JP3459718B2 - シリコンウエハ洗浄装置 - Google Patents
シリコンウエハ洗浄装置Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体、特にシリコ
ン半導体デバイス等の製造の際に用いられる、シリコン
ウエハの洗浄装置に関する。
ン半導体デバイス等の製造の際に用いられる、シリコン
ウエハの洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来用いられているシリコンウエハ洗浄
装置は、シリコンウエハ表面を洗浄し、あるいはシリコ
ン酸化膜を溶解し、またはシリコンウエハをエッチング
するための装置で、通常０．５〜１％のフッ酸が洗浄薬
液として使用されている。
装置は、シリコンウエハ表面を洗浄し、あるいはシリコ
ン酸化膜を溶解し、またはシリコンウエハをエッチング
するための装置で、通常０．５〜１％のフッ酸が洗浄薬
液として使用されている。
【０００３】表１はウエハの洗浄工程の一例を示すもの
である（超純水の科学、リアライズ社、第７７４頁）。
である（超純水の科学、リアライズ社、第７７４頁）。
【０００４】
【表１】
【０００５】表１に示されるように、シリコンウエハの
汚染の除去は、まずそれぞれの汚染の除去に適した薬液
によって処理され、次いでシリコンウエハ表面に付着し
た汚染物を含んだ薬液を更に超純水によって洗浄する工
程を繰り返すことによって行なわれ、最後にシリコンウ
エハに付着した超純水が完全に除去される。
汚染の除去は、まずそれぞれの汚染の除去に適した薬液
によって処理され、次いでシリコンウエハ表面に付着し
た汚染物を含んだ薬液を更に超純水によって洗浄する工
程を繰り返すことによって行なわれ、最後にシリコンウ
エハに付着した超純水が完全に除去される。
【０００６】表１中の２、４、６で示される希フッ酸エ
ッチング工程は、薬液処理や、大気中、或いは超純水中
で形成される自然酸化膜を除去するものである。
ッチング工程は、薬液処理や、大気中、或いは超純水中
で形成される自然酸化膜を除去するものである。
【０００７】上記薬液は製造工程で使用されるものであ
るが、その使用期間が長くなったり、またはシリコンウ
エハの処理量が多くなると、薬液中のけい素濃度が上昇
し、洗浄効率が変化し、悪化するので、処理槽内の薬液
を頻繁に更新する必要があり、このため多量のフッ酸廃
液が発生する。このフッ酸廃液は通常工場内の排水処理
設備で処理できないため、廃液処理業者にその処分を委
託することになり、そのためのコスト負担が大きく、ま
た環境保護の観点からも望ましくない。
るが、その使用期間が長くなったり、またはシリコンウ
エハの処理量が多くなると、薬液中のけい素濃度が上昇
し、洗浄効率が変化し、悪化するので、処理槽内の薬液
を頻繁に更新する必要があり、このため多量のフッ酸廃
液が発生する。このフッ酸廃液は通常工場内の排水処理
設備で処理できないため、廃液処理業者にその処分を委
託することになり、そのためのコスト負担が大きく、ま
た環境保護の観点からも望ましくない。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明者は上記問題を
解決するために種々検討しているうちに、希フッ酸（薬
液）による洗浄処理はシリコンウエハ表面の自然酸化膜
を除去するものであり、その反応は下記反応式（１）、 ＳｉＯ2＋６ＨＦ→Ｈ2ＳｉＦ6・２Ｈ2Ｏ （１） に示されるものであること、洗浄槽中でウエハを洗浄す
ると上記反応式に従って反応が進行し、その結果希フッ
酸（薬液）中のヘキサフルオロケイ酸（Ｈ2ＳｉＦ6）の
濃度が増大すること、薬液中のヘキサフルオロケイ酸濃
度が所定値以下になるようにヘキサフルオロケイ酸を除
去できれば薬液を再利用できること、更に強酸であるヘ
キサフルオロケイ酸と弱酸であるフッ酸との混液である
使用済みの薬液を陰イオン交換樹脂に接触させた場合、
弱酸であるフッ酸中から強酸であるヘキサフルオロケイ
酸を選択的に除去できること等に想到し、本発明を完成
するに至ったものである。
解決するために種々検討しているうちに、希フッ酸（薬
液）による洗浄処理はシリコンウエハ表面の自然酸化膜
を除去するものであり、その反応は下記反応式（１）、 ＳｉＯ2＋６ＨＦ→Ｈ2ＳｉＦ6・２Ｈ2Ｏ （１） に示されるものであること、洗浄槽中でウエハを洗浄す
ると上記反応式に従って反応が進行し、その結果希フッ
酸（薬液）中のヘキサフルオロケイ酸（Ｈ2ＳｉＦ6）の
濃度が増大すること、薬液中のヘキサフルオロケイ酸濃
度が所定値以下になるようにヘキサフルオロケイ酸を除
去できれば薬液を再利用できること、更に強酸であるヘ
キサフルオロケイ酸と弱酸であるフッ酸との混液である
使用済みの薬液を陰イオン交換樹脂に接触させた場合、
弱酸であるフッ酸中から強酸であるヘキサフルオロケイ
酸を選択的に除去できること等に想到し、本発明を完成
するに至ったものである。
【０００９】従って、本発明の目的は上記問題点を解決
したシリコンウエハ洗浄装置を提供することにある。
したシリコンウエハ洗浄装置を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、少なくとも希フッ酸を含む薬液を内部に
収容すると共に前記薬液によってシリコンウエハ表面を
洗浄するシリコンウエハの洗浄槽と、イオン交換樹脂を
充填した薬液精製カラムを介装してなり前記薬液を前記
洗浄槽外部に取り出すと共に薬液精製カラムを通過させ
ることにより精製して前記洗浄槽に返送する薬液循環配
管とを備えてなることを特徴とするシリコンウエハ洗浄
装置を提案するもので、イオン交換樹脂が陰イオン交換
樹脂であること、陰イオン交換樹脂がフッ酸形または炭
酸形であること、イオン交換樹脂が陰イオン交換樹脂と
水素イオン形強酸性陽イオン交換樹脂との混合樹脂であ
ること、イオン交換樹脂が、薬液精製カラム内に陰イオ
ン交換樹脂を上流側に、水素イオン形強酸性陽イオン交
換樹脂を下流側に積層して充填したものであること、薬
液精製カラムが陰イオン交換樹脂カラムと水素イオン形
強酸性陽イオン交換樹脂カラムとからなり、陰イオン交
換樹脂カラムを陽イオン交換樹脂カラムよりも上流側に
配設してなることを含む。
に、本発明は、少なくとも希フッ酸を含む薬液を内部に
収容すると共に前記薬液によってシリコンウエハ表面を
洗浄するシリコンウエハの洗浄槽と、イオン交換樹脂を
充填した薬液精製カラムを介装してなり前記薬液を前記
洗浄槽外部に取り出すと共に薬液精製カラムを通過させ
ることにより精製して前記洗浄槽に返送する薬液循環配
管とを備えてなることを特徴とするシリコンウエハ洗浄
装置を提案するもので、イオン交換樹脂が陰イオン交換
樹脂であること、陰イオン交換樹脂がフッ酸形または炭
酸形であること、イオン交換樹脂が陰イオン交換樹脂と
水素イオン形強酸性陽イオン交換樹脂との混合樹脂であ
ること、イオン交換樹脂が、薬液精製カラム内に陰イオ
ン交換樹脂を上流側に、水素イオン形強酸性陽イオン交
換樹脂を下流側に積層して充填したものであること、薬
液精製カラムが陰イオン交換樹脂カラムと水素イオン形
強酸性陽イオン交換樹脂カラムとからなり、陰イオン交
換樹脂カラムを陽イオン交換樹脂カラムよりも上流側に
配設してなることを含む。
【００１１】また本発明は、上記のシリコンウエハ洗浄
装置において、循環配管の薬液精製カラムの下流側に微
粒子を除去する膜処理装置を配設してなるシリコンウエ
ハ洗浄装置である。
装置において、循環配管の薬液精製カラムの下流側に微
粒子を除去する膜処理装置を配設してなるシリコンウエ
ハ洗浄装置である。
【００１２】更に本発明は、上記のシリコンウエハ洗浄
装置において、循環配管の薬液精製カラムの上流側に少
なくとも１８５ｎｍの波長の紫外線を照射する紫外線酸
化装置を配設してなるシリコンウエハ洗浄装置である。
装置において、循環配管の薬液精製カラムの上流側に少
なくとも１８５ｎｍの波長の紫外線を照射する紫外線酸
化装置を配設してなるシリコンウエハ洗浄装置である。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明を詳
細に説明する。
細に説明する。
【００１４】図１は本発明のシリコンウエハ洗浄装置の
一例を示すフロー図である。図１中、２は洗浄槽で、有
底の外部壁４と内部壁６とからなる二重構造をなし、前
記外部壁４と内部壁６との間に集水部８を形成してい
る。内部壁６内には薬液１０が満たされていると共に、
満たされている前記薬液は洗浄槽２の底壁１２を貫通し
て洗浄槽２の内部にその一端を開口した後述する薬液循
環配管１４からから流入する再生薬液によりオーバーフ
ローして前記集水部８に流下し、集水部８の底部にオー
バーフロー水１６として溜っている。
一例を示すフロー図である。図１中、２は洗浄槽で、有
底の外部壁４と内部壁６とからなる二重構造をなし、前
記外部壁４と内部壁６との間に集水部８を形成してい
る。内部壁６内には薬液１０が満たされていると共に、
満たされている前記薬液は洗浄槽２の底壁１２を貫通し
て洗浄槽２の内部にその一端を開口した後述する薬液循
環配管１４からから流入する再生薬液によりオーバーフ
ローして前記集水部８に流下し、集水部８の底部にオー
バーフロー水１６として溜っている。
【００１５】１８はシリコンウエハで、洗浄槽２に満た
された薬液１０に浸漬され、洗浄槽２内の薬液と接触す
ることにより反応が起こり、シリコンウエハの表面が洗
浄されるものである。
された薬液１０に浸漬され、洗浄槽２内の薬液と接触す
ることにより反応が起こり、シリコンウエハの表面が洗
浄されるものである。
【００１６】前述のように１４は薬液循環配管で、その
他端は集水部８の底壁を貫通して集水部８内に挿入して
ある。
他端は集水部８の底壁を貫通して集水部８内に挿入して
ある。
【００１７】２０は前記薬液循環配管１４に介装した送
液ポンプ、２２は薬液精製カラムで、薬液精製カラム２
２は送液ポンプ２０の下流側に設けてある。
液ポンプ、２２は薬液精製カラムで、薬液精製カラム２
２は送液ポンプ２０の下流側に設けてある。
【００１８】次に、上記構成のシリコンウエハ洗浄装置
の動作について説明する。まず、ポンプ２０を起動させ
ると、洗浄槽２底部に開口した循環配管１４から槽２内
に再生薬液が流入し、上昇流となって槽２内を上昇し、
シリコンウエハ１８と接触して前記反応式（１）に従っ
て反応し、シリコンウエハ１８の表面を洗浄する。反応
によって生じたヘキサフルオロケイ酸の濃度の高まった
薬液は、次いでオーバーフローして集水部８に集まり、
オーバーフロー水１６として溜る。オーバーフロー水１
６は薬液循環配管１４に流入し、ポンプ２０を通り、薬
液精製カラム２２に至り、ここでヘキサフルオロケイ酸
を除去されてけい素濃度の減少した再生薬液に再生さ
れ、更に循環配管１４内を流れて洗浄槽２の底壁１２を
通り、洗浄層内に戻ることを繰り返すものである。
の動作について説明する。まず、ポンプ２０を起動させ
ると、洗浄槽２底部に開口した循環配管１４から槽２内
に再生薬液が流入し、上昇流となって槽２内を上昇し、
シリコンウエハ１８と接触して前記反応式（１）に従っ
て反応し、シリコンウエハ１８の表面を洗浄する。反応
によって生じたヘキサフルオロケイ酸の濃度の高まった
薬液は、次いでオーバーフローして集水部８に集まり、
オーバーフロー水１６として溜る。オーバーフロー水１
６は薬液循環配管１４に流入し、ポンプ２０を通り、薬
液精製カラム２２に至り、ここでヘキサフルオロケイ酸
を除去されてけい素濃度の減少した再生薬液に再生さ
れ、更に循環配管１４内を流れて洗浄槽２の底壁１２を
通り、洗浄層内に戻ることを繰り返すものである。
【００１９】洗浄槽に満たす薬液は通常当業界において
通常用いられる濃度の希フッ酸と同じもので良い。一般
に、０．１〜２重量％程度のものが好ましい。
通常用いられる濃度の希フッ酸と同じもので良い。一般
に、０．１〜２重量％程度のものが好ましい。
【００２０】本発明において用いるイオン交換樹脂とし
ては、陰イオン交換樹脂が好ましい。 陰イオン交換樹
脂としては強塩基性陰イオン交換樹脂、または弱塩基性
陰イオン交換樹脂のいずれも用いることができるが、使
用後の再生が容易な点で、弱塩基性陰イオン交換樹脂の
方が好ましい。但し、後述のように紫外線酸化装置を付
設する場合は強塩基性イオン交換樹脂を用いることが好
ましい。
ては、陰イオン交換樹脂が好ましい。 陰イオン交換樹
脂としては強塩基性陰イオン交換樹脂、または弱塩基性
陰イオン交換樹脂のいずれも用いることができるが、使
用後の再生が容易な点で、弱塩基性陰イオン交換樹脂の
方が好ましい。但し、後述のように紫外線酸化装置を付
設する場合は強塩基性イオン交換樹脂を用いることが好
ましい。
【００２１】好ましい陰イオン交換樹脂としては、弱酸
性陰イオン交換樹脂として、ローム・アンド・ハース社
製「アンバーライト（登録商標）ＩＲＡ−９４Ｓ」、強
塩基性陰イオン交換樹脂として、同じく「アンバーライ
ト（登録商標）ＩＲＡ−４０２ＢＬ」、「アンバーライ
ト（登録商標）ＸＴ−５０３８」等が例示できる。
性陰イオン交換樹脂として、ローム・アンド・ハース社
製「アンバーライト（登録商標）ＩＲＡ−９４Ｓ」、強
塩基性陰イオン交換樹脂として、同じく「アンバーライ
ト（登録商標）ＩＲＡ−４０２ＢＬ」、「アンバーライ
ト（登録商標）ＸＴ−５０３８」等が例示できる。
【００２２】更に、陰イオン交換樹脂はその使用に先立
って、予めフッ酸形あるいはフッ酸除去能力のほとんど
ない炭酸形とすることにより、通液初期に陰イオン交換
樹脂に通液する際に生じる薬液中のフッ酸が薬液精製カ
ラムに吸着され薬液中のフッ酸濃度が低下する現象を防
止する。
って、予めフッ酸形あるいはフッ酸除去能力のほとんど
ない炭酸形とすることにより、通液初期に陰イオン交換
樹脂に通液する際に生じる薬液中のフッ酸が薬液精製カ
ラムに吸着され薬液中のフッ酸濃度が低下する現象を防
止する。
【００２３】また更に、薬液精製カラムに充填している
陰イオン交換樹脂から極微量のアミンが溶出することが
考えられるが、このイオン交換樹脂由来のアミンはシリ
コンウエハの表面を汚染する可能性があり、避けたいも
のである。この虞がある場合には、陰イオン交換樹脂に
強酸性陽イオン交換樹脂を混合したものを薬液精製カラ
ムとして用いることが好ましい。なお、この場合、陽イ
オン交換樹脂は薬液中の金属イオンを除去する作用も奏
する。
陰イオン交換樹脂から極微量のアミンが溶出することが
考えられるが、このイオン交換樹脂由来のアミンはシリ
コンウエハの表面を汚染する可能性があり、避けたいも
のである。この虞がある場合には、陰イオン交換樹脂に
強酸性陽イオン交換樹脂を混合したものを薬液精製カラ
ムとして用いることが好ましい。なお、この場合、陽イ
オン交換樹脂は薬液中の金属イオンを除去する作用も奏
する。
【００２４】また、上記強酸性陽イオン交換樹脂は、陰
イオン交換樹脂と混合せずに層状に陰イオン交換樹脂の
後方（下流側）に積層して精製カラムに充填する場合
は、更に確実にアミンを捕捉し、除去できる。また、強
酸性陽イオン交換樹脂を他のカラムに充填し、陰イオン
交換樹脂を充填したカラムの下流側に連結したものを薬
液精製カラムとして用いる場合は、長期間の運転によっ
て交換容量が減少した陰イオン交換樹脂のみを交換する
ことができ、便利である。
イオン交換樹脂と混合せずに層状に陰イオン交換樹脂の
後方（下流側）に積層して精製カラムに充填する場合
は、更に確実にアミンを捕捉し、除去できる。また、強
酸性陽イオン交換樹脂を他のカラムに充填し、陰イオン
交換樹脂を充填したカラムの下流側に連結したものを薬
液精製カラムとして用いる場合は、長期間の運転によっ
て交換容量が減少した陰イオン交換樹脂のみを交換する
ことができ、便利である。
【００２５】本発明においては、図１に示す洗浄装置の
構成とすることにより、洗浄槽内の薬液は常にヘキサフ
ルオロケイ酸濃度が低く制御され、従って長期間に亘り
薬液の洗浄効果が良好に維持される。このため、薬液の
更新期間が長くなり、廃液処理に煩わされることが少な
くなる。
構成とすることにより、洗浄槽内の薬液は常にヘキサフ
ルオロケイ酸濃度が低く制御され、従って長期間に亘り
薬液の洗浄効果が良好に維持される。このため、薬液の
更新期間が長くなり、廃液処理に煩わされることが少な
くなる。
【００２６】更に、図２に示すように、陰イオン交換樹
脂を充填した薬液精製カラム２２の下流側に膜処理装置
２４を設置する場合は、薬液中に微粒子が存在してもこ
れを除去できると共に、薬液を循環させるポンプ２０や
薬液精製カラム２２から微粒子が発生しても、これを確
実に除去することができる。
脂を充填した薬液精製カラム２２の下流側に膜処理装置
２４を設置する場合は、薬液中に微粒子が存在してもこ
れを除去できると共に、薬液を循環させるポンプ２０や
薬液精製カラム２２から微粒子が発生しても、これを確
実に除去することができる。
【００２７】上記膜処理装置２４としては０．０３〜
０．１μｍ程度の細孔径を有するＰＴＦＥ製フイルタを
用いた膜処理装置や、小型の限外濾過膜装置等の公知の
装置を目的に併せて選択し、使用できる。
０．１μｍ程度の細孔径を有するＰＴＦＥ製フイルタを
用いた膜処理装置や、小型の限外濾過膜装置等の公知の
装置を目的に併せて選択し、使用できる。
【００２８】なお、図２においては図１と同一部分に同
一参照符号を付し、その説明を省略する。
一参照符号を付し、その説明を省略する。
【００２９】また更に、上記のように薬液の循環再生利
用を長期間に亘り行なうと、薬液中に僅かではあるが、
有機体炭素量が増大する虞がある。そこで、このような
問題を除くために図３に示すように薬液精製カラム２２
の上流側に紫外線酸化装置２６を設置することが好まし
い。紫外線酸化装置２６は１８５ｍｎ付近の波長含む紫
外線を照射できるものが好ましく、この照射により薬液
中の有機物を分解して有機体炭素量を所定値以下に制御
することができる。
用を長期間に亘り行なうと、薬液中に僅かではあるが、
有機体炭素量が増大する虞がある。そこで、このような
問題を除くために図３に示すように薬液精製カラム２２
の上流側に紫外線酸化装置２６を設置することが好まし
い。紫外線酸化装置２６は１８５ｍｎ付近の波長含む紫
外線を照射できるものが好ましく、この照射により薬液
中の有機物を分解して有機体炭素量を所定値以下に制御
することができる。
【００３０】紫外線酸化装置としては、市販の千代田工
販製、「ＴＦＬ−１」等が利用できる。
販製、「ＴＦＬ−１」等が利用できる。
【００３１】有機物は紫外線酸化により、有機酸と炭酸
に分解されるが、この生じた有機酸が洗浄槽に流入し、
シリコンウエハを汚染させる場合は、紫外線酸化装置を
薬液精製カラムの上流側に設置することによってこの問
題を解決できる。しかし、設置場所は上記の場所に限定
されず、循環配管の任意の場所に設置できるものであ
る。
に分解されるが、この生じた有機酸が洗浄槽に流入し、
シリコンウエハを汚染させる場合は、紫外線酸化装置を
薬液精製カラムの上流側に設置することによってこの問
題を解決できる。しかし、設置場所は上記の場所に限定
されず、循環配管の任意の場所に設置できるものであ
る。
【００３２】なお、紫外線酸化分解等により発生する有
機酸を除去するには、強塩基性陰イオン交換樹脂を用い
ることがより好ましい。
機酸を除去するには、強塩基性陰イオン交換樹脂を用い
ることがより好ましい。
【００３３】
【発明の効果】本発明は上記のように構成したので、シ
リコンウエハ洗浄装置から排出されるフッ酸廃液を減少
させ、廃液処理に要するコスト負担を低減させると共
に、環境保護に寄与する。
リコンウエハ洗浄装置から排出されるフッ酸廃液を減少
させ、廃液処理に要するコスト負担を低減させると共
に、環境保護に寄与する。
【図１】本発明の実施の形態を説明するフロー図であ
る。
る。
【図２】本発明の他の実施の形態を説明するフロー図で
ある。
ある。
【図３】本発明の更に他の実施の形態を説明するフロー
図である。
図である。
２ 洗浄槽
４ 外部壁
６ 内部壁
８ 集水部
１０ 薬液
１２ 底壁
１４ 薬液循環配管
１６ オーバーフロー水
１８ シリコンウエハ
２０ 送液ポンプ
２２ 薬液精製カラム
２４ 膜処理装置
２６ 紫外線酸化装置
Claims (8)
- 【請求項１】 少なくとも希フッ酸を含む薬液を内部に
収容すると共に前記薬液によってシリコンウエハ表面を
洗浄するシリコンウエハの洗浄槽と、イオン交換樹脂を
充填した薬液精製カラムを介装してなり前記薬液を前記
洗浄槽外部に取り出すと共に薬液精製カラムを通過させ
ることにより精製して前記洗浄槽に返送する薬液循環配
管とを備えてなることを特徴とするシリコンウエハ洗浄
装置。 - 【請求項２】 イオン交換樹脂が陰イオン交換樹脂であ
る請求項１に記載のシリコンウエハ洗浄装置。 - 【請求項３】 陰イオン交換樹脂がフッ酸形または炭酸
形である請求項２に記載のシリコンウエハ洗浄装置。 - 【請求項４】 イオン交換樹脂が陰イオン交換樹脂と水
素イオン形強酸性陽イオン交換樹脂との混合樹脂である
請求項１に記載のシリコンウエハ洗浄装置。 - 【請求項５】 イオン交換樹脂が、薬液精製カラム内に
陰イオン交換樹脂を上流側に、水素イオン形強酸性陽イ
オン交換樹脂を下流側に積層して充填したものである請
求項１に記載のシリコンウエハ洗浄装置。 - 【請求項６】 薬液精製カラムが陰イオン交換樹脂カラ
ムと水素イオン形強酸性陽イオン交換樹脂カラムとから
なり、陰イオン交換樹脂カラムを陽イオン交換樹脂カラ
ムよりも上流側に配設してなる請求項１に記載のシリコ
ンウエハ洗浄装置。 - 【請求項７】 請求項１乃至６のいずれかに記載のシリ
コンウエハ洗浄装置において、循環配管の薬液精製カラ
ムの下流側に微粒子を除去する膜処理装置を配設してな
ることを特徴とするシリコンウエハ洗浄装置。 - 【請求項８】 請求項１乃至６のいずれかに記載のシリ
コンウエハ洗浄装置において、循環配管の薬液精製カラ
ムの上流側に少なくとも１８５ｎｍの波長の紫外線を照
射する紫外線酸化装置を配設してなることを特徴とする
シリコンウエハ洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05456596A JP3459718B2 (ja) | 1996-03-12 | 1996-03-12 | シリコンウエハ洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05456596A JP3459718B2 (ja) | 1996-03-12 | 1996-03-12 | シリコンウエハ洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09246227A JPH09246227A (ja) | 1997-09-19 |
| JP3459718B2 true JP3459718B2 (ja) | 2003-10-27 |
Family
ID=12974222
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP05456596A Expired - Fee Related JP3459718B2 (ja) | 1996-03-12 | 1996-03-12 | シリコンウエハ洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3459718B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100361800B1 (ko) * | 1998-08-26 | 2002-11-23 | 마쯔시다덴기산교 가부시키가이샤 | 유리 세정용 용액의 재생방법과 재생장치, 규산염 유리의세정방법과 세정장치 및 음극선관 |
| JP3677163B2 (ja) * | 1999-02-19 | 2005-07-27 | 松下電器産業株式会社 | ガラス洗浄用溶液の再生方法と再生装置、および珪酸塩ガラスの洗浄方法と洗浄装置 |
| JP3878452B2 (ja) | 2001-10-31 | 2007-02-07 | 株式会社ルネサステクノロジ | 半導体集積回路装置の製造方法 |
| KR100518562B1 (ko) | 2003-03-14 | 2005-10-04 | 삼성전자주식회사 | 데이터 기록 장치 및 그 방법과 데이터 재생 장치 및 그방법 |
| CN107530739B (zh) * | 2015-03-26 | 2021-04-27 | 生命技术公司 | 用于处理半导体传感器阵列装置的方法 |
| CN113278609B (zh) * | 2021-06-03 | 2024-02-13 | 广西产研院生物制造技术研究所有限公司 | 一种硅基质核酸纯化柱的再生方法 |
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