KR20010007269A - 띠강판의 탈지 방법 및 탈지 장치 - Google Patents

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KR20010007269A
KR20010007269A KR1020000031037A KR20000031037A KR20010007269A KR 20010007269 A KR20010007269 A KR 20010007269A KR 1020000031037 A KR1020000031037 A KR 1020000031037A KR 20000031037 A KR20000031037 A KR 20000031037A KR 20010007269 A KR20010007269 A KR 20010007269A
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steel sheet
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degreasing
electrode
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니시자토가즈야
다카하시세이이치
다케다히데토시
호타니세츠오
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에모토 간지
가와사키 세이테츠 가부시키가이샤
호다니 세쓰오
호다니 가부시키가이샤
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    • C25F—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC REMOVAL OF MATERIALS FROM OBJECTS; APPARATUS THEREFOR
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25F—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC REMOVAL OF MATERIALS FROM OBJECTS; APPARATUS THEREFOR
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Abstract

띠강판의 탈지를 실행할 때에, 띠강판을 사이에 두고 대향하는 전극을 갖는 전해 세정 장치를 구비하는 탈지 장치를 이용하여, 전기량 밀도와 전류 밀도를 소정의 범위로 유지하는 것에 의해, 저 전력으로 전해 세정이 가능한 것을 발견하였다. 또한, 이 방법에 적합하게 이용할 수 있는 간소한 띠강판의 탈지 장치도 제공한다.

Description

띠강판의 탈지 방법 및 탈지 장치{METHOD AND APPARATUS FOR REMOVING GREASE FROM A BAND STEEL}
본 발명은 전해 세정 장치와 그것을 이용한 띠강판의 탈지 방법에 관한 것이다. 또한, 냉간 압연 후의 띠강판에 부착된 압연유 등을 제거함에 있어서, 전해 세정을 이용하는 띠강판의 탈지 방법 및 탈지 장치에 관한 것이다.
일반적으로 냉간 압연 후의 띠강판을 탈지할 때에, 알카리 침지, 전해 세정 및 이들에 부수하는 브러시에 의한 세정(이하, 브러시 세정이라고 칭함)이나 고압수에 의한 세정(이하, 고압수 세정이라고 칭함)을 이용하여 탈지를 실행한다. 전해 세정을 실행하는 장치로서는, 전해액조내의 띠강판의 상하 양측에 전극을 배치하여 전해 세정을 실행하는 침지식 전해 세정 장치와, 띠강판의 상하 양측에 배치된 스프레이 노즐에 전극을 장착하여 그 스프레이 노즐로부터 전해액을 띠강판으로 분사하면서 전해 세정을 실행하는 스프레이식 전해 세정 장치가 있다.
도 6은 일반적인 띠강판의 탈지 장치를 도시한 개략도이다. 또한 도면중의 화살표는 띠강판의 진행 방향을 나타낸다. 띠강판(1)은 알카리 침지 탱크(3)를 통과한 후, 브러시 롤(6)에 의해서 브러시 세정이 실시된다. 또한 전해 세정 장치(7)에 의해 전해 세정이 실행되고, 다시 브러시 롤(6)에 의한 브러시 세정 후, 린스 장치(9) 및 건조기(12)를 통과하여 일련의 탈지 처리가 실행된다.
예를 들어 일본 특허 공개 공보 제 1996-174042 호에는, 침지식 전해 세정과 고압수 세정을 이용하여 비접촉으로 탈지를 실행하는 방법 및 장치가 개시되어 있다. 또한 일본 특허 공개 공보 제 1998-237700 호 공보에는, 띠강판의 상하 양측에 배치된 1쌍의 스프레이 노즐에 전압을 인가한 스프레이식 전해 세정과 브러시 세정을 이용하여 탈지를 실행하는 방법 및 장치가 개시되어 있다.
일반적으로 띠강판은 주행중에 띠강판의 두께 방향에도 진동하기 때문에, 일본 특허 공개 공보 제 1996-174042 호와 같이 침지식 전해 세정을 이용한 경우, 주행중의 띠강판이 전극에 접촉 혹은 충돌하는 것을 방지할 필요가 있다. 그를 위해서는 전해 세정 장치의 전극을 띠강판으로부터 이격시켜 배치해야만 한다. 즉, 종래의 전해 세정은 전극과 띠강판과의 거리가 크기 때문에, 전해 세정을 실행하기 위해서 막대한 전력을 필요로 한다고 하는 문제가 있었다.
또한, 종래의 탈지 처리는 일련의 프로세스가 복잡하기 때문에, 장치가 장대해지고 고액의 건설비가 필요하였다.
한편, 일본 특허 공개 공보 제 1998-237700 호에서는, 전극 겸용의 분사 노즐로부터의 높은 액압에 지탱되어 띠강판이 전극에 접촉하는 것은 방지할 수 있지만, 적용하는 라인의 조건, 즉 라인 속도 : S, 띠강판의 두께 : TS, 띠강판의 폭 : WS 등에 대한 전극의 설정값, 즉 전류 : I, 노즐의 길이 : L1, 노즐의 폭: W 등을 적정하게 계산하는 방법이 없었다. 따라서, 전극을 잘못 설정함에 의한 띠강판의 세정 불량, 즉 양호한 탈지 조건을 항상 제공하는 것이 곤란하였다.
본 발명은 상기한 바와 같은 문제를 해소하기 위해, 염가인 비용으로 건설할 수 있고, 또한 운전비, 즉 전해 세정에 필요한 전력도 삭감할 수 있어, 모든 조업 조건에 맞춘 적절한 전해 조건을 용이하게 설정하면서, 양호한 세정이 가능한 띠강판의 탈지 방법 및 탈지 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명자들은 탈지 장치에 있어서의 전해 세정의 메카니즘을 해명하는 중에, 전기량 밀도와 전류 밀도의 관계를 적정 범위로 유지함으로써, 저 전력으로 전해 세정이 가능한 것을 발견하여, 본 발명을 달성함에 이르렀다.
즉, 본 발명은 전기량 밀도 X(C/dm2)와 전류 밀도 Y(A/dm2)가,
X≤0.12인 경우에는 Y≥0.01×X-2,
0.12＜X≤1.0인 경우에는 Y≥0.7
의 조건하에서 전해 세정을 실행하는 공정을 포함하는 띠강판의 탈지 방법이다.
또한, 이 탈지 방법은 상기 전해 세정의 다른 공정에서, 브러시 세정 및 고압수 세정으로부터 선택되는 적어도 하나를 실행하는 것이 바람직하다.
또한, 본원에서는 띠강판을 사이에 두고 대향하는 전극으로, 상기 띠강판의 진행 방향에 있어서의 길이 L(㎜)이 500 내지 0.5㎜이고, 또한
500×(S×X)/(60×Y×C)≤L≤1100×(S×X)/(60×Y×C)
S : 띠강판의 반송 속도(m/분)
X : 전기량 밀도(C/dm2)
Y : 전류 밀도(A/dm2)
C : 전극의 수(쌍)
의 조건을 충족한 전극을 갖는 전해 세정 장치의 발명도 제공한다.
또한, 이 전해 세정 장치는 해당 전극의 길이(L)가 500 내지 10㎜인 침지식 전해 세정 장치, 혹은 해당 전극의 길이(L)가 50 내지 0.5㎜인 스프레이식 전해 세정 장치인 것이 바람직하다.
또한, 본원에서는 전술한 전해 세정 장치중 어느 하나를 포함하는 띠강판의 탈지 장치의 발명도 제공한다.
또한, 이 띠강판의 탈지 장치는 전술한 전해 세정 장치중 어느 하나 이외에, 브러시 세정 장치 및 고압수 세정 장치로부터 선택되는 적어도 하나가 더 마련되어 있는 것이 바람직하다.
또한, 본원은 전술한 전해 세정 장치 혹은 띠강판의 탈지 장치중 어느 하나를 이용하여, 전술한 띠강판의 탈지 방법중 어느 하나를 실행하는 발명도 제공한다.
도 1은 본 발명의 침지식 전해 세정 장치를 이용하는 탈지 장치의 예를 나타내는 개략도,
도 2는 본 발명의 침지식 전해 세정 장치를 이용하는 탈지 장치의 예를 나타내는 개략도,
도 3은 본 발명의 스프레이식 전해 세정 장치를 이용하는 탈지 장치의 예를 나타내는 개략도,
도 4는 전기량 밀도와 전류 밀도와 탈지 상황의 관계를 나타내는 그래프,
도 5a는 띠강판 및 침지식 전해 세정 장치의 전극의 치수를 도시한 개략도,
도 5b는 띠강판 및 스프레이식 전해 세정 장치에 배치되는 전해액 스프레이의 슬릿 노즐의 치수를 도시한 개략도,
도 6은 종래의 침지식 전해 세정 장치를 이용하는 탈지 장치의 예를 나타내는 개략도.
도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명
1 : 띠강판 2 : 핀치 롤
3 : 알카리 침지 탱크 4 : 싱크 롤
5 : 브러시 세정 장치 6 : 브러시 롤
7 : 침지식 전해 세정 장치 8 : 전극
9 : 린스 장치 10 : 온수 스프레이 노즐
11 : 링거 롤 12 : 건조기
13 : 스프레이식 전해 세정 장치 14 : 전해액 스프레이 노즐
15 : 고압수 세정 장치 16 : 고압수 스프레이 노즐
본 발명자들은 탈지 장치에 있어서의 전해 세정의 메카니즘을 해명하는 중에, 전기량 밀도와 전류 밀도의 관계를 적정 범위로 유지함으로써 저 전력으로 전해 세정이 가능한 것을 발견하였다.
본 발명자들은 여러가지의 전기량 밀도와 전류 밀도로 띠강판의 전해 세정을 실행하고, 일련의 탈지 처리가 종료된 후, 띠강판 표면의 유지분에 관하여, 습윤성이나 유분 잔존량 등을 조사하여, 탈지의 가부를 판정하였다.
또한 습윤성은 45°의 경사로 기대어 세워 놓은 시험재료에 상온수를 뿌려, 물에 젖은 면적율을 목시(目視)로 판정하였다. 유분 잔존량은 유기 용제에 시험 재료를 침지하여, 침지 전의 시험 재료의 중량에 대한 침지 후의 시험 재료의 중량 감량을 유분 잔존량(㎎/㎡)으로서 구하였다. 이렇게 해서 구한 습윤성이 90% 이상, 또한 유분 잔존량이 3㎎/㎡ 이하로 된 경우에, 탈지가 충분히 되었다고 판정하였다. 그 결과를 도 4에 나타낸다. 도 4의 해칭부의 조건에서 완전히 탈지할 수 있다.
전류 밀도가 0.7A/dm2미만에서는, 띠강판 표면에 유지분이 잔존하고, 탈지는 불충분하였다. 또한 전기량 밀도가 1.0C/dm2을 넘으면 전력의 소비량이 커진다. 전해량이 1.0C/dm2이하이더라도, 전류 밀도와의 관계를 적정 범위로 유지하면 충분히 탈지가 가능한 것을 알 수 있다.
이상에 근거하여, 본원에서는 전기량 밀도 X(C/dm2)와 전류 밀도 Y(A/dm2)가,
X≤0.12인 경우에는 Y≥0.01×X-2,
0.12＜X≤1.0인 경우에는 Y≥0.7
의 조건하에서 전해 세정을 실행하는 공정을 포함하는 띠강판의 탈지 방법을 제공한다.
또한 전기량 밀도(X)의 상한은 1.0C/dm2이지만, 0.5＜X(C/dm2)≤1.0의 범위에서는 전기량이 약간 커지기 때문에, 0.5C/dm2이하로 설정하는 것이 바람직하다. 또한, 상기의 전기량 밀도의 범위에 있어서의 전류 밀도의 상한은 특히 한정되지 않지만, 바람직하게는 500(A/dm2) 이하, 보다 바람직하게는 200(A/dm2) 이하로 하는 것이 좋다. 왜냐하면, 전류의 집중에 의해 전극의 수명을 짧게 할 우려가 있기 때문이다.
또한, 이 탈지 방법은 상기 전해 세정이외의 다른 공정으로, 브러시 세정 및 고압수 세정으로부터 선택되는 적어도 하나를 실행하는 것이 바람직하다. 그 때, 보다 바람직하게는 상기 전해 세정의 하공정(下工程)에서 실행하는 것이 좋다.
또한, 고압수 세정을 실행하는 경우에는, 10 내지 200㎏/㎠로 실행하는 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 10 내지 200㎏/㎠로 실행하는 것이 좋다. 10㎏/㎠ 미만에서는 압력 부족의 우려가 있고, 200㎏/㎠ 초과에서는 띠강판을 손상시킬 가능성이 있기 때문이다.
또한, 말할 필요는 없지만, 본원에서는 상기의 전해 세정 공정, 브러시 세정 공정 혹은 고압수 세정 공정 이외의 다른 작업을 배제하는 것은 아니다. 예를 들어, 이러한 작업으로서, 롤 등, 설비의 연접에 관련된 장치의 운전이나, 건조 혹은 권취 등의 작업을 들 수 있다.
또한, 본원에서는 띠강판을 사이에 두고 대향하는 전극으로, 상기 띠강판의 진행 방향에 있어서의 길이 L(㎜)이 500 내지 0.5㎜이고, 또한
500×(S×X)/(60×Y×C)≤L≤1100×(S×X)/(60×Y×C)
S : 띠강판의 반송 속도(m/분)
X : 전기량 밀도 (C/dm2)
Y : 전류 밀도(A/dm2)
C : 전극의 수(쌍)
의 조건을 충족한 전극을 갖는 전해 세정 장치의 발명도 제공한다.
또한, 상기의 "띠강판을 사이에 두고 대향한다"란, 띠강판을 전극이 비접촉 상태로 끼워서 대향하고 있는 상태를 말하고, 대향하는 방향은 특별히 한정되지 않고, 좌우, 경사져도 무방하지만, 통상적으로는 상하로 대향시킨다.
또한, 이 전해 세정 장치는 침지식 전해 세정 장치이고, 또한 해당 전극의 길이 L(Ll)이 500 내지 10㎜인 것이 바람직하다. 침지식 전해 세정 장치의 전극의 길이를 이와 같이 하는 것은, 지나치게 짧으면 전류 집중이 발생하여 과열되는 경우가 있고, 지나치게 길어지면 경제적이지 못하기 때문이다. 보다 바람직한 전극의 길이는 100 내지 20㎜이다.
또한, 상기 전해 세정 장치는 스프레이식 전해 세정 장치이고, 또한 해당 전극의 길이 L(L2)이 50 내지 0.5㎜인 것이 바람직하다. 스프레이식 전해 세정 장치의 전극의 길이를 이와 같이 하는 것은, 지나치게 짧으면 전해액의 막힘을 발생시키는 경우가 있고, 지나치게 길면 대용량으로 되어 경제적이지 못하기 때문이다. 보다 바람직한 전극의 길이는 10 내지 l㎜이다.
본원 발명에서는, 상기 전해 세정 장치가 전술한 바와 같은 침지식 전해 세정 장치 혹은 스프레이식 전해 세정 장치인 것이 바람직하지만, "상기 띠강판의 진행 방향에 있어서의 (해당 전극의) 길이(L)"는, 침지식 전해 장치의 경우에는 L1로 표시하고, 스프레이식 전해 장치의 경우에는 L2로 표시하여 구별한다. 왜냐하면, 침지식 전해 장치의 경우에는 전극이 띠강판 모두 전해액에 잠겨 있기 때문에, 전기적인 효과는 전극의 면적 그 자체에 영향이 미치기 때문에, 도 5a에 도시하는 바와 같이, 전극의 길이(L1)로 평가할 수 있다. 한편, 스프레이식 전해 세정 장치의 적극은 전해액에 잠겨 있지 않고, 그 슬릿으로부터 토출되는 전해액을 통하여 통전되므로, 전기적인 효과는 슬릿 면적에 영향을 미치기 때문에, 도 5b에 도시하는 바와 같이, 띠강판의 진행 방향에 있어서의 슬릿의 길이(L2)로써 전극의 길이(L)로 하여 평가할 필요가 있기 때문이다.
또한, 본원에서는 전술한 전해 세정 장치중 어느 하나를 포함하는 띠강판의 탈지 장치의 발명도 제공한다. 또한, 이 띠강판의 탈지 장치는 전술한 전해 세정 장치중 어느 하나 이외에, 브러시 세정 장치 및 고압수 세정 장치로부터 선택되는 적어도 하나가 더 마련되어 있는 것이 바람직하다. 그 때, 보다 바람직하게는 해당 전해 세정 장치의 하공정측에 마련하는 것이 좋다.
또, 본원에서는 상기의 전해 세정 장치, 또한 브러시 세정 장치 혹은 고압수 세정 장치 이외의 장치를 배제하는 것은 아니다. 예를 들어, 각 설비간에 마련하는 롤 등, 설비의 연접 장치나, 또한 건조 장치나 권취 장치 등을 들 수 있다.
또한, 본원은 전술한 전해 세정 장치 혹은 띠강판의 탈지 장치중 어느 하나를 이용하여, 전술한 띠강판의 탈지 방법중 어느 하나를 실행하는 발명도 제공한다.
도 1은 본 발명의 침지식 전해 세정 장치를 이용하는 탈지 장치의 예를 도시하는 개략도이다. 도면중의 화살표는 띠강판(1)의 진행 방향을 나타낸다. 띠강판(1)은 우선 핀치 롤(2)을 지나서 침지식 전해 세정 장치(7)로 반송된다. 침지식 전해 세정 장치(7)의 전해액조에는 전극(8) 및 싱크 롤(4)이 배치된다. 전극(8)은 띠강판(1)의 상하 양측에 1쌍 또는 2쌍 이상 배치된다.
침지식 전해 세정 장치(7)에서 세정된 띠강판(1)은 브러시 세정 장치(5)에 배치된 브러시 롤(6)에 의해서 브러시 세정이 실시된다. 이어서 띠강판(1)은 온수 스프레이 노즐(10) 및 링거 롤(11)이 배치된 린스 장치(9)를 통과하고, 또한 건조기(12)를 통과하여 일련의 탈지 처리가 종료된다.
도 6에 도시한 종래의 장치와 비교하면, 본 발명의 장치는 침지식 전해 세정 장치(7) 앞의 브러시 세정 장치(5) 및 알카리 침지 탱크(3)는 필요없기 때문에, 도 6에 도시한 종래의 장치에 비교하여, 간소한 프로세스에 의해 탈지할 수 있다.
또한 본 발명에 의하면 전해 세정의 효율이 향상되고, 전해 세정에 필요한 시간의 단축 및 전력 소비량의 삭감이 가능하다. 또한 세정 효율이 향상됨으로써 전극(8)의 길이(Ll)도 단축 가능하다.
또한, 브러시 세정 장치(5) 대신에 고압수 세정 장치(15)를 이용하여도 무방하다. 고압수 세정 장치(15)를 이용하는 예를 도 2에 나타낸다. 도면중의 화살표는 띠강판(1)의 진행 방향을 나타낸다. 고압수 세정 장치(15)는 고압수 스프레이 노즐(16) 및 링거 롤(11)이 배치되어 있고, 띠강판(1)에 고압수를 분사하여 세정하는 장치이다.
또한 브러시 세정 장치(5) 및 고압수 세정 장치(15)를 모두 이용하여도 무방하다.
도 3은 본 발명의 스프레이식 전해 세정 장치를 이용하는 예를 도시하는 개략도이다. 도면중의 화살표는 띠강판(1)의 진행 방향을 나타낸다. 띠강판(1)은 우선 핀치 롤(2)을 지나서 스프레이식 전해 세정 장치(13)로 반송된다. 스프레이식 전해 세정 장치(13)에는 전극이 장착된 전해액 스프레이 노즐(14)이 띠강판(1)의 상하 양측에 1쌍 또는 2쌍 이상 배치되어, 전해액 스프레이 노즐(14)로부터 띠강판(1)으로 전해액이 분사된다. 스프레이식 전해 세정 장치(13)에서 세정된 띠강판(1)은 이어서 고압수 세정 장치(15)에 의해 고압수 세정이 실시된다. 이어서 띠강판(1)은 온수 스프레이 노즐(10) 및 링거 롤(11)이 배치된 린스 장치(9)를 통과하고, 또한 띠강판(1)은 건조기(12)를 통과하여 일련의 탈지 처리가 종료된다.
이 장치에서는, 스프레이식 전해 장치(13)나 고압수 세정 장치(15)가 순차적으로 배치되어 있어, 브러시 세정 장치와 같은 브러시의 마모나 띠강판의 표면 손상의 문제는 전혀 발생하지 않는다.
전해액 스프레이 노즐(14)의 구성은 특정한 형태에 한정되지 않지만, 슬릿 노즐을 사용하는 것이 바람직하고, 슬릿 노즐은 띠강판(1)의 진행 방향의 길이(L2)가 1 내지 10㎜의 슬릿 개구부를 갖는 것이 바람직하다.
(실시예 1)
도 1에 도시한 본 발명의 침지식 전해 세정 장치(7) 및 브러시 세정 장치(5)를 배치한 장치를 이용하여 탈지를 실행하였다. 그 일련의 탈지 처리의 조업 조건의 발명예를 조업 조건 1 및 조업 조건 2로 하여 표 1에 나타낸다. 도 6에 도시한 종래의 장치를 이용하여 탈지 처리를 실행하는 경우의 조업 조건의 예를 비교예 1(즉, 조업 조건 3)로 하여 표 1에 나타낸다. 띠강판의 두께(TS), 띠강판의 폭(WS), 전극의 폭(W1) 및 전극의 길이(Ll)를 도시한 것이 도 5a이다.
기호 발명예 1 비교예 1
조업 조건 1 조업 조건 2 조업 조건 3
띠강판의 두께(㎜) TS 0.23 0.23 0.23
띠강판의 폭(㎜) WS 850 850 850
띠강판의 반송 속도(m/분) S 200 400 200
전극의 폭(㎜) W1 1000 1000 1000
전극의 길이(㎜) L1 300 20 1800
전극의 수(쌍) C 2 2 4
설정 전압(V) V 24 24 24
투입 전류(A) I 110 120 7000
전류 밀도(A/dm2) Y 2.2 35.29 11.4
전기량 밀도(C/dm2) X 0.39 0.21 24.7
브러시 세정 － 유 유 유
탈지 상태의 판정 탈지 양호 탈지 양호 탈지되었지만, 전력 소비량이 큼
Y=I/[(WS/100)×(L1/100)×C]
X=I/[(WS/100)×(S/60)×10]
본 발명의 장치는, 전극의 길이 Ll(㎜)이
500×(S×X)/(60×Y×C)≤Ll≤1100×(S×X)/(60×Y×C)
S : 띠강판의 반송 속도(m/분)
X : 전기량 밀도(C/dm2)
Y : 전류 밀도(A/dm2)
C : 전극의 수(쌍)
을 만족하는 것이 필요하다. 조업 조건 1은 L1=300㎜, 조업 조건 2는 L1=20㎜인 전극을 이용하여 탈지를 실행하였다.
특히 조업 조건 2에서 이용한 전극은 띠강판의 진행 방향의 길이(L1)가 20㎜이고, 이 전극은 지름 20㎜인 로드 형상의 전극을 이용하여도 충분히 탈지할 수 있다.
조업 조건 1 및 조업 조건 2에서 탈지를 실행한 후, 띠강판 표면의 유지분(즉 습윤성, 유분 잔존량)을 조사하였다. 그 결과, 모두 충분히 탈지가 가능한 것을 알 수 있었다.
조업 조건 3은 전극의 길이(L1), 투입 전류(I), 전기량 밀도(X)가 크기 때문에, 전력의 소비량이 큰 것을 알 수 있었다.
(실시예 2)
도 3에 도시한 본 발명의 스프레이식 전해 세정 장치(13) 및 고압수 세정 장치(10)를 배치한 장치를 이용하여 탈지를 실행하였다. 그 일련의 탈지 처리의 조업 조건의 발명예를 조업 조건 4로 하여 표 2에 나타낸다. 띠강판의 두께(TS), 띠강판의 폭(WS), 전해액 스프레이의 슬릿 노즐의 폭(W2) 및 전해액 스프레이의 슬릿 노즐의 길이(L2)를 도시한 것이 도 5b이다. 또한, 전기량 밀도와 전류 밀도의 관계가 본 발명의 범위가 아닌 경우의 조업 조건의 예를 비교예 2(즉, 조업 조건 5)로 하여 표 2에 나타낸다.
기호 발명예 2 비교예 2
조업 조건 4 조업 조건 5
띠강판의 두께(㎜) TS 0.23 0.23
띠강판의 폭(㎜) WS 850 850
띠강판의 반송 속도(m/분) S 600 500
전극을 장착한 전해액 스프레이[슬릿 노즐]의 폭(㎜) W2 1000 1000
전극을 장착한 전해액 스프레이[슬릿 노즐]의 길이(㎜) L2 2 5
전극을 장착한 전해액 스프레이의 수(쌍) C 2 2
설정 전압(V) V 24 24
투입 전류(A) I 20 15
전류 밀도(A/dm2) Y 58.8 17.6
전기량 밀도(C/dm2) X 0.024 0.021
고압수 세정 － 60℃, 0.3㎥/hr, 100㎏/㎠ 60℃, 0.3㎥/hr, 100㎏/㎠
탈지 상태의 판정 탈지 양호 탈지 양호
습윤성 100% 0%
유분 잔존량 2㎎/㎡ 5㎎/㎡
Y=I/[(WS/100)×(L2/100)×C]
X=I/[(WS/100)×(S/60)×10]
조업 조건 4 및 조업 조건 5에서 탈지를 실행한 후, 띠강판 표면의 유지분(즉 습윤성, 유분 잔존량)을 조사하였다. 그 결과, 조업 조건 4는 충분히 탈지가 가능하지만, 조업 조건 5는 유지분이 제거되어 있지 않고 탈지가 불충분한 것을 알 수 있었다.
또한 도 3에 도시한 본 발명의 장치에 있어서, 고압수 세정 장치(10) 및 린스 장치(9)의 기능을 단일의 장치로 실행하면, 프로세스를 더욱 간소화할 수 있다.
이상과 같이, 여러가지의 전기량 밀도(X)와 전류 밀도(Y)에서 띠강판의 탈지를 실행한 후, 탈지의 가부를 판정한 결과를 도 4에 나타낸다. 즉,
X(C/dm2)≤0.12인 경우에는 Y(A/dm2)≥0.01×X-2,
0.12＜X(C/dm2)≤1.0인 경우에는 Y(A/dm2)≥0.7
로 둘러싸인 범위가 본 발명의 범위이다.
본 발명에서는 저 전기량 밀도로 세정이 가능하기 때문에, 전해 세정에 필요한 전력은, 종래의 침지식 전해 세정에 비해서 약 2% 정도의 전력으로 전해 세정이 가능하여, 전력을 대폭 삭감할 수 있다. 또한 본 발명의 장치는 간소하기 때문에, 건설비는 종래의 침지식 전해 장치에 비해서 약 20% 정도의 비용으로 건설할 수 있다. 또한 전극의 최적 설정 범위를 용이하고 또한 정확하게 계산함으로써, 종래의 스프레이식 전해 세정 장치에서 발생하는 전극을 잘못 설정함에 의한 청정 불량도 발생하지 않는다.

Claims (9)

  1. 전기량 밀도 X(C/dm2)와 전류 밀도 Y(A/dm2)가,
    X≤0.12인 경우에는 Y≥0.01×X-2,
    0.12＜X≤1.0인 경우는 Y≥0.7
    의 조건하에서 전해 세정을 실행하는 공정을 포함하는 띠강판의 탈지 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 전해 세정이외의 다른 공정으로, 브러시 세정 및 고압수 세정으로부터 선택되는 적어도 하나를 실행하는 띠강판의 탈지 방법.
  3. 띠강판을 사이에 두고 대향하는 전극으로, 상기 띠강판의 진행 방향에 있어서의 길이 L(㎜)이 500 내지 0.5㎜이고, 또한
    500×(S×X)/(60×Y×C)≤L≤1100×(S×X)/(60×Y×C)
    S : 띠강판의 반송 속도(m/분)
    X : 전기량 밀도(C/dm2)
    Y : 전류 밀도(A/dm2)
    C: 전극의 수(쌍)
    의 조건을 충족한 전극을 갖는 전해 세정 장치.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 전해 세정 장치가 침지식 전해 세정 장치이고, 또한 전극의 길이(L)가 500 내지 10㎜인 전해 세정 장치.
  5. 제 3 항에 있어서,
    상기 전해 세정 장치가 스프레이식 전해 세정 장치이고, 또한 전극의 길이(L)가 50 내지 0.5㎜인 전해 세정 장치.
  6. 제 3 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 기재된 전해 세정 장치를 포함하는 띠강판의 탈지 장치.
  7. 제 3 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 기재된 전해 세정 장치와, 그 이외에 브러시 세정 장치 및 고압수 세정 장치로부터 선택되는 적어도 하나를 포함하는 띠강판의 탈지 장치.
  8. 제 1 항에 있어서,
    제 6 항에 기재된 띠강판의 탈지 장치를 이용하는 띠강판의 탈지 방법.
  9. 제 1 항에 있어서,
    제 7 항에 기재된 띠강판의 탈지 장치를 이용하는 띠강판의 탈지 방법.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20040250729A1 (en) * 2003-06-16 2004-12-16 Jang Bor Z. Fast-setting carbonated hydroxyapatite compositions and uses
CN102560615B (zh) * 2012-01-20 2015-03-25 中冶南方工程技术有限公司 提高冷轧带钢表面清洗质量的装置
CN102776553B (zh) * 2012-07-11 2015-03-25 中冶南方工程技术有限公司 冷轧带钢电解清洗电极
ITMI20130497A1 (it) 2013-03-29 2014-09-30 Tenova Spa Apparato per il trattamento elettrolitico superficiale in continuo di semilavorati metallici, in particolare semilavorati metallici piatti.
CN104174610B (zh) * 2014-08-04 2016-04-13 四川锐腾电子有限公司 冲压铜带清洗烘干组合机
CN105543859A (zh) * 2014-10-31 2016-05-04 广东新会中集特种运输设备有限公司 薄钢板自动除油装置
CN104404610A (zh) * 2014-11-26 2015-03-11 成都川硬合金材料有限责任公司 一种适用于铜表面的电解清洗工艺
CN104862723B (zh) * 2015-06-16 2017-12-22 中冶赛迪工程技术股份有限公司 钢带连续脱脂方法
CN106757295B (zh) * 2015-11-19 2020-05-19 日铁工程技术株式会社 电解清洗装置和电解清洗装置的控制方法
CN113000616A (zh) * 2021-03-16 2021-06-22 秦皇岛市国阳钢铁有限公司 轧线氧化铁皮回收装置及回收方法
CN114210747B (zh) * 2022-02-22 2022-05-24 山西太钢不锈钢精密带钢有限公司 提升精密带钢清洗机组生产效率的方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3606750A1 (de) 1986-03-01 1987-09-03 Hoesch Stahl Ag Verfahren, anlage und vorrichtung zum kontinuierlichen entfetten und reinigen der oberflaeche von metallbaendern, insbesondere kaltgewalztem bandstahl
DE69803138T2 (de) 1997-04-10 2002-11-14 Hotani Kk Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von Metallbändern

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8603306B2 (en) 2010-07-12 2013-12-10 Samsung Display Co., Ltd. Cleaning device

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