KR20010030422A

KR20010030422A - 하나 이상의 실리콘/아크릴레이트 공중합체 및 하나이상의 광보호제를 함유하는 화장용 조성물

Info

Publication number: KR20010030422A
Application number: KR1020000054484A
Authority: KR
Inventors: 뒤삐크리스띤
Original assignee: 조지안느 플로; 로레알
Priority date: 1999-09-16
Filing date: 2000-09-16
Publication date: 2001-04-16
Also published as: PL342563A1; EP1321127A2; KR100364308B1; CA2319930A1; EP1084696B1; JP2004323535A; AU5648400A; FR2798587A1; RU2200536C2; BR0004322A; DE60007046T2; AU750044B2; JP2001131017A; ATE255876T1; DE60007046D1; ES2211474T3; EP1321127A3; CN1295832A; FR2798587B1; CA2319930C

Abstract

본 발명은 하나 이상의 특정 실리콘/아크릴레이트 공중합체 및 하나 이상의 광보호제를 함유하는 화장용 조성물에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 특히 상기 조성물을 사용하여 헤어스타일을 고정 및/또는 유지하는 화장 방법, 뿐만 아니라 특히 헤어스타일을 유지 및/또는 형성하기 위한 화장용 제제의 제조에 있어서의 상기 조성물의 용도에 관한 것이다.

Description

하나 이상의 실리콘/아크릴레이트 공중합체 및 하나 이상의 광보호제를 함유하는 화장용 조성물 {COSMETIC COMPOSITION COMPRISING AT LEAST ONE SILICONE/ACRYLATE COPOLYMER AND AT LEAST ONE PHOTOPROTECTIVE AGENT}

본 발명에 따르면, 용어 "광보호제 (photoprotective agent)"는 일반적으로, UV-A 및/또는 UV-B 조사의 흡수 및/또는 반사 및/또는 산란의 공지된 메카니즘에 의해서, 화합물(들)이 적용된 모발의 표면상에서 상기 조사의 접촉을 막거나 또는 적어도 제한할 수 있는 자체 공지된 임의 화합물 또는 화합물들의 조합을 의미하는 것이다. 달리 말하면, 이러한 화합물은 UV-흡수 광보호 유기 스크리닝제 또는 UV-산란 및/또는 UV-반산 미네랄 (나노)안료, 뿐 아니라 그들의 혼합물일 수 있다.

모발 제품들 중, 특히, 화장품 시장에서 가장 널리 이용되는 헤어스타일을 형성 및/또는 유지하기 위한 것으로는, 용액, 통상 알콜 또는 수용액, 및 하나 이상의 재료로 주요 구성되는 스프레이 조성물을 들 수 있다.

조성물이 헤어스타일을 고정 및/또는 유지하도록 의도될 때, 이러한 재료는 일반적으로 그 기능이 모발 간의 융합을 형성하는 중합체의 수지이며, 이들은 또한 여러 화장용 보조제와 혼합된 고정 재료로서 공지되어 있다. 이러한 조성물은 일반적으로 추진제의 도움으로 가압된 적당한 에어로졸 용기, 또는 펌프-디스펜서 병으로 포장된다.

바람-건조 또는 모발 세팅 전에 젖은 모발에 일반적으로 사용되는 모발 겔 및 모발 무스가 또한 공지되어 있다. 건조 또는 바람-건조 조작은 헤어스타일을 형성하고, 고정하기 위하여 수행된다. 또한, 이러한 겔 또는 무스는 중합체 수지를 함유할 수 있다.

사람이 너무 오랫 동안 광선에 노출되는 경우, 280 nm 내지 400 nm 파장의 광선이 모발을 손상시키는 것으로 공지되어 있다. 특히, UV-B 선으로 알려진, 280 nm 내지 320 nm 파장의 광선은 모발을 부서지기 쉽게 하고 그의 각종 구성성분, 특히 케라틴을 분해한다.

파장이 320 nm 내지 400 nm 인, UV-A 선 자체는 특히 밝은 색상의 모발인 경우에, 모발의 천연 색상을 변형시킬 수 있다. UV-A 선은 또한 모발의 탄력성을 감소시켜, 특히, 모발 끝을, 건조하고 부서지게 한다.

UV-A 및 UV-B 선을 차단할 수 있는 광보호제를 함유하는 모발 조성물은 이미 제안되었다. 그러나, 이러한 모발 조성물은 너무 작은 비율의 광보호제만이 모발에 고정되기 때문에 완전히 만족스럽지는 않다. 결과적으로, 모발 조성물을 모발에 적용시킨 후, 실제 얻어지는 보호 효과는 기대되는 보호 효과와는 거리가 멀다.

더욱이, 처음에 모발에 고정된 광보호제는 적절하고 지속적인 보호효과를 나타낼 만큼 충분히 오랜동안 남아있지 않는다. 따라서, 모발은 예를 들어, 유해한 UV-A 및 UV-B 선을 포함하는, 자연적인 태양광선을 대할 수 있는 것은 모발 조성물을 모발에 적용한 후 단지 짧은 시간동안만이다.

따라서, 상기 언급된 일련의 결점들을 갖지 않고, 헤어스타일을 특히 잘 고정시키면서 동시에 태양광선을 충분히 차단하고 우수한 미용성을 부여하는, 특히 헤어스타일을 유지 및/또는 고정시키기 위한 화장용 조성물을 찾을 필요가 있다.

출원인은 놀랍게도 예상밖으로 특정 실리콘/아크릴레이트 공중합체가 광보호제와 조합되는 경우에, 상기 표현된 요건을 만족시키는 화장용 조성물을 수득하는 것이 가능함을 발견하였다.

본 발명의 주제는 화장용으로 허용가능한 매질중에, 하나 이상의 실리콘/아크릴레이트 공중합체 및 하나 이상의 광보호제를 함유하는 화장용 조성물에 관한 것으로, 실리콘/아크릴레이트 공중합체는 옥시알킬렌기를 함유하는 하나 이상의 실리콘 유도체 (b)의 존재하에, 하나 이상의 에틸렌 불포화된 단량체 (a)의 라디칼-매개 중합에 의해 수득된다.

본 발명의 다른 주제는 모발 화장 방법, 특히 상기 조성물을 사용하여 헤어스타일을 고정 및/또는 유지하는 방법에 관한 것이다.

본 발명의 또다른 주제는 특히 헤어스타일을 유지 및/또는 형성하기 위한 화장용 모발 제제의 제조를 위한 상기 조성물의 용도에 관한 것이다.

본 발명에 의해 특히 대상이 되는 실리콘/아크릴레이트 공중합체는 국제 특허 출원 WO 99/04750에 기재된 것들이다. 특히, 상품명 루비플렉스 실크 (Luviflex Silk)로 BASF에 의해 판매되는 공중합체가 바람직하다. 이 중합체는 tert-부틸 아크릴레이트/메타크릴산 및 실리콘 코폴리올의 그래프트화된 공중합체이다.

바람직하게는, 단량체 (a) 는 화학식(1a)에 해당한다:

[식중,

- X는 OH, OM, OR⁸, NH₂, NHR⁸및 N(R⁸)₂를 포함하는 군으로부터 선택되고;

- M은 Na⁺, K⁺, Mg⁺⁺, NH⁴⁺, 알킬암모늄, 디알킬암모늄, 트리알킬암모늄, 및 테트라알킬암모늄으로부터 선택되는 양이온이고;

- 라디칼 R⁸은 동일하거나 상이할 수 있으며, 수소, 직쇄 또는 측쇄의 C₁내지 C₄₀의 알킬기, 하나 이상의 알콕시, 아미노 또는 카르복실기로 임의 치환된 모노- 또는 폴리히드록실화된 C₁내지 C₄₀의 알킬기, 히드록실화된 폴리에테르, 및 N,N-디메틸아미노에틸, 2-히드록시에틸, 2-메톡시에틸, 2-에톡시에틸, 히드록시프로필, 메톡시프로필, 및 에톡시프로필기를 포함하는 군으로부터 선택되고;

- R⁷및 R⁶은 서로 독립적으로 수소, 직쇄 또는 측쇄의 C₁내지 C₈의 알킬기, 메톡시, 에톡시, 2-히드록시에톡시, 2-메톡시에톡시, 및 2-에톡시에틸기, 및 CN, COOH, 및 COOM 기를 포함하는 군으로부터 선택된다].

특히, 화학식 (Ⅰa)의 단량체 (a)는 아크릴산 및 그의 염, 에스테르 또는 아미드이다. 에스테르는 직쇄의 C₁내지 C₄₀의 알킬, 측쇄의 C₃내지 C₄₀의 알킬 또는 C₃내지 C₄₀의 카르복실 알콜, 에틸렌 글리콜, 헥실렌 글리콜, 글리세롤 및 1,2,6-헥산트리올과 같은 2 내지 8개의 히드록실을 함유하는 다관능기의 알콜, 메톡시메탄올 및 에톡시에탄올과 같은 아미노 알콜 또는 알콜 에테르, 또는 폴리에틸렌글리콜의 유도체일 수 있다.

화학식 (Ⅰa)의 단량체 (a)는 또한 N,N-디알킬아미노알킬 아크릴레이트 및 메타크릴레이트, 및 N-디알킬아미노알킬-아크릴아미드 및 -메타크릴아미드로부터 선택될 수 있고, 아미드기는 비치환되거나, N-알킬- 또는 N-알킬아미노-모도치환 또는 N,N-디알킬아미노-디치환될 수 있고, 알킬 또는 알킬아미노기는 직쇄의 C₁내지 C₄₀또는 측쇄의 C₃내지 C₄₀의 카르복실 단위체로부터 유도된다.

사용될 수 있는 화학식 (Ⅰa)의 단량체 (a)는 또한 아크릴산 또는 그의 염, 에스테르 또는 아미드로부터 유도되는 치환된 화합물일 수 있다. 예를 들면, 메타크릴산, 에타크릴산 및 3-시아노아크릴산을 언급할 수 있다.

특히 적합한 다른 단량체(a)는 C₁내지 C₄₀의 비닐 및 알릴 에스테르, 직쇄의 C₃내지 C₄₀의 카르복실산 또는 C₃내지 C₄₀의 카르복시시클릭산, 비닐 또는 알릴 할리드, 비닐락탐, 바람직하게는 비닐피롤리돈 및 비닐카프로락탐, 비닐 또는 알릴기로 치환된 헤테로시클릭 화합물, 바람직하게는 비닐피리딘, 비닐옥사졸린, 및 알릴피리딘, N-비닐이미다졸, 디알릴아민, 비닐리덴 클로리드, 스티렌 또는 이소프렌과 같은 탄소-기재 불포화 화합물, 및 에피클로로히드린으로 4차화된 아크릴산 또는 메타크릴산 유도체이다.

최종적으로, 언급될 수 있는 다른 단량체(a) 는 N-비닐이미다졸, 디알릴아민, 비닐리덴 클로리드, 스티렌 및 이소프렌과 같은 탄소-기재 불포화 화합물, 및 에피클로로히드린으로 4차화된 아크릴산 또는 메타크릴산 유도체이다.

가장 특히 바람직한 단량체 (a) 는 아크릴산, 메타크릴산 및 에타크릴산; 메틸, 에틸, 프로필, n-부틸, 이소부틸, t-부틸, 2-에틸헥실 및 데실 아크릴레이트; 메틸, 에틸, 프로필, n-부틸, 이소부틸, t-부틸, 2-에틸헥실 및 데실 메타크릴레이트; 메틸, 에틸, 프로필, n-부틸, 이소부틸, t-부틸, 2-에틸헥실 및 데실 에타크릴레이트; 2,3-디히드록시프로필 아크릴레이트; 2,3-디히드록시프로필 메타크릴레이트; 2-디히드록시에틸 아크릴레이트; 히드록시프로필 아크릴레이트; 2-히드록시에틸 메타크릴레이트; 2-히드록시에틸 에타크릴레이트; 2-메톡시에틸 아크릴레이트; 2-에톡시에틸 메타크릴레이트; 2-에톡시에틸 에타크릴레이트; 히드록시프로필 메타크릴레이트; 글리세릴 모노아크릴레이트; 글리세릴 모노메타크릴레이트; 폴리알킬렌 글리콜 (메트)아크릴레이트, 불포화된 술폰산, 아크릴아미드, 메타크릴아미드, 에타크릴아미드, N,N-디메틸아크릴아미드, N-에틸아크릴아미드, N-에틸메타크릴아미드, 1-비닐 이미다졸, N,N-디메틸아미노에틸 (메트)아크릴레이트, 말레산, 푸마르산, 말레 무수물 및 그의 모노에스테르, 크로톤산, 이타콘산, 비닐에테르, 비닐포름아미드, 비닐아민, 비닐피리딘, 비닐이미다졸, 비닐푸란, 스티렌, 스티릴 술포네이트 및 알릴 알콜, 및 그들의 혼합물이다.

단량체 (a)는 또한 규소 또는 불소 원자 또는 택일적으로 티오기를 포함할 수 있다. 단량체 (a)는 그들이 산 기를 포함한다면, 중화될 수 있는데, 이는 중합 전 또는 후 및 부분적으로 또는 전체적으로 수행되므로써, 용해도, 또는 목적하는 수준으로 수분산도를 조절할 수 있다. 사용될 수 있는 중화를 위해 제공되는 제제는 탄산나트륨과 같은 무기 염기, 및 아미노 알콜과 같은 유기 염기, 예를 들면, 메탄올아민, 2-아미노-2-메틸-1-프로판올 또는 트리에탄올아민과 같은 알카놀아민, 및 리신과 같은 디아민이다.

단량체 (a) 는 또한 염기성 질소 원자를 포함할때, 4차화 될 수 있다. 두개 이상의 에틸렌 이중 결합을 포함하면, 단량체 (a) 는 부분적으로 가교결합될 수 있다.

실리콘 유도체 (b)는 특히 디메티콘 코폴리올 또는 실리콘 계면활성제의 INCI 명명으로 공지된 화합물이다. 골드쉬미트사의 상품명 Abil, 롱-쁠랑사의 Alkasil, 게네시사의 실리콘 폴리올 코폴리머, 베커사의 Besil, OSI사의 Silwet, 또는 다우 코닝사의 다우 코닝 190이 언급될 수 있다.

바람직한 단량체 (b) 중에서, 하기 화학식을 갖는 것들이다:

[식중,

- R²는 CH₃및 하기의 기로부터 선택되고

- R³는 CH₃및 R²기로부터 선택되고,

- R⁴는 수소, CH₃, 및 하기의 기로부터 선택되고

- R⁶는 아미노, 카르복실 또는 술포네이트 기를 포함할 수 있는 유기의 C₁내지 C₄₀의 기이고, c=0 이면, R⁶가 무기산의 음이온이며;

- 라디칼 R¹은 동일하거나 상이할 수 있고, C₁내지 C₂₀의 지방족 탄화수소, C₃내지 C₂₀의 지방족 또는 지환족 탄화수소, 및 하기 식에 상응하는 R⁵기로부터 선택된다].

바람직한 실리콘 유도체(b)중에서 하기 화학식 1을 갖는 것들이다:

[식중,

- R²는 CH₃및 하기의 기로부터 선택되고

- R³는 CH₃및 R²기로부터 선택되고,

- R⁴는 수소, CH₃, 및 하기의 기로부터 선택되고,

- R⁶는 아미노, 카르복실 또는 술포네이트 기를 포함할 수 있는 유기의 C₁내지 C₄₀의 기이고, c=0이면, R⁶는 무기산의 음이온이며;

- 라디칼 R¹은 동일하거나 상이할 수 있고, C₁내지 C₂₀의 지방족의 탄화수소, C₃내지 C₂₀의 지방족 또는 지환족 탄화수소, 및 하기 식에 상응하는 R⁵기로부터 선택되며:

- n 은 1 내지 6의 정수이고,

- x 및 y는 폴리실록산의 분자량이 300 내지 30,000이 되도록 선택된 정수이고,

- a 및 b는 0 내지 50의 정수이고, 그리고

- c는 0 또는 1이다].

R¹은 바람직하게는 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 이소부틸, 펜틸, 이소펜틸, 헥실, 옥틸, 데실, 도데실 및 옥타데실기, 지환족 라디칼, 특히 시클로헥실기, 방향족기, 특히 페닐 또는 나프틸기, 및 벤질 및 페닐에틸, 및 또한 톨릴 및 크실릴과 같은 방향족 및 지방족 라디칼의 혼합물로부터 선택된다.

바람직한 라디칼 R⁴은 식 -(CO)c-R⁶[식중, R⁶는 NH₂, COOH, 및/또는 SO₃H와 같은 부가기를 가질 수 있는 탄소수 1 내지 4의 알킬, 시클로알킬 또는 아릴이다]을 갖는 것들이다.

바람직한 라디칼 R⁶는 c=0이고, 포스페이트 또는 술페이트인 것들이다.

특히 바람직한 실리콘 유도체 (b)는 하기의 일반식을 갖는 것들이다:

공중합체에서 유도체 (b)의 상대적인 비율은 일반적으로는 0.1 중량% 내지 50 중량%이고, 바람직하게는 1 중량% 내지 20 중량%이다.

바람직한 공중합체는 수용성 실리콘/아크릴레이트 공중합체, 또는 수분산도가, 부피로 50/50의 양인 물/에탄올 혼합물중에서, 0.1 g/ℓ보다 크고, 및 바람직하게는 0.2 g/ℓ보다 큰 비율로 용해될 수 있는 공중합체이다.

조성물은 유리하게는, 조성물의 상대적인 중량%로서, 0.1 % 내지 20 %의 실리콘/아크릴레이트 공중합체 및 바람직하게는 0.5 % 내지 10 %의 상기 공중합체를 함유한다.

조성물은 유리하게는, 조성물의 상대적인 중량%로서, 0.1 % 내지 20 %, 및 바람직하게는 0.2 % 내지 10 %의 광보호제를 함유한다.

본 발명에 따라 사용될 수 있는 UV-A-활성 유기 스크리닝제중, 하기를 언급할 수 있다:

(1) 디벤조일메탄 유도체;

(2) 하기 화학식 I의 UV-A-활성 스크리닝제:

[식중,

- R₇및 R₉는, 동일하거나 상이할 수 있고, 수소, 할로겐, OH 라디칼, 포화 또는 불포화, 직쇄 또는 측쇄 C₁-C₁₀알킬 라디칼; 포화 또는 불포화, 직쇄 또는 측쇄 C₁-C₁₀알콕시 라디칼 또는 HSO₃기를 나타내고;

- R₁₀은 수소 또는 HSO₃를 나타내고;

- R₈은 히드록실; OR₁₁기 (식중, R₁₁은 포화 또는 불포화, 직쇄 또는 측쇄 C-C 알킬 라디칼을 나타낸다); 또는 하기 식의 기:

(식중, R₁₂는 수소 또는 HSO₃를 나타낸다);

또는 택일적으로 하기 식의 기:

(식중, - Z 는 산소원자 또는 -NH- 라디칼을 나타내고; - R₁₃, R₁₄, R₁₅및 R₁₆은, 동일하거나 상이할 수 있고, 수소, 할로겐, OH 라디칼, 포화 또는 불포화, 직쇄 또는 측쇄 C₁-C₁₀알킬 라디칼; 포화 또는 불포화, 직쇄 또는 측쇄 C₁-C₁₀알콕시 라디칼 또는 HSO₃기를 나타낸다)를 나타낸다];

(3) 하기 화학식 II의 벤즈이미다졸 또는 벤즈옥사졸 타입의 UV-A-활성 스크리닝제:

[식중,

- W 는 산소원자 또는 -NH- 라디칼을 나타내고,

- R₁₇은 수소 또는 HSO₃를 나타내고;

- R₁₈은 약 탄소수 1 내지 10의 직쇄 또는 측쇄 알콕시 라디칼을 또는 하기 식의 기:

(식중, Y 는 산소원자 또는 -NH- 라디칼을 나타내고, R₁₉는 수소 또는 HSO₃를 나타낸다)을 나타내고;

- R₁₉는 수소 또는 HSO₃를 나타낸다];

(4) 하기 화학식 III의 유도체와 같은 벤조페논 유도체 :

[식중,

R₂₀은 수소 또는 포화 또는 불포화, 직쇄 또는 측쇄 C₁-C₁₀알킬 라디칼을 나타내고;

R₂₁및 R₂₂는, 동일하거나 상이할 수 있고, 수소, 할로겐, OH 라디칼, 포화 또는 불포화, 직쇄 또는 측쇄 C₁-C₁₀알킬 라디칼; 포화 또는 불포화, 직쇄 또는 측쇄 C₁-C₁₀알콕시 라디칼 또는 HSO₃기를 나타내고;

R₂₃은 수소; OH; 포화 또는 불포화, 직쇄 또는 측쇄 C₁-C₁₀알킬 라디칼 또는 포화 또는 불포화, 직쇄 또는 측쇄 C₁-C₁₀알콕시 라디칼을 나타내고;

R₂₄는 OH, 수소원자 또는 포화 또는 불포화, 직쇄 또는 측쇄 C₁-C₁₀알킬 라디칼을 나타낸다];

(5) 문헌 EP-A-0 389 377, FR-A-2 657 351 및 EP-A-0 655 453 에 기재된 바와 같이, 벤조페논기를 함유하는 실란 유도체 또는 폴리오르가노실록산;

(6) 안트라닐레이트;

(7) 벤조트리아졸 및 벤조트리아졸 실리콘;

(8) 그들의 혼합물.

바람직하게는 사용되는 벤조트리아졸 또는 벤조트리아졸 유도체는 하기 화학식(I)의 유도체이다:

(I)

{식중,

- A 는 수소 또는 2가 라디칼 -L-W- 을 나타내고;

- Y 는, 동일하거나 상이할 수 있고, C₁-C₁₀알킬 라디칼, 할로겐, C₁-C₁₀알콕시 라디칼 및 술폰기로부터 선택되고, 후자의 경우에, 동일한 방향족 핵상에서 2 개의 인접한 라디칼 Y 는 함께 알킬리덴디옥시기(알킬리덴기가 1 또는 2 개의 탄소원자를 함유한다)를 형성할 수 있는 것으로 이해되며; 단, A 가 수소 이외인 경우에, 알킬 라디칼 Y 는 술폰기 이외의 것이다;

- n 은 1, 2 또는 3 이고;

- L 은 하기 화학식의 2가 라디칼이고:

[식중,

- X 는 O 또는 NH 를 나타내고,

- Z 는 수소 또는 C₁-C₄알킬 라디칼을 나타내고,

- n 은 0 내지 3을 포함하는 정수이고,

- m 은 0 또는 1 이고,

- p 는 1 내지 10 을 포함하는 정수이다];

- W 는 하기 화학식 (1), (2) 또는 (3)의 라디칼이고:

[식중, R 은, 동일하거나 상이할 수 있고, C₁-C₁₀알킬, 페닐 및 3,3,3-트리플루오로프로필 라디칼로부터 선택되고, 숫자적 견지에서, 라디칼 R 의 80 % 이상이 메틸이고,

- B 는, 동일하거나 상이할 수 있고, 라디칼 R 및 하기 식의 라디칼 V 로부터 선택되고:

(식중, Y, n 및 L 은 상기 나타낸 바와 동일한 의미이다),

- r 은 0 내지 50 을 포함하는 정수이고, s 는 1 내지 20 을 포함하는 정수이고, s=0 인 경우에는 두 라디칼 B 중 하나 이상은 V 를 나타내고,

- u 는 1 내지 6 을 포함하는 정수이고, t 는 0 내지 10 을 포함하는 정수히고, t + u 가 3 이상인 것으로 이해된다]}.

화학식 (I)의 벤조트리아졸 유도체는 이미 공지된 스크리닝제이다. 그들은 특허 US-4 316 033 및 US-4 328 346; EP-B-0 354 145 및 EP-B-0 392 883 및 EP-B-0 660 701 (기재 내용의 전체 부분을 형성)에 기재되어 있으며, 이에 나타낸 합성법에 따라서 제조된다.

본 발명의 내용에 특히 적절하게 속하는 디벤조일메탄 유도체중, 비-제한적인 방식으로, 특히 하기를 언급할 수 있다:

- 2-메틸디벤조일메탄

- 4-메틸디벤조일메탄

- 4-이소프로필디벤조일메탄

- 4-tert-부틸디벤조일메탄

- 2,4-디메틸디벤조일메탄

- 2,5-디메틸디벤조일메탄

- 4,4'-디이소프로필디벤조일메탄

- 4,4'-디메톡시디벤조일메탄

- 4-tert-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄

- 2-메틸-5-이소프로필-4'-메톡시디벤조일메탄

- 2-메틸-5-tert-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄

- 2,4-디메틸-4'-메톡시디벤조일메탄

- 2,6-디메틸-4-tert-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄.

상기 언급된 디벤조일메탄 유도체중, 본 발명에 따른 이용에 특히 가장 바람직한 것은 4-(tert-부틸)-4'-메톡시디벤조일메탄, 특히 "Parsol 1789" (상품명; Givaudan 사)으로 시판되는 제품이고, 이러한 스크리닝제는 하기 화학식에 해당한다:

본 발명에 따른 또 다른 바람직한 디벤조일메탄 유도체는, "Eusolex 8020" (상품명; Merck 사)으로 시판되고 있는 스크리닝제인, 하기 화학식에 해당하는 4-이소프로필디벤조일메탄이다:

상기 화학식 1의 화합물은, 미국 특허 4 585 597 호 및 특허 출원 FR 2 236 515, 2 282 426, 2 645 148, 2 430 938 및 2 592 380 에 각기 기재되어 있다.

특히 바람직한 화학식 1의 화합물은, "Mexoryl SX" (상품명; Chimex 사)로 시판되는 제품과 같은, 벤젠-1,4-비스(3-메틸리덴-10-캄포르술폰산)이다.

특히 특허출원 FR-A- 2 528 420 및 FR-A-2 639 347 에 기재되어 있는, 벤젠-1,4-비스(3-메틸리덴-10-캄포르술폰산) 및 그의 다양한 염 (화합물 D)는 이미 공지된 스크리닝제 (광범위 스크리닝제)이고, 320 nm 내지 400 nm 에서, 특히 345 nm에서 최대 흡수되는, 사실상 280 nm 내지 400 nm의 파장을 가진 자외선을 흡수할 수 있다. 상기 스크리닝제는 하기 일반식에 해당한다:

{식중, D 는 수소원자, 알칼리금속 또는 라디칼 NH(R₂₅)₃ ⁺[식중, 라디칼 R₂₅은, 동일하거나 상이할 수 있고, 수소원자, C₁-C₄알킬 또는 히드록시알킬 라디칼 또는 Mⁿ⁺/n 기 (Mⁿ⁺은 다가의 금속 양이온을 나타내고, 이중 n 은 2, 3 또는 4 에 해당하며, Mⁿ⁺은 바람직하게는 Ca²⁺, Zn²⁺, Mg²⁺, Ba²⁺, Al³⁺및 Zr⁴⁺로부터 선택된 금속 양이온을 나타낸다)를 나타낸다]를 나타낸다}. 상기 화학식 1의 화합물은 하나 이상의 이중결합(들) 주변에서 "시스-트랜스" 이성체를 형성할 수 있고, 모든 이성제는 본 발명의 범주내에 속하는 것으로 명백하게 이해된다.

언급될 수 있는 화학식 2에 해당하는 구체적인 벤즈이미다졸 화합물은 하기와 같다:

- 벤젠-1,4-비스(벤즈이미다졸-2-일-5-술폰산),

- 벤젠-1,4-비스(벤족사졸-2-일-5-술폰산); 뿐 아니라 그의 부분적 또는 전체적으로 중화된 형태.

언급될 수 있는 화학식 3의 벤조페논 유도체중 보다 특히 하기로 구성된 군으로부터 선택된 것이다:

- "Uvinul 400" (상품명; BASF 사)으로 시판되는 제품과 같은, 2,4-디히드록시벤조페논 (벤조페논-1);

- "Uvinul D50" (상품명; BASF 사)으로 시판되는 제품과 같은, 2,2',4,4'-테트라히드록시벤조페논 (벤조페논-2);

- "Uvinul M40" (상품명; BASF 사)으로 시판되는 제품과 같은, 2-히드록시-4-메톡시벤조페논, 또한 옥시벤존으로 공지 (벤조페논-3);

- "Uvinul MS40" (상품명; BASF 사)으로 시판되는 제품과 같은, 2-히드록시-4-메톡시벤조페논-5-술폰산, 또한 술리소벤존으로 공지, (벤조페논-4); 뿐만 이나라 그의 황산나트륨 형태 (벤조페논-5);

- "Helisorb 11" (상품명; Norquay 사)으로 시판되는 제품과 같은, 2,2'-디히드록시-4,4'-디메톡시벤조페논 (벤조페논-6);

- 5-클로로-2-히드록시벤조페논 (벤조페논-7);

- "Spectra-Sorb UV-24" (상품명; American Cyanamid 사)으로 시판되는 제품과 같은, 2,2'-디히드록시-4-메톡시벤조페논, 또한 디옥시벤존 또는 벤조페논-8 로 공지;

- "Uvinul DS49" (상품명; BASF 사)으로 시판되는 제품과 같은, 2,2'-디히드록시-4,4'-디메톡시벤조페논-5,5'-디술폰산의 이나트륨염 또는 벤조페논-9;

- 2-히드록시-4-메톡시-4'-메틸벤조페논 (벤조페논-10);

- "Uvinul M493" (상품명; BASF 사)으로 시판되는 제품과 같은, 벤조페논-11;

- 2-히드록시-4-(옥틸옥시)벤조페논 (벤조페논-12).

본 발명에 따라 사용될 수 있는 안트라닐레이트중, 특히 가장 바람직한 것으로, "Neo Heliopan MA" (상품명; Haarmann ＆ Reimer 사)으로 시판되는 제품과 같은, 멘틸 안트라닐레이트가 언급될 수 있다.

본 발명에 특히 사용되는 UV-B 스크리닝제로서, 특히 미국 특허 4 617 390 호 및 특허 출원 EP-A-087 098, EP-A-0 517 104, EP-A-0 570 838 및 EP-A-0 796 851 에 기재된 트리아진 유도체가 언급될 수 있다. "Uvinul T 150" (상품명; BASF 사)으로 시판되는, 2,4,6-트리스[p-(2'-에틸헥실-1'-옥시카르보닐)아닐리노]-1,3,5-트리아진이 특히 공지되어 있다.

이소펜틸 4-메톡시신나메이트, 2-에틸헥실 4-메톡시신나메이트, 메틸 디이소프로필신나메이트, 이소아밀 4-메톡시신나메이트 및 디에탄올아민 4-메톡시신나메이트와 같은 신남산 유도체 또한 유리하게 사용된다.

상기 언급된 신남산 유도체중, 본 발명에 따라 사용하기에 특히 가장 바람직한 것은, "Parsol MCX" (상품명; Givaudan 사)으로 시판되는, 2-에틸헥실 p-메톡시신나메이트이다.

알킬 2-시아노-3,3-디페닐아크릴레이트가 또한 사용될 수 있고, 바람직하게는 "Uvinul N 539" (상품명; BASF 사)으로 시판되는 옥토크릴리덴이 사용될 수 있다.

또한 유리하게 사용될 수 있는 광보호제는 알킬, 에틸, 프로필, 옥틸 또는 글리세릴 파라-아미노벤조에이트 또는 파라-디메틸아미노벤조에이트이다. 3,4'-메틸벤질리덴캄포르, 3-벤질리덴캄포르, 벤질리덴캄포르, 3,4'-트리메틸암모늄 메틸술페이트 및 3-(4'-술포벤질리덴)캄포르 및 그의 염들이 또한 사용될 수 있다.

특히 가장 바람직한 광보호제는 2-에틸헥실 p-메톡시신나메이트, 트리아진 유도체, 및 특히 2,4,6-트리스[p-(2-에틸헥실-1-아실카르보닐)]아닐리노-1,3,5-트리아진, 살리실레이트, 특히 메틸 또는 옥틸 살리실레이트, 파라-아미노벤조에이트 또는 파라-디메틸아미노벤조에이트, 알킬 2-시아노-3,3-디페닐아크릴레이트 및 금속 산화물 나노안료, 또는 그의 혼합물이다.

본 발명에 따른 화장용 조성물은 또한 광보호제로서, 예를 들어, 산화티탄 (무정형 또는 결정화된 금홍석 및/또는 아나타제 형태), 산화철, 산화아연, 산화지르코늄 또는 산화세륨의 나노안료와 같은, 코팅되거나 또는 코팅되지 않은 금속 산화물의 안료 또는 나노안료 (일차 입자의 평균 크기: 일반적으로 5 nm 내지 100 nm, 바람직하게는 10 nm 내지 50 nm)를 함유할 수 있고, 이는 모두 이미 공지된 UV 광보호제이다. 더욱이, 통상적인 코팅제는 알루미나 및/또는 알루미늄 스테아레이트이다. 이러한 코팅되거나 또는 코팅되지 않은 금속 산화물 나노안료는 특허 출원 EP-A-0 518 772 및 EP-A-0 518 773 에 기재되어 있다.

화장용으로 허용가능한 매질은 바람직하게 물, 또는 알콜 또는 물/용매 혼합액과 같은 하나 이상의 화장용으로 허용가능한 용매로 구성되며, 용매는 바람직하게는 C₁∼ C₄의 알콜이다.

언급될 수 있는 이러한 알콜중에서 에탄올 및 이소프로판올이 있다. 에탄올이 특히 바람직하다.

또한, 본 발명의 조성물은 음이온성, 양이온성, 비이온성 및 양쪽성 계면활성제, 방향제, 스크리닝제, 보존제, 단백질, 비타민, 본 발명의 것들 이외의 중합체, 식물유, 광물유 또는 합성 오일 및 화장용 조성물에 통상적으로 사용되는 기타 첨가제로부터 선택되는 하나 이상의 첨가제를 함유할 수 있다.

언급할 필요 없이, 당업자는 본 발명에 따른 조성물과 본질적으로 관련된 유리한 성질이 의도된 첨가에 의해 부정적인 영향이 없거나 실질적으로 없도록, 본 발명에 따른 조성물에 첨가되는 선택적인 화합물을 선택하는 데 주의를 기울일 것이다.

이러한 조성물은 증발되는 형태 또는 무스의 형태로 조성물을 사용할 수 있도록, 여러 형태로, 특히 펌프-디스펜서 병 또는 에어로졸 용기에 포장될 수 있다. 상기 포장 형태는 예를 들면, 모발의 고정 또는 처리를 위한 스프레이, 래커 또는 무스를 수득하고자하는 경우를 나타낸다. 본 발명에 따른 조성물은 또한 크림, 겔, 에멀션, 로션 또는 왁스의 형태일 수 있다.

본 발명에 따른 조성물이 래커 또는 무스를 수득하기 위해 에어로졸 형태로 포장될 때, 이는 n-부탄, 프로판, 이소부탄 및 펜탄, 할로겐화된 탄화수소 및 그들의 혼합물과 같은 휘발성 탄화수소로부터 선택될 수 있는 하나 이상의 추진제를 함유한다. 이산화탄소, 산화질소, 디메틸에테르(DME), 질소 또는 압축 공기가 추진제로 사용될 수 있다. 추진제의 혼합물이 또한 사용될 수 있다. 디메틸에테르가 바람직하게는 사용된다.

추진제는 유리하게는 에어로졸 장치내에 조성물의 총 중량에 대해 5 중량% 내지 90 중량%의 농도로, 더욱 바람직하게는 10 중량% 내지 60 중량%의 농도로 존재한다.

본 발명에 따른 조성물은, 스타일링 제품으로서, 마른 또는 젖은 모발에 특히 적합하다.

본 발명에 따른 조성물은 피부, 손톱, 입술, 모발, 눈썹, 및 속눈썹에 적용될 수 있다.

본 발명은 하기의 비제한적인 실시예에 의해서 더욱 자세히 예시될 것이다.

모든 백분율은 조성물의 총 중량에 대한 상대적인 중량%이고, a.m.은 활성 물질 (active material)을 의미한다.

실시예

Luviflex Silk (BASF)⁽¹⁾2 g %

Uvunul MS 40 1 g %

에탄올 20 g %

AMP 적량 pH=7

물 적량 100 g

조성물 A를 유럽인의 한 타래의 천연 밤색 모발 5 그람에 적용하였다. 건조 후, 그 타래는 부드러운 감촉을 나타내며 햇볕의 유해한 효과에 대해 보호된다.

(1) 실리콘/아크릴레이트 공중합체 (BASF 사 시판) (t-부틸 아크릴레이트/메타크릴산/PDMS 폴리에테르)

본 발명에 따른 조성물은 피부, 손톱, 입술, 모발, 눈썹, 및 속눈썹에 적용할 수 있고, 건조 후, 모발은 부드러운 감촉을 나타내며 햇볕의 유해한 효과에 대해 보호된다.

Claims

화장용으로 허용가능한 매질중에, 하나 이상의 실리콘/아크릴레이트 공중합체 및 하나 이상의 광보호제를 함유하고, 상기 실리콘/아크릴레이트 공중합체가 옥시알킬렌기를 함유하는 하나 이상의 실리콘 유도체 (b)의 존재하에, 하나 이상의 에틸렌 불포화된 단량체 (a)의 라디칼-매개 중합에 의해 수득되는 화장용 조성물.
제 1 항에 있어서, 단량체(a)가 하기 화학식 1a에 해당하는 것을 특징으로 하는 화장용 조성물:

[화학식 1a]

[식중,

- X는 OH, OM, OR⁸, NH₂, NHR⁸및 N(R⁸)₂를 포함하는 군으로부터 선택되고;

- M은 Na⁺, K⁺, Mg⁺⁺, NH⁴⁺, 알킬암모늄, 디알킬암모늄, 트리알킬암모늄, 및 테트라알킬암모늄으로부터 선택되는 양이온이고;

- 라디칼 R⁸은 동일하거나 상이할 수 있으며, 수소, 직쇄 또는 측쇄의 C₁내지 C₄₀의 알킬기, 하나 이상의 알콕시, 아미노 또는 카르복실기로 임의 치환된 모노- 또는 폴리히드록실화된 C₁내지 C₄₀의 알킬기, 히드록실화된 폴리에테르, 및 N,N-디메틸아미노에틸, 2-히드록시에틸, 2-메톡시에틸, 2-에톡시에틸, 히드록시프로필, 메톡시프로필, 및 에톡시프로필기를 포함하는 군으로부터 선택되고;

- R⁷및 R⁶은 서로 독립적으로 수소, 직쇄 또는 측쇄의 C₁내지 C₈의 알킬기, 메톡시, 에톡시, 2-히드록시에톡시, 2-메톡시에톡시, 및 2-에톡시에틸기, 및 CN, COOH, 및 COOM 기를 포함하는 군으로부터 선택된다].
제 1 항에 있어서, 실리콘 유도체 (b) 가 하기 화학식에 해당하는 것을 특징으로 하는 화장용 조성물:

[식중,

- R²는 CH₃및 하기의 기로부터 선택되고

- R³는 CH₃및 R²기로부터 선택되고,

- R⁴는 수소, CH₃, 및 하기의 기로부터 선택되고,

- R⁶는 아미노, 카르복실 또는 술포네이트 기를 포함할 수 있는 유기의 C₁내지 C₄₀의 기이고, c=0이면, R⁶는 무기산의 음이온이며;

- 라디칼 R¹은 동일하거나 상이할 수 있고, C₁내지 C₂₀의 지방족의 탄화수소, C₃내지 C₂₀의 지방족 또는 지환족 탄화수소, 및 하기 식에 상응하는 R⁵기로부터 선택되며:

- n 은 1 내지 6의 정수이고,

- x 및 y는 폴리실록산의 분자량이 300 내지 30,000이 되도록 선택된 정수이고,

- a 및 b는 0 내지 50의 정수이고, 그리고

- c는 0 또는 1이다].
제 1 항에 있어서, 단량체(a)는 C₁내지 C₄₀의 비닐 및 알릴 에스테르, 직쇄의 C₃내지 C₄₀의 카르복실산 또는 C₃내지 C₄₀의 카르복시시클릭산, 비닐 또는 알릴 할리드, 비닐락탐, 비닐 또는 알릴기로 치환된 헤테로시클릭 화합물, N-비닐이미다졸, 디알릴아민, 비닐리덴 클로리드, 스티렌 또는 이소프렌과 같은 탄소-기재 비치환 화합물, 및 에피클로로히드린으로 4차화된 아크릴 또는 메타크릴산 유도체로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 화장용 조성물.
제 1 항에 있어서, 단량체 (a) 는 아크릴, 메타크릴 및 에타크릴산; 메틸, 에틸, 프로필, n-부틸, 이소부틸, t-부틸, 2-에틸헥실 및 데실 아크릴레이트; 메틸, 에틸, 프로필, n-부틸, 이소부틸, t-부틸, 2-에틸헥실 및 데실 메타크릴레이트; 메틸, 에틸, 프로필, n-부틸, 이소부틸, t-부틸, 2-에틸헥실 및 데실 에타크릴레이트; 2,3-이히드록시프로필 아크릴레이트; 2,3-디히드록시프로필 메타크릴레이트; 2-디히드록시에틸 아크릴레이트; 히드록시프로필 아크릴레이트; 2-히드록시에틸 메타크릴레이트; 2-히드록시에틸 에타크릴레이트; 2-메톡시에틸 아크릴레이트; 2-에톡시에틸 메타크릴레이트; 2-에톡시에틸 에타크릴레이트; 히드록시프로필 메타크릴레이트; 글리세릴 모노아크릴레이트; 글리세릴 모노메타크릴레이트; 폴리알킬렌 글리콜 (메트)아크릴레이트, 비치환 술폰산, 아크릴아미드, 메타크릴아미드, 에타크릴아미드, N,N-디메틸아크릴아미드, N-에틸아크릴아미드, N-에틸메타크릴아미드, 1-비닐 이미다졸, N,N-디메틸아미노에틸 (메트)아크릴레이트, 말레산, 푸마르산, 말레 무수물 및 그의 단일 에스테르, 크로톤산, 이타콘산, 비닐에테르, 비닐포름아미드, 비닐아민, 비닐피리딘, 비닐이미다졸, 비닐푸란, 스티렌, 스티릴 술포네이트 및 알릴 알콜, 및 그들의 혼합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 화장용 조성물.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, 실리콘 유도체 (b)는 디메티콘 코폴리올 및 실리콘 계면활성제로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 화장용 조성물.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, 상대 중량%로서, 0.1 % 내지 20 %의 실리콘/아크릴레이트 공중합체를 함유하는 것을 특징으로 하는 화장용 조성물.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, 광보호제가 하기로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 화장용 조성물:

(1) 디벤조일메탄 유도체;

(2) 하기 화학식 I의 UV-A-활성 스크리닝제:

[화학식 1]

[식중,

- R₇및 R₉는, 동일하거나 상이할 수 있고, 수소, 할로겐, OH 라디칼, 포화 또는 불포화, 직쇄 또는 측쇄 C₁-C₁₀알킬 라디칼; 포화 또는 불포화, 직쇄 또는 측쇄 C₁-C₁₀알콕시 라디칼 또는 HSO₃기를 나타내고;

- R₁₀은 수소 또는 HSO₃를 나타내고;

- R₈은 히드록실; OR₁₁기 (식중, R₁₁은 포화 또는 불포화, 직쇄 또는 측쇄 C-C 알킬 라디칼을 나타낸다); 또는 하기 식의 기:

(식중, R₁₂는 수소 또는 HSO₃를 나타낸다);

또는 택일적으로 하기 식의 기:

또는 택일적으로 하기 식의 기:

(식중, - Z 는 산소원자 또는 -NH- 라디칼을 나타내고; - R₁₃, R₁₄, R₁₅및 R₁₆은, 동일하거나 상이할 수 있고, 수소, 할로겐, OH 라디칼, 포화 또는 불포화, 직쇄 또는 측쇄 C₁-C₁₀알킬 라디칼; 포화 또는 불포화, 직쇄 또는 측쇄 C₁-C₁₀알콕시 라디칼 또는 HSO₃기를 나타낸다)를 나타낸다];

(3) 하기 화학식 II의 벤즈이미다졸 또는 벤즈옥사졸 타입의 UV-A-활성 스크리닝제:

[화학식 2]

[식중,

- W 는 산소원자 또는 -NH- 라디칼을 나타내고,

- R₁₇은 수소 또는 HSO₃를 나타내고;

- R₁₈은 약 탄소수 1 내지 10의 직쇄 또는 측쇄 알콕시 라디칼을 또는 하기 식의 기:

(식중, Y 는 산소원자 또는 -NH- 라디칼을 나타내고, R₁₉는 수소 또는 HSO₃를 나타낸다)을 나타내고;

- R₁₉는 수소 또는 HSO₃를 나타낸다];

(4) 하기 화학식 III의 유도체와 같은 벤조페논 유도체 :

[화학식 3]

[식중,

R₂₀은 수소 또는 포화 또는 불포화, 직쇄 또는 측쇄 C₁-C₁₀알킬 라디칼을 나타내고;

R₂₁및 R₂₂는, 동일하거나 상이할 수 있고, 수소, 할로겐, OH 라디칼, 포화 또는 불포화, 직쇄 또는 측쇄 C₁-C₁₀알킬 라디칼; 포화 또는 불포화, 직쇄 또는 측쇄 C₁-C₁₀알콕시 라디칼 또는 HSO₃기를 나타내고;

R₂₃은 수소; OH; 포화 또는 불포화, 직쇄 또는 측쇄 C₁-C₁₀알킬 라디칼 또는 포화 또는 불포화, 직쇄 또는 측쇄 C₁-C₁₀알콕시 라디칼을 나타내고;

R₂₄는 OH, 수소원자 또는 포화 또는 불포화, 직쇄 또는 측쇄 C₁-C₁₀알킬 라디칼을 나타낸다];

(5) 벤조페논기를 함유하는 실란 유도체 또는 폴리오르가노실록산;

(6) 안트라닐레이트;

(7) 벤조트리아졸 및 벤조트리아졸 실리콘;

(8) 그들의 혼합물.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, 광보호제가 신남산 유도체, 2-에틸헥실 p-메톡시신나메이트, 트리아진 유도체, 및 특히 2,4,6-트리스[p-(2-에틸헥실-1-아실카르보닐)]아닐리노-1,3,5-트리아진, 살리실레이트, 특히 메틸 또는 옥틸 살리실레이트, 파라-아미노벤조에이트 또는 파라-디메틸아미노벤조에이트, 알킬 2-시아노-3,3-디페닐아크릴레이트 및 금속 산화물 나노안료, 또는 그의 혼합물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 화장용 조성물.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, 광보호제가 3,4'-메틸벤질리딘캄포르, 3-벤질리덴캄포르, 벤질리덴캄포르, 3,4'-트리메틸암모늄 메틸술페이트 및 3-(4'-술포벤질리덴)캄포르 및 그의 염들로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 화장용 조성물.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, 음이온성, 양이온성, 비이온성 및 양쪽성 계면활성제, 방향제, 스크리닝제, 보존제, 단백질, 비타민, 본 발명의 것들 이외의 중합체, 및 식물유, 광물유 또는 합성 오일로부터 선택된 하나 이상의 첨가제를 또한 함유하는 것을 특징으로 하는 화장용 조성물.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 따른 조성물을 사용하는 것을 특징으로 하는, 헤어스타일을 유지 또는 형성하는 방법.
제 1 항 내지 5 항 중 어느 한 항에 있어서, 화장용 제품의 제조에 사용되는 조성물.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, 피부, 손톱, 입술, 모발, 눈썹, 및 속눈썹에 사용되는 조성물.
제 4 항에 있어서, 비닐락탐은 비닐피롤리돈 또는 비닐카프로락탐이고; 비닐 또는 알릴기로 치환된 헤테로시클릭 화합물은 비닐피리딘, 비닐옥사졸린 또는 알릴피리딘인 것을 특징으로 하는 화장용 조성물인 것을 특징으로 하는 화장용 조성물.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, 상대 중량%로서, 0.5 % 내지 10 %의 실리콘/아크릴레이트 공중합체를 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물.
제 13 항에 있어서, 모발 제품의 제조에 사용되는 조성물.