 용매에 용해시킨 후 용액 형태로, 균일한 분산을 용이하게 하는 분말 형태로 분쇄시킨 후 분산 형태로, 또는 가열한 후 용융된 형태로 중합체에 가할 수 있다. 기타 첨가제를 사용하는 경우, 이들을 사용하기 전 용매에 용해시킬 수 있다.
또는, 화합물(1) 및 (2)는 용융되고 혼련된 중합체에 가할 수 있으며, 생성된 혼합물은 추가로 용융 및 혼련할 수 있다. 중합체의 용융 및 혼련은 예를 들면, 혼합 롤, 벤버리(Banbury) 혼합기, 롤, 혼련기, 1축 나사 압출기, 2축 나사 압출기 등을 사용함으로써 수행된다. 용융 및 혼련시킨 후, 용융된 형태로 생성된 중합체 조성물을 냉각시키지 않거나 냉각 및 재가열한 후 성형 공정에 직접 투입할 수 있다.
중합체에 가해지는 화합물(1) 및 (2)의 순서는 특정하게 한정되지 않는다. 화합물(1)를 가한 후 중합체에 가한 후 화합물(2)를 가하거나 그 반대로 가할 수 있다. 또는, 화합물(1) 및 (2)를 중합체에 동시에 가할 수 있다. 기타 첨가제를 사용하는 경우, 이들을 화합물(1) 및 (2)의 첨가와 동시에 중합체에 가하거나 화합물(1) 및/또는 (2)를 가하기 전 또는 후에 중합체에 가할 수 있다.
중합체 조성물에 가해지는 화합물(2)의 함량이 낮은 경우, 특히 제조하려는 중합체 조성물의 양이 작은 경우, 화합물(2)를 정확하게 계량하기가 어려워질 수 있다. 이와 같은 경우, 화합물(1) 및 (2)를 포함하는 조성물을 미리 준비하고, 이어서 조성물을 계량하면서 중합체에 가하는 것이 바람직하다. 조성물의 양이 화합물(2)의 양 보다 상당히 큰 경우, 조성물의 양을 정확하게 계량하는 것이 화합물(2)의 양을 정확하게 계량하는 것 보다 훨씬 용이하며, 이 방법에 의하여 화합물(2)의 정확한 계량을 만족스럽게 수행할 수 있다.
화합물(1) 및 (2)를 포함하는 조성물에서 화합물(1) 및 (2)의 비율은 바람직하게는 목적하는 중합체 조성물에서의 수준과 실제적으로 동일한 수준으로 맞추는 것이 바람직하다.
화합물(1) 및 (2)를 포함하는 조성물은 예를 들면, 화합물(1) 및 (2)를허셀(Hershel) 혼합기(수퍼 혼합기), 볼(ball) 혼합기, 페블(pebble) 혼합기, 덤블(tumble) 혼합기, 또는 체인지-캔-혼합기(change-can-mixer)와 같은 혼합기를 사용하여 분말 형태로 혼합함으로써 제조할 수 있다. 기타 첨가제를 사용하는 경우, 화합물(1) 및 (2)를 첨가제와 함께 조성물내로 혼합할 수 있다.
또한, 화합물(1) 및 (2)를 포함하는 조성물은 예를 들면, 화합물(2)를 화합물(1)을 용해시키는 용액에 가하고, 이어서 화합물(1) 및 (2)를 고체 조성물로 결정화시키는 방법에 의해 제조될 수 있다. 기타 첨가제를 사용하는 경우, 이들을 화합물(2)와 함께 용매에 가할 수 있다.
상기 조성물을 사용함으로써, 화합물(1) 및 (2)를 동시에 중합체에 가할 수 있다.
따라서, 화합물(1) 및 (2)의 중합체내로의 혼입은 중합체를 안정화시키며, 이의 가공 안정성을 보다 개선시킨다.
본 발명의 중합체 조성물은 가열하는 경우에도 사실상 가교 결합되지 않으며, 만족스러운 가공 안정성을 가지며, 유동성의 악화로 인한 어떠한 문제점도 사실상 발생시키지 않는 이점을 갖는다.
다음 실시예에 의해 본 발명은 보다 상세히 설명되며, 이로써 본 발명의 범주가 제한되는 것은 아니다.
실시예 1 내지 3 및 비교 실시예 1 내지 3
2-3급-부틸-6-(3-3급-부틸-2-하이드록시-5-메틸벤질)-4-메틸페닐 아크릴레이트(화합물 1) 및 2,2'-메틸렌비스(6-3급-부틸-4-메틸페놀)디아크릴레이트(화합물 2)를 연마기를 사용하여 표 1에 나타낸 바와 같은 각각의 양으로 혼합하여 안정한 조성물을 수득한다(100중량부).
생성된 안정한 조성물의 1/2중량부 및 스티렌-부타디엔 블럭 공중합체(SBS) 100중량부를 1축 나사 압출기(직경 30㎜)를 사용하여 200℃에서 용융 혼련시켜, 펠릿 형태로 중합체 조성물을 수득한다.
이와 같이 수득된 조성물을 용융-유동-속도계 "MODEL L203"(Takara Kogyo Co. 제조)내의 가열로를 사용하여 260℃에서 가열하여 용융 상태로 용융시키고, 30분 동안 이러한 온도에서 방치한다. 이 후에 즉시, 2,160g의 하중 조건하에서 용융-유동 속도(MFR)를 측정한다. 결과를 표 1에 나타낸다.
화합물 1(중량부) 화합물 2(중량부) MFR(g/분)
실시예 1 99.99 0.01 6.5
실시예 2 99.5 0.5 6.9
실시예 3 98 2 6.7
비교 실시예 1 0 0 4.4
비교 실시예 2 80 20 5.8
비교 실시예 3 100 0 6.3
실시예 1 내지 3에서 수득한 중합체 조성물은 260℃에서 30분 동안 방치한 후에도 높은 수준의 MFR을 유지한다. 본 결과는 가공 동안 유동성의 악화가 적고, 중합체 조성물이 우수한 가공 안정성을 나타냄을 보여준다.
본 발명의 중합체 조성물은 가열하는 경우에도 용이하게 가교 결합되지 않는 개선된 가공 안정성을 갖는다.

Claims (9)

  1. 중합체, 화학식 1의 비스페놀 모노에스테르 및 화학식 2의 비스페놀 디에스테르를 포함하며, 화학식 2의 화합물의 양이, 화학식 1의 화합물과 화학식 2의 화합물의 총량 100중량부를 기준으로 하여, 0.001 내지 5중량부인 중합체 조성물.
    화학식 1
    화학식 2
    위의 화학식 1 및 2에서,
    R1은 수소, 탄소수 1 내지 5의 알킬 그룹, 또는 페닐 그룹이고,
    R2및 R3는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 9의 알킬 그룹이고,
    R4및 R5는 각각 독립적으로 수소 또는 메틸 그룹이고,
    R6은 수소, 탄소수 1 내지 5의 알킬 그룹, 또는 페닐 그룹이고,
    R7및 R8은 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 9의 알킬 그룹이고,
    R9및 R10은 각각 독립적으로 수소 또는 메틸 그룹이다.
  2. 제1항에 있어서, 화학식 2의 화합물의 양이, 화학식 1의 화합물과 화학식 2의 화합물의 총량 100중량부를 기준으로 하여, 0.008 내지 2.5중량부인 중합체 조성물.
  3. 제1항에 있어서, 중합체가 중합체 쇄 내에 탄소-탄소 이중결합(C=C)을 갖는 중합체 조성물.
  4. 제1항에서 있어서, 중합체가 스티렌-부타디엔 블럭 공중합체(SBS), 부타디엔 고무(BR), 스티렌/부타디엔 고무(SBR) 및 고충격 폴리스티렌(HI-PS)으로부터 선택되는 중합체 조성물.
  5. 제1항에 있어서, 중합체 조성물 중의 화학식 1의 화합물과 화학식 2의 화합물의 총량이, 조성물 중의 중합체 100중량부를 기준으로 하여, 약 0.01 내지 2중량부인 중합체 조성물.
  6. 화학식 1의 비스페놀 모노에스테르와 화학식 2의 비스페놀 디에스테르를 중합체에 혼입시킴을 포함하는, 중합체의 안정화 방법.
    화학식 1
    화학식 2
    위의 화학식 1 및 2에서,
    R1은 수소, 탄소수 1 내지 5의 알킬 그룹, 또는 페닐 그룹이고,
    R2및 R3는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 9의 알킬 그룹이고,
    R4및 R5는 각각 독립적으로 수소 또는 메틸 그룹이고,
    R6은 수소, 탄소수 1 내지 5의 알킬 그룹, 또는 페닐 그룹이고,
    R7및 R8은 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 9의 알킬 그룹이고,
    R9및 R10은 각각 독립적으로 수소 또는 메틸 그룹이다.
  7. 제6항에 있어서, 화학식 2의 화합물의 양이, 화학식 1의 화합물과 화학식 2의 화합물의 총량 100중량부를 기준으로 하여, 1 내지 5중량부인 방법.
  8. 제6항에 있어서, 화학식 2의 화합물의 양이, 화학식 1의 화합물과 화학식 2의 화합물의 총량 100중량부를 기준으로 하여, 0.008 내지 2.5중량부인 방법.
  9. 화학식 1의 비스페놀 모노에스테르와 화학식 2의 비스페놀 디에스테르를 포함하며, 화학식 2의 화합물의 양이, 화학식 1의 화합물과 화학식 2의 화합물의 총량 100중량부를 기준으로 하여, 0.001 내지 5중량부인 조성물.
    화학식 1
    화학식 2
    위의 화학식 1 및 2에서,
    R1은 수소, 탄소수 1 내지 5의 알킬 그룹, 또는 페닐 그룹이고,
    R2및 R3는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 9의 알킬 그룹이고,
    R4및 R5는 각각 독립적으로 수소 또는 메틸 그룹이고,
    R6은 수소, 탄소수 1 내지 5의 알킬 그룹, 또는 페닐 그룹이고,
    R7및 R8은 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 9의 알킬 그룹이고,
    R9및 R10은 각각 독립적으로 수소 또는 메틸 그룹이다.
KR1020010028851A 2000-05-29 2001-05-25 중합체 조성물 KR100772348B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000157814A JP4572445B2 (ja) 2000-05-29 2000-05-29 高分子組成物
JP2000-157814 2000-05-29

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20020000105A true KR20020000105A (ko) 2002-01-04
KR100772348B1 KR100772348B1 (ko) 2007-11-09

Family

ID=18662383

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020010028851A KR100772348B1 (ko) 2000-05-29 2001-05-25 중합체 조성물

Country Status (5)

Country Link
US (1) US6525120B2 (ko)
JP (1) JP4572445B2 (ko)
KR (1) KR100772348B1 (ko)
DE (1) DE10125768B4 (ko)
TW (1) TW574235B (ko)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100723062B1 (ko) * 2006-07-27 2007-05-30 양순옥 소형 전기보일러
US11420381B2 (en) 2013-08-08 2022-08-23 Belkin International, Inc. Overlay applicator machine and method of providing the same
US11772320B2 (en) 2013-08-08 2023-10-03 Belkin International, Inc. Overlay applicator tray and method of using the same

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7595011B2 (en) * 2004-07-12 2009-09-29 Ciba Specialty Chemicals Corporation Stabilized electrochromic media
JP4802707B2 (ja) * 2005-05-17 2011-10-26 住友化学株式会社 光制御膜
EP1896550B1 (en) * 2005-06-30 2013-08-14 Basf Se Stabilized electrochromic media
US8536258B2 (en) * 2007-07-20 2013-09-17 Sumitomo Chemical Company, Limited Stabilizer and method of manufacturing the same, thermoplastic polymer composition using the same, and method of stabilizing thermoplastic polymer
TWI437036B (zh) * 2008-01-31 2014-05-11 Sumitomo Chemical Co 粒狀組成物及其製造方法
US20100093904A1 (en) 2008-10-06 2010-04-15 Sumitomo Chemical Company, Limited Granular stabilizer for polymer and production process thereof
EP2423251A1 (en) * 2009-04-24 2012-02-29 Sumitomo Chemical Company, Limited Stabilizer composition

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5884835A (ja) * 1981-11-17 1983-05-21 Sumitomo Chem Co Ltd 安定化合成ゴム組成物
JPS6127943A (ja) * 1984-07-18 1986-02-07 Sumitomo Chem Co Ltd ビスフエノ−ル誘導体、その製造法およびそれらを含有してなる架橋性組成物
US4792584A (en) * 1986-05-02 1988-12-20 Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha Adhesive compositions
JPH0725948B2 (ja) 1987-12-28 1995-03-22 住友化学工業株式会社 ブタジェン系ポリマー組成物
US4956408A (en) * 1988-06-13 1990-09-11 Phillips Petroleum Company Complex acrylates as stabilizer for conjugated diene/monovinyl aromatic copolymers
JP2910299B2 (ja) * 1991-04-25 1999-06-23 住友化学工業株式会社 ビスフェノールモノエステルの精製法
JP2874359B2 (ja) 1991-02-18 1999-03-24 住友化学工業株式会社 ビスフェノールモノエステルの製造法
JP3721805B2 (ja) * 1997-10-30 2005-11-30 住友化学株式会社 ポリブタジエン組成物

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100723062B1 (ko) * 2006-07-27 2007-05-30 양순옥 소형 전기보일러
US11420381B2 (en) 2013-08-08 2022-08-23 Belkin International, Inc. Overlay applicator machine and method of providing the same
US11772320B2 (en) 2013-08-08 2023-10-03 Belkin International, Inc. Overlay applicator tray and method of using the same

Also Published As

Publication number Publication date
DE10125768B4 (de) 2012-01-05
JP4572445B2 (ja) 2010-11-04
DE10125768A1 (de) 2001-12-06
KR100772348B1 (ko) 2007-11-09
TW574235B (en) 2004-02-01
JP2001335697A (ja) 2001-12-04
US20020002249A1 (en) 2002-01-03
US6525120B2 (en) 2003-02-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR19980018570A (ko) 포스파이트, 이의 제조방법 및 용도
KR100772348B1 (ko) 중합체 조성물
US9238726B2 (en) Molded article comprising polypropylene resin composition
KR20100020423A (ko) 페놀 조성물 및 이를 포함하는 열가소성 중합체 조성물
DE10133447A1 (de) Polybutadienmasse
US8461279B2 (en) Method for producing devolatilized polyolefin and molded article of polyolefin
US8815990B2 (en) Stabilizer composition
JP2010270310A (ja) 安定剤組成物及び該組成物を含有する熱可塑性ポリマー組成物
EP2258758B1 (en) Thermoplastic polymer composition and production method thereof
US8247483B2 (en) Rotation molded body
JP5593595B2 (ja) 熱可塑性ポリマー組成物
JP5287684B2 (ja) 組成物
WO2011004736A1 (ja) 熱可塑性ポリマー組成物
JP4238395B2 (ja) 共重合体組成物、その製造方法および共重合体の安定化方法
JP2011032462A (ja) 熱可塑性ポリマー組成物
EP3330343A1 (en) Phosphite ester composition
US6756432B2 (en) Polybutadiene composition
JP2010270311A (ja) 安定剤組成物及び該安定剤組成物を含有する熱可塑性ポリマー組成物
DE10162510A1 (de) Polybutadienzusammensetzung
JP2023128376A (ja) 加工安定剤、有機材料組成物、及び有機材料の安定化方法。
JP2024053404A (ja) 安定剤、有機材料組成物、及び有機材料の安定化方法
JP2011016861A (ja) 熱可塑性ポリマー組成物および熱可塑性ポリマー用加工安定化剤
JP2011016864A (ja) 熱可塑性ポリマー組成物および熱可塑性ポリマー用加工安定化剤
JP2011016865A (ja) 熱可塑性ポリマー組成物および熱可塑性ポリマー用加工安定化剤
JP2011016866A (ja) 熱可塑性ポリマー組成物および熱可塑性ポリマー用加工安定化剤

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20121009

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20131001

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20141006

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20151001

Year of fee payment: 9

LAPS Lapse due to unpaid annual fee