KR20010034091A - 광학 필름 및 그 제조 방법 - Google Patents

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스프레이그 로버트 월터
미네소타 마이닝 앤드 매뉴팩춰링 캄파니
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Abstract

광학 필름 및 광학 필름을 형성하는 가공이 기술되며, 여기서 다른 성질을 가지는 물질이 사용되고 광학 필름의 개선된 광학 성질 및/또는 기계적 성질을 얻기 위해 다른 성질이 이용되고 있다. 물질의 다른 성질을 이용해서 물질이 서로 다르게 작용하는 조건하에서 가공 조건을 선택한다. 필름은 각 물질 및 각 방향에 대해 별도로 조절된 가공에 의해 유도된 분자 배향의 양으로 2 개의 다른 방향에 대해서 가공될 수 있다.

Description

광학 필름 및 그 제조 방법{AN OPTICAL FILM AND PROCESS FOR MANUFACTURE THEREOF}
지난 수 년 동안에 양질의 광학 필름을 제조하기 위해 중합성 필름(polymeric film)의 사용에 대해 연구되었다. 연구된 중합성 광학 필름은 통상 다층 필름의 층 사이에서 상이한 굴절율을 이용하고 있다. 예를 들어, 다층 광학 필름은 고 굴절율을 가진 중합체 층과 저 굴절율을 가진 중합체 층을 번갈아 배치함으로써 형성될 수 있다. 2 개의 인접층은 각각의 굴절율이 비교적 큰 불일치로 형성되고, 특정한 파장의 광이 2개 층의 계면에서 반사된다. 반사된 광의 파장은 인접층의 광학적 두께에 의존된다. 광학 필름은 또한 중합성 혼합물의 다른 위상의 상대적 굴절율 관계를 이용하여 중합성 혼합물로 만들수 있다.
다층 광학 필름의 한가지 형태는 인접하는 굴절율의 불일치를 발생하도록 복굴절 중합체를 사용한다. 이러한 필름에서, 다층 필름은 필름의 하나의 평면내 축을 따라 단축 방향 또는 필름의 2 개의 평면내 직교축을 따라 2 축 방향으로 드로잉(drawing)된다. 드로잉의 결과로서, 2 개의 인접한 층 내의 분자는 끌어 당김 방향으로 배향된다. 분자 배향은 드로잉 방향으로 영향받은 층의 굴절율을 변화한다.
다층 필름의 드로잉은, 필름층의 하나가 복굴절 되고, 드로잉 방향으로 굴절율의 불일치를 얻는데 사용할 수 있다. 드로잉되지 않는 평면 방향으로 2 개의 인접층의 굴절율이 일치하는 경우에, 다층 필름은 하나의 편광의 광만 반사하고 다른 편광 광을 투과하도록 사용될 수 있다. 이러한 필름은, 예를 들어 반사 편광기로서 사용될 수 있다. 다층 필름은 영향받는 층이 2 개의 수직한 평면 내축 방향으로 배향되도록 드로잉되는 경우에, 양 방향으로 불일치가 얻어질 수 있다. 이러한 필름은 양자의 편광의 광을 반사하는 데 사용될 수 있다(예를 들어, 광의 각 파장에 대한 거울).
상기한 바와 같이, 중합성 광학 필름에 사용되는 하나 또는 둘 이상의 물질은 물질이 드로잉에 따라 변화하는 광학적 특성을 가진다. 이러한 특성은 물질이 끌어당겨진 방향에 의존하는 방향성 배향이 예상된다. 이러한 광학 필름은 상호간 3개의 수직한 축, 예를 들어 2 개의 평면 내축(x 및 y)과 두께 축 (z)의 관점에서 기술될 수 있다. 이러한 광학 필름의 광학적 특성은 x, y, z축 방향으로 각 물질의 굴절율 (nx, ny, 및 nz)에 각각 의존한다. 따라서, 사용된 물질의 정확한 광학적 성질에 대한 정확한 조절을 허용하는 방법으로 광학 필름을 가공하는 것이 바람직하다.
본 발명은 광학 필름 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 특히, 필름의 물성을 이용해서 제조 가공 동안 물질의 반응을 조절하기 위한 방법에 관한 것이다.
본 발명은 첨부되는 도면과 관련된 발명의 후술하는 다양한 실시예를 참조로 하여 더 완벽하게 이해될 수 있다.
도 1a 및 도 1b는 본 발명의 다양한 실시예에 따른 광학 필름을 나타내는 설명도.
도 2a-2j는 본 발명의 다양한 가공을 나타내는 개략도.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따라 다른 광학 필름을 나타내는 설명도.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따라 혼합 중합성 광학 필름을 나타내는 설명도.
도 5a에서 도 5c는 본 발명의 다양한 실시예에 따라 제작된 필름의 투과도 특성을 나타내는 설명도.
본 발명은 광학 필름 및 그 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명의 실시예에 따르면, 최소한 제1 또는 제2 물질이 포함되는 광학 필름은 필름의 제1축을 따라 최소한 제1 물질의 광학적 배향을 유도함과 동시에 필름의 제1 평면 내축을 따라 필름의 제1축을 따라 유도되는 방향보다 적은 제2 평면 내축을 따라 제1 물질 안에서 배향을 유도하는 조건하에서 필름의 제1 및 제2 평면 내축에 대해 필름을 가공함으로써 만들어진다. 제2 물질의 굴절율은 필름의 제1 및 제2 평면 내축의 하나를 따라 제1 물질의 굴절율과 일치한다. 상기 방법은 광학적 및/또는 기계적 성능이 개선되는 필름을 만들기 위해 사용될 수 있다. 상기 방법은 많은 다른 필름을 만들기 위해 사용될 수 있다. 필름의 2 또는 그 이상의 물질은 다층 광학 필름으로 층을 번갈아 가면서 형성될 수 있다. 2 개의 물질은 또한 혼합물 필름, 예를 들어, 물질의 연속 위상과 분산적인 위상으로서 형성될 수 있다. 본 발명의 실시예에 따르면, 2 개의 물질의 배향 상태의 다양한 조합은 끌어 당기는 가공 조건에 따른 물질의 반응을 조절함으로써 얻어질 수 있다.
상기한 기술은 본 발명의 상세한 실시예 또는 본 발명의 실행을 기술하는 데 목적이 있지 않다. 상세한 설명과 도면을 통하여 후에 기술되는 본 발명의 실시예를 나타낸다.
본 발명은 일반적으로 많은 다른 광학 필름, 물질 및 가공에 적용할 수 있다. 본 발명은 특히 중합성 광학 필름을 제작하는 데 적당하다고 생각하며 필름에 사용된 물질의 점성-탄성 특성은 가공 동안에 필름이 드로잉될 때 물질에 유도되는 분자 배향의 양을 조절하도록 이용된다. 후술하는 바와 같이, 광학 필름을 제조하는 데 사용된 물질의 각종 특성을 고려해서 광학 필름을 개선한다. 이러한 개선은 개선된 광학 성능, 균열 또는 파열에 대한 향상된 내성, 향상된 치수 안정성, 개선된 가공 능력과 같은 것을 하나 또는 그 이상 포함한다. 본 발명은 제한 되지 않는 반면에, 본 발명에 대한 다양한 평가가 후술의 여러가지 실시예에 대한 설명을 통하여 얻어진다.
본 발명의 특정한 실시예에 따라 광학 필름을 제작하는 가공은 도 1을 참조하여 기술한다. 도 1은 광학 필름(101)의 일부를 설명한다. 도시된 광학 필름(101)은 상호 수직한 3 개의 x, y, z축과 관련하여 기술된다. 상기한 실시예에서, 2 개의 수직한 x 및 y축(평면 내축)은 필름(101)의 평면에 있고 제3축은 필름의 두께 방향으로 확장된다.
광학 필름(101)은 광학적으로 경계된 최소한 2 개의 다른 물질 (예를 들어, 반사, 산란, 투과등과 같은 광학 효과를 일으키도록 조합한 2 개의 물질)을 포함한다. 2 개의 물질의 성질은 최소한 필름(101)의 한 축 방향으로 굴절율의 목표한 불일치를 만드는 데 사용될 수 있다. 일반적으로 2 개의 물질은 성질상 점성-탄성 특성이 있다. 물질의 최소한 하나는 특정한 조건아래서 복굴절된다. 본 발명은 공동 사출 성형되는 물질이 포함된 필름에 특히 적당하다. 공동 사출 성형된 다층과 중합성 혼합 필름은, 예를 들어, 이러한 필름 제작에 매우 적당하다. 필름(101)은 공동 사출 성형 물질이 포함될 때, 물질은 공동 사출 성형에 대한 요구 조건을 만족하기 위해 충분히 유사한 유동성(rheology, 예를 들어, 점성- 탄성)를 가져야 한다. 그러나, 후술하는 바와 같이, 필름의 점성-탄성 성질은 또한 2 개의 다른 물질이 선택된 가공 조건에 다르게 반응할 만큼 충분히 다를 수 있다.
가공 동안에, 필름(101)은 최소한 2 개의 방향으로 드로잉된다. 후술하는 바와 같이, 드로잉은 필름이 신장되거나 연장되는 실시예와 관련하여 사용된다. 스트레인(strain)은 압축에 의해 도입됨이 예상된다. 일반적으로 드로잉 가공은 2 개의 형태가 있을 수 있다. 드로잉 가공은 물질의 하나 또는 그 이상에서 선택적으로 분자 배향을 유도하기 위하여 사용될 수 있다. 유도된 분자 배향은 예를 들어, 드로잉 방향으로 영향을 받은 물질의 굴절율을 변화, 필름의 기계적 성질 또는 그와 유사한 변화하도록 사용될 수 있다. 드로잉에 의해 유도된 분자 배향의 양은 후술하는 바와 같이, 필름의 목표한 성질에 기초하여 조절할 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 광학 필름은 2 개 또는 그 이상의 다른 물질을 사용하여 형성된다. 특정한 조건하에서 단 하나의 물질만이 끌어 당김 동안에 배향된다. 다른 조건하에서 다른 또는 2 개의 물질은 드로잉 조건에 의해 배향된다. 배향이 한 평면 방향으로 2 개 물질의 굴절율의 일치를 일으키고 다른 평면 방향으로 굴절율의 불일치를 일으킬 때, 필름은 광학적 편광 필름을 제작하는데 적당하다. 가공을 하여, 편광 필름은 단 하나의 평면 내축으로만 굴절율 불일치를 만드는 방법으로 2 개의 수직한 평면 내축 방향으로 필름을 드로잉으로써 만들 수 있다.
본 발명의 다양한 실시예에 따르면, 광학 필름은 한 평면 내축을 따라 굴절율이 동일함과 동시에 다른 평면 내축을 따라 굴절율을 불일치하게 제조할 수 있다. 일치된 방향은 편광기에 대해 투과(통과) 방향을 형성하고 불일치된 방향은 반사(블록) 방향을 형성한다. 일반적으로, 반사 방향으로 굴절율의 불일치가 클수록 투과 방향이 일치가 밀접할수록 편광기 성능이 좋아진다. 부가적으로, 두께 방향으로 2 개의 물질의 굴절율은 광학 필름의 광학 성능을 개선하도록 조절(예를들어, 일치) 할 수 있다.
물질에서 굴절율은 파장의 함수(예를 들어, 전형적으로 물질이 분산을 나타냄)로 평가된다. 그러므로, 굴절율에 대한 광학적 요구 조건도 또한 파장의 함수이다. 2 개의 광학적으로 계면을 이루는 물질의 굴절율비는 2 개 물질의 반사력(reflective power)을 계산하기 위해 사용할 수 있다. 2 개 물질의 평균 굴절율로 나누어진 2 개의 물질에 대한 굴절율 차이의 절대값은 필름의 광학적 성능을 기술한다. 이것을 규준화 굴절율 차이(normalized index difference)라고 부른다. 규준화 차이는 일치된 평면에서 굴절율이 대략 0.05보다 적고, 더 바람직하게는 대략 0.02보다 적고, 가장 바람직하게는 대략 0.01보다 적다. 유사하게, 편광 필름의 두께 방향으로 굴절율에서 규준화 차이는 대략 0.09보다 적고, 더 바람직하게는 대략 0.04보다 적고, 가장 바람직하게는 대략 0.02보다 적다. 특정한 사례에서 다층 적층에서 2 개의 인접한 물질의 두께 방향으로 조절된 불일치를 가지는 것이 바람직할 수 있다. 이러한 필름의 광학적 성능에 대한 다층층 필름에서 2 개의 물질의 z축 굴절율 영향은 발명의 명칭이 "광학 필름"인 미국 특허 출원 제08/402,041호(03/10/95에 출원된)와, 발명의 명칭이 "컬러 시프팅 필름"인 미국 특허 출원 제09/006,591호(01/13/98에 출원된)와, 발명의 명칭이 "뾰족한 밴드에지를 구비한 광학 필름"인 미국 특허 출원 제09/006,085호(01/13/98에 출원된)에 상세히 기술되었다.
편광기의 불일치된 평면 방향에서, 굴절율에서 규준화 차이는 최소한 대략 0.06이고, 더 바람직하게는 대략 0.09보다 크고, 가장 바람직하게는 대략 0.11보다 크다. 더 일반적으로, 이러한 차이는 광학 필름의 다른 면을 저하시킴이 없이 가능한 한 크게 하는 것이 바람직하다. 다층 페어를 사용하는 본 발명의 수개의 실시예에 따르면, 층 페어에서 각 층의 광학적 두께는 제1 오더 반사를 적정화하기 위해 동일해야 한다. 여기에서 광학적 두께는 실제 층 두께와 주어진 파장에서 굴절율의 곱이다. 다른 실시예에서, 보다 큰 오더의 반사 피크가 바람직하고 이들 반사를 적정화하는 불균일한 광학 두께가 사용될 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 2 개의 공동 사출 성형된 중합성의 물질에 대한 다른 점성-탄성 특성은 개선된 광학 필름을 제작하는데 사용된다. 점성-탄성은 중합체의 기본적인 특성이다. 중합체의 점성-탄성 특성은 점성 액체 또는 탄성 고체와 같은 스트레인에 반응하는 경향을 기술하는 데 사용될 수 있다. 높은 온도 및 /또는 낮은 스트레인율에서, 중합체는 분자 배향이 약간 있거나 없는 점성 액체를 끌어당길 때 흐르는 경향이 있다. 높은 온도 및 /또는 낮은 스트레인율에서, 중합 체는 부수하는 분자 배향을 가진 고체처럼 탄성적으로 드로잉하는 경향이 있다. 낮은 온도 가공에서는 전형적으로 아몰퍼스 중합성 물질의 유리 변이 온도 근처인 반면에 높은 온도 가공에서 보통 유리 온도 이상이다.
중합체의 점성-탄성 상태는 일반적으로 중합성 물질에서 분자 완화율의 결과이다. 분자 완화율은 평균 가장 긴 총괄 완화 시간(즉, 총괄 시간 재정렬) 또는 이러한 시간 분포에 의해 특징될 수 있다. 평균 가장 긴 총괄 완화 시간은 전형적으로 온도가 감소함에 따라 증가하고 유리 변이 온도 근처의 가장 큰 값에 접근한다. 평균 가장 긴 총괄 완화 시간은 또한 중합성 물질에서 결정화 및/또는 교차 결합에 의하여 증가할 수 있고, 실용적 목적을 위해, 가공 시간동안에 이러한 가장 긴 모드의 어떠한 완화도 금지되고 전형적인 온도가 사용된다. 화학적 조성 및 구조(예를 들어, 브랜칭)는 물론 분자 중량 및 분포는 또한 가장 긴 완화 시간에 영향을 미칠 수 있다.
특정한 중합성 물질의 평균 가장 긴 완화 시간이 드로잉 가공 시간보다 길거나 대략 같을 때, 분자 배향은 물질에서 드로잉 방향으로 일어난다. 따라서, 각각의 크고 작은 스트레인율은 평균 가장 긴 완화 시간보다 크거나 작은 주기 동안에 물질을 드로잉하는 가공에 일치한다.
주어진 물질의 반응은 드로잉 온도, 가공에 대한 드로잉율 및 드로잉비를 조절함으로써 변화 될 수 있다.
본 발명에 따르면, 드로잉 가공 동안에 배향 범위는 넓은 범위에서 정확히 조절할 수 있다. 특정한 드로잉 가공에서, 드로잉 가공은 실제로 필름의 최소한 한가지 방향으로 분자 배향의 양을 감소할 수 있다. 예를 들어, 필름은 하나의 방향으로 신장될 수 있음과 동시에 필름이 횡방향으로 치수적 완화이 허용될 수 있다. 이러한 가공은 횡방향으로 초기 분자 배향을 감소시킬 수 있다. 따라서, 가공은 음의 배향 가공이 될 수 있다. 드로잉 방향으로, 드로잉 가공에 의해 유도된 분자 배향은 무배향에서 약간의 비광학적 배향(non-optical orienatation) (예를 들어, 필름의 광학적 성능에 무시할 만한 영향을 발생하는 배향), 광학적 배향의 정도가 변하는 것까지 망라된다.
광학 배향의 상대적 강도는 물질 및 필름의 상대적 굴절율에 의존한다. 예를 들어, 강한 광학 배향은 주어진 물질의 전체 고유의 (규준화) 복굴절에 관련될 수 있다. 한편, 드로잉 강도는 주어진 드로잉 가공 순서에 대하여 물질사이에 달성할 수 있는 규준화 굴절율 차이의 전체량과 관련될 수 있다. 한 상태에서는 분자 배향의 특정량은 강한 광학 배향이 될 수 있고, 다른 상태에서는 약한 또는 비광학 배향이 고려될 수 있다. 예를 들어, 제1 평면 내축을 따라 특정한 복굴절의 특정한 양은 제2 평면 내축을 따라 이러한 문맥의 매우 큰 복굴절의 상태가 보여질 때 무시될 수 있다. 제2 평면 내축을 따라 복굴절이 감소됨에 따라, 제1 평면 내축을 따라 약간의 배향은 더 광학적으로 우세해진다. 약간 또는 실제 광학적 배향을 유도하기 위해 충분히 짧은 시간 및/또는 충분히 차가운 온도에서 발생하는 가공은 각각 약한 또는 강한 광학적 배향하는 드로잉 가공이다. 약간 있거나 또는 분자 배향이 없는 충분히 긴 시간 및/또는 충분히 뜨거운 온도에서 발생하는 가공은 각각 비광학적 배향 또는 무배향(non-orienting) 가공이다.
가공 조건에 대한 물질의 배향 또는 무배향 반응을 고려해서 물질 또는 가공조건을 선택함으로써, 각각 드로잉 가공축을 따르는 사소한 배향량이라도 각 물질에 대해 별도로 조절된다. 따라서, 합성 필름은 각 물질이 각각의 축을 따라 다른 형태를 가지는 상기한 분자 배향을 제조될 수 있다. 예를 들어, 필름은 하나의 제1 평면 내축을 따라 강하게 또는 약하게, 비광학 또는 제2 평면 내축을 따라 비광학 또는 무배향을 가지고 광학적으로 배향된 물질 및 광학적으로 2축성 배향된 제2 물질(예를 들어, 양축 모두가 강하게 또는 약하게 광학적으로 배향됨)을 가지고 만들어 질 수 있다. 2축성 광학 배향, 예를 들어, 대칭(예를 들어, 모두 강하게 또는 약하게 배향됨) 또는 비대칭(예를 들어, 한 방향은 강하게 광학적으로 배향되고 다른 방향은 약하게 광학적으로 배향됨)이다. 특정한 가공에서 물질의 단지 하나만 광학적 배향을 가지게 될 수 있다.
특정한 드로잉 가공에 의해 유도된 분자 배향의 양은 그 자체로 합성 필름의 분자 배향을 나타내지 않는다. 제1 드로잉 가공에서 특정한 배향량은 제2 드로잉 가공에서 더 분자 배향을 촉진하게 하거나 보상하기 위하여 한 물질에 대해 허용될 수 있다. 예를 들어, 제1 드로잉 가공은 제1 물질에 대해 광학적으로 강하게 배향되고 제2 물질에 대해 비광학적으로 배향될 수 있다. 제2 드로잉 가공은 제1 물질에 대해 광학적으로 약하게 배향되고 제2 물질에 대해 광학적으로 강하게 배향되어 사용될 수 있다(예를 들어, 제1 드로잉 가공으로 부터 초래되는 분자 배향은 제2 물질에 대한 핵형성이 유도됨). 이러한 경우에, 제1 드로잉 가공에 의해 제1 물질에 유도된 배향은 제2 드로잉 가공에 의해 제1 물질에 유도된 배향보다 크다. 이러한 실시예로, 합성 필름에서 제1 물질은 제1 드로잉 방향으로 강한 광학적 배향을 가짐과 동시에 제2 물질은 제2 드로잉 방향으로 강한 광학적 배향을 가진다. 또 다른 실시예로, 광학 필름에 사용된 각각의 물질에 대한 점성-탄성 특성은 성분 물질의 하나가 광학적으로 2축성 배향(대칭 또는 비대칭)을 함과 동시에 다른 성분 물질은 단지 하나의 방향(단축성)으로 광학적으로 배향된 필림에 제조되는 다중 드로잉 가공을 함으로써 이용할 수 있다. 이러한 광학 필름은 한 물질에 대해 광학적으로 배향되고 제2 물질에 대한 무배향되는(또는 비광학적으로 배향됨) 제1 드로잉 가공 조건을 선택함으로써 만들어진다. 제2 드로잉 가공에 대한 조건은 양 물질에 대해 광학적으로 배향되도록 선택될 수 있다. 결과는 제1 물질은 단지 제2 방향으로 광학적으로 배향됨과 동시에 제2 물질은 제1 및 제2 방향 모두 광학적으로 배향되는 필름이 된다. 이러한 가공의 여러가지 잇점은 후술하는 여러가지 실시예, 다음에서 제공된 실시예 및 가공에서 나타난다.
여러가지 가능한 물질 및 가공 실시예에 대한 융통성과 폭은 이러한 목적에 대해 개발된 배향 도표에 대한 제작에 의해 이해될 수 있다. 이러한 도표는 목표한 많은 가공 단계 후에 여러가지 물질의 광학 배향 상태를 도시하기 위해 사용할 수 있다. 배향 도표는 다음과 같이 제작된다. 첫째, 한 세트의 축은 물질의 평면 굴절율이 도시하며 끌어당겨진다. 굴절율은 언제나 양의 상태로서, 단지 제1 사분면은 도표가 요구된다. 제1 평면(드로잉) 방향에서 굴절율은 y축에 의해 표시되고 제2 평면(드로잉) 방향에서 굴절율은 x축에 의해 표시된다. 2개의 축사이로 확대되는 45도 사선은 가능한 평면 아이소트로픽 상태를 표시한다. 전형적인 가공에서, 광학 필름에 사용된 물질은 초기에는 아이소트로픽하고 이 선상의 점에 의해 표시할 수 있다. 이러한 경우에 물질은 배향 상태로 시작될 수 있다. 많은 이러한 경우에, 전의 가공단계, 예를 들어, 캐스팅 단계은 이러한 배향원이(도포화는 이 선행 단계에서 시작될 수 있다)될 수 있다. 배향 도표는 물질의 배향 상태를 표시한다. 도 2a는, 예를 들어, 632.8 nm에서 1.625와 1.643의 초기 아이소트로픽 굴절율을 가지는 2개의 아이소트로픽 중합체의 경우를 설명하는 배향 도표이다(예를 들어, 70% PEN과 30% PET 서부유닛을 포함하는 폴리에스터 coPEN, 및 호모폴리머 PEN).
가능한 가공 단계는 제한은 없지만, 필름을 한 방향으로 끌어 당김과 동시에 다른 평면 방향으로 일정하게 유지되는 단계(예를 들어, 종래의 텐터로 드로잉), 한 방향으로 끌어 당김과 동시에 다른 평면 방향으로 완화되도록 치수적으로 허용되는 단계,(예를 들어 종래의 길이 오리엔터로 드로잉) 또는 아이소트로픽하게 언아이소트로픽하게 양방향으로 동시에 끌어 당기는 단계(예를 들어, 동시, 2축성 텐터로 드로잉)를 포함한다. 이 가공의 조합 또는 여러가지 가공 치환은 사용될 수 있다(예를 들어, 길이 오리엔터/텐터, 텐터/길이 오리엔터, 2축성 텐터/길리 오리엔터, 압축 등).
많은 주어진 단계 후에, 물질은 제1 드로잉 방향으로 단축 배향(u), 제2 드로잉 방향으로 단축(횡방향) 배향(t), 2축 배향된 평면(b) (평면, 평면을 벗어나 두께 방향으로 단축 압축은 2 축성 확장 평면의 형태이기 때문이다)의 다양한 배향 상태에서 찾을 수 있다. 다른 배향 가공을 할 수 있다. 예를 들어, 평면을 벗어난 단축 확장은 2축성 압축, 즉 반대로 2축성 확장으로서 평면으로 나타난다. 물질은 드로잉 방향으로 굴절율이 증가하는 양의 복굴절(P)이거나 굴절율이 감소하는 음의 복굴절(N)일 수 있다. 도 2b는 단축 배향된 양의 복굴절 물질 (201, uP), 횡방향 단축으로 배향된 양의 복굴절 물질(203, tP), 2축으로 배향된 양의 복굴절 물질(205, bP), 및 음의 복굴절 유사물(202,204,206 ; uN, tN ,bN)을 각각 포함하는 여러가지 물질 상태의 다양성을 설명한다. 굴절율이 일치되는 방향은 다른 드로잉축을 표시하는 별개의 숫자로 명명할 수 있다. 도 2b에서 2축성 상태는 제1 및 제3 사분면의 일반적 모양을 가정함과 동시에 단축 상태(u 및 t)는 제2 및 제4 사분면의 일반적 모양을 가진다. 물질 상태 도표 상에 단락의 길이는 등가의 아이소트로픽 상태로부터 굴절율 변화를 나타내고 도면의 정점은 등가의 아이소트로픽 상태의 굴절율이다. 제1 근사로서, 등가의 아이소트로픽 상태는 초기의 아이소트로픽 물질의 상태에 대한 굴절율이다. 플러스 또는 마이너스 부호(+/-)는 정점에서 두께의 부호변화 또는 등가의 아이소트로픽 상태의 굴절율(z)를 나타내는데 사용될 수 있다. 3 차원 배향 도표는 또한 도 2c에 도시한 바와 같이 굴절율(z)를 사용한다. 결과적으로, 단축 및 2축 드로잉사이의 변화에서, 제2 단락은 주요 드로잉 방향으로 도표를 단일 단락으로 축소하여 정점까지 축소될 수 있다.
배향 도표는 다양한 가공 선택을 일으키는 광학 필름을 도면으로 표시하여 사용할 수 있다. 적당한 물질가지고, 2 개의 방향 상태의 조합은 최종 물품을 만들기 위해 조합할 수 있다. 여러가지 실시예가 다른 배향 상태의 조합을 설명하기 위해 후술된다. 그러나, 본 발명은 제시된 실시예에 제한되지는 않는다. 도 2d의 배향 도표는 드로잉 조건과 편광기를 만들기 위해 선택된 물질 및 드로잉 조건을 구비하여 uP-uP-2 배향 도표를 유발하는, 도 2a에서 도시된 아이소트로픽 상태를 가지는 물질의 단축 드로잉의 경우를 설명한다. 도 2e는 uP-uN-2 배향 도표를 유발하는(예를 들어, PEN 및 규칙 배향 폴리스티렌) 단축 드로잉 경우에 양 및 음의 복굴절 물질 페어의 단축 드로잉 경우를 설명한다. 이 경우에, 배향 도표는 가장 높은 등가의 아이소트로픽 상태를 가진 물질에 의해 제1 물질로, 보다 낮은 등가의 아이소트로픽 상태를 가진 물질에 의해 제2 물질로, 최종적으로 방향 매칭에 의해, 여기에 제2 또는 비 드로잉 평면 방향으로 명명된다. 다른 매칭 명명은 제1 드로잉 평면 방향으로 매칭에 대해 "1" 및 평면 방향으로 비매칭에 대해 "0"를 포함한다. "+", "-", "0"의 매칭 명명은 비평면 제1 및 제2 물질 굴절율(z)에서 조건(매칭 또는 차이)을 표시하기 위해 부가될 수 있다. 도 2d 및 도 2e에 도시한 바와 같이, 결과는 x축 방향을 따르는 투과(패스)축과 y축을 따르는 반사(블록)축을 가진 편광기이다.
주어진 배향 도표에서 가공의 질적인 효과는 논외로 할 수있다. 드로잉하는양의 복굴절 물질은 드로잉 방향으로 배향 도표의 양의 길이가 증가한다. 배향 가공에 드로잉 동안에 작용되는 다른 물질이 없는 경우에,(예를 들어, 결정화 또는 다른 위상 변화) 단축 드로잉은 비드로잉 방향 및 z 방향으로 배향 도표의 양의 길이가 유지되거나 감소경향이 있다. 2축성 드로잉이 양 평면 방향이 증가하는 경향이 있기 때문에, 굴절율 (z)은 등가의 아이소트로픽 상태가 일정하게 유지되는 한 감소하는 경향이 있다(예를 들어, 결정화에 의한 밀집화가 없음). 반대 변화가 음의 복굴절 물질에서 발생한다. 예를 들어, 도 2f는 아이소트로픽 굴절율(211)을 가지는 양의 복굴절 물질이 2 단계의 2 축성 드로잉 가공에 반응하는 지를 도시한다. 물질은 y축 방향으로 제1 드로잉이다. 제1 드로잉 후에 물질은 평면 굴절율(213 및 215)를 가진 단축 방향 상태로 나타난다. 물질이 x축 방향으로 끌어당겨질 때, 제1축을 따르는 굴절율(217)은 감소하고 물질은 x축을 따르는 굴절율(219)은 증가한다. 적당한 드로잉 조건을 가진 가공을 사용하여 각각 x축 및 y축을 따르는 굴절율의 실제 변화가 동일하도록 물질을 끌어당길 수있다. 전형적으로, 다른 배향과 밀집화 가공이 없는 경우에, 굴절율 z는 각 드로잉 가공 동안에 계속 감소한다.
다중 물질 상에 다중 드로잉 가공의 효과는 도 2g-2i와 관련하여 더 설명한다. 도 2g는 제1 단축 드로잉 후에 2 개의 양의 복굴절 물질에 대한 배향 도표를 도시한다. 결과는 제1 물질이 강하게 배향되고 제2 물질이 약하게 배향되는 uP-uP-0 도표이다. 도 2h는 제2 방향으로 드로잉 동안에 uP-tP-2 배향 상태 도표로 진행을 도시한다. 후자의 경우는 목표한 최종 물품일 수 있다 (예를 들어, 최종 드로잉 방향을 따라 투과 방향을 가진 편광기). 결과적으로, 도 2i는 최종 bP-tP-2 방향 상태로 진행을 도시한다. 다시 이것은 최종 드로잉 방향(x축)을 따라 투과 방향을 가진 편광기를 유발한다. 제1 물질은 강하게 2축성으로 배향됨과 동시에 제2 물질은 단축으로 배향된다.
드로잉 가공이 비록 제1 근사에 따라 물질에서 배향 변화를 유발할지라도, 밀집화와 같은 제2 가공 또는 결정화와 같은 위상 변화는 또한 배향 특성에 영향을 줄 수 있다. 극단적인 물질 상호작용(예를 들어, 자기 조합 또는 액정 변화)인 경우에, 이러한 효과는 압도적일 수 있다. 전형적인 경우에, 예를 들어, 폴리머 분자의 주요한 연결 본체가 흐름, 스트레인 유도형 결정화와 같은 효과를 가지는 배향로 되는 경향이 있는 드로잉 중합체는, 배향 특성에 단지 제2 효과만을 가지는 경향이 있다. 스트레인 유도형 및 다른 결정화는 그러나, 이러한 배향 강도에 주요한 효과를 가진다(예를 들어, 약하게 배향되는 드로잉이 강하게 드로잉 배향로 변환됨).
일반적으로, 결정화가 수반됨에 따른 밀집화는 물질에 대한 평균 또는 등가의 아이소트로픽 굴절율을 증가시키는 경향이 있다. 이러한 효과는 가공 동안에 배향 변화의 성질이 모호하게 할 수 있지만 전형적으로 작다. 예를 들어, 폴리에스터와 같은 단축 배향된 물질은 결정화를 증가하는 가열원이 될 수 있다. 이 경우에는 굴절율(z)이 감소하는 것보다 평면 굴절율이 증가될 수 있다. 아몰퍼스 아이소트로픽 굴절율에 비해, 합성 굴절율은 2축성 배향로 변환이 제안될 수 있고, 반면에 실제 변화는 반결정 물질에 대한 등가의 아이소트로픽 상태로 이동이다. 이것은 아이소트로픽 선 위의 제1 위치(221)으로 부터 제2 위치(222)까지 물질 구성을 변화함에 따라 도 2j에 설명된다. 최종 물질의 등가의 아이소트로픽 굴절율은 다양한 방법으로 최종 굴절율을 사용하여 평가할 수 있다. 예를 들어, 간단한 평균이 사용될 수 있다. 한편 아이소트로픽 국부 필드가 가정되고 극성 보존이 되는 로렌쯔-로렌쯔 (클라우지스-모세티) 방정식의 언아이소트로픽 버젼이 사용된다.
결정화와 가공 동안에 유발된 다른 변화는 또한 부가적인 배향 효과를 제공할 수 있다. 예를 들어, PEN 및 PET를 포함하는 많은 폴리에스터의 비끌어 당김 방향의 굴절율은 두께 방향으로 평면 방향 치수로 바람직하게 유지되는 드로잉 동안에 단조적으로 변화되지 않는다. 결정의 순서화가 발생되어 유지된다(아마도 아로마틱 링의 평면화를 초래하는 결정의 성장율과 흐름 동안에 언아이소트로픽 결정의 회전이 주어진 기하학적인 고려에 원인이 됨). 이것은 관찰된 z 굴절율을 대가로 비드로잉 평면 굴절율의 증가를 초래한다. 따라서, 이러한 결정화 가공은 단축 드로잉 동안에 불균일 2축 광 배향을 생성하면서 횡 배향의 낮은 레벨을 제공할 수 있다. 결정 성장을 촉진하는 가열과 같은 순차의 가공 단계는 또한 결정 크기에 따라 가공을 배향할 수 있다.
도 1b는 본 발명의 실시예에 따라 제작된 다층 광학 필름(111)을 도시한다. 도 1b에서 필름(111)은 복굴절 물질 (115)의 제2층으로 공동 사출 성형된 복굴절 물질 (113)의 제1층을 포함한다. 단지 2개의 층이 도 1b에 설명되고 일반적으로 이점에 대해 기술한 반면에, 가공은 많은 다른 물질로 만들어진 수백 수천의 층을 가진 다층 광학 필름에 적용할 수 있다. 다층 광학 필름의 일반적인 설명이 상기 참조된 미국 특허 출원 제08/402,041호, 미국 특허 출원 제09/006,591호 및 제09/006,085호에 제공된다.
물질은 필름(111)에서 2 개의 물질 (113 및 115)의 드로잉 실행으로 최소한 분리되기 위하여 점성-탄성 특성을 가지고 선택될 수 있다.
드로잉 실행을 분리함으로써, 물질의 상대적인 굴절율 변화는 2 개의 다른 물질에서 여러자지 조합의 배향 상태를 얻기 위하여 별도로 조절될 수 있다. 이러한 과정에서 2 개의 다른 물질은 공동 사출 성형된 다층 필름의 인접층을 형성한다. 공동 사출 성형된 층의 굴절율은 비록 캐스팅 가공 동안에 약간의 배향이 사출 성형된 필름에 우연하게 또는 고의적으로 도입될지라도 전형적으로 초기 아이소트로피(즉, 굴절율이 각 축을 따라 동일하다)를 가진다. 설명된 실시예에서, 필름은 2 개의 물질중 하나는 광학적으로 배향되고 다른 물질은 비광학적으로 배향되거나 무배향되는 조건하에서 제1 방향(예를 들어, y축 방향)으로 끌어당겨질 수 있다. 이러한 방법으로, 물질중 하나는 제1 드로잉 방향(예를 들어, y축)에서 분자배향이 가정됨과 동시에 다른 물질은 아이소트로픽하게 유지된다. 제2 드로잉 가공은 양 물질에 대해 광학적으로 배향되도록 선택된 조건하에서 제2 방향(예를 들어, x축 방향)으로 실행될 수 있다. 이러한 실시예에서, 한 물질은 단지 제2 드로잉 방향(예를들어, x축)으로 분자 배향을 가지고 반면에 다른 물질은 양 방향(예를 들어, x축 및 y축)으로 분자 배향을 가진다.
상기의 가공에서, 보다 큰 융통성은 물질의 굴절율을 조절하기 위해 제공된다. 물질이 끌어당겨짐에 따라, z축 방향으로 물질의 굴절율은 또한 영향받을 수 있다. 중합성 물질이 한 방향으로 끌어당겨짐에 따라, 끌어당겨진 중합체의 근사적 비압축성(부피 보존)은 물질이 2 개의 수직한 방향으로 하나 또는 양자가 드로잉을 일으킬 수 있다. 드로잉 조건이 하나의 방향으로 치수가 제한되는 경우에 대다수의 수축은 제3 방향에서 발생할 것이다. 예를 들어, 중합성 필름이 예를 들어 종래의 텐터를 사용하여 제1 방향으로 끌어당겨지는 경우에, 제조가공은 필수적으로 비드로잉이 유지되고, 평면 치수가 고정된다. 이 경우에 z축 굴절율이 변하는 두께 방향으로 일어나는 대부분 모든 치수의 축소를 강요한다. 중합성 필름이 예를 들어 길이 오리엔터(예를 들어, 다른 속도의 롤러로 구성됨)를 사용하여 제1 방향에서 끌어당겨지는 경우에, 제조 가공은 필수적으로 비드로잉, 평면 치수 고정이 유지될 수 있고 또는 이 방향의 수축을 일으킬 수 있다. 상기의 가공을 사용하여, 물질의 z축 상대 굴절율은 또한 조정할 수 있다. 후술하는 설명은 z축 굴절율을 조정함으로써 얻어진 잇점을 설명한다.
반사 편광기를 형성하기 위한 한가지 시도는 드로잉 가공 동안에 일정하게 유지되는 아이소트로픽 굴절율을 가진 제1 복굴절 물질 및 제2 복굴절 물질을 사용한다. 제2 물질은 제1 물질의 비드로잉 평면 굴절율과 일치하는 아이소트로픽 굴절율을 가지도록 선택된다. 이러한 가공에서, z축을 따라 2 개 물질의 굴절율의 불일치는 배향되는 물질의 두께 방향으로 굴절율의 변화 결과로서 형성된다. 다층 필림에서 z축의 중요성은 상기 참조된 미국 특허 출원 제08/402,041호에 기술된다.
본 발명의 실시예에 따르면, 두께 방향(z축)으로 굴절율 변화는 물질과 가공 조건을 선택할 때 고려된다. 물질의 여러가지 성질을 이용함으로써, z축을 따른 2 개의 물질의 굴절율의 불일치는 목표에 따라 축소되거나 제거된다. 더우기, 필름이 끌어당겨짐에 따라 2 개의 물질에 대한 반응을 분리하면서 평면 굴절율은 물론 z축 상대 굴절율의 조정을 목표한 레벨까지 허용한다.
개선된 광학적 성질 이외에도, 광학적으로 배향 및 비광학적으로 배향(또는 무배향)되는 드로잉 가공을 조합하면서 또한 형성된 필름의 개선된 기계적 성질을 얻는 데 사용할 수 있다. 최소한 한가지 물질이 2축성 분자 배향을 나타낼 때, 처음을 파열하기 위한 개선된 저항을 처음 분리하여 단일 방향으로만 끌어당겨지는 필름과 비교해서 얻어진다. 따라서, 본 발명의 한가지 특수한 실시예에 따르면, 최소한 하나의 2축성 배향 물질은 광학적 편광 필름에서 필름의 기계적 성질 개선하기 위해 제공된다. 개선된 기계적 성질은 예를 들어, 개선된 감음성(windability) 및 편광 필름의 변환을 포함한다. 2축성 배향된 물질의 존재는 또한 초기 및 전파를 파열하기 위한 저항을 포함해서 필름의 질김을 개선하는 경향이 있다.
최소한 몇가지 물질의 2축성 배향 또는 교차된 단축 배향은 또한 치수의 안정성, 수축은 물론 열 및 흡습 팽창을 향상할 수 있다. 치수 안정성은 최종 응용품, 예를 들어 액정 디스플레이에 종종 중요성이 있다. 평면 팽창에 대한 제약은 예를 들어, 디스플레이의 유용성을 소실시키거나 손실시키는 비평면 와핑(warping) 또는 버클링(buckling)을 일으킬 수 있다. 본 발명에 따라 2축성으로 배향된 편광기는 이러한 문제를 크게 축소하거나 제거한다. 여러가지 기계적 특성의 배향 방향은 변할 수 있다. 예를 들어, 최대 파열 저항 또는 최대 열 팽창은 최종 드로잉 방향에 수직하거나 일치할 수 있다. 몇가지 경우에, 물질 선택과 가공은 이러한 방향 및 크기, 예를 들어 광학 물질의 배향은 물론 표면층의 조성 및 상대 두께(및 다층 필름의 내부 보호 경계층)를 조절함으로써 제작되도록 선택된다.
개선된 기계적 성질은 필름의 비광학 물질에 2축성 특성을 부가함으로써 광학 필름에 부가될 수 있다(예를 들어, 보호 경계층, 표면 층, 촉진 층 등). 예를 들어, 다층 구축은 제1 복굴절 물질 및 제2 비복굴절 아이소트로픽 물질을 포함하여 교번층으로 제작될 수 있다. 필름은 또한 하나 또는 그 이상의 배향가능한 보호층 또는 표면층을 포함한다. 이러한 필름은 광학층의 제1 물질에 광학 배향을 유도하는 것이 아닌 제1 드로잉 방향으로 비광학 물질이 배향하는 조건하에서 제1 방향에 대해 가공화될 수 있다. 필름은 광학층 및 비광학층의 복굴절 물질을 배향하는 조건하에서 제2 방향에 대해 가공화될 수 있다. 합성 필름은 단축의 광학적으로 배향된 복굴절 물질 및 필름의 광학적 부분을 형성하는 아이소트로픽 물질 및 최소한 2 축으로 배향된 비광학층(예를 들어 보호 경계층 또는 표면층)의 인접층을 가지고 있다.
2축성 배향이 유도된 비광학 물질은 또한 혼합 광학 필름에서 사용될 수 있다. 예를 들어, 하나 또는 그 이상의 촉진층(후술함)은 최소한 혼합의 광학 물질은 필수적으로 단축으로 배향된 드로잉 조건하에서, 2축의 드로잉 가공을 사용하여 2축성 배향될 수 있다. 이러한 구축에서 5개층 필름을 만들 수 있다. 필름은 A층은 비광학 촉진층이고 B층은 광학 혼합층인 ABABA 형태로 만들 수 있다. 이러한 필름에서 각 촉진층은 동일한 또는 다른 구축이 될 수 있다. 유사하게, 여러가지 광학 혼합층은 동일한 또는 다른 구축이 될 수 있다.
이러한 필름은 하나 또는 그 이상의 촉진층으로 2축성 배향됨과 동시에 혼합층에서 최소한 한개의 물질은 단축으로 배향되는 조건하에서 가공화될 수 있다. 강하고 약한 2축성 배향 및 단축 배향의 여러가지 조합은 다른 물질 및 층을 가지고 얻을 수 있다.
상기의 실시예에서 설명한 것과 같이, 본 발명에 따르면, 광학 필름은 최소한 2 개의 다른 복굴절 물질이 사용되고, 필름의 비광학 부분이 섞여져 만들 수 있다. 2 개의 물질은 차후에 목표한 광학 성능을 얻을 수 있게 가공화되는 광학 필름으로 공동 사출 성형할 수 있다. 공동 사출 성형 필름은 필름의 비광학 부분에서 복굴절 물질이 2 축성으로 배향되고 반면에 필름의 광학 부분에 복굴절 물질이 단축으로 배향되도록 가공할 수 있다. 이러한 필름에서, 개선된 기계적 성질은 필름의 광학적 성능 중요한 영향없이 얻어질 수 있다.
필름의 2축성 신장은 또한 물질 선택에서 보다 큰 자유도를 허용한다. 종래의 단축으로 신장된 편광기에서, 한 개의 물질은 다른 물질(스트레인이 유도된 복굴절)에서 비신장된 물질과 일치하는 아이스트로픽 굴절율을 가지도록 선택된다. 끌어당겨진 복굴절 물질의 굴절율은 아이소트로픽 물질로서 사용을 위해 가능한 물질의 수로 제한되는 특정한 예에서 상당히 높을 수 있다. 대조적으로, 필름은 2축으로 신장되기 때문에, 2 개의 다른 스트레인이 유도된 복굴절 물질이 사용될 수 있다. 예를 들어, 다른 물질의 무배향된(비광학적으로 배향된) 평면 굴절율과 일치하는 신장이 평면 굴절율을 가질 때에 보다 낮은 아이소트로픽 굴절율을 가진 필름을 사용할 수 있다. 다시 말해, 한 물질의 평면 굴절율은 다른 물질의 무배향된 평면 굴절율과 일치하도록 제기될 수 있다(예를 들어, 제2 복굴절의 두께 방향으로 굴절율을 2축의 신장가공의 결과로서 감소되는 것을 허용함으로써). 다른 실시예에서, 제2 물질은 다른 물질의 높은 굴절율과 일치하는 드로잉 후에 평면 굴절율을 사용할 수 있다. 굴절율이 여러가지 실시예에서 굴절율은 양의 복굴절 물질과 관련되어 기술되는 반면에, 명세서 전체를 통하여 기술된 개념은 또한 음의 복굴절 물질에 적용할 수 있다.(또는 양 및 음의 복굴절 물질의 조합)
후술하는 특정한 실시예를 평가하여 볼 때, 2축으로 드로잉된 필름에 사용된 특정한 물질은 필름의 열처리를 허용하도록 선택될 수 있다. 필름에 열처리하는 능력은 물론 상기 기술된 개선된 기계적 성질은 필름을 코팅 및 다양한 후단 기능과 같은 후가공 실시를 위해 특히 잘 맞게 만들 수 있다. 열처리하는 필름은 또한 많은 광학적 필름의 광학적 성능이 개선될 수 있다.
필름의 2축성 신장은 물질 선택에 있어 보다 큰 자유도를 허용할 뿐만아니라 최종 물품의 배치를 조절하여 보다 큰 융통성을 가진다. 전형적인 단일의 드로잉 단계에서, 제2의 굴절율, 아이스트로픽 물질은 제1, 복굴절 물질의 낮은 굴절율에 일치된다. 제1, 양의 복굴절 물질(즉, 신장과 함께 평면 신장 방향을 따라 굴절율이 증가하는 물질)보다 낮은 드로잉에 수직한 제2 평면 굴절율의 일치는 최대 굴절율 차이와 단일의 드로잉 방향으로 최대 반사(블록 상태)의 편광축을 가진 편광기를 초래한다. 단일의 드로잉 단계를 사용하여 제2 아이소트로픽 굴절율이 제1, 복굴절 물질의 보다 큰 굴절율에 일치하도록 할 수 있다. 이 경우 예를 들어 제1, 복굴절 폴리머로서 폴리에틸렌 테레프탈레이트(polyethylene terephthalene)와 같은 폴리에스터, 폴리비닐 나프탈렌(polyvinyl naphtalene) 또는 폴리비닐 카바졸(polyvinyl carbazole)을 사용하여 제2 아이소트로픽 중합체로서 632.8nm에서 대략 1.68의 굴절율을 달성할 수 있다. 이러한 필름에서, 편광기는 최대 굴절율 차이의 편광축 및 이에 따른 단일의 드로잉에 수직한 방향으로 최대 반사(블록 상태)를 가지고 구축될 수 있다. 단일의 드로잉 단계는 상기 발명과 일치하게 사용할 수 있는 반면에, 편광기와 같이 만들 수 있는 물질의 수는 제한된다(예를 들어, 필요한 높은 굴절율을 가지는 몇가지 아이스트로픽 물질에 광학 필름에 적당할 수 있음).
제1, 음의 복굴절 물질(예를 들어, 평면 신장 방향을 따라 굴절율이 감소하는 물질)을 사용하여 단일의 드로잉 가공에서, 보다 크고, 드로잉에 수직한 제2 평면 굴절율의 아이소트로픽 물질과 일치는 물질 선택 관점에서 용이할 수 있다. 예를 들어, 나프탈레이트, 텔레프탈레이트 및 아이소프탈레이트 서브유닛을 포함하는 규칙배향 폴리스틸렌 및 코폴리에스터는 제2 아이소트로픽 중합체로서 632.8nm에서 1.57과 1.64사이의 아이소트로픽 굴절율에 도달하도록 사용할 수 있다. 이 경우 드로잉 방향에 수직한 투과축을 가진 편광기를 생성한다. 드로잉 방향에 따라 투과축을 가진 편광기를 만들기 위하여, 다른 중합체는 음의 복굴절 드로잉 폴리머의 낮은 굴절율이 일치되도록 선택해야 한다. 아이소트로픽 중합체는 사용될 수 있다. 한편, 음의 복굴절 물질의 아이소트로픽 굴절율이 클수록 양의 복굴절 물질의 아이소트로픽 굴절율이 작을수록 드로잉 방향 굴절율을 일치시킴으로써 사용될 수 있다(예를 들어, 여러가지 폴리 아크릴 레이트 또는 폴리올레핀을 가진 규칙 배향된 폴리스티렌을 사용함으로써). 최종적으로 이러한 시도는 음의 복굴절 물질에 적당히 요구된다.
발명의 다른 실시예에 따르면, 다중 드로잉 가공은 반사 및 투과축을 변화하도록 가공 조건을 조절하여 사용될 수 있다. 한 실시예에 따르면, 동일 물질(예를 들어, 폴리에틸렌 나프타레이트 및 포리에틸렌 텔레프탈레이트)의 하나는 제2 드로잉에 동일 직선상 반사축을 가지고 다른 하나는 제1 드로잉에 동일 직선상에 반사축을 가지는 다른 다층 광학 필름을 형성하기 위한 다른 2축성, 2 단계 드로잉 가공에서 사용될 수 있다. 후술의 실시예에 의해 설명된 바와 같이, 양자의 물질은 복굴절 물질이 스트레인을 유도할 수 있기 때문에, 2축성으로 배향 된 제2 물질의 평면 굴절율은 단축으로 광학적으로 배향된 물질의 높은 굴절율을 일치하도록 양자가 모두 선택될 수 있다. 이러한 시도는 물질 선택에 보다 큰 융통성 및 반사 및 투과축에 대한 보다 큰 조절을 제공한다.
광학 편광기의 반사 및 투과축 배향의 조절은 많은 잇점을 제공한다. 도 3에 설명한 바와 같이, 기술된 형태의 반사 편광기(301)와 흡수 편광기(303)를 조합하는 것이 바람직하다. 이러한 조합은 양질의 편광 효율을 제공한다. 본 발명의 반사 편광기와 종래의 흡수 편광기를 조합과 관련된 잇점은 필름 롤 방향 관점에서 반사 편광기의 반사축이 흡수 편광기의 소멸축에 일치하도록 만든다는 것이다. 본 발명의 한 실시예에서, 전형적인 흡수 편광기와 일치하는 필름 롤 업 방향에 대해 반사축(305)을 가진 반사 편광기를 만들 수 있다. 반사 편광기 및 흡수 편광기의 필름 롤 업 방향(및 상대 투과축, 306)에 대한 상대 반사 및 소멸축(305)을 일치시키면, 후가공과 적층(lamination)이 용이할 수 있다. 예를 들어, 2 개의 필름은 다운웹(MD) 소멸축을 가진 전형적인 2색성 편광기에 대한 크로스웹(TD) 반사축보다 다운웹(MD)를 가진 반사 편광기의 롤 대 롤 적층을 사용하여 적층할 수 있다(예를 들어, 요오드로 착색되고 2색성 편광기를 만들기 위한 볼릭산이 혼합된 전형적인 폴리비닐 알코올(PVA) 길이로 배향된 필름으로 부터 초래된 바와 같이).
반사 편광기의 투과(패스) 및 반사(블록)를 조절하는 능력은 또한 반사 편광기 및 흡수 편광기의 동시 배향을 허용한다. 한 실시예에서, 배향할 수 있는 흡수 편광기는 (예를 들어, PVA 코팅 및 흡수 염색을 사용하여) 제1 및 제2 배향 가공사이의 필름에 대해 적용될 수 있다. 흡수 편광기는 제2 배향 가공에 대해 배향될 수 있다.이러한 가공을 사용할 때, 특정한 경우에 흡수 편광기의 블록축은 반사 편광기의 투과축으로 배향될 수 있다. 본 발명에서, 반사 및 투과축을 조절함으로써, 흡수편광기 및 반사 편광기는 효과적으로 배향될 수 있다.
첫째, LO 드로잉 가공은 예를 들어, 제1축에 대한 필름을 배향하기 위해 사용될 수 있다. 그 후 필름은 적절히 코팅 될 수 있고 텐터로 배향 될 수 있다. 텐터에서 배향은 제2 드로잉 가공축에 대해 흡수 편광기 및 반사 편광기를 배향하기 위해 제공된다. 이러한 가공에서 사용하기에 특히 적당한 코팅 과정과 물질은 발명의 명칭이 "2색성 편광기를 가진 광학 장치 및 다층 광학 필름" 인 변호사 사건 일람표 53588USA7A 및 발명의 명칭이 "2색성 편광 필름 및 필름을 포함한 광학 편광기" 인 변호사 사건 일람표 53588USA5A에 기술되었다.
다른 실시예에서, 필름의 하나 또는 그 이상의 층은 하나 또는 그 이상의 염료, 2색 염료, 색소 또는 광의 한가지 편광만을 흡수하는 다른 첨가제가 포함될 수 있다. 이러한 필름은 흡수 편광기의 및 반사 편광기의 성능을 조합하여 얻어진다. 다층 필름에서 첨가제는 별개의 층에 형성될 수 있고 또는 최소한 몇개의 층에 제1 또는 제2 물질중 하나가 혼합될 수 있다. 첨가제를 광학층에 섞을 때, 특정한 경우에 드로잉 가공(예를 들어, 제1 드로잉)동안에 광학적으로 배향되지 않은(무배향) 물질에 첨가제를 섞는 것이 바람직하다.
또한 혼합물 필름에 첨가제를 조합하는 것이 바람직할 수 있다. 혼합물 필름은 흡수 및 반사 편광 필름을 얻기 위하여 흡수 첨가제를 함유하는 별개의 층에 조합될 수 있다. 첨가제는 또한 또는 한편으로 혼합물 필름의 2 개의 위상중 하나에 섞을 수 있다. 예를 들어, 첨가제는 혼합물 필름의 분산 위상에 함유될 수 있다. 혼합물 필름은 또한 혼합물 구축의 2 개 또는 그 이상의 별개층으로 구성될 수 있다. 흡수 첨가제는 첨가제가 없는 최소한 다른 층은 내버려 두고 층 하나에 하나의 위상으로 섞을 수 있다. 최종 필름은 흡수 및 반사 편광 성질 모두가 나타난다.
상기에 기술한 바와 같이, 본 발명은 혼합물 광학 필름에 적용할 수 있다. 전형적인 혼합물 필름에서, 최소한 2 개의 다른 물질의 혼합물을 사용한다. 특정한 축을 따르는 2개의 또는 그 이상의 물질의 굴절율의 불일치는 그 축을 따라 편광되는 입사광을 반사의 대부분의 양으로 유발하는 산란을 시키는 데 사용할 수 있다. 2개 또는 그 이상의 물질의 굴절율이 일치하는 한개의 축 방향으로 편광된 입사광은 산란도가 적어 투과된다. 물질의 상대 굴절율을 조절함으로써, 다양한 광학 장치는 반사 편광기, 거울과 같은 것을 포함하여 구축할 수 있다. 혼합물 필름은 많은 다른 형태의 필름을 가정할 수 있다. 예를 들어, 혼합물은 연속 위상 내에서 분산 위상이 형성될 수 있거나 또는 연속 위상을 형성될 수 있다. 후술의 특정한 실시예와 같이, 본 발명은 여러가지 형태의 혼합물에 적용할 수 있다. 여러가지 혼합물 필름의 일반적인 형성 및 광학 성질은 발명의 명칭이 "제1 복굴절 위상 및 제2 위상을 포함하는 확산 반사 편광 성분"인 미국 특허 출원 제08/610,092호(02/29/96 출원) 및 발명의 명칭이 "공동의 연속 위상을 가지는 광학 필름"인 미국 특허 출원 제08/810,329호(02/18/97 출원)에 상세히 기술된다.
도 4는 2개의 물질이 혼합물로 형성되는 본 발명의 실시예를 설명한다. 도 4에서, 광학 필름(401)은 제1 물질(403)의 연속(매트릭스) 위상 및 제2 물질(405)의 분산 (불연속적) 위상을 형성한다. 필름의 광학적 성질은 혼합물 편광 필름을 형성하도록 사용될 수 있다. 이러한 필름에서, 연속 및 분산 위상 물질의 굴절율은 한의 평면 내축을 따라 일치되고 다른 평면 내축을 따라 불일치된다.
본 발명의 실시예에 따른 도 4에 설명된 형태의 개선된 광학 필름을 형성하는 가공을 기술한다. 일반적으로 물질 하나 또는 모두가 복굴절이다. 특수한 물질의 선택은 광학 필름의 목표한 광학 성질에 의존한다. 도 4에 설명된 실시예와 같이, 광학 편광기가 구축된다. 광학 혼합물 편광기에 대하여, 필름의 한 평면 내축 방향으로 물질의 굴절율을 가능한 한 일치시킴과 동시에 다른 평면 내축 방향으로 물질의 큰 굴절율을 가능한 한 불일치하는 것이 바람직하다.
목표한 결과를 달성하기 위하여, 필름은 드로잉 방향으로 최소한 물질 하나는 광학 배향을 유도하지 않는 조건하에서 제1 방향으로 끌어당겨진다. 물질은 드로잉 방향으로 최소한 물질 하나는 광학 배향을 유도하는 조건하에서 제2 방향으로 끌어당겨진다. 하나의 실시예에서, 비광학 배향 및 광학 배향은 동일한 물질에 유도된다(예를 들어, 모든 방향이 연속 위상으로 유도된다). 다른 실시예에서, 제2 드로잉의 광학 배향은 최소한 제1 드로잉에 의해 영향을 받지 않는 최소한의 물질이 유도된다.(예를 들어, 제1 끌어 당김은 분산 위상에 영향받지 않고 반면에 제2 드로잉은 분산 위상으로 배향을 부가한다). 후술하는 바와 같이, 이러한 가공은 개선된 광학 성질은 물론 광학 필름의 개선된 기계적 성질을 얻는데 사용될 수 있다.
하나는 특별한 실시예에 따라 필름(401)은 하나의 평면 내축 방향으로 제1 드로잉이다. 상기 기술된 혼합물 필름(401)에 사용된 물질의 상기한 점성-탄성 성질에 기초로, 제1 드로잉에 대한 드로잉 조건은 드로잉이 분산 위상 물질(405)에 대해 비광학적으로 배향을 선택될 수 있다(예를 들어, 제1 드로잉에 의한 제1 물질에 유도된 배향은 제1 물질에 복굴절을 도입할 수 없을 만큼 충분히 작다). 예를 들어, 특정한 경우에 제2 드로잉에 의해 제1 물질에 유도된 복굴절의 대략 반보다 적은 제1 드로잉에 유도된 제1 물질에 복굴절을 가지는 것이 바람직하다. 다른 실시예에서 제2 드로잉에 의해 유도된 복굴절의 대략 4분의 1보다 적은 제1 물질에 복굴절을 가지는 것이 필요하거나 바람직하다. 특정한 응용에서, 제1 드로잉 방향으로 제1 물질에 유도된 복굴절은 없다(예를 들어, 비광학적으로 배향 또는 무배향됨).
제1 드로잉의 드로잉 조건은 또한 연속 위상 물질(403)에 대한 비광학적으로 배향되거나 약간 광학적으로 배향되도록 선택된다. 후술하는 바와 같이, 제1 방향으로 연속 위상 물질의 유도된 배향은 제1 드로잉에 수직한 제2 드로잉에 의해 유도된 다른 분자배향과 병합하여, 연속 위상 물질 (403)에서 2축성 특성을 가지는 필름이 생성된다. 필름(401)의 2축성 성질은 필름의 기계적 성질을 개선한다(예를 들어, 초기 파열 및 균열에 대한 저항이 증가한다).
제1 드로잉에 의하여 유도된 연속 위상 물질(403)에서 분자 배향은 필름의 전반적인 광학 성능에 영향없이 개선된 기계적 성질을 제공할 만큼 충분히 큰 것이 바람직하다. 다른 점성-탄성 특성을 가진 물질을 사용함으로써(예를 들어, 가장 긴 평균 완화 시간), 제1 드로잉 단계는 필름의 광학적 성질에 영향을 줌이 없이 필름의 기계적 성질을 개선하는 방법으로(예를 들어, 2축성 파열 저항을 발생함으로써) 실행될 수 있다. 예를 들어, 분산 위상 물질이 복굴절 되면, 제1 드로잉은 제1 드로잉 방향으로 분산 위상 물질(405)에 복굴절을 도입함이 없이 제1 드로잉 방향으로 연속 위상 물질을 약간 배향 함으로써 필름의 기계적 성질을 개선하도록 할 수 있다.
기계적 성질이 개선되는 것외에도, 제1 드로잉을 위해 상기 드로잉 조건을 사용하여 또한 필름의 광학 특성을 개선한다. 도 4에 설명된 바와 같은 혼합 필름에서, 분산 위상 물질(405)는 모양(예를 들어, 로드와 같은 구조, 407)을 가진다. 그러나 분산 위상 물질(405)를 위해 많은 다른 구조가 적당할 수 있다. 모양에 관계없이, 일반적으로 분산 위상 물질(405)은 두께 방향(z축)으로 상대적으로 얇은 것이 바람직하다. 제한 범위내에서, 분산 위상 물질(405)의 두께가 두께 방향으로 축소될 때, 필름의 광학적 성능은 개선된다. 예를 들어, 제1 드로잉이 도 4에 도시한 로드형 구조(407)의 길이 방향으로 실행되는 경우에는 로드형 구조(407)의 두께는 축소된다. 이것은 길이 오리엔터(LO)를 사용하여 기계 방향으로 혼합 물질을 드로잉으로써 실행된다. 드로잉비 및 비율은 분산 위상 물질에서 분자를 광학적으로 배향함이 없이 연속 위상 물질에 목표한 분자배향을 얻도록 선택된다. 그러나, 분산 위상 물질의 모양이 변경된다. 분자 배향이 분산 위상 물질에 도입되지 않는 드로잉 조건이기 때문에, z축을 따라 분산 위상의 두께를 축소를 초래하는 필름의 개선된 광학 성능은 필름의 기계적 성질을 개선함과 동시에 얻어진다. 특정한 경우에 제1 드로잉 가공은 연속 물질을 위해 약간 광학적으로 배향될 수 있는 반면에, 이러한 배향이 도입된 필름의 광학적 성능의 저하는 분산 위상 물질의 모양을 바꿈에 의하여 제공되는 개선된 광학적 성질에 의해 부분적으로 또는 완벽히 보충될 수 있다.
제1 드로잉에 따르면, 제2 드로잉은 제2 수직한 평면 내축을 따라 실행된다. 제2 드로잉을 위한 드로잉 조건은 최소한 연속 위상 물질(403)에서 제2 드로잉 방향으로 광학 배향을 발생하도록 선택된다. 특정한 경우에 또한 분산 위상 물질(405)에 광학 배향을 유도하는 것이 바람직하다(예를 들어, 반대의 복굴절 물질이 사용된다). 상기한 바와 같이, 이러한 제2 드로잉은 연속 위상 물질(403)에서 2축성 특성을 도입한다. 분산 위상 물질(405)의 광학적 배향은 분산 위상 물질(405)이 제2 드로잉 축을 따라 복굴절을 일으키도록 할 수 있다.
제1 드로잉에 의하여 도입된 연속 위상 물질(403)의 분자 배향은 제1 드로잉 방향으로 연속 위상 물질에 약한 복굴절을 부가할 만큼 충분히 작을 수 있지만 목표한 기계적 성능을 얻을 만큼 충분히 클 수 있다. 제2 드로잉 조건은 또한 제2 드로잉 방향으로 연속 위상 물질(403)에 복굴절을 도입하도록 선택된다. 상기한 바와 같이, 이러한 가공은 개선된 광학 및 기계적 성질을 가진 광학 편광기를 발생하는 데 사용될 수 있다.
상기의 실시예외에도, 많은 다른 유익한 효과가 혼합물 필름을 2축으로 끌어당겨 얻어짐과 동시에 2 개의 광학 물질의 광학적 효과가 향상된다.
한 실시예에서, 평균 완화 시간이 제1 드로잉 시간에 대해 작은 연속 위상으로서 제1 양의 복굴절 물질 및 평균 완화 시간이 제1 드로잉 시간보다 같거나 약간 긴 분산 위상으로서 제2 양의 복굴절 물질이 사용될 수 있다. 이러한 필름이 적절한 드로잉 조건하에서 제1 방향으로 드로잉될 때, 광학 배향은 분산 위상을 초래하지만, 단지 최소 또는 무배향은 완화에 의한 연속 위상을 초래한다.
필름은 분산 위상을 위한 평균 완화 시간은 연속 위상에 대응하는 분산 위상의 어려움이 증가하기 때문에 드로잉에 의해 영향을 받지 않기 위하여 제2 드로잉 시간보다 긴 조건(예를 들어, 보다 낮은 온도)하에서 제2 방향으로 끌어당겨질 수 있다. 그러므로, 배향은 단지 제1 드로잉 방향으로 분산 위상을 보유한다. 제2 드로잉 가공 조건은 제2 드로잉 방향으로 연속 위상의 실제 배향을 초래하여, 배향이 연속 위상으로 유도되도록 또한 선택될 수 있다. 제2 드로잉 방향으로 분산 및 연속 위상의 굴절율을 일치시키는 물질 및 가공 조건을 선택함으로써, 제1 드로잉 방향으로 불일치가 발생하는 반면에, 연속 위상에서 약간의 2축성 성질을 가지는 편광기가 얻어질 수 있다. 이러한 가공은 또한 상기한 충분히 다른 점성-탄성 성질을 가진 한 쌍의 음의 복굴절 물질에 사용할 수 있다.
다른 실시예에서, 상기의 실시예와 유사한 부가 가공은 분산 위상을 치유하는 데 사용될 수 있다. 이러한 실시예에서, 분산 위상은 분산 위상의 배향 성질을 유지하기 위하여 제1 드로잉(예를 들어, 온도, 방사선 등에 의해) 후에 치유된다. 이러한 실시예에서, 제2 드로잉의 가공 조건(예를 들어, 온도)은 분산 위상이 치유되고 배향이 유지되기 때문에 분산 위상으로 배향 함이 없이 연속 위상으로 목표한 배향을 유도하기 위하여 좀 더 자유로이 선택될 수 있다.
또 다른 실시예에서, 필름은 분산 위상이 끌어당에 의해 영향을 받지 않는 가공 조건하에서 제1 방향으로 끌어당길 수 있고, 이에 따라 아이소트로픽 배향이 유지된다. 배향은 제1 방향으로 연속 위상이 유지될 수 있다. 필름은 배향이 분산 위상을 초래하지만, 단지 최소 배향만 연속 위상으로 유도되는 가공 조건하에서 제2 방향으로 끌어당겨질 수 있다. 이러한 방법에서, 연속 위상은 제1 드로잉 방향으로 주요한 방향을 유지한다.
또 다른 실시예에서, 양의 복굴절 물질은 연속 위상(예를 들어, PEN, coPEN등)을 위해 사용되고 음의 복굴절 물질은 분산 위상(예를 들어, 규칙배향 폴리스티렌, sPS)을 위해 사용된다. 필름은 약간의 배향이나 무배향이 분산 위상을 초래하는 가공 조건하에서 제1 방향으로 끌어당겨지고, 최소한 배향이 연속 위상을 초래한다. 그 후, 필름은 분산 위상으로 배향되는 가공 조건하에서 제2 방향으로 끌어당겨진다. 가공 조건은 또한 제2 드로잉 방향으로 양 위상의 실제 배향을 초래하는 배향이 연속 위상을 유도하도록 선택될 수 있다. 2개의 물질의 복굴절의 반대 부호로 인해, 제1 드로잉 방향으로 굴절율이 일치하고 제2 드로잉 방향으로 불일치하는 분산 및 연속 위상을 가질 수 있다. 이러한 방법에서, 혼합물 편광기는 약간의 2축성 성질(예를 들어, 연속 위상의 개선된 물리적 성질) 및 양질의 광학 성능을 가지도록 만들 수 있다.
본 발명의 여러가지 실시예에서, 하나의 드로잉 가공은 물질 중 최소한 하나는 광학 배향은 유도하지 않는 조건하에서 필름을 끌어당겨 사용된다. 본 발명은 특정한 실시예에 제한 되지 않는다. 예를 들어, 특정한 경우에, 최소한 한가지 특정한 물질은 최소한 제1 드로잉 방향으로 약간 있거나 광학 배향이 없다. 한 실시예에서, 약간의 광학 배향은 초기에 그 물질에서 드로잉에 의해 유발될 수 있다. 이 경우에, 무배향 드로잉 가공은 광학 배향을 완화하는 순차적인 가열 단계를 더 포함될 수 있다. 이 경우에, 필름에서 2 개의 물질은 다른 물질의 분자 배향을 손상하지 않는 온도까지 필름에 열을 가함으로써 광학 배향이 충분히 선택적으로 완화될 만큼 특성(예를 들어, 유리 변이 온도, 결정화도 등)을 가져야만 한다. 필름에 사용되는 물질은 물론 가열 단계에 사용되는 온도는 물질의 점성-탄성 성질 및 물질 반응을 분리하는 능력을 고려하여 선택된다. 다른 실시예에서, 순차적인 가열 단계는 그 물질의 복굴절이 증가하도록 최소한 하나의 물질(예를 들어, 혼합물의 하나의 위상)의 결정화도가 변화시킬 수 있고, 광학적 성능을 더 향상시킬 수 있다.
설명한 바와 같이, 순차적인 가열 단계는 하나의 물질에 대해 무배향(또는 비광학적 배향) 드로잉 가공의 일부분이 될 수 있다. 이 방법에서 제1 드로잉 가공은 제1 드로잉 축을 따라 광학 배향이 없이 제1 물질을 가지는 필름을 발생한다. 순차적인 가열 단계를 포함하는 제1 드로잉 가공은 또한 제2 물질을 위해 광학적으로 배향되는 드로잉 가공이 될 수 있다(예를 들어, 가공은 제1 드로잉 축을 따라 제2 물질에서 광학적 배향이 발생될 수 있다). 제2 드로잉 가공에서, 필름은 제2 방향으로 끌어당겨진다. 제2 드로잉 가공은 광학적으로 제1 물질 및 제2 물질중 하나 또는 양자에 대해 광학적으로 배향시킬 수 있다. 이러한 방법에서, 하나는 특정한 물질에 대해 무배향 되고, 다른 하나는 특정한 물질에 대해 광학적으로 배향되는 2 개의 다른 드로잉 가공이 사용된다. 이러한 가공은 목표한 광학 및/또는 기계적 성질을 가지는 필름을 얻는데 사용될 수 있다.
상기한 바와 같이, 몇가지 실시예에서 분자 배향의 작은 레벨은 비광학적으로 배향되는 드로잉 단계동안에 제1 물질에 바람직하다. 이러한 작은 레벨은 0.04의 통상 차이보다 적고 바람직하게는 0.02보다 적은 굴절율을 현저히 변화시킬수 없다. 특정한 실시예에서, 배향의 이러한 작은 레벨은 제2 드로잉 단계 동안에 제1 물질의 점성-탄성 반응을 변화시키는 결정 생성이 촉진된다. 제2 단계 동안에 예비 가열은 결정을 성장시킬 수 있고 때때로 초기 분자 배향없이 비광학적으로 배향하는 조건하에서, 제2 드로잉 단계가 제1 물질을 광학적으로 배향할 수 있도록 완화이 억제될 수 있다. 제1 드로잉 단계 후에 필름 두께를 통한 이러한 발생 배향의 균일도는 제2 드로잉에서 제1 물질 응답의 균일도에 영향을 주는 경향이 있다. 균일도는 필름의 균일한 가열 및 급냉(quenching)함으로써 또는 제1 드로잉, 가열, 신장 및 급냉 가공 동안에 필름을 통한 점성-탄성 반응함으로써 조절된다.
순서는 상기의 여러가지 드로잉 가공에 암시된 반면에, 순서는 원리의 설명을 용이하게 하는데 사용되고 제한되지 않는다. 특정한 실시예에서 가공의 순서는 순차적으로 실행된 가공이 미리 실행된 가공에 반대로 영향을 주지 않는 한 변화할 수 있거나 동시에 실행된다. 예를 들어, 2 개의 물질은 동시에 양 방향으로 끌어당겨질 수 있다. 상기 도 1에서, 광학 필름(101)은 양 평면 내축의 방향으로 동시에 끌어당겨질 수 있다. 상기의 다양한 실시예와 같이, 필름(101)은 다층 필름, 혼합물 필름 또는 이들의 조합으로 될 수 있다. 필름은 최소한 다른 점성-탄성 특성을 가진 2 개의 물질을 포함한다. 필름이 양 평면 축을 따라 동시에 끌어당겨질 때 드로잉 온도는 필름의 물질에 대해 동일하다. 그러나, 드로잉비 및 드로잉율은 별도로 조절될 수 있다. 예를 들어, 필름은 x축 방향으로 상대적으로 빨리 끌어당겨질 수 있고 y축 방향으로 상대적으로 느리게 끌어당겨질 수 있다.
물질, 동시 2축성 드로잉의 드로잉비 및 드로잉율은 제1 드로잉 축을 따라 드로잉(예를 들어, 빠른 드로잉)은 제1 드로잉축을 따라 하나 또는 양양자의 물질에 대해 광학적으로 배향하도록 적당히 선택될 수 있음과 동시에 다른 방향으로 드로잉은 무배향(또는 제2 드로잉 축을 따라 2 개의 물질 중 하나에 대해 비광학적으로 배향됨)된다. 따라서, 각각의 방향으로 드로잉에 대한 2 개의 물질의 반응은 독립적으로 조절될 수 있다. 이러한 가공을 사용하여, 광학 특성(예를 들어, 다층 광학 필름에서 인접층의 z축 굴절율 일치) 및/또는 기계적 성질(예를 들어 파열 또는 접힘에 대한 저항, 강성도 또는 휨, 열 및 흡습에 따른 팽창 및 수축에 대한 제한이 없는 치수 안정성)은 개선될 수 있다.
많은 다른 물질은 본 발명에 따라 광학 필름을 제작하는 데 사용될 수 있다. 물질은 일반적으로 목표한 구조로 가공을 하는 데 적당해야 한다. 예를 들어, 다층 필름을 만드는 경우에, 다층을 형성하는 2 개 또는 그 이상의 필름이 선택되어야한다. 다층 구조가 공동 사출 성형되는 경우에, 선택되는 물질은 공동 사출 성형할 수 있어야 한다. 물질은 도시되지 않은 양질의 캐스트 웹으로 형성할 수 잇어야 한다. 경계층의 접착 및 후가공 가능성은 또한 다층 필름의 구조에 따라 고려될 수 있다. 물질은 또한 드로잉 가공에 앞서서 바람직하지 않는 배향은 없어야한다. 한편, 계획적인 배향은 제1 드로잉 단계에 대한 보조 가공으로서 캐스팅 단계동안에 유도할 수 있다. 예를 들어, 캐스팅 단계는 제1 드로잉 단계의 일부분으로 고려될 수 있다. 또 다른 실시예에서, 캐스팅 단계는 순차적인 드로잉 단계를 위한 제2 물질의 완화 특성을 변화시키는 결정화를 위한 생성 단계일 수 있다. 캐스팅 다층 웹에 대한 일반적인 가공 조건은 발명의 명칭이 "중합성의 다층 광학 필름을 만들기 위한 가공" 인 변호사 사건 일람표 51932USA8A에 상세히 기술되어 있다.
광학 필름에 사용된 물질은 또한 목표한 광학 성질을 나타내야 하고 목표한 결과를 위해 가공 조건의 적당한 선택을 허용하도록 점성-탄성 특성이 충분히 달라야 한다. 물질을 선택할 때 유리변이 온도, 결정화 및 크로스링킹(crosslinking) 실행, 평균 분자량 및 분포, 화학 조성 및 구조 및 다른 광학 성질(예를 들어, 굴절율, 분산등)이 주어질 수 있다.
특정한 실시예외에도, 본 발명의 다층 필름에 대한 적절한 물질, 예를 들어, 상기 물질은 변호사 사건 일람표 51932USA8A에 목록화되어 있다. 중합성 혼합 필름에 대한 적절한 추가 물질은 예를 들어, 미국 특허 출원 제08/610,092호와 발명의 명칭이 "수정된 코폴리에스터 및 개선된 다층 반사 필름 "인 1998년 1월 13일에 출원된 미국 특허 출원 제09/006,601호에 기술되어 있다.
다음의 실시예는 본 발명의 다른 실시예에 따른 실시예 물질 및 가공 조건을 포함한다. 실시예는 본 발명에 제한되는 것이 아니라 여러가지 상기 실시예에 따른 상용에 특히 적합한 물질의 실시예를 제공함은 물론 본 발명의 이해를 오히려 용이하게 할 수 있다.
실시예 1
실시예 1은 30℃에서 0.48의 고유 점성(IV)를 가진 폴리에틸렌 나프탈렌(PEN) 및 0.6의 고유 점성(IV)를 가진 폴리에틸렌 텔레프탈레이트(PET)의 교번층의 구조로 된 다층 광학 필름이다(IV는 예를 들어, 60% 페놀 및 40% 오소-다이클로롤 벤젠의 용매 안에서 측정된다). 단축(텐터 또는 유사 가공을 사용) 드로잉 후에 PEN의 전형적인 굴절율은 드로잉 축, 비드로잉 및 두께 방향을 따라 각각 632.8nm에서 1.85, 1.64 및 1.49 근처이다. 2축성 드로잉을 위해, 가열 상태, PET의 굴절율은 제1 드로잉, 제2 드로잉 및 두께 방향을 따라 각각 632.8nm에서 1.65, 1.65 및 1.49 근처이다. 따라서, 이러한 물질은 2 개의 물질의 교번층이 굴절율(z)에 일치하고 제1 드로잉 방향 굴절율에 거의 일치되기 때문에 본 발명에 특히 적합하다. PEN 및 PET는 또한 끌어당겨진 다층 구축에서 양질의 경계층 접착제로 나타난다. 이러한 실시예에서 또한 투과(패스) 상태가 제1 드로잉의 방향과 일치하는 uP-bP-1 편광기의 배향 상태를 설명한다.
다층 PEN 및 PET 편광 필름을 제작하는 가공이 기술한다. PEN 및 PET의 다층 웹은 적절한 온도와 PEN 및 PET 교번층의 쌍을 형성하는 칠 롤(chill roll) 상의 다이 캐스트에서 공동 사출 성형될 수 있다. 두께 및 다수의 층은 합성 광학 필름의 목표한 광학 성질에 의존한다. 예를 들어, 수백개의 층이 캐스트될 수 있고 목표한 파장 스펙트럼을 커버하는 두께로 서서히 변할 수 있다. 다층 구조로 공동 사출 성형을 위한 일반 가공 및 연구는 상기 미국 특허 출원 제08/402,041호 및 출원 제09/006,288호에 기술되어 있다.
흐름 안정성을 제공하기 위하여, PEN의 보호 표면층은 다층 광학 적층 및 다이 벽 표면사이에서 사용될 수 있다. PEN 표면층은 또한 결정화 전 PET 층의 분리를 방지하기 위해 사용된다. 특정한 경우에, 적층은 분리될 수 있고 다수층이 배가되는 멀티플라이어(multiplier)에 적층된다. PEN의 보호 경계층은 다층 광학 적층 및 멀티플라이어 벽 표면 사이에 제공될 수 있다. 이러한 방법에서 웹 캐스트는 PEN의 중앙의 두꺼운 층, PEN의 2개 외곽 표면층, 표면과 보호층 사이에 PEN 및 PET의 2개 다층 광학 적층으로 구성된다.
PEN 및 PET의 웹은 보호층에 의해 분리된 4개의 다층 광학 적층에서 대략 800개의 층을 가진 필름을 형성하도록 2개의 다중 단계를 가진 상기 캐스트이다. 작은 흐름 불안정성은 웹에 기술된다. 제1 드로잉에 선행하는, 웹은 드로잉에 선행하여 PET를 결정화하기 위해 가열된다. 캐스트 웹은 50초 동안 145℃에서 가열되고 상온에서 급냉된다. 웹은 60초 동안 100℃, 10초 동안 120℃, 20초 동안 140℃, 20초 동안 150℃에서 가열된다. 웹은 20초이상 동안 150℃에서(초당 15%의 통상 스트레인율에서) 4×1으로 끌여당겨지고 상온에서 급냉된다. 이러한 조건하에서, PEN층은 주요한 분자 배향을 수행하지 않음과 동시에 결정화된 PEN 표면층은 제1 드로잉의 방향으로 배향된다. 제1 드로잉 후에 직접 측정할 수 있는, PEN 표면층의 굴절율은 제1 드로잉, 제2 드로잉 및 두께 방향으로 각각 632.8nm의 광에서 1.643, 1.641, 1.639이다. 필름은 60초 동안 100℃에서, 40초 동안 120℃에서 가열되고, 40초 동안 120℃에서 제2 방향으로 1×4로 끌여당겨진다(즉, 4×4의 최종 드로잉비). 제2 드로잉 동안에 양 물질은 제2 드로잉 방향으로 배향된다. PEN 표면층의 굴절율은 제1 드로잉, 제2 드로잉 및 두께 방향으로 각각 632.8nm의 광에서 1.616, 1.828, 1.532이다. 두께 방향으로의 PET 굴절율은 1.49로 평가된다.
다층 필름의 개개의 광학 적층층의 굴절율은 직접 측정할 수 없다. 그러나, 광학 적층의 굴절율은 측정할 수 있다. 그것은 개개의 층 굴절율의 가중 평균이다. 상호 확산 효과가 적은 경우에, 개개 층의 굴절율은 평가할 수 있다. 이 경우에, 보다 두꺼운 표면의 굴절율 및 내부 보호 경계층(PBLs)은 동일한 물질에 대해 광학층 굴절율과 동일하게됨을 예상할 수 있다. 이들로부터의 하나의 광학 물질에 대한 주어진 굴절율 및 외부의 두꺼운 층의 벗겨냄으로써 측정하는 적층 굴절율, 다른 굴절율은 선형 평균을 가정함으로써 평가될 수 있다. 여러 층의 관계는 광학 필름의 광학적 성질을 조사함으로써 또한 평가될 수 있다. 예를 들어, 블록에서 투과 및 통과 방향은 상대 평면 굴절율을 표시를 제공한다. 오프-각도 굴절율에서 컬러 및 성능은 두께 방향으로 굴절율의 상대적 크기의 표시를 제공한다. 상기 필름의 조준된된 투과 강도는 소스에서 글랜-톰슨(Glan-Thomson) 편광 프리즘 및 디텍터에서 집적 구(intergrating sphere)를 설치한 퍼킨-엘머(Norwalk,CT) 람다 19 스펙트로포토미터(Perkin-Elmer Lambda 19 Sphectrophotometer)를 사용하여 측정된다. 도 5a는 각각의 라인(501 및 503)에 의해 반사(블록) 및 투과(패스) 방향으로 이러한 필름 상에 입사하는 투과도(%) 대 광의 파장을 도시한다. 도 5a는 라인(505)에 의해 60。 오프-각도에서 광의 투과를 도시한다. 오프-각도 측정이 바람직하기 때문에, 시료는 2㎝ 원형 구경에서 집적 구까지 회전 스테이지 세트(5㎝) 상에 탑재된다. 일반적으로 편광기 반사 방향으로 조준된 강도는 가시 스펙트럼에서 약 32.1%가 측정된다. 투과 방향에서 전체 강도는 약 78.2%가 되는 것으로 측정된다. 반사 방향은 제2 드로잉 방향과 일치한다. 투과 방향은 제1 드로잉 방향과 일치하며 반사 방향에 수직하다. 통과 상태의 투과를 측정한 후에, 60도(통과 상태에서 60도 벗어나 회전하고, p 편광을 위한 블록축 근처)에서 평균 투과 강도는 약 72.9%로 되는 것으로 측정된다. 오프-각도 컬러 이탈의 측정은 가시 스펙트럼 영역에 대한, 예를 들어 420㎚에서 720㎚ 까지, 회전 각도에서 평균 투과로부터 제곱근 평균 이탈로서 제공된 스펙트럼으로 부터 계산할 수 있다. 이러한 "오프-각도 컬러"는 4.64%가 되는 것으로 알려졌다. 유사하게 통상 각도 컬러는 1.37%가 되는 것으로 알려졌다.
상기 방법으로 형성된 필름의 성질은 필름이 드로잉 후에 가열되는 것을 허용한다. 상기의 끌어당겨진 필름은 85초 동안 175℃에서 인장 조건하에서 가열된다. PEN 표면층의 굴절율은 제1 드로잉, 제2 드로잉 및 두께 방향으로 각각 632.8nm의 광에서 1.643, 1.837, 1.500으로서 측정된다. 도 5b는 반사(507), 투과(509) 및 60。 오프-노말 (511) 입사광에 대하여 가열 필름에 대한 투과 대 파장 도표를 설명한다. 전체 반사 편광 투과는 19.6%로 축소된다. 정상 및 60。 평균 투과는 83.3% 및 86.3%이다. 관심 스펙트럼 영역에 대해 집적된 투과 편광 광에 대한 평균 투과로부터 제곱근 평균 이탈로서 규정된 통상 및 비정상 컬러는 각각 1.31% 및 1.25%로서 측정된다.
도 5c에서 챠트는 420-720㎚ 범위의 광에 대한 가열 전후(531 및 533)에 상기 필름의 투과, 반사(반사 상태에서 편광된 광에 대한 투과 강도를 설명) 및 비정상 특성을 비교한다. 도 5a 및 도 5b에 표시된 스펙트럼을 가진 실제 시료사이에 두께의 작은 차이때문에, 직접 비교는 다층 적층의 두께 분포 단면도에 대한 동일한 스펙트럼 영역에 대한 데이타를 비교함으로써 달성된다. 사용된 기준점은 도 5b의 700㎚에서 4.11%로 알려진 투과 최소점이다. 동등한 최소점은 도 5a의 762㎚에서 8.84%로 알려진 점이다. 따라서, 도 5c를 평가하여 볼 때, 각각의 예에서 가열은 필름의 성능을 개선한다. 더우기, 가열 필름은 정상 각도 투과를 벗어난 비정상 투과(투과 상태로 편광돤 광)를 나타낸다. 가열에 선행하여, PEN 및 PET z축 굴절율은 상기 가공된 시료에 대하여 632.8㎚에서 각각 1.532 및 1.49로 평가된다. 가열 후에, 값은 1.50 및 1.49로서 PEN 및 PET가 평가된다. 따라서, 가열은 z 굴절율 차이를 축소한다. 투과 상태로 편광된 광의 파장은 가열 후에 보다 좋은 굴절율을 일치시킴으로써 또한 크게 향상된다.
상기 설명한 바와 같이, PEN 및 PET 다층으로 구성된 편광기 필름은 잔류 컬러에 의존하는 작은 각도를 가지는 낮은 컬러 필름을 초래하는 대략 두께 방향으로 굴절율을 일치시키는 제작할 수 있다. 더우기, 필름은 유사한 물질의 단축으로 끌어당겨진 필름과 비교할 때 초기 파열에 향상된 저항을 포함하는 개선된 기계적 안정성을 나타내었다.
광학 필름을 형성하도록 사용된 가공 파라미터는 다른 목표한 성질을 얻기 위하여 변할 수 있다. 예를 들어, 보다 높은 IV PET 물질(예를 들어, 대략 0.7 에서 0.9)은 공동 사출 성형 동안에 점성을 증가하고 점성을 일치하는 경향이 있다. 이것은 다층 흐름 결함의 축소를 적용 받는다. 필름에서 잔류 산란은 또한 초기 결정 크기를 축소함으로써 또한 축소된다. 생성 촉매는 PET에, 예를 들어 비활동 상태의 결정화율을 증가하도록, 결정 크기를 증가하도록, 체류시간을 축소하도록 첨가될 수 있다. 코폴리머가 또한 사용될 수 있다. 호모폴리머로부터의 이탈량은 축소되지만, 예비 결정화를 위해 가공 시간 및 온도를 증가시키는 경향이 있는 결정화율을 감소 시킬 수 있다. PET의 궁극적 결정화는 에틸렌 글리콜의 부분에 디-에틸렌 글리콜(DEG)의 대체에 의하여 축소할 수 있다. 이것은 소멸을 개선하는 경향이 있고 제1 방향으로 증가된 드로잉비를 허용한다.
상기 특별한 가공 실시예에서, 0.48 IV PEN은 150℃에서 초당 15%로 천천히 끌어당겨진다. 이러한 필름을 제작하는데 있어, 제1 드로잉에 대한 종래의 필름 가공 라인에 제공된 길이 오리엔터(LO)를 사용하는 것이 바람직하다. LO는 초당 300% 또는 그이상의 명목 스트레인율로 필름을 드로잉한다. 대략 165℃의 드로잉온도는 이러한 가공에 알맞다. 대략 초당 1000%의 보다 높은 드로잉율에서, 대략 170℃ 또는 그 이상의 온도가 요구될 수 있다. 온도를 증가하기 보다 보다 낮은 IV PEN(예를 들어, 보다 낮은 분자량의 PEN)은 주어진 온도에서 완화 시간을 축소하는 데 사용할 수 있다.
실시예 2
실시예 2는 제1 드로잉축과 일치하는 반사 상태 및 동일 물질, 실시예 1에 사용된 PEN 및 PET를 사용하여 제2 드로잉축과 일치하는 투과 상태를 가진 편광기를 만들기 위하여 본 발명 가공의 사용을 설명한다. 동일 물질을 사용하여 다른 편광기를 얻기 위하여 물질 선택을 위한 본 발명에 의해 제공된 융통성을 더 설명한다. 이러한 실시예는 또한 bP-uP-2 편광기의 배향 상태를 표시한다.
실시예 2에서, 0.48 IV PEN 및 0.77 IV PET는 내부 PBL이 설치된 224 다층 피드 블럭(224)으로 건조되고 공동 성형 사출된다. 다층 적층은 1.55:1의 폭 비로 2 개의 스트림을 형성하도록, 내부 보호층에 의해 분리된 448층의 2 패킷의 다층 적층을 형성하도록 재적층된 비대칭 멀티플라이어로 나누어진다. PET(IV 0.77)는 PBLs에 사용된다. PEN(IV 0.48) 표면은 첨가되고 전체 스트림은 60℃에서 다이로부터 급냉 휠 세트로 캐스트된다. PEN 표면 및 PET PBL 굴절율은 632.8㎚ 에서 각각 1.64 및 1.57의 굴절율을 가진 캐스팅 후에 아이소트로픽하다. 표면은 구조의 약 35%, 약 15% PBLs 및 약 50% 다층 광학 적층 패킷을 포함한다. 캐스트 두께는 대략 0.1㎝ 이다
제1 드로잉 가공은 종래의 길이 오리엔터(length orientor, LO)를 사용한다. 필름은 120℃에서 핫 롤러 세트로 예열되고 느린 롤, 빠른 롤 및 60% 파워로 적외선 히터를 포함하는 드로잉 갭으로 들어간다. 적외선 히터는 각각 65㎝ 길이의 적외선 히터 요소(요소당 5000 와트)의 조합으로 구성된다. 요소는 필름 위에 대략 10㎝에 있다. 드로잉 갭에서 체류 시간은 대략 4초이다. 패스트 롤은 5 배 드로잉을 실행하도록 되어 있고 드로잉 필름은 급냉된다. 드로잉 폭은 원래 폭의 85%로 축소된다. 1.58 아래로 유지된 PET의 평균 평면 굴절율은 632.8㎚ 에서 제1 드로잉 단계 후에 완성되고, 반면에 평균 PEN 굴절율은 각각 평면 드로잉 방향 y축( MD), 평면 크로스웹 방향 x축(TD), 두께 (z) (ND) 방향으로 1.85, 1.59 및 1.53에서 크게 배향된다. 필름은 제2 드로잉 단계에서 종래의 텐터를 사용하여 횡으로 대략 3.3배 끌어당겨진다. 텐터는 예열로서 145℃, 드로잉 영역에서 138℃, 가열 영역에서 227℃, 급냉 영역에서 49℃ 로 정해진다. 예열, 드로잉 및 가열은 대략 25, 5 및 40초의 주기로 실행된다. 최종 PEN 굴절율는 1.82, 1.68 및 1.49 이고 반면에 PET 굴절율은 632.8㎚ 에서 대략 1.56, 1.67 및 1.56이다. 부가적인 측정은 다음에 제공된 다른 파장에서 얻어진다.
실시예2 MD MD TD TD MD ND
파장 PEN PET PEN PET PEN PET
632.8 1.8243 1.543 1.6833 1.6668 1.4891 1.5558
568 1.8405 1.5654 1.6924 1.6708 1.4912
488 1.8766 1.5766 1.7153 1.6894 1.5018
436 1.92 1.5888 1.7436 1.711 1.5221
이들 굴절율은 다음과 같은 통상 굴절율 차이를 유도한다.
실시예 2 통상 굴절율
파장 MD TD ND
632.8 0.1543 0.0099 0.0438
568 0.1615 0.0128
488 0.1738 0.0152
436 0.1888 0.0189
최종 필름, 이러한 방법으로 가공된, 400-700㎚ 영역에 7.4% 반사에 의해 편광된 광의 평균 투과를 가진 제1 드로잉 방향과 일치하는 반사축이 나타나고, 400-700㎚ 영역에 85.7% 투과에 의해 편광된 광의 평균 투과를 가진 제2 드로잉 방향과 일치하는 투과축이 나타난다. 패스 상태로 조정된 때, 컬러는 투과 편광 상태 및 두께 방향에 의해 규정된 평면에서 오프-각도가 보여질 때 가시적으로 최소이다.
실시예 3
실시예 3은 제1 물질로서 표준 PET 대신에 압출기에서 PEN 및 PET의 에스테르 교환 반응에 의해 형성된 코폴리머를 사용하는 실시예 2의 변화이다. PEN(IV 0.48) 및 10%/90% PEN(IV 0.48)/PET(IV 0.77) 혼합물은 내부 PBL(보호 경계층)로 설치된 다층 피드 블록(224)으로 건조되고 공동 사출 성형된다. 다층 적층은 1.55:1의 폭 비로 2 개의 스트림을 형성하도록, 내부 보호층에 의해 분리된 448층의 2 패킷의 다층 적층을 형성하도록 재적층된 비대칭 멀티플라이어가 분리된다. 동일한 10%/90% PEN/PET 혼합물은 PBLs에서 사용된다. PEN(IV 0.48) 표면은 첨가되고 전체 스트림은 60℃에서 다이로부터 급냉 휠 세트로 캐스트된다. 표면은 구조의 약 35%, 약 15% PBLs 및 약 50% 다층 광학 적층 패킷을 포함한다. 캐스트 두께는 대략 0.1㎝ 이다
제1 드로잉 가공은 종래의 길이 오리엔터(LO)를 사용한다. 필름은 120℃에서 핫 롤러 세트로 예열되고 느린 롤, 빠른 롤 및 60% 파워로 적외선 히터를 포함하는 드로잉 갭으로 들어간다. 체류 시간은 대략 4초이다. 빠른 롤은 6 배 드로잉을 실행하도록 되있고 드로잉 필름은 급냉된다. 드로잉 폭은 원래 폭의 85%로 축소된다. 632.8㎚ 에서 1.61 아래로 유지된 10/90 PEN/PET 코폴리머의 평균 평면 굴절율은 제1 드로잉 단계 후에 완성되고, 반면에 평균 PEN 굴절율은 각각 평면 드로잉 방향 y축( MD), 평면 크로스웹 방향 x축(TD), 두께 (z) (ND) 방향으로 1.86, 1.60 및 1.52에서 크게 배향된다. 필름은 제2 드로잉 단계에서 종래의 텐터를 사용하여 횡으로 대략 3.0배 끌어당겨진다. 텐터는 예열로서 145℃, 드로잉 영역에서 138℃, 가열영역에서 204℃, 급냉 영역에서 49℃ 로 정해진다. 예열, 드로잉 및 가열은 대략 25, 5 및 40초의 주기로 실행된다. 최종 PEN 굴절율는 1.82, 1.69 및 1.48 이고 반면에 코폴리머 굴절율은 632.8㎚ 에서 대략 1.66, 1.67 및 1.52이다. 굴절율은 다음에 제공된 수개의 파장에 대해 측정된다.
실시예3 MD MD TD TD MD ND
파장 PEN PET PEN PET PEN PET
632.8 1.8207 1.6230 1.6854 1.6733 1.4845 1.5218
568 1.8383 1.6255 1.6972 1.6716 1.4924 1.5258
488 1.8758 1.6380 1.7198 1.6820 1.4987 1.5320
436 1.92 1.6559 1.7503 1.6991 1.5084 1.5486
이들 굴절율은 다음과 같은 통상 굴절율 차이를 유도한다.
실시예 2 통상 굴절율
파장 MD TD ND
632.8 0.1148 0.0072 0.0248
568 0.1229 0.0152 0.0222
488 0.1354 0.0222 0.0220
436 0.1477 0.0297 0.0263
최종 필름, 이러한 방법으로 가공된, 400-700㎚ 영역에 9.9% 반사에 의해 편광된 광의 평균 투과를 가진 제1 드로잉 방향과 일치하는 반사축이 나타난다. 투과축은 400-700㎚ 영역에 대한 85.0% 투과에 의해 편광된 광의 평균 투과를 가진 제2 드로잉 방향과 일치한다. 측정 시료는 67㎛ 두께이다. 양질의 두께 균일도는 8.1㎛의 높고/낮은 이탈을 가진 필름 폭을 가로질러 관찰된다.
상기 필름은 또한 기계적 질김을 나타낸다. 초기 파열은 수동에 의해 어렵다. 전파 파열은 또한 어렵고 필름은 MD 에서 바람직하게 파열된다.
다른 필름은 상기 가공을 사용하여 만들어지지만 보상비를 가진 20% 보다 높은 TD 드로잉 비는 캘리퍼 및 이에 따른 스펙트럼 커버리지를 유지하도록 변화된다. 필름 열팽창 계수는 MD 및 TD에서 25℃와 85℃사이의 섭씨 온도 당 1.1×10-5및 2.2×10-5로서 측정된다. 이러한 팽창 계수는 단일한 드로잉 가공을 사용하여 PEN 및 coPEN으로 구축된 반사 편광기의 8.5×10-5및 3.0×10-5TD 및 MD 값 보다 상당히 적다. 최대 확장 방향은 이러한 필름에서 투과(패스) 방향을 따라 유지된다. 2 단계 드로잉 필름 상의 수축은 또한 필름을 15분 동안 85℃로 가열 한 후에 2 단계 드로잉 필름에 대해 0.118 및 0.254의 MD 및 TD 퍼센트 수축이 측정된 단일 끌어 당김 가공 필름에 비교해서 축소된다.
상기의 실시예에서, 제2 물질로서 표준 PEN 대신에 압출기에서 PEN 및 PET의 에스테르 교환 반응에 의해 형성된 코폴리머가 사용될 수 있다. 상기 또 다른 실시예에서, 다른 물질은 표면 및/또는 PBLs층으로 사용된다. 예를 들어, 85/15의 조합으로 PEN 및 PET 코폴리머가 사용될 수 있다. 평면 아이소트로픽 또는 전체 아이소트로픽층은 예를 들어, 기계적 성질에 대하여 유용할 수 있다. 물질은 예를 들어, 표면에 낮은 굴절율 물질을 사용함으로써 표면 반사를 축소하도록 광학 성능을 개선하기 위해 선택될 수 있다.
실시예 4
실시예 4는 본 발명의 실시예에 따라 다른 다층 광학 필름을 형성하기 위한 대표적 가공이다. 이러한 실시예에서 다층 필름은 PEN(IV 0.48) 및 폴리 뷰틸렌 텔레프탈레이트(PBT, IV 1.4)로 구축된다. PEN 및 PBT 필름은 칠 롤러 상에서 공동 사출 성형 및 다이 캐스트 될 수 있다. PBT는 빨리 결정화되기 때문에, 별개의 결정화는 캐스트 조건에 따라 필요하지 않을 수 있다. 상기 실시예와 같이, 표면층의 몇가지 형태는 필름이 신장함에 따라 부서짐으로부터 결정화된 PBT를 보호하도록 요구될 수 있다. 3 개층(PEN:PBT:PET) 구조의 필름이 만들어진다. PEN 및 PBT는 3 개층 피드 블록 속으로 285℃에서 공동 사출 성형된다. PEN 물질은 2개의 외곽 층으로 들어감과 동시에 PBT는 중앙층으로 들어간다. 3 개층 필름은 칠 롤 상에서 다이 캐스트 되고 급냉된다. PBT는 다이로부터 캐스트됨에 따라 결정화된다. 필름은 60초 동안 100℃, 10초 동안 120℃, 20초 동안 140℃, 20초 동안 150℃에서 가열된다. 필름은 20초 주기동안 150℃에서(길이 방향으로) 4×1으로 끌여당겨지고 상온까지 급냉된다. 제2 드로잉 단계는 필름을 45초 동안 115℃ 까지 가열함에 의해 필름을 1×3의 끌여당김에서 4×3의 최종 전체 드로잉비까지 끌여당김에 의해 실행된다.
상기 가공에서, PEN 물질에 대한 제2 드로잉은 제1 드로잉보다 낮은 드로잉비를 사용한다. 끌어당겨진 필름은 순차적으로 85초 동안에 175℃에서 장력하에 가열한다. 다음의 표는 제1 드로잉, 제2 드로잉 및 필름 두께 방향에 대해 여러가지 광의 파장에서 2 개 물질의 합성 굴절율을 설명한다.
λ 물질 제1 드로잉축 제2 드로잉축 두께축
430 PEN(n)PBT(n) 1.6921.669 1.941.702 1.5171.494
Δn 0.023 0.238 0.023
480 PEN(n)PBT(n) 1.6691.651 1.9231.685 1.5081.486
Δn 0.018 0.238 0.022
530 PEN(n)PBT(n) 1.6541.642 1.8871.671 1.5011.483
Δn 0.012 0.216 0.018
630 PEN(n)PBT(n) 1.6391.631 1.8621.658 1.491.473
Δn 0.008 0.204 0.017
상기 표에 설명한 바와 같이, 제1 드로잉 및 두께 방향에 대한 굴절율 차이는 오프-각도 컬러의 최소화를 위해 동일 부호이다. 더우기, 제1 드로잉 방향으로 2 층의 해당 굴절율의 평균 차이는 약 0.015이고 두께 방향으로 약 0.020이다. 차이를 보다 더 최소화 하기 위해 굴절율의 부가적 조절은 드로잉비, 드로잉율 및/또는 온도를 조정함으로써 얻어진다.
실시예 5
실시예 5는 연속 위상 및 분산 위상 물질의 혼합이 편광 필름을 형성하는 데 사용되는 실시예 물질 및 가공 조건을 설명한다. 3 개층 광학 필름을 사용한다. 3 개층 광학 필름은 중앙층 및 중앙층의 각 면에 외부층을 포함한다. 3 개층 필름은 하나 또는 그 이상의 물질층을 사용하고, 이런 점에서 촉진 물질로서 고려되며, 하나 또는 그 이상의 층을 공동 사출 성형될 때 가공을 용이하게 한다. 촉진 물질은 또한 부가 특성, 예를 들어 기계적 강도, 광학 성질 또는 취급 개선을 제공한다. 촉진 물질은 중앙층 또는 다른 물질을 형성하는 데 사용하는 혼합 물질을 가진 외곽층을 형성하는 데 사용될 수 있다. 촉진 물질은 그 층을 통ㅎ 투과된 광의 편광 배향에 본질적 영향을 주지 않는 것이 바람직하다. 예를 들어, 혼합 물질은 필름의 외곽층을 형성하는 데 사용한다. 촉진 물질은 중앙층을 형성하는 데 사용한다.
중앙층을 형성하는 촉진 물질의 사용은 가공의 다양성 및 촉진 물질이 예를 들어, 3 개층 구조에서 외곽층을 형성하기 위해 사용될 수 있는 경우에 대한 성능을 제공한다. 보다 넓고 다양한 물질이 중앙층을 형성하기 위해 사용될 수 있고, 기계적 성질(파열 또는 분열에 대한 개선된 저항)을 위한 바람직한 몇가지 물질은 캐스트 시트의 외곽층을 사용하는 경우에 가공 장치에 의존하는 경향이 있다.
캐스팅 다이에서 층 밀림(shear)는 다이 벽에서 가장 높고 압출물의 중앙에서 가장 낮다. 광학 혼합물이 사출 성형된 캐스트 시트의 전체 두께를 구성하는 경우에, 분산 위상 입자는 다이 벽에서 가장 낮고 중앙에서 가장 높다. 다층 물질, 예를 들어, 3개층 필름이 공동 사출 성형되는 경우에, 분산 위상 입자는 광학 혼합 물질이 구조의 외곽층을 형성하기 위해 사용될 때 가장 작다. 상기와 다르게, 3 개층 구조의 중앙층을 형성하기 위한 촉진층으로 사용되는 경우에, 규정에 의하여, 중앙층은 공동 압출물의 가장 낮은 층밀림 영역을 차지하고, 광학 혼합 물질의 분산 위상 입자는 공동 압출물의 보다 높은 층밀림 영역을 겪게된다.
본 발명은 3개층 구조에 제한되지 않는다. 예를 들어, 하나의 경우는 5 개층 필름 구조를 공동 사출 성형함으로써 광학 혼합 물질의 분산 위상 입자에 의해 겪게 되는 예상 층밀림율을 보다 더 개선하기 위해 선택될 수 있다. 이 경우에, 외곽층의 두께는 분산 위상 입자가 캐스팅 다이, 특히 다이 벽 근처의 영역에서, 확대되는 범위를 조절하여 선택될 수 있다. 예를 들어, 최종 필름의 두께 방향으로 분산 위상 입자의 직경이 광 파장의 1/30 보다 적을 때, 필름은 본 발명의 바람직한 경우로서 광을 산란하지 않는다. 그러므로, 사출 성형 가공에서 분산 위상 입자의 크기 조절이 바람직하다.
외곽층이 희생될 수 있고, 이 경우 배향 직전 또는 직후에 제거될 수 있다. 이 방법에서, 외곽층은 광학 혼합 물질이 기계적 마찰(즉, 산란) 또는 먼지 및 파편의 축적으로부터 보호될 수 있다. 마스킹 층 또는 층의 이러한 실시예는 다른 필름을 가진 본 발명의 적층 필름보다 값이 매우 싸다.
혼합 물질은 68.6 중량 퍼센트 60% 페놀, 40% 디클로로벤젠, 다우 케미칼의 29.1 중량 퍼센트 퀘스트라 NA 405, 노바 케미칼의 2 중량 퍼센트 아이라크 332-80에서 측정된 0.57의 IV를 가진 coPEN의 혼합으로서 성형 사출된다. 촉진 물질은 메틸렌 클로라이드에서 측정된 0.65의 IV를 가진 coPET이다.
coPEN은 70 몰 퍼센트의 나프탈렌 디카르보실레이트와 30 몰 퍼센트의 디메텔 텔레프탈레이트 및 에틸렌 글리콜에 기초한 코폴리머이다. coPET는 80 몰 퍼센트의 디메틸텔레프탈레이트와 20 몰 퍼센트의 디메틸리소프탈레이트 및 에틸렌 글리콜에 기초한 코폴리머이다.
제1 필름은 단일 방향으로만 끌어당겨져 만들어진다. 제1 필름의 캐스트 두께의 전체 두께는 중앙층 전체의 1/3이고, 대략 두께가 일치하는 외곽층에서 균형상 810㎛이다. 캐스트 시트는 종래의 텐터만 사용하여 횡방향으로 배향된다. 최종 횡방향 드로잉 비는 텐터의 입출구에서 레일 셋팅에 기초한 대략 4.3 :1이다. 신장 온도는 132℃이다. 가열 온도는 163℃이다.
제1 필름의 광학 성능은 그 후 측정한다. 필름은 평균 배향이 필름의 투과 방향으로 배향되고 400-700㎚ 사이의 광의 파장에 대해 83.6%의 평균 투과를 가진다. 편광 배향이 필름의 블록 방향으로 배향시키는 광은 13.6%의 평균 투과를 가진다. 필름은 드로잉 방향에 수직한 방향(이 실시예에서 기계 방향)으로 합리적인 분열 저항을 나타내는 반면에, 필름은 횡방향과 일치하는 방향으로 접힐 때, 필름은 분열된다.
비교하면, 참조는 이러한 실시예의 제1 필름에 유사한 방법으로 만들어진 3 개층 필름이 미국 특허 출원 제08/610,092호의 실시예 125에서 만들어졌고, 예외적으로 혼합 물질은 중앙층에 형성하도록 사용되며, 촉진 물질은 외곽층을 형성하기 위해 사용된다. 이러한 실시예의 제1 물질에서 처럼, 비교 실시예 125는 드로잉에 수직한 방향으로 합리적인 분열 저항을 나타내고, 필름은 횡방향과 일치하는 방향으로 접힐 때 분열된다.
제2 필름은 이러한 실시예의 제1 물질과 동일한 방법으로 만들어졌고, 예외적으로 캐스팅 시트는 127℃ 에서 횡방향으로 끌어당겨짐에 선행하는 종래의 길이 오리엔터를 사용하여 기계 방향으로 끌어당겨진다. 캐스트 시트의 총 두께는 1240㎛이다. 캐스트 시트는 실시예 2에서 기술된 바와 같이, 기계 방향으로 1.25 :1의 비로 끌어당겨진다. 갭에 선행하는 롤의 온도는 82℃이다. 적외선 히터 요소의 전원 세팅은 100%이다. 편광 배향이 끌어당겨진 필름의 투과 방향으로 배향되는 광의 평균 투과는 81.1%이다. 편광 배향이 끌어당겨진 필름의 블록 방향으로 배향되는 광의 평균 투과는 14.8%이다. 완성된 필름은 단축 드로잉 필름에 비교해서 향상된 기계적 질김을 나타낸다. 필름은 기계 방향 또는 횡방향으로 접힐 때 분열되지 않는다.
2 개의 부가 필름이 캐스트 시트가 횡방향에 선행하여 기계 방향으로 1.5:1 및 1.75:1의 비로 제1 끌어당겨짐을 제외하고, 상기 제2 필름과 일치하는 방법으로 만들어지고 평가된다. 각각의 투과 방향 투과값은 80.2% 및 78.8%로 측정된다. 각각의 블록 방향 투과값은 15.6% 및 17%로 측정된다. 필름은 기계 방향 또는 횡방향으로 접힐 때 분열되지 않는다.
부가 필름이 상기 제2 필름과 일치하는 방법으로 만들어지고 평가된다. 이러한 필름은 129℃에서 횡방향에 4:1 배향에 선행하여 기계 방향으로 1.35:1 로 제1 배향된다. 투과 방향 투과값은 83.2%로 측정된다. 블록 방향 투과값은 15.0%로 측정된다. 필름은 기계 방향 또는 횡방향으로 접힐 때 분열되지 않는다.
분열 저항이 향상은 별도로, 필름이 본 발명에 따라 만들어질 때 적층되고 상용 층밀림 슬리터를 사용하여 층밀림 커트되고, 필름은 특히 비교 실시예 125 에 따라 만들어진 것과 비교할 때, 파쇄없이 커트된다.
필름의 두께 방향으로 분산 위상 구조의 단면적 치수는 목적 파장에 대해 적거나 같을 수 있고, 목적 파장에 대해 대략 0.5배 많거나 적을 수 있다. 그러므로, 제한 내에서, 분산 위상의 단면적 치수의 축소는 광학 장치의 광학 성질의 개선을 이끌어 낸다. 2 개의 부가 필름은 3 개층 구조의 중앙층 또는 외곽층에서 광학 혼합 물질이 위치하는 효과를 증명하기 위해 만들어지고 평가된다. 제1 부가 물질은 이 실시예의 제1 물질에 따라 만들어지고, 광학 혼합 물질은 3 개층 구조의 중앙을 형성하기 위해 사용된다. 배향에 선행하는 캐스트 시트의 단면적은 전자 주사 현미경(scaning electron microscopy)을 사용하여 평가된다. 현미경 사진은 특히, 혼합 물질이 필름의 외곽층을 형성하기 위해 사용될 때, 혼합 물질의 분산 위상 물질의 증가된 연축을 명백히 나타낸다. 분산 위상 물질의 연축에 대한 하나의 명시는 필름 두께 방향으로 단면적 치수의 축소이다. 하나의 평가 방법은 가장 큰 입자를 찾아내는 필름의 근처 또는 중앙에서 분산 위상 치수에 접근하는 것이다. 분산 위상 크기는 0.9 및 1.4㎚이며 광학 혼합 물질은 필름의 외곽층 및 중앙층을 각각 형성한다. 하나는 필름 구조의 외곽 표면 근처 입자가 구조의 중앙 근처보다 작은 것으로 인식할 수 있다.
더우기, 본 발명의 혼합 물질은 비교 실시예 125의 표면 조직보다 큰 표면 조직을 인식할 수 있다. 필름의 대략 1 입방 미터 조각을 비교 실시예 125로 부터 잘라낼 때, 서로에 대해 한 조각이 미끄러지도록, 예를 들어, 서로에 대해 하나의 필름에 배향하도록 하기 어렵다. 본 발명 필름에 대해 100장 이상 적층 될 때에도 용이하게 배향된다.
실시예 6
실시예 6은 혼합물 필름은 515㎛ 두께의 캐스트 시트를 가진 실시예 5의 제1 필름과 유사한 방법으로 구축된다. 캐스트 시트는 실험실 신장기를 사용하여 2 개의 수직 방향으로 동시에 신장된다. 필름은 0.4%/sec의 스트레인율로 1.2:1 신장비를 가지고 한 방향으로 신장된다. 필름은 10%/sec의 스트레인율로 5.6:1 신장비를 가지고 다른 방향으로 신장된다. 최종 필름은 87.6%의 패스 방향 투과 및 25.3%의 블록 방향 투과를 나타낸다. 유사한 필름은 제1 방향으로 5%/sec 로 변화되는 스트레인율을 가지며 한 방향으로 신장된다. 이러한 필름은 87.9%의 패스 방향 투과 및 27.8%의 블록 방향 투과를 나타낸다. 각각의 이러한 필름은 단축으로 신장된 필름을 비교할 때 개선된 질김을 나타낸다.(예를 들어 분열을 행함)
상기에 여러가지 실시예가 제공되었지만 본 발명은 이러한 실시예에 제한되지 않는다. 본 발명은 많은 광학 필름 및 그 제조에 대한 물질 가공에 적용할 수 있다. 예를 들어, 상기 실시예는 일반적으로 2 개의 물질을 기술하지만, 2 개 이상의 물질을 사용할 수 있다. 각각의 물질은 가공 조건의 주어진 세트에 대해 배향 또는 무배향클래스에 포함된다. 별개의 드로잉 가공은 목표한 반응을 얻기 위하여 필름에서 각각의 물질에 대해 사용한다. 본 발명을 응용할 수 있는 여러가지 물질 및 생산품은 물론 여러가지 수정, 동등한 가공은 본 명세서의 설명으로 이해할 수 있다. 클레임은 그러한 수정 및 장치를 커버하도록 되어 있다.

Claims (34)

  1. 필름의 제1 평면 내축을 따라 최소한 제1 물질에서 광학 배향을 유도함과 동시에 상기 필름의 상기 제1 평면 내축을 따라 상기 제1 물질에서 유도된 배향보다 적은 상기 필름의 제2 평면 내축을 따라 상기 제1 물질에서 배향을 유도하는 조건하에서 상기 제2 물질의 굴절율이 상기 필름의 상기 제1 및 제2 평면 내축중 하나를 따라 상기 제1 물질의 굴절율과 실질적으로 일치하도록 상기 필름의 상기 제1 및 제2 평면 내축에 대해 상기 제1 물질 및 제2 물질을 포함하는 상기 필름을 가공하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필름 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제1 및 제2 평면 내축은 상기 필름의 직교 평면 내축을 형성하는 것을 특징으로 하는 방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 필름은 제1 물질에 대해 광학적으로 배향되고 상기 제2 물질에 대해 무배향되거나 비광학적으로 배향되도록 선택되는 드로잉 온도, 드로잉율 및 드로잉비에서 상기 제1 평면 내축을 따라 상기 필름을 드로잉함으로써 상기 제1 평면 내축에 대해 가공되는 것을 특징으로 하는 방법.
  4. 제1항에 있어서, 상기 필름은 상기 제1 물질 및 상기 제2 물질에 대해 광학적으로 배향되도록 선택되는 드로잉 온도, 드로잉율 및 드로잉비에서 상기 제2 평면 내축을 따라 상기 필름을 드로잉함으로써 상기 제2 평면 내축에 대해 가공되는 것을 특징으로 하는 방법.
  5. 제1항에 있어서, 상기 제1 및 제2 평면 내축에 대한 상기 필름의 가공은
    상기 제1축을 따라 제1 물질에 대해 광학적으로 배향되고 상기 제2 물질에 대해 무배향되거나 비광학적으로 배향되는 드로잉 온도, 제1 드로잉율 및 제1 드로잉비에서 상기 제1 평면 내축을 따라 상기 필름을 드로잉하는 단계와,
    동시에 상기 제1 물질 및 상기 제2 물질에 대해 광학적으로 배향되는 상기 드로잉 온도, 제2 드로잉율 및 제2 드로잉비에서 상기 제2 평면 내축을 따라 상기 필름을 드로잉하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  6. 제1항에 있어서, 상기 필름은 상기 가공에 의해 상기 제1 및 제2축에 대해서 배향되는 제3 물질의 비광학층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  7. 제1항에 있어서, 상기 필름은 제1 및 제2 물질의 복수의 교번층을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  8. 제7항에 있어서, 상기 필름은 상기 제1축을 따라 상기 제1 물질 및 제2 물질의 굴절율은 실질적으로 동일하고 상기 제2축을 따라 상기 제1 물질 및 제2 물질의 굴절율은 실질적으로 불일치하여 투과축을 형성하는 상기 제1축 및 반사축을 형성하는 상기 제2축과 함께 반사 편광기를 형성하는 것을 특징으로 하는 방법.
  9. 제8항에 있어서, 상기 반사축은 가공 동안에 광학 필름의 기계 방향에 대응하는 것을 특징으로 하는 방법.
  10. 제8항에 있어서, 상기 반사축은 가공 동안에 광학 필름의 교차웹 방향과 일치하는 것을 특징으로 하는 방법.
  11. 제7항에 있어서, 상기 필름의 두께 방향으로 제1 물질 및 제2 물질의 인접층 굴절율은 동일한 것을 특징으로 하는 방법.
  12. 제1항에 있어서, 상기 필름은 제1 물질 및 제2 물질의 혼합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  13. 제12항에 있어서, 상기 제1 물질은 혼합물의 연속 위상을 형성하고 제2 물질은 혼합물의 분산 위상을 형성하는 것을 특징으로 하는 방법.
  14. 제13항에 있어서, 제1축에 대해서 상기 가공은 광학적으로 분산 위상을 배향함과 동시에 제2축에 대해서 상기 가공에 의해 분산 위상의 배향을 거의 유도하지 않거나 또는 전혀 유도하지 않는 것을 특징으로 하는 방법.
  15. 제12항에 있어서, 상기 제1 물질은 상기 혼합물의 분산 위상을 형성하고 제2 물질은 상기 혼합물의 연속 위상을 형성하는 것을 특징으로 하는 방법.
  16. 제1항에 있어서, 상기 제1축에 대해 상기 필름을 가공하는 단계는
    상기 제1 물질 및 제2 물질에서 광학적인 배향을 유도하는 조건하에서 상기 제1축을 따라 상기 필름을 드로잉하는 단계와,
    상기 제2 물질의 광학 배향을 실질적으로 완화함이 없이 상기 제1 물질에 유도된 광학 배향을 완화하는 온도까지 드로잉한 후에 상기 필름을 가열하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  17. 상기 필름의 각각 제1 및 제2 평면 내축을 따라 배향을 가지는 제1 물질과,
    제1 물질과 공동 사출 성형되는 제2 물질과,
    상기 필름의 상기 제1 평면 내축만을 따라 배향을 가지는 상기 제2 물질을 포함하며, 상기 제1 물질 및 제2 물질의 광학 배향은 상기 필름의 제1 및 제2 평면내축중 하나를 따라 제1 물질 및 제2 물질의 굴절율이 동일하고, 상기 제1 물질 및 제2 물질의 평균 굴절율로 나누어진 상기 제1 및 제2 평면 내축의 다른 하나를 따라 상기 제1 및 제2 물질의 굴절율간 차이의 절대값은 0.06이상인 것을 특징으로 하는 광학 필름.
  18. 제17항에 있어서, 상기 제1 물질 및 제2 물질의 굴절율은 상기 필름의 두께 방향으로 실질적으로 동일한 것을 특징으로 하는 광학 필름.
  19. 제17항에 있어서, 상기 제1 및 제2 물질은 물질의 연속 위상을 형성하는 상기 제1 물질 및 물질의 분산 위상을 형성하는 상기 제2 물질의 혼합물로서 공동 사출 성형되는 것을 특징으로 하는 광학 필름.
  20. 제17항에 있어서, 상기 필름은 제1 및 제2 물질의 교번층을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필름.
  21. 제20항에 있어서, 상기 필름의 두께 방향으로 제1 물질 및 제2 물질의 인접층의 굴절율은 동일한 것을 특징으로 하는 광학 필름.
  22. 제17항에 있어서, 상기 필름은 제1 물질 및 제2 물질의 혼합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필름.
  23. 광학 필름의 제조 방법에 있어서,
    제1 물질 및 상기 제1 물질과는 광학적으로 경계를 이루는 제2 물질을 포함하는 필름을 제공하는 단계와,
    상기 제1 물질 및 제2 물질은 다른 점성-탄성 특성을 가지는 단계와,
    상기 제2 물질의 광학 배향을 유도함이 없이 제1 방향으로 상기 제1 물질의 광학 배향을 유도하도록 선택된 드로잉 조건하에서 상기 제1 방향으로 상기 필름을 드로잉하는 단계와,
    상기 제1 물질 및 제2 물질의 광학 배향을 유도하도록 선택된 드로잉 조건하에서 상기 제2 방향으로 상기 필름을 드로잉하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필름 제조 방법.
  24. 제23항에 있어서, 상기 필름은 상기 제1 물질의 제1층 및 제2 물질의 제2층을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필름 제조 방법.
  25. 제23항에 있어서, 상기 필름은 상기 제1 및 제2 물질의 하나를 포함하는 연속 위상 물질 및 상기 제1 물질 및 제2 물질의 다른 하나를 포함하는 분산위상 물질 혼합을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필름 제조 방법.
  26. 제23항에 있어서, 제1 방향으로 상기 필름을 드로잉하는 단계 및 제2 방향으로 상기 필름을 드로잉하는 단계는 동시에 실행되는 것을 특징으로 하는 광학 필름 제조 방법.
  27. 목표한 광학 특성을 가지는 필름을 제조하기 위한 방법에 있어서,
    (a)제1 물질 및 상기 제1 물질과는 광학적으로 경계를 이루는 제2 물질을 포함하는 필름을 제공하는 단계와, 상기 제1 물질 및 제2 물질은 다른 점성-탄성 특성을 가지는 단계와,
    (b)상기 제2 물질의 광학 배향을 유도함이 없이 상기 제1 방향으로 상기 제1 물질의 광학 배향을 생성하도록 상기 필름을 가공하는 단계와,
    (c)상기 제2 방향으로 상기 제1 물질 및 제2 물질의 광학 배향을 발생하도록 상기 필름을 가공하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 필름 제조 방법.
  28. 제27항에 있어서, 상기 필름은 상기 제1 물질을 포함하는 제1층 및 제2 물질을 포함하는 제2층을 포함하는 다층 필름을 포함하는 것을 특징으로 하는 필름 제조 방법.
  29. 제28항에 있어서, 상기 가공 단계(b)는 상기 제2층에서 광학 배향을 유도함이 없이 상기 제1층의 광학 배향을 유도하도록 선택된 조건하에서 상기 제1 방향으로 상기 다층 필름을 드로잉하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 필름 제조 방법.
  30. 제28항에 있어서,
    제1층은 제2층의 평균 완화 시간보다 긴 평균 완화 시간을 가지며,
    상기 가공 단계(b)는 상기 제2층에서 광학 배향을 유도함이 없이 상기 제1층의 광학 배향을 유도하도록 선택된 조건하에서 상기 제1 방향으로 상기 다층 필름을 드로잉하는 단계와,
    상기 제1 방향으로 상기 제1층의 광학 배향을 실질적으로 유지할 만큼 충분히 낮고 상기 제1 방향으로 상기 다층을 드로잉하는 단계에 의해 유도된 상기 제1 방향으로 제2층의 광학 배향을 완화하기 충분히 높은 온도까지 상기 다층 필름을 가열하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 필름 제조 방법.
  31. 제30항에 있어서, 가공 단계(c)는 상기 제2 방향으로 상기 제1층 및 제2층의 광학 배향을 유도하도록 선택된 조건하에서 제2 방향으로 상기 다층 필름을 드로잉하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 필름 제조 방법.
  32. 축소된 각도 의존성을 가지는 편광 필름 제조 방법에 있어서,
    복굴절 물질의 제1층을 포함하는 다층 필름을 형성하는 단계에서,
    복굴절 물질의 제2층과 광학적으로 계면을 이루는 상기 제1층의 아이소트로픽 굴절율은 상기 제2층의 아이소트로픽 굴절율과 다르고, 상기 다층 필름은 상기 제1층 및 제2층의 평면을 한정하는 제1 및 제2 평면 내축과 상기 제1 및 제2층의 두께 방향을 따라 상기 제1 및 제2 평면 내축에 수직한 제3축을 포함하는 상기 형성 단계와,
    상기 제1 평면 내축, 제2 평면 내축, 제3축을 따라 상기 제1층의 굴절율 및 제2평면 내축을 따라 제2층 굴절율은 실질적으로 불변 유지되고 동시에 제1 평면 내축을 따라 제2층의 굴절율이 제1 평면 내축을 따라 제1층의 굴절율과 실질적으로 동일한 값으로 변화하는 방식으로 상기 제1 평면 내축 방향으로 상기 다층 필름을 드로잉하는 단계와,
    상기 제3축을 따라 상기 제1층 및 제2층 굴절율이 실질적으로 동일하도록 상기 제2 평면 내축 방향으로 상기 다층 필름을 드로잉하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  33. 제2 중합성 물질의 연속 위상과 광학적으로 계면를 이루는 제1 중합성 물질의 분산 위상의 혼합물을 포함하는 광학 편광 필름으로, 상기 제2 중합성 물질은, 필름의 제1축에 대해 분자 배향을 가지고 상기 제1축과 관련한 배향에 대해 필름의 제2축과 관련하여 상대적으로 약한 분자 배향을 가지며, 상기 제1 및 제2 중합성 물질은 제1 편광 상태의 광을 실질적으로 투과하도록 매칭된 상기 필름의 제1 및 제2축의 하나를 따라 굴절율을 가지며 동시에 상이한 제2 편광 상태의 광을 실질적으로 반사하도록 상기 필름의 제1 및 제2축의 다른 하나를 따라 굴절율을 가지는 것을 특징으로 하는 광학 편광 필름.
  34. 제33항에 있어서, 상기 제2 중합성 물질은 필름의 제1 및 제2축의 하나에 대해 실질적인 분자 배향을 가지고, 필름의 제1 및 제2축의 다른 하나에 대해 최소 또는 무분자 배향을 가지는 것을 특징으로 하는 광학 편광 필름.
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