JP2001131017A - 少なくとも１つのシリコーン／アクリル酸コポリマーと少なくとも１つの光保護剤を含む化粧品組成物 - Google Patents
少なくとも１つのシリコーン／アクリル酸コポリマーと少なくとも１つの光保護剤を含む化粧品組成物Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ヘアスタイルを良好に固定し、同時に太陽光
線を十分に遮蔽し良好な化粧品特性を与える、化粧品組
成物の提供。 【解決手段】 化粧品用に許容される媒体中に、少なく
とも１つのシリコーン／アクリル酸コポリマーと少なく
とも１つの光保護剤を含む化粧品組成物であって、シリ
コーン／アクリル酸コポリマーは、オキシアルキレン基
を含む少なくとも１つのシリコーン誘導体（ｂ）存在下
での、少なくとも１つのエチレン性不飽和モノマー
（ａ）のラジカル媒介重合により、得られるものである
化粧品組成物。
線を十分に遮蔽し良好な化粧品特性を与える、化粧品組
成物の提供。 【解決手段】 化粧品用に許容される媒体中に、少なく
とも１つのシリコーン／アクリル酸コポリマーと少なく
とも１つの光保護剤を含む化粧品組成物であって、シリ
コーン／アクリル酸コポリマーは、オキシアルキレン基
を含む少なくとも１つのシリコーン誘導体（ｂ）存在下
での、少なくとも１つのエチレン性不飽和モノマー
（ａ）のラジカル媒介重合により、得られるものである
化粧品組成物。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、少なくとも１つの
シリコーン／アクリル酸コポリマーと少なくとも１つの
光保護剤を含む化粧品組成物に関する。本発明はまた、
化粧方法、特に、上記組成物を用いてヘアスタイルを固
定する及び／又は保持する方法に関し、この組成物の、
特にヘアスタイルの保持及び／又は形成を意図した化粧
品調製物の製造のための使用に関する。
シリコーン／アクリル酸コポリマーと少なくとも１つの
光保護剤を含む化粧品組成物に関する。本発明はまた、
化粧方法、特に、上記組成物を用いてヘアスタイルを固
定する及び／又は保持する方法に関し、この組成物の、
特にヘアスタイルの保持及び／又は形成を意図した化粧
品調製物の製造のための使用に関する。
【０００２】
【従来の技術】本発明において、「光保護剤」という用
語は、一般的には、それ自体知られており、それ自体知
られているＵＶ−Ａ及び／又はＵＶ−Ｂ放射の吸収の及
び／又は反射の及び／又は散乱のメカニズムにより、上
記放射と化合物が適用された髪表面の接触を防止、少な
くとも制限することができる、いかなる化合物又は化合
物の組み合わせも表すことを意図されている。換言すれ
ば、これらの化合物はＵＶ吸収光保護有機遮蔽剤、又は
ＵＶ散乱及び／又はＵＶ反射無機（ナノ）顔料、それら
の混合物であることができる。
語は、一般的には、それ自体知られており、それ自体知
られているＵＶ−Ａ及び／又はＵＶ−Ｂ放射の吸収の及
び／又は反射の及び／又は散乱のメカニズムにより、上
記放射と化合物が適用された髪表面の接触を防止、少な
くとも制限することができる、いかなる化合物又は化合
物の組み合わせも表すことを意図されている。換言すれ
ば、これらの化合物はＵＶ吸収光保護有機遮蔽剤、又は
ＵＶ散乱及び／又はＵＶ反射無機（ナノ）顔料、それら
の混合物であることができる。
【０００３】ヘア製品、特に、化粧品市場で最も広く普
及している、ヘアスタイルの保持及び／又は形成を意図
したもののの中で、特に目立つものは、本質的に溶液、
通常アルコール又は水溶液と、１つ以上の物質からなる
スプレー組成物かもしれない。組成物がヘアスタイルの
固定及び／又は保持を意図されるとき、これらの原料は
一般的にポリマー樹脂であり、それらの機能は毛髪の間
の溶接を形成することであり、これらは固定原料として
も知られており、種々の化粧品アジュバントと混合され
る。これらの組成物は一般的に、噴射剤によって加圧下
に置かれた適当なエアゾール容器中、又はポンプディス
ペンサーボトル中に包装される。
及している、ヘアスタイルの保持及び／又は形成を意図
したもののの中で、特に目立つものは、本質的に溶液、
通常アルコール又は水溶液と、１つ以上の物質からなる
スプレー組成物かもしれない。組成物がヘアスタイルの
固定及び／又は保持を意図されるとき、これらの原料は
一般的にポリマー樹脂であり、それらの機能は毛髪の間
の溶接を形成することであり、これらは固定原料として
も知られており、種々の化粧品アジュバントと混合され
る。これらの組成物は一般的に、噴射剤によって加圧下
に置かれた適当なエアゾール容器中、又はポンプディス
ペンサーボトル中に包装される。
【０００４】一般的に、髪のブロー乾燥またはセッティ
ングの前にぬれたヘアに適用されるヘアゲル及びヘアム
ースが知られている。ついで乾燥またはブロー乾燥操作
が、ヘアスタイルの形付けと固定のために行なわれる。
これらのゲル又はムースは、ポリマー樹脂を含むことも
できる。
ングの前にぬれたヘアに適用されるヘアゲル及びヘアム
ースが知られている。ついで乾燥またはブロー乾燥操作
が、ヘアスタイルの形付けと固定のために行なわれる。
これらのゲル又はムースは、ポリマー樹脂を含むことも
できる。
【０００５】波長が２８０ｎｍと４００ｎｍの間の光の
放射は、人が長くこの放射を受けたとき髪にダメージを
与えることが知られている。特に波長が２８０ｎｍと３
２０ｎｍの間の光線は、ＵＶ−ｂ線として知られてお
り、髪をもろくし、その種々の構成成分、特にケラチン
を分解する。ＵＶ−Ａ線は、波長が３２０ｎｍと４００
ｎｍの間であり、それ自体が髪の天然の色、特に淡い髪
の色を変化させることができる。ＵＶ−Ａ線はまた髪の
柔軟性を失わせ、特に先端において乾燥したもろい髪に
する。
放射は、人が長くこの放射を受けたとき髪にダメージを
与えることが知られている。特に波長が２８０ｎｍと３
２０ｎｍの間の光線は、ＵＶ−ｂ線として知られてお
り、髪をもろくし、その種々の構成成分、特にケラチン
を分解する。ＵＶ−Ａ線は、波長が３２０ｎｍと４００
ｎｍの間であり、それ自体が髪の天然の色、特に淡い髪
の色を変化させることができる。ＵＶ−Ａ線はまた髪の
柔軟性を失わせ、特に先端において乾燥したもろい髪に
する。
【０００６】ＵＶ−Ａ及びＵＶ−Ｂ線を遮蔽することが
できる光保護剤を含む髪の組成物は、すでに提案されて
いる。しかしながら、これらの髪用組成物は、髪に固定
される光保護剤の量が少なすぎるので、完全には満足で
きるものではない。このため、髪への髪用組成物の適用
後に、実際に得られる保護は、期待される保護には遠く
及ばないものである。さらに、最初に髪に固定される光
保護剤は、人に適当な長期間持続する保護を当たるには
ほど長くは保持されない。髪はこうして、髪への髪用組
成物の適用後短時間で、自然の太陽照射、即ち有害なＵ
Ｖ−ＡとＵＶ−Ｂを含む照射を受ける。
できる光保護剤を含む髪の組成物は、すでに提案されて
いる。しかしながら、これらの髪用組成物は、髪に固定
される光保護剤の量が少なすぎるので、完全には満足で
きるものではない。このため、髪への髪用組成物の適用
後に、実際に得られる保護は、期待される保護には遠く
及ばないものである。さらに、最初に髪に固定される光
保護剤は、人に適当な長期間持続する保護を当たるには
ほど長くは保持されない。髪はこうして、髪への髪用組
成物の適用後短時間で、自然の太陽照射、即ち有害なＵ
Ｖ−ＡとＵＶ−Ｂを含む照射を受ける。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】このように、特にヘア
スタイルの保持及び／又は固定のための、上記欠点を有
しておらず、特にヘアスタイルを良好に固定し、同時に
太陽光線を十分に遮蔽し良好な化粧品特性を与える、化
粧品組成物を見出す必要がある。
スタイルの保持及び／又は固定のための、上記欠点を有
しておらず、特にヘアスタイルを良好に固定し、同時に
太陽光線を十分に遮蔽し良好な化粧品特性を与える、化
粧品組成物を見出す必要がある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】出願人は、驚くべきこと
にかつ意外なことに、ある種のシリコーン／アクリル酸
コポリマーを光保護剤と組み合わせたときに、上記要求
を満たす化粧品組成物が得られることを発見した。本発
明の主題は、化粧品に許容される媒体中に少なくとも１
つのシリコーン／アクリル酸コポリマーと少なくとも１
つの光保護剤を含む化粧品組成物であって、 −シリコーン／アクリル酸コポリマーは、オキシアルキ
レン基を含む少なくとも１つのシリコーン誘導体（ｂ）
存在下での、少なくとも１つのエチレン性不飽和モノマ
ー（ａ）のラジカル媒介重合により、得られるものであ
る。本発明の別の主題は、髪の化粧方法に関し、特に上
記組成物を用いてヘアスタイルの固定及び／又は保持の
方法に関する。さらに本発明の別の主題は、特にヘアス
タイルを保持及び／又は形成するために意図した髪用化
粧調整物の製造のための、この組成物の使用に関する。
にかつ意外なことに、ある種のシリコーン／アクリル酸
コポリマーを光保護剤と組み合わせたときに、上記要求
を満たす化粧品組成物が得られることを発見した。本発
明の主題は、化粧品に許容される媒体中に少なくとも１
つのシリコーン／アクリル酸コポリマーと少なくとも１
つの光保護剤を含む化粧品組成物であって、 −シリコーン／アクリル酸コポリマーは、オキシアルキ
レン基を含む少なくとも１つのシリコーン誘導体（ｂ）
存在下での、少なくとも１つのエチレン性不飽和モノマ
ー（ａ）のラジカル媒介重合により、得られるものであ
る。本発明の別の主題は、髪の化粧方法に関し、特に上
記組成物を用いてヘアスタイルの固定及び／又は保持の
方法に関する。さらに本発明の別の主題は、特にヘアス
タイルを保持及び／又は形成するために意図した髪用化
粧調整物の製造のための、この組成物の使用に関する。
【０００９】
【発明の実施の形態】本発明により特に目的とされたシ
リコーン／アクリル酸コポリマーは、国際特許出願ＷＯ
９９／０４７５０に記載されたものである。特に、ＢＡ
ＳＦによりLuviflex Silkの名で市販されているコポリ
マーが好ましい。このポリマーは、ｔｅｒｔ−ブチルア
クリル酸／メタクリル酸及びシリコーンコポリオールの
グラフト化コポリマーである。
リコーン／アクリル酸コポリマーは、国際特許出願ＷＯ
９９／０４７５０に記載されたものである。特に、ＢＡ
ＳＦによりLuviflex Silkの名で市販されているコポリ
マーが好ましい。このポリマーは、ｔｅｒｔ−ブチルア
クリル酸／メタクリル酸及びシリコーンコポリオールの
グラフト化コポリマーである。
【００１０】好ましくは、モノマー（ａ）は式（Ｉ
ａ）：
ａ）：
【化１４】
【００１１】式中、ＸはＯＨ、ＯＭ、ＯＲ8、ＮＨ2、Ｎ
ＨＲ8およびＮ（Ｒ8）2を含む群から選ばれるものであ
り；ＭはＮａ+、Ｋ+、Ｍｇ++、ＮＨ4+、アルキルアンモ
ニウム、ジアルキルアンモニウム、トリアルキルアンモ
ニウム、およびテトラアルキルアンモニウムから選ばれ
るカチオンであり；Ｒ8基は同一または異なって、水
素、直鎖又は分枝のアルキル基、モノ又はポリヒドロキ
シル化Ｃ1からＣ40アルキル基、任意に１つ以上のアル
コキシ、アミノ又はカルボキシル基、ヒドロキシル化ポ
リエーテル、及びＮ，Ｎ−ジメチルアミノエチル、２−
ヒドロキシエチル、２−メトキシエチル、２−エトキシ
エチル、ヒドロキシプロピル、メトキシプロピル及びエ
トキシプロピル基で置換され、を含む群から選ばれるも
のであり、Ｒ7及びＲ6は、各々独立して、水素、直鎖又
は分枝のＣ1からＣ8アルキル基、メトキシ、エトキシ、
２−ヒドロキシエトキシ、２−メトキシエトキシ、及び
２−エトキシエチル基およびＣＮ、ＣＯＯＨ及びＣＯＯ
Ｍ基を含む群から選ばれるものである。
ＨＲ8およびＮ（Ｒ8）2を含む群から選ばれるものであ
り；ＭはＮａ+、Ｋ+、Ｍｇ++、ＮＨ4+、アルキルアンモ
ニウム、ジアルキルアンモニウム、トリアルキルアンモ
ニウム、およびテトラアルキルアンモニウムから選ばれ
るカチオンであり；Ｒ8基は同一または異なって、水
素、直鎖又は分枝のアルキル基、モノ又はポリヒドロキ
シル化Ｃ1からＣ40アルキル基、任意に１つ以上のアル
コキシ、アミノ又はカルボキシル基、ヒドロキシル化ポ
リエーテル、及びＮ，Ｎ−ジメチルアミノエチル、２−
ヒドロキシエチル、２−メトキシエチル、２−エトキシ
エチル、ヒドロキシプロピル、メトキシプロピル及びエ
トキシプロピル基で置換され、を含む群から選ばれるも
のであり、Ｒ7及びＲ6は、各々独立して、水素、直鎖又
は分枝のＣ1からＣ8アルキル基、メトキシ、エトキシ、
２−ヒドロキシエトキシ、２−メトキシエトキシ、及び
２−エトキシエチル基およびＣＮ、ＣＯＯＨ及びＣＯＯ
Ｍ基を含む群から選ばれるものである。
【００１２】特に式（Ｉａ）のモノマー（ａ）は、アク
リル酸およびその塩、エステル又はアミドである。エス
テルは、直鎖のＣ1からＣ40アルキル基の、分枝のＣ3か
らＣ 40アルキル基の、又はＣ3からＣ40のカルボン酸ア
ルコール、２から８のヒドロキシルを含む多機能アルコ
ールの、例えばエチレングリコール、ヘキシレングリコ
ール、グリセロール及び１，２，６−ヘキサントリオー
ル、アミノアルコールのまたはアルコールエステルの、
例えばメトキシメタノール及びエトキシエタノール、ま
たはポリアルキレングリコールの誘導体であってもよ
い。
リル酸およびその塩、エステル又はアミドである。エス
テルは、直鎖のＣ1からＣ40アルキル基の、分枝のＣ3か
らＣ 40アルキル基の、又はＣ3からＣ40のカルボン酸ア
ルコール、２から８のヒドロキシルを含む多機能アルコ
ールの、例えばエチレングリコール、ヘキシレングリコ
ール、グリセロール及び１，２，６−ヘキサントリオー
ル、アミノアルコールのまたはアルコールエステルの、
例えばメトキシメタノール及びエトキシエタノール、ま
たはポリアルキレングリコールの誘導体であってもよ
い。
【００１３】式（Ｉａ）のモノマー（ａ）はまた、アク
リル酸Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノアルキル、メタクリル
酸Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノアルキル、Ｎ−ジアルキル
アミノアルキル−アクリルアミド、Ｎ−ジアルキルアミ
ノアルキル−メタクリルアミドから選ばれることもで
き、アミド基は不飽和、Ｎ−アルキル−又はＮ−アルキ
ルアミノ−一置換又はＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ−二置
換されることができ、アルキル又はアルキルアミノ基は
Ｃ1からＣ40の直鎖又はＣ3からＣ40の分枝カルボン酸単
位由来のものである。
リル酸Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノアルキル、メタクリル
酸Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノアルキル、Ｎ−ジアルキル
アミノアルキル−アクリルアミド、Ｎ−ジアルキルアミ
ノアルキル−メタクリルアミドから選ばれることもで
き、アミド基は不飽和、Ｎ−アルキル−又はＮ−アルキ
ルアミノ−一置換又はＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ−二置
換されることができ、アルキル又はアルキルアミノ基は
Ｃ1からＣ40の直鎖又はＣ3からＣ40の分枝カルボン酸単
位由来のものである。
【００１４】使用可能な式（Ｉａ）のモノマー（ａ）
は、アクリル酸またはその塩、エステルまたはアミド由
来の置換化合物であってもよい。例えばメタクリル酸、
エタクリル酸及び３−シアノアクリル酸のものが挙げら
れる。特に適した他のモノマー（ａ）は、Ｃ1からＣ40
までのビニル及びアリルエステル、直鎖Ｃ3からＣ40カ
ルボン酸又はＣ3からＣ40の環状カルボン酸、ハロゲン
化ビニル又はハロゲン化アリル、ビニルラクタム、好ま
しくはビニルピロリドン及びビニルカプロラクタム、ビ
ニル又はアリル基で置換された複素環式化合物、好まし
くはビニルピリジン、ビニルオキサゾリン、及びアリル
ピリジン、Ｎ−ビニルイミダゾール、ジアリルアミン、
塩化ビニリデン、炭素ベース不飽和化合物、例えばスチ
レン又はイソプレン、及びエピクロロヒドリンで４級化
されたアクリル酸又はメタクリル酸誘導体である。
は、アクリル酸またはその塩、エステルまたはアミド由
来の置換化合物であってもよい。例えばメタクリル酸、
エタクリル酸及び３−シアノアクリル酸のものが挙げら
れる。特に適した他のモノマー（ａ）は、Ｃ1からＣ40
までのビニル及びアリルエステル、直鎖Ｃ3からＣ40カ
ルボン酸又はＣ3からＣ40の環状カルボン酸、ハロゲン
化ビニル又はハロゲン化アリル、ビニルラクタム、好ま
しくはビニルピロリドン及びビニルカプロラクタム、ビ
ニル又はアリル基で置換された複素環式化合物、好まし
くはビニルピリジン、ビニルオキサゾリン、及びアリル
ピリジン、Ｎ−ビニルイミダゾール、ジアリルアミン、
塩化ビニリデン、炭素ベース不飽和化合物、例えばスチ
レン又はイソプレン、及びエピクロロヒドリンで４級化
されたアクリル酸又はメタクリル酸誘導体である。
【００１５】最後に挙げる他のモノマー（ａ）はＮ−ビ
ニルイミダゾール、ジアリルアミン、塩化ビニリデン、
炭素ベース不飽和化合物、例えばスチレン又はイソプレ
ン、及びエピクロロヒドリンで４級化されたアクリル酸
又はメタクリル酸誘導体である。
ニルイミダゾール、ジアリルアミン、塩化ビニリデン、
炭素ベース不飽和化合物、例えばスチレン又はイソプレ
ン、及びエピクロロヒドリンで４級化されたアクリル酸
又はメタクリル酸誘導体である。
【００１６】特に好ましいモノマー（ａ）は、アクリル
酸、メタクリル酸及びエタクリル酸；アクリル酸メチ
ル、エチル、プロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔ−
ブチル、２−エチルヘキシル、及びデシル；メタクリル
酸メチル、エチル、プロピル、ｎ−ブチル、イソブチ
ル、ｔ−ブチル、２−エチルヘキシル、及びデシル；エ
タクリル酸メチル、エチル、プロピル、ｎ−ブチル、イ
ソブチル、ｔ−ブチル、２−エチルヘキシル、及びデシ
ル；アクリル酸２，３−ジヒドロキシプロピル；メタク
リル酸２，３−ジヒドロキシプロピル；アクリル酸２−
ジヒドロキシエチル、アクリル酸ヒドロキシプロピル；
メタクリル酸２−ヒドロキシエチル；エタクリル酸２−
ヒドロキシエチル；アクリル酸２−メトキシエチル；メ
タクリル酸２−エトキシエチル；エタクリル酸２−エト
キシエチル；メタクリル酸ヒドロキシプロピル；モノア
クリル酸グリセリル；モノメタクリル酸グリセリル；ポ
リアルキレングリコール（メタ）アクリレート、不飽和
スルホン酸、アクリルアミド、メタクリルアミド、エタ
クリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−
エチル−アクリルアミド、Ｎ−エチルメタクリルアミ
ド、１−ビニルイミダゾール、（メタ）アクリル酸Ｎ，
Ｎ−ジメチルアミノエチル、マレイン酸、フマル酸、無
水マレイン酸及びそのモノエステル、クロトン酸、イタ
コン酸、ビニルエーテル、ビニルホルムアミド、ビニル
アミン、ビニルピリジン、ビニルイミダゾール、ビニル
フラン、スチレン、スルホン酸スチリル及びアリルアル
コール、及びそれらの混合物である。
酸、メタクリル酸及びエタクリル酸；アクリル酸メチ
ル、エチル、プロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔ−
ブチル、２−エチルヘキシル、及びデシル；メタクリル
酸メチル、エチル、プロピル、ｎ−ブチル、イソブチ
ル、ｔ−ブチル、２−エチルヘキシル、及びデシル；エ
タクリル酸メチル、エチル、プロピル、ｎ−ブチル、イ
ソブチル、ｔ−ブチル、２−エチルヘキシル、及びデシ
ル；アクリル酸２，３−ジヒドロキシプロピル；メタク
リル酸２，３−ジヒドロキシプロピル；アクリル酸２−
ジヒドロキシエチル、アクリル酸ヒドロキシプロピル；
メタクリル酸２−ヒドロキシエチル；エタクリル酸２−
ヒドロキシエチル；アクリル酸２−メトキシエチル；メ
タクリル酸２−エトキシエチル；エタクリル酸２−エト
キシエチル；メタクリル酸ヒドロキシプロピル；モノア
クリル酸グリセリル；モノメタクリル酸グリセリル；ポ
リアルキレングリコール（メタ）アクリレート、不飽和
スルホン酸、アクリルアミド、メタクリルアミド、エタ
クリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−
エチル−アクリルアミド、Ｎ−エチルメタクリルアミ
ド、１−ビニルイミダゾール、（メタ）アクリル酸Ｎ，
Ｎ−ジメチルアミノエチル、マレイン酸、フマル酸、無
水マレイン酸及びそのモノエステル、クロトン酸、イタ
コン酸、ビニルエーテル、ビニルホルムアミド、ビニル
アミン、ビニルピリジン、ビニルイミダゾール、ビニル
フラン、スチレン、スルホン酸スチリル及びアリルアル
コール、及びそれらの混合物である。
【００１７】モノマー（ａ）はまたシリコーン又はフッ
素原子又はこれに代えてチオ基も含むことができる。モ
ノマー（ａ）は、酸性基を含む場合、水中の溶解度また
は分散度を所望のレベルに調整するように、部分的又は
完全に中和されることができ、それは重合の前あるいは
後で行なわれる。使用することができる中和に用いる薬
剤は、炭酸ナトリウムなどのミネラルベース、及びアミ
ノアルコール、例えばメタノールアミン、２−アミノ−
２−メチル−１−プロパノール又はトリエタノールアミ
ンアルコロアミン、リジンなどのジアミン、などの有機
ベースである。モノマー（ａ）は、塩基性の窒素原子を
含むとき４級化されることもできる。少なくとも２つの
エチレン性二重結合を含む場合、モノマー（ａ）は部分
的に架橋されていてもよい。
素原子又はこれに代えてチオ基も含むことができる。モ
ノマー（ａ）は、酸性基を含む場合、水中の溶解度また
は分散度を所望のレベルに調整するように、部分的又は
完全に中和されることができ、それは重合の前あるいは
後で行なわれる。使用することができる中和に用いる薬
剤は、炭酸ナトリウムなどのミネラルベース、及びアミ
ノアルコール、例えばメタノールアミン、２−アミノ−
２−メチル−１−プロパノール又はトリエタノールアミ
ンアルコロアミン、リジンなどのジアミン、などの有機
ベースである。モノマー（ａ）は、塩基性の窒素原子を
含むとき４級化されることもできる。少なくとも２つの
エチレン性二重結合を含む場合、モノマー（ａ）は部分
的に架橋されていてもよい。
【００１８】シリコーン誘導体（ｂ）は特に、ジメチコ
ンコポリオールのＩＮＣＩ名またはシリコーン界面活性
剤で知られている化合物である。例えば、Ｇｏｌｄｓｃ
ｈｍｉｄｔにより商品名Ａｂｉ（商標）で、Ｒｈｏｎｅ
−ＰｏｕｌｅｎｃによりＡｌｋａｓｉ（商標）で、Ｇｅ
ｎｅｓｅｅによりシリコーンＰｏｌｙｏｌ Ｃｏｐｌｙ
ｍｅ（商標）で、ＷａｃｋｅｒによりＢｅｓｉ（商標）
で、ＯＳＩによりＳｉｌｗｅ（商標）で、又はＤｏｗ
ＣｏｒｎｉｎｇによりＤｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ１９（商
標）で市販されているものが挙げられる。
ンコポリオールのＩＮＣＩ名またはシリコーン界面活性
剤で知られている化合物である。例えば、Ｇｏｌｄｓｃ
ｈｍｉｄｔにより商品名Ａｂｉ（商標）で、Ｒｈｏｎｅ
−ＰｏｕｌｅｎｃによりＡｌｋａｓｉ（商標）で、Ｇｅ
ｎｅｓｅｅによりシリコーンＰｏｌｙｏｌ Ｃｏｐｌｙ
ｍｅ（商標）で、ＷａｃｋｅｒによりＢｅｓｉ（商標）
で、ＯＳＩによりＳｉｌｗｅ（商標）で、又はＤｏｗ
ＣｏｒｎｉｎｇによりＤｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ１９（商
標）で市販されているものが挙げられる。
【００１９】好ましいモノマー（ｂ）には、以下の式Ｉ
の構造を有するものがある。
の構造を有するものがある。
【化１５】
【００２０】式（Ｉ）中、Ｒ2はＣＨ3及び以下の基から
選ばれるものであり、
選ばれるものであり、
【化１６】
【００２１】Ｒ3はＣＨ3及びＲ2基から選ばれるもので
あり、Ｒ4は水素、ＣＨ3及び以下の基から選ばれるもの
であり、
あり、Ｒ4は水素、ＣＨ3及び以下の基から選ばれるもの
であり、
【化１７】
【００２２】
【化１８】
【００２３】Ｒ6は、アミノ、カルボキシル、又はスル
ホン酸基を含むことができる、有機Ｃ1からＣ40基であ
り、Ｃが０のときＲ6は無機酸のアニオンであり、Ｒ1は
同一または異なっていてもよく、Ｃ1からＣ20までの脂
肪族炭化水素、Ｃ3からＣ20の脂肪族又は環状脂肪族炭
化水素から選ばれるものであり、Ｒ5基は以下の式に相
当するものであり、
ホン酸基を含むことができる、有機Ｃ1からＣ40基であ
り、Ｃが０のときＲ6は無機酸のアニオンであり、Ｒ1は
同一または異なっていてもよく、Ｃ1からＣ20までの脂
肪族炭化水素、Ｃ3からＣ20の脂肪族又は環状脂肪族炭
化水素から選ばれるものであり、Ｒ5基は以下の式に相
当するものであり、
【００２４】
【化１９】
【００２５】ｎは１と６の間の整数であり、ｘ及びｙ
は、ポリシロキサンの分子量が３００から３０，０００
の間となるように選ばれる整数であり、ａ及びｂは０か
ら５０の間の整数であり、ｃは０または１である。好ま
しいシリコーン誘導体（ｂ）の中には、以下の式Ｉの構
造を有するものがある。
は、ポリシロキサンの分子量が３００から３０，０００
の間となるように選ばれる整数であり、ａ及びｂは０か
ら５０の間の整数であり、ｃは０または１である。好ま
しいシリコーン誘導体（ｂ）の中には、以下の式Ｉの構
造を有するものがある。
【００２６】
【化２０】
【００２７】式（Ｉ）中、Ｒ2はＣＨ3及び以下の基
【化２１】 から選ばれるものであり、
【００２８】Ｒ3はＣＨ3及びＲ2基から選ばれるもので
あり、Ｒ4は水素、ＣＨ3及び以下の基
あり、Ｒ4は水素、ＣＨ3及び以下の基
【００２９】
【化２２】
【００３０】
【化２３】
【００３１】から選ばれるものであり、Ｒ6は、アミ
ノ、カルボキシル、又はスルホン酸基を含むことができ
る、有機のＣ1からＣ40基であり、Ｃが０のときＲ6は無
機酸のアニオンであり、Ｒ1は同一または異なっていて
もよく、Ｃ1からＣ20までの脂肪族炭化水素、Ｃ3からＣ
20の脂肪族又は環状脂肪族炭化水素から選ばれるもので
あり、Ｒ5基は以下の式に相当するものであり、
ノ、カルボキシル、又はスルホン酸基を含むことができ
る、有機のＣ1からＣ40基であり、Ｃが０のときＲ6は無
機酸のアニオンであり、Ｒ1は同一または異なっていて
もよく、Ｃ1からＣ20までの脂肪族炭化水素、Ｃ3からＣ
20の脂肪族又は環状脂肪族炭化水素から選ばれるもので
あり、Ｒ5基は以下の式に相当するものであり、
【００３２】
【化２４】
【００３３】ｎは１と６の間の整数であり、ｘ及びｙ
は、ポリシロキサンの分子量が３００から３０，０００
の間となるように選ばれる整数であり、ａ及びｂは０か
ら５０の間の整数であり、ｃは０または１である。
は、ポリシロキサンの分子量が３００から３０，０００
の間となるように選ばれる整数であり、ａ及びｂは０か
ら５０の間の整数であり、ｃは０または１である。
【００３４】Ｒ1は、好ましくは、メチル、エチル、プ
ロピル、ブチル、イソブチル、ペンチル、イソペンチ
ル、ヘキシル、オクチル、デシル、ドデシル及びオクタ
デシル基、環状脂肪族基、特にシクロヘキシル基、芳香
族基、特にフェニル又はナフチル基、および芳香族及び
脂肪族基の混合物、例えばベンジル及びフェニルエチ
ル、及びトリル及びキシリルから選ばれる。
ロピル、ブチル、イソブチル、ペンチル、イソペンチ
ル、ヘキシル、オクチル、デシル、ドデシル及びオクタ
デシル基、環状脂肪族基、特にシクロヘキシル基、芳香
族基、特にフェニル又はナフチル基、および芳香族及び
脂肪族基の混合物、例えばベンジル及びフェニルエチ
ル、及びトリル及びキシリルから選ばれる。
【００３５】好ましいＲ4基は、式−（ＣＯ）C−Ｒ6、
Ｒ6は１から４の炭素原子を含み、さらにＮＨ2、ＣＯＯ
Ｈ及び／又はＳＯ3Ｈなどの付加的な基を含むことがで
きる、アルキル、シクロアルキル又はアリールである、
を有するものである。好ましいＲ6基は、Ｃ＝０である
ものであり、リン酸塩または硫酸塩である。特に好まし
いシリコーン誘導体（ｂ）は、以下の式を有するもので
ある：
Ｒ6は１から４の炭素原子を含み、さらにＮＨ2、ＣＯＯ
Ｈ及び／又はＳＯ3Ｈなどの付加的な基を含むことがで
きる、アルキル、シクロアルキル又はアリールである、
を有するものである。好ましいＲ6基は、Ｃ＝０である
ものであり、リン酸塩または硫酸塩である。特に好まし
いシリコーン誘導体（ｂ）は、以下の式を有するもので
ある：
【００３６】
【化２５】
【００３７】コポリマー中の誘導体（ｂ）の相対比は、
一般的には０．１から５０重量％及び好ましくは１から
２０重量％である。好ましいコポリマーは、水溶性シリ
コーン／アクリル酸コポリマーまたは、その水中の分散
度が、容量比５０／５０の水／エタノール混合物中で
０．１ｇ／ｌを超える、好ましくは０．２ｇ／ｌを超え
る割合で溶解するようなものである。組成物は有利に
は、組成物の重量相対比で、０．１〜２０％のシリコー
ン／アクリル酸コポリマー、及びより好ましくは０．５
から１０％を含有する。組成物は有利には、組成物の重
量相対比で、０．１〜２０％の光保護剤、及びより好ま
しくは０．２から１０％を含有する。
一般的には０．１から５０重量％及び好ましくは１から
２０重量％である。好ましいコポリマーは、水溶性シリ
コーン／アクリル酸コポリマーまたは、その水中の分散
度が、容量比５０／５０の水／エタノール混合物中で
０．１ｇ／ｌを超える、好ましくは０．２ｇ／ｌを超え
る割合で溶解するようなものである。組成物は有利に
は、組成物の重量相対比で、０．１〜２０％のシリコー
ン／アクリル酸コポリマー、及びより好ましくは０．５
から１０％を含有する。組成物は有利には、組成物の重
量相対比で、０．１〜２０％の光保護剤、及びより好ま
しくは０．２から１０％を含有する。
【００３８】本発明で使用可能なＵＶ−Ａ−活性有機遮
蔽剤の中では以下のものが挙げられる。 （１）ジベンゾイルメタン誘導体； （２）以下の式（Ｉ）のＵＶ−Ａ−活性遮蔽剤：
蔽剤の中では以下のものが挙げられる。 （１）ジベンゾイルメタン誘導体； （２）以下の式（Ｉ）のＵＶ−Ａ−活性遮蔽剤：
【００３９】
【化２６】
【００４０】式中、Ｒ7及びＲ9は、同一又は異なってい
てもよく、水素、ハロゲン、ＯＨ基、飽和又は不飽和
の、直鎖又は分枝のＣ1−Ｃ10アルキル基、飽和又は不
飽和の、直鎖又は分枝のＣ1−Ｃ10アルコキシ基または
ＨＳＯ3基を表し、Ｒ10は水素又はＨＳＯ3を表し；Ｒ8
はヒドロキシル；ＯＲ11基、Ｒ11は飽和又は不飽和の、
直鎖又は分枝のＣ1−Ｃ10アルキル基；あるいは以下の
構造の基を表し：
てもよく、水素、ハロゲン、ＯＨ基、飽和又は不飽和
の、直鎖又は分枝のＣ1−Ｃ10アルキル基、飽和又は不
飽和の、直鎖又は分枝のＣ1−Ｃ10アルコキシ基または
ＨＳＯ3基を表し、Ｒ10は水素又はＨＳＯ3を表し；Ｒ8
はヒドロキシル；ＯＲ11基、Ｒ11は飽和又は不飽和の、
直鎖又は分枝のＣ1−Ｃ10アルキル基；あるいは以下の
構造の基を表し：
【００４１】
【化２７】
【００４２】式中Ｒ12は水素又はＨＳＯ3を表し；ある
いは以下の式の基：
いは以下の式の基：
【００４３】
【化２８】
【００４４】あるいは以下の式の基：
【化２９】
【００４５】式中、Ｚは酸素原子又は−ＮＨ−基を表
し；Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、及びＲ16は、同一又は異なって
いてもよく、水素、ハロゲン、ＯＨ基、飽和又は不飽和
の、直鎖又は分枝のＣ1−Ｃ10アルキル基、飽和又は不
飽和の、直鎖又は分枝のＣ1−Ｃ10アルコキシ基または
ＨＳＯ3基を表し、 （３）以下の式（II）のベンジイミダゾール又はベンゾ
キサゾールのタイプのＵＶ−Ａ−活性遮蔽剤：
し；Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、及びＲ16は、同一又は異なって
いてもよく、水素、ハロゲン、ＯＨ基、飽和又は不飽和
の、直鎖又は分枝のＣ1−Ｃ10アルキル基、飽和又は不
飽和の、直鎖又は分枝のＣ1−Ｃ10アルコキシ基または
ＨＳＯ3基を表し、 （３）以下の式（II）のベンジイミダゾール又はベンゾ
キサゾールのタイプのＵＶ−Ａ−活性遮蔽剤：
【００４６】
【化３０】
【００４７】式中、Ｗは酸素原子又は−ＮＨ−基、Ｒ17
は水素又はＨＳＯ3；Ｒ18は、約１から１０の炭素原子
を含有する直鎖又は分枝のアルコキシ基、又は以下の式
の基：
は水素又はＨＳＯ3；Ｒ18は、約１から１０の炭素原子
を含有する直鎖又は分枝のアルコキシ基、又は以下の式
の基：
【００４８】
【化３１】
【００４９】式中、Ｙは酸素原子又は−ＮＨ−基および
Ｒ19は水素又はＨＳＯ3を表し；Ｒ19は水素又はＨＳＯ3
を表し； （４）以下の式（III）等のベンゾフェノン誘導体：
Ｒ19は水素又はＨＳＯ3を表し；Ｒ19は水素又はＨＳＯ3
を表し； （４）以下の式（III）等のベンゾフェノン誘導体：
【００５０】
【化３２】
【００５１】式中、Ｒ20は水素又は飽和又は不飽和の、
直鎖又は分枝のＣ1−Ｃ10アルキル基；Ｒ21及びＲ
22は、同一又は異なっていてもよく、水素、ハロゲン、
ＯＨ基、飽和又は不飽和の、直鎖又は分枝のＣ1−Ｃ10
アルキル基、飽和又は不飽和の、直鎖又は分枝のＣ1−
Ｃ10アルコキシ基またはＨＳＯ3基を表し、Ｒ23は水
素、ハロゲン、ＯＨ、飽和又は不飽和の、直鎖又は分枝
のＣ1−Ｃ10アルキル基、飽和又は不飽和の、直鎖又は
分枝のＣ1−Ｃ10アルコキシ基を表し、Ｒ24はＯＨ、水
素原子、又は飽和又は不飽和の、直鎖又は分枝のＣ1−
Ｃ10アルキル基を表し、 （５）ベンゾフェノン基を含有するシラン誘導体又はポ
リオルガノシロキサン； （６）アントラニル酸； （７）ベンゾトリアゾール及びベンゾトリアゾールシリ
コーン； （８）それらの混合物。
直鎖又は分枝のＣ1−Ｃ10アルキル基；Ｒ21及びＲ
22は、同一又は異なっていてもよく、水素、ハロゲン、
ＯＨ基、飽和又は不飽和の、直鎖又は分枝のＣ1−Ｃ10
アルキル基、飽和又は不飽和の、直鎖又は分枝のＣ1−
Ｃ10アルコキシ基またはＨＳＯ3基を表し、Ｒ23は水
素、ハロゲン、ＯＨ、飽和又は不飽和の、直鎖又は分枝
のＣ1−Ｃ10アルキル基、飽和又は不飽和の、直鎖又は
分枝のＣ1−Ｃ10アルコキシ基を表し、Ｒ24はＯＨ、水
素原子、又は飽和又は不飽和の、直鎖又は分枝のＣ1−
Ｃ10アルキル基を表し、 （５）ベンゾフェノン基を含有するシラン誘導体又はポ
リオルガノシロキサン； （６）アントラニル酸； （７）ベンゾトリアゾール及びベンゾトリアゾールシリ
コーン； （８）それらの混合物。
【００５２】好ましく用いられるベンゾトリアゾール又
はベンゾトリアゾール誘導体は、以下の式（Ｉ）のもの
である：
はベンゾトリアゾール誘導体は、以下の式（Ｉ）のもの
である：
【００５３】
【化３３】
【００５４】式中Ａは水素原子又は二価の基−Ｌ−Ｗ− Ｙは、同一又は異なっていてもよく、Ｃ1−Ｃ10アルキ
ル基、ハロゲン、Ｃ1−Ｃ10アルコキシ基またはスルホ
ン基から選ばれ、後者の場合、同じ芳香核の２つの隣接
するＹ基は共に、アリキリデン基が１又は２炭素原子を
含有するアルキリデンジオキシ基を形成することができ
ると理解されるが、ただしＡが水素以外のときアルキル
基Ｙはスルホン基以外のものである；ｎは１，２、又は
３；Ｌは以下の式（II）の二価基：
ル基、ハロゲン、Ｃ1−Ｃ10アルコキシ基またはスルホ
ン基から選ばれ、後者の場合、同じ芳香核の２つの隣接
するＹ基は共に、アリキリデン基が１又は２炭素原子を
含有するアルキリデンジオキシ基を形成することができ
ると理解されるが、ただしＡが水素以外のときアルキル
基Ｙはスルホン基以外のものである；ｎは１，２、又は
３；Ｌは以下の式（II）の二価基：
【００５５】
【化３４】
【００５６】式中ＸはＯ又はＮＨを表し、Ｚは水素又は
Ｃ1−Ｃ4アルキル基を表し、ｎは０から３までの整数、
ｍは０又は１、ｐは１から１０までの整数を表し、Ｗは
以下の式（１）、（２）、又は（３）の基であり、
Ｃ1−Ｃ4アルキル基を表し、ｎは０から３までの整数、
ｍは０又は１、ｐは１から１０までの整数を表し、Ｗは
以下の式（１）、（２）、又は（３）の基であり、
【００５７】
【化３５】
【００５８】
【化３６】
【００５９】又は−Ｓｉ（Ｒ）3 （３） 式中、Ｒは同一又は異なっていてもよく、Ｃ1−Ｃ10ア
ルキル、フェニル及び３，３，３−トリフルオロプロピ
ル基から選ばれ、数に関してＲ基の少なくとも８０％が
メチルである、Ｂは同一又は異なっていてもよく、Ｒ基
及び以下の式のＶ基から選ばれる：
ルキル、フェニル及び３，３，３−トリフルオロプロピ
ル基から選ばれ、数に関してＲ基の少なくとも８０％が
メチルである、Ｂは同一又は異なっていてもよく、Ｒ基
及び以下の式のＶ基から選ばれる：
【００６０】
【化３７】
【００６１】ここでＹ、ｎ及びＬは上記と同意義であ
り、ｒは０から５０までの整数であり、ｓは１から２０
までの整数であり、ｓ＝０のとき、２つのＢ基のうちの
少なくとも１つがＶを表し；ｕは１から６までの整数で
あり、ｔは０から１０までの整数であり、ｔ＋ｕは３以
上であると理解される。
り、ｒは０から５０までの整数であり、ｓは１から２０
までの整数であり、ｓ＝０のとき、２つのＢ基のうちの
少なくとも１つがＶを表し；ｕは１から６までの整数で
あり、ｔは０から１０までの整数であり、ｔ＋ｕは３以
上であると理解される。
【００６２】式（I）のベンゾトリアゾール誘導体は、
それ自体がすでに知られた遮蔽剤である。それらの合成
は、米国特許４３１６０３３及び米国特許４３２８３４
６；ＥＰ−Ｂ−０３５４１４５及びＥＰ−Ｂ−０３９２
８８３及びＥＰ−Ｂ−０６６０７０１（説明の内容は一
部として取り込まれる）に記載され、それにしたがって
調製される。
それ自体がすでに知られた遮蔽剤である。それらの合成
は、米国特許４３１６０３３及び米国特許４３２８３４
６；ＥＰ−Ｂ−０３５４１４５及びＥＰ−Ｂ−０３９２
８８３及びＥＰ−Ｂ−０６６０７０１（説明の内容は一
部として取り込まれる）に記載され、それにしたがって
調製される。
【００６３】本発明の文脈に特に適しているジベンゾイ
ルメタン誘導体の中では、特に非制限的に以下のものが
挙げられる： ２−メチルジベンゾイルメタン ４−メチルジベンゾイルメタン ４−イソプロピルジベンゾイルメタン ４−ｔｅｒｔ−ブチルジベンゾイルメタン ２，４−ジメチルジベンゾイルメタン ２，５−ジメチルジベンゾイルメタン ４，４’−ジイソプロピルジベンゾイルメタン ４，４’−ジメトキシジベンゾイルメタン ４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメ
タン ２−メチル−５−イソプロピル−４’−メトキシジベン
ゾイルメタン ２−メチル−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジ
ベンゾイルメタン ２，４−ジメチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン ２，６−ジメチル−４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メト
キシジベンゾイルメタン。 上記ジベンゾイルメタン誘導体の中で、本発明における
使用に特に好ましいものは、４−（ｔｅｒｔ−ブチル）
−４’−メトキシジベンゾイルメタンであり、特にGiva
udan社により"Parsol 1789"の商品名で市販されている
製品であり、この遮蔽剤は以下の構造式に相当する。
ルメタン誘導体の中では、特に非制限的に以下のものが
挙げられる： ２−メチルジベンゾイルメタン ４−メチルジベンゾイルメタン ４−イソプロピルジベンゾイルメタン ４−ｔｅｒｔ−ブチルジベンゾイルメタン ２，４−ジメチルジベンゾイルメタン ２，５−ジメチルジベンゾイルメタン ４，４’−ジイソプロピルジベンゾイルメタン ４，４’−ジメトキシジベンゾイルメタン ４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメ
タン ２−メチル−５−イソプロピル−４’−メトキシジベン
ゾイルメタン ２−メチル−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジ
ベンゾイルメタン ２，４−ジメチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン ２，６−ジメチル−４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メト
キシジベンゾイルメタン。 上記ジベンゾイルメタン誘導体の中で、本発明における
使用に特に好ましいものは、４−（ｔｅｒｔ−ブチル）
−４’−メトキシジベンゾイルメタンであり、特にGiva
udan社により"Parsol 1789"の商品名で市販されている
製品であり、この遮蔽剤は以下の構造式に相当する。
【００６４】
【化３８】
【００６５】本発明における他の好ましいジベンゾイル
メタン誘導体は、４−イソプロピルジベンゾイルメタン
であり、Merck社により"Eusolex 8020"の商品名で市販
されている遮蔽剤であり、以下の構造式に相当する。
メタン誘導体は、４−イソプロピルジベンゾイルメタン
であり、Merck社により"Eusolex 8020"の商品名で市販
されている遮蔽剤であり、以下の構造式に相当する。
【００６６】
【化３９】
【００６７】上記構造（I）の化合物は、各々、米国特
許４５８５５９７及び特許出願FR2236515,２２８２４２
６、２６４５１４８、２４３０９３８及び２５９２３８
０に記載されている。特に好ましい式（I）の１つの化
合物は、ベンゼン−１，４−ビス（３−メチリデン−１
０−樟脳スルホン酸）、例えばChimex社によりMexoryl
SXの名で市販されている製品である。ベンゼン−１，４
−ビス（３−メチリデン−１０−樟脳スルホン酸）及び
その種々の塩（化合物D）は、特に特許出願FR-A-252842
0及びＦＲ−Ａ−２６３９３４７に記載されており、そ
れ自体すでに知られている遮蔽剤（広帯域遮蔽剤）であ
り、実際に２８０ｎｍと４００ｎｍの波長の紫外線を吸
収することが可能であり、最大吸収は３２０ｎｍと４０
０ｎｍの間であり、特に約３４５ｎｍである。これらの
遮蔽剤は以下の一般式に相当する。
許４５８５５９７及び特許出願FR2236515,２２８２４２
６、２６４５１４８、２４３０９３８及び２５９２３８
０に記載されている。特に好ましい式（I）の１つの化
合物は、ベンゼン−１，４−ビス（３−メチリデン−１
０−樟脳スルホン酸）、例えばChimex社によりMexoryl
SXの名で市販されている製品である。ベンゼン−１，４
−ビス（３−メチリデン−１０−樟脳スルホン酸）及び
その種々の塩（化合物D）は、特に特許出願FR-A-252842
0及びＦＲ−Ａ−２６３９３４７に記載されており、そ
れ自体すでに知られている遮蔽剤（広帯域遮蔽剤）であ
り、実際に２８０ｎｍと４００ｎｍの波長の紫外線を吸
収することが可能であり、最大吸収は３２０ｎｍと４０
０ｎｍの間であり、特に約３４５ｎｍである。これらの
遮蔽剤は以下の一般式に相当する。
【００６８】
【化４０】
【００６９】式中、Ｄは水素原子、アルカリ金属又はＮ
Ｈ（Ｒ25）3 +基を表し、ここでＲ25基は同一又は異なっ
ていてもよく、水素原子、Ｃ1−Ｃ4アルキル又はヒドロ
キシアルキル基またはＭn+／ｎであり、Ｍn+は多価金属
カチオンを表し、ｎは２、３、又は４であり、Ｍn+は好
ましくはＣａ2+、Ｚｎ2+、Ｍｇ2+、Ｂａ2+、Ａｌ3+及び
Ｚｒ4+から選ばれる金属カチオンを表す。上記の式
（I）の化合物は、１つ以上の二重結合の回りに「シス
−トランス」異性体を生じることができること及び全て
の異性体が本発明の文脈の範囲にあることが明確に理解
される。
Ｈ（Ｒ25）3 +基を表し、ここでＲ25基は同一又は異なっ
ていてもよく、水素原子、Ｃ1−Ｃ4アルキル又はヒドロ
キシアルキル基またはＭn+／ｎであり、Ｍn+は多価金属
カチオンを表し、ｎは２、３、又は４であり、Ｍn+は好
ましくはＣａ2+、Ｚｎ2+、Ｍｇ2+、Ｂａ2+、Ａｌ3+及び
Ｚｒ4+から選ばれる金属カチオンを表す。上記の式
（I）の化合物は、１つ以上の二重結合の回りに「シス
−トランス」異性体を生じることができること及び全て
の異性体が本発明の文脈の範囲にあることが明確に理解
される。
【００７０】式（II）に相当する具体的なベンズイミダ
ゾール化合物の例は以下のものが挙げられる：ベンゼン
−１，４−ビス（ベンズイミダゾール−２−イル−５−
スルホン酸）、ベンゼン−１，４−ビス（ベンゾキサゾ
ール−２−イル−５−スルホン酸）、及びそれらの一部
または全部が中和されたもの。式（III）のベンゾフェ
ノン誘導体の中で特に挙げられるものは、以下のものか
らなる群より選ばれるものである：２，４−ジヒドロキ
シベンゾフェノン（ベンゾフェノン−１）、例えばBASF
によりUvinul 400の名で市販されている製品；２，
２'，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン（ベ
ンゾフェノン−２）、例えばBASFによりUvinul D50の名
で市販されている製品；２−ヒドロキシ−４−メトキシ
ベンゾフェノン、オキシベンゾンとしても知られている
（ベンゾフェノン−３）、例えばBASFによりUvinul M40
の名で市販されている製品；２−ヒドロキシ−４−メト
キシベンゾフェノン−５−スルホン酸、スルイソベンゾ
ンとしても知られている（ベンゾフェノン−４）、例え
ばBASFによりUvinulMS40の名で市販されている製品；同
様にその硫酸ナトリウムの型（ベンゾフェノン−５）；
２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾ
フェノン（ベンゾフェノン−６）、例えばNorquayによ
りHelisorb 11の名で市販されている製品；５−クロロ
−２−ヒドロキシベンゾフェノン（ベンゾフェノン−
７）；２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフ
ェノン、ジオキシベンゾン又はベンゾフェノン−８とし
ても知られている、例えばAmerican CyanamidによりSpe
ctra-Sorb UV-24の名で市販されている製品；２，２’
−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン
−５，５’−ジスルホン酸又はベンゾフェノン−９、例
えばBASFによりUvinul DS49の名で市販されている製
品；２−ヒドロキシ−４−メトキシ−４’−メチルベン
ゾフェノン（ベンゾフェノン−１０）；ベンゾフェノン
−１１、例えばBASFによりUvinul M493の名で市販され
ている製品；２−ヒドロキシ−４−(オクチルオキシ)ベ
ンゾフェノン（ベンゾフェノン−１２）。
ゾール化合物の例は以下のものが挙げられる：ベンゼン
−１，４−ビス（ベンズイミダゾール−２−イル−５−
スルホン酸）、ベンゼン−１，４−ビス（ベンゾキサゾ
ール−２−イル−５−スルホン酸）、及びそれらの一部
または全部が中和されたもの。式（III）のベンゾフェ
ノン誘導体の中で特に挙げられるものは、以下のものか
らなる群より選ばれるものである：２，４−ジヒドロキ
シベンゾフェノン（ベンゾフェノン−１）、例えばBASF
によりUvinul 400の名で市販されている製品；２，
２'，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン（ベ
ンゾフェノン−２）、例えばBASFによりUvinul D50の名
で市販されている製品；２−ヒドロキシ−４−メトキシ
ベンゾフェノン、オキシベンゾンとしても知られている
（ベンゾフェノン−３）、例えばBASFによりUvinul M40
の名で市販されている製品；２−ヒドロキシ−４−メト
キシベンゾフェノン−５−スルホン酸、スルイソベンゾ
ンとしても知られている（ベンゾフェノン−４）、例え
ばBASFによりUvinulMS40の名で市販されている製品；同
様にその硫酸ナトリウムの型（ベンゾフェノン−５）；
２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾ
フェノン（ベンゾフェノン−６）、例えばNorquayによ
りHelisorb 11の名で市販されている製品；５−クロロ
−２−ヒドロキシベンゾフェノン（ベンゾフェノン−
７）；２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフ
ェノン、ジオキシベンゾン又はベンゾフェノン−８とし
ても知られている、例えばAmerican CyanamidによりSpe
ctra-Sorb UV-24の名で市販されている製品；２，２’
−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン
−５，５’−ジスルホン酸又はベンゾフェノン−９、例
えばBASFによりUvinul DS49の名で市販されている製
品；２−ヒドロキシ−４−メトキシ−４’−メチルベン
ゾフェノン（ベンゾフェノン−１０）；ベンゾフェノン
−１１、例えばBASFによりUvinul M493の名で市販され
ている製品；２−ヒドロキシ−４−(オクチルオキシ)ベ
ンゾフェノン（ベンゾフェノン−１２）。
【００７１】本発明に使用可能なアンスラニレートの中
で、特にアンスラニル酸メンチルを挙げることができ、
例えばHaarmann & ReimerによりNeo Heliopan MAの名で
市販されている製品である。
で、特にアンスラニル酸メンチルを挙げることができ、
例えばHaarmann & ReimerによりNeo Heliopan MAの名で
市販されている製品である。
【００７２】本発明の文脈で特に使用されるＵＶ−Ｂ遮
蔽剤は、特に、米国特許４６１７３９０及び特許出願Ｅ
Ｐ−Ａ−０８７０９８、ＥＰ−Ａ−０５１７１０４、Ｅ
Ｐ−Ａ−０５７０８３８及びＥＰ−Ａ−０７９６８５１
に記載されているトリアジン誘導体を挙げることができ
る。２，４，６−トリス［ｐ−（２’−エチルヘキシル
−１’−オキシカルボニル）アニリノ］−１，３，５−
トリアジン、特にBASF社により"Uvinul T 150"の名で市
販されている製品が特に知られている。
蔽剤は、特に、米国特許４６１７３９０及び特許出願Ｅ
Ｐ−Ａ−０８７０９８、ＥＰ−Ａ−０５１７１０４、Ｅ
Ｐ−Ａ−０５７０８３８及びＥＰ−Ａ−０７９６８５１
に記載されているトリアジン誘導体を挙げることができ
る。２，４，６−トリス［ｐ−（２’−エチルヘキシル
−１’−オキシカルボニル）アニリノ］−１，３，５−
トリアジン、特にBASF社により"Uvinul T 150"の名で市
販されている製品が特に知られている。
【００７３】桂皮酸誘導体、例えば、４−メトキシ桂皮
酸イソペンチル、４−メトキシ桂皮酸２−エチルヘキシ
ル、桂皮酸メチルジイソプロピル、４−メトキシ桂皮酸
イソアミル、４−メトキシ桂皮酸ジエタノールアミンも
また有利に使用される。上記桂皮酸誘導体の中で、本発
明の使用に特に好ましいものは、ｐ−メトキシ桂皮酸２
−エチルヘキシルであり、特にGivaudan社により商品
名"Parsol MCX"の名で市販されているものである。
酸イソペンチル、４−メトキシ桂皮酸２−エチルヘキシ
ル、桂皮酸メチルジイソプロピル、４−メトキシ桂皮酸
イソアミル、４−メトキシ桂皮酸ジエタノールアミンも
また有利に使用される。上記桂皮酸誘導体の中で、本発
明の使用に特に好ましいものは、ｐ−メトキシ桂皮酸２
−エチルヘキシルであり、特にGivaudan社により商品
名"Parsol MCX"の名で市販されているものである。
【００７４】アルキル２−シアノ−３，３−ジフェニル
アクリレートもまた使用することができ、好ましくはBA
SF社によりUvinul N 539の名で市販されているオクトク
リリデンである。有利に使用可能な光保護剤は、また、
パラアミノ安息香酸又はパラジメチルアミノ安息香酸ア
ルキル、エチル、プロピル、オクチル又はグリセリルで
ある。３，４’−メチルベンジリデン樟脳、３−ベンジ
リデン樟脳、ベンジリデン樟脳３，４’−トリメチルア
ンモニウムメチルサルフェート、及び３−（４’−スル
ホベンジリデン）樟脳及びその塩もまた使用可能であ
る。
アクリレートもまた使用することができ、好ましくはBA
SF社によりUvinul N 539の名で市販されているオクトク
リリデンである。有利に使用可能な光保護剤は、また、
パラアミノ安息香酸又はパラジメチルアミノ安息香酸ア
ルキル、エチル、プロピル、オクチル又はグリセリルで
ある。３，４’−メチルベンジリデン樟脳、３−ベンジ
リデン樟脳、ベンジリデン樟脳３，４’−トリメチルア
ンモニウムメチルサルフェート、及び３−（４’−スル
ホベンジリデン）樟脳及びその塩もまた使用可能であ
る。
【００７５】最も好ましく用いられる光保護剤は、ｐ−
メトキシ桂皮酸２−エチルヘキシル、トリアジン誘導体
及び特に２，４，６−トリス［ｐ−（２−エチルヘキシ
ル−１−アシカルボニル）］アニリノ−１，３，５−ト
リアジン、サリチル酸塩、特にサリチル酸メチル又はオ
クチル、パラアミノ安息香酸塩、またはパラジメチルア
ミノ安息香酸塩、２−シアノ−３，３−ジフェニル−ア
クリル酸アルキル及び酸化金属ナノ顔料、又はそれらの
混合物である。
メトキシ桂皮酸２−エチルヘキシル、トリアジン誘導体
及び特に２，４，６−トリス［ｐ−（２−エチルヘキシ
ル−１−アシカルボニル）］アニリノ−１，３，５−ト
リアジン、サリチル酸塩、特にサリチル酸メチル又はオ
クチル、パラアミノ安息香酸塩、またはパラジメチルア
ミノ安息香酸塩、２−シアノ−３，３−ジフェニル−ア
クリル酸アルキル及び酸化金属ナノ顔料、又はそれらの
混合物である。
【００７６】本発明の化粧品組成物は、さらに、光保護
剤として、被覆あるいは非被覆酸化金属の顔料又はナノ
顔料（１次粒子の平均サイズ：一般的に５ｎｍと１００
ｎｍの間、好ましくは１０ｎｍと５０ｎｍの間）も使用
でき、例えば酸化チタニウムの（非結晶あるいはルチル
形結晶及び／又はアナタース形）、酸化鉄の、酸化亜鉛
の、酸化ジルコニウムの、酸化セリウムのナノ顔料を含
むことができ、これらは全てそれ自体光保護剤として知
られている。従来の被覆剤は、さらにアルミナ及び／又
はステアリン酸アルミニウムである。そのような被覆又
は非被覆酸化金属ナノ顔料は、特に特許出願ＥＰ−Ａ−
０５１８７７２及びＥＰ−Ａ−０５１８７７３に記載さ
れている。
剤として、被覆あるいは非被覆酸化金属の顔料又はナノ
顔料（１次粒子の平均サイズ：一般的に５ｎｍと１００
ｎｍの間、好ましくは１０ｎｍと５０ｎｍの間）も使用
でき、例えば酸化チタニウムの（非結晶あるいはルチル
形結晶及び／又はアナタース形）、酸化鉄の、酸化亜鉛
の、酸化ジルコニウムの、酸化セリウムのナノ顔料を含
むことができ、これらは全てそれ自体光保護剤として知
られている。従来の被覆剤は、さらにアルミナ及び／又
はステアリン酸アルミニウムである。そのような被覆又
は非被覆酸化金属ナノ顔料は、特に特許出願ＥＰ−Ａ−
０５１８７７２及びＥＰ−Ａ−０５１８７７３に記載さ
れている。
【００７７】化粧品として許容される媒体は好ましく
は、水又は１つ以上の化粧品として許容される溶媒、例
えばアルコール又は水／溶媒（類）混合物からなり、溶
媒は好ましくはＣ1−Ｃ4アルコールである。これらのア
ルコールの中で、エタノール及びイソプロパノールが挙
げられる。エタノールが特に好ましい。本発明の組成物
は、さらに、アニオン性、カチオン性、ノニオン性、及
び両性界面活性剤、香料、保存料、タンパク質、ビタミ
ン、本発明のポリマー以外のポリマー、植物、ミネラ
ル、又は合成オイル、及び化粧品組成物で従来から使用
されるほかの添加剤から選ばれる少なくとも１つの添加
剤を含むことができる。言うまでもなく、当業者は、本
発明の組成物に本来的に付随する有利な特性を添加によ
り不利な影響を与えない、あるいは実質的に与えないよ
うに添加された任意の化合物を選択するために注意を払
うであろう。
は、水又は１つ以上の化粧品として許容される溶媒、例
えばアルコール又は水／溶媒（類）混合物からなり、溶
媒は好ましくはＣ1−Ｃ4アルコールである。これらのア
ルコールの中で、エタノール及びイソプロパノールが挙
げられる。エタノールが特に好ましい。本発明の組成物
は、さらに、アニオン性、カチオン性、ノニオン性、及
び両性界面活性剤、香料、保存料、タンパク質、ビタミ
ン、本発明のポリマー以外のポリマー、植物、ミネラ
ル、又は合成オイル、及び化粧品組成物で従来から使用
されるほかの添加剤から選ばれる少なくとも１つの添加
剤を含むことができる。言うまでもなく、当業者は、本
発明の組成物に本来的に付随する有利な特性を添加によ
り不利な影響を与えない、あるいは実質的に与えないよ
うに添加された任意の化合物を選択するために注意を払
うであろう。
【００７８】これらの組成物は、種々の形状で包装され
ることができ、特にポンプディスペンサー瓶、又はエア
ゾール容器中に、組成物の気化形状又はムース形状での
適用を確実にするために、包装される。そのような包装
形状は、例えば、髪を固定又は処理のためのスプレー、
ラッカー又はムース、を得たいときに示される。本発明
の組成物は、クリーム、ゲル、エマルション、ローショ
ン又はワックスの形状ともすることができる。
ることができ、特にポンプディスペンサー瓶、又はエア
ゾール容器中に、組成物の気化形状又はムース形状での
適用を確実にするために、包装される。そのような包装
形状は、例えば、髪を固定又は処理のためのスプレー、
ラッカー又はムース、を得たいときに示される。本発明
の組成物は、クリーム、ゲル、エマルション、ローショ
ン又はワックスの形状ともすることができる。
【００７９】本発明の組成物が、ラッカー又はムースを
得るためにエアゾール形状で包装されるとき、それは、
揮発性炭化水素、例えばｎ−ブタン、プロパン、イソブ
タン、及びペンタン、ハロゲン化炭化水素及びそれらの
混合物から選ばれることができる少なくとも１つの噴射
剤を含む。二酸化炭素、一酸化二窒素、ジメチルエーテ
ル（ＤＭＥ）、窒素又は圧縮空気も噴射剤として用いる
ことができる。噴射剤の混合物もまた使用可能である。
ジメチルエーテルが好ましく用いられる、噴射剤は、有
利には、エアゾール装置内に組成物全重量に対して５％
と９０重量％の間の濃度で存在し、特に１０％と６０重
量％の間の濃度で存在する。本発明の組成物は、皮膚、
爪、唇、髪、眉毛及び睫毛に適用することができる。本
発明の組成物は特に、スタイリング製品として乾いたあ
るいはぬれた髪への適用に適している。
得るためにエアゾール形状で包装されるとき、それは、
揮発性炭化水素、例えばｎ−ブタン、プロパン、イソブ
タン、及びペンタン、ハロゲン化炭化水素及びそれらの
混合物から選ばれることができる少なくとも１つの噴射
剤を含む。二酸化炭素、一酸化二窒素、ジメチルエーテ
ル（ＤＭＥ）、窒素又は圧縮空気も噴射剤として用いる
ことができる。噴射剤の混合物もまた使用可能である。
ジメチルエーテルが好ましく用いられる、噴射剤は、有
利には、エアゾール装置内に組成物全重量に対して５％
と９０重量％の間の濃度で存在し、特に１０％と６０重
量％の間の濃度で存在する。本発明の組成物は、皮膚、
爪、唇、髪、眉毛及び睫毛に適用することができる。本
発明の組成物は特に、スタイリング製品として乾いたあ
るいはぬれた髪への適用に適している。
【００８０】本発明は、以下の非制限的な実施例によっ
てより詳しく説明される。すべてのパーセントは組成物
全重量に対する相対的な重量パーセントである。a.m.は
活性剤を意味する。
てより詳しく説明される。すべてのパーセントは組成物
全重量に対する相対的な重量パーセントである。a.m.は
活性剤を意味する。
【００８１】
【実施例】実施例： Luviflex Silk (BASF) (1) ２ｇ％ Uvunul MS 40 １ｇ％ エタノール ２０ｇ％ AMP ｐＨ＝７となる量 水 １００ｇとなる量 （１） ＢＡＳＦにより市販されているシリコーン／ア
クリル酸コポリマー（ｔ−アクリル酸ブチル／メタクリ
ル酸／ＰＤＭＳポリエーテル） 組成物Ａをヨーロッパ人の天然栗色髪の５ｇの一房に適
用した。乾燥後、房は柔軟な感触で、太陽の有害な効果
に対して保護された。
クリル酸コポリマー（ｔ−アクリル酸ブチル／メタクリ
ル酸／ＰＤＭＳポリエーテル） 組成物Ａをヨーロッパ人の天然栗色髪の５ｇの一房に適
用した。乾燥後、房は柔軟な感触で、太陽の有害な効果
に対して保護された。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ａ６１Ｋ 7/04 Ａ６１Ｋ 7/04 7/06 7/06 7/48 7/48 Ｃ０８Ｆ 283/12 Ｃ０８Ｆ 283/12 299/02 299/02
Claims (14)
- 【請求項１】 化粧品用に許容される媒体中に、少なく
とも１つのシリコーン／アクリル酸コポリマーと少なく
とも１つの光保護剤を含む化粧品組成物であって、−シ
リコーン／アクリル酸コポリマーは、オキシアルキレン
基を含む少なくとも１つのシリコーン誘導体（ｂ）存在
下での、少なくとも１つのエチレン性不飽和モノマー
（ａ）のラジカル媒介重合により、得られるものである
化粧品組成物。 - 【請求項２】モノマー（ａ）は式（Ｉａ）： 【化１】 式中、ＸはＯＨ、ＯＭ、ＯＲ8、ＮＨ2、ＮＨＲ8および
Ｎ（Ｒ8）2を含む群から選ばれるものであり；ＭはＮａ
+、Ｋ+、Ｍｇ++、ＮＨ4+、アルキルアンモニウム、ジア
ルキルアンモニウム、トリアルキルアンモニウム、およ
びテトラアルキルアンモニウムから選ばれるカチオンで
あり；Ｒ8基は同一または異なっていてよく、水素、直
鎖又は分枝のＣ1からＣ40アルキル基、モノ又はポリヒ
ドロキシル化されたＣ1からＣ40アルキル基であって、
任意に１つ以上のアルコキシ、アミノ又はカルボキシル
基で置換されたもの、ヒドロキシル化ポリエーテル、及
びＮ，Ｎ−ジメチルアミノエチル、２−ヒドロキシエチ
ル、２−メトキシエチル、２−エトキシエチル、ヒドロ
キシプロピル、メトキシプロピル及びエトキシプロピル
基を含む群から選ばれるものであり、 Ｒ7及びＲ6は、互いに独立して、水素、直鎖又は分枝Ｃ
1からＣ8アルキル基、メトキシ、エトキシ、２−ヒドロ
キシエトキシ、２−メトキシエトキシ、及び２−エトキ
シエチル基およびＣＮ、ＣＯＯＨ及びＣＯＯＭ基を含む
群から選ばれるものである、に相当するものであること
を特徴とする請求項１記載の化粧品組成物。 - 【請求項３】 シリコーン誘導体（ｂ）が以下の式
（Ｉ）に相当するものであり、 【化２】 式（Ｉ）中、Ｒ2はＣＨ3及び以下の基から選ばれるもの
であり、 【化３】 Ｒ3はＣＨ3及びＲ2基から選ばれるものであり、Ｒ4は水
素、ＣＨ3及び以下の基から選ばれるものであり、 【化４】 【化５】 Ｒ6は、アミノ、カルボキシル、又はスルホン酸基を含
むことができる、有機Ｃ1からＣ40基であり、Ｃが０の
ときＲ6は無機酸のアニオンであり、 Ｒ1は同一または異なってよく、かつＣ1からＣ20までの
脂肪族炭化水素、Ｃ3からＣ20までの脂肪族又は環状脂
肪族炭化水素から選ばれるものであり、Ｒ5基は以下の
式に相当するものであり、 【化６】 ｎは１と６の間の整数であり、ｘ及びｙは、ポリシロキ
サンの分子量が３００から３０，０００の間となるよう
に選ばれる整数であり、ａ及びｂは０から５０の間の整
数であり、ｃは０または１である、ことを特徴とする請
求項１記載の化粧品組成物。 - 【請求項４】 モノマー（ａ）はＣ1からＣ40までのビ
ニル及びアリルエステル、直鎖Ｃ3からＣ40カルボン酸
又はＣ3からＣ40の環状カルボン酸、ハロゲン化ビニル
又はハロゲン化アリル、ビニルラクタム、好ましくはビ
ニルピロリドン及びビニルカプロラクタム、ビニル又は
アリル基で置換された複素環式化合物、好ましくはビニ
ルピリジン、ビニルオキサゾリン、及びアリルピリジ
ン、Ｎ−ビニルイミダゾール、ジアリルアミン、塩化ビ
ニリデン、炭素ベース不飽和化合物、例えばスチレン又
はイソプレン、及びエピクロロヒドリンで４級化された
アクリル酸誘導体又はメタクリル酸誘導体から選ばれる
ものであることを特徴とする請求項１記載の化粧品組成
物。 - 【請求項５】 モノマー（ａ）は、アクリル酸、メアク
リル酸及びエタクリル酸；アクリル酸メチル、アクリル
酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ｎ−ブチ
ル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸ｔ−ブチル、ア
クリル酸２−エチルヘキシル、及びアクリル酸デシル；
メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル
酸プロピル、メタクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸イ
ソブチル、メタクリル酸ｔ−ブチル、メタクリル酸２−
エチルヘキシル、及びメタクリル酸デシル；エタクリル
酸メチル、エタクリル酸エチル、エタクリル酸プロピ
ル、エタクリル酸ｎ−ブチル、エタクリル酸イソブチ
ル、エタクリル酸ｔ−ブチル、エタクリル酸２−エチル
ヘキシル、及びエタクリル酸デシル；アクリル酸２，３
−ジヒドロキシプロピル；メタクリル酸２，３−ジヒド
ロキシプロピル；アクリル酸２−ジヒドロキシエチル、
アクリル酸ヒドロキシプロピル；メタクリル酸２−ヒド
ロキシエチル；エタクリル酸２−ヒドロキシエチル；ア
クリル酸２−メトキシエチル；メタクリル酸２−エトキ
シエチル；エタクリル酸２−エトキシエチル；メタクリ
ル酸ヒドロキシプロピル；モノアクリル酸グリセリル；
モノメタクリル酸グリセリル；ポリアルキレングリコー
ル（メタ）アクリレート、不飽和スルホン酸、アクリル
アミド、メタクリルアミド、エタクリルアミド、Ｎ，Ｎ
−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−エチル−アクリルアミ
ド、Ｎ−エチルメタクリルアミド、１−ビニルイミダゾ
ール、（メタ）アクリル酸Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチ
ル、マレイン酸、フマル酸、無水マレイン酸及びそのモ
ノエステル、クロトン酸、イタコン酸、ビニルエーテ
ル、ビニルホルムアミド、ビニルアミン、ビニルピリジ
ン、ビニルイミダゾール、ビニルフラン、スチレン、ス
ルホン酸スチリル及びアリルアルコール、及びそれらの
混合物を含む群から選ばれるものであることを特徴とす
る請求項１記載の化粧品組成物。 - 【請求項６】 シリコーン誘導体（ｂ）がジメチコンコ
ポリオール及びシリコーン界面活性剤から選ばれること
を特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項記載の化
粧品組成物。 - 【請求項７】 重量相対比で、０．１〜２０％のシリコ
ーン／アクリル酸コポリマー、及びより好ましくはこの
ポリマーを０．５から１０％含有することを特徴とする
請求項１ないし６のいずれか１項記載の化粧品組成物。 - 【請求項８】 光保護剤が （１）ジベンゾイルメタン誘導体； （２）以下の式（Ｉ）のＵＶ−Ａ−活性遮蔽剤： 【化７】 式中、Ｒ7及びＲ9は、同一又は異なっていてもよく、水
素、ハロゲン、ＯＨ基、飽和又は不飽和の、直鎖又は分
枝のＣ1−Ｃ10アルキル基、飽和又は不飽和の、直鎖又
は分枝のＣ1−Ｃ10アルコキシ基またはＨＳＯ3基を表
し、 Ｒ10は水素又はＨＳＯ3を表し；Ｒ8はヒドロキシル；Ｏ
Ｒ11基、Ｒ11は飽和又は不飽和、直鎖又は分枝Ｃ1−Ｃ
10アルキル基；あるいは以下の構造の基を表し： 【化８】 式中Ｒ12は水素又はＨＳＯ3を表し；あるいは以下の式
の基： 【化９】 あるいは以下の式の基： 【化１０】 式中Ｚは酸素原子又は−ＮＨ−基を表し；Ｒ13、Ｒ14、
Ｒ15、及びＲ16は、同一又は異なっていてもよく、水
素、ハロゲン、ＯＨ基、飽和又は不飽和の、直鎖又は分
枝のＣ1−Ｃ10アルキル基、飽和又は不飽和の、直鎖又
は分枝のＣ1−Ｃ10アルコキシ基またはＨＳＯ3基を表
し、 （３）以下の式（II）のベンズイミダゾール又はベンズ
オキサゾールのタイプのＵＶ−Ａ−活性遮蔽剤： 【化１１】 式中、Ｗは酸素原子又は−ＮＨ−基、 Ｒ17は水素又はＨＳＯ3；Ｒ18は、約１から１０の炭素
原子を含有する直鎖又は分枝アルコキシ基、又は以下の
式の基： 【化１２】 式中、Ｙは酸素原子又は−ＮＨ−基およびＲ19は水素又
はＨＳＯ3を表し；Ｒ19は水素又はＨＳＯ3を表し； （４）以下の式（III）等のベンゾフェノン誘導体： 【化１３】 式中、Ｒ20は水素又は飽和又は不飽和の、直鎖又は分枝
のＣ1−Ｃ10アルキル基；Ｒ21及びＲ22は、同一又は異
なっていてもよく、水素、ハロゲン、ＯＨ基、飽和又は
不飽和の、直鎖又は分枝のＣ1−Ｃ10アルキル基；飽和
又は不飽和の、直鎖又は分枝のＣ1−Ｃ10アルコキシ基
またはＨＳＯ3基を表し、 Ｒ23は水素、ハロゲン、ＯＨ；飽和又は不飽和の、直鎖
又は分枝のＣ1−Ｃ10アルキル基、又は飽和又は不飽和
の、直鎖又は分枝のＣ1−Ｃ10アルコキシ基を表し、 Ｒ24はＯＨ、水素原子、又は飽和又は不飽和の、直鎖又
は分枝のＣ1−Ｃ10アルキル基を表し、 （５）ベンゾフェノン基を含有するシラン誘導体又はポ
リオルガノシロキサン； （６）アントラニル酸塩； （７）ベンゾトリアゾール及びベンゾトリアゾールシリ
コーン； （８）それらの混合物 から選ばれることを特徴とする請求項１ないし７のいず
れか１項記載の化粧品組成物。 - 【請求項９】 光保護剤が桂皮酸誘導体、ｐ−メトキシ
桂皮酸２−エチルヘキシル、トリアジン誘導体及び特に
２，４，６−トリス［ｐ−（２−エチルヘキシル−１−
アシカルボニル）］アニリノ−１，３，５−トリアジ
ン、サリチル酸塩、特にサリチル酸メチル又はサリチル
酸オクチル、パラアミノ安息香酸塩、またはパラジメチ
ルアミノ安息香酸塩、２−シアノ−３，３−ジフェニル
−アクリル酸アルキル及び酸化金属ナノ顔料、又はそれ
らの混合物から選ばれることを特徴とする請求項１ない
し７のいずれか１項記載の化粧品組成物。 - 【請求項１０】 光保護剤が３，４’−メチル−ベンジ
リデン樟脳、３−ベンジリデン樟脳、３，４’−トリメ
チルアンモニウムメチル硫酸ベンジリデン樟脳、及び３
−（４’−スルホベンジリデン）樟脳及びその塩から選
ばれることを特徴とする請求項１ないし７のいずれか１
項記載の化粧品組成物。 - 【請求項１１】 さらに、アニオン性、カチオン性、ノ
ニオン性、及び両性界面活性剤、香料、保存料、タンパ
ク質、ビタミン、本発明のポリマー以外のポリマー、及
び植物、鉱物又は合成油から選ばれる少なくとも１つの
添加剤を含むことを特徴とする請求項１ないし１０のい
ずれか１項記載の化粧品組成物。 - 【請求項１２】 請求項１ないし１１のいずれか１項記
載の組成物を使用することを特徴とするヘアスタイルの
保持又は形成方法。 - 【請求項１３】 化粧品、特にヘア製品の製造のため
の、請求項１ないし１１のいずれか１項記載の組成物の
使用。 - 【請求項１４】 皮膚、爪、唇、髪、眉毛、及び睫毛の
ための、請求項１ないし１１のいずれか１項記載の組成
物の使用。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR9911593A FR2798587B1 (fr) | 1999-09-16 | 1999-09-16 | Composition cosmetique comprenant au moins un copolymere silicone/acrylate et au moins un agent photoprotecteur |
| FR9911593 | 1999-09-16 |
Related Child Applications (1)
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