KR20010031464A - 유리 세정용 용액의 재생방법과 재생장치, 규산염 유리의세정방법과 세정장치 및 음극선관 - Google Patents

유리 세정용 용액의 재생방법과 재생장치, 규산염 유리의세정방법과 세정장치 및 음극선관 Download PDF

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Abstract

본 발명은 세정조(11)로부터 배출된 세정액(1)에 플루오르화물을 포함하는 처리액(2)을 첨가하고, 세정액 중의 플루오르화규산과 반응시켜 플루오르화규산염을 포함하는 침전물(4)을 석출시키고, 이를 제거한다. 재생장치(10)에서 재생시킨 세정액은 다시 세정조(11)로 반송되어 음극선관용 패널(20)의 세정액으로서 이용된다.

Description

유리 세정용 용액의 재생방법과 재생장치, 규산염 유리의 세정방법과 세정장치 및 음극선관{METHOD AND UNIT FOR REGENERATION OF SOLUTION FOR CLEANING GLASS, METHOD AND UNIT FOR CLEANING SILICATE GLASS, AND CATHODE-RAY TUBE}
플루오르화수소산은 규산을 녹이는 성질을 가지고 있으므로, 장식용 유리의 제조공정에서는 유리 표면의 에칭 가공에 이용되고 있다. 또한, 유리 표면을 침식하는 성질을 이용하여 유리를 세정하기 위해서도 사용되고 있다. 예를들면, 각종 디스플레이 등에 이용되는 음극선관용 유리 패널은 패널의 내측 표면에 부착물이 남아 있으면, 그 위에 형성되는 형광체층 등에 악영향을 미쳐 음극선관의 성능이 저하한다. 그래서, 음극선관용 패널과 같이 매우 청정한 표면이 요구되는 유리 제품을 제조하는 공정에 있어서, 플루오르화수소산을 이용한 세정 공정은 필수 공정이 되고 있다.
음극선관용 패널의 세정 공정에 있어서는, 플루오르화수소산을 포함하는 유리 세정용 용액이 패널 세정조와 접속된 순환 장치에 의해 순환되면서 반복되는 패널의 세정에 이용된다. 그러나, 이와같이 세정액을 반복하여 이용하면, 세정 회수가 증가함에 따라 세정액 중에 유리 표면의 부착물이나 유리 성분이 용출되어 세정액의 세정 능력이 저하한다. 또한, 용출된 유리 성분 등의 불순물이 음극선관용 패널에 부착되어 패널 불량의 원인으로도 된다. 이와같은 사정으로부터, 음극선관용 패널의 세정 공정에 있어서는 세정액은 정기적으로 교환되고 있다. 불순물을 포함하는 사용 후의 세정액은 산업 폐기물로서 처리되게 된다.
플루오르화수소산을 보충함으로써 세정 능력의 저하를 보완하면, 세정액의 교환 주기를 어느 정도 길게 하는 것이 가능하다. 그러나, 플루오르화수소산을 보충하는 것 만으로는 산업 폐기물을 삭감하기 위한 해결책이 되지 않는다. 또한, 세정액 중의 불순물을 제거하여 패널의 불량을 방지하는 것도 불가능하다.
세정액 중의 불순물로 특히 문제가 되는 것은 유리 중의 규산(SiO2)과 플루오르화수소(HF)가 반응하여 발생하는 플루오르화규산(헥사플루오르화규산; H2SiF6)이다. 플루오르화규산은 세정액 중에 포함되는 각종 양이온과 결합하여 겔상 플루오르화규산염을 형성한다. 이 저유동성 겔상 물질은 투명하므로, 유리 표면에 부착되면 그 유리 표면이 젖어 있는 상태에서는 육안으로 관찰하기 어려워 유리 제품 불량의 원인이 되기 쉽다.
예를들면 특공소 46-15768호 공보에 기재되어 있는 바와같이, 전기 분해를 이용하면, 플루오르화수소산 중의 불순물을 제거하는 것은 가능하다. 그러나, 전기 분해는 다량으로 배출되는 유리 세정용 용액으로부터 효율적으로 불순물을 제거하는 방법으로는 적합하지 않다. 또한, 플루오르화수소산으로부터 미량의 양이온을 제거하는 방법으로는 우수하지만, 플루오르화규산을 제거하는 방법으로는 효과적이지 않다.
음극선관용 패널의 세정공정은 새롭게 성형된 패널뿐만 아니라, 블랙 매트릭스층이나 형광체층이 형성된 음극선관용 패널을 재이용하는 경우에도 적용된다. 플루오르화수소산을 포함하는 세정액으로 세정함으로써, 블랙 매트릭스층 등은 패널 표층의 유리와 함께 에칭되어 제거된다. 그러나, 이들 층에는 플루오르화수소산에 용해되기 어려운 물질(예를들면, 블랙 매트릭스층 중의 카본)이 포함되어 있다. 이 때문에, 음극선관용 패널을 재이용하기 위한 세정 공정에서는 미세한 불용물이 세정액 중에 다량으로 생기기 쉽다. 이 불순물을 방치하면 패널의 표면이 손상되므로, 용액 중에 부유하는 불용물을 제거할 필요가 발생한다. 불용물을 제거하는 방법으로는 침전조에서 침강시키는 방법이나 필터에 의해 여과하는 방법을 생각할 수 있다.
그러나, 침전조에서 침강시키는 방법은 입자가 큰 불순물이면 유효하지만, 유리 세정용 용액에 부유하고 있는 미세한 불용물에는 적합하지 않다. 또한 필터에 의해 여과하는 방법은 필터의 능력이 높으면 필터가 빨리 막히고, 필터의 능력이 낮으면 불용물을 제거할 수 없다.
상기와 같이, 종래에는 플루오르화수소산을 포함하는 유리 세정용 용액을 효율적으로 재생하는 방법은 알려져 있지 않다. 산업 폐기물의 삭감은 이미 사회적 과제이고, 환경 국제 표준 규격(ISO14001)의 제정을 계기로 기업 활동을 계속해 가는데의 과제로도 되었다. 이러한 상황에 있어서도 유리 세정용 용액의 세정 능력을 회복시키기 위해서는 유리 세정용 용액을 교환하는 것 이외에 유효한 방법이 발견되지 않은 현상은 유리 제품 제조상의 큰 문제가 되고 있다.
본 발명은 플루오르화수소산을 포함하는 유리 세정용 용액의 재생방법 및 재생장치, 규산염 유리(실리케이트 유리)의 세정방법 및 세정장치에 관한 것이다. 특히, 본 발명은 예를들면 음극선관용 패널과 같이 높은 청정도가 요구되는 유리 표면을 제공하기 위한 방법 및 장치에 관한 것이고, 또한 상기 패널을 구비한 음극선관에 관한 것이다.
도1은 본 발명의 세정장치의 일실시형태의 구성을 도시하는 도면,
도2는 본 발명의 세정장치의 다른 일실시형태의 구성을 도시하는 도면,
도3은 유리 세정용 용액 중 Si에 대한 첨가KF의 몰비와, 상기 용액 중에 침지시킨 유리편의 중량 감소율의 관계를 나타내는 도면,
도4는 유리 세정용 용액 중의 Si에 대한 첨가KF의 몰비와, 상기 용액 중의 Si 농도 및 Si 제거율의 관계를 나타내는 도면,
도5는 연속 시험의 플루오르화수소산 세정액 중의 양이온 농도의 변화를 도시하는 도면,
도6은 연속시험의 유리편의 중량 감소율의 변화를 나타내는 도면,
도7은 연속 시험에 있어서 KF를 첨가하지 않은 경우의 유리편의 중량 감소율의 변화를 나타내는 도면,
도8은 미세한 불용물이 분산된 유리 세정용 용액의 불용물의 침전과 시간의 관계를 KF 첨가 유무에 의해 비교한 도면, 및
도9는 본 발명에 의해 세정한 패널을 포함하는 음극선관의 일실시형태의 부분 단면도이다.
〈발명의 개시〉
본 발명은 상기 문제를 해결하고, 규산염 유리의 세정이나 가공에 이용되며, 다량으로 배출되는 플루오르화수소산을 포함하는 유리 세정용 용액의 효율적인 재생방법 및 재생장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명은 특히 부유하는 불용물과 플루오르화규산을 포함하는 유리 세정용 용액의 효율적인 재생방법 및 재생장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 재생한 세정용 용액을 이용한 규산염 유리의 세정방법 및 세정장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 재생한 세정용 용액을 이용하여 세정한 패널을 이용한 음극선관을 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 유리 세정용 용액의 재생방법은 규산염 유리의 표면을 세정한 후의 플루오르화수소산을 포함하는 유리 세정용 용액에 플루오르화물을 첨가함으로써, 상기 유리 세정용 용액중의 플루오르화규산과 상기 플루오르화물을 반응시켜 플루오르화규산염을 석출시키고, 이 플루오르화규산염을 상기 유리 세정용 용액으로부터 제거하는 것을 특징으로 한다.
이와같은 재생방법에 의하면, 다량의 유리 세정용 용액을 효율적으로 재생시킬 수 있다. 특히, 상기 방법에 의하면, 플루오르화규산염의 석출반응에서 플루오르화수소가 생성되고, 이 플루오르화수소가 유리 세정용 용액의 세정 능력의 회복에 기여하게 된다. 상기 재생방법에 의하면, 유리 세정용 용액을 공업적으로 적용시킬 수 있는 수법에 의해 재생시킬 수 있으므로, 유리 세정용 용액의 교환 주기를 장기화하는 것이 가능해진다.
상기 재생방법에 있어서는, 플루오르화물이 플루오르화리튬, 플루오르화나트륨, 플루오르화칼륨, 플루오르화루비듐, 플루오르화세슘, 플루오르화마그네슘, 플루오르화스트론튬, 플루오르화바륨, 플루오르화코발트, 플루오르화망간, 플루오르화구리 및 플루오르화암모늄 중에서 선택되는 적어도 1개의 화합물을 포함하는 것이 바람직하다. 이들 플루오르화물을 이용함으로써, 플루오르화규산을 효과적으로 제거할 수 있기 때문이다.
또한, 상기 재생방법에 있어서는 플루오르화규산염을 제거한 후의 유리 세정용 용액에 플루오르화수소산을 보충하는 것이 바람직하다. 또한, 상기 재생방법에 있어서는 플루오르화물을 플루오르화수소산과 함께 첨가하는 것이 바람직하다. 상기 재생방법에 의해 생성되는 플루오르화수소는 플루오르화규산의 생성 등에 소비된 플루오르화수소를 모두 회복시키는 것은 아니다. 그러나, 상기 바람직한 예에 의하면, 유리 세정용 용액의 세정능력이 충분히 회복되고, 유리 세정용 용액의 교환 주기를 더욱 장기화시킬 수 있다.
상기 재생방법에 있어서는 규산염 유리의 표면을 세정한 후의 유리 세정용 용액 중의 Si의 농도를 측정하여 첨가하는 플루오르화물의 양을 상기 Si 전체가 플루오르화규산염으로 변화할 때에 필요로 되는 양 이상으로 하는 것이 바람직하다. 첨가하는 플루오르화물의 양은 Si 전체가 플루오르화규산염으로 변화하기 위해 필요로 하는 양의 1∼2배로 하는 것이 더욱 바람직하다. 이 바람직한 예에 의하면, Si 농도에 따른 양의 플루오르화물이 첨가되므로, 잉여의 플루오르화물이 불순물로 되어 새로운 문제를 발생시키거나 플루오르화규산의 제거가 불충분해지는 것을 방지할 수 있다.
또한, 상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 규산염 유리의 세정방법은 상기 재생방법에 의해 재생된 유리 세정용 용액을 이용하여 규산염 유리의 표면을 세정하는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명의 규산염 유리의 다른 세정밥법은 상기 재생방법에 의해 재생한 유리 세정용 용액을 재생하는 재생공정과, 이 재생공정에서 얻어지는 유리 세정용 용액을 이용하여 규산염 유리의 표면을 세정하는 세정공정을 병행하여 실시하고, 이 세정공정에서 사용한 상기 유리 세정용 용액을 다시 상기 재생공정에서 재생시킴으로써, 상기 유리 세정용 용액을 재생하면서 사용하는 것을 특징으로 한다.
이들 세정방법에 의하면, 종래보다 플루오르화수소산을 포함하는 산업 폐기물의 양을 삭감하는 것이 가능하고, 또한 플루오르화규산염의 부착에 기인하는 유리 제품의 불량을 저감시킬 수도 있다.
상기 세정방법에 있어서는 규산염 유리가 음극선관용 패널인 것이 바람직하다. 음극선관용 패널은 특히 청정한 표면을 요구하고, 다량의 플루오르화수소산을 포함하는 유리 세정용 용액을 사용하여 세정되기 때문이다.
특히, 음극선관용 패널이 세정되기 전에 블랙 매트릭스층, 형광체층 및 메탈 백층 중에서 선택되는 적어도 하나가 표면에 존재하는 패널을 포함하는 경우에, 상기 세정방법의 효과가 현저해진다. 상기 각층에서는 유리 세정용 용액에 대한 불용물이 생기는데, 상기 세정방법을 적용하면 이와같은 불용물도 플루오르화규산염과 함께 제거할 수 있다.
상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 유리 세정용 용액의 재생장치는 규산염 유리의 표면을 세정한 후의 플루오르화수소산을 포함하는 유리 세정용 용액에 플루오르화물을 첨가하는 처리조와, 상기 유리 세정용 용액 중의 플루오르화규산과 상기 플루오르화물이 반응하여 석출된 플루오르화규산염을 상기 유리 세정용 용액으로부터 제거하는 플루오르화규산염 회수수단을 포함하는 것을 특징으로 한다.
이와같은 재생장치에 의하면, 다량의 유리 세정용 용액을 효율적으로 재생시킬 수 있다. 또한 유리 세정용 용액 중에 부유하는 불용물도 플루오르화규산염과 함께 제거할 수 있다. 또한, 상기 장치에 의하면, 플루오르화규산염의 석출 반응에서 플루오르화수소가 생성되고, 이 플루오르화수소가 유리 세정용액의 세정 능력의 회복에 기여하게 된다. 이와같이 상기 재생장치에 의하면, 유리 세정용 용액을 공업적으로 적용할 수 있는 수법에 의해 재생시킬 수 있으므로, 유리 세정용 용액의 교환 주기를 장기화하는 것이 가능해진다.
상기 재생장치에 있어서는 처리조의 저부로부터 유리 세정용 용액을 받아들이는 침전조를 추가로 구비하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 재생장치에 있어서는 플루오르화규산염 회수수단이 고체와 액체를 분리할 수 있는 고체 액체 분리 기능을 구비한 장치이면 특별히 제한은 없고, 필터 등의 여과장치이어도 되는데, 처리조 및/또는 침전조의 저부에 구비된 배출용 코크를 포함하는 것이 바람직하다. 이것은 효율적인 분리가 가능하고, 재생장치의 연속 운전에도 적합하기 때문이다.
상기 재생장치에 있어서는 플루오르화규산염을 제거한 유리 세정용 용액에 플루오르화수소산을 보충하는 조정조를 추가로 구비하는 것이 바람직하다. 이 바람직한 예에 의하면, 유리 세정용 용액의 교환주기를 더욱 장기화할 수 있다. 또한, 특별히 한정하는 것은 아니지만, 상기 조정조는 상기 침전조(침전조를 이용하지 않는 경우는 처리조)의 액면 근방부터 유리 세정용 용액을 받아들이도록 배치되어 있는 것이 바람직하다.
상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 규산염 유리의 세정장치는 상기 재생장치와, 이 재생장치로부터 유리 세정용 용액이 공급되며, 이 유리 세정용 용액에 의해 규산염 유리의 표면을 세정하는 세정조를 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명의 규산염 유리의 다른 세정장치는 상기 재생장치와, 이 재생장치로부터 유리 세정용 용액이 공급되며, 이 유리 세정용 용액에 의해 규산염 유리의 표면을 세정하는 세정조를 포함하고, 상기 세정조에서 사용한 상기 유리 세정용 용액을 상기 재생장치에서 다시 재생함으로써 상기 유리 세정용 용액을 재생하면서 사용하는 것을 특징으로 한다.
이들 재생장치에 의하면, 종래보다 플루오르화수소산을 포함하는 산업 폐기물의 양을 삭감하는 것이 가능해지고, 또한 플루오르화규산염의 부착에 기인하는 유리 제품의 불량을 저감시키는 것도 가능해진다.
또한, 본 발명에 의하면, 상기 세정방법에 의해 세정된 음극선관용 패널을 포함하는 음극선관이 제공된다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시형태에 대해 도면을 참조하여 설명한다.
도1에 도시한 규산염 유리의 세정장치에 있어서는 유리 세정용 용액의 재생장치(10)와 유리 세정조(11)에 의해 유리 세정용 용액의 순환경로가 구성되어 있다.
재생장치(10)는 처리조(13)와 침전조(14)와 조정조(15)를 포함하고, 처리조(13) 및 조정조(15)에는 각각 처리액 탱크(12) 및 플루오르화수소산 탱크(16)가 펌프(22, 26)를 구비한 배관을 통하여 접속되어 있다.
처리조(13)는 세정조(11)로부터 배출되는 유리 세정액(1)과 처리액 탱크(12)로부터 펌프(22)에 의해 주입되는 처리액(2)을 받아들이고, 이들 액이 혼합되도록 되어 있다. 처리액 탱크(12)에는 후에 예시하는 플루오르화물을 포함하는 용액이 저장되어 있다. 또한, 처리조(13)에는 후술하는 조정조에 구비되어 있는 것과 같은 교반 장치를 설치해도 상관없다.
처리조(13)의 하방에는 침전조(14)가 배치되어 있다. 처리액(2)이 혼합된 세정액(3)은 처리조(13)의 저부로부터 침전조(14)로 배출된다. 처리액(2)을 혼입함으로써 세정액(3)으로부터 석출된 침전물(4)은 세정액(3)에 포함되는 불용물을 함유한다. 이 침전물(4)은 액 중에 침강되어 침전조(14)의 저부에 축적된다. 침전조(14)의 저부에는 배출 코크(드레인코크)(34)가 설치되며, 이 배출 코크(34)를 통해 침전물(14)은 장치외로 배출된다. 한편, 침전물(4)이 제거된 후의 세정액은 침전조 내의 내벽에 의해 분리된 구획을 필터(24)를 통과하여 상방으로 이동하여 조정조(15)로 유출된다. 배출 코크로부터 장치 외로 제거되지 않고 용액 중에 남아있는 미량의 부유물은 필터(24)에 의해 여과된다.
또한, 처리조(13) 내에서 충분히 침전물을 석출시킬 수 있는 경우에는 침전조(14)를 설치하지 않고, 배출 코크를 처리조(13)의 저부에 설치하고, 그 배출 코크로부터 침전물을 배출하도록 해도 상관없다.
조정조(15)는 침전조(14)와 공통의 액면을 가지도록 상부에서 침전조와 연통되어 있다. 이와같이 조정조(15)에는 침전조(14)내에서 침전물이 분리된 세정액의 상등액만이 유입되도록 되어 있다. 또한, 조정조(15)에는 플루오르화수소산 탱크(16)가 접속되어 있고, 이 플루오르화수소산 탱크(16)로부터 펌프(26)에 의해 소정량의 플루오르화수소산(6)이 주입된다. 또한, 조정조(15)에는 플루오르화수소산(6)이 첨가된 세정액(5)을 혼합하기 위한 교반기(25)와, 국소 배기를 행하기 위한 배기구(35)가 배치되어 있다.
조정조(15)에는 그 저부에 배치된 배액구 가까이에 모니터링 시스템(30)이 구비되어 있다. 이 모니터링 시스템(30)은 세정액 중의 플루오르화수소산의 농도를 측정하는 HF 모니터인데, 플루오르화수소산의 액량을 제어하기 위한 콘트롤러도 구비하고 있다. 이 콘트롤러는 플루오르화수소산의 농도, 세정액의 상태 등에 따라 펌프(26)로 동작 신호를 송신하고, 플루오르화수소산(6)의 첨가량을 제어한다. 이와같이, 재생장치(10)에는 세정액 중의 플루오르화수소산의 농도를 소정 범위내로 제어할 수 있는 조정 기구가 포함되어 있다.
플루오르화수소산의 조정조의 배액구는 순환 펌프(27)를 가지는 배관을 통하여 세정조(11)에 접속되어 있고, 재생된 유리 세정액은 조정조(15)로부터 세정조(11)로 반송된다.
도1에 도시한 세정조(11)는 음극선관용 패널의 세정조이다. 이 세정조에 있어서, 재생된 세정액은 노즐(21)로부터 상방으로 토출되며, 대략 수평으로 지지된 음극선관용 패널(20)의 내측 표면을 씻어낸다. 세정액은 패널 표면에 존재하는 부착물 및 이 부착물과 함께 용출되는 유리 성분을 포함한 상태로 다시 처리조(13)로 공급된다. 음극선관용 패널은 도시하지 않은 반송 장치에 의해 연속적으로 세정조(11)로 반입되며, 또한 세정후에는 세정조로부터 순차 반출된다. 또한, 세정조(11)에는 조정조(15)와 마찬가지로 배기구(31)가 배치되어 있다. 음극선관용 패널은 배기구(31)로부터 국소 배기를 행하면서 세정된다.
이상 설명한 바와같이, 상기 세정장치에 있어서는 세정액이 펌프 등으로 구성되는 액 순환 시스템에 의해 세정조와 재생장치 사이를 왕복하면서 음극선관용 패널을 세정하고, 재생되며, 다시 패널을 세정하는 순환을 반복한다.
도2에 도시한 규산염 유리의 다른 세정장치는 처리조(13)에 Si 모니터링 시스템(36)이 설치되어 있는 점을 제외하고는 도1에 도시한 장치와 동일하다.
도2에 도시한 장치에서는 유리 세정액(3) 중의 Si 농도가 Si 모니터링 시스템(36)에 의해 측정된다. 이 시스템에는 첨가하는 처리액의 양을 조정하기 위한 첨가량 제어수단(콘트롤러)도 구비되어 있다. 콘트롤러는 측정하여 얻은 Si의 양에 따라 필요한 처리액의 양을 산출하고, 이 값에 따라 펌프(22)로 동작 신호를 송신하여 주입하는 처리액(2)의 양을 조정한다. 이와같이, 처리조(13)에 Si 모니터링 시스템(36)을 설치하면, 유리 세정액(3) 중의 Si양을 감시하고, 또한, 피드 백하면서 적절한 양의 처리액(2)을 주입할 수 있다.
이와같이, 효과를 확인하면서 처리액(2)을 첨가할 수 있으므로, Si 모니터링 시스템(36)은 처리조(13)에 설치하는 것이 바람직하다.
또한, 음극선관용 패널 표면의 부착물에 포함되는 플루오르화수소산에 대한 주요한 불용물로는 예를들면 음극선관용 패널을 재생하기 위해 세정하는 경우에는, 블랙 매트릭스층에 포함되는 카본, 형광체층에 포함되는 형광체 입자, 메탈 백층에 포함되는 알루미늄 등을 들 수 있다.
또한, 유리 세정액 중의 바람직한 플루오르화수소산의 농도는 세정 방법이나 세정의 대상이 되는 유리에 따라 결정하면 되는데, 예를들면 3∼20중량% 정도가 바람직하다.
이하, 유리 세정방법 및 유리 세정액의 재생방법의 일실시형태에 대해 설명한다.
세정되는 유리는 실리카(SiO2)를 유리 골격 성분으로서 포함하는 규산염 유리(실리케이트 유리)이다. 규산염 유리의 조성은 특별히 한정되지 않고, 예를들면 플로트법에 의해 제조될 수 있는 범용 판유리 조성, 음극선관용 패널의 유리 조성 등, 다양한 조성을 이용할 수 있다. 표1에 음극선관용 유리 조성의 예를 나타낸다. 이 유리 조성은 K2O를 5중량% 이상, BaO를 10중량% 이상 함유하는 점을 특징의 하나로 하고 있다.
(표1)
음극선관용 패널 유리의 조성예
유리 성분은 표1에 예시한 것과 같은 함유 비율을 정확하게 반영한 비율로 용출시키는 것이 아니라, 예를들면 알칼리 성분은 함유율을 상회하여 용출되는 일이 많다. 그러나, 어떠한 경우에도 유리 성분 중의 반 이상을 차지하는 SiO2는 주요한 용출 성분으로서 세정액 중에 존재하게 된다. SiO2는 이하의 반응식(1)에 나타내는 바와같이, 플루오르화수소와 반응하여 플루오르화규산(헥사플루오르화규산)으로서 상기 세정액 중에 용출된다.
SiO2+ 6HF → H2SiF6+ 2H2O (1)
플루오르화규산이나 미세한 불용물을 포함한 유리 세정액(1)은 처리조(13)로 유출되고, 이 처리조에서 처리액(2)과 혼합된다. 처리액(2)은 플루오르화물을 포함하는 수용액 혹은 플루오르화물을 포함하는 플루오르화수소산으로서 공급된다. 여기서, 플루오르화물로는 무기 플루오르화물, 특히 플루오르화수소산염이 바람직하다.
세정액(1)에 플루오르화물이 첨가되면 플루오르화수소 분리반응이 발생한다. 즉, 플루오르화물은 유리 중의 실리카로부터 발생한 상기 플루오르화규산과 반응하여 플루오르화규산염과 플루오르화수소를 생성시킨다. 예를들면, 플루오르화물로서 플루오르화칼륨을 이용한 경우의 플루오르화수소의 분리는 이하의 반응식(2)로 나타낼 수 있다.
H2SiF6+ 2KF → K2SiF6↓ + 2HF (2)
처리액(2)이 첨가된 세정액(3)에서는 상기 반응식에 의해 예시되는 것과 같은 플루오르화규산염의 생성반응이 진행된다. 석출된 플루오르화규산염은 세정액(3) 중에 분산되어 부유하는 불용물을 감싸면서 처리조(13) 안에 침강하여 처리조의 저부에 접속하는 침전조(14)로 배출된다. 침전조(14)로 배출된 불용물과 플루오르화규산염은 다시 침전조(14)안에 침강되어 침전물(4)로 되어 조의 저부에 퇴적된다. 이 침전물(4)은 침전조의 하단에 배치된 배출 코크(34)로부터 배출된다.
플루오르화규산염만이 침전되는 경우, 침전물(4)은 백색으로 된다. 그러나 플루오르화규산염과 함께 불순물이 석출되는 경우는, 침전물(4)은 착색되는 경우가 있다. 예를들면 불순물로서 흑색 카본 입자가 존재하는 경우, 침전물(4)은 플루오르화규산염의 백색과 카본의 흑색이 혼색되어 재색으로 된다. 이 경우, 풀루오르화규산의 석출전의 세정액은 카본 입자 때문에 흑색으로 착색되어 있는데, 침전물(4)과 분리된 후의 세정액의 상등액은 대략 무색 투명하게 된다. 이 세정액은 필터(24)에 의해 여과되면서 침전조내의 구획을 상방으로 이송시키고, 침전조(14)의 액면 근방으로부터 조정조(15)로 유출된다.
플루오르화수소는 상기 반응식(2)으로 나타낸 바와같이, 그 일부가 재생된다. 그러나, 이와함께 상기 반응식(1)을 참조하면 명백한 바와같이, SiO2와 반응하여 소비된 모든 플루오르화수소가 재생되는 것은 아니다. 그래서, 플루오르화규산염과 세정액(3) 중에 포함되는 부유 분산하는 유리 성분 이외의 불순물이 제거된 세정액(5)에는 조정조(15)에서 플루오르화수소산이 보충된다. 플루오르화수소산의 첨가는 모니터링 시스템(30)에 의해 세정액 중의 농도를 측정하면서 행해진다. 이렇게 하여 조정되는 플루오르화수소산의 바람직한 농도는 상기에 예시한 대로이다.
모니터링 시스템(30)에 의해, 잔존하는 플루오르규산의 농도를 동시에 측정해도 된다. 이 경우에는 측정된 플루오르화규산의 농도에 따라 처리조(13)로 공급하는 플루오르화물의 양을 다시 미세 조정하는 것이 바람직하다.
이와같이 하여, 세정액(3) 중의 불순물이 저감되며, 또한 플루오르화수소산의 농도가 조정된 유리 세정액은 순환 펌프(27)에 의해 다시 세정조(11)로 공급되어, 다시 음극선관용 패널(20)의 세정에 이용된다.
이하, 첨가하는 플루오르화물에 대해 검토한다. 플루오르화물은 상기 반응식(2)으로 나타낸 바와같이, 플루오르화규산과 반응하여 플루오르화규산염과 플루오르화수소를 생성시키는 것이면 특별히 한정되지 않는데, 구체적으로는 플루오르화리튬(LiF), 플루오르화나트륨(NaF), 플루오르화칼륨(KF), 플루오르화루비듐(RbF), 플루오르화세슘(CsF), 플루오르화마그네슘(MgF2), 플루오르화스트론튬(SrF2), 플루오르화바륨(BaF2), 플루오르화코발트(CoF2), 플루오르화망간(MnF2), 플루오르화구리(CuF2) 및 플루오르화암모늄(NH4F)중에서 선택되는 적어도 하나의 화합물이 적합하다.
플루오르화물은 생성되는 플루오르화규산염을 효율적으로 제거하기 위해서는, 대응하는 플루오르화규산염의 물에 대한 용해도가 작은 것이 바람직하다. 한편, 플루오르화물 자체는 물에 대한 용해도가 어느 정도 큰 것이 바람직하다. 세정액에 혼합되기 쉽기 때문이다. 이와같은 관점에서, 플루오르화물로는 NaF, KF, RbF, CsF가 더욱 바람직하다. 이들 알칼리 금속(R)의 플루오르화물(RF)의 물에 대한 용해도 및 이들 플루오르화물에 대응하는 플루오르화규산염(R2SiF6)의 물에 대한 용해도를 표2에 나타낸다. 또한, 용해도는 모두 수온을 25℃로 하였을 때의 값이다.
〈표2〉
상기 반응식(2)에 따라 유리 세정액 중의 모든 플루오르화규산을 석출시키기 위해서는, 이론상은 상기 유리 세정액에 존재하는 플루오르화규산과 동일한 당량(동일한 화학당량)의 플루오르화물을 첨가하는 것이 필요하다. 그래서, 실제로 필요한 플루오르화물의 양을 확인하기 위해, 음극선관용 패널을 세정한 후의 세정액에 다양한 양의 플루오르화물(KF)을 첨가하여 유리 세정액의 세정 능력을 조사했다.
우선, 도1에 도시한 것과 동일한 세정조에, 세정하는 유리로서 표1에 나타낸 범위의 조성을 가지는 음극선관용 패널을 배치하고, 유리 세정액을 순환시키면서 세정조로 순차 반송되어 오는 음극선관용 패널을 세정했다. 또한 이 때, 순환 공정에서 KF는 첨가시키지 않고, 플루오르화수소산 농도를 모니터링하면서 이 농도가 일정해지도록 세정액에 플루오르화수소산을 첨가했다. 소정 시간 경과 후, 세정액의 일부를 채취하고, 이 세정액 중의 Si농도를 ICP 발광 분광 분석에 의해 정량했다. 그리고, 세정액에 Si농도에 대한 몰비가 소정 비율로 되도록 KF를 첨가했다. 그 후, 상기 각 세정액 30㎖에 상기 음극선관용 패널과 동일한 조성을 가지는 두께1㎜, 직경 15㎜의 유리편을 침지시키고, 실온하에서 교반기로 교반하면서 10분간 방치하고, 침지전후의 유리편의 중량을 측정했다. 각 유리편의 중량 감소율을 도3에 나타낸다.
도3에 나타낸 바와같이, Si에 대한 KF의 몰비가 증가함에 따라 유리편의 중량 감소율은 증가했다. 이 결과에 의해, 상기 반응식(2)으로 나타낸 바와같이, KF의 첨가에 의해 HF를 발생시키는 화학 반응이 진행된 것이 확인되었다. 한편, Si에 대한 KF의 몰비가 2를 넘으면(환언하면 KF의 당량이 세정액 중의 플루오르화규산의 당량을 넘으면), 그 이상 KF를 첨가해도 유리의 중량 감소율은 극소하게 증가할 뿐이었다. 이 경향도 상기 반응식(2)으로부터 예상되는 결과와 일치한다.
KF를 과잉 첨가하는 것은 잉여 칼륨 이온이 생성되므로 바람직하지 않다. 따라서, 첨가하는 플루오르화물은 상기 반응식(2)에 의한 HF의 생성을 고려하면, 유리 세정액 중에 존재하는 플루오르화규산의 당량의 1∼2배(특히 1∼1.5배)에 상당하는 양으로 하는 것이 바람직하다.
다음에 KF 첨가에 의한 유리 세정액 중의 Si 농도 변화 및 Si 제거율 변화를 도4에 나타낸다.
도4에 나타낸 바와같이, KF의 Si에 대한 몰비를 2로 하면(Si에 대한 KF의 당량점), 유리 세정액 중의 Si의 대략 70%가, 상기 몰비를 3으로 하면, 유리 세정액 중의 Si의 90%이상이 제거되었다.
도4에 나타낸 결과로부터, 유리 세정액 중의 Si의 제거를 고려하면, KF의 Si에 대한 몰비는 2∼4(플루오르화물의 플루오르화규산에 대한 당량으로 표시하면 1∼2배), 더욱 바람직하게는 2∼3.5, 특히 2.5∼3.5가 바람직하다. 단, 잉여 KF가 존재해도 지장없는 경우에는 현실 장치의 반응율 등을 고려하여, 몰비 2∼4.5 정도의 KF를 첨가해도 된다.
도3 및 도4의 결과로부터, 이하의 시험에서는 KF의 첨가량을 Si에 대해 몰비 3으로 했다.
반복하는 유리 세정액을 재생하는 경우의 KF 첨가 결과 및 유리로부터 용출되는 각종 양이온의 거동을 확인하기 위해, 이하의 검토를 행했다.
우선, 유리편을 플루오르화수소산에 용해시키고, Si 농도를 2500ppm, 플루오르화수소산을 11중량%로 한 세정액을 조제했다. 이 세정액 30㎖에 표1과 동일한 조성을 가지는 두께 1㎜, 직경 15㎜의 유리편을 침지시키고, 세정액의 온도를 34℃로 유지하여 교반기로 교반하면서 10분간 방치했다. 이 때의 유리편의 중량 감소량 및 세정액 중의 양이온 농도를 측정했다. 양이온 농도의 측정은 ICP 발광 분광 분석에 의해 행했다.
이어서, 세정액 중의 Si에 대하여 몰비 3에 상당하는 KF를 첨가하여, 플루오르화수소산 농도를 11중량%로 조정했다. 이 세정액 30㎖에 표1과 동일한 조성을 가지는 두께 1㎜, 직경 15㎜의 유리편을 침지시키고, 세정액의 농도를 34℃로 유지하여, 교반기로 교반하면서 10분간 방치했다. 이 때의 유리편의 중량 감소 및 세정액 중의 양이온 농도를 측정했다.
이상을 1 사이클의 시험으로 하고, 1 사이클 종료 후의 상기 세정액에 대해, 다시 1사이클째와 동일한 양의 유리편을 용해시키고, 상기와 동일한 시험을 합계 4사이클 반복 실시했다. 도5에 세정액 중의 각종 양이온의 농도 변화를, 도6에 유리편의 중량 감소율을 나타낸다. 또한, 도5에는 도시하지 않은 양이온에 대해서도, 동시에 농도 변화는 측정했지만, 그 이외의 양이온에 대한 농도는 Ba정도 또는 그 이하였다.
도5에 나타낸 바와같이, KF를 첨가함으로써, Si의 90% 이상을 연속적으로 제거할 수 있는 것이 확인되었다. 또한, Si 및 K는 실질적으로 축적되지 않는다. 또한, 도6에 나타낸 바와같이, 유리의 중량 감소량도 대략 일정하고, 세정액의 세정 능력도 실질적으로 유지되는 것이 확인되었다. 한편, KF를 전혀 첨가하지 않고 동일한 시험을 실시한 경우에는 도7에 나타낸 바와같이 유리의 세정 능력은 단조롭게 저하되었다.
다음에, 유리 세정액 중의 불용물의 침전량의 시간적 변화를 측정한 결과에 대해 설명한다.
상기와 동일하게, 우선 도1에 도시한 것과 동일한 세정조에 세정할 유리로서 표1에 나타낸 범위의 조성을 가지는 음극선관용 패널을 배치하고, 유리 세정액을 순환시키면서 순차 세정조로 반송되어 오는 음극선관용 패널을 세정했다. 또한, 이 때, 순환 공정에서 KF는 첨가시키지 않고, 플루오르화수소산 농도를 모니터링하면서 이 농도가 일정해지도록 세정액에 플루오르화수소산을 첨가했다.
이 때, 음극선관용 패널로는 표면에 블랙 매트릭스층, 형광체층 및 메탈 백 층이 형성된 패널을 이용했다.
소정 시간 경과 후, 세정액의 일부를 채취하여 비이커에 넣고, 침전물의 양의 시간적 변화를 측정했다. 결과를 도8에 나타낸다. 또한, 도8의 침전물의 체적비는 세정액에 대한 침전물의 체적비를 비이커의 눈금에 따라 읽어 얻은 값이다.
도8에서, 곡선(a)은 채취한 세정액에 KF를 첨가하지 않고 그대로 방치한 경우의 결과를 나타낸다. 이 경우의 침전물은 카본이나 형광체 입자 등의 불용물로 구성되어 있다. 곡선(b)는 채취한 세정액에 KF를 첨가하여 방치한 경우의 결과를 나타낸다. 이 경우의 침전물은 플루오르화규산염과 상기 불용물로 구성되어 있다. 곡선(c)은 채취한 세정액을 여과하여 세정액 중의 불용물을 제거하고 나서, 세정액에 KF를 첨가하여 방치한 경우의 결과를 나타낸다. 이 경우의 침전물은 플루오르화규산으로 구성되어 있다.
곡선(a∼c)을 대비하면, 플루오르화규산염의 석출에 의해, 용액 중에 부유하고 있는 불순물의 침강이 촉진된 것을 확인할 수 있다. 실제로 용액을 관찰해도 단지 정치되어 불순물을 침강시킨 경우에는(곡선(a)), 10분 경과 후에도 카본 입자 등의 부유가 관찰되는데 대해, KF를 첨가한 경우에는(곡선(b)), 동시간 경과후에는 불순물을 거의 관찰할 수 없었다.
또한, 곡선(b) 및 (c)에 있어서, 침전 시간 4분 경과 후에, 침전물의 체적비가 감소되는 것은 침전물이 점차 응축되기 때문이다.
이와같이, 플루오르화규산염의 석출에 의해, 세정액 중에 분산된 불용물의 침전이 촉진되는 것을 확인할 수 있었다.
도9에 이상에서 설명한 방법 및 장치에 의해 세정한 유리 패널(52)을 이용한 음극선관 패널의 일실시형태를 도시한다. 이 음극선관 밸브(51)는 패널(52), 깔때기(53) 및 네크(54)로 구성되어 있다. 상기 방법에 의해 세정한 패널(52)의 내측 표면에는 형광체층(55)이 형성되어 있다. 본 발명의 음극선관은 패널의 내측 표면을 상기 방법에 의해 세정하는 점을 제외하고는, 당업자 사이에서 주지된 제조방법에 의해 제작된다.
또한, 본 발명은 상기에서 설명한 실시형태에 한정되는 것은 아니다.
이상 상세하게 설명한 바와같이, 본 발명의 재생방법 및 장치에 의하면, 다량의 양이온 세정용 용액을 효율적으로 재생시킬 수 있다. 또한, 본 발명의 세정방법 및 장치에 의하면, 플루오르화수소산을 포함하는 유리 세정용 용액의 교환 주기를 장기화함으로써, 산업 폐기물을 저감시킬 수 있다. 이와같이, 본 발명은 종래는 곤란했던 플루오르화수소산을 포함하는 산업 폐기물의 삭감을 가능하게 하고, 동시에 유리의 세정 불량을 저감시키는 것으로서, 유리 제품 제조의 기술분야에 있어서 이용 가치가 매우 크다.

Claims (18)

  1. 규산염 유리의 표면을 세정한 후의 플루오르화수소산을 포함하는 유리 세정용 용액에 플루오르화물을 첨가함으로써, 상기 유리 세정용 용액 중의 플루오르화규산과 상기 플루오르화물을 반응시켜 플루오르화규산염을 석출시키고, 이 플루오르화규산염을 상기 유리 세정용 용액으로부터 제거하는 것을 특징으로 하는 유리 세정용 용액의 재생방법.
  2. 제1항에 있어서, 플루오르화물이 플루오르화리튬, 플루오르화나트륨, 플루오르화칼륨, 플루오르화비듐, 플루오르화세슘, 플루오르화마그네슘, 플루오르화스트론튬, 플루오르화바륨, 플루오르화코발트, 플루오르화망간, 플루오르화구리 및 플루오르화암모늄 중에서 선택되는 적어도 1개의 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 유리 세정용 용액의 재생방법.
  3. 제1항에 있어서, 플루오르화규산염을 제거한 후의 유리 세정용 용액에 플루오르화수소산을 보충하는 것을 특징으로 하는 유리 세정용 용액의 재생방법.
  4. 제1항에 있어서, 플루오르화물을 플루오르화수소산과 함께 첨가하는 것을 특징으로 하는 유리 세정용 용액의 재생방법.
  5. 제1항에 있어서, 세정하기 전에 규산염 유리의 표면에 존재하는 부착물로부터 생긴 유리 세정용 용액 중의 불용물을 플루오르화규산염과 함께 제거하는 것을 특징으로 하는 유리 세정용 용액의 재생방법.
  6. 제1항에 있어서, 규산염 유리의 표면을 세정한 후의 유리 세정용 용액 중의 Si의 농도를 측정하고, 첨가하는 플루오르화물의 양을 상기 Si 전체가 플루오르화규산염으로 변화할 때에 필요로 되는 양 이상으로 하는 것을 특징으로 하는 유리 세정용 용액의 재생방법.
  7. 제6항에 있어서, Si 전체가 플루오르화규산염으로 변화하기 위해 필요로 되는 양의 1∼2배의 플루오르화물을 첨가하는 것을 특징으로 하는 유리 세정용 용액의 재생방법.
  8. 규산염 유리의 표면을 세정한 후의 플루오르화수소산을 포함하는 유리 세정용 용액에 플루오르화물을 첨가함으로써, 상기 유리 세정용 용액 중의 플루오르화규산과 상기 플루오르화물을 반응시켜 플루오르화규산염을 석출시키고, 이 플루오르화규산염을 상기 유리 세정용 용액으로부터 제거하여 재생한 상기 유리 세정용 용액을 이용하여, 규산염 유리의 표면을 세정하는 것을 특징으로 하는 규산염 유리의 세정방법.
  9. 규산염 유리의 표면을 세정한 후의 플루오르화수소산을 포함하는 유리 세정용 용액에 플루오르화물을 첨가함으로써, 상기 유리 세정용 용액 중의 플루오르화규산과 상기 플루오르화물을 반응시켜 플루오르화규산염을 석출시키고, 이 플루오르화규산염을 상기 유리 세정용 용액으로부터 제거하여 상기 유리 세정용 용액을 재생하는 재생공정과, 상기 재생공정에서 얻어지는 유리 세정용 용액을 이용하여 규산염 유리의 표면을 세정하는 세정공정을 병행하여 실시하고, 상기 세정공정에서 사용한 상기 유리 세정용 용액을 다시 상기 재생공정에서 재생함으로써, 상기 유리 세정용 용액을 재생하면서 사용하는 것을 특징으로 하는 규산염 유리의 세정방법.
  10. 제8항 또는 제9항에 있어서, 규산염 유리가 음극선관용 패널인 것을 특징으로 하는 규산염 유리의 세정방법.
  11. 제10항에 있어서, 음극선관용 패널이, 세정하기 전에 블랙 매트릭스층, 형광체층 및 메탈 백층 중에서 선택되는 적어도 하나가 표면에 존재하는 패널을 포함하는 것을 특징으로 하는 규산염 유리의 세정방법.
  12. 규산염 유리의 표면을 세정한 후의 플루오르화수소산을 포함하는 유리 세정용 용액에 플루오르화물을 첨가하는 처리조와, 상기 유리 세정용 용액 중의 플루오르화규산과 상기 플루오르화물이 반응하여 석출된 플루오르화규산염을 상기 유리 세정용 용액으로부터 제거하는 플루오르화규산염 회수수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 유리 세정용 용액의 재생장치.
  13. 제12항에 있어서, 처리조의 저부로부터 유리 세정용 용액을 받아들이는 침전조를 추가로 구비한 것을 특징으로 하는 유리 세정용 용액의 재생장치.
  14. 제13항에 있어서, 플루오르화규산염 회수수단이 처리조 및 침전조 중에서 선택되는 적어도 한쪽 조의 저부에 구비된 배출용 코크를 포함하는 것을 특징으로 하는 유리 세정용 용액의 재생장치.
  15. 제12항에 있어서, 플루오르화규산염을 제거한 후의 유리 세정용 용액에 플루오르화수소산을 보충하는 조정조를 추가로 구비한 것을 특징으로 하는 유리 세정용 용액의 재생장치.
  16. 규산염 유리의 표면을 세정한 후의 플루오르화수소산을 포함하는 유리 세정용 용액에 플루오르화물을 첨가하는 처리조와, 상기 유리 세정용 용액 중의 플루오르화규산과 상기 플루오르화물이 반응하여 석출된 플루오르화규산염을 상기 유리 세정용 용액으로부터 제거하는 플루오르화규산염 회수수단을 포함하는 유리 세정용 용액의 재생장치와,
    상기 재생장치로부터 유리 세정용 용액이 공급되며, 이 유리 세정용 용액에 의해 규산염 유리의 표면을 세정하는 세정조를 포함하는 것을 특징으로 하는 규산염 유리의 세정장치.
  17. 규산염 유리의 표면을 세정한 후의 플루오르화수소산을 포함하는 유리 세정용 용액에 플루오르화물을 첨가하는 처리조와, 상기 유리 세정용 용액 중의 플루오르화규산과 상기 플루오르화물이 반응하여 석출된 플루오르화규산염을 상기 유리 세정용 용액으로부터 제거하는 플루오르화규산염 회수수단을 포함하는 유리 세정용 용액의 재생장치와,
    상기 재생장치로부터 유리 세정용 용액이 공급되며, 이 유리 세정용 용액에 의해 규산염 유리의 표면을 세정하는 세정조를 포함하고,
    상기 세정조에서 사용한 상기 유리 세정용 용액을 상기 재생장치에서 다시 재생함으로써, 상기 유리 세정용 용액을 재생하면서 사용하는 것을 특징으로 하는 규산염 유리의 세정장치.
  18. 규산염 유리의 표면을 세정한 후의 플루오르화수소산을 포함하는 유리 세정용 용액에 플루오르화물을 첨가함으로써, 상기 유리 세정용 용액 중의 플루오르화규산과 상기 플루오르화물을 반응시켜 플루오르화규산염을 석출시키고, 이 플루오르화규산염을 상기 유리 세정용 용액으로부터 제거하여 재생한 상기 유리 세정용 용액을 이용하여 표면을 세정한 규산염 유리로 이루어지는 음극선관용 패널을 포함하는 것을 특징으로 하는 음극선관.
KR1020007004498A 1998-08-26 1999-08-23 유리 세정용 용액의 재생방법과 재생장치, 규산염 유리의세정방법과 세정장치 및 음극선관 KR100361800B1 (ko)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101659521B (zh) * 2004-11-03 2013-07-10 迪瓦西公司 清洗再循环用容器的方法
TWI334624B (en) * 2006-01-30 2010-12-11 Dainippon Screen Mfg Apparatus for and method for processing substrate
FR2909664B1 (fr) * 2006-12-12 2009-02-13 Seppic Sa Procede de satinage d'un objet en verre regule en concentrations
CN103373708A (zh) * 2012-04-23 2013-10-30 巫协森 氢氟酸废液回收再使用的处理方法
CN102745837A (zh) * 2012-07-18 2012-10-24 上海交通大学 一种对玻璃减薄刻蚀废液进行处理回收利用的方法
WO2014181552A1 (ja) * 2013-05-10 2014-11-13 パナソニック株式会社 ガラス研磨液の再生方法とガラス研磨装置
CN105228965B (zh) * 2013-05-10 2018-01-05 松下电器产业株式会社 玻璃研磨液的再生方法和玻璃研磨装置
CN103342365B (zh) * 2013-06-24 2015-09-02 嵩县开拓者钼业有限公司 一种含硅矿物加工方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4615768B1 (ko) * 1968-12-03 1971-04-28
US4056605A (en) * 1976-11-23 1977-11-01 Alexandr Ilich Vulikh Method for purification of hydrofluoric acid
US4125594A (en) * 1976-12-22 1978-11-14 Corning Glass Works Purification of hydrofluoric acid etching solutions with weak anion exchange resins
JPS60191034A (ja) * 1984-03-07 1985-09-28 Nec Corp ガラス部品の洗浄方法
JP3459718B2 (ja) * 1996-03-12 2003-10-27 オルガノ株式会社 シリコンウエハ洗浄装置

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